JPH11167893A - Scanning electron microscope - Google Patents

Scanning electron microscope

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JPH11167893A
JPH11167893A JP33591597A JP33591597A JPH11167893A JP H11167893 A JPH11167893 A JP H11167893A JP 33591597 A JP33591597 A JP 33591597A JP 33591597 A JP33591597 A JP 33591597A JP H11167893 A JPH11167893 A JP H11167893A
Authority
JP
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Patent type
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coordinate
means
scanning electron
electron microscope
sample
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Pending
Application number
JP33591597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyoshi Mori
Hidetoshi Morokuma
森  弘義
秀俊 諸熊
Original Assignee
Hitachi Ltd
株式会社日立製作所
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily carry out a work of transforming the coordinate data of a foreign matter sent out of a foreign substance inspecting apparatus into the coordinate of the scanning electron microscope.
SOLUTION: The coordinate value of a foreign matter to be used for deriving a coordinate transformation expression is registered in a stage coordinate system which is not affected by coordinate transformation. It is made possible to optionally or automatically select a foreign matter to be used for deriving the coordinate transformation expression from the foreign matters whose coordinates are registered. The coordinate transformation expression is derived by using, for example, only a foreign matter 36 existing in a region 37 selected by a mouse from the foreign matter 35 whose coordinate values in the scanning electron microscope are registered.
COPYRIGHT: (C)1999,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、試料上の微小な領域を観察する走査電子顕微鏡に関し、特に他の検査装置で測定した試料上の観察対象物の座標データを、自身の座標系に適合するように変換して、観察対象物の観察時に利用する走査電子顕微鏡に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is adapted relates scanning electron microscope for observing a microscopic region on the sample, especially the coordinate data of the observation object on a sample which is measured by another test device, its coordinate system converted to, it relates to a scanning electron microscope to be used for the time of the observation object observed.

【0002】 [0002]

【従来の技術】走査電子顕微鏡は多くの研究開発分野で試料の微細な構造を観察するために用いられている。 BACKGROUND OF THE INVENTION Scanning electron microscopes are used to observe a fine structure of the sample in many research fields. 走査電子顕微鏡は、観察した観察対象物のSEM(Scanni Scanning electron microscope, the observation object observed SEM (Scanni
ng Electron Microscope)像を画面上に表示する。 The ng Electron Microscope) image is displayed on the screen. また、この技術は半導体装置の微細構造観察にも応用されている。 Moreover, this technique is applied to the microstructure observation of the semiconductor device. 近年、半導体装置は微細化が進み、現在では半導体装置はパターン幅0.5μm以下で作製されている。 Recently, semiconductor devices progressed miniaturization, the semiconductor device is now being produced in the following pattern width 0.5 [mu] m. このような半導体装置では、0.2μm程度の異物/欠陥が半導体パターンを作製するウェーハ上に存在していただけで障害を発生することがある。 In such a semiconductor device, it is possible to generate a fault only existed on wafer 0.2μm about foreign matter / defect manufacturing a semiconductor pattern. 障害の元となった異物/欠陥を詳しく調べるために、走査電子顕微鏡でこれらの異物/欠陥を観察する必要がある。 To investigate the source and become foreign matter / defect failure, it is necessary to observe these foreign materials / defects by scanning electron microscopy.

【0003】走査電子顕微鏡でこのような微小な異物/ [0003] Such a small foreign matter in the scanning electron microscope /
欠陥を観察する場合は、予め他の異物/欠陥検査装置等で異物/欠陥のウェーハ上での位置を測定し、その測定によって得られる座標データを元に異物/欠陥を探し観察するのが普通である。 When observing the defects, pre-position on the wafer foreign matter / defect measured in other foreign matter / defect inspection apparatus or the like, is usually observed looking based on foreign / defect coordinate data obtained by the measurement it is. 0.2μm程度の異物/欠陥を走査電子顕微鏡で観察する場合は、最低でも5千倍程度に異物/欠陥を拡大してSEM像画面に表示する必要がある。 When observing the 0.2μm about foreign matter / defect with a scanning electron microscope, it is necessary to display an enlarged foreign material / defect to about 5,000 times a minimum of SEM image screen. ところが、SEM像画面サイズの制限により一度に観察できる範囲には限りがあるため、異物/欠陥検査装置から得た異物/欠陥の座標データに誤差が大きく含まれていた場合は、異物/欠陥がSEM像画面からはみ出してしまうことがある。 However, since the range that can be observed at a time due to limitations of SEM image screen size is limited, if the error is included largely in the coordinate data of the foreign matter / defect was obtained from a particle / defect inspection apparatus, the foreign matter / defect sometimes jutting out from SEM image screen. 例えば、SEM像表示画面の大きさが200mm×200mmの走査電子顕微鏡を使って5千倍の倍率で異物/欠陥を観察する場合、一度に観察できるSEM像の範囲は40μm×40μmしかなく、異物/欠陥検査装置からの座標データに±20μm For example, when the size of the SEM image display screen is observed foreign matters / defects in 5000 magnification using a scanning electron microscope 200 mm × 200 mm, there is only 40 [mu] m × 40 [mu] m range of SEM images which can be observed at a time, foreign substances / ± 20 [mu] m on the coordinate data from the defect inspection apparatus
以上の誤差が含まれていると、異物/欠陥がSEM像表示画面から外れてしまい、異物/欠陥を発見することができない。 When contains more errors, the foreign matter / defect deviates from the SEM image display screen, it is impossible to discover the foreign matter / defect.

【0004】異物/欠陥検査装置の座標誤差を少なくするために、特開平7−193109号公報「ウェーハ粒子解析に関する多重走査法」のような手法が提案されているが、いまだに十分な座標精度を得る事ができておらず、走査電子顕微鏡を使った異物/欠陥観察時に異物/ In order to reduce the coordinate error of the foreign matter / defect inspection apparatus, while techniques such as JP-A-7-193109 "multiple scanning method for a wafer on the particle analysis" has been proposed, a still sufficient coordinate precision it is not possible to obtain, foreign matter when the foreign matter / defect observation using scanning electron microscopy /
欠陥が発見できないことが多々ある。 There are many that the defect can not be found.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】座標誤差の大きい異物/欠陥検査装置(以下、単に異物検査装置という)からの座標データを元にして走査電子顕微鏡で異物/欠陥(以下、異物と欠陥を合わせて単に異物という)を観察するためには、走査電子顕微鏡側で座標誤差が少なくするような座標変換をするか、座標誤差の影響を受けにくい観察方法を考案する必要がある。 [0005] large foreign matter / defect inspection apparatus coordinate error (hereinafter, simply referred to as foreign substance inspection apparatus) foreign matter / defect with a scanning electron microscope based on the coordinate data (hereinafter, the combined foreign matter and defects simply to observe the) that foreign matter Te, either the coordinate transformation as coordinate error is less in the scanning electron microscope side, it is necessary to devise an observation method less susceptible to coordinate error.

【0006】異物検査装置の座標誤差要因は、その装置の動作原理に依存する。 [0006] coordinate error factors of the foreign matter inspection apparatus depends on the operating principle of the device. 例えば、ウェーハ上の異物の座標を表現するためにウェーハ外形に合わせたXY座標系を使用する場合があるが、そのXY座標の座標原点の定義やウェーハ形状に対するXY座標軸の傾きが異物検査装置によって微妙に異なっていることがある。 For example, it may use the XY coordinate system to match the wafer outline to represent foreign matter coordinates on the wafer, the inclination of the XY coordinate axes particle inspection apparatus for the definition and the wafer shape coordinate origin of the XY coordinates there is that you are slightly different. このような場合は、例えば下記の座標変換式〔数1〕を使って走査電子顕微鏡と異物検査装置との座標のずれを補正することができる。 In such a case, for example, can coordinate conversion formula using the equation (1) to correct the coordinates of the displacement of the scanning electron microscope and particle inspection apparatus. 式中、(x 1 ,y 1 )は異物検査装置で測定した異物座標、(x 2 ,y 2 )は走査電子顕微鏡の座標系に適合するように変換された異物座標、(a,b)は異物検査装置の座標原点誤差、θは異物検査装置のXY Wherein, (x 1, y 1) foreign matter coordinates measured by the particle inspection apparatus, (x 2, y 2) foreign matter coordinates that have been converted to conform to the coordinate system of the scanning electron microscope, (a, b) XY of coordinate origin error of foreign substance inspection apparatus, theta foreign matter inspection device
座標軸の傾き誤差を表す。 It represents the slope error of the coordinate axes.

【0007】 [0007]

【数1】 [Number 1] 少なくとも2つの異物について異物検査装置と走査電子顕微鏡とで異物座標を測定し、これらの値を〔数1〕に代入して得られる連立方程式を残留誤差が最小になるようにして解けば、a,b及びθの値を得ることができる。 The foreign matter coordinates measured by the at least two foreign material and foreign matter inspection apparatus and a scanning electron microscope, is solved by simultaneous equations obtained by substituting these values ​​into equation (1) as the residual error is minimized, a , it is possible to obtain the value of b and theta. こうして求められたa,b及びθの値を代入した〔数1〕を使えば、異物検査装置で測定した異物の座標値を走査電子顕微鏡の座標系に適合した座標値に変換することができる。 a obtained in this manner, Using obtained by substituting the values ​​of b and θ [Equation 1], it is possible to convert the coordinate values ​​of the foreign matter was measured by the particle inspection apparatus into coordinate values ​​adapted to the coordinate system of the scanning electron microscope .

【0008】ところが、異物検査装置の座標誤差要因は異物検査装置の座標原点誤差(a,b)やXY座標軸の傾き誤差θだけではなく他にも色々とあり、例えば座標寸法精度(座標スケール)に誤差がある場合は〔数1〕 [0008] However, the coordinate error factors of the foreign matter inspection apparatus coordinate origin error of the particle inspection apparatus (a, b) and also has many things in addition not only tilt error θ of the XY axes, for example, coordinates dimensional accuracy (coordinate scale) If there is an error in the equation (1)
だけでは全ての異物に関して適当な座標補正を行うことができない。 Alone can not perform appropriate coordinate correction for all foreign matter. もちろん、誤差をよりよく補正できる座標変換式が判っている場合には〔数1〕ではなく、その座標変換式を使用すればよい。 Of course, instead of equation (1) if the coordinate conversion formula can be better corrected error is known, it is sufficient to use the coordinate conversion formula. 例えば、XY座標軸の直交度誤差があることが判っている場合などは直交度を補正できる計算式を用いれば良い。 For example, if you know that there is perpendicularity error of the XY coordinate axes may be used a formula that can be corrected orthogonality. しかし、誤差要因が十分に理解されていないような未知の異物検査装置からの座標データを使った場合は、適当な座標変換式を用意することができない場合もある。 However, if the error factors with coordinate data from an unknown foreign substance inspection apparatus, such as not well understood, it may not be possible to prepare the appropriate coordinate conversion formula.

【0009】幾つかの異物の座標データだけを使って座標変換式を導出する場合は、座標変換式の導出に使う異物を使用者が選択する必要があるが、異物検査装置からは数千個の異物に関する座標データが送られてくることがあり、座標変換式の作成のためにどの異物を使うべきか簡単に決めることができないことがある。 [0009] In the case of deriving some of the coordinate data only using the coordinate conversion formula of foreign matter, but the user a foreign substance used in the derivation of the coordinate conversion formula it is necessary to select, thousands from the foreign matter inspection apparatus the sometimes foreign matter coordinate data about the sent may not be able to decide to do so easily use any foreign object to the creation of the coordinate conversion formula. また、たくさんの異物を選択した場合、どの異物が既に選択されているか判らなくなることがある。 Also, if you select a lot of foreign matter, and may not know what foreign matter has already been selected. さらに、試料上の走査電子顕微鏡で観察する位置を変えるたびに座標変換式の導出に使用する異物を選択し直す必要があるため、作業性が悪いという問題もある。 Furthermore, since it is necessary to reselect the foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula each time you change the position of observing by a scanning electron microscope on the sample, there is also a problem of poor workability.

【0010】本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、異物検査装置から送られてくる異物の座標データを走査電子顕微鏡の座標に変換する作業が簡便に行えるようにし、異物検査装置からの座標データに色々な誤差要因が含まれている場合でも、座標補正計算を複雑にすることなく走査電子顕微鏡で微細な異物を発見できるように異物検査装置からの座標データを変換できる走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。 The present invention, such has been made in view of the prior art problems, as the task of converting the coordinate data of the foreign matter coming from the particle inspection apparatus of the coordinates of the scanning electron microscope can be performed conveniently to, even if it contains various error factors of the coordinate data from the particle inspection apparatus, the coordinate data from the foreign matter inspection apparatus so as to be able to discover the fine foreign matter without scanning electron microscope complicating the coordinate correction calculation and to provide a scanning electron microscope capable of converting.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】半導体ウェーハを観察することを目的とする走査電子顕微鏡では、ウェーハはウェーハホールダと呼ばれる試料固定台とウェーハホールダを走査電子顕微鏡の試料室内で移動させ、試料上の観察位置を変える移動ステージを装備している。 The scanning electron microscope for the purpose of observing the semiconductor wafer Means for Solving the Problems], wafer moves the sample fixing base and wafer holder called a wafer holder in the sample chamber of the scanning electron microscope, on the sample It is equipped with a moving stage to change the observation position. また、走査電子顕微鏡では、通常、移動ステージの移動原点を基準とした座標系(ステージ座標系)とウェーハ外形を基準とした座標系(ウェーハ座標系)の2つの座標系を使って異物等の観察対象物の位置を表現している。 Further, in the scanning electron microscope, usually, the reference and coordinate system of the movement origin of the moving stage (stage coordinate system) and the wafer outline reference coordinate system of foreign matter with the two coordinate systems of (wafer coordinate system) It expresses the position of the observed object. ステージ座標系は使用する走査電子顕微鏡に固有の座標系であり、ウェーハを変えても変化することはない。 Stage coordinate system is unique coordinate system to a scanning electron microscope to be used does not change even by changing the wafer. 但し、その装置固有の座標系であるため、他の装置との間で座標値を共用することはできない。 However, since its device-specific coordinate system, it is impossible to share the coordinate values ​​with other devices.

【0012】一方、ウェーハ座標系はウェーハの形状や位置が変わってもウェーハ外形に合わせて座標軸が定義されるため、他の装置との間でも同一のウェーハを使用すれば座標値を共有することができる。 Meanwhile, the wafer coordinate system is the shape and position of the wafer coordinate axes are defined in accordance with the wafer outline be varied, to share the coordinates Using the same wafer even with other devices can. ただし前述したように、使用する装置によって座標系の座標軸の原点や傾きにずれが存在することがあるため装置間の座標誤差を何らかの手段で補正する必要がある。 However, as mentioned above, it is necessary to correct by some means the coordinate error between devices because there is that there is shifted to the origin and the inclination of the coordinate axes of the coordinate system by a device for use.

【0013】通常、座標変換を実施すると、その結果はウェーハ座標系に反映され、ウェーハ座標系の座標軸自体が変化する。 [0013] Normally, when carrying out the coordinate transformation, the result is reflected in the wafer coordinate system, the coordinate axis itself of the wafer coordinate system is changed. 従って、ウェーハ座標系で測定した異物の座標値は座標変換による座標補正前と補正後では異なった値になることがある。 Thus, the coordinate values ​​of the foreign matter was measured by the wafer coordinate system may be a different value in the corrected and the coordinates before correction by coordinate conversion. 走査電子顕微鏡に異物の座標値を登録(記憶)する手段がある場合、その異物の座標値をウェーハ座標系で測定した値を登録しておいたとしても、後で座標変換を実行するとその座標値は無意味な値になる可能性がある。 If there is a means for registering the coordinates of the foreign matter in the scanning electron microscope (storage), also the coordinates of the foreign matter as had been registered the value measured by the wafer coordinate system, performing coordinate transformation later the coordinates the value may become meaningless values. 本発明では、このような問題を回避するために、検出された異物の座標値の登録は、座標変換によっても変化することがないステージ座標系で測定された座標値をも登録するようにする。 In the present invention, in order to avoid such problems, registration of the detected coordinate values ​​of the foreign matter is also adapted to register the measured coordinate values ​​in the absence stage coordinate system to change by the coordinate transformation .

【0014】異物検査装置からの座標データに要因が不明の誤差が含まれていて、適当な座標変換式を用意することができない場合であっても、ごく狭い領域内の異物に限れば、前記〔数1〕に示したような簡単な座標変換によっても走査電子顕微鏡で異物を発見できる程度にまで座標補正することができる。 [0014] The factors of the coordinate data from the particle inspection apparatus contains unknown error, even if it is not possible to prepare a suitable coordinate transformation formula, As far foreign bodies very narrow region, the foreign matter can be coordinate correction to the extent that the found even a scanning electron microscope by a simple coordinate transformation as shown in equation (1). また、座標変換式の計算に用いる異物の座標値の登録作業に関しても、走査電子顕微鏡で異物を観察した結果が予め設定した条件に適合していた場合は、自動的にその異物の走査電子顕微鏡の座標系での座標値を登録するようにすることにより、オペレータの負担を低減することができる。 Also, for registration work coordinate values ​​of foreign substances used for the calculation of the coordinate conversion formula, if the result of observation of the foreign matter in the scanning electron microscope was adapted to the conditions set in advance, automatically scanning electron microscope of the foreign body by so as to register the coordinates of the coordinate system, it is possible to reduce the burden on the operator. この機能は、 This feature,
無人運転する際にも有効である。 Unmanned is also effective at the time of operation. 座標値の自動登録に関して予め設定する条件としては、画像のコントラストや半導体の繰り返しパターンに対する異常などを用いることができる。 The conditions to be set in advance with respect to the automatic registration of the coordinate values, such as abnormal with respect to the image contrast and the semiconductor of the repeating pattern may be used. すなわち、所定値以上の画像コントラストを有する異物のみを登録したり、繰り返しパターンに対する異常を優先的に登録するなどの条件を設定できるようにする。 Namely, to register only foreign matters having image contrast higher than a predetermined value, so that an abnormality to repeated pattern can set conditions such as preferentially registered. 他の異物の座標誤差に比較して極端に座標誤差の大きな異物は採用しないようにするというのも、一つの条件である。 Large foreign matter compared to extreme coordinate error on coordinate error other foreign matter because to not employ a one condition.

【0015】また、異物検査装置からの座標データをもとにして、ウェーハ上の異物の位置をディスプレイ上に2次元的に表示し、これらの異物のうち、走査電子顕微鏡で測定した座標値が登録された異物を特徴的な印や色で表示することにより、どの異物の座標値が登録されているか一目で分かるような異物の位置表示手段を備えると好都合である。 Further, the coordinate data from the particle inspection apparatus based on the position of the foreign matter on the wafer 2-dimensionally displayed on a display, of these foreign substances, coordinate values ​​measured by scanning electron microscopy by displaying the registered foreign substances characteristic indicia or color, coordinate values ​​of any foreign material it is advantageously provided with a position display means of the foreign matter such as can be seen at a glance whether it is registered. 更に、この位置表示手段上で、座標変換式を導出するために使用する異物を、座標値を登録した異物の中から任意に選択し、選択された異物を特徴的な印や色で表示できる手段を備えることも好都合である。 Further, on the position display unit, foreign substances used to derive the coordinate conversion formula, arbitrarily selected from among the foreign matter that registered the coordinate values, can display the selected foreign matter distinctive indicia or color it is also advantageous to provide means.

【0016】このような機能により、座標補正計算の柔軟性を高めることができる。 [0016] These features can increase the flexibility of the coordinate correction calculation. 例えばウェーハのある領域だけに座標精度が必要な場合は、その領域に近い位置にある異物の座標値を使って座標変換式を導出した方が、 For example, if only the coordinate accuracy region of the wafer is required, the better to derive using the coordinate values ​​of the foreign matter coordinate conversion formula in a position close to the region,
より座標補正精度が高くなる。 More coordinate correction accuracy is high. 異物検査装置からの座標データをもとにして、全ての異物をリストで表示し、これにそれぞれ座標値を登録した異物と座標変換式の導出に使用する異物とを特徴的な印や色で表現しても同様な効果を得ることができる。 The coordinate data from the particle inspection apparatus based on, displays all foreign objects in the list, and a foreign substance to be used for this derivation of the foreign object and the coordinate conversion expression registered coordinate values, respectively, wherein indicia and color it can be represented obtain the same effect.

【0017】また、異物検査装置の特性上、異物検査装置の異物検出感度に適合しないような大きな異物の座標を測定した場合、誤差が多くなることがある。 Further, the characteristics of the foreign substance inspection apparatus, when measuring large foreign matter coordinates that does not conform to the foreign substance detection sensitivity of foreign matter inspection device, there is an error increases. 従って、 Therefore,
予め設定した条件によって自動的に座標変換式の導出に使用する異物の座標を選択するようにすることで、座標補正精度を向上させることができる。 Automatically By so selecting the coordinates of the foreign matter to be used to derive the coordinate conversion formula, it is possible to improve the coordinate correction accuracy by preset condition. 例えば、異物検査装置の検出感度に合わせて座標変換式の導出に使用する異物の大きさを設定しておけば、異物検査装置から座標データと共にもたらされる異物の大きさの情報をもとに、異物検査装置での座標誤差の大きな異物を自動的に取り除くことができる。 For example, by setting the size of the foreign matter to be used to derive the coordinate conversion formula in accordance with the detection sensitivity of the foreign matter inspection device, foreign matters resulting from the foreign matter inspection apparatus with the coordinate data size of the information based, large foreign matters coordinate error in the particle inspection apparatus can be automatically removed.

【0018】また、走査電子顕微鏡で観察するウェーハ上の位置を変えたときに、移動した位置の近くに存在する異物だけを使って自動的に座標変換式を再計算するようにすれば、観察場所を変えるたびに座標変換式の導出に使用する異物の座標値を使用者が設定し直さなくても、その移動した位置に対する最適な座標補正を行うことができ作業性を向上することができる。 Further, when changing the position of the wafer to be observed with a scanning electron microscope, if to automatically recalculate the coordinate conversion formula using only foreign substance existing near the moved position, observed without having to reconfigure the user coordinate values ​​of the foreign matter to be used to derive the coordinate conversion formula each time you change locations, it is possible to improve workability can perform optimum coordinate correction for the moved position . この機能は、 This feature,
無人運転する際にも有効である。 Unmanned is also effective at the time of operation.

【0019】また、他の異物と比較して極端に大きな座標誤差を持つ異物を含めたまま座標変換式を導出したとしても座標補正精度は向上しない。 Further, the coordinate correction accuracy even derived extremely left coordinate conversion formula including foreign matter having a large coordinate error as compared to the other foreign material is not improved. このような場合、座標補正後も設定した値以上の座標誤差がある異物を除いて再度座標変換式を導出するようにすれば、座標補正精度を向上することができる。 In such case, if so derive again coordinate conversion formula except foreign matter has coordinate error than the value set after coordinate correction, it is possible to improve the coordinate correction accuracy. 再度の座標変換式の導出を自動的に実施するようにすれば使用者の手間を省くことができる。 If to automatically implement the coordinate conversion formula derived again it is possible to save labor of a user. 無人運転する際にもこの機能は有効である。 This function even when an unattended operation is effective.

【0020】すなわち、本発明は、試料を保持してステージ座標系内で2次元的に移動可能なステージと、ステージ上に保持された試料に電子線を収束して走査する手段と、電子線照射によって試料から発生する二次粒子を検出する検出手段とを備え、検出手段の出力を用いて試料像を形成する走査電子顕微鏡において、ステージ上の試料に固定された試料座標系(ウェーハ座標系)を設定する試料座標系設定手段と、試料上の観察対象物の位置を指示するために他の装置から供給された座標値を試料座標系での座標値に変換する座標変換手段とを備え、座標変換手段は、観察対象物の試料座標系での検出座標値を登録する座標値登録手段と、観察対象物に対して他の装置から供給された座標値と座標値登録手段に登録された検出座標値との [0020] Namely, the present invention includes a two-dimensionally movable stage holding a sample in the stage coordinate system, and means for scanning to converge the electron beam to the sample held on the stage, the electron beam and detecting means for detecting a secondary particle generated from the sample by irradiation, in the scanning electron microscope for forming a sample image using the output of the detecting means, a sample coordinate system fixed to the sample on the stage (wafer coordinate system provided) and the sample coordinate system setting means for setting, and coordinate conversion means for converting the coordinate values ​​supplied from the other device to indicate the position of the observation object on a specimen on the coordinate values ​​at the sample coordinate system , the coordinate transformation unit is registered with the coordinate value registration means for registering the detected coordinate values ​​at the sample coordinate system of the observation object, the coordinate value and the coordinate value registration means supplied from another apparatus with respect to the observation object between the detected coordinate values の誤差を演算する座標誤差演算手段と、その誤差が最小となるように座標変換式を設定する座標変換式設定手段とを備えることを特徴とする。 Wherein the the comprising a coordinate error calculation means for calculating an error, and a coordinate conversion formula setting means the error sets a coordinate conversion formula to minimize.

【0021】観察対象物のステージ座標系での検出座標値を登録する第2の座標値登録手段を備え、走査電子顕微鏡で検出した観察対象物の検出座標値は、試料座標系での座標値と共にステージ座標系での検出座標値を登録しておくことが好ましい。 [0021] a second coordinate value registration means for registering the detected coordinates of the stage coordinate system of the observation object, the detection coordinate value of the observed object detected by the scanning electron microscope, the coordinate values ​​at the sample coordinate system it is preferable to register the detected coordinate values ​​on the stage coordinate system with. ステージ座標系での座標値は座標変換の影響を受けないため、観察対象物の検出座標値をステージ座標系でも登録しておくことにより、試料座標系を変更した場合でも、ステージ座標系での座標値を頼りに直ちに観察対象物を見つけ出すことができる。 Since the coordinate values ​​in stage coordinate system is not affected by the coordinate transformation, by registering in the stage coordinate system of the detection coordinate value of the observed object, even if you change the sample coordinate system, in the stage coordinate system can be found immediately observed object coordinates dependable.

【0022】本発明の走査電子顕微鏡は、座標値登録手段に登録すべき観察対象物の条件を設定する座標登録条件設定手段を備え、座標登録条件に適合した観察対象物の試料座標系での検出座標値を座標値登録手段に自動的に登録する機能を有するものとすることができる。 The scanning electron microscope of the present invention, includes a coordinate registration condition setting means for setting conditions of the observation object to be registered in the coordinate value register means, at the sample coordinate system of the observation object adapted to coordinate the registration conditions can be assumed to have an automatic registration functions to the coordinate value register means to detect coordinate values. また、他の装置から供給された座標データに基づいて試料上での観察対象物の2次元的な配置を表示する位置表示手段を備え、座標値登録手段に検出座標値を登録した観察対象物と登録していない観察対象物とを位置表示手段に区別して表示する機能を有するものとすることができる。 Also includes a position display means for displaying a 2-dimensional arrangement of the observation object in the sample based on the coordinate data supplied from another device, the observation object registered a detection coordinate value to the coordinate value register means it can be assumed to have a function of displaying by distinguishing the position display unit and the observed object that is not registered with. さらに、座標誤差演算手段で使用する観察対象物を位置表示手段上で選択する手段を備え、選択された観察対象物を他と区別して表示する機能を有するのが好ましい。 Further comprising a means for selecting on the position display unit an observation object to be used for the coordinate error calculating unit preferably has a function of displaying separately from other observation object selected. 表示上の区別は、異なる形状又は異なる色等で行うことができる。 Distinction on the display can be carried out in different shapes or different colors or the like.

【0023】あるいは、他の装置から供給された座標データに基づいて観察対象物のリストを表示するリスト表示手段と、座標値登録手段に検出座標値を登録した観察対象物と登録していない観察対象物とをリスト表示手段に区別して表示する機能を有するものとすることができる。 [0023] Alternatively, the observation is not registered and a list display means for displaying a list of the observation object based on the supplied coordinate data from another device, the observation target that registered the detected coordinates to the coordinate value register means it can be assumed to have a function of displaying distinguishes between the object in the list display unit. さらに、座標誤差演算手段で使用する観察対象物をリスト表示手段上で選択する手段を備え、選択された観察対象物を他と区別して表示する機能を有するものとすることができる。 Further comprising a means for selecting on the list display means an observation object to be used for the coordinate error calculating unit may be assumed to have a function of displaying separately from other observation object selected. この場合にも、表示上の区別は、異なる形状又は異なる色等で行うことができる。 In this case, the distinction between the display can be carried out in different shapes or different colors or the like.

【0024】また、座標誤差演算手段で使用する観察対象物の条件を設定する座標誤差演算条件設定手段を備え、座標変換式設定手段は座標値登録手段に登録した検出座標値のうち座標誤差演算条件設定手段によって設定された条件に適合した観察対象物の検出座標値を用いて座標変換式を設定する機能を有するものとすることができる。 Further, with a coordinate error calculation condition setting means for setting conditions of the observation object to be used for the coordinate error calculating unit, coordinate conversion formula setting means coordinate error calculation of the detected coordinate values ​​registered in the coordinate value register means can be assumed to have a function of setting a coordinate conversion formula by using the detected coordinate values ​​of the observed object that conforms to the condition set by the condition setting means.

【0025】座標誤差演算条件設定手段は、試料上の観察位置に関連させて座標誤差演算手段で使用する観察対象物の条件を設定する機能を有し、試料上の観察位置を移動したとき、座標誤差演算条件設定手段によって設定された移動した試料上の観察位置に関連する条件に適合した観察対象物の検出座標値を用いて座標変換式を設定する機能を有するものとすることができる。 The coordinate error calculation condition setting means has a function of setting conditions of the observation object to be used for the coordinate error calculating unit in relation to the observation position on the sample, when you move the observation position on the sample, can be assumed to have a function of setting a coordinate conversion formula by using the detected coordinate values ​​of the observed object adapted to conditions associated with the observation position on the sample the moved set by coordinate error calculation condition setting means.

【0026】座標誤差演算手段で使用した観察対象物の検出座標値と座標変換手段によって変換された試料座標系での座標値の許容誤差を設定する手段と、許容誤差を超える誤差を有する観察対象物が存在した場合、その観察対象物を取り除いて座標誤差演算手段による誤差演算を再実行する機能を有するものとしてもよい。 The means for setting the allowable error of the coordinate values ​​in the coordinate error calculating unit sample coordinate system converted by the detection coordinates and the coordinate conversion unit observation object used in the observation subject with an error that exceeds the tolerance If the object is present, may have a function to re-run the error calculation by the coordinate error calculating unit by removing the observation object. 本発明によると、座標変換の影響を受けないステージ座標系で測定した異物の座標値を登録することができるので、座標補正を行なった後でも有効な異物の座標値を登録しておくことができる。 According to the present invention, it is possible to register the coordinates of the foreign matter was measured with the stage coordinate system that is not affected by the coordinate transformation, be registered coordinate value of the effective foreign matter even after performing coordinate correction it can. また、走査電子顕微鏡による観察結果をもとにして、自動的に走査電子顕微鏡の座標系での異物の座標値を登録することができる。 Further, by the observation by the scanning electron microscope on the basis, it is possible to automatically register the coordinates of the foreign matter in the coordinate system of the scanning electron microscope. また、座標値が登録された異物がどれであるか配置図やリストから区別することができ、さらに、座標変換式の導出に使用する異物を、どの異物か選択されたか判別できる状態にして配置図やリストから任意に選択することができる。 Further, it is possible to foreign substances coordinate values ​​are registered to distinguish from layout or list on which of further foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula, and ready to determine selected which foreign matter or arrangement it can be selected arbitrarily from Fig or list. また、 Also,
異物検査装置での測定条件に合わせて座標変換式の導出に使用する異物を自動的に選択することができる。 Foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula in accordance with the measurement conditions at the particle inspection apparatus can be automatically selected. また、走査電子顕微鏡の試料上の観察位置の移動に合わせて座標変換式の導出に使用する異物を自動的に選択することができる。 Further, foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula in accordance with the movement of the observation position on the sample of the scanning electron microscope can be automatically selected. また、座標誤差の大きな異物を自動的に取り除いて再度座標変換式を導出することができる。 Further, it is possible to derive automatically removed by again coordinate conversion formula a large foreign matter coordinate error.

【0027】そして、このような機能により、異物検査装置からの座標データを使って試料上の異物等を観察する際に、使用者の手間を省いた状態で常に精度の高い座標補正を実行することができ、装置間の座標誤差を常に最適な状態に補正することができる。 [0027] By such a function, when using the coordinate data from the foreign matter inspection apparatus for observing the foreign matter on the sample, executes always accurate coordinate correction in a state of omitting the labor of the user it can, it is possible to correct the coordinate error between devices always optimal.

【0028】 [0028]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 図1は、本発明による走査電子顕微鏡の一例の構成を示す図である。 Figure 1 is a diagram showing an example of the configuration of a scanning electron microscope according to the present invention. この走査電子顕微鏡は電子銃1、電子レンズ2、レンズ制御回路9、偏向器3、偏向制御回路10、二次粒子検出器4、アナログ/デジタル変換器11、アドレス制御回路12、画像メモリ13、制御手段14、ディスプレイ15、コンピュータ16、画像合成手段17、キーボード18、マウス19の入力手段等で構成されている。 The scanning electron microscope electron gun 1, an electronic lens 2, the lens control circuit 9, the deflector 3, the deflection control circuit 10, secondary particle detector 4, an analog / digital converter 11, the address control circuit 12, an image memory 13, control means 14, a display 15, computer 16, image synthesizing unit 17, and a keyboard 18, input means of the mouse 19 or the like.

【0029】電子銃1から放射された電子線7は電子レンズ2で収束され、偏向器3で2次元的に走査偏向されて試料5に照射される。 The electron beam 7 emitted from the electron gun 1 is converged by the electron lens 2, the deflector 3 in two-dimensionally scanned deflected by irradiating the sample 5. 試料5に電子線7が照射されると、試料の形状や材質に従った反射電子や二次電子等の二次粒子8が発生する。 When the electron beam 7 on the sample 5 is irradiated, the secondary particle 8 such as reflected electrons and secondary electrons in accordance with the shape and material of the sample is generated. この二次粒子8を二次粒子検出器4で検出、増幅し、アナログ/デジタル変換器11でデジタル値に変換する。 Detecting the secondary particles 8 in the secondary particle detector 4, amplifying, converting into a digital value by an analog / digital converter 11. デジタル値に変換されたデータは画像メモリ13に記憶される。 Data converted into the digital value is stored in the image memory 13. この時の画像メモリ1 Image memory 1 at this time
3のアドレスとして、アドレス制御回路12が電子線の走査信号に同期したアドレスを生成する。 As third address, it generates an address by the address control circuit 12 is synchronized with the scanning signal of an electron beam. また、画像メモリ13は、記憶したSEM像の画像データを随時、画像合成手段17に転送する。 The image memory 13, the image data of the stored SEM image at any time, be transferred to the image synthesizing means 17. 画像合成手段17は、コンピュータ16の表示メモリの画面データに画像データを合成してディスプレイ15にリアルタイムで表示する。 Image synthesizing means 17 synthesizes the image data to the screen data of the display memory of the computer 16 is displayed in real time on the display 15.

【0030】走査電子顕微鏡で観察される試料5は試料台6によって保持されている。 [0030] Sample 5 is observed with a scanning electron microscope is held by the sample stage 6. また、移動ステージ21 In addition, the mobile stage 21
は制御装置14からの制御信号により試料台6を3次元的に平行移動させたり、傾斜させたり、回転させたりして試料5に対する電子線7が走査する位置を変えることができる。 Can is varied or the sample stage 6 is three-dimensionally translated by a control signal from the controller 14, or is inclined, the position where the electron beam 7 with respect to the sample 5 to rotate or scans. 走査電子顕微鏡には、結像光学系50及びC The scanning electron microscope, the imaging optical system 50, and C
CDカメラ51からなる光学的撮像装置が併設されている。 Optical imaging apparatus comprising a CD camera 51 are juxtaposed. 制御装置14からの制御信号により移動ステージ2 Moved by the control signal from the controller 14 Stage 2
1を光学的撮像装置の下方に位置づけることにより、試料(ウェーハ)5をCCDカメラ51で撮像することができる。 By positioning 1 under the optical imaging device can capture the 5 sample (wafer) by the CCD camera 51. CCDカメラ51から得られた画像信号をコンピュータ16で処理することにより、試料台6上での試料5の位置(姿勢)を検出することができる。 By processing the image signal obtained from the CCD camera 51 in the computer 16, it is possible to detect the position of the specimen 5 on the sample stage 6 (attitude).

【0031】図2は、ウェーハ座標系とステージ座標系の関係を示す図である。 [0031] FIG. 2 is a diagram showing a relationship between wafer coordinate system and the stage coordinate system. ステージ座標系は装置固有の座標系であり、この例ではステージ座標系の座標軸41, Stage coordinate system is a device-specific coordinate system, the coordinate axes 41 of the stage coordinate system in this example,
42は移動ステージ21の移動原点Oを基準としている。 42 are referenced to the movement origin O of the moving stage 21. ステージ座標系はウェーハの位置や形状によらず常に一定であり、座標変換の結果にも影響されることはない。 Stage coordinate system is always constant irrespective of the position and shape of the wafer and is not also affect the results of the coordinate transformation. 但し、装置固有の座標系であるため、他の装置とステージ座標系で測定した座標値を共有することはできない。 However, since a device-specific coordinate system, it is impossible to share a coordinate value measured by another apparatus and the stage coordinate system.

【0032】これに対してウェーハ座標系は、ウェーハの形状に合わせて決定される座標系である。 The wafer coordinate system contrast is a coordinate system which is determined according to the shape of the wafer. 図2に示したように、この例では、ウェーハ座標系のX軸43はウェーハ外周円の延長線33に接し、かつ、オリエンテーションフラット32に平行になるような直線であり、Y As shown in FIG. 2, in this embodiments, X-axis 43 of the wafer coordinate system is in contact with the extension 33 of the wafer outer circumference, and a straight line so as to be parallel to the orientation flat 32, Y
軸44はウェーハ外形31に接し、かつ、X軸43に垂直な直線である。 Shaft 44 is in contact wafer outline 31, and a straight line perpendicular to the X-axis 43. つまり、移動ステージに対してウェーハがどのような位置にあっても、ウェーハに対して常に一定の座標軸を定義することができる。 In other words, even in any position the wafer with respect to the moving stage, it is possible to always define a fixed axis relative to the wafer. 従って、異なる装置間であっても、同一ウェーハを使用すれば理論的には同じウェーハ座標系による座標値を共有することができる。 Accordingly, even between different devices, it can theoretically be used the same wafer to share the coordinates with the same wafer coordinate system. オリエンテーションフラット32はウェーハの回転方向の向きを決めるための切り欠きであり、この図では三日月状の形をしているがVノッチと呼ばれるV型の形状の切り欠きの場合もある。 Orientation flat 32 is a notch for determining the rotational orientation of the wafer, in this figure although the crescent shape in some cases the notch V-shaped, called V-notch.

【0033】ところが、座標変換の結果はウェーハ座標系に反映されるため、例えば原点のオフセットを補正した場合のウェーハ座標系のX軸45、Y軸46は、図2 [0033] However, since the result of the coordinate transformation is reflected in the wafer coordinate system, for example the wafer coordinate system when the offset of the origin corrected X-axis 45, Y axis 46, FIG. 2
に示したように、元のウェーハ座標軸をX'、Y'方向に移動したような座標軸になる。 As shown in, comprising the original wafer axes X ', Y' coordinate axis as to move in the direction. 従って、ウェーハ座標系での異物35の座標値は、座標補正をする前は(x', Thus, the coordinate values ​​of the foreign matter 35 in the wafer coordinate system, prior to the coordinate correction (x ',
y')であるが、座標補正した後では(x'',y'')に変わってしまう。 'Is a) and after coordinate correction (x' y will change to ', y' '). これに対して、ステージ座標系での異物35の座標値は座標補正前も後も(x,y)であり常に一定である。 In contrast, the coordinate value of the foreign substance 35 in the stage coordinate system both before and after the coordinate correction is also (x, y) is always constant.

【0034】本発明では、検出された異物の座標値を登録する際に、現在使用しているウェーハ座標系での座標値(x',y')あるいは(x'',y'')を登録すると共に、座標補正結果に依存しないステージ座標系での座標値(x,y)、すなわち座標補正後も有効な座標値を登録できるようにする。 [0034] In the present invention, when registering the coordinates of the detected foreign object, the coordinate values ​​of the wafer coordinate system currently in use (x ', y') or (x '', y '') a and registers the coordinate value of the stage independent coordinate coordinate correction result (x, y), i.e. after the coordinate correction to be able to register a valid coordinate values. この異物の座標値をウェーハ座標系及びステージ座標系で登録(記憶)する機能は、例えばコンピュータ16内でソフト的に実現することができる。 The coordinate values ​​of the foreign object registered in the wafer coordinate system and the stage coordinate system (storage) to function can be software-implemented eg in the computer 16.

【0035】図3は、半導体用走査電子顕微鏡を用いたウェーハ上の異物観察手順を説明するフローチャートである。 [0035] FIG. 3 is a flowchart illustrating a foreign substance observation sequence on the wafer using a semiconductor for scanning electron microscopy. 図3に示したステップに先立って、異物検査装置を用いてウェーハ上の異物(又は欠陥)の座標測定が行われている。 Prior to the step shown in FIG. 3, by using the particle inspection apparatus coordinate measuring foreign matter on the wafer (or defects) it has been made. このときの異物の位置を示す座標系は、基本的には走査電子顕微鏡と同じウェーハ座標系が用いられる。 Coordinate system indicating the position of the foreign matter in this case is basically the same wafer coordinate system is used as the scanning electron microscope. しかしながら、実際には検査装置の座標系と走査電子顕微鏡の座標系には微妙な誤差が存在するのが一般的である。 However, it is actually a common practice subtle error exists in the coordinate system and the coordinate system of the scanning electron microscope inspection apparatus.

【0036】図3のステップ11において、異物検査装置で測定した異物の座標データを走査電子顕微鏡に読み込む。 [0036] In step 11 of FIG. 3, it reads the coordinate data of the foreign matter was measured by the particle inspection apparatus in the scanning electron microscope. 座標データはフロッピーディスクやネットワーク接続を介して異物検査装置から走査電子顕微鏡に渡される。 Coordinate data is passed from the particle inspection apparatus via a floppy disk or a network connected to the scanning electron microscope. 次に、ステップ12において、異物検査装置で異物測定を行ったウェーハを走査電子顕微鏡にロードする。 Next, at step 12, it loads the wafer subjected to foreign substances measured by particle inspection apparatus in the scanning electron microscope.
ステップ11とステップ12は順序が逆であっても構わない。 Step 11 and Step 12 may be a sequence reversed.

【0037】次に、ステップ13の粗アライメント(外形アライメント)において、走査電子顕微鏡のステージ21上に保持されたウェーハの外形点のステージ座標系(X-O-Y)での座標を測定し、ウェーハがステージ座標系に対してどの様な位置(姿勢)にあるかを調べる。 Next, in the coarse alignment step 13 (outer alignment), to measure the coordinates in the stage coordinate system of contour points of the wafer held on the scanning electron microscope stage 21 (X-O-Y), wafer examine whether there is in what kind of position with respect to the stage coordinate system (attitude).
具体的には、図1に破線で示すように、ウェーハを保持した移動ステージ21を結像光学系50とCCDカメラ51からなる光学的撮像装置の下方に移動する。 Specifically, as shown by the broken line in FIG. 1, it moves under the optical imaging device comprising a moving stage 21 which holds the wafer from the imaging optical system 50 and the CCD camera 51. そして、図4に示すように、ウェーハ外形31上の5点、すなわちオリエンテーションフラット32上の2点61, Then, as shown in FIG. 4, five points on the wafer outline 31, i.e. two points on the orientation flat 32 61,
62及びウェーハ外周円上の3点63〜65のステージ座標系での座標を測定する。 62 and to measure the coordinates in the stage coordinate system of the 3 points 63-65 on the wafer outer periphery yen. これらの座標値に基づいて、ウェーハ外周円の延長線33に接し、かつ、オリエンテーションフラット32に平行になるような直線としてウェーハ座標系のX軸43を定め、ウェーハ外形31 Based on these coordinate values, against the extension 33 of the wafer outer circumference and defining a X-axis 43 of the wafer coordinate system as a straight line, such as to be parallel to the orientation flat 32, the wafer outline 31
に接し、かつ、X軸43に垂直な直線としてY軸44を定める。 In contact, and it determines the Y-axis 44 as a straight line perpendicular to the X-axis 43. こうしてウェーハ座標系(X'-O'-Y')を定義する。 Thus defining a wafer coordinate system (X'-O'-Y ').

【0038】次に、ステップ14において、比較的大きな異物を数個、通常5〜10個を異物検査装置からの座標データ(X1,Y1)を使って観察し、走査電子顕微鏡のウェーハ座標系(X'-O'-Y')で測定した異物の座標値(X2,Y2)、及びステージ座標系(X-O- Next, in step 14, a relatively large foreign body several, 5-10 normally observed with the coordinate data (X1, Y1) from the particle inspection apparatus, a scanning electron microscope of the wafer coordinate system ( X'-O'-Y ') coordinate value of the foreign matter was measured by (X2, Y2), and the stage coordinate system (X-O-
Y)で測定した異物の座標値(X,Y)を登録する。 Coordinate values ​​of foreign matter was measured by Y) (X, Y) to register. このとき、異物検査装置からの座標データで指示された位置に異物が見つからないときは、その付近に検出された異物をその座標データで指示された異物として測定された座標値を登録する。 At this time, when the indicated position in the coordinate data from the particle inspection apparatus missing foreign matter registers the measured coordinate values ​​foreign objects detected near the as foreign instructed by the coordinate data.

【0039】続いて、ステップ15に進み、異物の座標を用いた微アライメント(異物アライメント)を行う。 [0039] Then, the process proceeds to a step 15, a fine alignment (foreign body alignment) using the foreign matter of coordinates.
この微アライメントでは、ステップ14において走査電子顕微鏡のウェーハ座標系(X'-O'-Y')で測定した異物の座標値(X2,Y2)と、異物検査装置から得たその異物の座標値(X1,Y1)を比較して装置間の座標誤差を計算する。 This fine alignment, the wafer coordinate system of the scanning electron microscope in the step 14 (X'-O'-Y ') coordinate value of the foreign matter was measured with the (X2, Y2), coordinate values ​​of the foreign matter obtained from the particle inspection apparatus (X1, Y1) to calculate the coordinate error between the compared to the equipment. そして、この装置間の座標誤差が最小になるように、例えば前記〔数1〕の定数(a,b) Then, as coordinate error between the device is minimized, for example, constants of the equation (1) (a, b)
及びθを決定し、座標変換式を作成する。 And determining the theta, to create a coordinate conversion formula. そして、その変換式を使って異物検査装置からの座標値(X1,Y The coordinate values ​​(X1, Y from the particle inspection apparatus using the conversion formula
1)を変換し、変換後の座標値(X3,Y3)を求める。 1) converting the obtained coordinates after conversion to (X3, Y3). 変換式が適当であれば、(X3,Y3)≒(X2, If conversion formula is appropriate, (X3, Y3) ≒ (X2,
Y2)となり、変換後の座標値(X3,Y3)を使えば走査電子顕微鏡ウェーハ座標系(X'-O'-Y')上で容易に異物を発見できる。 Y2), and the can be easily found foreign objects on the coordinate value after conversion (X3, Y3) to use if scanning electron microscope wafer coordinate system (X'-O'-Y '). また、後述するように、走査電子顕微鏡のウェーハ座標系(X'-O'-Y')自体を異物検査装置からの座標値に合わせて変形させても(X"- As will be described later, scanning electron microscopy of the wafer coordinate system (X'-O'-Y ') be itself is deformed in accordance with the coordinate values ​​from the particle inspection apparatus (X "-
O"-Y")、同様の効果が得られる。 O "-Y"), the same effect can be obtained.

【0040】ステップ15は、装置間の座標誤差を計算する座標誤差演算手段、座標変換式の定数を決定して座標変換式を作成する座標変換式設定手段、作成された座標変換式を用いて異物検査装置からの座標値を走査電子顕微鏡用に変換する座標変換手段によって実現される。 [0040] Step 15 uses the coordinate error calculation means for calculating a coordinate error between devices, coordinate conversion formula setting means for creating a coordinate conversion formula to determine the constant of the coordinate conversion formula, the coordinate conversion formula that was created is realized by the coordinate conversion means for converting the coordinate values ​​from the particle inspection apparatus for a scanning electron microscope.
そして、これらの各手段は、例えばコンピュータ16内でソフト的に実現することができる。 Then, each of these means can be software-implemented eg in the computer 16.

【0041】続くステップ16では、異物観察を行う。 [0041] In the following step 16, perform the foreign matter observed.
このとき、ウェーハ座標系を変形した場合には、新たに定義されたウェーハ座標系(X"-O"-Y")上で、異物検査装置からの座標値を使って異物を探し、SEM像で異物を観察する。また、座標値変換した場合には、ステップ13において定義したウェーハ座標系(X'-O'- In this case, when a modification of the wafer coordinate system is newly on defined wafer coordinate system (X "-O" -Y "), look for the foreign matter with the coordinate values ​​from the particle inspection apparatus, SEM image in observing foreign materials. Further, when the converted coordinate values, a wafer coordinate system defined in step 13 (X'-O'
Y')上で、変換した異物検査装置からの座標値(X On Y '), converted coordinate value from the particle inspection apparatus (X
3,Y3)を使って異物を探し、SEM像で異物を観察する。 3, using the Y3) looking for a foreign object, to observe the foreign matter in the SEM image.

【0042】ここで図5を参照して、走査電子顕微鏡のウェーハ座標系(X'-O'-Y')自体を異物検査装置からの座標値に合わせて座標系(X"-O"-Y")のように変形させる方法について説明する。図5において、(X [0042] Referring now to Figure 5, a scanning electron microscope of the wafer coordinate system (X'-O'-Y ') coordinate system itself in accordance with the coordinate values ​​from the particle inspection apparatus (X "-O" - Y ") method for deforming be described as. in FIG. 5, (X
-O-Y)は走査電子顕微鏡のステージ座標系、(X'- -O-Y) scanning electron microscope stage coordinate system, (X'-
O'-Y')は走査電子顕微鏡のウェーハ座標系、(X"- O'-Y ') is a wafer coordinate system of the scanning electron microscope, (X "-
O"-Y")は変形された走査電子顕微鏡のウェーハ座標系、(x,y)は走査電子顕微鏡のステージ座標系での座標値、(x',y')は走査電子顕微鏡のウェーハ座標系での座標値、(x",y")は検査装置からの座標値である。 O "-Y") is modified scanning electron microscope of the wafer coordinate system, (x, y) represents coordinate values ​​on the stage coordinate system of the scanning electron microscope, (x ', y') is the scanning electron microscope wafer coordinates coordinate value in the system, (x ", y") are the coordinates values ​​from the testing apparatus.

【0043】走査電子顕微鏡は、そのステージ座標系(X-O-Y)を使ってステージを移動させ観察位置を変更する。 The scanning electron microscope changes the observation position moving the stage with the stage coordinate system (X-O-Y). 簡単のために座標誤差要因が原点オフセット(a,b)と回転方向誤差(θ)だけであるとすると、 Coordinate error factors origin offset (a, b) for simplicity and when the rotation direction error (theta) is only,
ステージ座標系(X-O-Y)とウェーハ座標系(X'- Stage coordinate system (X-O-Y) and the wafer coordinate system (X'-
O'-Y')の間の関係は図5に示すようになり、ステージ座標値(x,y)はウェーハ座標値(x',y')から次の〔数2〕を使って計算できる。 O'-Y 'relationship between) is as shown in FIG. 5, the stage coordinate values ​​(x, y) is a wafer coordinate values ​​(x' can be calculated using, y ') following expression (2) from .

【0044】 [0044]

【数2】 [Number 2] ウェーハ座標系(X'-O'-Y')を定義しているパラメータ(a,b,θ)を検査装置からの異物座標値(x",y")に合わせて(a',b',θ')に変更すると、異物のステージ座標値(x,y)は次の〔数3〕を使って計算される。 Wafer coordinate system (X'-O'-Y ') defines the parameters (a, b, θ) foreign object coordinates from the inspection device (x ", y") in accordance with the (a', b ' , changing to a theta '), the stage coordinates of the foreign matter (x, y) is computed using the following Formula 3.

【0045】 [0045]

【数3】 [Number 3] このように、ステージ座標系(X-O-Y)に対するウェーハ座標系(X'-O'-Y')の定義パラメータを変更してウェーハ座標系を変形することによって、検査装置からの座標値(x",y")を走査電子顕微鏡のウェーハ座標値としてそのまま使用できるようになる。 Thus, by deforming the wafer coordinate system by changing the definition parameters of the wafer coordinate system (X'-O'-Y ') with respect to the stage coordinate system (X-O-Y), the coordinate values ​​from the testing device (x ", y") becomes ready to use as a wafer coordinate values ​​of the scanning electron microscope.

【0046】なお、これまで座標誤差要因として原点オフセットと回転方向誤差だけを含む場合の座標変換について説明してきた。 [0046] Incidentally, it has been described coordinate conversion when hitherto containing only rotation direction error and origin offset as a coordinate error factor. しかし、それ以外の種々の座標誤差要因を含む場合にも、2つの座標間で座標変換を行うことができる。 However, even if it contains a variety of coordinate error factor other than that, it is possible to perform coordinate conversion between the two coordinates. その一例として、図6を用いて、座標誤差要因として原点オフセット、回転方向誤差、X軸及びY As an example, with reference to FIG. 6, the origin offset as a coordinate error factor, rotation direction error, X-axis and Y
軸の寸法精度誤差、座標軸の直交度誤差を含む場合の座標変換について説明する。 Axial dimensional accuracy errors of a coordinate conversion when including orthogonality error of coordinate axes will be described. 図6において、(X 1 -O- In FIG. 6, (X 1 -O-
1 )は検査装置の座標軸、(X Axes of Y 1) the inspection apparatus, (X 2 -O-Y 2 )は寸法精度補正後の座標軸、(X 3 -O-Y 3 )は直交性補正後の座標軸、(X 4 -O-Y 4 )は回転補正後の座標軸、(X 5 -O'- 2 -O-Y 2) coordinate axes after the dimensional accuracy correction, (X 3 -O-Y 3 ) coordinate axes of the quadrature correction, (X 4 -O-Y 4 ) are coordinate axes after the rotation correction, (X 5 -O'-
5 )は走査電子顕微鏡の座標軸、(x 1 ,y 1 )は検査装置の異物座標、(x 5 ,y 5 )は走査電子顕微鏡の異物座標、(c,d)は座標軸間の原点オフセット、αは(X 1 -O-Y 1 )座標の直交性誤差、βは座標軸間の角度誤差、mはX軸の寸法精度誤差、nはY軸の寸法精度誤差である。 Y 5) are coordinate axes of a scanning electron microscope, (x 1, y 1) foreign matter coordinates of the inspection apparatus, (x 5, y 5) foreign matter coordinates of the scanning electron microscope, (c, d) is zero offset between the coordinate axes , alpha is (X 1 -O-Y 1) coordinate orthogonality error of, beta angle error between the coordinate axes, m the dimensional accuracy error of the X-axis, n represents a dimensional accuracy error of the Y axis.

【0047】このとき、検査装置の異物座標(x 1 [0047] In this case, the inspection apparatus foreign object coordinates (x 1,
1 )を走査電子顕微鏡の異物座標(x 5 ,y 5 )に変換する座標変換式は、次の〔数4〕で表される。 coordinate conversion formula for converting the y 1) in the scanning electron microscope of the foreign object coordinates (x 5, y 5) is expressed by the following [Equation 4]. この座標変換式を用いる場合には、6個以上の異なる異物を選択して、その検査装置の座標値と走査電子顕微鏡の座標値の残留誤差が最小となるようにパラメータc,d,α, When using the coordinate conversion formula, select six or more different foreign substance, parameters c as residual error is minimum coordinate values ​​of the scanning electron microscope and the coordinate values ​​of the inspection apparatus, d, alpha,
β,m,nを決定する。 beta, determines m, the n.

【0048】 [0048]

【数4】 [Number 4] 走査電子顕微鏡で検出された異物の座標を登録する手段として、画像表示画面上でクロスカーソルを異物に合わせ、クロスカーソルの交点の座標をその異物の座標として登録するといった従来の方法に加えて、画像処理を使用して周囲の形状に対する違いや、コントラストの違いによって異物の位置を自動的に認識し、その座標を自動的に登録する機能を備えることができる。 As means for registering coordinates of the foreign objects detected by scanning electron microscope, the cross cursor image display screen match the foreign substance, in addition to the conventional methods such as registering the coordinates of the intersection of the crosshair cursor as the coordinates of the foreign matter, differences and to surrounding shape using image processing, automatically recognizes the position of the foreign matter by differences in contrast, it can be provided with a function of automatically register the coordinates.

【0049】実際の適用例としては、異物を観察した後、予め登録しておいた正常な半導体パターンの一定の繰り返し形状と観察した像を比較して、異物の形状、大きさ、中心位置からその異物の座標を計算し、計算した座標値をその異物の座標値として登録する。 [0049] As a practical application example, after observing foreign objects, by comparing the constant repetition shape as the observed image of the normal semiconductor pattern which is registered in advance, the shape of the foreign material, size, from the center position It calculates the coordinates of the foreign matter, and registers the calculated coordinate value as the coordinate value of the foreign substance. また、パターンの存在しない平坦なウェーハ上にある異物に関しては、周囲とのコントラストの変化を認識して、同様に異物の形状、大きさ、中心位置からその異物の座標を計算することができる。 Regarding the foreign matter is on the flat wafer is not present in the pattern can be calculated by recognizing the change in the contrast with the surrounding, as well as foreign material shape, size, and the foreign matter coordinates from the center position. このような機能により、無人運転の際にも異物の座標値を自動的に登録することができる。 These features can be automatically registered coordinate value of the foreign matter during unattended operation.
このとき、検出された異物の座標値と異物検査装置で測定された座標値との対応付けは、異物検査装置からの座標値(又は、誤差補正後の座標値)を元に試料上の観察位置を移動させ、その位置から最も近い位置で検出された異物の座標値をその異物の走査電子顕微鏡での座標値とすることで行う。 In this case, correspondence between the coordinate value measured by the coordinate values ​​and the foreign substance inspection apparatus of the detected foreign matter, coordinate values ​​from the particle inspection apparatus (or coordinate value after error correction) observed on the sample based on position moves the carried out by the coordinate values ​​of the detected foreign object closest position from its position as the coordinate values ​​of a scanning electron microscope of the foreign matter.

【0050】図7は、走査電子顕微鏡において座標値を登録した異物と、登録していない異物とを区別して走査電子顕微鏡の操作画面に二次元的に表示した例を示す図である。 [0050] Figure 7 is a diagram showing a foreign matter that registered coordinate value in the scanning electron microscope, an example of displaying two-dimensionally on the operation screen of a distinction between foreign matter not registered scanning electron microscope. この例では、走査電子顕微鏡の操作画面上の表示ウィンドウ30に、観察試料であるウェーハの外形3 In this example, the display window 30 on the operation window of the scanning electron microscope, the outer shape 3 of the wafer is observed sample
1と異物34の位置を示している。 It indicates the position of 1 and the foreign matter 34. 異物34の位置は、 The position of the foreign matter 34,
異物検査装置での測定データを元にして決められている。 The measurement data of the foreign substance inspection apparatus based on are determined. また、図中に□のマークで表示した異物35は、異物34のうち走査電子顕微鏡測定した座標値を登録した異物を示している。 Further, the foreign matter 35 is displayed in the mark □ in the diagram indicates a foreign matter registered coordinate value measured scanning electron microscope of the foreign matter 34. このような表示方法を使用することによって、どの異物の座標値が登録されているかを簡単に見分けることができる。 By using such a display method, it is possible to discern what coordinates of the foreign matter is registered easily. この例では座標値を登録した異物とそうでない異物とを別の形の印(□と+)を付けることによって区別したが、カラー表示ができる場合は両者の色を変えることによって区別しても良い。 Was distinguished by marking a foreign object otherwise the foreign matter that registered coordinate value of another form (□ and +) in this example may be distinguished by changing the colors of both if it is a color display .

【0051】図8は、異物の配置図を使って、座標補正計算すなわち座標変換式の導出に使用する異物を選択した例を示している。 [0051] Figure 8, using the layout of foreign matter, shows an example of selected foreign substances to be used for coordinate correction computation That derivation of coordinate conversion formula. 選択された異物は■のマークで表示されている。 The selected foreign body has been displayed in the mark of ■. この例では、走査電子顕微鏡での座標値を登録した異物35のうち、マウス19等を使って選択した領域37内にある異物36のみを使って座標変換式を導出する。 In this example, among the foreign object 35 registered coordinate value of a scanning electron microscope, to derive a using only foreign matter 36 coordinate transformation equation in the region 37 which is selected using the mouse 19 or the like. このように座標変換式の導出に使用する異物を領域限定して選択すると、一定の領域に関してより正確な座標変換式を導出することができる。 Selecting this way foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula and area limitation can derive a more accurate coordinate conversion formula for certain regions. この例では矩形の領域37を選択しているが、任意の多角形や曲線で囲まれた領域を使って選択しても良い。 In this example you select the rectangular region 37, may be selected using the region surrounded by any polygon or curve. また、領域選択ではなくマウスによる指示によって複数の異物を個々に選択できるようにしても良い。 It is also possible to select multiple foreign objects individually by instruction from the mouse instead of the region selection.

【0052】図9は、異物検査装置から取得した異物に関するデータをリストの形で表示した例である。 [0052] Figure 9 is an example of displaying data relative to the foreign substance obtained from the particle inspection apparatus in the form of a list. この例では、走査電子顕微鏡で測定した座標値を登録した異物には○印39を付けて、座標を登録していない異物と区別している。 In this example, the foreign matter that registered coordinate value measured by a scanning electron microscope with a ○ mark 39, are distinguished from foreign matter not registered coordinates. また、座標値を登録した異物のうち、座標変換式の導出に使用する異物には更に●印40を付けて区別している。 Also, of the foreign matter that registered the coordinate values ​​are distinguished further ● Mark 40 for foreign material to be used in the derivation of the coordinate conversion formula. 座標変換式の導出に使用する異物は、例えば「Register」欄に○印がついている中から選んだ異物を「Select」欄でマウスによってクリックすることにより、このリストを使用してユーザーが任意に選ぶことができる。 Foreign material to be used in the derivation of the coordinate conversion formula, for example by clicking with the mouse in the "Select" column a foreign substance chosen from among that with a ○ mark in the "Register" column, any user using this list it can be selected. この例では特徴的な印を使って各種異物を区別しているが、カラー表示ができる場合は異物の番号や座標値を他と異なる色で表示することで区別しても良い。 In this example we distinguish various foreign matters with a distinctive indicia may be if it is a color display distinguished by displaying in different colors the numbers and coordinate values ​​of the foreign matter other. 異物検査装置の特性上、装置の測定感度に合わない大きさの異物を観察したときに座標測定誤差が大きくなることがある。 The nature of the foreign substance inspection apparatus, it is possible to coordinate measurement error increases when observing the size of the foreign matter does not fit the measurement sensitivity of the apparatus. このような測定誤差の大きい異物の座標データを使って座標変換式を導出すると座標補正精度が悪くなる。 When deriving the coordinate conversion formula using the coordinate data of a large foreign matter such measurement error coordinate correction accuracy is deteriorated. 本発明では、異物検査装置での測定感度に合わせて予め設定しておいた異物の大きさや種類によって、走査電子顕微鏡で座標値を登録できる異物や座標変換式の導出に使用できる異物を自動的に選択できるようにする。 In the present invention, the foreign matter that has been set in advance in accordance with the measurement sensitivity in the particle inspection apparatus according to the size and type, the foreign matter can be used to derive the particle or coordinate conversion formula can be registered coordinate value in the scanning electron microscope automatically to be able to select to.

【0053】異物検査装置からは、検出された異物の座標データと共に、その異物の大きさや種類等を番号や記号を使って分類したデータが提供される。 [0053] From the foreign substance inspection apparatus, the coordinate data of the detected foreign object, data classified in the foreign material size or kind with a number or symbol is provided. 走査電子顕微鏡で異物の座標を自動的に登録したり、座標変換式の導出に使用する異物を自動的に選択するに当たっては、異物検査装置から提供されたこの分類データを利用するのが便利である。 Or automatically registers foreign matter coordinates a scanning electron microscope, automatically in selecting the foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula is convenient to use this classification data provided from the foreign matter inspection device is there.

【0054】例えば、予め登録しておいた半導体パターンの一定の繰り返し形状と観察した像を比較して異物を検出し、その異物の座標値を計算して登録する場合には、走査電子顕微鏡の操作画面に異物の座標登録条件設定画面を表示し、座標登録すべき異物の大きさの上限や除外する異物の種類(例えば、ウェーハエッジに位置するもの、しみ状のもの等)をマウスやキーボードを用いて指定できるようにする。 [0054] For example, foreign matter detecting by comparing the constant repetition shape as the observed image of the semiconductor pattern which is registered in advance, when the registration by calculating the coordinate values ​​of the foreign matter, the scanning electron microscope operation screen to display the coordinate registration condition setting screen of the foreign matter, the size of the upper and exclude types of foreign substances of the foreign matter to be coordinate registration (e.g., those located in the wafer edge, blotchy ones, etc.) a mouse and keyboard to be specified using the. 座標変換式の導出に使用する異物の自動選択に当たっても同様に条件設定を行うことができる。 Even hit the automatic selection of foreign substances used in the derivation of the coordinate conversion formula can be carried out similarly condition setting. すなわち、走査電子顕微鏡の操作画面に座標変換式の導出に使用する異物の条件設定画面を表示し、 That is, to display the condition setting screen of the foreign matter to be used to derive the coordinate conversion formula on the operation screen of the scanning electron microscope,
座標変換式を導出するのために取り込むべき異物の大きさの上限や除外する異物の種類をマウスやキーボードを用いて指定できるようにする。 The size of the upper and exclude types of foreign substances of the foreign matter to be acquired for deriving a coordinate conversion formula to be specified using the mouse or keyboard.

【0055】図10は、走査電子顕微鏡による試料上の画像表示領域に合わせて座標変換式の導出に使用する異物を自動的に選択する方法を示す説明図である。 [0055] Figure 10 is an explanatory diagram showing a method for automatically selecting a foreign substance to be used in the derivation of the coordinate conversion formula in accordance with the image display area on the sample by the scanning electron microscope. ここには、走査電子顕微鏡で観察している領域38の近くにある座標値を登録した異物36のみを使って座標変換式を導出する例を示している。 Here, an example of deriving a coordinate conversion formula using only the foreign matter 36 that registered the coordinate values ​​in the vicinity of that observed region 38 in the scanning electron microscope. 走査電子顕微鏡で観察する領域38は、移動ステージ21によって試料5及び試料台6を移動することによって変化する。 Region 38 to be observed with a scanning electron microscope is changed by moving the sample 5 and sample stage 6 by moving the stage 21. この例では、観察領域38の近くにある異物36を観察領域の移動後に自動的に選択し(マーク■によって表示)、その異物のみを使って座標変換式を導出する。 In this example, automatically select the foreign substance 36 in the vicinity of the observation region 38 after the movement of the observation region (indicated by marks ■), to derive the coordinate conversion formula using only the foreign object. このとき、観察領域3 At this time, the observation region 3
8からの距離や選択する異物の数等の条件を走査電子顕微鏡の操作画面で条件設定画面を表示して設定できるようにすることによりする、座標変換式の導出に使用する異物の数を調節することができる。 To by the distance and selection to Suto conditions of foreign matter from 8 to be set to display the condition setting screen on the operation screen of a scanning electron microscope, adjusting the number of foreign substances used in the derivation of the coordinate conversion formula can do. 異物の座標データは、例えば図9に示したリストから条件に適合したものをその都度自動的に選択するようにすればよい。 Coordinate data of foreign matter, each time it is sufficient to automatically select those suitable for the condition from the list shown, for example, in FIG. このような機能により、走査電子顕微鏡で観察する位置を変えるたびに座用補正計算に使用する異物を選び直す手間を省くことができる。 These features, it is possible to save labor to reselect the foreign substances to be used in the seat for correction calculation each time to change the position to be observed with a scanning electron microscope.

【0056】座標誤差が大きい異物は座標誤差計算精度を低下させるだけではなく、座標補正後も他の異物に比べて座標誤差が大きく残ることがある。 [0056] foreign object coordinate error is large not only lowers the coordinate error calculation accuracy, which may coordinate error remains large compared after coordinate correction to other foreign material. そのため、本発明では、異物検査装置から供給された異物の座標値を座標変換等で補正した後の補正座標値と、走査電子顕微鏡で検出した異物座標値の間の許容誤差を操作画面で設定する。 Therefore, in the present invention, setting the correction coordinate value after correcting the coordinate values ​​of the foreign matter supplied from the particle inspection apparatus in the coordinate transformation or the like, an allowable error between the foreign body coordinate values ​​detected by the scanning electron microscope operating screen to. そして、導出した座標変換式を用いて座標補正計算を実施した後で、予め設定した誤差範囲を超える異物があった場合、その異物の座標データを除いたデータによって再度座標変換式を導出するようにする。 Then, after performing coordinate correction calculation using the derived coordinate conversion formula, when there is foreign matter exceeds the error range previously set, so as to derive again coordinate conversion formula by data excluding coordinate data of the foreign object to. 予め設定する条件には、座標誤差だけではなく、計算から外す異物の総数等を加えても良い。 The condition to be set in advance, not only the coordinate error may be added the total number of foreign materials removed from the calculation.

【0057】 [0057]

【発明の効果】本発明よると、異物検査装置からの座標データを使って試料上の異物等を観察する際に、使用者の手間を省いた状態で常に精度の高い座標補正を実行することができ、装置間の座標誤差を常に最適な状態に補正することができる走査電子顕微鏡を提供することができる。 According the present invention, when using the coordinate data from the foreign matter inspection apparatus for observing the foreign matter on the sample, always possible to perform a highly accurate coordinate correction in a state of omitting the labor of the user can be, it is possible to provide a scanning electron microscope capable of correcting the coordinate error between devices always optimal.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明による走査電子顕微鏡の一例の構成を示す図。 It illustrates an example of a configuration of a scanning electron microscope according to the invention; FIG.

【図2】ウェーハ座標系とステージ座標系の関係を示す図。 Figure 2 is a graph showing a relation of a wafer coordinate system and the stage coordinate system.

【図3】半導体用走査電子顕微鏡を用いたウェーハ上の異物観察手順を説明するフローチャート。 FIG. 3 is a flowchart illustrating a foreign substance observation sequence on the wafer using a semiconductor for scanning electron microscopy.

【図4】ウェーハの外形とウェーハ座標系の関係を示す説明図。 Figure 4 is an explanatory diagram showing a relationship between wafer contour and the wafer coordinate system.

【図5】ステージ座標系とウェーハ座標系及び変形されたウェーハ座標系の関係を示す説明図。 Figure 5 is an explanatory diagram showing the relationship between the stage coordinate system and the wafer coordinate system and modified wafer coordinate system.

【図6】2つの座標系の間の座標変換を説明する図。 Diagram for explaining the coordinate transformation between 6 two coordinate systems.

【図7】座標値を登録した異物と他の異物とを区別した異物の配置図例を示す図。 7 is a diagram showing a layout example of a foreign matter distinguish between foreign substances registered coordinate value and other foreign matter.

【図8】異物の配置図から座標変換式の導出に使用する異物を選択する様子を示す説明図。 FIG. 8 is an explanatory diagram showing how to select a foreign substance to be used from the arrangement diagram of a foreign matter to derive the coordinate conversion formula.

【図9】異物のリストから座標変換式の導出に使用する異物を選択する様子を示す説明図。 Figure 9 is an explanatory diagram showing how to select a foreign substance to be used to derive from the list of the foreign matter of the coordinate conversion formula.

【図10】走査電子顕微鏡による試料上の画像表示領域に合わせて座標変換式の導出に使用する異物を自動的に選択する様子を示す説明図。 Figure 10 is an explanatory diagram showing how to automatically select the foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula in accordance with the image display area on the sample by the scanning electron microscope.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…電子銃、2…電子レンズ、3…偏向器、4…二次粒子検出器、5…試料、6…試料台、7…電子線、8…二次粒子、9…レンズ制御回路、10…偏向制御回路、1 1 ... electron gun, 2 ... electron lens, 3 ... deflector, 4 ... secondary particle detector, 5 ... sample, 6 ... sample stage, 7 ... electron beam, 8 ... secondary particles, 9 ... lens control circuit, 10 ... deflection control circuit, 1
1…アナログ/デジタル変換器、12…アドレス制御回路、13…画像メモリ、14…制御手段、15…ディスプレイ、16…コンピュータ、17…画像合成手段、1 1 ... analog / digital converter, 12 ... address control circuit, 13 ... image memory, 14 ... control unit, 15 ... display, 16 ... computer, 17 ... image synthesizing means, 1
8…キーボード、19…マウス、21…移動ステージ、 8 ... keyboard, 19 ... mouse, 21 ... moving stage,
30…表示ウィンドウ、31…ウェーハ外形状、32… 30 ... display window, 31 ... wafer out of shape, 32 ...
オリエンテーションフラット、33…ウェーハ外周円の延長線、34…異物、35…座標値を登録した異物、3 Orientation flat, 33 ... extension line of the wafer outer circumference, 34 ... foreign matter, the foreign matter that registered 35 ... coordinate values, 3
6…座標変換式の導出に使用する異物、37…異物を選択するための枠、38…SEM画像表示範囲、39…座標値を登録した異物を示す印、40…座標変換式の導出に使用する異物を示す印、41…ステージ座標系のX 6 ... foreign substances to be used in the derivation of the coordinate conversion formula, a frame for selecting 37 ... foreign substance, 38 ... SEM image display range mark indicating foreign matter that registered 39 ... coordinate values, used to derive the 40 ... coordinate conversion formula mark indicating a foreign matter, of 41 ... stage coordinate system X
軸、42…ステージ座標系のY軸、43…座標補正前のウェーハ座標系のX軸、44…座標補正前のウェーハ座標系のY軸、45…座標補正後のウェーハ座標系のX Shaft, 42 ... Y-axis of the stage coordinate system, 43 ... X-axis of the coordinate before correction wafer coordinate system, 44 ... coordinate correction Y-axis in front of the wafer coordinate system, the 45 ... coordinate after correction of the wafer coordinate system X
軸、46…座標補正後のウェーハ座標系のY軸、50… Axis, Y-axis of the wafer coordinate system after 46 ... coordinate correction, 50 ...
結像光学系、51…CCDカメラ Imaging optics, 51 ... CCD camera

Claims (10)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 試料を保持/移動する装置内のステージによって定義されるステージ座標系内で2次元的に移動可能なステージと、前記ステージ上に保持された試料に電子線を収束して走査する手段と、電子線照射によって試料から発生する二次粒子を検出する検出手段とを備え、前記検出手段の出力を用いて試料像を形成する走査電子顕微鏡において、 前記ステージ上の試料の形状に合わせて定義される試料座標系を設定する試料座標系設定手段と、前記試料上の観察対象物の位置を指示するために他の装置から供給された座標値を前記試料座標系での座標値に変換する座標変換手段とを備え、 前記座標変換手段は、前記観察対象物の前記試料座標系で検出した座標値を登録する座標値登録手段と、前記観察対象物に対して前記他の装置か And 1. A specimen in stage coordinate system defined by the stage in the device for holding / moving two-dimensionally movable stage, and converges the electron beam to the sample held on the stage scanning means for, and a detecting means for detecting secondary particles generated from the sample by electron beam irradiation, in the scanning electron microscope for forming a sample image using an output of said detecting means, the shape of the sample on the stage and the sample coordinate system setting means for setting a sample coordinate system defined to fit the coordinate values ​​of the coordinate values ​​supplied from the other device to indicate the position of the observation object on the sample in the sample coordinate system and a coordinate conversion means for converting said coordinate transformation means includes a coordinate value registration means for registering a coordinate value detected by the sample coordinate system of the observation object, the other device to the observation object or 供給された座標値と前記座標値登録手段に登録された検出座標値との間の誤差を演算する座標誤差演算手段と、前記誤差が最小となるように座標変換式を設定する座標変換式設定手段とを備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。 Coordinate conversion formula setting for setting a coordinate conversion formula as the coordinate error calculation means for calculating an error, the error is minimized between the supplied coordinate value and the detection coordinate value registered in the coordinate value register means scanning electron microscope, characterized in that it comprises a means.
  2. 【請求項2】 前記観察対象物の前記ステージ座標系での検出座標値を登録する第2の座標値登録手段を備えることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。 2. A scanning electron microscope according to claim 1, further comprising a second coordinate value registration means for registering the detected coordinate values ​​on the stage coordinate system of the observation object.
  3. 【請求項3】 前記座標値登録手段に登録すべき観察対象物の条件を設定する座標登録条件設定手段を備え、前記座標登録条件に適合した観察対象物の前記試料座標系での検出座標値を前記座標値登録手段に自動的に登録する機能を有することを特徴とする請求項1又は2記載の走査電子顕微鏡。 Wherein the coordinate values ​​with coordinate registration condition setting means for setting conditions of the observation object to be registered in the registration means, the detection coordinate value at the sample coordinate system of the observation object adapted for the coordinate registration condition the claim 1 or 2 scanning electron microscope wherein a has a function of automatically registered in the coordinate value register means.
  4. 【請求項4】 前記他の装置から供給された座標データに基づいて前記試料上での観察対象物の2次元的な配置を表示する位置表示手段を備え、前記座標値登録手段に検出座標値を登録した観察対象物と登録していない観察対象物とを前記位置表示手段に区別して表示する機能を有することを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。 4. A includes a position display means for displaying a two-dimensional arrangement of the observation object on the sample based on the supplied coordinate data from the other device, the detection coordinate value to the coordinate value register means scanning electron microscope according to claim 1, wherein the observed object that is not registered with the observation object registered, characterized in that it has a function of displaying by distinguishing said position display means.
  5. 【請求項5】 前記座標誤差演算手段で使用する観察対象物を前記位置表示手段上で選択する手段を備え、選択された観察対象物を他と区別して表示する機能を有することを特徴とする請求項4記載の走査電子顕微鏡。 And means for selecting the observation object on said position display means used in the method according to claim 5, wherein said coordinate error calculating unit, and having a function of displaying separately from other observation object selected scanning electron microscope according to claim 4, wherein.
  6. 【請求項6】 前記他の装置から供給された座標データに基づいて観察対象物のリストを表示するリスト表示手段と、前記座標値登録手段に検出座標値を登録した観察対象物と登録していない観察対象物とを前記リスト表示手段に区別して表示する機能を有することを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。 6. not register a list display means for displaying a list of the observation object based on the supplied coordinate data, the observation object that registered the detected coordinate values ​​on the coordinate value register means from said another device scanning electron microscope according to claim 1, characterized in that it has a function of displaying and no observation object by distinguishing the said list display means.
  7. 【請求項7】 前記座標誤差演算手段で使用する観察対象物を前記リスト表示手段上で選択する手段を備え、選択された観察対象物を他と区別して表示する機能を有することを特徴とする請求項6記載の走査電子顕微鏡。 And means for selecting the observation object on the list display means used in the method according to claim 7, wherein said coordinate error calculating unit, and having a function of displaying separately from other observation object selected scanning electron microscope according to claim 6, wherein.
  8. 【請求項8】 前記座標誤差演算手段で使用する観察対象物の条件を設定する座標誤差演算条件設定手段を備え、前記座標変換式設定手段は前記座標値登録手段に登録した検出座標値のうち前記座標誤差演算条件設定手段によって設定された条件に適合した観察対象物の検出座標値を用いて座標変換式を設定する機能を有することを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。 8. includes a coordinate error calculation condition setting means for setting conditions of the observation object to be used in the coordinate error calculating unit, wherein the coordinate conversion formula setting means of the detected coordinate values ​​registered in the coordinate value register means scanning electron microscope according to claim 1, characterized in that it has a function of setting a coordinate conversion formula by using the detected coordinate values ​​of the observed object that conforms to the condition set by said coordinate error calculation condition setting means.
  9. 【請求項9】 前記座標誤差演算条件設定手段は試料上の観察位置に関連させて前記座標誤差演算手段で使用する観察対象物の条件を設定する機能を有し、試料上の観察位置を移動したとき、前記座標誤差演算条件設定手段によって設定された前記移動した試料上の観察位置に関連する条件に適合した観察対象物の検出座標値を用いて座標変換式を設定する機能を有することを特徴とする請求項8記載の走査電子顕微鏡。 Wherein said coordinate error calculation condition setting means has a function of setting conditions of the observation object to be used in the coordinate error calculating means in relation to the observation position on the sample, move the observation position on the sample when, to have a function of setting a coordinate conversion formula by using the detected coordinate values ​​of the observed object adapted to conditions associated with the observation position on the sample the moving set by the coordinate error calculation condition setting means scanning electron microscope according to claim 8, wherein.
  10. 【請求項10】 前記座標誤差演算手段で使用した観察対象物の検出座標値と前記座標変換手段によって変換された前記試料座標系での座標値の許容誤差を設定する手段と、前記許容誤差を超える誤差を有する観察対象物が存在した場合、その観察対象物を取り除いて前記座標誤差演算手段による誤差演算を再実行する機能を有することを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。 10. A means for setting the allowable error of coordinate values ​​at the sample coordinate system converted by the detection coordinate value of the observed object used in the coordinate error calculating means and said coordinate transformation means, said tolerance when the observation object having an error greater than is present, scanning electron microscope according to claim 1, characterized in that it has the ability to re-execute the error calculation by the coordinate error calculating unit by removing the observation object.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6713761B2 (en) 2000-05-29 2004-03-30 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US6792359B2 (en) 2000-07-26 2004-09-14 Hitachi, Ltd. Method for inspecting defect and system therefor
JP2006177896A (en) * 2004-12-24 2006-07-06 Sii Nanotechnology Inc Method and device for specifying observation or processing position, and method and device for processing sample
JP2007101551A (en) * 2006-10-23 2007-04-19 Hitachi High-Tech Science Systems Corp Scanning electron microscope
JP2007317508A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Hitachi High-Technologies Corp Coordinate correction method and observation device
US7307254B2 (en) 2004-04-19 2007-12-11 Hitachi High-Technologies Corporation Scanning electron microscope
JP2008227028A (en) * 2007-03-12 2008-09-25 Hitachi High-Technologies Corp Data processor and data processing method

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6713761B2 (en) 2000-05-29 2004-03-30 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US7217925B2 (en) 2000-05-29 2007-05-15 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US6897445B2 (en) 2000-05-29 2005-05-24 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US7009178B2 (en) 2000-05-29 2006-03-07 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US7521695B2 (en) 2000-05-29 2009-04-21 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US7010447B2 (en) 2000-07-26 2006-03-07 Hitachi, Ltd. Method for inspecting defect and system therefor
US7558683B2 (en) 2000-07-26 2009-07-07 Hitachi, Ltd. Method for inspecting defect and system therefor
US6792359B2 (en) 2000-07-26 2004-09-14 Hitachi, Ltd. Method for inspecting defect and system therefor
US7305314B2 (en) 2000-07-26 2007-12-04 Hitachi, Ltd. Method for inspecting defect and system therefor
US7307254B2 (en) 2004-04-19 2007-12-11 Hitachi High-Technologies Corporation Scanning electron microscope
JP4634134B2 (en) * 2004-12-24 2011-02-23 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 Observation position display method and apparatus and sample processing method and apparatus
JP2006177896A (en) * 2004-12-24 2006-07-06 Sii Nanotechnology Inc Method and device for specifying observation or processing position, and method and device for processing sample
JP2007317508A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Hitachi High-Technologies Corp Coordinate correction method and observation device
JP2007101551A (en) * 2006-10-23 2007-04-19 Hitachi High-Tech Science Systems Corp Scanning electron microscope
JP2008227028A (en) * 2007-03-12 2008-09-25 Hitachi High-Technologies Corp Data processor and data processing method
JP4597155B2 (en) * 2007-03-12 2010-12-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ Data processing apparatus and data processing method

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