JPH11168156A - Sealed flip-chip assembly, its manufacture and its reproducing method - Google Patents

Sealed flip-chip assembly, its manufacture and its reproducing method

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JPH11168156A
JPH11168156A JP33409797A JP33409797A JPH11168156A JP H11168156 A JPH11168156 A JP H11168156A JP 33409797 A JP33409797 A JP 33409797A JP 33409797 A JP33409797 A JP 33409797A JP H11168156 A JPH11168156 A JP H11168156A
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JP
Japan
Prior art keywords
flip chip
dialkyl
support substrate
chip assembly
dienophile
Prior art date
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Pending
Application number
JP33409797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ratonasuwamii Aiyaa Shuridaa
シュリダー・ラトナスワミイ・アイヤー
Pui Kwan Wong
プイ・クワン・ウォン
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Yuka Shell Epoxy KK
Original Assignee
Yuka Shell Epoxy KK
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Publication date
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Publication of JPH11168156A publication Critical patent/JPH11168156A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sealed flip-chip assembly which is easy to produce, can be reproduced easily and as well as will not breakdown, and is easily reproducible. SOLUTION: A binder which fills a gap in at least one semiconductor device attached by a plurality of solder connections from a support substrate while the gap is being formed in the support substrate, and which can be reworked thermally is constituted in as follows. At least one kind of filler which exists in an amount of 25 to 75 wt.% is contained on the basis of the amount of a cross-linking resin (A) which is prepared by the reaction of at least one kind of a dienophile, comprising one or more functional groups with at least one kind of a polymer containing 2,5-dialkyl-substituted furan and which can be reworked thermally and on the basis of a component (B). As a result, a flip-chip assembly which is sealed with the filler is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は封止されたフリップ
チップアセンブリー、その製造法及びその再生法に関す
る。一面では、本発明はフリップチップと基板の隙間を
封止するために適した熱硬化性バインダーに関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealed flip chip assembly, a method for manufacturing the same, and a method for recycling the same. In one aspect, the present invention is directed to a thermoset binder suitable for sealing a gap between a flip chip and a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】コントロールドコラプスチップ接続(C
4)又はフリップチップ技術は、はんだバンプによりセ
ラミックキャリヤのような、保護された半導体装置と基
板の接続方法として1960年代に導入された(Microel
ectronics Packaging Handbook, R.Tummala & E.J. Rym
aszewski, VanNostrand Reinhold, N.Y.1989)。装置上
の高溶融はんだバンプは基板上で対応するパッドと組み
合わされた基板上のはんだが流れされて装置と基板の間
に導電性結合を形成する。その後、バインダー(フリッ
プチップ封止)、通常は充填剤入り熱硬化性バインダー
の存在は、湿気及び周囲環境から装置を保護すると共
に、装置疲労寿命性能を高めることが明らかになった。
2. Description of the Related Art Controlled collapse chip connection (C
4) Or flip-chip technology was introduced in the 1960's as a method of connecting a substrate to a protected semiconductor device, such as a ceramic carrier, by solder bumps (Microel).
ectronics Packaging Handbook, R. Tummala & EJ Rym
aszewski, VanNostrand Reinhold, NY1989). The high melting solder bumps on the device cause the solder on the substrate to flow along with the corresponding pads on the substrate to form a conductive bond between the device and the substrate. Subsequently, it was found that the presence of the binder (flip chip encapsulation), typically a filled thermoset binder, protects the device from moisture and the surrounding environment and enhances device fatigue life performance.

【0003】フリップチップ技術は、面積及び容量にお
ける高い密度、小さなフットプリント、高い生産性、及
び封止チップのための樹脂トランスファー成形のような
現在のパッケージ技術に含まれる時間とコストのかかる
工程が省けるなどの数々の理由により、急速に普及して
いる。この技術には、種々のセラミック(例えば、アル
ミナ)及び有機物(例えば、エポキシ/ガラス繊維積層
体)のようなチップキャリヤ又は基板が使用される。マ
ルチチップモジュール、狭いダイとダイの間隔及び高価
なマルチコンポーネントボードにおけるフリップチップ
設置のようなパッケージ形態の出現により、欠陥のある
フリップチップの修理又は再生が急速に大きな関心とな
っている。典型的なフリップチップ加工は(Y.Tsukada,
Y. Mashimoto, N.Watanuki, Proceedings of the 43rd
Electronic Componentsand Technology Conference 199
3 IEEE、 p199-204 )、キャリヤ上にはんだバンプを形
成し、はんだペーストを塗り、SMT(表面実装技術)
チップ、抵抗体などのような他の部品と共にバンプを付
けたフリップチップを設置し、キャリヤがマルチコンポ
ーネントボードである場合は、赤外線再照射し、X線で
検査し、電気テストを行い、フリップチップ封止を行
い、そして後硬化した後、最終検査を行うことを包含す
る。フリップチップが電気的テストで欠陥があることが
分かった場合は、次いでチップは熱を掛けて除去され、
バンプが直され、交換チップを置き、そして上記の加工
に送り返される。最終検査の後にチップに欠陥があるこ
とが分かった場合は、熱と共に架橋エポキシを破るため
の剪断を行い、そしてチップを除去する。これには、架
橋材料、チップ配置、IR再照射及び上記プロセスにお
ける他の続く工程の存在により、やっかいな位置矯正工
程が続く。
[0003] Flip chip technology requires high density in area and capacity, small footprint, high productivity, and the time and costly steps involved in current packaging technologies such as resin transfer molding for encapsulated chips. It is rapidly becoming popular for a number of reasons, such as omitting it. This technique uses chip carriers or substrates such as various ceramics (eg, alumina) and organics (eg, epoxy / fiberglass laminates). With the advent of multi-chip modules, narrow die-to-die spacing, and package configurations such as flip-chip placement on expensive multi-component boards, the repair or rebuild of defective flip-chips is of rapid interest. Typical flip chip processing is (Y. Tsukada,
Y. Mashimoto, N. Watanuki, Proceedings of the 43rd
Electronic Componentsand Technology Conference 199
3 IEEE, p199-204), forming solder bumps on carriers, applying solder paste, and SMT (Surface Mount Technology)
Install a flip chip with bumps together with other parts such as chips, resistors, etc. If the carrier is a multi-component board, re-irradiate infrared rays, inspect with X-rays, conduct an electrical test, After performing the sealing and post-curing, it involves performing a final inspection. If the flip chip is found to be defective in the electrical test, the chip is then heated and removed,
The bumps are fixed, the replacement tip is placed, and sent back to the above process. If the chip is found to be defective after the final inspection, shear with heat to break the crosslinked epoxy and remove the chip. This is followed by a cumbersome repositioning step due to the presence of cross-linking material, tip placement, IR re-irradiation and other subsequent steps in the process.

【0004】慣用のフリップチップバインダーは熱硬化
系であり、チップの下に施された後は、不可逆的に架橋
される。配合物の一例は(D.W.Wang, and K.I. Papatho
mas,IEEE Transaction on Components, Hybrids and Ma
nufacture Technology, 16(8), December 1993, p 863-
867)、ビスフェノールAエポキシ又は脂環式エポキシ
のような液状エポキシ樹脂、適当な促進剤と共に無水物
のような硬化剤、シリカのような充填剤及び他の添加剤
である。
[0004] Conventional flip chip binders are thermoset systems and are irreversibly cross-linked after being applied under the chips. One example of a formulation is (DWWang, and KI Papatho
mas, IEEE Transaction on Components, Hybrids and Ma
nufacture Technology, 16 (8), December 1993, p 863-
867), liquid epoxy resins such as bisphenol A epoxy or cycloaliphatic epoxies, curing agents such as anhydrides with suitable accelerators, fillers such as silica and other additives.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】半導体装置の再生は高
価で且つ時間を消費するプロセスである。最近、該装置
を交換する必要がある場合は、装置を上記したような破
壊する方法で除去しなければならない。従って、容易で
且つ破壊しないで再生可能な方法及びフリップチップア
センブリーを提供することが望まれている。
Regeneration of semiconductor devices is an expensive and time-consuming process. If the device needs to be replaced recently, the device must be removed in a destructive manner as described above. Accordingly, it is desirable to provide an easy and non-destructible reproducible method and flip chip assembly.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、支持基
板;該支持基板から延びた複数のはんだ接続により該支
持基板に隙間を形成しつつ取り付けられた少なくとも1
つの半導体装置;および該隙間を満たす熱的に再加工可
能なバインダーを集合して包含しており、該熱的に再加
工可能なバインダーが(a)1より多い官能度を有する
少なくとも一種のジエノフィルと、少なくとも一種の
2,5−ジアルキル置換フラン含有重合体の反応により
製造された熱的に再加工可能な架橋樹脂、および(b)
成分(a)及び(b)の量に基づいて25〜75重量%
の量で存在する少なくとも一種の充填剤を、含有し、そ
れによりアセンブリーが提供される、封止されたフリッ
プチップアセンブリーが提供される。
According to the present invention, a support substrate; at least one of a plurality of solder connections extending from the support substrate and attached to the support substrate while forming a gap.
At least one dienophile comprising: a semiconductor device; and a thermally reworkable binder filling the gap, wherein the thermally reworkable binder has (a) a functionality greater than one. And a thermally reworkable crosslinked resin produced by the reaction of at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer; and (b)
25-75% by weight based on the amount of components (a) and (b)
A sealed flip-chip assembly is provided, which contains at least one filler present in an amount of 0.1 wt.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】熱的に再加工可能な架橋樹脂の重
合体鎖を製造するには幾つかの方法がある。熱的に再加
工可能な架橋樹脂は、1つより多い官能度を有する少な
くとも一種の2,5−ジアルキル置換フラン含有重合体
をディルス−アルダー付加により互いに結合させる反応
により製造することができる。一実施態様においては、
2,5−ジアルキル置換フラン基は重合体鎖に結合する
か、又は重合体の一部を形成する。ディルス−アルダー
付加物を形成する可逆的なフランとジエノフィルの反応
は下記のように表される:
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION There are several methods for producing thermally reworkable polymer chains of crosslinked resins. Thermally reworkable crosslinked resins can be made by a reaction in which at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer with more than one functionality is linked together by Diels-Alder addition. In one embodiment,
The 2,5-dialkyl substituted furan groups attach to the polymer chain or form part of the polymer. The reversible reaction of a dienophile with a furan to form a Diels-Alder adduct is represented as follows:

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】熱的に再加工可能な架橋樹脂については、
ディルス−アルダー付加物の全て又は一部は、加熱によ
りフラン及びジエノフィルへ戻し、樹脂が液体である
(流動性物質)ようにすることができる。
[0009] For thermally reworkable crosslinked resins,
All or a portion of the Diels-Alder adduct can be returned to the furan and dienophile by heating, such that the resin is liquid (flowable material).

【0010】この態様では、その分子構造中に2つ以上
のジエノフィルを含有する架橋剤を使用することもでき
る。これらのジエノフィルは化学結合又はブリッジ基に
より互いに繋がれる。従って、本発明は2,5−ジアル
キル置換フランの部分と、分子構造中に2つ以上のジエ
ノフィルを含有する架橋剤を含有する重合体を含むフリ
ップチップバインダー組成物(封止材)をも意図してい
る。また、ジエノフィルは重合体鎖に結合し、又は重合
体鎖の一部を形成する。分子構造中に2つ以上の2,5
−ジアルキル置換フラン基を含有する架橋剤も使用する
ことができる。
In this embodiment, a cross-linking agent containing two or more dienophiles in its molecular structure can be used. These dienophiles are linked together by chemical bonds or bridging groups. Accordingly, the present invention also contemplates a flip chip binder composition (sealing material) comprising a polymer containing a portion of a 2,5-dialkyl-substituted furan and a crosslinking agent containing two or more dienophiles in the molecular structure. doing. Also, the dienophile binds to or forms part of the polymer chain. Two or more 2,5 in the molecular structure
Crosslinkers containing dialkyl-substituted furan groups can also be used.

【0011】もう一つの実施態様においては、ジエノフ
ィルは重合体鎖に結合し、その鎖に2,5−ジアルキル
置換フラン基が結合するか、又はその鎖が重合体鎖の一
部として2,5−ジアルキル置換フラン基を含有する。
従って、2,5−ジアルキル置換フラン含有重合体は
2,5−ジアルキル置換フラン部分及びジエノフィル部
分も含有することができる。
In another embodiment, the dienophile is attached to a polymer chain to which a 2,5-dialkyl-substituted furan group is attached, or the chain is 2,5 as a part of the polymer chain. -Contains a dialkyl-substituted furan group.
Thus, the 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer can also contain a 2,5-dialkyl-substituted furan moiety and a dienophile moiety.

【0012】2,5−ジアルキル置換フランはその3−
及び4−位で置換されていても、置換されていなくても
よい。好ましい置換基としては、例えばアルキル又はア
ルコキシ基、典型的にはメチル、エチル、1−プロピ
ル、メトキシ及び1−ヘキシルオキシ基のような10ま
での炭素原子を有するものである。2及び5位が未置換
のフランを有する樹脂は不可逆的にゲル化し且つその可
逆的性を妨害する副反応を起こしやすい。
The 2,5-dialkyl-substituted furan has its 3-
And may be substituted or unsubstituted at the 4-position. Preferred substituents are those having up to 10 carbon atoms such as, for example, alkyl or alkoxy groups, typically methyl, ethyl, 1-propyl, methoxy and 1-hexyloxy groups. Resins having unsubstituted furans at the 2 and 5 positions are prone to side reactions that irreversibly gel and hinder their reversibility.

【0013】2,5−ジアルキル置換フラン基は架橋樹
脂のベースとなる重合体の重合体鎖に結合していてもよ
い。該フラン基は重合体鎖に直接化学結合又は2価の有
機ブリッジ基を介して結合することができ、そのために
フラン置換体あるいはフランの3−又は4−位のいずれ
で結合したものの一部として機能することができる。フ
ランの2−及び5−位のアルキル置換基は同じでも、異
なっていてもよく、典型的には10までの炭素原子を有
する。適当なアルキル基は、メチル、エチル、1−プロ
ピル及び1−ヘキシル基である。重合体鎖に結合するこ
とのできる適当なフラン基は、2,5−ジメチルフル−
3−イル、2,5−ジエチルフル−3−メチル−フル−
4−イル、2,5−エチルフルフリル又は5−(1−ブ
チル)フルフリル基である。
[0013] The 2,5-dialkyl-substituted furan group may be bonded to the polymer chain of the polymer serving as the base of the crosslinked resin. The furan group can be directly bonded to the polymer chain via a chemical bond or a divalent organic bridge group, and therefore, as a part of a furan substituent or a compound bonded at the 3- or 4-position of furan. Can work. The alkyl substituents at the 2- and 5-positions of the furan can be the same or different and typically have up to 10 carbon atoms. Suitable alkyl groups are methyl, ethyl, 1-propyl and 1-hexyl groups. A suitable furan group that can be attached to the polymer chain is 2,5-dimethylfur-
3-yl, 2,5-diethylfur-3-methyl-fur-
4-yl, 2,5-ethylfurfuryl or 5- (1-butyl) furfuryl group.

【0014】2,5−ジアルキル置換フラン基が結合す
ることのできる重合体鎖の種類は限定されない。重合体
鎖は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリ(アクリル酸)又はエチレンとアクリル酸又はエス
テルの共重合体のようなポリオレフィンの鎖、一酸化炭
素とエチレン性不飽和化合物のランダム又は交互共重合
体(この共重合体の説明についてはさらに後述する)の
鎖、又はポリアミドあるいはポリエステルの鎖のような
複素原子を有する鎖が適している。2,5−ジアルキル
置換フランはそれ自身重合体主鎖の骨格を形成している
ことが好ましい。このような場合、フランの2,5−ジ
アルキル置換基の各々は、重合体の一部を形成し且つ置
換されていても、置換されていなくともよいアルキル基
であるこが特に好ましい。
The type of polymer chain to which the 2,5-dialkyl-substituted furan group can be bound is not limited. The polymer chains are polyethylene, polypropylene, polystyrene,
Chains of polyolefins such as poly (acrylic acid) or copolymers of ethylene and acrylic acid or esters, random or alternating copolymers of carbon monoxide and ethylenically unsaturated compounds (the description of this copolymer is further described below) Or a chain having a heteroatom, such as a polyamide or polyester chain. Preferably, the 2,5-dialkyl-substituted furan itself forms the backbone of the polymer backbone. In such a case, it is particularly preferred that each of the 2,5-dialkyl substituents of the furan is an alkyl group that forms part of the polymer and may or may not be substituted.

【0015】このような構造は、その重合体中に1,4
−ジカルボニル体を含有する一酸化炭素とエチレン性不
飽和化合物の共重合体をフラン化することにより、即ち
1,4−ジカルボニル体をフラン部分に変換することに
より製造することができる。また、強酸の存在下に一酸
化炭素とエチレン性不飽和化合物を反応させることによ
り、直接2,5−ジアルキル置換フラン含有重合体を製
造することができる。
Such a structure has 1,4 in the polymer.
It can be produced by furanizing a copolymer of carbon monoxide containing a dicarbonyl compound and an ethylenically unsaturated compound, that is, converting a 1,4-dicarbonyl compound into a furan moiety. Further, by reacting carbon monoxide with an ethylenically unsaturated compound in the presence of a strong acid, a 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer can be directly produced.

【0016】重合体中に1,4−ジカルボニル体を含有
する一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物の完全交互共
重合体は公知である。該共重合体は、例えばEP−A−
121965,EP−A−181014及びEP−A−
516238の公知の方法を用いてパラジウム触媒重合
により製造することができる。そのようにして製造され
た重合体は、一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物の交
互共重合体、即ち重合体鎖が、交互配列中において、重
合体鎖が一酸化炭素から生ずる単量体単位(カルボニル
基)及びエチレン性不飽和化合物から生ずる単量体単位
を含有する共重合体であるので、重合体鎖の4つの炭素
ごとにカルボニル基が存在する。1,4−ジカルボニル
体を含有する一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物の他
の共重合体はランダム共重合体、即ち重合体鎖がランダ
ムオーダーで単量体単位を含有する共重合体であること
ができる。後者の共重合体は、例えばUS−A−249
5386及びUS−A−4024326から公知の方法
を使用してラジカル開始重合により製造することができ
る。
[0016] Completely alternating copolymers of carbon monoxide and ethylenically unsaturated compounds containing a 1,4-dicarbonyl compound in the polymer are known. The copolymer is, for example, EP-A-
121965, EP-A-181014 and EP-A-
It can be produced by palladium catalyzed polymerization using the known method of 516238. The polymer thus produced is an alternating copolymer of carbon monoxide and an ethylenically unsaturated compound, i.e., the polymer chains are arranged in an alternating sequence, and the monomer units are formed from carbon monoxide. Since it is a copolymer containing (carbonyl group) and a monomer unit derived from an ethylenically unsaturated compound, a carbonyl group is present at every four carbons of the polymer chain. Other copolymers of carbon monoxide containing 1,4-dicarbonyl and ethylenically unsaturated compounds are random copolymers, that is, copolymers in which polymer chains contain monomer units in random order. There can be. The latter copolymer is described, for example, in US-A-249.
It can be prepared by radical-initiated polymerization using methods known from US Pat.

【0017】一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物の共
重合体のフラン化は、当該技術において公知の方法、例
えばA.Senらの“J.Polym. Science,Part A.Polym.Chem.
32(1994),p.841”に記載されているように、脱水剤とし
ての五酸化リンを適用するか、又はUS−A−3979
373に記載されてように、p−トルエンスルホン酸の
ような強酸の存在下に加熱することにより、行うことが
できる。これらの方法は、反応条件を選択することによ
り、種々の転化レベルで、重合体鎖中の1,4−ジカル
ボニル部分をフラン部分へ転化させる。
The furanation of a copolymer of carbon monoxide and an ethylenically unsaturated compound can be carried out by methods known in the art, for example, A. Sen et al., "J. Polym. Science, Part A. Polym. Chem.
32 (1994), p. 841 ", by applying phosphorus pentoxide as a dehydrating agent or in US-A-3979.
As described in 373, this can be done by heating in the presence of a strong acid such as p-toluenesulfonic acid. These methods convert 1,4-dicarbonyl moieties in the polymer chain to furan moieties at various conversion levels by selecting reaction conditions.

【0018】一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物の交
互共重合体をフラン化に使用することが好ましいが、こ
れは重合体主鎖中の1,4−ジカルボニル基の含有量が
高いので、高レベルにフラン基が導入されるフラン化が
効率的に達成されるからである。それにもかかわらず、
フラン化の低い度合いを望む場合は、カルボニル基のフ
ラン基への転化は低く保つことができる。
It is preferable to use an alternating copolymer of carbon monoxide and an ethylenically unsaturated compound for furanization, but this is because the content of 1,4-dicarbonyl groups in the polymer main chain is high. This is because furanization in which furan groups are introduced at a high level is efficiently achieved. Nevertheless,
If a low degree of furanation is desired, the conversion of carbonyl groups to furan groups can be kept low.

【0019】一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物の共
重合体は、エチレン性不飽和化合物として炭化水素をベ
ースとすることできる。該共重合体はエチレン性不飽和
をベースとすることができ、α−オレフィンが適してお
り、特に10までの炭素原子を有するα−オレフィンが
好ましい。脂肪族α−オレフィン、特に3〜6の炭素原
子を有するもの、より好ましくは、プロペン、1−ブテ
ン、1−ペンテン及び1−ヘキセンのような直鎖炭素原
子を有するものが非常に適している。該共重合体はレジ
オレギュラー又はイレギュラー、ステレオレギュラー又
はアタクチックであることができる。
The copolymer of carbon monoxide and the ethylenically unsaturated compound can be based on hydrocarbons as the ethylenically unsaturated compound. The copolymer can be based on ethylenic unsaturation, and α-olefins are suitable, especially α-olefins having up to 10 carbon atoms. Highly suitable are aliphatic α-olefins, especially those having 3 to 6 carbon atoms, more preferably those having straight-chain carbon atoms such as propene, 1-butene, 1-pentene and 1-hexene. . The copolymer can be regioregular or irregular, stereoregular or atactic.

【0020】プロペン及び一酸化炭素をベースとする重
合体がフラン化された2,5−ジアルキル置換フラン含
有重合体は下記式で表すことができる:
The 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer obtained by furanizing a polymer based on propene and carbon monoxide can be represented by the following formula:

【0021】[0021]

【化3】 Embedded image

【0022】ディールス−アルダー付加物が得られるジ
エノフィルの特徴的な性質は、架橋樹脂が再加工可能で
あるような熱安定性をディールス−アルダー付加物が有
する限り、限定されるものではない。通常は、最低温度
(その温度以上で再加工可能な架橋樹脂が再加工され
る)は、使用される半導体装置の最高温度要求に依存す
る。再加工は約100℃、好ましくは約130℃から約
250℃、好ましくは約200℃の温度で行うことが適
当である。
The characteristic properties of the dienophile from which the Diels-Alder adduct is obtained are not limited, as long as the Diels-Alder adduct has the thermal stability such that the crosslinked resin can be reworked. Usually, the lowest temperature (above which temperature the reworkable crosslinked resin is reworked) depends on the highest temperature requirements of the semiconductor device used. Suitably the rework is performed at a temperature of about 100 ° C, preferably about 130 ° C to about 250 ° C, preferably about 200 ° C.

【0023】適したジエノフィル官能基は、Y=Y(Y
はC<、N−又は−C≡C−)で表すことができる。ジ
エノフィルは、エステル基又はケト基のような電子吸引
基をエチン部分の両側に有するアルキンであることが好
ましい。例えば、置換ブト−2−エン−1,4−ジオン
及びブチン二酸(即ち、アセチレンジカルボン酸)のモ
ノ−及びジエステルである。他の適当なジエノフィルは
5−又は6−員環中に含まれたブト−2−1,4−ジオ
ン部分を含有する化合物、特に下記一般式を有する化合
物である。
A suitable dienophile functional group is Y = Y (Y
Can be represented by C <, N- or -C≡C-). The dienophile is preferably an alkyne having an electron withdrawing group such as an ester or keto group on both sides of the ethyne moiety. For example, mono- and diesters of substituted but-2-ene-1,4-dione and butynedioic acid (ie, acetylenedicarboxylic acid). Other suitable dienophiles are compounds containing a but-2-1,4-dione moiety contained in a 5- or 6-membered ring, especially compounds having the general formula:

【0024】[0024]

【化4】 Embedded image

【0025】式中、XはO、S、N、P又はRを表し、
Rはアルキレンであり、その際、ジエニフィルが重合体
の1つ又は他のジエノフィル鎖と連結しているブリッジ
基により少なくとも1つの遊離原子価が占められてお
り、且つ残りの原子価は、もしあれば、低級アルキル又
はアシル置換基又は水素、又は好ましくは水素により占
められている。低級アルキル置換基は4までの炭素原子
を有することが適しており、例えば、メチル又はエチル
基である。上記一般式のジエノフィルは無水マレイン酸
の環状誘導体、特にマレイミド(即ち、XがOを表す
か、又は特にN−を表す)。他の適当なジエノフィルの
例としては、ビス(トリアゾリンジオン)、ビス(フタ
ラジンジオン)、キノン、ビス(トリシアノエチレ
ン)、ビス(アゾジカルボキシレート);ジアクリレー
ト、マレエート又はフマレートポリエステル、アセチレ
ンジカルボキシレートポリエステルがある。
In the formula, X represents O, S, N, P or R;
R is alkylene, wherein at least one free valence is occupied by a bridging group connecting the dienophile to one or another dienophile chain of the polymer, and the remaining valences, if any, If so, it is occupied by a lower alkyl or acyl substituent or hydrogen, or preferably hydrogen. Suitably the lower alkyl substituent has up to 4 carbon atoms, for example a methyl or ethyl group. The dienophiles of the above general formula are cyclic derivatives of maleic anhydride, in particular maleimides (i.e. X represents O or especially N-). Examples of other suitable dienophiles include bis (triazolinedione), bis (phthalazinedione), quinone, bis (tricyanoethylene), bis (azodicarboxylate); diacrylate, maleate or fumarate polyester, There is acetylene dicarboxylate polyester.

【0026】上記したように、一つの具体的使用におい
ては、その分子構造中に、ディールス−アルダー付加物
が得られるジエノフィルを2つ以上含有する架橋剤が用
いられる。ジエノフィルは1つ以上のブリッジ基により
互いに連結されていることができる。例えば、3つのジ
エノフィルが3価のブリッジ基により互いに連結されて
いることができる。しかしながら、2つのジエノフィル
が2価のブリッジ基により互いに連結された架橋剤を使
用することで十分である。また、ジエノフィルは化学結
合により互いに連結されていてもよい。
As described above, in one specific use, a cross-linking agent containing two or more dienophiles in its molecular structure to obtain a Diels-Alder adduct is used. The dienophiles can be linked to one another by one or more bridging groups. For example, three dienophiles can be linked together by a trivalent bridge group. However, it is sufficient to use a crosslinker in which the two dienophiles are linked together by a divalent bridging group. The dienophiles may be linked to each other by chemical bonds.

【0027】架橋剤のブリッジ基の分子量及び化学的性
質は大きな範囲で変えることができる。このような架橋
剤の変更により、広範な機械的性質をカバーする再成形
可能な架橋樹脂を与える。ブリッジ基はブリッジ中に炭
素原子のみならず、酸素、珪素又は窒素のようなヘテロ
原子を含有することも可能である。ブリッジ基はフレキ
シブル又はリジッドであってもよい。
The molecular weight and chemical nature of the bridge groups of the crosslinker can vary within wide limits. Such cross-linking agent modifications provide re-formable cross-linked resins that cover a wide range of mechanical properties. The bridge group can contain not only carbon atoms in the bridge, but also heteroatoms such as oxygen, silicon or nitrogen. The bridging group may be flexible or rigid.

【0028】例えば、ポリ(アルキレンオキサイド)又
はポリシロキサンのようなフレキシブルな重合体鎖を有
し、300以上の数平均分子量を有する高分子ブリッジ
基はゴム状の再加工可能な架橋樹脂を与える。高分子フ
レキシブル鎖が1500〜5000又はそれ以上の数平
均分子量を有する場合は、熱可塑性ゴムに置き換え可能
な再加工可能な架橋樹脂を得ることができる。
For example, polymeric bridging groups having a flexible polymer chain, such as poly (alkylene oxide) or polysiloxane, and having a number average molecular weight of 300 or more provide a rubbery, reworkable crosslinked resin. When the polymer flexible chain has a number average molecular weight of 1500 to 5000 or more, a reworkable crosslinkable resin that can be replaced with a thermoplastic rubber can be obtained.

【0029】従って、この種の適当な架橋剤は、ポリ
(エチレンオキサイド)又はポリ(プロピレンオキサイ
ド)のようなポリ(アルキレンオキサイド)をビスマレ
イミドでキャップしたもの、及びビスマレイミドキャッ
プポリシロキサン、例えば、式:H2N−CH2[−O−
SiR2]n−O−CH2−NH2(nは平均10より大
きい整数、特に20〜70の範囲であり、Rは独立し
て、アルキル基、特に5までの炭素原子を有するもの、
好ましくはメチル基である)のポリシロキサンのビスマ
レイミドである。ビスアミノキャップポリ(プロペンオ
キサイド)のビスマレイミド、特に少なくとも300、
殊に1500〜5000の範囲の数平均分子量を有する
ものを用いることにより、非常に良好な結果を得ること
ができる。
Thus, suitable crosslinkers of this type are poly (alkylene oxides), such as poly (ethylene oxide) or poly (propylene oxide), capped with bismaleimide, and bismaleimide-capped polysiloxanes, for example, Formula: H 2 N—CH 2 [—O—
SiR 2] n-O-CH 2 -NH 2 (n is an average of 10 integer greater than, in particular the range of 20 to 70, R is independently, those with alkyl groups, in particular carbon atoms of up to 5,
Bismaleimide of a polysiloxane (preferably a methyl group). Bismaleimides of bisamino-capped poly (propene oxide), especially at least 300,
Particularly good results can be obtained by using those having a number average molecular weight in the range of 1500 to 5000.

【0030】低分子量ブリッジ基、即ちブリッジ中に典
型的には20までの炭素原子を有するブリッジ基を使用
することもできる。脂環式及び芳香族ブリッジ基はブリ
ッジ基をリジッドにする。低分子量の脂環式及び芳香族
ブリッジ基は、硬く且つ脆く、比較的高いガラス転移温
度を有する再成形可能な架橋樹脂を与える。低分子量の
脂環式及び芳香族ブリッジ基の例は、ブリッジ中にノル
ボルナン骨格、1,3−フェニレン基及び次式:−f−
CH2−f−、−f−O−f−O−f−、−f−O−f
−SO2−f−O−f−及び−f−C(CH32−f−
(−f−は1,4−フェニレン基を表す)を含有する基
である。他の適当なブリッジ基はアルキレン及びオキシ
カルボニル(エステル)基、及びそれらの組み合わせで
ある。適当な低分子量架橋剤は、例えば以下のアミン、
ビスマレイミド、ヒドラジン、2,4−ジアミノトルエ
ン、ヒキサメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミ
ン、一般式:
It is also possible to use low molecular weight bridging groups, ie bridging groups typically having up to 20 carbon atoms in the bridge. Cycloaliphatic and aromatic bridge groups make the bridge groups rigid. The low molecular weight cycloaliphatic and aromatic bridging groups are hard and brittle, giving remoldable crosslinked resins having relatively high glass transition temperatures. Examples of low molecular weight alicyclic and aromatic bridge groups include a norbornane skeleton, a 1,3-phenylene group and the following formula: -f-
CH 2 -f -, - f- O-f-O-f -, - f-O-f
-SO 2 -f-O-f and -fC (CH 3 ) 2 -f-
(-F- represents a 1,4-phenylene group). Other suitable bridging groups are alkylene and oxycarbonyl (ester) groups, and combinations thereof. Suitable low molecular weight crosslinking agents include, for example, the following amines:
Bismaleimide, hydrazine, 2,4-diaminotoluene, hexamethylenediamine, dodecamethylenediamine, general formula:

【0031】[0031]

【化5】 Embedded image

【0032】のジアミン及び低分子量のビスアミノキャ
ップ(ポリ)シロキサン、例えば一般式:H2N−CH2
[−O−SiR2]n−O−CH2−NH2(nは平均1
〜10、好ましくは1〜5であり、Rは好ましくはメチ
ル基である)のポリシロキサンである。上記式のジアミ
ンの異性体混合物はヘキスト社から商業的に入手可能で
ある。ビス(4−マレイミドフェニル)メタン及びジメ
チルビス[(N−マレイミドメチル)オキシ]シランに
より、非常に良好な結果を得ることができる。
Diamines and low molecular weight bisaminocapped (poly) siloxanes, for example of the general formula H 2 N—CH 2
[—O—SiR 2 ] n—O—CH 2 —NH 2 (n is 1 on average)
-10, preferably 1-5, and R is preferably a methyl group). A mixture of isomers of the diamine of the above formula is commercially available from Hoechst. Very good results can be obtained with bis (4-maleimidophenyl) methane and dimethylbis [(N-maleimidomethyl) oxy] silane.

【0033】無水マレイン酸をベースとする他の適当な
架橋剤は、下記一般式の化合物である:
Other suitable crosslinkers based on maleic anhydride are compounds of the general formula:

【0034】[0034]

【化6】 Embedded image

【0035】(式中、Aは上記したブリッジ基、特にブ
リッジ中に20までの炭素原子を有するブリッジ基を表
す)。殊にブリッジ基Aは、ヘキサメチレン基のような
アルキレン基又は−D−O−CO−、又は−CO−O−
D−O−CO−基(Dは2価のヒドロカルビル基、例え
ば、ヘキサメチレン基のようなアルキレン基を表す)で
ある。
Wherein A represents a bridge group as described above, in particular a bridge group having up to 20 carbon atoms in the bridge. In particular, the bridge group A is an alkylene group such as a hexamethylene group or -DO-CO-, or -CO-O-
A DO-CO- group (D represents a divalent hydrocarbyl group, for example, an alkylene group such as a hexamethylene group).

【0036】さらに、他の適当な架橋剤はブチン二酸及
びジオール、例えばエチレングリコール、ポリ(エチレ
ングリコール)、プロピレングリコール又はポリ(プロ
ピレングリコール)をベースとするポリエステルであ
る。これらのポリエステルは、上記したような低分子量
架橋剤であり、例えば400以上、2000〜6000
の範囲の数平均分子量を有する。
Furthermore, other suitable crosslinkers are butynedioic acids and diols such as ethylene glycol, poly (ethylene glycol), propylene glycol or polyesters based on poly (propylene glycol). These polyesters are low molecular weight crosslinking agents as described above, for example, 400 or more, 2000 to 6000.
Has a number average molecular weight in the range of

【0037】また、本発明はビスマレイミドキャップポ
リ(アルキレンオキサイド)、特にビスマレイミドキャ
ップポリ(プロペンオキサイド)のような架橋剤に関す
るものである。このような架橋剤は少なくとも300、
特に1500〜5000の数平均分子量を有する。ポリ
シロキサンのビスマレイミドは、一般式:H2N−CH2
[−O−SiR2]n−O−CH2−NH2(nは少なく
とも1の整数を表し、Rは独立してしてアルキル基、特
に5までの炭素原子を有するもの、好ましくはメチル基
を表す)を有する。ビスマレイミドキャップポリシロキ
サンは、マレイミドをホルムアルデヒドでN−ヒドロキ
シメチル化し、ついで一般的に公知の方法を使用して、
塩基及び水の存在下に適当なジクロロジアルキルシラン
と反応させることにより製造するこができる。
The present invention also relates to crosslinking agents such as bismaleimide-capped poly (alkylene oxide), especially bismaleimide-capped poly (propene oxide). At least 300 such crosslinking agents,
In particular, it has a number average molecular weight of 1500 to 5000. The bismaleimide of the polysiloxane has the general formula: H 2 N—CH 2
[—O—SiR 2 ] n—O—CH 2 —NH 2 (n represents an integer of at least 1 and R independently represents an alkyl group, particularly one having up to 5 carbon atoms, preferably a methyl group ). Bismaleimide-capped polysiloxanes are N-hydroxymethylated maleimides with formaldehyde and then using generally known methods,
It can be produced by reacting with an appropriate dichlorodialkylsilane in the presence of a base and water.

【0038】上記したように、本発明のある態様は、そ
の分子構造中に2,5−ジアルキルフラン部分を含有す
る架橋剤に関するものである。この架橋剤においては、
2,5−ジアルキル置換フラン基は化学結合又はブリッ
ジ基を介して互いに連結していることができる。ブリッ
ジ基の性質は一般に、上記したような2つ以上のジエノ
フィルを含有する架橋剤のブリッジ基と同じである。適
当な架橋剤の例はビス(5−エチルフルフリル)アジペ
ート、及び前のパラグラフに記載のジアミン及び(5−
エチルフルフリル)酢酸のビス−アミドである。
As described above, one embodiment of the present invention relates to a crosslinking agent containing a 2,5-dialkylfuran moiety in its molecular structure. In this crosslinking agent,
The 2,5-dialkyl-substituted furan groups can be linked to each other via chemical bonds or bridge groups. The nature of the bridging group is generally the same as the bridging group of the crosslinker containing two or more dienophiles as described above. Examples of suitable crosslinking agents are bis (5-ethylfurfuryl) adipate, and the diamines and (5-
Ethylfurfuryl) bis-amide of acetic acid.

【0039】2,5−ジアルキル置換フラン部分及び/
又はジエノフィルの部分は、化学結合により又はブリッ
ジ基により重合体鎖と連結していることができる。この
ブリッジ基は架橋剤のブリッジ基と同じ種類のものでも
よい。例えば、下記のものを挙げることができる。重合
体がポリスチレンである場合は、ジエノフィルとしての
マレイミドは、N−クロロメチルマレイミドによるポリ
スチレンのアルキル化を触媒する塩化スズ(IV)により
ポリスチレンに連結させることができ、重合体がスチレ
ン/無水マレイン酸共重合体である場合は、5−エチル
フルフリル基をピリジン中で5−エチルフルフリルアル
コールにより(スチレン/無水マレイン酸)共重合体を
エステル化することによりポリスチレンに結合させるこ
とができる。重合体が、重合体鎖中に1,4−ジカルボ
ニル体を含有する一酸化炭素とオレフィン性不飽和化合
物の共重合体である場合は、2,5−ジアルキルフラン
及びジエノフィルは、例えばUS−A−3979374
から公知の方法を用いて、該共重合体を適当な置換第1
級ヒドロカルビルアミンと反応させることにより結合さ
せることができる。この反応においては、1,4−カル
ボニル体が、重合体鎖の一部を形成し且つ置換ヒドロカ
ルビル基でN−置換されたピロール体へ転換される。例
えば、1,4−ジカルボニル体を含有する一酸化炭素と
オレフィン性不飽和化合物の共重合体はマレイン酸とヘ
キサメチレンジアミンのモノアミドと反応させるか、又
はマレイン酸とビス(4−アミノフェニル)メタンのモ
ノアミドと反応させ、ついで酸−アミド部分をマレイミ
ド部分へ閉環させることができる。これによりN−(6
−マレイミドヘキシル)ピロール又はN−{4−
[(4'−マレイミドフェニル)メチル]フェニル}ピ
ロール部分を重合体鎖中に有する重合体が生ずる。2,
5−ジアルキル置換フラン部分及びジエノフィルの部分
を含有する重合体の使用を望む場合は、一酸化炭素とオ
レフィン性不飽和化合物の共重合体の1,4−ジカルボ
ニルはフラン部分へ転換され、1,4−ジカルボニル体
の他の部分は、そのN−置換がジエノフィルを含有する
N−置換ピロール体へ転換させることができる。
A 2,5-dialkyl-substituted furan moiety and / or
Alternatively, a portion of the dienophile can be linked to the polymer chain by a chemical bond or by a bridging group. This bridging group may be of the same type as the bridging group of the crosslinker. For example, the following can be mentioned. When the polymer is polystyrene, the maleimide as the dienophile can be linked to the polystyrene by tin (IV) chloride, which catalyzes the alkylation of polystyrene with N-chloromethylmaleimide, and the polymer is styrene / maleic anhydride. In the case of a copolymer, the 5-ethylfurfuryl group can be attached to polystyrene by esterifying the (styrene / maleic anhydride) copolymer with 5-ethylfurfuryl alcohol in pyridine. When the polymer is a copolymer of carbon monoxide containing a 1,4-dicarbonyl compound in the polymer chain and an olefinically unsaturated compound, 2,5-dialkylfuran and dienophile are, for example, US- A-3797374
Using a method known from
Can be bound by reacting with a secondary hydrocarbylamine. In this reaction, the 1,4-carbonyl form is converted to a pyrrole form which forms part of the polymer chain and is N-substituted by a substituted hydrocarbyl group. For example, a copolymer of carbon monoxide and an olefinically unsaturated compound containing a 1,4-dicarbonyl compound is reacted with maleic acid and a monoamide of hexamethylenediamine, or a copolymer of maleic acid and bis (4-aminophenyl) is used. Reaction with a methane monoamide can then be used to close the acid-amide moiety to the maleimide moiety. Thereby, N- (6
-Maleimidohexyl) pyrrole or N- {4-
A polymer having a [(4'-maleimidophenyl) methyl] phenyl dipyrrole moiety in the polymer chain results. 2,
If it is desired to use a polymer containing a 5-dialkyl substituted furan moiety and a dienophile moiety, the 1,4-dicarbonyl of the copolymer of carbon monoxide and the olefinically unsaturated compound is converted to a furan moiety and The other part of the 4,4-dicarbonyl form can be converted to an N-substituted pyrrole form whose N-substitution contains a dienophile.

【0040】再加工可能な架橋樹脂をベースとする重合
体の分子量は広範な制限内で変えることができる。重合
体は少なくとも500、好ましくは700から約30,
000、好ましくは約20,000までの範囲の数平均
分子量を有することが適している。
The molecular weight of the reworkable crosslinked resin-based polymer can be varied within wide limits. The polymer has at least 500, preferably 700 to about 30,
Suitably it has a number average molecular weight in the range of 000, preferably up to about 20,000.

【0041】熱再加工可能な架橋樹脂中に存在するディ
ールスアルダー付加物の量は、ディールスアルダー付加
物が形成される組成物中に存在する2,5−ジアルキル
フラン基及びジエノフィルの量に依存する。ディールス
アルダー付加物が2,5−ジアルキル置換フラン及びジ
エノフィルへ戻る温度以下で架橋剤が固体物質であるた
めには、ディールスアルダー付加物のある最小量を存在
させることが必要であることが当業者には理解できる。
また、この最小量は樹脂がベースである重合体のタイプ
及び分子量に依存し、架橋剤を用いた場合は、架橋剤の
分子当たりのジエノフィル又は2,5−ジアルキルフラ
ン基の数(官能数)に依存する。低分子量の重合体は多
量のディールスアルダー付加物を必要とする。より高い
官能性を有する架橋剤を用いた場合は、ディールスアル
ダー付加物の数は小さくてもよい。
The amount of Diels-Alder adduct present in the thermally reworkable crosslinked resin depends on the amount of 2,5-dialkylfuran groups and dienophiles present in the composition from which the Diels-Alder adduct is formed. . One skilled in the art will recognize that for the crosslinker to be a solid material below the temperature at which the Diels-Alder adduct returns to the 2,5-dialkyl-substituted furan and dienophile, it is necessary to have some minimal amount of the Diels-Alder adduct present. Can understand.
The minimum amount depends on the type and molecular weight of the polymer on which the resin is based, and when a crosslinking agent is used, the number of dienophiles or 2,5-dialkylfuran groups per molecule of the crosslinking agent (functional number) Depends on. Low molecular weight polymers require large amounts of Diels-Alder adducts. If a crosslinker with higher functionality is used, the number of Diels-Alder adducts may be smaller.

【0042】一般に、フラン基とケト基の割合が約1:
16〜約4:1の2,5−ジアルキルフラン含有重合体
を使用することにより、良好な結果を達成することがで
きる。2,5−ジアルキル置換フラン基とジエノフィル
のモル比は、典型的には、約10:1から約1:5、好
ましくは約5:1から約1:3である。
In general, the ratio of furan groups to keto groups is about 1:
Good results can be achieved by using a 16- to about 4: 1 2,5-dialkylfuran-containing polymer. The molar ratio of the 2,5-dialkyl-substituted furan group to the dienophile is typically from about 10: 1 to about 1: 5, preferably from about 5: 1 to about 1: 3.

【0043】半導体装置と支持基板の間に封止されたフ
リップチップアセンブリーは、支持基板から延びた複数
のはんだ接続により、半導体装置を該支持基板に隙間を
形成しつつ取り付け;該隙間に熱的に再加工可能な下記
(a)及び(b)を含有するフリップチップバインダー
を充填することにより提供される: (a)1より多い官能度を有する少なくとも一種のジエ
ノフィルと、少なくとも一種の2,5−ジアルキル置換
フラン含有重合体の反応により製造された熱的に再加工
可能な架橋樹脂、および(b)成分(a)及び(b)の
量に基づいて25〜75重量%の量で存在する少なくと
も一種の充填剤。
The flip-chip assembly sealed between the semiconductor device and the support substrate mounts the semiconductor device on the support substrate while forming a gap by a plurality of solder connections extending from the support substrate; Provided by filling a flip chip binder containing the following (a) and (b), which can be specifically reworked: (a) at least one dienophile having a functionality of more than 1 and at least one 2,2 Thermally reworkable crosslinked resin produced by the reaction of a 5-dialkyl-substituted furan-containing polymer, and (b) present in an amount of 25-75% by weight based on the amount of components (a) and (b) At least one filler.

【0044】支持基板と半導体装置の間隙は、熱的に再
加工可能な組成物の成分を混合し且つ該間隙を充填する
ために該装置の1つ以上の側面に組成物を正確に添加す
るモーションレスミキサー又はシリンジのような標準的
な装置を用いて、熱的に再加工可能な組成物で充填する
ことができる。
The gap between the support substrate and the semiconductor device mixes the components of the thermally reworkable composition and precisely adds the composition to one or more sides of the device to fill the gap. Filling with the thermally reworkable composition can be accomplished using standard equipment such as a motionless mixer or syringe.

【0045】はんだバンプ、典型的には約95部の鉛と
5部のスズ合金は、続く使用及びテストのための基板へ
のチップアタッチメントの手段となる。半導体チップの
基板への面下げ(face down)結合のC4接続の詳細に
ついては、US−A−3401126及び342904
0を参照。典型的なはんだバンプは、対応する基板パッ
ド上の低溶融はんだが流れ且つ装置と基板の間に伝導路
を形成しながら、保護された半導体装置接触側に形成さ
れる。
Solder bumps, typically about 95 parts lead and 5 parts tin alloy, provide a means of chip attachment to a substrate for subsequent use and testing. For further details on the C4 connection of the face down connection of the semiconductor chip to the substrate see US Pat. Nos. 3,401,126 and 342,904.
See 0. Typical solder bumps are formed on the protected semiconductor device contact side while the low melting solder on the corresponding substrate pad flows and creates a conductive path between the device and the substrate.

【0046】通常は、半導体装置は、該装置の材料、即
ち、珪素の膨張係数と異なる膨張係数を有する材料で造
られた基板に据え付けられる。
Normally, the semiconductor device is mounted on a substrate made of the material of the device, ie a material having a coefficient of expansion different from that of silicon.

【0047】熱的に再加工可能な組成物は、典型的に
は、組成物(樹脂及び充填剤)の重量基準で、バインダ
ーの約25重量%から、好ましくは約40重量%から約
75重量%、好ましくは約65重量%の充填剤を含有す
る。充填剤は、高純度溶融シリカ、非晶性シリカ又は合
成ガラス市販充填剤のような半導体封止用に適した無機
充填剤のいずれでもよい。充填剤は場合によりシランの
ようなカップリング剤で処理されていることができる。
The thermally reworkable composition typically comprises from about 25%, preferably from about 40% to about 75%, by weight of the binder, based on the weight of the composition (resin and filler). %, Preferably about 65% by weight of filler. The filler may be any of inorganic fillers suitable for semiconductor encapsulation, such as high purity fused silica, amorphous silica, or commercially available synthetic glass fillers. The filler can optionally be treated with a coupling agent such as a silane.

【0048】典型的には、充填剤及び樹脂は、塩化物、
ナトリウム、カリウムのようなイオン性不純物を少なく
とも実質的に含むべきでない(各々20ppm未満)。本
発明の方法は、従来のエポキシ樹脂ベースのバインダー
を用いた方法において見いだされるイオン性不純物が殆
ど除かれた方法を提供する。
Typically, the filler and resin are chloride,
It should be at least substantially free of ionic impurities such as sodium and potassium (less than 20 ppm each). The method of the present invention provides a method in which the ionic impurities found in conventional methods using epoxy resin-based binders have been largely eliminated.

【0049】さらに、間隙中の熱的に再加工可能な組成
物は、熱的に再加工可能な組成物が溶融する温度で使用
及び/又は再加工される得る。典型的には、再加工可能
な組成物は約100℃から、好ましくは約130℃から
約250℃、好ましくは約200℃の範囲の温度で使用
又は再加工される得る。樹脂が高い温度で長い時間、例
えば200℃で12時間加熱された場合は、樹脂は非可
逆的架橋を受け、もはや熱的に可逆しない。
Furthermore, the thermally reworkable composition in the gap may be used and / or reworked at a temperature at which the thermally reworkable composition melts. Typically, the reworkable composition may be used or reworked at a temperature ranging from about 100 ° C, preferably from about 130 ° C to about 250 ° C, preferably about 200 ° C. If the resin is heated at an elevated temperature for a long period of time, for example at 200 ° C. for 12 hours, the resin undergoes irreversible crosslinking and is no longer thermally reversible.

【0050】また、熱的に再加工可能なフリップチップ
封止組成物は、イオン除去剤(例えばリン酸3カルシウ
ム)、フリーラジカル禁止剤(例えば、ヒドロキノン、
フェノチアゾール)、可撓化剤(例えば、シリコーン)
のような他の添加剤、及びフリップチップ封止組成物に
使用される他の慣用の添加剤を含有することができる。
再加工時間が長いときは、イオン除去剤及び/又はフリ
ーラジカル禁止剤を使用するこが好ましい。
The thermally reworkable flip chip encapsulating composition also includes an ion scavenger (eg, tricalcium phosphate), a free radical inhibitor (eg, hydroquinone,
Phenothiazole), flexibilizer (eg, silicone)
And other conventional additives used in flip chip encapsulation compositions.
If the rework time is long, it is preferred to use an ion scavenger and / or a free radical inhibitor.

【0051】フリップチップは、セラミック又は有機チ
ップキャリヤ及び多部品プリント回路ボード基板のよう
な種々の基板に結合される。また、キャリヤは幾つかの
チップが単一のキャリヤ上に狭い間隔で設置されるマル
チチップモジュールであることができる。多くの場合、
基板及び装置のコストは高く、テスト中に1つ又はそれ
以上の欠陥フリップチップが見つかった場合は、製造者
は全部の基板を排除する余裕がない。本発明は、使用者
が全てのパッケージを投棄しなければならないというこ
となく、容易に欠陥チップを取り替えることを可能にす
るものである。また、本発明の熱的に再加工可能なフリ
ップチップ封止組成物が容易に再生及び修理を可能にす
るから、本発明は使用者が封止前に通常行われるテスト
工程を省くことを可能にする。
Flip chips are bonded to various substrates, such as ceramic or organic chip carriers and multi-part printed circuit board substrates. Also, the carrier can be a multi-chip module where several chips are closely spaced on a single carrier. In many cases,
The cost of the substrate and equipment is high, and if one or more defective flip chips are found during testing, the manufacturer cannot afford to eliminate the entire substrate. The present invention allows a user to easily replace a defective chip without having to discard the entire package. Also, the present invention allows the user to omit the testing steps typically performed prior to encapsulation, since the thermally reworkable flip chip encapsulation composition of the present invention allows for easy regeneration and repair. To

【0052】本発明の方法により造られる基板と半導体
装置の間の封止フリップチップアセンブリーは、はんだ
接続部を溶融させるか又は軟化させ且つ熱的に再加工可
能な組成物を液状に変換させて液状組成物を与えるのに
十分に高い温度で、はんだ接続部、および間隙に充填さ
れた熱的に再加工可能な組成物を加熱することにより再
加工することができる。ついで、半導体装置及び液状組
成物が支持基板から除去されて、装置除去支持体が得ら
れる。新しい装置を基板に設置することを望むならば、
設置部の矯正後(必要ならば、基板パッド上のはんだ及
び/又ははんだフラックスの除去及び再塗布)、基板パ
ッドの上にはんだを再度流すことにより、もう一つの装
置を、隙間を形成しつつ、導電性の接続を形成し、つい
で、このようにして形成された間隙を、下記(i)及び
(ii)を含有する新しい熱的に再加工可能な組成物で充
填することにより、装置除去支持体に取り付けられる。 (i)1つより多い官能度を有する、少なくとも1種の
ジエノフィルと、少なくとも1種の2,5−ジアルキル
置換フラン含有重合体を反応させて製造される熱的に再
加工可能な架橋樹脂; (ii)成分(i)及び(ii)の量に基づいて、約25重
量%〜約75重量%存在する、少なくとも1種の充填
剤。 間隙に充填された新しい再加工可能な組成物は、樹脂を
固化するのに十分に低い温度に冷却されて、再生された
アセンブリーを与える。
The encapsulated flip chip assembly between the substrate and the semiconductor device made by the method of the present invention melts or softens the solder joints and converts the thermally reworkable composition to a liquid state. The reworking can be accomplished by heating the thermally reworkable composition filled in the solder joints and gaps at a temperature high enough to provide a liquid composition. Next, the semiconductor device and the liquid composition are removed from the supporting substrate to obtain a device-removed support. If you want to install new equipment on the board,
After straightening of the installation (removal and re-application of solder and / or solder flux on the board pads, if necessary), another device can be formed while the gap is being formed by reflowing the solder over the board pads. Forming the conductive connection, and then filling the gap thus formed with a new thermally reworkable composition containing (i) and (ii) below, thereby removing the device. Attached to the support. (I) a thermally reworkable crosslinked resin produced by reacting at least one dienophile having more than one functionality with at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer; (Ii) at least one filler present from about 25% to about 75% by weight, based on the amounts of components (i) and (ii). The new reworkable composition that fills the gap is cooled to a temperature low enough to solidify the resin, giving a regenerated assembly.

【0053】熱的に再加工可能な組成物は後硬化して、
熱的及び機械的性質(例えば、ガラス転移温度及び機械
的強度)を高めることができる。架橋樹脂の熱的可逆を
防止するためには、熱的に再加工可能な組成物は約50
℃から、好ましくは約80℃から約200℃、好ましく
は約160℃の範囲内の温度で、約4時間までの期間、
後加熱することができる。熱的可逆が不必要である場合
は、バインダー組成物を約150℃から、好ましくは約
180℃から約300℃、好ましくは約250℃の範囲
内の温度で、約4時間までの期間、後硬化して、熱的性
質を改良することができる。
The thermally reworkable composition is post-cured,
Thermal and mechanical properties (eg, glass transition temperature and mechanical strength) can be increased. In order to prevent the thermal reversibility of the crosslinked resin, the thermally reworkable composition requires about 50
C., preferably at a temperature in the range of about 80.degree. C. to about 200.degree. C., preferably about 160.degree.
It can be heated after. If thermal reversibility is not required, the binder composition may be treated at a temperature in the range of about 150 ° C, preferably about 180 ° C to about 300 ° C, preferably about 250 ° C, for a period of up to about 4 hours, Curing can improve thermal properties.

【0054】説明のための実施態様 以下の説明のための実施態様では本発明の新規な樹脂を
記載するが、これは説明の目的のために与えられている
ものであり、本発明を限定する意味ではない。
Illustrative Embodiments The following illustrative embodiments describe the novel resins of the present invention, but are provided for illustrative purposes and do not limit the present invention. It doesn't make sense.

【0055】実施例1 オートクレーブにメタノール及びプロペン(ほぼ1.
7:1重量比)を供給し、90℃に加熱し、ついで一酸
化炭素を供給して72バールの圧力にした。テトラヒド
ロフラン中の、酢酸パラジウム、1,3−ビス(ジエチ
ルホスフィノ)−プロパン、トリフルオロメタン(0.
6:0.62:1及び0.3ピリジンの重量比)の触媒
溶液、およびメタノール溶液(15:1容量比)を注入
し、一酸化炭素の連続供給により、反応中の反応器圧力
を72バールに維持した。溶剤を除去して、数平均分子
量733のプロペン/CO交互共重合体を得た。
Example 1 In an autoclave, methanol and propene (approximately 1.
7: 1 by weight), heated to 90 ° C. and then supplied with carbon monoxide to a pressure of 72 bar. Palladium acetate, 1,3-bis (diethylphosphino) -propane, trifluoromethane (0.
6: 0.62: 1 and 0.3 pyridine by weight) and a methanol solution (15: 1 by volume) were injected and the reactor pressure during the reaction was increased to 72 by continuous feeding of carbon monoxide. Maintained at bar. The solvent was removed to obtain a propene / CO alternating copolymer having a number average molecular weight of 733.

【0056】実施例2 実施例1と類似の方法で、プロペンとエチレンから数平
均分子量1472のオレフィン/CO交互共重合体(エ
チレン27%;プロピレン73%)を製造した。共重合
体をトルエンに溶かし、そして触媒量のp−トルエンス
ルホン酸の存在下に、還流下に加熱することにより、環
化させた。得られた重合体をC−13NMRで分析し
た。この分析は、107,114,147及び153 ppm あたりに
集中したC−13 NMRシグナル(フラン共鳴)が現
れたことにより、出発原料のポリケトン中の56%のケ
トンがフランに環化していること示した。
Example 2 In an analogous manner to Example 1, an olefin / CO alternating copolymer having a number average molecular weight of 1472 (ethylene 27%; propylene 73%) was produced from propene and ethylene. The copolymer was dissolved in toluene and cyclized by heating under reflux in the presence of a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid. The obtained polymer was analyzed by C-13 NMR. This analysis showed that 56% of the ketones in the starting polyketone had been cyclized to furan by the appearance of C-13 NMR signals (furan resonance) concentrated around 107, 114, 147 and 153 ppm. Was.

【0057】実施例3 ゲルプレートを340°Fにセットし、実施例2で製造
したフラン化ポリケトンを該プレート上に施した。理論
量のトルエンジアミンビスマレイミド(Copimide Resin
TDAB,Technochemie Gmbh)を、均一なブレンド物が得
られるまで、フラン化ポリケトンにブレンドした。ブレ
ンド物をゲルプレートから除き、室温で貯蔵した。
Example 3 A gel plate was set at 340 ° F. and the furanated polyketone prepared in Example 2 was applied to the plate. Theoretical amount of toluenediamine bismaleimide (Copimide Resin)
TDAB, Technochemie GmbH) was blended with the furanated polyketone until a homogeneous blend was obtained. The blend was removed from the gel plate and stored at room temperature.

【0058】実施例4 ICIコーン&プレート粘度計を175℃の温度にセッ
トし、セットポイントに安定化させた。実施例3のブレ
ンド物の少量をプレート上に置き、温度を上げた。コー
ンを下げ、スピンさせてコーンとプレートの間に良好な
フィルムを得た。これは、良好なフィルムの形成チェッ
クのためにコーンを持ち上げることにより、確認され
た。ついで、ブレンド物を90秒間平衡に保ち、コーン
を固定速度で回転させながら2つの粘度を読み取った。
コーンを持ち上げ、ブレンド物をコーン及びプレートの
双方から取り除いた。ブレンド物を室温に冷却して架橋
させた固体物にした。上記の順序、即ち、ICIコーン
及びプレートの負荷、175℃での粘度測定、ブレンド
物の除去及び室温への冷却が、同じブレンド物について
三度繰り返された。3つの粘度の連続的な読み取りは、
3〜5ポアズ、3〜5ポアズ及び3〜5ポアズであっ
た。この実験は、ブレンド物が室温での架橋状態と17
5℃での低粘度未架橋液体の間で可逆的に交互すること
ができることを示している。
Example 4 An ICI cone and plate viscometer was set at a temperature of 175 ° C. and stabilized at a set point. A small amount of the blend of Example 3 was placed on the plate and the temperature was increased. The cone was lowered and spun to get a good film between the cone and the plate. This was confirmed by lifting the cone to check for good film formation. The blend was then allowed to equilibrate for 90 seconds and the two viscosities were read while rotating the cone at a fixed speed.
The corn was lifted and the blend was removed from both the corn and the plate. The blend was cooled to room temperature to a crosslinked solid. The above sequence, i.e. loading the ICI cone and plate, measuring the viscosity at 175 C, removing the blend and cooling to room temperature, was repeated three times for the same blend. A continuous reading of the three viscosities is
3-5 poise, 3-5 poise and 3-5 poise. This experiment shows that the blend was in a cross-linked state at room
It shows that reversible alternating between low viscosity uncrosslinked liquid at 5 ° C. is possible.

【0059】実施例5 実施例2で製造したフラン化ポリケトンを、ゲルプレー
ト上で340°Fで、理論量のTDABとブレンドし
た。ブレンド物を室温に冷却した。このブレンド物にさ
らにシリカ充填剤(全配合物の50重量%)を340°
Fで混合した。ついで、充填剤入り配合物をプレートか
ら除き、室温に冷却した。
Example 5 The furanated polyketone prepared in Example 2 was blended on a gel plate at 340 ° F. with a theoretical amount of TDAB. The blend was cooled to room temperature. The blend is further filled with silica filler (50% by weight of the total formulation) at 340 °.
F. The filled formulation was then removed from the plate and cooled to room temperature.

【0060】実施例6 ICIコーン&プレート粘度計を175℃の温度にセッ
トし、セットポイントに平衡化させた。実施例5のブレ
ンド物の少量をプレート上に置き、温度を上げた。コー
ンを下げ、スピンさせてコーンとプレートの間に良好な
フィルムを得た。これは、良好なフィルムの形成のため
にコーンを持ち上げることにより確認された。ついで、
ブレンド物を90秒間平衡に保ち、コーンを固定速度で
回転させながら2つの粘度を読み取った。コーンを持ち
上げ、ブレンド物をコーン及びプレートの双方から取り
除いた。ブレンド物を室温に冷却して架橋させた固体物
にした。上記の順序、即ち、ICIコーン及びプレート
の負荷、175℃での粘度測定、ブレンド物の除去及び
室温への冷却が、同じブレンド物について三度繰り返さ
れた。3つの粘度の連続的な読み取りは、20〜25ポ
アズ、20〜25ポアズ及び25〜30ポアズであっ
た。この実験は、ブレンド物が室温での架橋状態と17
5℃での低粘度未架橋液体の間で可逆的に交互すること
ができることを示している。
Example 6 An ICI cone and plate viscometer was set at a temperature of 175 ° C. and allowed to equilibrate to the set point. A small amount of the blend of Example 5 was placed on the plate and the temperature was increased. The cone was lowered and spun to get a good film between the cone and the plate. This was confirmed by lifting the cone for good film formation. Then
The blend was allowed to equilibrate for 90 seconds and the two viscosities were read while rotating the cone at a fixed speed. The corn was lifted and the blend was removed from both the corn and the plate. The blend was cooled to room temperature to a crosslinked solid. The above sequence, i.e. loading the ICI cone and plate, measuring the viscosity at 175 C, removing the blend and cooling to room temperature, was repeated three times for the same blend. Successive readings of the three viscosities were 20-25 poise, 20-25 poise and 25-30 poise. This experiment shows that the blend was in a cross-linked state at room
It shows that reversible alternating between low viscosity uncrosslinked liquid at 5 ° C. is possible.

【0061】実施例7 オートクレーブにメタノール及びプロペン(ほぼ1.
7:1重量比)を供給し、90℃に加熱し、ついで一酸
化炭素を供給して72バールの圧力にした。テトラヒド
ロフラン中の、酢酸パラジウム、1,3−ビス(ジ−o
−ミトキシフェニルホスフィノ)−プロパン、トリフル
オロメタンスルホン酸(1:1.05:2.1のモル
比)の触媒溶液、およびメタノール溶液(15:1容量
比)を二度注入し、一酸化炭素の連続供給により、反応
中の反応器圧力を72バールに維持した。溶剤を除去し
て、数平均分子量1765及びフラン:ケトン比0.1
9:1のプロペン/CO交互共重合体を得た。
Example 7 In an autoclave, methanol and propene (approximately 1.
7: 1 by weight), heated to 90 ° C. and then supplied with carbon monoxide to a pressure of 72 bar. Palladium acetate, 1,3-bis (di-o) in tetrahydrofuran
-Mitoxyphenylphosphino) -propane, a catalyst solution of trifluoromethanesulfonic acid (molar ratio of 1: 1.05: 2.1), and a methanol solution (15: 1 by volume) were injected twice and monoxide was added. The reactor pressure during the reaction was maintained at 72 bar by a continuous supply of carbon. The solvent was removed and the number average molecular weight was 1765 and the furan: ketone ratio was 0.1.
A 9: 1 propene / CO alternating copolymer was obtained.

【0062】実施例8 前の実施例で製造したフラン化ポリケトンを、ゲルプレ
ート上で340°Fで、理論量のTDAB及び2.4重
量%のフェノチアジンとブレンドした。ブレンド物をゲ
ルプレートから除き、室温に冷却した。このブレンド物
をゲルプレート上で再加熱し、シリカ充填剤(全配合物
の50重量%)を混合した。ついで、充填剤入り配合物
をゲルプレートから除き、室温に冷却した。
Example 8 The furanated polyketone prepared in the previous example was blended on a gel plate at 340 ° F. with a theoretical amount of TDAB and 2.4% by weight phenothiazine. The blend was removed from the gel plate and cooled to room temperature. The blend was reheated on a gel plate and mixed with silica filler (50% by weight of the total formulation). The filled formulation was then removed from the gel plate and cooled to room temperature.

【0063】実施例9 はんだでマスクした8層(エポキシーガラス繊維)プリ
ント回路ボードを340°Fでプリント上に置き、2分
間加熱した。フリップチップをボード上に置き、前の実
施例で製造した充填剤入りブレンド物を2〜3分間、チ
ップの2つの側面からチップへ充填した。ボードを熱い
表面から除き、室温に冷却した。チップを、装置とボー
ドの間の架橋組成物により、ボードに接着させた。ボー
ドをゲルプレートに戻した。配合物が架橋固体の状態か
ら液体へ変化したので、40秒以内でチップをボードか
ら離した。ついで、チップをその位置に既に存在してい
る接着剤によりもとの位置に接着させた。ボードをゲル
プレートから除き、室温に冷却した。ボードを熱い表面
に戻し、上記の除去及び再接続操作をもう2回繰り返し
た。
Example 9 An 8-layer (epoxy-glass fiber) printed circuit board masked with solder was placed on the print at 340 ° F. and heated for 2 minutes. The flip chip was placed on the board and the filled blend made in the previous example was filled into the chip from two sides of the chip for 2-3 minutes. The board was removed from the hot surface and cooled to room temperature. The chip was adhered to the board with the cross-linking composition between the device and the board. The board was returned to the gel plate. The chip was released from the board within 40 seconds as the formulation changed from a cross-linked solid to a liquid. The chip was then glued back in place with the adhesive already in place. The board was removed from the gel plate and cooled to room temperature. The board was returned to the hot surface and the above removal and reconnection procedure was repeated two more times.

【0064】実施例10 1,3−ビス(ジエチルホスフィノ)プロパンに変え
て、1,3−ビス(ジ−o−メトキシフェニルホスフィ
ノ)を触媒溶液に使用した以外は実施例1と類似の方法
で、プロピレンとエチレンから数平均分子量1616の
オレフィン/CO交互共重合体(54.4%頭−尾)を
製造した。共重合体をトルエンに溶かし、そして触媒量
のp−トルエンスルホン酸の存在下に、還流下に加熱す
ることにより、環化させた。得られた重合体をC−13
NMRで分析した。この分析は、出発原料のポリケト
ン中の57%のケトンがフランに環化していること示し
た(フラン:ケトン比0.66:1)。
Example 10 Similar to Example 1 except that 1,3-bis (di-o-methoxyphenylphosphino) was used in the catalyst solution instead of 1,3-bis (diethylphosphino) propane. By the method, an olefin / CO alternating copolymer (54.4% head-to-tail) having a number average molecular weight of 1616 was produced from propylene and ethylene. The copolymer was dissolved in toluene and cyclized by heating under reflux in the presence of a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid. The obtained polymer was C-13
Analyzed by NMR. This analysis indicated that 57% of the ketone in the starting polyketone was cyclized to furan (furan: ketone ratio 0.66: 1).

【0065】実施例11 実施例10で製造したフラン化ポリケトン及び理論量の
TDABを6.5重量%のフェノチアジンと共に180
℃に加熱し、混合し、1/8インチの厚い金属型に注入
した。成型体を素早く冷却し、得られた注型物の特性を
テストした。サンプルの曲げ弾性率は628ksiであ
り、無水物硬化剤で硬化させたビスフェノールAエポキ
シで製造された架橋エポキシと類似の値であった。誘電
率及び誘電正接は、それぞれ3.17及び0.013で
あった。
Example 11 The furanated polyketone prepared in Example 10 and a stoichiometric amount of TDAB were added together with 6.5% by weight of phenothiazine in 180
C., mixed and poured into 1/8 inch thick metal molds. The moldings were quickly cooled and the properties of the resulting castings were tested. The flexural modulus of the sample was 628 ksi, similar to a crosslinked epoxy made with bisphenol A epoxy cured with an anhydride hardener. The dielectric constant and the dielectric loss tangent were 3.17 and 0.013, respectively.

【0066】実施例12 実施例7で製造したフラン化ポリケトンを2:1理論量
比のメチレンジアニリン(Compimide Resin MDAB,Techn
ology Gmbh)、MDABモル当たりの0.1モルのフェ
ノチアジン及びフラン化ポリケトンg当たり0.015
gの2−ヘキサン酸と反応させた。20℃/分の昇温速
度で、DSCスキャンを実施した。ガラス転移温度は1
05℃で始まった。
Example 12 The furanated polyketone prepared in Example 7 was mixed with a 2: 1 stoichiometric ratio of methylene dianiline (Compimide Resin MDAB, Techn.
ology Gmbh), 0.15 phenothiazine per mole of MDAB and 0.015 per g furanated polyketone
g of 2-hexanoic acid. A DSC scan was performed at a heating rate of 20 ° C./min. Glass transition temperature is 1
Started at 05 ° C.

【0067】実施例13 実施例4で製造したフラン化ポリケトンを理論量のTD
AB及びTDABの1モルのフェノチアジンを340で
ゲルプレート上で反応させた。このサンプルを粉砕し、
10:1(水:サンプル)の割合で水と共に圧力容器に
入れた。圧力容器を20時間60℃に保ち、水抽出物の
イオンをイオンクロマトグラフィーで分析した。抽出物
は14ppmの酢酸塩;3p以下のグリコレート、ホル
メート、プロピオネート;0.25ppm以下のクロラ
イド;1.7ppmのスルフェート;4.8ppmのナ
トリウム;0.8ppmのマグネシウム;2.5ppm
のカルシウム;2.0ppmのアンモニウムイオンを含
有していた。
Example 13 The furanized polyketone prepared in Example 4 was converted to a theoretical amount of TD
One mole of AB and TDAB phenothiazines were reacted at 340 on a gel plate. Crush this sample,
It was placed in a pressure vessel with water at a ratio of 10: 1 (water: sample). The pressure vessel was kept at 60 ° C. for 20 hours, and the ions of the water extract were analyzed by ion chromatography. Extract contains 14 ppm acetate; less than 3 p glycolate, formate, propionate; less than 0.25 ppm chloride; 1.7 ppm sulfate; 4.8 ppm sodium; 0.8 ppm magnesium;
Calcium; 2.0 ppm ammonium ion.

Claims (29)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持基板;該支持基板から延びた複数の
はんだ接続により、該支持基板との間に隙間を形成しつ
つ、取り付けられた少なくとも1つの半導体装置;およ
び該隙間を満たす熱的に再加工可能なバインダーを包含
しており、該熱的に再加工可能なバインダーが (a)1より多い官能度を有する少なくとも一種のジエ
ノフィルと、少なくとも一種の2,5−ジアルキル置換
フラン含有重合体の反応により製造された熱的に再加工
可能な架橋樹脂、および(b)成分(a)及び(b)の
量に基づいて25〜75重量%の量で存在する少なくと
も一種の充填剤を含有する、封止されたフリップチップ
アセンブリー。
A supporting substrate; a plurality of solder connections extending from the supporting substrate; a gap formed between the supporting substrate and the at least one semiconductor device; and a thermally filling the gap. A thermally processable binder comprising: (a) at least one dienophile having a functionality greater than 1 and at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer. And (b) at least one filler present in an amount of from 25 to 75% by weight, based on the amount of components (a) and (b). A sealed flip chip assembly.
【請求項2】 前記架橋樹脂が100〜250℃の範囲
の温度で再加工可能なものである請求項1記載のフリッ
プチップアセンブリー。
2. The flip chip assembly according to claim 1, wherein said crosslinked resin is reworkable at a temperature in the range of 100 to 250 ° C.
【請求項3】 前記ジエノフィルが、エチン部分基の両
側に付いている電子吸引基を有するアルキンである請求
項2記載のフリップチップアセンブリー。
3. The flip chip assembly according to claim 2, wherein the dienophile is an alkyne having electron withdrawing groups attached to both sides of an ethyne moiety.
【請求項4】 前記ジエノフィルが、5員環中にブテ−
2−エン−1,4−ジオン部分を含有する化合物および
6員環中にブテ−2−エン−1,4−ジオン部分を含有
する化合物からなる群から選ばれる請求項3記載のフリ
ップチップアセンブリー。
4. The dienophile according to claim 1, wherein
The flip chip according to claim 3, which is selected from the group consisting of a compound containing a 2-ene-1,4-dione moiety and a compound containing a but-2-ene-1,4-dione moiety in a 6-membered ring. Assembly.
【請求項5】 前記ジエノフィルが無水マレイン酸の環
状誘導体である請求項2記載のフリップチップアセンブ
リー。
5. The flip chip assembly according to claim 2, wherein said dienophile is a cyclic derivative of maleic anhydride.
【請求項6】 熱的に再加工可能な樹脂が、さらにビス
マレイミドでキャップされたポリ(アルキレンオキサイ
ド)、ビスマレイミドでキャップされたポリシロキサ
ン、ヒドラジンのビスマレイミド、2,4−ジアミノト
ルエン、ヘキサメチレンジアミン、ドデカメチレンジア
ミン、および下記式の置換及び未置換のジアミンからな
る群から選ばれた架橋剤の残渣を含有する請求項2記載
のフリップチップアセンブリー。 【化1】
6. The thermally reworkable resin further comprises bismaleimide-capped poly (alkylene oxide), bismaleimide-capped polysiloxane, hydrazine bismaleimide, 2,4-diaminotoluene, hexa 3. The flip chip assembly according to claim 2, comprising a residue of a crosslinking agent selected from the group consisting of methylene diamine, dodecamethylene diamine, and substituted and unsubstituted diamines of the following formula. Embedded image
【請求項7】 前記2,5−ジアルキル置換フラン含有
重合体が、一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィン性
不飽和化合物の反応により製造される請求項1記載のフ
リップチップアセンブリー。
7. The flip-chip assembly according to claim 1, wherein the 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer is produced by reacting carbon monoxide with at least one olefinically unsaturated compound.
【請求項8】 前記オレフィン性不飽和化合物が脂肪族
α−オレフィンである請求項7記載のフリップチップア
センブリー。
8. The flip chip assembly according to claim 7, wherein said olefinically unsaturated compound is an aliphatic α-olefin.
【請求項9】 前記α−オレフィンがプロペンである請
求項8記載のフリップチップアセンブリー。
9. The flip chip assembly according to claim 8, wherein said α-olefin is propene.
【請求項10】 前記架橋樹脂を製造する前記重合体が
500〜30,000の数平均分子量を有する請求項2
記載のフリップチップアセンブリー。
10. The polymer from which the crosslinked resin is made has a number average molecular weight of 500 to 30,000.
The flip chip assembly as described.
【請求項11】 前記2,5−ジアルキル置換フラン含
有重合体が、1:16から4:1のフラン基とケトン基
の割合を有する請求項4記載のフリップチップアセンブ
リー。
11. The flip chip assembly according to claim 4, wherein said 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer has a ratio of furan groups to ketone groups of 1:16 to 4: 1.
【請求項12】 前記2,5−ジアルキル置換フラン含
有重合体中の2,5−ジアルキル置換フラン基及びジエ
ノフィルが、10:1から:1:5の割合で結合してい
る請求項2記載のフリップチップアセンブリー。
12. The method according to claim 2, wherein the 2,5-dialkyl-substituted furan group and the dienophile in the 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer are bonded in a ratio of 10: 1 to 1: 5. Flip chip assembly.
【請求項13】 前記ジエノフィルがその分子構造中に
2つ以上のジエノフィルを含有する架橋剤である請求項
2記載のフリップチップアセンブリー。
13. The flip chip assembly according to claim 2, wherein said dienophile is a crosslinking agent containing two or more dienophiles in its molecular structure.
【請求項14】 熱的に再加工可能な架橋樹脂が1つよ
り多い官能度を有する少なくとも一種のジエノフィルと
二種以上の2,5−ジアルキル置換フラン含有重合体の
反応により製造される請求項2記載のフリップチップア
センブリー。
14. The thermally reworkable crosslinked resin is prepared by reacting at least one dienophile having more than one functionality with two or more 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymers. 3. The flip chip assembly according to 2.
【請求項15】 熱的に再加工可能な架橋樹脂が2,5
−ジアルキル置換フラン部分及びジエノフィル部分を含
有する請求項2記載のフリップチップアセンブリー。
15. The thermally reworkable crosslinked resin comprises 2,5
3. The flip chip assembly according to claim 2, comprising a dialkyl-substituted furan moiety and a dienophile moiety.
【請求項16】 さらに(c)フリーラジカル開始剤及
び/又はイオン除去剤を含有する請求項1記載のフリッ
プチップアセンブリー。
16. The flip chip assembly according to claim 1, further comprising (c) a free radical initiator and / or an ion scavenger.
【請求項17】 支持基板から延びた複数のはんだ接続
により、少なくとも1つの半導体装置を該支持基板に隙
間を形成しつつ取り付け;該隙間に熱的に再加工可能な
下記(a)及び(b)を含有するフリップチップバイン
ダーを充填する工程を包含する、封止されたフリップチ
ップアセンブリー方法: (a)1より多い官能度を有する少なくとも一種のジエ
ノフィルと、少なくとも一種の2,5−ジアルキル置換
フラン含有重合体の反応により製造された熱的に再加工
可能な架橋樹脂、および (b)成分(a)及び(b)の量に基づいて25〜75
重量%の量で存在する少なくとも一種の充填剤。
17. At least one semiconductor device is attached to the support substrate while forming a gap by a plurality of solder connections extending from the support substrate; and (a) and (b) capable of being thermally reworked into the gap. A) encapsulating flip-chip assembly method comprising the step of filling a flip-chip binder containing: (a) at least one dienophile having a functionality of more than 1 and at least one 2,5-dialkyl substitution A thermally reworkable crosslinked resin produced by the reaction of a furan-containing polymer; and (b) 25-75 based on the amounts of components (a) and (b).
At least one filler present in an amount of% by weight;
【請求項18】 封止されたフリップチップアセンブリ
ーを、はんだ接続部が溶融又は軟化し且つ熱的に再加工
可能な組成物が液体へ変換するのに十分に高い温度で加
熱し;半導体装置を支持基板から除去し、装置除去基板
を与える工程を包含する請求項17記載の方法。
18. Heating the sealed flip-chip assembly at a temperature high enough to melt or soften the solder joints and convert the thermally reworkable composition to a liquid; 18. The method of claim 17 including the step of removing from the support substrate to provide a device removal substrate.
【請求項19】 はんだ及び熱的に再加工可能なフリッ
プチップバインダーを除去するために前記装置が除去さ
れた支持基板を洗浄し、それにより洗浄された支持基板
を与え;支持基板から延びた複数のはんだ接続により該
支持基板との間に隙間を形成しつつ、第2の半導体装置
を該洗浄された支持基板に取り付け;該隙間に新しい熱
的に再加工可能な下記(i)及び(ii)を含有するフリ
ップチップバインダーを充填し: (i)1より多い官能度を有する少なくとも一種のジエ
ノフィルと、少なくとも一種の2,5−ジアルキル置換
フラン含有重合体の反応により製造された熱的に再加工
可能な架橋樹脂、および (ii)成分(i)及び(ii)の量に基づいて25〜75
重量%の量で存在する少なくとも一種の充填剤; 隙間に充填された新しい熱的に再加工可能な組成物を前
記樹脂が固化するのに十分低い温度に冷却し、それによ
り再生アセンブリーを与える工程を包含する請求項18
記載の方法。
19. The apparatus for cleaning a removed support substrate to remove solder and thermally reworkable flip chip binder, thereby providing a cleaned support substrate; a plurality extending from the support substrate A second semiconductor device is attached to the cleaned support substrate while forming a gap between the support substrate and the support substrate by a solder connection; a new thermally reworkable (i) and (ii) ) Containing a flip-chip binder comprising: (i) a thermally reproducible polymer prepared by the reaction of at least one dienophile having a functionality greater than 1 with at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer; A processable crosslinked resin, and (ii) 25-75 based on the amounts of components (i) and (ii).
At least one filler present in an amount of weight percent; cooling the new thermally reworkable composition filled in the interstices to a temperature low enough for the resin to solidify, thereby providing a remanufactured assembly. Claim 18 comprising:
The described method.
【請求項20】 前記架橋樹脂が100〜250℃の範
囲の温度に加熱される請求項18記載の方法。
20. The method of claim 18, wherein said crosslinked resin is heated to a temperature in the range of 100-250 ° C.
【請求項21】 前記2,5−ジアルキル置換フラン含
有重合体が、一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィン
性不飽和化合物の共重合体をフラン化することにより製
造される請求項19記載のフリップチップアセンブリ
ー。
21. The flip chip according to claim 19, wherein the 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer is produced by furanizing a copolymer of carbon monoxide and at least one olefinically unsaturated compound. Assembly.
【請求項22】 前記アセンブリーが4時間までの時
間、70〜200℃の範囲の温度に加熱されることを含
む請求項17記載の方法。
22. The method according to claim 17, comprising heating the assembly to a temperature in the range of 70 to 200 ° C. for a time of up to 4 hours.
【請求項23】 前記アセンブリーが4時間までの時
間、150〜300℃の範囲の温度に加熱されることを
含む請求項17記載の方法。
23. The method according to claim 17, comprising heating the assembly to a temperature in the range of 150 to 300 ° C. for a time of up to 4 hours.
【請求項24】 前記2,5−ジアルキル置換フラン含
有重合体が、一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィン
性不飽和化合物の反応により製造される請求項17記載
の方法。
24. The method of claim 17, wherein said 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer is prepared by reacting carbon monoxide with at least one olefinically unsaturated compound.
【請求項25】 前記オレフィン性不飽和化合物が脂肪
族α−オレフィンである請求項21記載の方法。
25. The method according to claim 21, wherein said olefinically unsaturated compound is an aliphatic α-olefin.
【請求項26】 前記α−オレフィンがプロペンである
請求項25記載の方法。
26. The method according to claim 25, wherein said α-olefin is propene.
【請求項27】 支持基板から延びて、該支持基板と半
導体装置の隙間を形成する複数のはんだ接続により隙間
を形成しつつ該支持基板に取り付けられた少なくとも1
つの半導体、および該隙間を満たす熱的に再加工可能な
フリップチップバインダーを含有する封止されたフリッ
プチップアセンブリーを加熱し、該熱的に再加工可能な
フリップチップバインダーは (a)1より多い官能度を有する少なくとも一種のジエ
ノフィルと、少なくとも一種の2,5−ジアルキル置換
フラン含有重合体の反応により製造された熱的に再加工
可能な架橋樹脂、および(b)成分(a)及び(b)の
量に基づいて25〜75重量%の量で存在する少なくと
も一種の充填剤を含有し;該半導体装置を支持基板から
除去して、装置除去基板を与える工程を包含する封止さ
れたフリップチップアセンブリーの再生方法。
27. At least one of a plurality of solders extending from the support substrate and attached to the support substrate while forming a gap by a plurality of solder connections forming a gap between the support substrate and the semiconductor device.
Heating a sealed flip chip assembly containing two semiconductors and a thermally reworkable flip chip binder filling the gap, wherein the thermally reworkable flip chip binder comprises: A thermally reworkable crosslinked resin produced by the reaction of at least one dienophile having a high functionality with at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer; and (b) components (a) and ( containing at least one filler present in an amount of 25-75% by weight, based on the amount of b); the encapsulated process including removing the semiconductor device from a supporting substrate to provide a device-removed substrate. Reproduction method of flip chip assembly.
【請求項28】 さらに、はんだ及び熱的に再加工可能
なフリップチップバインダーを除去するために前記装置
が除去された支持基板を洗浄し、それにより洗浄された
支持基板を与え;支持基板から延びた複数のはんだ接続
により該支持基板との間に隙間を形成しつつ、第2の半
導体装置を該洗浄された支持基板に取り付け;該隙間に
新しい熱的に再加工可能な下記(i)及び(ii)を含有
するフリップチップバインダーを充填し: (i)1より多い官能度を有する少なくとも一種のジエ
ノフィルと、少なくとも一種の2,5−ジアルキル置換
フラン含有重合体の反応により製造された熱的に再加工
可能な架橋樹脂、および(ii)成分(i)及び(ii)の
量に基づいて25〜75重量%の量で存在する少なくと
も一種の充填剤;隙間が充填された新しい熱的に再加工
可能な組成物を前記樹脂が固化するのに十分低い温度に
冷却し、それにより再生アセンブリーを与える工程を包
含する請求項27記載の方法。
28. The apparatus further comprising cleaning the removed support substrate to remove solder and thermally reworkable flip chip binder, thereby providing the cleaned support substrate; extending from the support substrate. A second semiconductor device is attached to the cleaned support substrate while forming a gap between the support substrate and the plurality of solder connections; a new thermally reworkable (i) and Filling a flip-chip binder containing (ii): (i) Thermally prepared by reacting at least one dienophile having a functionality greater than 1 with at least one 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer A cross-linkable resin which can be reworked into a mixture, and (ii) at least one filler present in an amount of from 25 to 75% by weight, based on the amount of components (i) and (ii); There thermally reworkable composition is cooled to a temperature low enough to the resin is solidified, whereby the method of claim 27 wherein including the step of providing a regeneration assembly.
【請求項29】 前記2,5−ジアルキル置換フラン含
有重合体が、一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィン
性不飽和化合物の共重合体のフラン化により製造される
請求項28記載の方法。
29. The method of claim 28, wherein said 2,5-dialkyl-substituted furan-containing polymer is prepared by furanizing a copolymer of carbon monoxide and at least one olefinically unsaturated compound.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2373146A2 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujitsu Limited Method of removing part having electrode on the bottom

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