JPH11168178A - Integrated circuit element - Google Patents

Integrated circuit element

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JPH11168178A
JPH11168178A JP33431797A JP33431797A JPH11168178A JP H11168178 A JPH11168178 A JP H11168178A JP 33431797 A JP33431797 A JP 33431797A JP 33431797 A JP33431797 A JP 33431797A JP H11168178 A JPH11168178 A JP H11168178A
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JP
Japan
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fets
unit
fet
finger
integrated circuit
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JP33431797A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsue Kawahisa
久 克 江 川
Masami Nagaoka
岡 正 見 長
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformize wiring path lengths of multifingered FETs by a method wherein the source, gate and drain electrodes of a plurality of selected circuit FETs are respectively connected commonly with each multifinger FET to constitute a plurality of the multifingered FETs, and the unit FETs adjacent to each other in FET rows are constituted as ones to belong to the different multifingered FETs. SOLUTION: Multifingered FETs 101 to 104 are respectively constituted of four unit cells of a unit cell 101 (a to e), a unit cell 102 (a to e), a unit cell 103 (a to e) and a unit cell 104 (a to e). The order of the arrangement of the unit cells are set in the order of the unit cells 101a, 102a, 103a, 104a, 101b, 102b and 103b. Drain electrodes of the multifingered FETs 101 to 104 are connected with a drain terminal 110 which is wired in common, gate electrodes 121 to 124 of the FETs 101 to 104 are connected with a gate resistor, and source electrodes 111 to 114 of the FETs 101 to 104 are connected with an output terminal. The wiring path lengths of the four multifingered FETs as seen from an input terminal (the drain electrode 110) can be made equal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路素子に関
する。さらに具体的には、本発明は、ソース、ゲート、
及びドレインの各電極からなる単位FET素子の集合体
であるマルチフィンガータイプの電界効果トランジスタ
を複数個設けるに際して、独特のレイアウトを有する集
積回路素子に関するものである。
[0001] The present invention relates to an integrated circuit device. More specifically, the invention relates to a source, a gate,
The present invention relates to an integrated circuit device having a unique layout when providing a plurality of multi-finger type field effect transistors, each of which is an aggregate of unit FET devices each including a drain electrode and a drain electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】無線LAN(Local Area N
etwork)やPHS(Personal Hand
y Phone System)などのシステムを実現
するための各種の集積回路素子のうちで、送信系のパワ
ーアンプや送信/受信切り替えスイッチなどは、大電力
信号を扱うため電界効果トランジスタ(以下「FET」
と略す)の総ゲート幅が1mmを越えることが多い。総
ゲート幅が1mm以上のFETは、ゲート幅が100μ
m〜200μmの単位FETを並行に配列した「マルチ
フィンガー・タイプ」と呼ばれるレイアウト構成によっ
て実現される。
2. Description of the Related Art Wireless LAN (Local Area N)
network and PHS (Personal Hand)
Among various integrated circuit elements for realizing a system such as a y-phone system, a power amplifier of a transmission system and a transmission / reception switch are field-effect transistors (hereinafter referred to as “FETs”) for handling large power signals.
) Often exceeds 1 mm. An FET having a total gate width of 1 mm or more has a gate width of 100 μm.
This is realized by a layout configuration called “multi-finger type” in which unit FETs of m to 200 μm are arranged in parallel.

【0003】図7は、従来のマルチフィンガー・タイプ
FETの代表的なレイアウトを表す概略パターン図であ
る。すなわち、同図に示したFETは、シリコン(S
i)やガリウム砒素(GaAs)などの基板上に形成さ
れた総ゲート幅が約1mmのマルチフィンガーFETの
代表例であり、10個の単位FETを並列に配置した構
成が示されている。隣接する単位FET同士は、その間
に配置されるソース電極あるいはドレイン電極を共有す
る。それぞれの電極は、フィンガー部と連結部とにより
構成され、ゲート電極はゲート・フィンガー411とゲ
ート連結部412、ソース電極はソース・フィンガー4
21とソース連結部422、ドレイン電極はドレイン・
フィンガー431とドレイン連結部432とにより構成
されている。
FIG. 7 is a schematic pattern diagram showing a typical layout of a conventional multi-finger type FET. That is, the FET shown in FIG.
This is a typical example of a multi-finger FET having a total gate width of about 1 mm formed on a substrate such as i) or gallium arsenide (GaAs), and shows a configuration in which ten unit FETs are arranged in parallel. Adjacent unit FETs share a source electrode or a drain electrode disposed therebetween. Each electrode is composed of a finger portion and a connection portion, the gate electrode is a gate finger 411 and a gate connection portion 412, and the source electrode is a source finger 4
21, the source connection portion 422, and the drain electrode
It is constituted by the finger 431 and the drain connection portion 432.

【0004】なお、本明細書において「単位FET」と
は、図7にも例示したように、互いに隣接する一組のソ
ース・フィンガーとゲート・フィンガーとドレイン・フ
ィンガーとにより構成されるFET部分のことを指すも
のとする。同図に表したように、複数の単位FETを並
列配置して並列配線することにより、FETの電流容量
を増大させ大電力信号を取り扱うことができるようにな
る。
[0004] In this specification, as shown in FIG. 7, a “unit FET” refers to an FET portion constituted by a pair of a source finger, a gate finger, and a drain finger adjacent to each other. It shall be pointed out. As shown in the figure, by arranging a plurality of unit FETs in parallel and wiring them in parallel, the current capacity of the FETs can be increased and a large power signal can be handled.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述したよう
な従来のマルチフィンガーFETを用いて複数チャネル
のスイッチング回路を構成すると、チャネル毎に信号線
路長が異なり、伝送特性に偏差が生ずるという問題があ
った。以下では、マルチフィンガーFETを、1入力多
出力ポートスイッチのトランスファゲートFETとして
用いた場合の問題点を例に挙げて説明する。
However, when a switching circuit of a plurality of channels is formed by using the conventional multi-finger FET as described above, there is a problem that the signal line length differs for each channel and a deviation occurs in transmission characteristics. there were. In the following, a description will be given of an example in which a multi-finger FET is used as a transfer gate FET of a one-input multi-output port switch.

【0006】図8(a)は、1入力多出力ポートスイッ
チの概略回路図である。すなわち、同図は、セクタ構成
を採用した無線LANに使用される1入力6出力ポート
スイッチ(以下、「SP6T(Single Port
6 Throw)スイッチ」と呼ぶ。)の回路を例示
するものである。入力端子310は、トランスファ・ゲ
ートFET301〜306を介して出力端子311〜3
16と接続されている。後述するように、実際の集積回
路素子においては、これらのトランスファ・ゲートFE
T301〜306のそれぞれが「マルチフィンガーFE
T」として構成される。
FIG. 8A is a schematic circuit diagram of a one-input / multi-output port switch. That is, FIG. 1 shows a 1-input, 6-output port switch (hereinafter referred to as “SP6T (Single Port)” used in a wireless LAN adopting a sector configuration.
6 Throw) switch. 2) illustrates the circuit of FIG. The input terminal 310 is connected to output terminals 311 to 311 via transfer gate FETs 301 to 306.
16 is connected. As will be described later, in an actual integrated circuit device, these transfer gates FE
Each of T301 to T-306 is “multi-finger FE
T ".

【0007】電源電圧端子300は、プルアップ抵抗3
40を介して入力端子310と接続されている。ゲート
信号入力端子331〜336は、ゲート抵抗341〜3
46を介してトランスファ・ゲートFET301〜31
6のゲート電極321〜326と接続されている。これ
らのゲート抵抗341〜346は、スイッチング動作時
に高周波信号の漏れを防ぐためのもので、各FETのゲ
ートには数KΩの高抵抗が必要とされる。
The power supply voltage terminal 300 has a pull-up resistor 3
It is connected to the input terminal 310 via 40. The gate signal input terminals 331 to 336 are connected to the gate resistors 341 to 341.
46, transfer gate FETs 301-31
6 are connected to the gate electrodes 321-326. These gate resistors 341 to 346 are for preventing leakage of a high-frequency signal at the time of a switching operation, and the gate of each FET requires a high resistance of several KΩ.

【0008】さらに、トランスファ・ゲートFET30
1〜306のソース電極とドレイン電極との間には、上
記FETのオフ(OFF)容量と共振するインダクタ3
51〜356が並列に接続された共振型構成を有する。
この構成のメリットは、トランスファゲートFETがオ
フの状態において、FETのオフ容量とインダクタとが
所定の周波数帯で共振して伝送経路のインピーダンスが
非常に大きくなるため、高アイソレーションと損失の低
減を実現できることである。
Further, the transfer gate FET 30
An inductor 3 that resonates with the off-capacity of the FET is provided between the source electrode and the drain electrode 1 to 306.
51 to 356 have a resonance-type configuration connected in parallel.
The merit of this configuration is that when the transfer gate FET is off, the off-capacitance of the FET and the inductor resonate in a predetermined frequency band and the impedance of the transmission path becomes very large. It can be achieved.

【0009】次に、このスイッチの動作を説明する。ゲ
ート信号入力端子331に3ボルトを与え、その他のゲ
ート信号入力端子332〜336に0ボルトを与える
と、トランスファ・ゲートFET301のみがオン(O
N)し、その他のトランスファ・ゲートFET302〜
306がオフする。この状態で入力端子310から高周
波信号が入力されると、トランスファ・ゲートFET3
01を介して出力端子311へ信号が出力される。この
際、入力端子310から入力した信号は、トランスファ
・ゲートFET301のオン抵抗による損失と、オフ側
のトランスファ・ゲートFET302〜306のオフ時
のソース/ドレイン間容量を通って漏洩する損失とを受
け、これらの損失を差し引いた信号が、出力端子311
から出力される。1入力多出力ポートスイッチの場合、
出カポート数が増えるに従って入力の信号線は長くなる
傾向にある。
Next, the operation of this switch will be described. When 3 volts are applied to the gate signal input terminal 331 and 0 volts are applied to the other gate signal input terminals 332 to 336, only the transfer gate FET 301 is turned on (O
N) and other transfer gate FETs 302-
306 turns off. When a high frequency signal is input from the input terminal 310 in this state, the transfer gate FET 3
A signal is output to the output terminal 311 via the “01”. At this time, the signal input from the input terminal 310 receives the loss due to the on-resistance of the transfer gate FET 301 and the loss leaking through the off-source capacitance between the source / drain of the transfer gate FETs 302 to 306 on the off side. , The signal from which these losses are subtracted is output from the output terminal 311
Output from In the case of a 1-input multi-output port switch,
The input signal line tends to be longer as the number of output ports increases.

【0010】図8(b)は、SP6Tスイッチの実際の
回路を例示する回路図である。同図に表したように、実
際の回路は、入力端子310と各FETのドレイン電極
361〜366との間に、伝送線路371〜375が配
置されたものとして表される。そして、同図から分かる
ように、入力端子310とそれぞれのFET301〜3
06との間に配置される伝送線路の数は、FET毎に異
なる。
FIG. 8B is a circuit diagram illustrating an actual circuit of the SP6T switch. As shown in the figure, the actual circuit is represented as having transmission lines 371 to 375 arranged between the input terminal 310 and the drain electrodes 361 to 366 of each FET. Then, as can be seen from FIG.
06, the number of transmission lines arranged for each FET differs.

【0011】図9は、SP6Tスイッチのレイアウトの
一例を表すパターン図である。同図に表したスイッチの
チップサイズは、例えば約2.7mm×1.2mm程度
である。入力端子310に接続された信号線380は、
チップの中央に配置されている。その両側には、マルチ
フィンガーFET301〜306が3個ずつ配置され、
それぞれのドレイン361〜366が信号線380と接
続されている。
FIG. 9 is a pattern diagram showing an example of the layout of the SP6T switch. The chip size of the switch shown in the figure is, for example, about 2.7 mm × 1.2 mm. The signal line 380 connected to the input terminal 310
It is located in the center of the chip. On each side thereof, three multi-finger FETs 301 to 306 are arranged,
Each of the drains 361 to 366 is connected to the signal line 380.

【0012】これらの6個のマルチフィンガーFETの
ドレイン端子361〜366と入力端子310との間の
信号線の線路長について見ると、信号線路のインダクタ
ンスに差が生じていることが分かる。例えば、入力端子
310とドレイン端子361との間の線路長と、入力端
子310とドレイン端子363との間の線路長は、約
1.2mmも異なっている。このような線路長の差が原
因となって、各スイッチをオンした場合の損失等に大き
な偏差が生じるという問題があった。
Looking at the line lengths of the signal lines between the drain terminals 361 to 366 of these six multi-finger FETs and the input terminal 310, it can be seen that there is a difference in the inductance of the signal lines. For example, the line length between the input terminal 310 and the drain terminal 361 is different from the line length between the input terminal 310 and the drain terminal 363 by about 1.2 mm. Due to such a difference in line length, there is a problem that a large deviation occurs in a loss or the like when each switch is turned on.

【0013】以上説明したように、従来のマルチフィン
ガーFETを用いた集積回路素子においては、個別のマ
ルチフィンガーFETを信号線に沿って配置し、それぞ
れ接続しているため、信号の線路長の差がチャネル毎に
大きく、特性の偏差を引き起こしていた。
As described above, in a conventional integrated circuit device using a multi-finger FET, individual multi-finger FETs are arranged along a signal line and connected to each other, so that the difference in signal line length is different. Was large for each channel, causing a characteristic deviation.

【0014】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものである。すなわち、その目的は、複数のマルチフ
ィンガーFETを配置した集積回路素子において、信号
線路長の差が極力小さいレイアウトを採用することによ
り、チャネル毎の特性の偏差が小さい集積回路素子を実
現することを目的とする。
The present invention has been made in view of such a problem. That is, the object is to realize an integrated circuit element in which a difference in signal line length is as small as possible in an integrated circuit element in which a plurality of multi-finger FETs are arranged, so that a deviation in characteristics of each channel is small. Aim.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明による
集積回路素子は、複数のマルチフィンガーFETが基板
上に設けられた集積回路素子であって、互いに略並列に
配置された複数の単位FETからなる少なくとも一列の
FET列が前記基板上に形成され、前記FET列におい
て選択された複数の前記単位FETのソース、ゲート、
及びドレインのそれぞれが共通接続されて前記複数のマ
ルチフィンガーFETのそれぞれを構成し、前記FET
列において隣接する前記単位FETは、異なるマルチフ
ィンガーFETに属するものとして構成されていること
を特徴とし、マルチフィンガーFET毎の信号線路長を
均一にすることができ、素子サイズも縮小することがで
きる。
That is, an integrated circuit device according to the present invention is an integrated circuit device in which a plurality of multi-finger FETs are provided on a substrate, and includes a plurality of unit FETs arranged substantially in parallel with each other. At least one FET row is formed on the substrate, and the source and the gate of the plurality of unit FETs selected in the FET row;
And each of the drains is commonly connected to form each of the plurality of multi-finger FETs;
The unit FETs adjacent in the column are configured as belonging to different multi-finger FETs, so that the signal line length of each multi-finger FET can be made uniform and the element size can be reduced. .

【0016】また、隣接する複数の単位FETを接続し
て単位セルを形成し、この単位セル同士を共通接続して
マルチフィンガーFETを構成するようにしても良い。
A plurality of adjacent unit FETs may be connected to form a unit cell, and the unit cells may be commonly connected to form a multi-finger FET.

【0017】ここで、前記FET列は、前記複数のマル
チフィンガーFETのそれぞれに属する前記単位セルが
周期的に配置されたものとして構成することにより、信
号線路長を容易に均一化することができる。
Here, by configuring the FET row as the unit cells belonging to each of the plurality of multi-finger FETs are arranged periodically, the signal line length can be easily made uniform. .

【0018】また、前記単位セルのそれぞれを、偶数個
の単位FETからなるものとして構成するとすべての隣
接する単位FETがソースまたはドレインを共有するこ
とができ、素子サイズのさらなる縮小が実現される。
Further, when each of the unit cells is constituted by an even number of unit FETs, all adjacent unit FETs can share a source or a drain, thereby further reducing the element size.

【0019】あるいは、本発明による集積回路素子は、
複数のマルチフィンガーFETが基板上に設けられた集
積回路素子であって、隣接する単位FET同士がソース
またはドレインのいずれかを共有するように複数の単位
FETが互いに略並列に前記基板上に配置され、前記配
置された前記複数の単位FETから周期的に選択された
単位FETの前記ソース、ゲート、及びドレインのそれ
ぞれが共通接続されて、前記複数のマルチフィンガーF
ETのそれぞれが構成されていることを特徴とし、マル
チフィンガーFET毎の信号線路長を均一にすることが
でき、素子サイズも縮小することができる。
Alternatively, the integrated circuit device according to the present invention comprises:
An integrated circuit device in which a plurality of multi-finger FETs are provided on a substrate, and a plurality of unit FETs are arranged on the substrate substantially in parallel with each other so that adjacent unit FETs share either a source or a drain. And each of the source, gate, and drain of a unit FET periodically selected from the plurality of unit FETs arranged is connected in common to form the plurality of multi-fingers F.
Each of the ETs is configured, so that the signal line length of each multi-finger FET can be made uniform and the element size can be reduced.

【0020】ここで、前記複数のマルチフィンガーFE
Tのソース、ゲート、及びドレインのうちの少なくとも
いずれかを共通に接続する共通配線であって、前記FE
T列の両側においてそれぞれ略平行に延在し、前記単位
セルのそれぞれに接続されている共通配線をさらに備え
ることにより、マルチフィンガーFET毎の信号線路長
を均一にすることができ、素子レイアウトの自由度もさ
らに向上する。
Here, the plurality of multi-fingers FE
A common line commonly connecting at least one of a source, a gate, and a drain of the T;
By further including a common wiring extending substantially parallel to both sides of the T column and connected to each of the unit cells, the signal line length for each multi-finger FET can be made uniform, and the element layout can be improved. The degree of freedom is further improved.

【0021】また、同一の前記マルチフィンガーFET
に属する前記単位セルのソース、ドレイン、及びゲート
のうちの少なくともいずれかを共通に接続する複数の配
線であって、前記FET列の両側においてそれぞれ略平
行に延在し、前記単位セルのいずれれかに接続されてい
る複数の配線をさらに備えることにより、素子サイズを
縮小することができ、素子レイアウトの自由度も向上す
るというメリットが生ずる。
The same multi-finger FET
A plurality of wirings commonly connecting at least any one of a source, a drain, and a gate of the unit cell belonging to each of the unit cells. By further providing a plurality of wirings connected to the crab, there is an advantage that the element size can be reduced and the degree of freedom of the element layout can be improved.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】本発明によれば、複数のマルチフィンガー
FETをレイアウトするに際して、まず、それぞれのマ
ルチフィンガーFETを複数の「単位セル」に分割し、
その「単位セル」を交互に配列する。
According to the present invention, when laying out a plurality of multi-finger FETs, first, each multi-finger FET is divided into a plurality of "unit cells",
The "unit cells" are arranged alternately.

【0024】図1は、本発明によるFETの配列の順序
を例示する説明図である。同図は、3個のマルチフィン
ガーFETを配列する場合を例示する。ここで、それぞ
れのマルチフィンガーFETをそれぞれ「A」、
「B」、及び「C」とする。マルチフィンガーFET
「A」〜「C」は、それぞれ複数の単位FETを有す
る。本発明によれば、このようなマルチフィンガーFE
T「A」〜「C」をレイアウトするに際して、まず、そ
れぞれのマルチフィンガーFETを、複数の「単位セ
ル」に分割する。ここで、「単位セル」とは、ひとつの
単位FETからなるものでも良く、複数の単位FETか
らなるものでも良い。図1には、「単位セル」が2個の
単位FETからなる場合を例示した。すなわち、マルチ
フィンガーFET「A」は、2個の単位FETを有する
単位セルA1、A2、・・・に分割される。マルチフィ
ンガーFET「B」も、同様に単位セルB1、B2、・
・・に分割される。マルチフィンガーFET「C」につ
いても同様である。
FIG. 1 is an explanatory view illustrating the order of arrangement of FETs according to the present invention. FIG. 1 illustrates a case where three multi-finger FETs are arranged. Here, each multi-finger FET is denoted by “A”,
"B" and "C". Multi-finger FET
“A” to “C” each have a plurality of unit FETs. According to the present invention, such a multi-finger FE
When laying out T “A” to “C”, first, each multi-finger FET is divided into a plurality of “unit cells”. Here, the “unit cell” may be composed of one unit FET or a plurality of unit FETs. FIG. 1 illustrates a case where the “unit cell” includes two unit FETs. That is, the multi-finger FET “A” is divided into unit cells A1, A2,... Having two unit FETs. Similarly, the multi-finger FET “B” has unit cells B1, B2,.
It is divided into. The same applies to the multi-finger FET “C”.

【0025】そして、それぞれの「単位セル」を周期的
に「入れ子状」にレイアウトする。すなわち、A1、B
1、C1、A2、B2、C2、A3、B3、C3、A
4、・・・の如く配列する。本明細書においては、この
ようにして得られる単位FETの配列を「FET列」と
称する。なお、実際のレイアウトにおいては、FET列
は、一列である必要はない。すなわち、単位FETの数
に応じて、適宜、2列以上の複数列とすることができ
る。
The respective "unit cells" are periodically laid out in a "nested" manner. That is, A1, B
1, C1, A2, B2, C2, A3, B3, C3, A
4 and so on. In this specification, the array of unit FETs obtained in this manner is referred to as an “FET array”. In the actual layout, the FET rows need not be one row. That is, two or more rows can be appropriately formed according to the number of unit FETs.

【0026】なお、図1においては、「単位セル」が2
個の単位FETを有する場合について例示したが、本発
明は、これに限定されるものではない。この他にも、
「単位セル」は1つの単位FETからなるものとしても
良いし、3個以上の複数の単位FETからなるものとし
ても良い。但し、「単位セル」に含まれる単位FETの
数は、偶数とすることが望ましい。「単位セル」に含ま
れる単位FETの数を奇数とすると隣接する「単位FE
T」と「単位FET」との間において、ソースまたはド
レイン配線のいずれかを共有できない場合が生じ、配線
数を増やす必要があるからである。
In FIG. 1, the "unit cell" is 2
Although the case where there are a plurality of unit FETs has been illustrated, the present invention is not limited to this. Besides this,
The “unit cell” may be composed of one unit FET, or may be composed of three or more unit FETs. However, it is desirable that the number of unit FETs included in the “unit cell” be an even number. If the number of unit FETs included in the “unit cell” is an odd number, the adjacent “unit FE”
This is because either the source or drain wiring cannot be shared between "T" and "unit FET", and it is necessary to increase the number of wirings.

【0027】一方、それぞれのマルチフィンガーFET
を分割するに際しては、すべての「単位セル」が同数の
単位FETを有するように分割する必要はない。例え
ば、「単位セル」A1は2個の単位FETを有し、「単
位セル」A2は4個の単位FETを有するように分割し
ても良い。しかし、「単位セル」への分割の方法は、マ
ルチフィンガーFET同士では、同一であることが必要
とされる。例えば、「単位セル」A1が2個の単位FE
Tを有し、「単位セル」A2が4個の単位FETを有す
るように分割した場合には、「単位セル」B1とC1
は、それぞれ2個の単位FETを有し、「単位セル」B
2とC2は、それぞれ4個の単位FETを有するように
分割する必要がある。
On the other hand, each multi-finger FET
Need not be divided so that all “unit cells” have the same number of unit FETs. For example, the "unit cell" A1 may be divided into two unit FETs, and the "unit cell" A2 may be divided into four unit FETs. However, the method of dividing into “unit cells” needs to be the same between multi-finger FETs. For example, the “unit cell” A1 includes two unit FEs.
T and the "unit cell" A2 is divided into four unit FETs, the "unit cells" B1 and C1
Has two unit FETs each, and a "unit cell" B
2 and C2 must be divided so as to have four unit FETs each.

【0028】次に、本発明においては、それぞれの単位
FETの各電極に対する配線は、この「FET列」の上
下に均等に振り分けてレイアウトする。つまり、マルチ
フィンガーFET毎の電極配線長が均一になるように配
線パターンを形成する。
Next, in the present invention, the wiring for each electrode of each unit FET is laid out evenly above and below this "FET row". That is, the wiring pattern is formed so that the electrode wiring length of each multi-finger FET becomes uniform.

【0029】本発明によれば、このように、マルチフィ
ンガーFETを単位セルに分割し、交互に配列して、適
宜配線することにより、信号線の線路長を全てのマルチ
フィンガーFETについて同一にすることができ、マル
チフィンガーFET毎の特性の偏差を解消することがで
きるようになる。
According to the present invention, by dividing the multi-finger FET into unit cells and arranging them alternately and arbitrarily wiring them, the signal lines have the same line length for all the multi-finger FETs. This makes it possible to eliminate the deviation of the characteristics of each multi-finger FET.

【0030】以下に、本発明の具体例について説明す
る。図2は、本発明による集積回路素子のFET部のレ
イアウト図である。また、図3は、このレイアウトの一
部分の拡大図である。また、図4は、このレイアウトの
等価回路を表す図である。また、図5は、この集積回路
素子のFET部の基本回路を表す図である。これらの図
面に例示したものは、1入力4出力ポート(SP4T)
スイッチのFET部分である。まず、図5を参照しつ
つ、その全体回路構成について説明する。同図に例示し
た集積回路素子は、例えばシリコンやガリウム砒素など
の基板上に形成され、4個のマルチフィンガーFET1
01〜104を有する。それぞれのFETは、例えばシ
リコン基板上に形成されたMOSFETや、ガリウム砒
素基板上に形成されたMESFETなどとして構成する
ことができる。なお、同図はSP4TスイッチのFET
部分のみを抽出した回路図であり、実際のスイッチは、
図示したFETの他に、ゲート抵抗やインダクタなどを
有する。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described. FIG. 2 is a layout diagram of the FET section of the integrated circuit device according to the present invention. FIG. 3 is an enlarged view of a part of this layout. FIG. 4 is a diagram showing an equivalent circuit of this layout. FIG. 5 is a diagram showing a basic circuit of the FET section of the integrated circuit device. The one illustrated in these drawings is a one-input four-output port (SP4T)
This is the FET portion of the switch. First, the overall circuit configuration will be described with reference to FIG. The integrated circuit element illustrated in FIG. 1 is formed on a substrate such as silicon or gallium arsenide, and includes four multi-finger FETs 1.
01 to 104. Each of the FETs can be configured as, for example, a MOSFET formed on a silicon substrate, a MESFET formed on a gallium arsenide substrate, or the like. The figure shows the FET of the SP4T switch.
It is a circuit diagram that extracts only the part, the actual switch is
It has a gate resistance, an inductor, and the like in addition to the illustrated FET.

【0031】マルチフィンガーFET101〜104の
ドレイン電極は、共通配線されてドレイン端子110に
接続されている。また、各ゲート電極121〜124
は、図示しないゲート抵抗に接続され、各ソース電極1
11〜114は、図示しない出力端子に接続される。
The drain electrodes of the multi-finger FETs 101 to 104 are connected to a drain terminal 110 through common wiring. In addition, each of the gate electrodes 121 to 124
Is connected to a gate resistor (not shown), and each source electrode 1
11 to 114 are connected to output terminals (not shown).

【0032】ここで、本発明において特徴的な点は、マ
ルチフィンガーFET101〜104が、一体としてレ
イアウトされ、それぞれのマルチフィンガーFETを構
成する単位セルが「入れ子状」に隣接して配置されてい
る点である。図2及び図3に例示した構成においては、
マルチフィンガーFET101〜104のそれぞれは、
5個の単位セルで構成されている。すなわち、マルチフ
ィンガーFET101は、単位セル101a、101
b、・・・101eという5個の単位セルにより構成さ
れている。また、マルチフィンガーFET102は、単
位セル102a〜102eにより構成され、マルチフィ
ンガーFET103は、単位セル103a〜103eに
より構成され、マルチフィンガーFET104は、10
4a〜104eにより構成されている。
Here, a characteristic feature of the present invention is that the multi-finger FETs 101 to 104 are laid out integrally, and the unit cells constituting each multi-finger FET are arranged adjacent to each other in a “nested shape”. Is a point. In the configuration illustrated in FIGS. 2 and 3,
Each of the multi-finger FETs 101 to 104
It is composed of five unit cells. That is, the multi-finger FET 101 includes the unit cells 101a, 101
.., 101e. The multi-finger FET 102 includes unit cells 102a to 102e, the multi-finger FET 103 includes unit cells 103a to 103e, and the multi-finger FET 104 includes
4a to 104e.

【0033】それぞれの単位セルは、2個の単位FET
を有する。つまり、マルチフィンガーFETは、それぞ
れ10個の単位FETを有する。図2及び図3に示した
レイアウトにおいては、単位FETのフィンガー長は1
00μmとされているので、各マルチフィンガーFET
の総ゲート幅は1mmである。
Each unit cell has two unit FETs.
Having. That is, each multi-finger FET has ten unit FETs. In the layout shown in FIGS. 2 and 3, the finger length of the unit FET is 1
Since each of the multi-finger FETs is
Has a total gate width of 1 mm.

【0034】また、これらの図に示したレイアウトにお
いては、全部で20個の単位セル、すなわち40個の単
位FETが同列に配置されている。単位セルの配置の順
序は、101a、102a、103a、104a、10
1b、102b、103b、104b、101c・・・
・104eの如くである。つまり、マルチフィンガーF
ET101の単位セル、102の単位セル、103の単
位セル、104の単位セルの順番の配列を5回繰り返
す。
In the layouts shown in these figures, a total of 20 unit cells, ie, 40 unit FETs are arranged in the same column. The arrangement order of the unit cells is 101a, 102a, 103a, 104a, 10a
1b, 102b, 103b, 104b, 101c ...
It is like 104e. In other words, multi-finger F
The sequence of the unit cells of the ET 101, the unit cell of 102, the unit cell of 103, and the unit cell of 104 is repeated five times.

【0035】このように一列にレイアウトされたFET
列、すなわち単位FETの列の上下には、各電極の取り
出し配線が形成されている。図2に示した例では、ドレ
イン電極配線110はFET列の周囲を取り囲むように
レイアウトされ、上下から適宜FET列のドレイン電極
に接続されている。また、ソース電極配線111〜11
4やゲート電極配線121〜124も、FET列の上側
と下側とに分けて形成され、それぞれほぼ均等な間隔で
FET列の各電極に接続されている。
FETs laid out in a row as described above
Leading wires for each electrode are formed above and below the column, that is, the column of unit FETs. In the example shown in FIG. 2, the drain electrode wiring 110 is laid out so as to surround the periphery of the FET row, and is connected to the drain electrode of the FET row from above and below as appropriate. Also, source electrode wirings 111 to 11
4 and the gate electrode wirings 121 to 124 are also formed separately on the upper side and the lower side of the FET row, and are connected to the respective electrodes of the FET row at substantially equal intervals.

【0036】例えば、ドレイン配線について説明する
と、図4の等価回路図から明らかなように、単位セル1
01aと102aと103aの間でそれぞれ共有されて
いるドレイン配線110aと110bは、それぞれFE
T列の下側に延在するようにレイアウトされ、単位セル
103aと104aと101bの間で共有されているド
レイン配線110cと110dは、それぞれFET列の
上側に延在するようにレイアウトされている。また、ゲ
ート電極配線について説明すると、単位セル101aと
102aにそれぞれ接続されているゲート電極配線12
1aと122aは、FET列の下側に延在するようにレ
イアウトされ、単位セル103aと104aのゲート電
極配線123aと124aは、FET列の上側に延在す
るようにレイアウトされている。また、ソース電極配線
について説明すると、単位セル101aと102aに接
続されているソース電極配線111aと112aは、F
ET列の下側に延在するようにレイアウトされ、単位セ
ル103aと104aに接続されているソース電極配線
113aと114aは、FET列の上側に延在するよう
にレイアウトされている。
For example, the drain wiring will be described. As is clear from the equivalent circuit diagram of FIG.
01a, 102a, and 103a, respectively, are drain wirings 110a and 110b, respectively.
Drain wirings 110c and 110d laid out so as to extend below the T column and shared between unit cells 103a, 104a and 101b are laid out so as to extend above the FET column, respectively. . Further, the gate electrode wiring will be described. The gate electrode wiring 12 connected to the unit cells 101a and 102a, respectively.
1a and 122a are laid out so as to extend below the FET column, and the gate electrode wirings 123a and 124a of the unit cells 103a and 104a are laid out so as to extend above the FET column. Describing the source electrode wiring, the source electrode wirings 111a and 112a connected to the unit cells 101a and 102a are
The source electrode wirings 113a and 114a laid out so as to extend below the ET column and connected to the unit cells 103a and 104a are laid out so as to extend above the FET column.

【0037】本発明によれば、以上説明したレイアウト
によって、マルチフィンガーFET毎の線路長の偏差を
解消することができる。すなわち、従来例として図7に
示したようにマルチフィンガーFETを別個に4個並べ
る場合と比べると、個々のマルチフィンガーFETのレ
イアウトは冗長になるが、入力端子(ドレイン電極11
0)からみた4個のマルチフィンガーFETの配線経路
長は均等になる。すなわち、4個のマルチフィンガーF
ETに対応するチャネル毎の配線抵抗、配線インダクタ
ンス、カップリング容量などの条件を均一にすることが
でき、チャネル毎の特性の偏差を抑制することが可能と
なる。
According to the present invention, it is possible to eliminate the deviation of the line length for each multi-finger FET by the layout described above. That is, the layout of each multi-finger FET becomes redundant as compared with a conventional example in which four multi-finger FETs are separately arranged as shown in FIG.
0), the wiring path lengths of the four multi-finger FETs become equal. That is, four multi-fingers F
Conditions such as wiring resistance, wiring inductance, and coupling capacitance for each channel corresponding to ET can be made uniform, and deviations in characteristics for each channel can be suppressed.

【0038】また、本発明によれば、このようにそれぞ
れ電極配線をFET列の上下に振り分けてレイアウトす
ることによって、チップレイアウトの際のパッド配置の
制約が小さくなり設計の自由度が向上する。つまり、F
ET列の上側または下側のいずれかだけでなく、上側と
下側の両方に電極パッドを任意に設けることが可能とな
り、パッドを効率的に配置してチップ面積を縮小するこ
とも可能となる。
Further, according to the present invention, by laying out the electrode wirings above and below the FET row as described above, restrictions on pad arrangement in chip layout are reduced, and design flexibility is improved. That is, F
Electrode pads can be arbitrarily provided not only on the upper side or the lower side of the ET column but also on both the upper side and the lower side, and the pads can be efficiently arranged to reduce the chip area. .

【0039】図1〜図5に示した具体例においては、2
個の単位FETをまとめて1個の単位セルとして配列す
る場合を挙げたが、この他にも、1個の単位FETを1
個の単位セルとして配列しても良く、或いは3個以上の
単位FETをまとめて1個の単位セルとして配列しても
良い。但し、前述したように、単位セルは、偶数の単位
FETを有するように構成することが望ましい。その理
由を図2〜図4に示した例において説明すると、隣接す
る「単位FET」の間でドレインを共有することがで
き、素子面積を縮小することができるからである。ここ
で、仮に、奇数の単位FETにより単位セルを構成する
こととすると、単位セルと単位セルとの間でドレインを
共有できない部分が発生し、素子面積が増大することと
なる。
In the specific example shown in FIGS.
Although the case where the unit FETs are collectively arranged as one unit cell has been described, in addition to this, one unit FET may be arranged as one unit cell.
The unit FETs may be arranged as one unit cell, or three or more unit FETs may be arranged together as one unit cell. However, as described above, it is desirable that the unit cell is configured to have an even number of unit FETs. Explaining the reason in the example shown in FIGS. 2 to 4, the drain can be shared between adjacent “unit FETs”, and the element area can be reduced. Here, if a unit cell is formed by an odd number of unit FETs, a portion where the drain cannot be shared between the unit cells and the unit cell occurs, and the element area increases.

【0040】また、図2及び図3においては、「FET
列」が一列の場合について例示したが、本発明はこれに
限定されるものではない。すなわち、集積回路素子が多
数のマルチフィンガーFETを有する場合や、それぞれ
のマルチフィンガーFETが多数の単位FETからなる
ような場合には、「FET列」は2列以上の複数列とし
て構成しても良い。この場合にも、それぞれのFET列
の上側と下側とに適宜、各電極配線をレイアウトするこ
とにより、チップサイズの拡大を抑制しつつ、配線経路
長を均一にすることができる。
In FIGS. 2 and 3, the "FET
Although the case where the “row” is one row has been exemplified, the present invention is not limited to this. That is, when the integrated circuit element has a large number of multi-finger FETs, or when each multi-finger FET is composed of a large number of unit FETs, the “FET row” may be configured as two or more rows. good. Also in this case, by appropriately laying out the electrode wirings on the upper side and the lower side of each FET row, the wiring path length can be made uniform while suppressing an increase in chip size.

【0041】図6は、本発明による集積回路素子のレイ
アウトを例示する説明図である。同図に示した集積回路
素子は、6個のマルチフィンガーFETで構成されたS
P6Tスイッチであり、その回路構成は、図7(a)と
同様である。6個のマルチフィンガーFETを含んだF
ET部290はチップの中央に配置されている。また、
電源端子200、入力端子210、出力端子211〜2
16、及び制御端子231〜236は、それぞれチップ
の周辺部に配置されている。さらに、FET部290の
周囲には、プルアップ抵抗240、ゲート抵抗241〜
246、インダクタ251〜256がそれぞれ配置さ
れ、適宜接続されている。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a layout of an integrated circuit device according to the present invention. The integrated circuit device shown in the figure has an S composed of six multi-finger FETs.
This is a P6T switch, and its circuit configuration is the same as that of FIG. F including six multi-finger FETs
The ET section 290 is arranged at the center of the chip. Also,
Power supply terminal 200, input terminal 210, output terminals 211-2
16 and the control terminals 231 to 236 are respectively arranged in the peripheral portion of the chip. Further, around the FET section 290, a pull-up resistor 240 and gate resistors 241 to 241 are provided.
246 and inductors 251 to 256 are arranged and connected appropriately.

【0042】FET部290においては、図1〜図5に
関して前述したように、6個のマルチフィンガーFET
がそれぞれ所定数の単位FETを有する単位セルに分割
され、周期的に「入れ子状」に配列されている。そし
て、そのFET列の上下に、各電極配線がほぼ均等にな
るように振り分けられてレイアウトされている。
In the FET unit 290, as described above with reference to FIGS.
Are divided into unit cells each having a predetermined number of unit FETs, and are periodically arranged in a nested manner. The electrode wirings are laid out above and below the FET row so that the electrode wirings are almost equal.

【0043】FET部290に対しては、入力端子21
0から配線が接続され、入力端子210からみた6個の
マルチフィンガーFETのドレイン電極に至る配線経路
の条件は均等である。また、6個のマルチフィンガーF
ETにそれぞれ接続されている出力端子211〜216
までの配線経路も均等である。図8に示した従来のレイ
アウトと比べると、個別に設けられた6個のマルチフィ
ンガーFETにそれぞれ入力端子から信号線を振り分け
る必要がないので、チップサイズは約1.3mm×1.
9mmとなり、従来の面積の約76%に小さくできた。
For the FET section 290, the input terminal 21
From 0, the wiring is connected, and the conditions of the wiring path from the input terminal 210 to the drain electrodes of the six multi-finger FETs are equal. In addition, six multi-finger F
Output terminals 211 to 216 respectively connected to ET
The wiring route up to is also equal. Compared with the conventional layout shown in FIG. 8, it is not necessary to distribute signal lines from input terminals to six individually provided multi-finger FETs, so that the chip size is about 1.3 mm × 1.
9 mm, which was reduced to about 76% of the conventional area.

【0044】また、従来例ではチャネル毎の偏差は0.
5dBであったのに対して、本発明の集積回路素子の偏
差は0.1dBと極めて小さくすることができた。
In the conventional example, the deviation for each channel is equal to 0.
While the difference was 5 dB, the deviation of the integrated circuit device of the present invention could be extremely reduced to 0.1 dB.

【0045】なお以上の説明においては、本発明を1入
力多出カポートスィッチに応用した具体例、すなわち各
マルチフィンガーFETのドレイン電極が共通な場合に
ついて述べたが、本発明はこれに限定されるものではな
い。この他にも、例えば、各マルチフィンガーFETの
ゲート電極が共通に接続されるような回路素子について
も、本発明は同様に適用して前述した各種の効果を得る
ことができる。
In the above description, a specific example in which the present invention is applied to a one-input multiple-output port switch, that is, a case where the drain electrode of each multi-finger FET is common has been described. However, the present invention is not limited to this. Not something. In addition, for example, the present invention can also be applied to circuit elements in which the gate electrodes of the multi-finger FETs are connected in common, and the various effects described above can be obtained.

【0046】また、この他にも、本発明は、例えば、複
数のマルチフィンガーFETを有するパワーアンプ回路
について適用することができる。この場合に、それぞれ
のマルチフィンガーFETの単位FETを前述したよう
に「入れ子状」に周期的に配列することにより、単位F
ETを分散させ、素子温度の上昇を抑制するという効果
も得られる。つまり、特定のマルチフィンガーFETに
ついてみた場合に、従来のように個別にレイアウトする
と、発熱源となる単位FETが密に配置される。従っ
て、そのマルチフィンガーFETに大電力を流した場合
に、その温度が局所的に上昇しやすい。これに対して、
本発明によれば、同一のマルチフィンガーFETに属す
る単位FETが散在されるので、発熱源が分散され、局
所的な温度の上昇が抑制される。
In addition, the present invention can be applied to, for example, a power amplifier circuit having a plurality of multi-finger FETs. In this case, by arranging the unit FETs of each multi-finger FET periodically in a “nested” manner as described above, the unit F
An effect of dispersing ET and suppressing an increase in element temperature can also be obtained. That is, in the case of a specific multi-finger FET, when individually laid out as in the related art, unit FETs serving as heat sources are densely arranged. Therefore, when a large electric power is applied to the multi-finger FET, the temperature tends to rise locally. On the contrary,
According to the present invention, since unit FETs belonging to the same multi-finger FET are scattered, heat sources are dispersed, and a local rise in temperature is suppressed.

【0047】さらに、本発明は、高周波用集積回路素子
に限定されるものではない。この他にも、複数のマルチ
フィンガーFETを均一な配線経路条件で配置すること
が望ましいすべての集積回路素子に対して、本発明は、
同様に適用することができ、上述した各種の効果を同様
に得ることができる。例えば、配線抵抗やインダクタン
ス、或いはカップリング容量などのチャネル毎の偏差を
抑制することが望まれるすべての用途に適用して同様に
効果的である。
Further, the present invention is not limited to high frequency integrated circuit devices. In addition, the present invention is applicable to all integrated circuit elements in which it is desirable to arrange a plurality of multi-finger FETs under uniform wiring path conditions.
The same effects can be applied, and the various effects described above can be obtained in the same manner. For example, the present invention is similarly effective when applied to all applications in which it is desired to suppress deviation for each channel such as wiring resistance, inductance, or coupling capacitance.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明は、以上説明した形態により実施
され、以下に説明する効果を奏する。まず、本発明によ
れば、マルチフィンガーFET毎の配線経路長を均等に
することができる。すなわち、それぞれのマルチフィン
ガーFETに対応するチャネル毎の配線抵抗、配線イン
ダクタンス、カップリング容量などの条件を均一にする
ことができ、チャネル毎の特性の偏差を抑制することが
可能となる。
The present invention is embodied by the above-described embodiment, and has the following effects. First, according to the present invention, the wiring path length for each multi-finger FET can be equalized. That is, conditions such as wiring resistance, wiring inductance, and coupling capacitance for each channel corresponding to each multi-finger FET can be made uniform, and a deviation in characteristics for each channel can be suppressed.

【0049】また、本発明によれば、FETの電極配線
をFET列の上下に振り分けて形成することによって、
チップレイアウトの際のパッド配置の制約が小さくなり
設計の自由度が向上する。つまり、FET列の上下のい
ずれかだけでなく、上下の両方に電極パッドを任意に設
けることが可能となり、パッドの効率的な配置によって
チップ面積を縮小することも可能となる。
Further, according to the present invention, by forming the electrode wiring of the FET above and below the FET row,
Restrictions on pad arrangement during chip layout are reduced, and design flexibility is improved. That is, the electrode pads can be arbitrarily provided not only on the upper and lower sides of the FET row but also on both the upper and lower sides, and the chip area can be reduced by the efficient arrangement of the pads.

【0050】さらに、本発明によれば、マルチフィンガ
ーFETの単位FETを「入れ子状」に分散させて配列
することにより、素子温度の上昇を抑制するという効果
も得られる。つまり、特定のマルチフィンガーFETに
ついてみた場合に、従来のように個別にレイアウトする
と、発熱源となる単位FETが密に配置される。従っ
て、そのマルチフィンガーFETに大電力を流した場合
に、その温度が局所的に上昇しやすい。これに対して、
本発明によれば、同一のマルチフィンガーFETに属す
る単位FETが散在されるので、発熱源が分散され、局
所的な温度の上昇を抑制することができる。
Further, according to the present invention, by arranging the unit FETs of the multi-finger FET in a nested manner, an effect of suppressing an increase in element temperature can be obtained. That is, in the case of a specific multi-finger FET, when individually laid out as in the related art, unit FETs serving as heat sources are densely arranged. Therefore, when a large electric power is applied to the multi-finger FET, the temperature tends to rise locally. On the contrary,
According to the present invention, since unit FETs belonging to the same multi-finger FET are scattered, heat sources are dispersed and a local rise in temperature can be suppressed.

【0051】以上、説明したように、本発明は、高周波
用集積回路素子をはじめとして、複数のマルチフィンガ
ーFETを均一な配線経路条件で配置することが望まし
いすべての集積回路素子に対して、本発明は、同様に適
用することができ、上述した各種の効果を同様に得るこ
とができる。例えば、配線抵抗やインダクタンス、或い
はカップリング容量などのチャネル毎の偏差を抑制する
ことが望まれるすべての用途に適用して同様に効果的で
あり産業上のメリットは多大である。
As described above, the present invention is applicable to all integrated circuit elements, in which it is desirable to arrange a plurality of multi-finger FETs under uniform wiring path conditions, including high-frequency integrated circuit elements. The invention can be similarly applied, and the above-described various effects can be similarly obtained. For example, the present invention is equally effective when applied to all applications in which it is desired to suppress deviation for each channel such as wiring resistance, inductance, or coupling capacitance, and has a great industrial merit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるFETの配列の順序を例示する説
明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating the order of arrangement of FETs according to the present invention.

【図2】本発明による集積回路素子のFET部のレイア
ウト図である。
FIG. 2 is a layout diagram of an FET section of an integrated circuit device according to the present invention.

【図3】本発明による集積回路素子のレイアウトの一部
分の拡大図である。
FIG. 3 is an enlarged view of a part of the layout of the integrated circuit device according to the present invention.

【図4】図2に示したレイアウトの等価回路を表す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram illustrating an equivalent circuit of the layout shown in FIG.

【図5】図2に示したFET部の基本回路を表す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram illustrating a basic circuit of the FET unit illustrated in FIG. 2;

【図6】本発明による集積回路素子のレイアウトを例示
する説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a layout of an integrated circuit device according to the present invention.

【図7】従来のマルチフィンガー・タイプFETの代表
的なレイアウトを表す概略パターン図である。
FIG. 7 is a schematic pattern diagram showing a typical layout of a conventional multi-finger type FET.

【図8】(a)は、1入力多出力ポートスイッチの概略
回路図である。(b)は、SP6Tスイッチの実際の回
路を例示する回路図である。
FIG. 8A is a schematic circuit diagram of a one-input multiple-output port switch. (B) is a circuit diagram illustrating an actual circuit of the SP6T switch.

【図9】SP6Tスイッチのレイアウトの一例を表すパ
ターン図である。
FIG. 9 is a pattern diagram illustrating an example of a layout of an SP6T switch.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101〜104 マルチフィンガーFET 101a、102a、・・・ 単位セル 110 ドレイン電極配線 111〜114 ソース電極配線 121〜124 ゲート電極配線 161〜164 ドレイン電極 200、300 電源端子 210、310 入力端子 211〜216、311〜316 出力端子 231〜236、331〜336 制御端子 240、340 プルアップ抵抗 241〜246、341〜346 ゲート抵抗 251〜256、351〜356 インダクタ 290 FET部 371〜375 伝送線路 380 入力信号線 411 ゲート・フィンガー 412 ゲート連結部 421 ソース・フィンガー 422 ソース連結部 431 ドレイン・フィンガー 432 ドレイン連結部 101-104 Multi-finger FETs 101a, 102a,... Unit cell 110 Drain electrode wiring 111-114 Source electrode wiring 121-124 Gate electrode wiring 161-164 Drain electrode 200, 300 Power supply terminal 210, 310 Input terminal 211-216, 311 to 316 Output terminals 231 to 236, 331 to 336 Control terminals 240, 340 Pull-up resistors 241 to 246, 341 to 346 Gate resistors 251 to 256, 351 to 356 Inductors 290 FET units 371 to 375 Transmission lines 380 Input signal lines 411 Gate finger 412 Gate connection 421 Source finger 422 Source connection 431 Drain finger 432 Drain connection

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のマルチフィンガーFETが基板上に
設けられた集積回路素子であって、 互いに略並列に配置された複数の単位FETからなる少
なくとも一列のFET列が前記基板上に形成され、 前記FET列において選択された複数の前記単位FET
のソース、ゲート、及びドレインのそれぞれが共通接続
されて前記複数のマルチフィンガーFETのそれぞれを
構成し、 前記FET列において隣接する前記単位FETは、異な
るマルチフィンガーFETに属するものとして構成され
ていることを特徴とする集積回路素子。
1. An integrated circuit device having a plurality of multi-finger FETs provided on a substrate, wherein at least one FET row composed of a plurality of unit FETs arranged substantially in parallel with each other is formed on the substrate. A plurality of the unit FETs selected in the FET row
Each of the plurality of multi-finger FETs are connected in common to form each of the plurality of multi-finger FETs, and the unit FETs adjacent in the FET row are configured as belonging to different multi-finger FETs. An integrated circuit element characterized by the above-mentioned.
【請求項2】複数のマルチフィンガーFETが基板上に
設けられた集積回路素子であって、 互いに略並列に配置された複数の単位FETからなる少
なくとも一列のFET列が前記基板上に形成され、 前記FET列において互いに隣接する複数の単位FET
のソース、ゲート、及びドレインのそれぞれが共通接続
されて単位セルが形成され、 前記FET列において選択された複数の前記単位セルの
ソース、ゲート、及びドレインのそれぞれが共通接続さ
れて前記複数のマルチフィンガーFETのそれぞれを構
成し、 前記FET列において隣接する前記単位セルは、異なる
前記マルチフィンガーFETに属するものとして構成さ
れていることを特徴とする集積回路素子。
2. An integrated circuit device in which a plurality of multi-finger FETs are provided on a substrate, wherein at least one FET row including a plurality of unit FETs arranged substantially in parallel with each other is formed on the substrate. A plurality of unit FETs adjacent to each other in the FET row
A source cell, a gate, and a drain are commonly connected to each other to form a unit cell; and a plurality of the unit cells selected in the FET row are commonly connected to a source, a gate, and a drain of the plurality of unit cells. An integrated circuit device comprising: each of the finger FETs, wherein the unit cells adjacent in the FET row belong to different ones of the multi-finger FETs.
【請求項3】前記FET列は、前記複数のマルチフィン
ガーFETのそれぞれに属する前記単位セルが周期的に
配置されたものとして構成されていることを特徴とする
請求項2記載の集積回路素子。
3. The integrated circuit device according to claim 2, wherein said FET row is configured such that said unit cells belonging to each of said plurality of multi-finger FETs are periodically arranged.
【請求項4】前記単位セルのそれぞれは、偶数個の単位
FETからなるものとして構成されていることを特徴と
する請求項2または3に記載の集積回路素子。
4. The integrated circuit device according to claim 2, wherein each of said unit cells is constituted by an even number of unit FETs.
【請求項5】複数のマルチフィンガーFETが基板上に
設けられた集積回路素子であって、 隣接する単位FET同士がソースまたはドレインのいず
れかを共有するように複数の単位FETが互いに略並列
に前記基板上に配置され、 前記配置された前記複数の単位FETから周期的に選択
された単位FETの前記ソース、ゲート、及びドレイン
のそれぞれが共通接続されて、前記複数のマルチフィン
ガーFETのそれぞれが構成されていることを特徴とす
る集積回路素子。
5. An integrated circuit device in which a plurality of multi-finger FETs are provided on a substrate, wherein a plurality of unit FETs are substantially parallel to each other such that adjacent unit FETs share either a source or a drain. The source, the gate, and the drain of a unit FET that is arranged on the substrate and periodically selected from the arranged unit FETs are commonly connected, and each of the plurality of multi-finger FETs is An integrated circuit device, comprising:
【請求項6】前記複数のマルチフィンガーFETのソー
ス、ゲート、及びドレインのうちの少なくともいずれか
を共通に接続する共通配線であって、前記FET列の両
側においてそれぞれ略平行に延在し、前記単位セルのそ
れぞれに接続されている共通配線をさらに備えたことを
特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の集積回
路素子。
6. A common line commonly connecting at least one of a source, a gate, and a drain of the plurality of multi-finger FETs, and extends substantially in parallel on both sides of the FET row. The integrated circuit device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a common wiring connected to each of the unit cells.
【請求項7】同一の前記マルチフィンガーFETに属す
る前記単位セルのソース、ドレイン、及びゲートのうち
の少なくともいずれかを共通に接続する複数の配線であ
って、 前記FET列の両側においてそれぞれ略平行に延在し、
前記単位セルのいずれれかに接続されている複数の配線
をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれ
か1つに記載の集積回路素子。
7. A plurality of wirings commonly connecting at least one of a source, a drain, and a gate of the unit cell belonging to the same multi-finger FET, wherein the wirings are substantially parallel on both sides of the FET row. Extends to
7. The integrated circuit device according to claim 1, further comprising a plurality of wirings connected to any one of said unit cells.
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