JPH11162344A - Coating formation on display surface of display device, manufacture of display device, and fault inspecting device for display device - Google Patents

Coating formation on display surface of display device, manufacture of display device, and fault inspecting device for display device

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JPH11162344A
JPH11162344A JP32507897A JP32507897A JPH11162344A JP H11162344 A JPH11162344 A JP H11162344A JP 32507897 A JP32507897 A JP 32507897A JP 32507897 A JP32507897 A JP 32507897A JP H11162344 A JPH11162344 A JP H11162344A
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JP
Japan
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reflection film
coating
low
defect
phosphor
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JP32507897A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Mochizuki
望月  淳
Kenji Obara
健二 小原
Yoshinao Nozaki
良直 野崎
Eiichi Nishiyama
栄一 西山
Nobuyuki Koganezawa
信之 小金沢
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11162344A publication Critical patent/JPH11162344A/en
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a coating on a display surface of a display device while reducing a coating fault at a visible level or more in a display surface of a display device and while improving quality and yield. SOLUTION: This manufacturing method has a phosphor forming process, a coating forming process for coating a display surface as a surface of a glass panel formed with the phosphor in the phosphor forming process with a low reflecting film by using a coating forming device 62 in the predetermined coating forming condition, a fault inspecting process for optically inspecting a fault to be generated on the low reflecting film formed on the display surface of the display device in the coating forming process, and a coating forming condition control process for computing the coating forming condition 71 on the basis of the information related to a fault on the low reflecting film inspected in the fault inspecting process and for controlling the predetermined coating forming condition of the coating forming process on the basis of the computed coating forming condition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ装置
に係り、特に視認可能なレベル以上のコーティング欠陥
の少ない表示面を得るためのディスプレイ装置の表示面
へのコーティング形成方法およびディスプレイ装置の製
造方法並びにディスプレイ装置の表示面への欠陥検査方
法およびその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a method of forming a coating on a display surface of a display device and a method of manufacturing the display device, in order to obtain a display surface having a coating defect with a level higher than a visible level. The present invention relates to a defect inspection method for a display surface of a display device and an apparatus thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のディスプレイ装置の表示面へのコ
ーティング欠陥検査は、目視官能で行なわれていた。
2. Description of the Related Art Inspection of coating defects on a display surface of a conventional display device has been performed visually.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の目視検査で
は、検査見逃し、検査時間の点で極めて不十分であっ
た。このため、ディスプレイ装置の表示面へのコーティ
ングにおける欠陥発生の抑制は不可能であった。
However, the above-mentioned conventional visual inspection is extremely insufficient in terms of missed inspection and inspection time. For this reason, it was impossible to suppress the occurrence of defects in the coating on the display surface of the display device.

【0004】本発明の目的は、上記課題を解決すべく、
ディスプレイ装置の表示面において、コーティングの視
認可能なレベル以上の欠陥を少なくして品質を向上させ
ると共に歩留まり向上を図るようにしたディスプレイ装
置の表示面へのコーティング形成方法およびディスプレ
イ装置の製造方法を提供することにある。また、本発明
の他の目的は、ディスプレイ装置の表示面にコーティン
グされた低反射膜上に生じた欠陥を見逃しすることなく
高信頼度で検査することができるようにしたディスプレ
イ装置の表示面への欠陥検査方法およびその装置を提供
することにある。
[0004] An object of the present invention is to solve the above problems.
Provided are a method of forming a coating on a display surface of a display device and a method of manufacturing the display device, which improve the quality and improve the yield by reducing defects on the display surface of the display device that are higher than a visible level of the coating. Is to do. Further, another object of the present invention is to provide a display surface of a display device capable of inspecting with high reliability without overlooking a defect generated on a low reflection film coated on the display surface of the display device. And a defect inspection method therefor.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ディスプレイ装置の表示面に、コーティ
ング形成装置を用いて所定のコーティング形成条件によ
り低反射膜をコーティングして形成するコーティング形
成工程と、該コーティング形成工程によってディスプレ
イ装置の表示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を
検査する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって検査
された低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいてコーテ
ィング形成条件を算出し、該算出されたコーティング形
成条件に基づいて前記コーティング形成工程における所
定のコーティング形成条件を制御するコーティング形成
条件制御工程とを有することを特徴とするディスプレイ
装置の表示面へのコーティング形成方法である。また、
本発明は、ディスプレイ装置の表示面に、コーティング
形成装置を用いて所定のコーティング形成条件により低
反射膜をコーティングして形成するコーティング形成工
程と、該コーティング形成工程によってディスプレイ装
置の表示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を光学
的に検査する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって
光学的に検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に基
づいてコーティング形成条件を算出し、該算出されたコ
ーティング形成条件に基づいて前記コーティング形成工
程における所定のコーティング形成条件を制御するコー
ティング形成条件制御工程とを有することを特徴とする
ディスプレイ装置の表示面へのコーティング形成方法で
ある。
In order to achieve the above object, the present invention provides a coating method in which a display surface of a display device is coated with a low-reflection film under a predetermined coating forming condition using a coating forming apparatus. Forming a defect, a defect inspection step of inspecting a defect generated on the low reflection film formed on the display surface of the display device by the coating formation step, and information on the defect on the low reflection film inspected by the defect inspection step. Calculating a coating forming condition based on the calculated coating forming condition, and controlling a predetermined coating forming condition in the coating forming process based on the calculated coating forming condition. This is a method of forming a coating on a substrate. Also,
The present invention provides a coating forming step of coating a low reflection film on a display surface of a display device under a predetermined coating forming condition using a coating forming apparatus, and forming the coating on the display surface of the display device by the coating forming step. A defect inspection step of optically inspecting a defect generated on the low-reflection film, and a coating formation condition based on information on the defect on the low-reflection film optically inspected by the defect inspection step. A coating forming condition controlling step of controlling predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the applied coating forming conditions.

【0006】また、本発明は、ディスプレイ装置の表示
面に、コーティング形成装置を用いて低反射膜をコーテ
ィングして形成するコーティング形成工程と、該コーテ
ィング形成工程によってディスプレイ装置の表示面に形
成された低反射膜上に生じる欠陥を検査し、この検査さ
れた低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいてコーティ
ング形成された低反射膜が不良であるか否かについて判
定する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって低反射
膜が不良と判定されたとき該低反射膜を表示面から除去
し、その表示面にコーティング形成装置を用いて低反射
膜を再コーティングして修正するコーティング修正工程
とを有することを特徴とするディスプレイ装置の表示面
へのコーティング形成方法である。また、本発明は、デ
ィスプレイ装置の表示面に、コーティング形成装置を用
いて低反射膜をコーティングして形成するコーティング
形成工程と、該コーティング形成工程によってディスプ
レイ装置の表示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥
を光学的に検査し、この検査された低反射膜上の欠陥に
関する情報に基づいてコーティング形成された低反射膜
が不良であるか否かについて判定する欠陥検査工程と、
該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の表示面へのコーティング形成方
法である。
Further, according to the present invention, there is provided a coating forming step of coating a display surface of a display device with a low reflection film by using a coating forming apparatus, and forming the coating on the display surface of the display device by the coating forming process. A defect inspection step of inspecting a defect generated on the low-reflection film and determining whether or not the low-reflection film formed by coating is defective based on the information on the inspected defect on the low-reflection film; A step of removing the low-reflection film from the display surface when the low-reflection film is determined to be defective by the inspection step, and recoating and correcting the low-reflection film on the display surface using a coating forming apparatus. A method for forming a coating on a display surface of a display device. The present invention also provides a coating forming step of coating a low reflection film on a display surface of a display device using a coating forming apparatus, and a low reflection film formed on the display surface of the display device by the coating forming step. A defect inspection step of optically inspecting the defect occurring on the surface, and determining whether the low reflection film formed by coating is defective based on information on the defect on the inspected low reflection film,
A coating correcting step of removing the low-reflection film from the display surface when the low-reflection film is determined to be defective by the defect inspection step, and recoating and correcting the low-reflection film on the display surface using a coating forming apparatus; A method for forming a coating on a display surface of a display device, comprising:

【0007】また、本発明は、ディスプレイ装置を構成
するパネルガラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラ
ックマトリックスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢
光体を形成する螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で
螢光体が形成されたパネルガラスの表面である表示面
に、コーティング形成装置を用いて所定のコーティング
形成条件により低反射膜をコーティングして形成するコ
ーティング形成工程と、該コーティング形成工程によっ
てディスプレイ装置の表示面に形成された低反射膜上に
生じる欠陥を検査する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程
によって検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に基
づいてコーティング形成条件を算出し、該算出されたコ
ーティング形成条件に基づいて前記コーティング形成工
程における所定のコーティング形成条件を制御(調整も
含む。)するコーティング形成条件制御工程とを有する
ことを特徴とするディスプレイ装置の製造方法である。
また、本発明は、ディスプレイ装置を構成するパネルガ
ラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリッ
クスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成す
る螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で螢光体が形成
されたパネルガラスの表面である表示面に、コーティン
グ形成装置を用いて所定のコーティング形成条件により
低反射膜をコーティングして形成するコーティング形成
工程と、該コーティング形成工程によってディスプレイ
装置の表示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を光
学的に検査する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によっ
て検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいて
コーティング形成条件を算出し、該算出されたコーティ
ング形成条件に基づいて前記コーティング形成工程にお
ける所定のコーティング形成条件を制御(調整も含
む。)するコーティング形成条件制御工程とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ装置の製造方法である。
Further, according to the present invention, a phosphor matrix is formed by forming a black matrix on the back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. Forming a coating by coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low-reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions. A defect inspection step of inspecting a defect generated on the low reflection film formed on the display surface of the display device by the coating forming step; and a defect inspection step based on the information on the defect on the low reflection film inspected by the defect inspection step. To calculate the coating forming conditions, and based on the calculated coating forming conditions, a predetermined cost in the coating forming step. Controlling the coating formation conditions (adjustment including.) Is a manufacturing method of a display apparatus characterized by comprising a coating formation condition control step of.
The present invention also provides a phosphor forming step of forming a black matrix on the back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask, and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. A coating forming step of coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions; A defect inspection step of optically inspecting a defect generated on the low reflection film formed on the display surface of the display device by the coating formation step; and a defect inspection step based on information on the defect on the low reflection film inspected by the defect inspection step. To calculate the coating forming conditions, and based on the calculated coating forming conditions, a predetermined coating in the coating forming step. Is a manufacturing method of a display apparatus characterized by comprising a coating formation condition control step of controlling the ring forming conditions (adjustment including.).

【0008】また、本発明は、ディスプレイ装置を構成
するパネルガラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラ
ックマトリックスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢
光体を形成する螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で
螢光体が形成されたパネルガラスの表面である表示面
に、コーティング形成装置を用いて低反射膜をコーティ
ングして形成するコーティング形成工程と、該コーティ
ング形成工程によってディスプレイ装置の表示面に形成
された低反射膜上に生じる欠陥を検査し、この検査され
た低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいてコーティン
グ形成された低反射膜が不良であるか否かについて判定
する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって低反射膜
が不良と判定されたとき該低反射膜を表示面から除去
し、その表示面にコーティング形成装置を用いて低反射
膜を再コーティングして修正するコーティング修正工程
とを有することを特徴とするディスプレイ装置の製造方
法である。また、本発明は、ディスプレイ装置を構成す
るパネルガラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラッ
クマトリックスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢光
体を形成する螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で螢
光体が形成されたパネルガラスの表面である表示面に、
コーティング形成装置を用いて低反射膜をコーティング
して形成するコーティング形成工程と、該コーティング
形成工程によってディスプレイ装置の表示面に形成され
た低反射膜上に生じる欠陥を光学的に検査し、この検査
された低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいてコーテ
ィング形成された低反射膜が不良であるか否かについて
判定する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって低反
射膜が不良と判定されたとき該低反射膜を表示面から除
去し、その表示面にコーティング形成装置を用いて低反
射膜を再コーティングして修正するコーティング修正工
程とを有することを特徴とするディスプレイ装置の製造
方法である。
The present invention also provides a phosphor forming method in which a black matrix is formed on the back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask, and three color phosphors are applied to form a phosphor. A coating step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass, on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; and Inspect the defects generated on the low reflection film formed on the display surface of the display device by the process, and determine whether the low reflection film coated based on the inspected information on the defects on the low reflection film is defective. A low-reflection film is determined to be defective by the defect inspection step, the low-reflection film is removed from the display surface, and a coating is applied to the display surface. It is a manufacturing method of a display apparatus characterized by comprising a coating modifying step of modifying and re-coated with a low-reflection film using Ingu forming apparatus. The present invention also provides a phosphor forming step of forming a black matrix on the back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask, and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. On the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step,
A coating forming step of coating the low-reflection film using a coating forming apparatus, and optically inspecting a defect generated on the low-reflection film formed on the display surface of the display device by the coating forming step; A defect inspection step of determining whether the coated low reflection film is defective based on the information on the defect on the formed low reflection film, and when the low reflection film is determined to be defective by the defect inspection step. Removing the low-reflection film from the display surface, and recoating and correcting the low-reflection film on the display surface by using a coating forming apparatus.

【0009】また、本発明は、ディスプレイ装置を構成
するパネルガラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラ
ックマトリックスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢
光体を形成する螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で
螢光体が形成されたパネルガラスの表面である表示面
に、コーティング形成装置を用いて所定のコーティング
形成条件により低反射膜をコーティングして形成するコ
ーティング形成工程と、該コーティング形成工程によっ
てディスプレイ装置の表示面に形成された低反射膜部に
対して、可視光の波長範囲の内、所望の分光特性を有す
る波長の照明光を照射し、前記低反射膜上に発生した欠
陥部から得られる反射光を正常な低反射膜部からの反射
光と弁別できるように光電変換手段で受光して画像信号
に変換し、この変換された画像信号に基づいて低反射膜
上に発生した欠陥を検査する欠陥検査工程と、該欠陥検
査工程によって検査された低反射膜上の欠陥に関する情
報に基づいてコーティング形成条件を算出し、該算出さ
れたコーティング形成条件に基づいて前記コーティング
形成工程における所定のコーティング形成条件を制御
(調整も含む。)するコーティング形成条件制御工程と
を有することを特徴とするディスプレイ装置の製造方法
である。また、本発明は、ディスプレイ装置を構成する
パネルガラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラック
マトリックスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体
を形成する螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で螢光
体が形成されたパネルガラスの表面である表示面に、コ
ーティング形成装置を用いて低反射膜をコーティングし
て形成するコーティング形成工程と、該コーティング形
成工程によってディスプレイ装置の表示面に形成された
低反射膜部に対して、可視光の波長範囲の内、所望の分
光特性を有する波長の照明光を照射し、前記低反射膜上
に発生した欠陥部から得られる反射光を正常な低反射膜
部からの反射光と弁別できるように光電変換手段で受光
して画像信号に変換し、この変換された画像信号に基づ
いて低反射膜上に発生した欠陥を検査し、この検査され
た低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいてコーティン
グ形成された低反射膜が不良であるか否かについて判定
する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって低反射膜
が不良と判定されたとき該低反射膜を表示面から除去
し、その表示面にコーティング形成装置を用いて低反射
膜を再コーティングして修正するコーティング修正工程
とを有することを特徴とするディスプレイ装置の製造方
法である。
The present invention also provides a phosphor forming method in which a black matrix is formed on the back surface of a panel glass constituting a display device by using a shadow mask, and three color phosphors are applied to form a phosphor. Forming a coating by coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low-reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions. Irradiating the low-reflection film portion formed on the display surface of the display device by the coating forming step with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic within the wavelength range of visible light; The reflected light obtained from the defective portion generated on the film is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from the normal low reflection film portion. A defect inspection step of inspecting a defect generated on the low reflection film based on the obtained image signal, and calculating a coating forming condition based on information on the defect on the low reflection film inspected by the defect inspection step; A coating forming condition control step of controlling (including adjusting) predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions. The present invention also provides a phosphor forming step of forming a black matrix on the back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask, and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. A coating forming step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; The low-reflection film portion formed on the display surface of the device is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic within the wavelength range of visible light, and is obtained from a defect portion generated on the low-reflection film. The reflected light received by the photoelectric conversion means is converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from the normal low-reflection film portion, and generated on the low-reflection film based on the converted image signal. A defect inspection step of inspecting the defect and determining whether the coated low reflection film is defective based on the information on the defect on the inspected low reflection film; and a low reflection film by the defect inspection step. Removing the low-reflection film from the display surface when it is determined to be defective, and recoating and correcting the low-reflection film on the display surface using a coating forming apparatus. It is a manufacturing method of an apparatus.

【0010】また、本発明は、ディスプレイ装置を構成
するパネルガラスの裏面にシャドウマスクを用いてブラ
ックマトリックスを形成し、3色の螢光体を塗布して螢
光体を形成する螢光体形成工程と、該螢光体形成工程で
螢光体が形成されたパネルガラスの表面である表示面
に、コーティング形成装置を用いて所定のコーティング
形成条件により低反射膜をコーティングして形成するコ
ーティング形成工程と、該コーティング形成工程によっ
てディスプレイ装置の表示面に形成された低反射膜部に
対して所望の分光特性を有する波長の照明光を照射し、
前記低反射膜上に発生した欠陥部から得られる反射光を
正常な低反射膜部からの反射光と弁別できるように光電
変換手段で受光して画像信号に変換し、この変換された
画像信号から欠陥の特徴量を算出し、該算出された特徴
量に基づいて低反射膜上に発生した欠陥を検査する欠陥
検査工程と、該欠陥検査工程によって検査された低反射
膜上の欠陥に関する情報に基づいてコーティング形成条
件を算出し、該算出されたコーティング形成条件に基づ
いて前記コーティング形成工程における所定のコーティ
ング形成条件を制御(調整も含む。)するコーティング
形成条件制御工程とを有することを特徴とするディスプ
レイ装置の製造方法である。また、本発明は、ディスプ
レイ装置を構成するパネルガラスの裏面にシャドウマス
クを用いてブラックマトリックスを形成し、3色の螢光
体を塗布して螢光体を形成する螢光体形成工程と、該螢
光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの表面
である表示面に、コーティング形成装置を用いて低反射
膜をコーティングして形成するコーティング形成工程
と、該コーティング形成工程によってディスプレイ装置
の表示面に形成された低反射膜部に対して所望の分光特
性を有する波長の照明光を照射し、前記低反射膜上に発
生した欠陥部から得られる反射光を正常な低反射膜部か
らの反射光と弁別できるように光電変換手段で受光して
画像信号に変換し、この変換された画像信号から欠陥の
特徴量を算出し、該算出された特徴量に基づいてコーテ
ィング形成された低反射膜が不良であるか否かについて
判定する欠陥検査工程と、該欠陥検査工程によって低反
射膜が不良と判定されたとき該低反射膜を表示面から除
去し、その表示面にコーティング形成装置を用いて低反
射膜を再コーティングして修正するコーティング修正工
程とを有することを特徴とするディスプレイ装置の製造
方法である。
Further, according to the present invention, a phosphor matrix is formed by forming a black matrix on the back surface of a panel glass constituting a display device by using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. Forming a coating by coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low-reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions. Step, irradiating the low reflection film portion formed on the display surface of the display device by the coating forming step with illumination light having a wavelength having desired spectral characteristics,
The reflected light obtained from the defective portion generated on the low-reflection film is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from the normal low-reflection film portion. The converted image signal A defect inspection step of calculating a feature amount of the defect based on the calculated feature amount and inspecting a defect generated on the low reflection film based on the calculated feature amount; and information on the defect on the low reflection film inspected by the defect inspection step. A coating forming condition control step of calculating (including adjusting) predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions. Of the display device. The present invention also provides a phosphor forming step of forming a black matrix on the back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask, and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. A coating forming step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; The low-reflection film portion formed on the display surface of the device is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic, and reflected light obtained from a defect portion generated on the low-reflection film is returned to a normal low-reflection film. The light is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from the unit, and the feature amount of the defect is calculated from the converted image signal, based on the calculated feature amount. A defect inspection step of determining whether the formed low-reflection film is defective or not, and removing the low-reflection film from the display surface when the low-reflection film is determined to be defective by the defect inspection step; A coating correction step of recoating and correcting the low reflection film on the surface using a coating forming apparatus.

【0011】また、本発明は、ディスプレイ装置の表示
面に形成された低反射膜部に対して所望の分光特性を有
する波長の照明光を照射し、前記低反射膜上に発生した
欠陥部から得られる反射光を正常な低反射膜部からの反
射光と弁別できるように光電変換手段で受光して画像信
号に変換し、この変換された画像信号に基づいて低反射
膜上に発生した欠陥を検査することを特徴とするディス
プレイ装置の表示面への欠陥検査方法およびその装置で
ある。また、本発明は、ディスプレイ装置の表示面に形
成された低反射膜部に対して所望の分光特性を有する波
長の照明光を照射し、前記低反射膜上に発生した欠陥部
から得られる反射光を正常な低反射膜部からの反射光と
弁別できるように光電変換手段で受光して画像信号に変
換し、この変換された画像信号から欠陥の特徴量を算出
し、該算出された特徴量に基づいて低反射膜上に発生し
た欠陥を検査することを特徴とするディスプレイ装置の
表示面への欠陥検査方法およびその装置である。また、
本発明は、ディスプレイ装置の表示面におけるコーティ
ングの欠陥の自動検査を行い、その結果から得られる欠
陥の位置・面積・頻度の少なくとも一つの不良発生情報
を、コーティング形成装置のコーティング材組成、コー
ティング材量、パネル予熱温度、コーティング速度制御
の少なくとも一つのコーティング形成条件(動作条件)
に変換して、コーティング形成装置のコーティング形成
条件(動作条件)の設定値としてフィードバックし、コ
ーティング形成装置のコーティング形成条件をコーティ
ングにおける発生欠陥数を低減する目的の下で適正化す
ることにより、ディスプレイ装置においてコーティング
欠陥の面積・深さ・反射輝度の少なくとも一つの物理量
(特徴量)が視認可能なレベル以上の値を示すコーティ
ング欠陥発生を抑制することができることを特徴とする
ディスプレイ装置の表示面へのコーティング形成方法で
ある。
Further, the present invention irradiates low-reflection film portions formed on the display surface of a display device with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic, and removes the defect portions generated on the low-reflection films from the defective portions. The reflected light obtained is received by a photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from a normal low reflection film portion, and a defect generated on the low reflection film based on the converted image signal. And a device for inspecting a display surface of a display device for defects. In addition, the present invention irradiates the low reflection film portion formed on the display surface of the display device with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic, and reflects light obtained from a defect portion generated on the low reflection film. The light is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that the light can be distinguished from the light reflected from the normal low-reflection film portion, and the feature amount of the defect is calculated from the converted image signal. A method and apparatus for inspecting a display surface of a display device for inspecting a defect generated on a low reflection film based on an amount of the defect. Also,
The present invention performs an automatic inspection for coating defects on the display surface of a display device, and obtains at least one defect occurrence information of the position, area, and frequency of the defect obtained from the result. At least one coating formation condition (operating condition) of quantity, panel preheating temperature and coating speed control
The display is converted into a set value and fed back as the set value of the coating forming condition (operating condition) of the coating forming device, and the coating forming condition of the coating forming device is optimized for the purpose of reducing the number of defects generated in the coating. In the display device, it is possible to suppress the occurrence of a coating defect in which at least one physical quantity (feature amount) of the area, depth, and reflection luminance of the coating defect is equal to or more than a visible level. Is a method of forming a coating.

【0012】また、本発明は、ディスプレイ装置におい
てコーティング欠陥の面積・深さ・反射輝度の少なくと
も一つの物理量(特徴量)が視認可能なレベル以上の値
を示すコーティング欠陥が発生したとき、該ディスプレ
イ装置のコーティングを除去し、再度コーティング形成
を行って修正することを特徴とするディスプレイ装置の
表示面へのコーティング形成方法である。また、本発明
は、ディスプレイ装置の表示面におけるコーティングに
欠陥部反射光成分を強調する分光発光特性を持つ照明光
を照射し、表示面におけるコーティングからの反射光を
受光して画像信号に変換する欠陥検出系と、欠陥検出系
によって得られ、記憶された画像データから相対的に強
度が大きい部分を欠陥として弁別(識別)する処理系と
を具備することを特徴とするディスプレイ装置の表示面
への欠陥検査装置である。
Further, the present invention provides a display device, wherein a coating defect in which at least one physical quantity (feature quantity) of a coating defect has a value equal to or more than a visible level occurs in a display device. A method of forming a coating on a display surface of a display device, wherein the coating of the device is removed and the coating is formed again to correct the coating. Further, the present invention irradiates the coating on the display surface of the display device with illumination light having spectral emission characteristics that emphasizes the reflected light component of the defective portion, receives the reflected light from the coating on the display surface, and converts it into an image signal. A display device comprising: a defect detection system; and a processing system for discriminating (identifying) a portion having a relatively high intensity from the stored image data obtained by the defect detection system as a defect. Is a defect inspection apparatus.

【0013】以上説明したように、前記構成によれば、
ディスプレイ装置の表示面において、コーティング欠陥
の面積・深さ・反射輝度の少なくとも一つの物理量が視
認可能なレベル以上の値を示すコーティング欠陥の発生
を抑制することができ、その結果、ディスプレイ装置と
しての品質を向上させると共に歩留まり向上を図ること
ができる。また、前記構成によれば、ディスプレイ装置
の表示面にコーティングされた低反射膜上に生じた欠陥
を見逃しすることなく高信頼度で検査することができ、
その結果、ディスプレイ装置としての品質を向上させる
と共に歩留まり向上を図ることができる。
As described above, according to the above configuration,
On the display surface of the display device, it is possible to suppress the occurrence of a coating defect in which at least one physical quantity of the area, depth, and reflection luminance of the coating defect indicates a value equal to or higher than a visible level, and as a result, as a display device, The quality can be improved and the yield can be improved. Further, according to the configuration, it is possible to inspect with high reliability without overlooking a defect generated on the low reflection film coated on the display surface of the display device,
As a result, the quality of the display device can be improved, and the yield can be improved.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明に係るディスプレイ装置の
表示面コーティング形成方法並びに表示面コーティング
欠陥検査方法およびその装置の実施の形態について図を
用いて説明する。図1は、本発明に係るディスプレイ装
置の表示面の断面を示す。ディスプレイ装置の表示面で
あるパネルガラス3の全面には、ディスプレイ装置の使
用環境下において外光の映り込みを低減して、ディスプ
レイ表示の視認性を向上させるために、低反射膜1が
0.1μm〜20μm程度の厚さでコーティング形成さ
れる。また、パネルガラス3のコーティング面の反対側
には、ブラックマトリクス黒鉛4と蛍光体5により蛍光
表示面が形成されている。ところで、ディスプレイ装置
の表示面であるパネルガラス3の全面に、低反射膜1を
コーティング塗布する際、コーティング材組成および量
の不適切、粒子状の異物の混入、パネル予熱温度の不適
切、およびコーティング速度の不適切などの原因で、図
1に示すように、低反射膜1上に視認可能なレベル以上
のさまざまな欠陥2が生じることになる。視認(視覚認
識)可能なレベル以上の欠陥2としては、さまざまな分
布、さまざまな大きさ、および粒子状の異物2aの付着
等による相違した明るさを有することになる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a display surface coating forming method, a display surface coating defect inspection method and a display device according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cross section of a display surface of a display device according to the present invention. On the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface of the display device, a low-reflection film 1 is used to reduce the reflection of external light in the use environment of the display device and improve the visibility of the display display. The coating is formed with a thickness of about 1 μm to 20 μm. On the opposite side of the coating surface of the panel glass 3, a fluorescent display surface is formed by the black matrix graphite 4 and the phosphor 5. By the way, when coating the low reflection film 1 on the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface of the display device, the coating material composition and amount are inappropriate, particulate foreign matter is mixed, the panel preheating temperature is inappropriate, and As shown in FIG. 1, various defects 2 on the low-reflection film 1 that are higher than a visible level occur due to an inappropriate coating speed or the like. The defect 2 having a level equal to or higher than the level that can be visually recognized (visually recognized) has various distributions, various sizes, and different brightness due to the attachment of the particulate foreign matter 2a.

【0015】そこで、本発明は、まず、ディスプレイ装
置の表示面であるパネルガラス3の全面に、低反射膜1
をコーティング塗布した際、発生した視認可能なレベル
以上の欠陥2を検査し、この検査結果をコーティング形
成装置にフィードバックしてコーティング形成条件(コ
ーティング材組成および量、粒子状の異物の混入防止、
パネル予熱温度、およびコーティング速度)を制御する
ことにより視認可能なレベル以上の欠陥2の発生を防止
する。また、本発明は、まず、ディスプレイ装置の表示
面であるパネルガラス3の全面に、低反射膜1をコーテ
ィング塗布した際、発生した視認可能なレベル以上の欠
陥2を検査し、この検査結果に基づく視認可能なレベル
以上の欠陥2が発生した不良品については低反射膜1を
パネルガラス3の全面から剥離し、再コーティングする
ことによって良品にすることにある。次に、本発明に係
るディスプレイ装置の表示面であるパネルガラス3の全
面に、低反射膜1をコーティング塗布した際、発生した
視認可能なレベル以上の欠陥2の検査について説明す
る。図2は、欠陥部からの反射光を膜正常部からの反射
光と弁別させてパネルガラス面にコーティングされた低
反射膜1上に発生した欠陥を光学的に検出する欠陥検査
の原理を示す図である。長λの関数A(λ)の分光特性を
有する照明光を、低反射膜1をコーティングされたディ
スプレイ装置の表示面に照射するものとする。この照明
光A(λ)に対する表示面の各部位からの反射光は、次に
説明するようになる。欠陥部2はパネルガラス面が露出
又は露出に近い状態になることからして、欠陥部2にお
ける反射光(主として正反射光)は、パネルガラス3か
らの反射光(主として正反射光)D(λ)と蛍光表示面か
らの反射光(主として正反射光)を足し合わせたものに
近いものとなる。一方、膜正常部における反射光(主と
して正反射光)は、膜正常部の反射光(主として正反射
光)N(λ)と蛍光表示面からの反射光(主として正反射
光)を足し合わせたものとなる。蛍光表示面からの反射
光(主として正反射光)は、蛍光体励起光Pe(λ)と蛍
光体からの反射光(主として正反射光)Pr(λ)の和で
あり、コーティング面ではパネルガラス3の透過率分だ
け減衰する。
Therefore, the present invention first provides a low reflection film 1 on the entire surface of a panel glass 3 which is a display surface of a display device.
Is inspected for defects 2 which are generated at a level higher than a visible level when coating is applied, and the inspection result is fed back to a coating forming apparatus to form coating conditions (coating material composition and amount, prevention of mixing of particulate foreign matter,
By controlling the panel preheating temperature and the coating speed), the occurrence of defects 2 above a visible level is prevented. Further, according to the present invention, first, when the low reflection film 1 is coated and applied on the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface of the display device, the defects 2 which are generated at a visible level or higher are inspected. A defective product having a defect 2 that is higher than a visible level based on the defect is to remove the low reflection film 1 from the entire surface of the panel glass 3 and re-coat it to obtain a good product. Next, a description will be given of an inspection of a defect 2 having a visible level or higher that is generated when the low reflection film 1 is coated on the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface of the display device according to the present invention. FIG. 2 shows the principle of a defect inspection for discriminating reflected light from a defective portion from reflected light from a normal film portion and optically detecting a defect generated on the low reflection film 1 coated on the panel glass surface. FIG. It is assumed that the illumination light having the spectral characteristic of the function A (λ) having the length λ is applied to the display surface of the display device coated with the low reflection film 1. The reflected light from each part of the display surface with respect to the illumination light A (λ) will be described below. Since the defective portion 2 has a state in which the panel glass surface is exposed or nearly exposed, the reflected light (mainly specularly reflected light) at the defective portion 2 is reflected light (mainly specularly reflected light) D ( λ) and light reflected from the fluorescent display surface (mainly specularly reflected light). On the other hand, the reflected light (mainly specularly reflected light) in the normal portion of the film is the sum of the reflected light (mainly specularly reflected light) N (λ) of the normal portion of the film and the reflected light (mainly specularly reflected light) from the fluorescent display surface. It will be. The reflected light (mainly specularly reflected light) from the fluorescent display surface is the sum of the phosphor excitation light Pe (λ) and the reflected light (mainly specularly reflected light) Pr (λ) from the phosphor. 3 is attenuated by the transmittance.

【0016】ところで、前述したように、パネルガラス
面にコーティングされた低反射膜1は、外光の映り込み
を低減するために、ガラス面に比べて低い反射率の特性
を有することから、欠陥部からの反射光は膜正常部から
の反射光よりも強くなり、弁別することが可能となる。
即ち、本発明ではこの特性を利用して欠陥部の検出を行
う。特に、膜正常部からの反射光に対する欠陥部からの
反射光の弁別比を大きくさせて欠陥検出の感度を向上さ
せるには、蛍光面からの励起・反射成分が低減され、膜
正常部からの反射成分が低減される分光強度特性A(λ)
を有する照明光にすればよい。即ち、センサ出力におけ
る膜正常部反射成分に対する欠陥部反射成分の比をでき
るだけ大きくする分光強度特性A(λ)を有する照明光に
すればよい。分子の欠陥部反射成分は、次に示す(数
1)式の関係を有する。 ∫[D(λ)+T(λ){Pe(λ)+Pr(λ)}]C(λ)dλ (数1) 分母の膜正常部反射成分は、次に示す(数2)式の関係
を有する。
As described above, the low-reflection film 1 coated on the panel glass surface has a lower reflectance characteristic than the glass surface in order to reduce reflection of external light. The reflected light from the part becomes stronger than the reflected light from the normal part of the film, and can be discriminated.
That is, in the present invention, a defective portion is detected using this characteristic. In particular, in order to increase the discrimination ratio of the reflected light from the defective portion to the reflected light from the normal portion of the film and improve the sensitivity of defect detection, the excitation and reflection components from the phosphor screen are reduced, and the Spectral intensity characteristic A (λ) in which the reflection component is reduced
May be used as the illumination light. That is, illumination light having a spectral intensity characteristic A (λ) that maximizes the ratio of the defective component reflection component to the normal film reflection component in the sensor output may be used. The reflection component of the defective part of the molecule is shown below (number
1) It has the relationship of the formula. ∫ [D (λ) + T (λ) {Pe (λ) + Pr (λ)}] C (λ) dλ (Equation 1) The normal component reflection component of the denominator is expressed by the following equation (2). Have.

【0017】 ∫[N(λ)+T'(λ){Pe(λ)+Pr(λ)}]C(λ)dλ<∫[N(λ)+T(λ) {Pe(λ)+Pr(λ)}]C(λ)dλ (数2) ただし、T(λ)はパネルガラス3の分光透過率、T'
(λ)はパネルガラス3および低反射膜1の分光透過率で
ある。C(λ)は、撮像系(センサ系)の分光感度特性を
示す。
∫ [N (λ) + T ′ (λ) {Pe (λ) + Pr (λ)}] C (λ) dλ <∫ [N (λ) + T (λ) {Pe (λ) + Pr (λ) }] C (λ) dλ (Equation 2) where T (λ) is the spectral transmittance of panel glass 3 and T ′
(λ) is the spectral transmittance of the panel glass 3 and the low reflection film 1. C (λ) indicates the spectral sensitivity characteristic of the imaging system (sensor system).

【0018】照明光の分光強度をA(λ)としたとき、欠
陥部反射光D(λ)は次に示す(数3)式の関係となり、
膜正常部反射光N(λ)は次に示す(数4)式の関係とな
り、蛍光体反射光Pr(λ)は次に示す(数5)式の関係
となり、蛍光体励起成分Pe(λ)は次に示す(数6)式
の関係となる。 D(λ)≒αA(λ) (数3) N(λ)=R(λ)A(λ) (数4) Pr(λ)=T(λ)A(λ) (数5) Pe(λ)=f(A(λ)) (数6) ただし、R(λ)は、低反射膜1の分光反射率である。と
ころで、センサ出力における膜正常部反射成分に対する
欠陥部反射成分の比をできるだけ大きくするのには、蛍
光面からの励起・反射成分(∫T(λ){Pe(λ)+Pr
(λ)}C(λ)dλ)の低減と、膜正常部からの反射成分
(∫N(λ)C(λ)dλ)の低減とが図れる分光強度特
性A(λ)を有する照明光にすればよい。∫T(λ){Pe
(λ)+Pr(λ)}C(λ)dλにおいて、Pe(λ)はPr
(λ)に比べて無視することができることから、∫T(λ)
{Pe(λ)+Pr(λ)}C(λ)dλは上記(数5)式の関
係から∫T2(λ)A(λ)C(λ)dλで近似できる。ま
た、∫N(λ)C(λ)dλは、上記(数4)式の関係から
∫R(λ)A(λ)C(λ)dλで表すことができる。
Assuming that the spectral intensity of the illumination light is A (λ), the reflected light D (λ) of the defective portion has the following equation (3).
The film normal portion reflected light N (λ) has the relationship of the following (Equation 4), and the phosphor reflected light Pr (λ) has the relationship of the following (Equation 5), and the phosphor excitation component Pe (λ) ) Has the relationship of the following (Equation 6). D (λ) ≒ αA (λ) (Equation 3) N (λ) = R (λ) A (λ) (Equation 4) Pr (λ) = T (λ) A (λ) (Equation 5) Pe (λ) ) = F (A (λ)) (Equation 6) where R (λ) is the spectral reflectance of the low reflection film 1. By the way, in order to increase the ratio of the reflection component of the defective portion to the reflection component of the normal portion in the sensor output as much as possible, the excitation / reflection component (成分 T (λ) {Pe (λ) + Pr)
(λ)} C (λ) dλ) and the reflection light (分光 N (λ) C (λ) dλ) from the normal part of the film can be reduced to the illumination light having the spectral intensity characteristic A (λ). do it. ∫T (λ) {Pe
(λ) + Pr (λ)} C (λ) dλ, Pe (λ) is Pr
λT (λ)
{Pe (λ) + Pr (λ)} C (λ) dλ can be approximated by ΔT 2 (λ) A (λ) C (λ) dλ from the relationship of the above equation (5). Further, ∫N (λ) C (λ) dλ can be represented by ∫R (λ) A (λ) C (λ) dλ from the relationship of the above equation (4).

【0019】これら2条件の関係から、パネルガラス3
の分光透過率T(λ)が低く、低反射膜1の分光反射率R
(λ)が低い分光強度特性A(λ)を有する照明光にすれば
よいことになる。特に、可視光の波長(λ)の範囲にお
いて、波長(λ)に応じてパネルガラス3の分光透過率
T(λ)および低反射膜1の分光反射率R(λ)が異なるよ
うに変化することになる。従って、パネルガラス3の分
光透過率T(λ)と低反射膜1の分光反射率R(λ)とが共
に低くなる分光強度特性A(λ)を有する照明光にすれば
よいことになる。分光強度特性A(λ)の内、パネルガラ
ス3の分光透過率T(λ)と低反射膜1の分光反射率R
(λ)とを共に低くするのは、照明光の波長(λ)、即ち
分光特性に依存することになる。
From the relationship between these two conditions, the panel glass 3
Has a low spectral transmittance T (λ), and the spectral reflectance R of the low reflection film 1 is low.
It suffices to use illumination light having a spectral intensity characteristic A (λ) with a low (λ). In particular, in the range of the wavelength (λ) of visible light, the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3 and the spectral reflectance R (λ) of the low-reflection film 1 vary depending on the wavelength (λ). Will be. Therefore, it is sufficient to use illumination light having a spectral intensity characteristic A (λ) in which the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3 and the spectral reflectance R (λ) of the low reflection film 1 are both low. Among the spectral intensity characteristics A (λ), the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3 and the spectral reflectance R of the low reflection film 1
Decreasing both (λ) depends on the wavelength (λ) of the illumination light, that is, the spectral characteristics.

【0020】次に、本発明に係るコーティング欠陥検査
方法およびその装置の実施の形態について、図3、図
4、および図5を用いて説明する。図3は、本発明に係
るコーティング欠陥検査方法およびその装置の第1の実
施例を示す図である。ディスプレイ装置の表示面8であ
るパネルガラス3の全面にコーティングされた低反射膜
1を有する被検査対象8に対して、検出光学系10をコ
ーティング面に近接して配置する。検出光学系10は、
照明光学系11a、撮像光学系21bから構成される。
照明光学系11aは、蛍光灯12と反射板13と蛍光灯
12からの照明強度むらを低減するための拡散板14と
欠陥部反射光成分を強調するために分光強度特性A(λ)
を有するフィルタ15とによって構成され、パネルガラ
ス3の分光透過率T(λ)が低く、低反射膜1の分光反射
率R(λ)が低い分光強度特性A(λ)を有する照明光が一
様な強度分布で被検査対象8に対して照明されるように
構成される。照明光学系11aは、被検査対象8に対し
て一様な強度分布で照明するように例えば拡散板14に
よる拡散照明が用いられる。拡散板14は、この面にお
いて二次の多数の点光源を形成するためのものである。
蛍光灯12の背面(上面)には、照明効率向上のために
例えばアルミ箔などの反射板13を設けている。前面
(下面)には、照明強度むらを低減するために例えば拡
散板14と欠陥部反射光成分を強調するためのフィルタ
15を設置する。拡散板14とフィルタ15の上下の位
置関係は図と逆であっても構わない。蛍光灯12の分光
発光特性をL(λ)、フィルタ15の分光透過率特性をF
(λ)とすると、パネルガラス3の分光透過率T(λ)が低
く、低反射膜1の分光反射率R(λ)が低い分光強度特性
A(λ)=L(λ)・F(λ)を有する照明光が得られる。こ
のように、照明光学系11aとして、分光発光特性L
(λ)を有する蛍光灯12と分光透過率特性F(λ)を有す
るフィルタ15とで構成する必要はなく、パネルガラス
3の分光透過率T(λ)が低く、低反射膜1の分光反射率
R(λ)が低い分光強度特性A(λ)を有し、一様な強度分
布で被検査対象(デイスプレイ装置の表示面)8に対し
て照明される照明光が出射されればよい。
Next, an embodiment of a coating defect inspection method and apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 3, 4, and 5. FIG. FIG. 3 is a diagram showing a first embodiment of a coating defect inspection method and apparatus according to the present invention. The detection optical system 10 is arranged close to the coating surface of the inspection target 8 having the low reflection film 1 coated on the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface 8 of the display device. The detection optical system 10 includes:
It comprises an illumination optical system 11a and an imaging optical system 21b.
The illumination optical system 11 a includes a fluorescent lamp 12, a reflector 13, a diffuser 14 for reducing illumination intensity unevenness from the fluorescent lamp 12, and a spectral intensity characteristic A (λ) for enhancing defective part reflected light components.
Illuminating light having a spectral intensity characteristic A (λ) in which the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3 is low and the spectral reflectance R (λ) of the low reflection film 1 is low. The inspection target 8 is configured to be illuminated with such an intensity distribution. The illumination optical system 11a uses, for example, diffusion illumination by the diffusion plate 14 so as to illuminate the inspection target 8 with a uniform intensity distribution. The diffusion plate 14 is for forming a large number of secondary point light sources on this surface.
On the back (upper surface) of the fluorescent lamp 12, a reflector 13 such as an aluminum foil is provided for improving the illumination efficiency. On the front surface (lower surface), for example, a diffusion plate 14 and a filter 15 for enhancing a defective portion reflected light component are installed in order to reduce illumination intensity unevenness. The vertical positional relationship between the diffusion plate 14 and the filter 15 may be opposite to that shown in the drawing. The spectral emission characteristic of the fluorescent lamp 12 is L (λ), and the spectral transmittance characteristic of the filter 15 is F
(λ), the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3 is low, and the spectral reflectance R (λ) of the low reflection film 1 is low. Spectral intensity characteristics A (λ) = L (λ) · F (λ) ) Is obtained. Thus, as the illumination optical system 11a, the spectral emission characteristics L
It is not necessary to include the fluorescent lamp 12 having (λ) and the filter 15 having spectral transmittance characteristics F (λ). The spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3 is low, and the spectral reflection of the low reflection film 1 is low. It is sufficient that the illumination light irradiating the inspection object (display surface of the display device) 8 has a spectral intensity characteristic A (λ) with a low ratio R (λ) and a uniform intensity distribution.

【0021】そして、撮像光学系21aは、被検査対象
8のコーティング面からの強調された欠陥部反射光D
(λ)を反射させるハーフミラー22aと該ハーフミラ
ー22aで反射された強調された欠陥部反射光D(λ)
を受光して画像信号を出力する低倍率(縮小系)の結像
光学系を有するTVカメラやCCDセンサ等から構成さ
れたエリアセンサ24aとから構成される。なお、撮像
光学系21aには、被検査対象8のコーティング面から
の強調された欠陥部反射光D(λ)を集光させてエリア
センサ24aの受光面に結像させるNA(Numerical Ape
rture)の大きな集光レンズを備え付けてもよい。NAの
大きな集光レンズを用いるとコーティング面からのより
多くの反射光を集光させてエリアセンサ24aの受光面
で受光することが可能となる。従って、照明光学系11
aからの拡散照明光は、ハーフミラー22aを介して被
検査対象8のコーティング面に照射され、コーティング
面からの反射光は、ハーフミラー22aにより90度方
向を変えて撮像光学系21のエリアセンサ24aに捉え
られる。エリアセンサ24aの分光感度特性をC(λ)と
する。
Then, the imaging optical system 21a outputs the emphasized defective portion reflected light D from the coating surface of the object 8 to be inspected.
The half mirror 22a that reflects (λ) and the emphasized defective portion reflected light D (λ) reflected by the half mirror 22a
And an area sensor 24a composed of a TV camera, a CCD sensor, or the like having a low magnification (reduction system) imaging optical system for receiving an image signal and outputting an image signal. The imaging optical system 21a condenses the reflected light D (λ) from the coating surface of the inspection target 8 and focuses it on the light receiving surface of the area sensor 24a to form an NA (Numerical Ape).
rture) may be provided. When a condensing lens having a large NA is used, more reflected light from the coating surface can be collected and received by the light receiving surface of the area sensor 24a. Therefore, the illumination optical system 11
The diffused illumination light from “a” is applied to the coating surface of the inspection target 8 via the half mirror 22 a, and the reflected light from the coating surface is turned by 90 degrees by the half mirror 22 a to change the direction of the area sensor of the imaging optical system 21. 24a. Let the spectral sensitivity characteristic of the area sensor 24a be C (λ).

【0022】照明光学系11aにおける蛍光灯12の駆
動は、高周波駆動回路17から供給される駆動信号16
による。高周波駆動を用いるのは、エリアセンサ24a
で撮像した検査画像の明るさが撮像タイミングにより変
動することを防ぐことを目的としている。例えば、照明
光学系11aにおける蛍光灯12の駆動周期をエリアセ
ンサ24aの露光時間の約1/10以下にする。エリア
センサ24aからの画像信号25は、画像処理装置26
に入力される。後述する検出アルゴリズムを内蔵する画
像処理装置26は、図15および図16に示すように、
エリアセンサ24aから得られる欠陥部2によるパネル
ガラス3からの反射光(主として正反射光)D(λ)を強
調した画像信号25に基づき、即ち、欠陥部からの反射
光が強い性質に基づき、欠陥検出を行う。即ち、図15
(b)および図16(b)には、図15(a)および図
16(a)に示す如く低反射膜1上に生じた欠陥2(図
16(a)に場合は、粒子状の異物2aが付着した欠陥
2を示す。)も含めて低反射膜1から得られる反射光を
エリアセンサ24aが受光して変換されるディジタル画
像信号25の波形を示す。粒子状の異物2aが付着した
欠陥2の場合には、画像信号25において欠陥部の輪郭
について大きな変化が生じることにより、例えば画像信
号25を微分処理することによって欠陥部の輪郭を抽出
することが可能となり、欠陥検出を行なうことができ
る。
The driving of the fluorescent lamp 12 in the illumination optical system 11a is performed by a driving signal 16 supplied from a high-frequency driving circuit 17.
by. The area sensor 24a uses high-frequency driving.
The purpose of the present invention is to prevent the brightness of the inspection image picked up by the above from fluctuating due to the image pickup timing. For example, the driving cycle of the fluorescent lamp 12 in the illumination optical system 11a is set to about 1/10 or less of the exposure time of the area sensor 24a. The image signal 25 from the area sensor 24a is
Is input to The image processing device 26 incorporating a detection algorithm described later, as shown in FIGS.
Based on the image signal 25 in which the reflected light (mainly specularly reflected light) D (λ) from the panel glass 3 by the defective portion 2 obtained from the area sensor 24a is emphasized, that is, based on the property that the reflected light from the defective portion is strong, Perform defect detection. That is, FIG.
(B) and FIG. 16 (b) show the defect 2 generated on the low reflection film 1 as shown in FIG. 15 (a) and FIG. 16 (a) (in the case of FIG. 2A shows a defect 2 to which an attached area 2a is attached), and shows a waveform of a digital image signal 25 converted by receiving the reflected light obtained from the low reflection film 1 by the area sensor 24a. In the case of the defect 2 to which the particulate foreign matter 2a is attached, a large change occurs in the outline of the defective portion in the image signal 25. For example, it is possible to extract the outline of the defective portion by differentiating the image signal 25. This makes it possible to perform defect detection.

【0023】図3に示す第1の実施例おいては、コーテ
ィング面全面を一括検査できないため、被検査対象8
を、ステージ等の移動制御機構(図示せず)により、検
出光学系10に対して相対的に図示の方向に移動させて
図7に示すように分割検査する。コーティング面が平面
ではない場合、検出系回転軸23を中心に検出光学系1
0全体をコーティング面の法線方向に合わせて姿勢制御
機構(図示せず)により微回転させて姿勢制御するとと
もに、検出光学系10全体を図示の方向に上下制御機構
(図示せず)により上下動させることにより、分割検査
位置ごとにコーティング面に対する検出光学系10の相
対的な位置・姿勢を一定範囲内に保つようにする。
In the first embodiment shown in FIG. 3, since the entire coating surface cannot be inspected at once,
Is moved relative to the detection optical system 10 in the illustrated direction by a movement control mechanism (not shown) such as a stage, and divided and inspected as shown in FIG. When the coating surface is not flat, the detection optical system 1
The entire optical system 10 is finely rotated by an attitude control mechanism (not shown) in accordance with the normal direction of the coating surface to control the attitude. By moving, the relative position / posture of the detection optical system 10 with respect to the coating surface for each divided inspection position is kept within a certain range.

【0024】図4は、本発明に係るコーティング欠陥検
査方法およびその装置の第2の実施例を示す図である。
この第2の実施例において、図3に示す第1の実施例と
相違する点は照明光学系11bである。この照明光学系
11bは、光源31から出射された分光発光特性L
‘(λ)を有する光を、分光透過率特性F(λ)を有するフ
ィルタ15を通してパネルガラス3の分光透過率T(λ)
が低く、低反射膜1の分光反射率R(λ)が低い分光強度
特性A(λ)=L’(λ)・F(λ)を有する照明光に変換さ
れてファイバなどのイメージガイド33を介してアクリ
ルなどによる導光板34に供給されるように構成され
る。光源31の分光発光特性をL‘(λ)、フィルタ15
の分光透過率特性をF(λ)とするとすると、導光板34
に供給される照明光として、パネルガラス3の分光透過
率T(λ)が低く、低反射膜1の分光反射率R(λ)が低い
分光強度特性A(λ)が得られる。更に、導光板19の前
面(下面)には拡散板8を設置し、図3に示す第1の実
施例と同様に照明光学系11bとして、拡散照明系を形
成する。フィルタ15を光源31の前面ではなく、図3
に示す第1の実施例のように導光板34の前面あるいは
背面にフィルタ15を配置しても構わない。図4に示す
第2の実施例においても、図3と同様にコーティング面
全面を一括検査できないため、被検査対象8を、ステー
ジ等の移動制御機構(図示せず)により、検出光学系1
0に対して相対的に図示の方向に移動させて図7に示す
ように分割検査する。コーティング面が平面ではない場
合、コーティング面が平面ではない場合、検出系回転軸
23を中心に検出光学系10全体をコーティング面の法
線方向に合わせて姿勢制御機構(図示せず)により微回
転させて姿勢制御するとともに、検出光学系10全体を
図示の方向に上下制御機構(図示せず)により上下動さ
せることにより、分割検査位置ごとにコーティング面に
対する検出光学系10の相対的な位置・姿勢を一定範囲
内に保つようにする。
FIG. 4 is a view showing a second embodiment of the coating defect inspection method and apparatus according to the present invention.
The second embodiment differs from the first embodiment shown in FIG. 3 in the illumination optical system 11b. The illumination optical system 11b has a spectral emission characteristic L emitted from the light source 31.
The light having '(λ) passes through the filter 15 having the spectral transmittance characteristic F (λ) and the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3.
Is low, the spectral reflectance R (λ) of the low-reflection film 1 is low, and the spectral reflectance R (λ) is converted into illumination light having a spectral intensity characteristic A (λ) = L ′ (λ) · F (λ). It is configured to be supplied to a light guide plate 34 made of acrylic or the like via the light guide plate 34. The spectral emission characteristic of the light source 31 is L ′ (λ),
Is assumed to be F (λ), the light guide plate 34
As a result, the spectral intensity characteristic A (λ) of the panel glass 3 having a low spectral transmittance T (λ) and the low reflection film 1 having a low spectral reflectance R (λ) can be obtained. Further, a diffusion plate 8 is provided on the front surface (lower surface) of the light guide plate 19, and a diffusion illumination system is formed as the illumination optical system 11b as in the first embodiment shown in FIG. The filter 15 is not provided in front of the light source 31 but in FIG.
The filter 15 may be arranged on the front or back of the light guide plate 34 as in the first embodiment shown in FIG. Also in the second embodiment shown in FIG. 4, since the entire coating surface cannot be inspected at once as in FIG. 3, the object 8 to be inspected is moved by a movement control mechanism (not shown) such as a stage.
It is moved relative to 0 in the direction shown in the figure to perform a division inspection as shown in FIG. When the coating surface is not flat or when the coating surface is not flat, the entire detection optical system 10 is finely rotated around the detection system rotation axis 23 by a posture control mechanism (not shown) in the normal direction of the coating surface. The position of the detection optical system 10 is moved up and down by an up / down control mechanism (not shown) in the direction shown in the drawing, thereby controlling the relative position and position of the detection optical system 10 with respect to the coating surface for each divided inspection position. Keep your posture within a certain range.

【0025】図5は、本発明に係るコーティング欠陥検
査方法およびその装置の第3の実施例を示す図である。
この第3の実施例において、図3に示す第1の実施例と
相違する点は、照明光学系11cと撮像光学系21bで
ある。照明光学系11cは、スリット光源36と欠陥部
反射光成分を強調するために分光強度特性A(λ)を有す
るフィルタ15とミラー35とで構成され、パネルガラ
ス3の分光透過率T(λ)が低く、低反射膜1の分光反射
率R(λ)が低い分光強度特性A(λ)を有するスリット照
明光が一様な強度分布で被検査対象8に対して照明され
るように構成される。即ち、スリット光源36からスリ
ット照明光がフィルタ15を通してミラー35に供給さ
れる。ミラー35は、供給されたスリット照明光を反射
させて、ハーフミラー22b越しにコーティング面に照
射する。スリット光源36の分光発光特性をL“(λ)、
フィルタ15の分光透過率特性をF(λ)とする。撮像光
学系21bには、分光感度特性C(λ)のラインセンサ2
4bを用いる。ラインセンサ24bの撮像視野はスリッ
ト照明光が照射されている部分と一致するように、照明
光学系11c、撮像光学系21b、ハーフミラー22b
の相互の位置関係を設定する。
FIG. 5 is a view showing a third embodiment of the coating defect inspection method and apparatus according to the present invention.
The third embodiment differs from the first embodiment shown in FIG. 3 in the illumination optical system 11c and the imaging optical system 21b. The illumination optical system 11c includes a slit light source 36, a filter 15 having a spectral intensity characteristic A (λ) for enhancing the reflected light component of the defective portion, and a mirror 35, and the spectral transmittance T (λ) of the panel glass 3. And the slit illumination light having the spectral intensity characteristic A (λ) having a low spectral reflectance R (λ) of the low-reflection film 1 is illuminated to the inspection object 8 with a uniform intensity distribution. You. That is, slit illumination light is supplied from the slit light source 36 to the mirror 35 through the filter 15. The mirror 35 reflects the supplied slit illumination light and irradiates the coating surface through the half mirror 22b. Spectral emission characteristics of the slit light source 36 are represented by L “(λ),
Let the spectral transmittance characteristic of the filter 15 be F (λ). The imaging optical system 21b includes a line sensor 2 having a spectral sensitivity characteristic C (λ).
4b is used. The illumination optical system 11c, the imaging optical system 21b, and the half mirror 22b are arranged so that the imaging field of view of the line sensor 24b coincides with the portion irradiated with the slit illumination light.
Set the mutual positional relationship between.

【0026】図5に示す第3の実施例においても、図3
に示す第1の実施例と同様にコーティング面全面を一括
検査できないため、被検査対象8を、ステージ等の移動
制御機構(図示せず)により、検出光学系10に対して
相対的に図示の方向に移動させて図7に示すように分割
検査する。コーティング面が平面ではない場合、コーテ
ィング面が平面ではない場合、検出系回転軸23を中心
に検出光学系10全体をコーティング面の法線方向に合
わせて姿勢制御機構(図示せず)により微回転させて姿
勢制御するとともに、検出光学系10全体を図示の方向
に上下制御機構(図示せず)により上下動させることに
より、分割検査位置ごとにコーティング面に対する検出
光学系10の相対的な位置・姿勢を一定範囲内に保つよ
うにする。
In the third embodiment shown in FIG.
Since the entire coating surface cannot be inspected at once as in the first embodiment shown in FIG. 1, the inspection object 8 is moved relative to the detection optical system 10 by a movement control mechanism (not shown) such as a stage. The inspection is carried out in the direction shown in FIG. When the coating surface is not flat or when the coating surface is not flat, the entire detection optical system 10 is finely rotated around the detection system rotation axis 23 by a posture control mechanism (not shown) in the normal direction of the coating surface. The position of the detection optical system 10 is moved up and down by an up / down control mechanism (not shown) in the direction shown in the drawing, thereby controlling the relative position and position of the detection optical system 10 with respect to the coating surface for each divided inspection position. Keep your posture within a certain range.

【0027】図6は、ディスプレイ装置の表示面である
パネルガラス3の全面にコーティングされた低反射膜1
を有する被検査対象8の全面を一括検査する第4の実施
例を示した図である。図6(a)は、第4の実施例にお
いて、ディスプレイ装置の表示面8を示した正面図、図
6(b)は、図6(a)の側面図である。この第4の実
施例の場合、検出光学系10を構成する照明光学系11
において、パネルガラス3の分光透過率T(λ)が低く、
低反射膜1の分光反射率R(λ)が低い分光強度特性A
(λ)を有する照明光を、低反射膜1を有する被検査対象
8の全面に対して一度に照明する必要が有り、更に検出
光学系10を構成する撮像光学系21において、低反射
膜1を有する被検査対象8の全面から強調された欠陥部
反射光D(λ)を集光レンズ(図示せず)で集光させて
エリアセンサ24の受光面に結像させる必要がある。
FIG. 6 shows a low reflection film 1 coated on the entire surface of a panel glass 3 which is a display surface of a display device.
FIG. 13 is a diagram showing a fourth embodiment in which the entire surface of the inspection target 8 having the above is inspected collectively. FIG. 6A is a front view showing the display surface 8 of the display device in the fourth embodiment, and FIG. 6B is a side view of FIG. 6A. In the case of the fourth embodiment, the illumination optical system 11 constituting the detection optical system 10
, The panel glass 3 has a low spectral transmittance T (λ),
Spectral intensity characteristic A where the spectral reflectance R (λ) of the low reflection film 1 is low.
It is necessary to illuminate the entire surface of the inspection object 8 having the low reflection film 1 with the illumination light having (λ) at a time, and further, in the imaging optical system 21 constituting the detection optical system 10, the low reflection film 1 It is necessary to condense the defective part reflected light D (λ) from the entire surface of the inspection object 8 having the above-mentioned condition by a condenser lens (not shown) and form an image on the light receiving surface of the area sensor 24.

【0028】図6においては、被検査領域41がディス
プレイ装置の表示面8の全面であるため、検出光学系1
0、被検査対象8を移動させる必要はないが、コーティ
ング面が平面ではない場合、被検査領域41全域で撮像
光学系21の焦点を合わせるために照明光学系11の高
輝度化と焦点深度を深くして合焦状態が得られるように
撮像光学系21の絞り込みが必要となる。図7は、ディ
スプレイ装置の表示面であるパネルガラス3の全面にコ
ーティングされた低反射膜1を有する被検査対象8の全
面を分割検査する第5の実施例を示した図である。図7
(a)は、第5の実施例において、ディスプレイ装置の
表示面8を示した正面図、図7(b)は、図7(a)の
側面図である。この第5の実施例においては、被検査領
域42はディスプレイ装置の表示面の一部であるため、
図3〜図5に示す第1〜第3実施例で説明したように検
出光学系10、被検査対象8を適宜移動させる必要があ
る。被検査対象8の移動方法と撮像光学系21の撮像タ
イミングは、定速移動しながら撮像する方法と、加速、
減速、停止後に撮像する方法がある。前者の場合、エリ
アセンサ24aでは電子シャッタなどによる露光時間の
制御を適切に行い、撮像画像にブレが生じないようにす
る必要がある。またラインセンサ24bの場合、センサ
光学系の撮像倍率、センサのスキャンレートに合わせて
被検査対象8の移動速度を決定し、ディスプレイ装置の
表示面全面を漏れなく撮像できるようにする必要があ
る。
In FIG. 6, since the inspection area 41 is the entire display surface 8 of the display device, the detection optical system 1
0, it is not necessary to move the object 8 to be inspected, but when the coating surface is not flat, the brightness of the illumination optical system 11 is increased and the depth of focus of the illumination optical system 11 is adjusted in order to focus the imaging optical system 21 over the entire area to be inspected 41. It is necessary to narrow down the imaging optical system 21 so as to obtain an in-focus state by making it deeper. FIG. 7 is a view showing a fifth embodiment in which the entire surface of the inspection object 8 having the low reflection film 1 coated on the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface of the display device is divided and inspected. FIG.
FIG. 7A is a front view showing a display surface 8 of a display device in the fifth embodiment, and FIG. 7B is a side view of FIG. 7A. In the fifth embodiment, since the inspection area 42 is a part of the display surface of the display device,
As described in the first to third embodiments shown in FIGS. 3 to 5, the detection optical system 10 and the inspection target 8 need to be appropriately moved. The moving method of the inspection object 8 and the imaging timing of the imaging optical system 21 include a method of imaging while moving at a constant speed, an acceleration method,
There is a method of imaging after deceleration and stop. In the former case, it is necessary to appropriately control the exposure time by an electronic shutter or the like in the area sensor 24a to prevent the captured image from being blurred. In the case of the line sensor 24b, it is necessary to determine the moving speed of the inspection target 8 according to the imaging magnification of the sensor optical system and the scan rate of the sensor so that the entire display surface of the display device can be imaged without omission.

【0029】図8は、本発明に係る画像処理装置の一実
施例を示した概略構成図である。画像処理装置26は、
被検査対象・検出光学系移動機構45とセンサ24とが
接続される。そして、画像処理装置26は、センサ入力
インタフェース部51と、画像格納部52と、画像切出
し・表示部53と、画像格納部52に格納されたデジタ
ル画像データを読出して欠陥検出処理を行なってその結
果を画像切出し・表示部53に出力したり、他の装置に
出力したりするCPU等から構成された欠陥検出処理部
55と、被検査対象・検出光学系の移動機構45を制御
する制御部54とで構成される。センサ24で撮像され
た画像信号25は、デジタル画像信号に変換されてセン
サ入力インタフェース部51を介して画像格納部52に
記憶される。画像切出し・表示部53は、画像格納部3
1から任意の位置・大きさの被検査面画像を切り出して
表示するもので、検査画像の目視によるレビューを可能
にするものである。欠陥検出処理部55は、画像格納部
31から任意の位置・大きさの被検査面画像を切り出
し、後述する検出アルゴリズムに基づき欠陥の検出を行
う。欠陥検出処理部55は、欠陥の検出結果を画像切出
し・表示部53に出力してセンサ24で撮像された画像
信号25に重畳して表示することも可能である。欠陥検
出処理部29は、被検査対象・検出光学系の移動機構4
5を制御部54により制御して、被検査対象・検出光学
系の移動機構45の移動をセンサ入力タイミングに合わ
せて制御する。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the image processing apparatus according to the present invention. The image processing device 26
The inspection object / detection optical system moving mechanism 45 and the sensor 24 are connected. Then, the image processing device 26 reads out the digital image data stored in the sensor input interface unit 51, the image storage unit 52, the image cutout / display unit 53, and the image storage unit 52 and performs a defect detection process. A defect detection processing unit 55 composed of a CPU or the like that outputs the result to the image cutout / display unit 53 or outputs the result to another device, and a control unit that controls the moving mechanism 45 of the inspection object / detection optical system. 54. The image signal 25 captured by the sensor 24 is converted into a digital image signal and stored in the image storage unit 52 via the sensor input interface unit 51. The image cutout / display unit 53 includes the image storage unit 3
This is to cut out and display an image of the inspection surface at an arbitrary position and size from 1 and to enable a visual review of the inspection image. The defect detection processing unit 55 cuts out the inspection surface image at an arbitrary position and size from the image storage unit 31 and detects a defect based on a detection algorithm described later. The defect detection processing unit 55 can also output the detection result of the defect to the image cutout / display unit 53 and display it superimposed on the image signal 25 captured by the sensor 24. The defect detection processing unit 29 includes a moving mechanism 4 for the inspection object / detection optical system.
5 is controlled by the control unit 54 to control the movement of the moving mechanism 45 of the inspection object / detection optical system in accordance with the sensor input timing.

【0030】図9は、欠陥検査処理部55において実行
する欠陥部検出アルゴリズムの第1の実施例を示す図で
ある。欠陥検査処理部55は、画像格納部31に順次入
力して記憶されるセンサ入力画像25に対して、照明光
学系11の照度むらの影響がない程度のMライン×N画
素の検出ウィンドウ57を設定して切出す。そして、欠
陥検出処理部55は、検出ウィンドウ57内の濃淡値
(明るさ値)f(i,j)に対して次に示す(数7)式
に基いて平均濃淡値(平均明るさ値)を算出することに
よって閾値tを求め、上記検出ウィンドウ57内の濃淡
値(明るさ値)f(i,j)がこの求められた閾値tよ
り大きいか若しくは閾値t以上の部分を欠陥部反射光成
分から得られる欠陥部を示す濃淡画像信号(明るさ画像
信号)として抽出し、コーティングされた低反射膜1上
において検出ウィンドウ57内に欠陥部2が存在すると
判定する。即ち、閾値tは、ディスプレイ装置の表示面
であるパネルガラス3の全面にコーティングされた低反
射膜1上に発生した視認可能なレベル以上のさまざまな
欠陥2のみを抽出するための基準値となる。欠陥検出処
理部55は、検出ウィンドウ57について、適宜オーバ
ラップさせながらセンサ入力画像25全体をカバーする
ようにその位置を変えていくことにより、センサ入力画
像25のすべての位置での欠陥部を示す濃淡画像信号の
検出(抽出)を実行することができる。 閾値t=(1/MN)・Σj=j0-j0+M-1Σi=i0-i0+N-1f(i,j) (数7) 但し、M×N≧2とする。
FIG. 9 is a diagram showing a first embodiment of a defect detection algorithm executed in the defect inspection processing unit 55. The defect inspection processing unit 55 sets a detection window 57 of M lines × N pixels to the extent that the illuminance unevenness of the illumination optical system 11 does not affect the sensor input image 25 sequentially input and stored in the image storage unit 31. Set and cut out. Then, the defect detection processing unit 55 calculates an average gray value (average brightness value) for the gray value (brightness value) f (i, j) in the detection window 57 based on the following equation (7). Is calculated to calculate a threshold value t. A portion where the gray level value (brightness value) f (i, j) in the detection window 57 is larger than the calculated threshold value t or greater than or equal to the threshold value t is determined as the defective portion reflected light. It is extracted as a grayscale image signal (brightness image signal) indicating a defective portion obtained from the component, and it is determined that the defective portion 2 exists in the detection window 57 on the coated low reflection film 1. That is, the threshold value t is a reference value for extracting only various defects 2 that are visible on the low-reflection film 1 coated on the entire surface of the panel glass 3 which is the display surface of the display device and are equal to or higher than a visible level. . The defect detection processing unit 55 changes the position of the detection window 57 so as to cover the entire sensor input image 25 while appropriately overlapping, thereby indicating defective portions at all positions of the sensor input image 25. Detection (extraction) of a grayscale image signal can be executed. Threshold value t = (1 / MN)) j = j0−j0 + M−1 i = i0−i0 + N−1 f (i, j) ( Equation 7) where M × N ≧ 2.

【0031】図10は、欠陥検査処理部55において実
行する欠陥部検出アルゴリズムの第2の実施例を示す図
である。欠陥検査処理部55は、画像格納部52に記憶
された現時点の検査対象のセンサ入力画像25と画像格
納部52に記憶された過去の検査対象のセンサ入力画像
25’において、同じ検査位置でのMライン×N画素
(但し、M×N≧1)のウィンドウを設定して切出す。
過去の検査対象のセンサ入力画像25’については、過
去の平均の濃淡値であっても構わない。そして、欠陥検
査処理部55は、現時点の検査対象のセンサ入力画像2
5と過去の検査対象のセンサ入力画像25’におけるM
ライン×N画素のウィンドウ58,58’内の平均濃淡
値(平均明るさ値)の各々fn,fpを算出し、この算
出されたfn−fpの絶対値を求め、この求められた絶
対値|fn−fp|が予め定めてある閾値td1より大
きいか若しくはこの閾値td1以上の場合、コーティン
グされた低反射膜1上においてMライン×N画素のウィ
ンドウ58内に欠陥2が存在すると判定する。このよう
に、過去の検査対象のセンサ入力画像25’におけるM
ライン×N画素のウィンドウ58’内の平均濃淡値(平
均明るさ値)fpが、低反射膜1上においてウィンドウ
58内に視認可能なレベル以上のさまざまな欠陥2が存
在すると判定する基準値となる。しかしながら、この第
2の実施例の場合、過去の検査対象のセンサ入力画像2
5’を画像格納部52に記憶しておくか、または過去の
検査対象のセンサ入力画像25’における算出されたM
ライン×N画素のウィンドウ58’内の平均濃淡値(平
均明るさ値)fpを画像格納部52若しくは記憶装置
(図示せず)に記憶しておく必要が有る。このように欠
陥検査処理部55が、現時点と過去の比較を用いること
により、照明光学系11の照度むらの影響を抑えて低反
射膜1上におけるウィンドウ58内の欠陥2の存在を判
定することができる。また、過去の平均として、現時点
より一定時間の過去までに限定すれば、照明光学系11
の照度の経時変動の影響も低減して低反射膜1上におけ
るウィンドウ58内の欠陥2の存在を判定することがで
きる。欠陥検査処理部55は、欠陥が存在すると判定さ
れたウィンドウを図9に示す検出ウィンドウ59とし
て、図9に示す第1の実施例と同様の処理方法により欠
陥部を示す濃淡画像信号の検出(抽出)を行う。
FIG. 10 is a diagram showing a second embodiment of the defect detection algorithm executed by the defect inspection processing unit 55. The defect inspection processing unit 55 determines whether the current inspection target sensor input image 25 stored in the image storage unit 52 and the previous inspection target sensor input image 25 ′ stored in the image storage unit 52 have the same inspection position. A window of M lines × N pixels (M × N ≧ 1) is set and cut out.
For the past sensor input image 25 'to be inspected, a past average gray value may be used. Then, the defect inspection processing unit 55 outputs the current sensor input image 2 to be inspected.
5 and M in the sensor input image 25 'of the past inspection target
The average density values (average brightness values) fn and fp in the windows 58 and 58 'of line × N pixels are calculated, and the absolute value of the calculated fn-fp is calculated. If fn-fp | is greater than a predetermined threshold value td1 or greater than or equal to this threshold value td1, it is determined that the defect 2 exists in the window 58 of M lines × N pixels on the coated low reflection film 1. Thus, M in the past sensor input image 25 ′ to be inspected is
A reference value for determining that various defects 2 whose level is equal to or higher than a visible level in the window 58 on the low reflection film 1 has an average density value (average brightness value) fp in the window 58 ′ of line × N pixels. Become. However, in the case of the second embodiment, the sensor input image 2 of the past inspection target
5 ′ is stored in the image storage unit 52, or the calculated M in the sensor input image 25 ′ to be inspected in the past.
It is necessary to store the average grayscale value (average brightness value) fp in the window 58 ′ of line × N pixels in the image storage unit 52 or a storage device (not shown). As described above, the defect inspection processing unit 55 determines the existence of the defect 2 in the window 58 on the low-reflection film 1 while suppressing the influence of the uneven illuminance of the illumination optical system 11 by using the comparison between the present time and the past. Can be. If the average of the past is limited to the past of a certain time from the present, the illumination optical system 11
Of the window 2 on the low-reflection film 1 can also be determined. The defect inspection processing unit 55 uses the window determined as having a defect as the detection window 59 shown in FIG. 9 to detect a grayscale image signal indicating a defective portion by the same processing method as in the first embodiment shown in FIG. Extraction).

【0032】図11は、欠陥検査処理部55において実
行する欠陥部検出アルゴリズムの第3の実施例を示す図
である。欠陥検査処理部55は、画像格納部52に記憶
されたセンサ入力画像25に対して、照明系の照度むら
の影響がない程度のMライン×N画素(但し、M×N≧
2)の微分ウィンドウ59を設定して切出す。そして、
欠陥検査処理部55は、周囲よりも大きい濃淡値(明る
さ値)を持つ部分の輪郭を強調するような微分演算を微
分ウィンドウ59の内部で実行し、該微分値が予め定め
てある閾値td2より大きいか若しくは該閾値td2以
上で検出された場合、低反射膜1上における微分ウィン
ドウ59内に欠陥2を示す輪郭が抽出されて欠陥2が存
在すると判定することができる。即ち、濃淡の微分値に
対する閾値td2が、低反射膜1上において微分ウィン
ドウ59内に視認可能なレベル以上のさまざまな欠陥2
が存在すると判定する基準値となる。欠陥検査処理部5
5は、欠陥が存在すると判定された微分ウィンドウを図
9に示す検出ウィンドウ59として、図9に示す第1の
実施例と同様の処理方法により欠陥部を示す濃淡画像信
号の検出(抽出)を行う。
FIG. 11 is a diagram showing a third embodiment of the defect detection algorithm executed by the defect inspection processing unit 55. The defect inspection processing unit 55 applies M lines × N pixels (where M × N ≧ 5) to the sensor input image 25 stored in the image storage unit 52 so that there is no influence of uneven illuminance of the illumination system.
The differential window 59 of 2) is set and cut out. And
The defect inspection processing unit 55 executes a differential operation for emphasizing the outline of a portion having a gray value (brightness value) larger than the surroundings inside the differential window 59, and the differential value is set to a predetermined threshold value td2. If it is larger than or equal to or larger than the threshold value td2, the contour indicating the defect 2 is extracted in the differential window 59 on the low reflection film 1, and it can be determined that the defect 2 exists. That is, the threshold value td2 for the differential value of the light and shade is different from the level of various defects
Is a reference value for judging that exists. Defect inspection processing unit 5
5, a detection window 59 shown in FIG. 9 is used as a differential window determined to have a defect to detect (extract) a grayscale image signal indicating a defective portion by the same processing method as in the first embodiment shown in FIG. Do.

【0033】図12は、欠陥検査処理部55において実
行する欠陥検査アルゴリズムの第1の実施例を示すフロ
ーチャートである。欠陥検査処理部55は、ステップS
121において、図9〜図11に示した欠陥部検出アル
ゴリズムに基づいて照明むらの影響を抑えた状態でセン
サ入力画像25から欠陥部反射成分で得られる欠陥部を
示す濃淡画像信号の抽出を行う。次に、欠陥検査処理部
55は、ステップS122において、抽出された欠陥部
を示す濃淡画像信号から、欠陥部2の特徴量(例えば位
置・面積・平均濃淡値・最大濃淡値)を算出する。次
に、欠陥検査処理部55は、ステップS123におい
て、算出された欠陥部2の特徴量[物理量(例えば位置
・面積・平均濃淡値・最大濃淡値)]に基づき、欠陥部
2の合否判定を行い、この合否判定結果を、ディスプレ
イ装置の製造番号に対応させて処理部内のメモリ55a
または処理部に接続された記憶装置60に記憶させ、更
に表示部53に出力したり、出力手段56である記録媒
体に記録して出力したり、出力手段56であるネットワ
ークを介して他の装置もしくは他のシステムに出力する
ことができる。算出する特徴量である物理量としては、
ディスプレイ装置の表示面において、視認可能なレベル
以上のさまざまな欠陥2を否(不良)として判定できる
ものであればよく、欠陥部の位置・面積・平均濃淡値・
最大濃淡値に限定するものではない。また、欠陥部2の
位置情報は、図6に示す被検査対象8の全面を一括検査
する第4の実施例の場合には、エリアセンサ24が受光
してサンプリングされる画素の座標から算出することが
でき、図7に示す被検査対象8の全面を分割検査する第
5の実施例の場合には、エリアセンサ若しくはリニアセ
ンサ24が受光してサンプリングされる画素の座標と移
動機構45から検出される検出光学系10に対する被検
査対象8の相対的移動量とに基づいて算出することが可
能となる。欠陥部2の面積は、一つの欠陥部を示す領域
の画素数を計数することによって算出することができ
る。欠陥部2の平均濃淡値(平均の明るさ値)は、一つ
の欠陥部を示す領域における画素毎の濃淡値を計数し、
面積に対応する画素数で割算することによって算出する
ことができる。欠陥部2の最大濃淡値(最大の明るさ
値)は、一つの欠陥部を示す領域における最大の明るさ
を示す値(最大の濃淡値)として算出することができ
る。なお、これら算出された欠陥部2の面積、欠陥部2
の平均濃淡値(平均の明るさ値)、および欠陥部2の最
大濃淡値(最大の明るさ値)を一時記憶させるために、
メモリ55aに記憶させることもできる。
FIG. 12 is a flowchart showing a first embodiment of the defect inspection algorithm executed by the defect inspection processing unit 55. The defect inspection processing unit 55 determines in step S
At 121, a grayscale image signal indicating a defective portion obtained from the sensor input image 25 by a defective portion reflection component is extracted from the sensor input image 25 based on the defective portion detection algorithm shown in FIGS. . Next, in step S122, the defect inspection processing unit 55 calculates the feature amount (for example, position, area, average gray value, maximum gray value) of the defective part 2 from the gray image signal indicating the extracted defective part. Next, in step S123, the defect inspection processing unit 55 determines whether or not the defect part 2 is acceptable based on the calculated feature amount [physical quantity (for example, position, area, average gray value, maximum gray value)] of the defective part 2. The result of the pass / fail judgment is stored in the memory 55a in the processing unit in correspondence with the serial number of the display device.
Alternatively, the information is stored in a storage device 60 connected to the processing unit, and further output to the display unit 53, recorded on a recording medium as the output unit 56 and output, or another device via a network as the output unit 56. Alternatively, it can be output to another system. The physical quantity, which is the feature quantity to be calculated, is
On the display surface of the display device, it is sufficient that various defects 2 at or above a visible level can be judged as defective (defective), and the position, area, average gray value,
It is not limited to the maximum gray value. In the case of the fourth embodiment in which the entire surface of the inspection target 8 shown in FIG. 6 is inspected collectively, the position information of the defective portion 2 is calculated from the coordinates of the pixels that are received and sampled by the area sensor 24. In the case of the fifth embodiment shown in FIG. 7 in which the entire surface of the inspection object 8 is divided and inspected, the area sensor or the linear sensor 24 detects the coordinates of the pixels received and sampled from the moving mechanism 45. It is possible to calculate based on the relative movement amount of the inspection target 8 with respect to the detection optical system 10 to be performed. The area of the defective portion 2 can be calculated by counting the number of pixels in a region indicating one defective portion. The average gray value (average brightness value) of the defective portion 2 is obtained by counting the gray value of each pixel in an area indicating one defective portion,
It can be calculated by dividing by the number of pixels corresponding to the area. The maximum density value (maximum brightness value) of the defective portion 2 can be calculated as a value indicating the maximum brightness in the region indicating one defective portion (maximum density value). The calculated area of the defective portion 2 and the calculated defective portion 2
In order to temporarily store the average grayscale value (average brightness value) and the maximum grayscale value (maximum brightness value) of the defective portion 2,
It can also be stored in the memory 55a.

【0034】図13は、本発明に係る欠陥検査処理部5
5において実行する欠陥検査と目視検査との整合性につ
いての関係の一実施例を示す図である。この図は、目視
検査による目視合否臨界曲面131と、欠陥検査処理部
55において実行する欠陥検査における欠陥の面積、平
均濃淡値(平均明るさ値)、最大濃淡値(最大明るさ
値)の3つの特徴量である物理量との関係を3次元で示
したものである。目視合否臨界曲面131の内側は、低
反射膜1上において発生した視認不可能な良品欠陥を示
す領域であり、目視合否臨界曲面131の外側は、低反
射膜1上において発生した視認可能なレベル以上の欠陥
を示す領域である。そこで、予め、欠陥検査処理部55
には、入力手段(記録媒体若しくはキーボード等から構
成される。)57を用いて目視合否臨界曲面131に関
する情報を入力して処理部内のメモリ55aまたは処理
部に接続された記憶装置60に記憶しておく。これによ
り、欠陥検査処理部55は、ステップS123におい
て、処理部内のメモリ55aまたは処理部に接続された
記憶装置に記憶された目視合否臨界曲面131に関する
情報を読出し、この読出された目視合否臨界曲面131
に関する情報と上記算出された欠陥の面積、平均濃淡値
(平均明るさ値)、最大濃淡値(最大明るさ値)の3つ
の特徴量である物理量との関係から欠陥について合否判
定を行ない、この合否判定結果を、ディスプレイ装置の
製造番号に対応させて処理部内のメモリ55aまたは処
理部に接続された記憶装置60に記憶させ、更に表示部
53に出力したり、出力手段56である記録媒体に記録
して出力したり、出力手段56であるネットワークを介
して他の装置もしくは他のシステムに出力する。
FIG. 13 shows a defect inspection processing unit 5 according to the present invention.
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a relationship regarding consistency between a defect inspection and a visual inspection performed in 5. This figure shows a critical curved surface 131 visually rejected by visual inspection, a defect area, an average density value (average brightness value), and a maximum density value (maximum brightness value) in the defect inspection executed by the defect inspection processing unit 55. It is a three-dimensional diagram showing a relationship between two feature quantities, ie, physical quantities. The inside of the visually rejected critical curved surface 131 is a region indicating a non-visible non-defective defect generated on the low-reflection film 1, and the outside of the visually rejected critical curved surface 131 is a visible level generated on the low-reflective film 1. This is an area showing the above defects. Therefore, the defect inspection processing unit 55
The information relating to the critical curved surface 131 is visually input / output using input means (comprising a recording medium, a keyboard, or the like) 57 and stored in the memory 55a in the processing unit or the storage device 60 connected to the processing unit. Keep it. Accordingly, in step S123, the defect inspection processing unit 55 reads the information regarding the visual matching / non-critical surface 131 stored in the memory 55a in the processing unit or the storage device connected to the processing unit, and reads the read visual / non-critical surface. 131
A pass / fail decision is made on the defect based on the relationship between the information about the defect and the physical quantity which is the three feature amounts of the calculated defect area, average gray level (average brightness value), and maximum gray level (maximum brightness value). The pass / fail judgment result is stored in the memory 55a in the processing unit or the storage device 60 connected to the processing unit in association with the serial number of the display device, and is further output to the display unit 53 or stored in a recording medium as the output unit 56. The data is recorded and output, or output to another device or another system via a network which is the output unit 56.

【0035】図13に示す実施例では、欠陥の面積、平
均濃淡値(平均明るさ値)、最大濃淡値(最大明るさ
値)の3つの特徴量である物理量を対象としているが、
別の組み合わせ、3つより多いあるいは少ない特徴量で
ある物理量であっても構わない。多数のさまざまな欠陥
(さまざまな分布、さまざまな大きさ、および粒子状の
異物の付着等)について、目視判定の合否と特徴量であ
る物理量との関係を求め、特徴量である物理量を座標軸
とする特徴量(物理量)空間において目視合否臨界曲面
131を定義する。特徴量(物理量)に基づく欠陥部の
合否は目視合否臨界曲面131を基準に判定する。以上
は、低反射膜1上に発生した欠陥を光学的に検査する実
施の形態について説明したが、低反射膜1上に電子線を
照射し、低反射膜1上に発生した欠陥から得られる2次
電子に基づく画像を検出することによって、低反射膜1
上に発生した欠陥を検査することが可能である。
In the embodiment shown in FIG. 13, the physical quantity which is the three characteristic quantities of the defect area, the average density value (average brightness value) and the maximum density value (maximum brightness value) is targeted.
Other combinations may be physical quantities that are more or less than three feature quantities. For a large number of various defects (different distributions, various sizes, attachment of particulate foreign matter, etc.), the relationship between the pass / fail of the visual judgment and the physical quantity as the characteristic quantity is determined, and the physical quantity as the characteristic quantity is determined with the coordinate axes. In the characteristic amount (physical amount) space to be defined, the visual conformity critical surface 131 is defined. The pass / fail of the defective portion based on the characteristic amount (physical amount) is determined based on the visual matching critical surface 131. In the above, the embodiment in which the defect generated on the low-reflection film 1 is optically inspected has been described. However, the defect is obtained by irradiating the low-reflection film 1 with an electron beam and irradiating the electron beam. By detecting an image based on secondary electrons, the low reflection film 1
It is possible to inspect the defects generated above.

【0036】次に、本発明に係る欠陥検出装置の画像処
理装置26によって判定された低反射膜1上に発生した
欠陥部2の合否情報に基づいてコーティング欠陥発生を
抑制するディスプレイの製造方法およびそのシステムの
実施の形態について、図14を用いて説明する。図14
は、本発明に係るコーティング欠陥発生を抑制するディ
スプレイの製造システムの一実施の形態を示した概略構
成図である。即ち、ディスプレイ装置の表示面にコーテ
ィングされた低反射膜1上に発生する視認(視覚認識)
可能なレベル以上の欠陥を抑制し、高品質を確保すると
ともに歩留まり向上を図ることにある。パネルガラス3
の裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリックス
4を形成し、3色の螢光体5を塗布する。このパネルガ
ラスにシャドウマスクが組み付けられ、ファンネルが溶
着されて電子銃が組み付けられて封止され、表示面が未
コーティングのディスプレイ装置(未コーティング品)
61が得られる。未コーティング品61の表示面である
パネルガラス3の全面には、コーティング形成装置62
により低反射膜1がコーティング形成され、コーティン
グ完成品63が得られる。コーティング完成品63は、
本発明に係るコーティング欠陥検査装置64に搬送さ
れ、当該装置64おいて低反射膜1上に視認レベル以上
の欠陥部2があるか否かについて検査を行ない、上記欠
陥の物理量も含めてその結果を、ディスプレイ装置の製
造番号に対応させて処理部内のメモリ55aまたは処理
部に接続された記憶装置60に記憶させ、更に表示部5
3に出力したり、出力手段56である記録媒体に記録し
て出力したり、出力手段56であるネットワークを介し
て他の装置もしくは他のシステムに出力する。
Next, a method of manufacturing a display for suppressing the occurrence of coating defects based on the pass / fail information of the defective portion 2 generated on the low reflection film 1 determined by the image processing device 26 of the defect detection device according to the present invention, and An embodiment of the system will be described with reference to FIG. FIG.
1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a display manufacturing system for suppressing occurrence of coating defects according to the present invention. That is, visual recognition (visual recognition) generated on the low reflection film 1 coated on the display surface of the display device.
It is an object of the present invention to suppress defects higher than a possible level, to ensure high quality, and to improve the yield. Panel glass 3
A black matrix 4 is formed using a shadow mask on the back surface of the substrate, and phosphors 5 of three colors are applied. A display device with an uncoated display surface (uncoated product) with a shadow mask attached to this panel glass, a funnel welded, an electron gun attached and sealed
61 is obtained. A coating forming device 62 is provided on the entire surface of the panel glass 3 which is a display surface of the uncoated product 61.
Thus, the low-reflection film 1 is formed by coating, and a coated product 63 is obtained. Finished coating product 63
It is conveyed to the coating defect inspection device 64 according to the present invention, and the device 64 inspects whether or not the defect portion 2 on the low reflection film 1 is higher than the visual recognition level. Is stored in the memory 55a in the processing unit or the storage device 60 connected to the processing unit in correspondence with the serial number of the display device.
3, output to a recording medium as output means 56, and output, or output to another device or another system via a network as output means 56.

【0037】そして、コーティング欠陥検査装置64に
おいて、ディスプレイ装置の製造番号に対応させた検査
結果に基づいてコーティング良品65とコーティング不
良品66とに選別される。コーティング良品65につい
ては、次工程である偏向ヨークを装着して画質調整を行
なう画質調整工程へと搬送されてディスプレイ装置が製
造される。コーティング不良品66については、コーテ
ィング剥離装置67に投入され、欠陥部2が存在する低
反射膜1を化学加工および機械加工により剥離・除去さ
れて未コーティング品61となる。この未コーティング
品61は、再度コーティング形成装置62に投入され、
表示面であるパネルガラス3の全面に低反射膜1がコー
ティング形成されて、欠陥部2のないコーティング完成
品63が得られる。
Then, the coating defect inspection device 64 sorts out the non-defective coating product 65 and the defective coating product 66 based on the inspection result corresponding to the serial number of the display device. The non-defective coated article 65 is transported to the image quality adjustment step in which the deflection yoke is mounted and the image quality is adjusted in the next step, and the display device is manufactured. The defective coating product 66 is supplied to the coating peeling device 67, and the low reflection film 1 having the defective portion 2 is peeled and removed by chemical processing and mechanical processing to form an uncoated product 61. This uncoated product 61 is fed into the coating forming device 62 again,
The low-reflection film 1 is formed on the entire surface of the panel glass 3 as a display surface by coating, so that a coated finished product 63 having no defect 2 is obtained.

【0038】また、コーティング欠陥検査装置64は、
欠陥の特徴量である物理量(欠陥の位置(分布も含
む)、面積、平均濃淡値、および最大濃淡値等)を含め
た検査結果に基づいてディスプレイ装置の製品番号に対
応させて出力される欠陥の種類・位置(分布も含む)な
どの欠陥情報56を、コーティング形成装置62の形成
条件制御装置68に記録媒体やネットワークを介して通
知する。形成条件制御装置68は、欠陥情報56を分析
することにより、コーティング欠陥を低減するためのコ
ーティング形成装置62のコーティング形成条件71を
算出する(割り出す)。形成条件制御装置68は、この
算出されたコーティング形成条件71に基づいて、コー
ティング形成装置62に対して、例えば、コーティング
材の組成および/または量、パネル予熱温度、コーティ
ング速度、および洗浄の少なくとも一つを制御し、コー
ティング形成装置62においてディスプレイ装置の表示
面に視認可能なレベル以上の欠陥が生じないように低反
射膜1をコーティングする。形成条件制御装置68に
は、欠陥の特徴量である物理量(欠陥の位置(分布も含
む)、面積、平均濃淡値、および最大濃淡値等)を含め
た検査結果に基づいて出力される欠陥の種類・位置(分
布も含む)などの欠陥情報56と、制御すべきコーティ
ング材の組成および/または量71、パネル予熱温度7
2、コーティング速度73、および洗浄74等のコーテ
ィング形成条件との対応関係を示すテーブルが作成され
て記憶装置68aに格納されている。
Also, the coating defect inspection device 64
Defects output in correspondence with the product number of the display device based on inspection results including physical quantities (defect position (including distribution), area, average density value, maximum density value, etc.) which are characteristic quantities of the defect The defect information 56 such as the type and position (including the distribution) is notified to the forming condition control device 68 of the coating forming device 62 via a recording medium or a network. The forming condition control device 68 calculates (determines) a coating forming condition 71 of the coating forming device 62 for reducing coating defects by analyzing the defect information 56. The forming condition control device 68 controls the coating forming device 62 based on the calculated coating forming condition 71, for example, at least one of the composition and / or amount of the coating material, the panel preheating temperature, the coating speed, and the cleaning. The low-reflection film 1 is coated so that the coating forming device 62 does not cause a defect of a level higher than a visible level on the display surface of the display device. The formation condition control device 68 outputs a defect quantity output based on an inspection result including a physical quantity (defect position (including distribution), area, average density value, maximum density value, etc.) which is a feature quantity of the defect. Defect information 56 such as type and position (including distribution), composition and / or amount 71 of coating material to be controlled, panel preheating temperature 7
A table showing the correspondence between the coating conditions such as 2, coating speed 73, and cleaning 74 is created and stored in the storage device 68a.

【0039】即ち、形成条件制御装置68には、コーテ
ィング形成装置62からコーティングされた形成条件
(コーティング材の組成および/または量、パネル予熱
温度、コーティング速度、および洗浄等)72が、ディ
スプレイ装置の製品番号に対応させて直接または入力手
段(キーボード、記録媒体等)69を用いて入力され
る。洗浄については、コーティングする際、粒子状の異
物が混入しないようにコーティング形成装置62に対し
て洗浄等を行なうもので、この情報については、入力手
段69を用いて形成条件制御装置68に入力される。
That is, the forming condition control device 68 stores the forming conditions (composition and / or amount of coating material, panel preheating temperature, coating speed, cleaning, etc.) 72 coated from the coating forming device 62 on the display device. The input is made directly or by using input means (keyboard, recording medium, etc.) 69 corresponding to the product number. As for the cleaning, the coating forming device 62 is subjected to cleaning or the like so as to prevent particulate foreign matter from entering during coating. This information is input to the forming condition control device 68 using the input means 69. You.

【0040】更に、形成条件制御装置68には、コーテ
ィング欠陥検査装置64から欠陥の特徴量である物理量
(欠陥の位置(分布も含む)、面積、平均濃淡値、およ
び最大濃淡値等)を含めた検査結果に基づいて出力され
る欠陥の種類・位置(分布も含む)などの欠陥情報56
が、ディスプレイ装置の製品番号に対応させてネットワ
ークまたは入力手段(キーボード、記録媒体等)69に
より入力される。従って、形成条件制御装置68は、コ
ーティング欠陥検査装置64から欠陥の物理量を含めた
検査結果に基づいて出力される欠陥の種類・位置(分布
も含む)などの欠陥情報56と、コーティング形成装置
62から得られるコーティング形成条件72との対応を
とることによって、欠陥情報56とコーティング形成条
件72との対応関係を示すテーブルを作成して記憶装置
68aに格納することが可能となる。これにより、ディ
スプレイ装置の表示面にコーティングされた低反射膜1
上に視認可能なレベル以上の欠陥が生じた場合、これら
欠陥情報56を形成条件制御装置68にフィードバック
することにより、形成条件制御装置68は、欠陥の発生
を抑制するコーティング形成条件71を算出してコーテ
ィング形成装置62におけるコーティング形成条件を制
御することが可能となる。例えば、粒子状の異物が付着
することによって、低反射膜1上に視認可能なレベル以
上の欠陥が発生した場合には、コーティング形成装置6
2に対してコーティング形成条件の制御として洗浄等を
行なって、粒子状の異物の発生を抑制する必要がある。
この場合には、形成条件制御装置68は、粒子状の異物
が付着したという欠陥情報56が発生したというアラー
ム情報または洗浄等を行なう必要があるというコーティ
ング成形条件の制御情報を表示手段70に表示してコー
ティング形成装置62の作業者に知らせることによっ
て、作業者は、マニュアルで、洗浄等を行なって、低反
射膜1上に視認可能なレベル以上の欠陥の発生を抑制す
ることが可能となる。また、コーティング材の組成およ
び/または量についても、作業者がマニュアルで制御す
ることが可能となる。
Further, the forming condition control device 68 includes physical quantities (defect position (including distribution), area, average density value, maximum density value, etc.) which are feature quantities of defects from the coating defect inspection device 64. Information 56 such as the type and position (including distribution) of a defect output based on the inspection result obtained
Is input by a network or input means (keyboard, recording medium, etc.) 69 in association with the product number of the display device. Accordingly, the formation condition control device 68 includes the defect information 56 such as the type and position (including distribution) of the defect output from the coating defect inspection device 64 based on the inspection result including the physical quantity of the defect, and the coating forming device 62. By obtaining the correspondence with the coating forming conditions 72 obtained from the above, it is possible to create a table indicating the correspondence between the defect information 56 and the coating forming conditions 72 and store it in the storage device 68a. Thereby, the low reflection film 1 coated on the display surface of the display device 1
When a defect having a level higher than the visually recognizable level occurs, the defect information 56 is fed back to the forming condition control device 68, and the forming condition control device 68 calculates the coating forming condition 71 for suppressing the occurrence of the defect. Thus, it is possible to control the coating forming conditions in the coating forming apparatus 62. For example, when a defect higher than a visible level occurs on the low reflection film 1 due to the attachment of particulate foreign matter, the coating forming apparatus 6
It is necessary to suppress the generation of particulate foreign matter by performing washing or the like as a control of the coating forming conditions for 2.
In this case, the forming condition control device 68 displays on the display means 70 alarm information indicating that the defect information 56 indicating that particulate foreign matter has adhered or control information of the coating molding condition indicating that cleaning or the like needs to be performed. By notifying the operator of the coating forming apparatus 62, the operator can manually perform cleaning and the like to suppress the occurrence of defects on the low-reflection film 1 that are above a visible level. . Also, the composition and / or amount of the coating material can be manually controlled by an operator.

【0041】なお、コーティング形成装置62の形成条
件としては、コーティング材の組成/量、パネル予熱温
度、コーティング速度、洗浄の他、低反射膜1を表示面
にコーティングする条件に関するものも含まれる。ま
た、上記実施の形態では、形成条件制御装置68とコー
ティング形成装置62とを別に構成した場合について説
明したが、形成条件制御装置68をコーティング形成装
置62内に備えて構成しても良いことは明らかである。
以上説明したように、本発明に係るディスプレイ装置の
コーティング欠陥検査方法およびその装置とそれを用い
た製造方法により、当該ディスプレイ装置においてコー
ティング欠陥の面積・深さ・反射輝度の少なくとも一つ
の物理量が視認可能なレベル以上の値、例えば、直径
0.3mm以上を示すコーティング欠陥を抑制すること
ができる。
The conditions for forming the coating forming apparatus 62 include the composition / amount of the coating material, the panel preheating temperature, the coating speed, the cleaning, and the conditions for coating the low reflection film 1 on the display surface. Further, in the above embodiment, the case where the forming condition control device 68 and the coating forming device 62 are configured separately has been described. However, the forming condition control device 68 may be provided in the coating forming device 62. it is obvious.
As described above, according to the method for inspecting coating defects of a display device according to the present invention and the device and the manufacturing method using the same, at least one physical quantity of the area / depth / reflection luminance of the coating defect is visually recognized in the display device. It is possible to suppress a coating defect having a value higher than a possible level, for example, a diameter of 0.3 mm or more.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明によれば、ディスプレイ装置の表
示面へのコーティングの欠陥を自動検査し、不良発生状
況に応じてコーティング形成プロセスの動作条件を適正
化するとともに、コーティング不良品についてはコーテ
ィングを剥離・除去し、再度コーティング形成を行うこ
とにより、視認可能なコーティング欠陥発生を低減する
ことができ、その結果、高品質なディスプレイ装置を安
定して製造することができる効果を奏する。
According to the present invention, a coating defect on a display surface of a display device is automatically inspected, operating conditions of a coating forming process are optimized according to a defect occurrence situation, and a coating defect is determined for a defective coating product. By removing and removing the coating and forming the coating again, it is possible to reduce the occurrence of visible coating defects, and as a result, it is possible to stably manufacture a high-quality display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るディスプレイ装置の表示面を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a display surface of a display device according to the present invention.

【図2】本発明に係るコーティング欠陥検査の原理を示
す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the principle of a coating defect inspection according to the present invention.

【図3】本発明に係るコーティング欠陥検査方法および
その装置の第1の実施例を示す図である。
FIG. 3 is a view showing a first embodiment of a coating defect inspection method and apparatus according to the present invention.

【図4】本発明に係るコーティング欠陥検査方法および
その装置の第2の実施例を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a coating defect inspection method and apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明に係るコーティング欠陥検査方法および
その装置の第3の実施例を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a third embodiment of the coating defect inspection method and apparatus according to the present invention.

【図6】本発明に係るディスプレイ装置の表示面の全面
を一括検査する第4の実施例を示した図である。
FIG. 6 is a view showing a fourth embodiment in which the entire display surface of the display device according to the present invention is inspected collectively.

【図7】本発明に係るディスプレイ装置の表示面の全面
を分割検査する第5の実施例を示した図である。
FIG. 7 is a view showing a fifth embodiment in which the entire display surface of the display device according to the present invention is divided and inspected.

【図8】本発明に係る画像処理部の一実施例を示した概
略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment of an image processing unit according to the present invention.

【図9】本発明に係る欠陥検査処理部において実行する
欠陥部検出アルゴリズムの第1の実施例を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing a first embodiment of a defect detection algorithm executed in the defect inspection processing unit according to the present invention.

【図10】本発明に係る欠陥検査処理部において実行す
る欠陥部検出アルゴリズムの第2の実施例を示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing a second embodiment of the defect detection algorithm executed in the defect inspection processing unit according to the present invention.

【図11】本発明に係る欠陥検査処理部において実行す
る欠陥部検出アルゴリズムの第3の実施例を示す図であ
る。
FIG. 11 is a diagram showing a third embodiment of the defect detection algorithm executed in the defect inspection processing unit according to the present invention.

【図12】本発明に係る欠陥検査処理部において実行す
る欠陥検査アルゴリズムの第1の実施例を示すフローチ
ャート図である。
FIG. 12 is a flowchart illustrating a first example of a defect inspection algorithm executed in the defect inspection processing unit according to the present invention.

【図13】本発明に係る欠陥検査処理部において実行す
る欠陥検査と目視検査との整合性についての関係の一実
施例を示す図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a relationship between consistency of a defect inspection and a visual inspection performed in a defect inspection processing unit according to the present invention.

【図14】本発明に係るコーティング欠陥発生を抑制す
るディスプレイの製造方法を実現するための製造システ
ムの一実施の形態を示した概略構成図である。
FIG. 14 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a manufacturing system for realizing a display manufacturing method for suppressing occurrence of coating defects according to the present invention.

【図15】本発明に係るディスプレイ装置の表示面に生
じた凹状欠陥と該凹状欠陥から得られる画像信号の波形
とを示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a concave defect generated on the display surface of the display device according to the present invention and a waveform of an image signal obtained from the concave defect.

【図16】本発明に係るディスプレイ装置の表示面に生
じた粒子状の異物付着による欠陥と該欠陥から得られる
画像信号の波形とを示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a defect caused by adhesion of particulate foreign matter generated on the display surface of the display device according to the present invention, and a waveform of an image signal obtained from the defect.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…低反射膜、2…欠陥(欠陥部)、3…パネルガラ
ス、4…ブラックマトリクス黒鉛、5…蛍光体、8…表
示面(被検査対象)、10…検出光学系、11、11
a、11b、11c…照明光学系、12…蛍光灯、13
…反射板、14…拡散板、15…フィルタ、17…高周
波駆動回路、21、21a、21b…撮像光学系、22
a…ハーフミラー、24…センサ(エリアセンサ)、2
4a…エリアセンサ、24b…ラインセンサ、25、2
5’…画像信号(センサ入力画像)、26…画像処理装
置、31…光源、33…イメージガイド、34…導光
板、35…ミラー、41、42…被検査領域、45…移
動機構、51…センサ入力インターフェース部、52…
画像格納部、53…画像切出し・表示部、54…制御
部、55…欠陥検査処理部、55a…メモリ、56…出
力手段(欠陥情報)、57…検出ウィンドウ、58、5
8’…ウィンドウ、59…微分ウィンドウ、60…記憶
装置、61…未コーティング品、62…コーティング形
成装置、64…コーティング欠陥検査装置、65…コー
ティング良品、66…コーティング不良品、68…形成
条件制御装置、68a…記憶装置、69…入力手段、7
0…表示手段、71…コーティング形成条件、131…
目視合否臨界曲面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Low reflection film, 2 ... Defect (defect part), 3 ... Panel glass, 4 ... Black matrix graphite, 5 ... Phosphor, 8 ... Display surface (inspection object), 10 ... Detection optical system, 11, 11
a, 11b, 11c: illumination optical system, 12: fluorescent lamp, 13
... Reflection plate, 14 diffusion plate, 15 filter, 17 high-frequency drive circuit, 21, 21a, 21b imaging optical system, 22
a: half mirror, 24: sensor (area sensor), 2
4a: Area sensor, 24b: Line sensor, 25, 2
5 ': Image signal (sensor input image), 26: Image processing device, 31: Light source, 33: Image guide, 34: Light guide plate, 35: Mirror, 41, 42 ... Inspection area, 45: Moving mechanism, 51 ... Sensor input interface unit, 52 ...
Image storage unit, 53: Image cutout / display unit, 54: Control unit, 55: Defect inspection processing unit, 55a: Memory, 56: Output means (defect information), 57: Detection window, 58, 5
8 ': window, 59: differential window, 60: storage device, 61: uncoated product, 62: coating forming device, 64: coating defect inspection device, 65: good coating product, 66: defective coating product, 68: formation condition control Device, 68a storage device, 69 input means, 7
0: display means, 71: coating forming conditions, 131:
Critical surface for visual pass / fail

フロントページの続き (72)発明者 西山 栄一 千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製 作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 小金沢 信之 千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製 作所電子デバイス事業部内Continued on the front page (72) Inventor Eiichi Nishiyama 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Pref.Electronic Device Division, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Nobuyuki Koganezawa 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Pref. Within the business division

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ディスプレイ装置の表示面に、コーティン
グ形成装置を用いて所定のコーティング形成条件により
低反射膜をコーティングして形成するコーティング形成
工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を検査する欠
陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって検査された低反射膜上の欠陥に
関する情報に基づいてコーティング形成条件を算出し、
該算出されたコーティング形成条件に基づいて前記コー
ティング形成工程における所定のコーティング形成条件
を制御するコーティング形成条件制御工程とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ装置の表示面へのコーティ
ング形成方法。
1. A coating forming step of coating a display surface of a display device with a low reflection film under a predetermined coating forming condition using a coating forming apparatus, and forming the coating on the display surface of the display device by the coating forming process. A defect inspection step of inspecting a defect generated on the low-reflection film, and calculating a coating forming condition based on information on the defect on the low-reflection film inspected by the defect inspection step;
A coating forming condition control step of controlling predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions.
【請求項2】ディスプレイ装置の表示面に、コーティン
グ形成装置を用いて所定のコーティング形成条件により
低反射膜をコーティングして形成するコーティング形成
工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を光学的に検
査する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって光学的に検査された低反射膜上
の欠陥に関する情報に基づいてコーティング形成条件を
算出し、該算出されたコーティング形成条件に基づいて
前記コーティング形成工程における所定のコーティング
形成条件を制御するコーティング形成条件制御工程とを
有することを特徴とするディスプレイ装置の表示面への
コーティング形成方法。
2. A coating forming step of coating a low reflection film on a display surface of the display device under a predetermined coating forming condition using a coating forming apparatus, and forming the coating on the display surface of the display device by the coating forming step. A defect inspection step of optically inspecting a defect generated on the low-reflection film, and calculating a coating forming condition based on information on the defect on the low-reflection film optically inspected by the defect inspection step; A coating forming condition control step of controlling predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions.
【請求項3】ディスプレイ装置の表示面に、コーティン
グ形成装置を用いて低反射膜をコーティングして形成す
るコーティング形成工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を検査し、こ
の検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいて
コーティング形成された低反射膜が不良であるか否かに
ついて判定する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の表示面へのコーティング形成方
法。
3. A coating forming step of coating a display surface of the display device with a low-reflection film using a coating forming apparatus, and forming the coating on the display surface of the display device by the coating forming step. A defect inspection step of inspecting a defect generated in the low reflection film, and determining whether or not the low reflection film coated is defective based on the information on the defect on the inspected low reflection film. Removing the low-reflection film from the display surface when the reflection film is determined to be defective, and re-coating the display surface with the low-reflection film using a coating forming apparatus to correct the low-reflection film. For forming a coating on the display surface of a display device.
【請求項4】ディスプレイ装置の表示面に、コーティン
グ形成装置を用いて低反射膜をコーティングして形成す
るコーティング形成工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を光学的に検
査し、この検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に
基づいてコーティング形成された低反射膜が不良である
か否かについて判定する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の表示面へのコーティング形成方
法。
4. A coating forming step of coating a display surface of a display device with a low-reflection film using a coating forming apparatus; and forming a coating on the display surface of the display device by the coating forming process. A defect inspection step of optically inspecting for defects occurring in the defect, and determining whether or not the coated low-reflection film is defective based on the information on the inspected defects on the low-reflection film; A step of removing the low-reflection film from the display surface when the low-reflection film is determined to be defective by the process, and recoating and correcting the low-reflection film on the display surface using a coating forming apparatus. A method for forming a coating on a display surface of a display device, comprising:
【請求項5】ディスプレイ装置を構成するパネルガラス
の裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリックス
を形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する螢
光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて所
定のコーティング形成条件により低反射膜をコーティン
グして形成するコーティング形成工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を検査する欠
陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって検査された低反射膜上の欠陥に
関する情報に基づいてコーティング形成条件を算出し、
該算出されたコーティング形成条件に基づいて前記コー
ティング形成工程における所定のコーティング形成条件
を制御するコーティング形成条件制御工程とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。
5. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device by using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions; A defect inspection step of inspecting a defect generated on the low reflection film formed on the display surface of the display device by the coating formation step; and coating formation conditions based on the information on the defect on the low reflection film inspected by the defect inspection step. Is calculated,
Controlling the predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions.
【請求項6】ディスプレイ装置を構成するパネルガラス
の裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリックス
を形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する螢
光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて所
定のコーティング形成条件により低反射膜をコーティン
グして形成するコーティング形成工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を光学的に検
査する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって検査された低反射膜上の欠陥に
関する情報に基づいてコーティング形成条件を算出し、
該算出されたコーティング形成条件に基づいて前記コー
ティング形成工程における所定のコーティング形成条件
を制御するコーティング形成条件制御工程とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。
6. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor. A coating forming step of coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions; A defect inspection step of optically inspecting a defect generated on the low-reflection film formed on the display surface of the display device by the coating formation step; and a defect inspection step based on information on the defect on the low-reflection film inspected by the defect inspection step. Calculate the coating formation conditions,
Controlling the predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions.
【請求項7】ディスプレイ装置を構成するパネルガラス
の裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリックス
を形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する螢
光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて低
反射膜をコーティングして形成するコーティング形成工
程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を検査し、こ
の検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に基づいて
コーティング形成された低反射膜が不良であるか否かに
ついて判定する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の製造方法。
7. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass, on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; Inspect the defects generated on the low-reflection film formed on the display surface, and determine whether or not the coated low-reflection film is defective based on the information on the inspected defects on the low-reflection film. A defect inspection step; removing the low reflection film from the display surface when the low reflection film is determined to be defective by the defect inspection step; Method of manufacturing a display device characterized by having a coating modifying step of modifying and re-coated with a low-reflection film using a.
【請求項8】ディスプレイ装置を構成するパネルガラス
の裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリックス
を形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する螢
光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて低
反射膜をコーティングして形成するコーティング形成工
程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜上に生じる欠陥を光学的に検
査し、この検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に
基づいてコーティング形成された低反射膜が不良である
か否かについて判定する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の製造方法。
8. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass, on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; Optically inspects for defects that occur on the low-reflection film formed on the display surface of the display surface, and determines whether or not the low-reflection film formed based on the inspected information on the defect on the low-reflection film is defective. A low-reflection film is determined to be defective by the defect inspection step, the low-reflection film is removed from the display surface, and a coating is applied to the display surface. Method of manufacturing a display device characterized by having a coating modifying step of modifying and re-coated with a low-reflection film using a forming device.
【請求項9】ディスプレイ装置を構成するパネルガラス
の裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリックス
を形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する螢
光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて所
定のコーティング形成条件により低反射膜をコーティン
グして形成するコーティング形成工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜部に対して、可視光の波長範
囲の内、所望の分光特性を有する波長の照明光を照射
し、前記低反射膜上に発生した欠陥部から得られる反射
光を正常な低反射膜部からの反射光と弁別できるように
光電変換手段で受光して画像信号に変換し、この変換さ
れた画像信号に基づいて低反射膜上に発生した欠陥を検
査する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって検査された低反射膜上の欠陥に
関する情報に基づいてコーティング形成条件を算出し、
該算出されたコーティング形成条件に基づいて前記コー
ティング形成工程における所定のコーティング形成条件
を制御するコーティング形成条件制御工程とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。
9. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions; The low reflection film portion formed on the display surface of the display device by the coating forming step is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic within the wavelength range of visible light, and is generated on the low reflection film. The reflected light obtained from the defective portion is received by a photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from a normal low reflection film portion, and the converted image signal A defect inspection step for inspecting a defect occurring on the low-reflection film based to calculate the coating formation condition based on the information about the defects on the low-reflection film was examined by the defect inspection process,
Controlling the predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions.
【請求項10】ディスプレイ装置を構成するパネルガラ
スの裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリック
スを形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する
螢光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて低
反射膜をコーティングして形成するコーティング形成工
程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜部に対して、可視光の波長範
囲の内、所望の分光特性を有する波長の照明光を照射
し、前記低反射膜上に発生した欠陥部から得られる反射
光を正常な低反射膜部からの反射光と弁別できるように
光電変換手段で受光して画像信号に変換し、この変換さ
れた画像信号に基づいて低反射膜上に発生した欠陥を検
査し、この検査された低反射膜上の欠陥に関する情報に
基づいてコーティング形成された低反射膜が不良である
か否かについて判定する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の製造方法。
10. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass, on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; The low-reflection film portion formed on the display surface is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic within the wavelength range of visible light, and is obtained from a defective portion generated on the low-reflection film. The reflected light is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that the reflected light can be discriminated from the reflected light from the normal low-reflection film portion, and is generated on the low-reflection film based on the converted image signal. A defect inspection step of inspecting the defect and determining whether or not the coated low reflection film is defective based on the inspected information on the defect on the low reflection film; Removing the low-reflection film from the display surface when it is determined to be defective, and recoating and correcting the low-reflection film on the display surface using a coating forming apparatus. Device manufacturing method.
【請求項11】ディスプレイ装置を構成するパネルガラ
スの裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリック
スを形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する
螢光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて所
定のコーティング形成条件により低反射膜をコーティン
グして形成するコーティング形成工程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜部に対して所望の分光特性を
有する波長の照明光を照射し、前記低反射膜上に発生し
た欠陥部から得られる反射光を正常な低反射膜部からの
反射光と弁別できるように光電変換手段で受光して画像
信号に変換し、この変換された画像信号から欠陥の特徴
量を算出し、該算出された特徴量に基づいて低反射膜上
に発生した欠陥を検査する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって検査された低反射膜上の欠陥に
関する情報に基づいてコーティング形成条件を算出し、
該算出されたコーティング形成条件に基づいて前記コー
ティング形成工程における所定のコーティング形成条件
を制御するコーティング形成条件制御工程とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。
11. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device using a shadow mask, and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating the display surface, which is the surface of the panel glass on which the phosphor has been formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus under predetermined coating forming conditions; The low reflection film portion formed on the display surface of the display device by the coating forming step is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic, and reflected light obtained from a defect portion generated on the low reflection film is irradiated. The light is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the light reflected from the normal low reflection film portion, and the feature amount of the defect is calculated from the converted image signal. A defect inspection step of inspecting a defect generated on the low-reflection film based on the calculated feature amount; and calculating a coating forming condition based on information on the defect on the low-reflection film inspected by the defect inspection step. And
Controlling the predetermined coating forming conditions in the coating forming step based on the calculated coating forming conditions.
【請求項12】ディスプレイ装置を構成するパネルガラ
スの裏面にシャドウマスクを用いてブラックマトリック
スを形成し、3色の螢光体を塗布して螢光体を形成する
螢光体形成工程と、 該螢光体形成工程で螢光体が形成されたパネルガラスの
表面である表示面に、コーティング形成装置を用いて低
反射膜をコーティングして形成するコーティング形成工
程と、 該コーティング形成工程によってディスプレイ装置の表
示面に形成された低反射膜部に対して所望の分光特性を
有する波長の照明光を照射し、前記低反射膜上に発生し
た欠陥部から得られる反射光を正常な低反射膜部からの
反射光と弁別できるように光電変換手段で受光して画像
信号に変換し、この変換された画像信号から欠陥の特徴
量を算出し、該算出された特徴量に基づいてコーティン
グ形成された低反射膜が不良であるか否かについて判定
する欠陥検査工程と、 該欠陥検査工程によって低反射膜が不良と判定されたと
き該低反射膜を表示面から除去し、その表示面にコーテ
ィング形成装置を用いて低反射膜を再コーティングして
修正するコーティング修正工程とを有することを特徴と
するディスプレイ装置の製造方法。
12. A phosphor forming step of forming a black matrix on a back surface of a panel glass constituting a display device by using a shadow mask and applying a phosphor of three colors to form a phosphor; A coating forming step of coating a display surface, which is a surface of the panel glass, on which the phosphor is formed in the phosphor forming step, with a low reflection film using a coating forming apparatus; Irradiation light of a wavelength having desired spectral characteristics is applied to the low reflection film portion formed on the display surface of the display surface, and reflected light obtained from a defect portion generated on the low reflection film is returned to a normal low reflection film portion. The light is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from the image signal. The feature amount of the defect is calculated from the converted image signal, and based on the calculated feature amount. A defect inspection step of determining whether the formed low-reflection film is defective, and, when the low-reflection film is determined to be defective by the defect inspection step, removing the low-reflection film from the display surface and displaying the defect. A coating correction step of recoating and correcting the low reflection film on the surface using a coating forming apparatus.
【請求項13】ディスプレイ装置の表示面に形成された
低反射膜部に対して所望の分光特性を有する波長の照明
光を照射し、前記低反射膜上に発生した欠陥部から得ら
れる反射光を正常な低反射膜部からの反射光と弁別でき
るように光電変換手段で受光して画像信号に変換し、こ
の変換された画像信号に基づいて低反射膜上に発生した
欠陥を検査することを特徴とするディスプレイ装置の表
示面への欠陥検査方法。
13. A low reflection film portion formed on a display surface of a display device is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic, and reflected light obtained from a defective portion generated on the low reflection film. The light is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be distinguished from the reflected light from the normal low-reflection film part, and a defect generated on the low-reflection film is inspected based on the converted image signal. A method for inspecting a display surface of a display device for defects.
【請求項14】ディスプレイ装置の表示面に形成された
低反射膜部に対して所望の分光特性を有する波長の照明
光を照射し、前記低反射膜上に発生した欠陥部から得ら
れる反射光を正常な低反射膜部からの反射光と弁別でき
るように光電変換手段で受光して画像信号に変換し、こ
の変換された画像信号から欠陥の特徴量を算出し、該算
出された特徴量に基づいて低反射膜上に発生した欠陥を
検査することを特徴とするディスプレイ装置の表示面へ
の欠陥検査方法。
14. A low reflection film portion formed on a display surface of a display device is irradiated with illumination light having a wavelength having a desired spectral characteristic, and reflected light obtained from a defect portion generated on the low reflection film. Is received by the photoelectric conversion means and converted into an image signal so that it can be discriminated from the reflected light from the normal low-reflection film portion, and the feature amount of the defect is calculated from the converted image signal, and the calculated feature amount is calculated. A defect inspection method for a display surface of a display device, wherein a defect generated on a low reflection film is inspected based on the method.
JP32507897A 1997-11-27 1997-11-27 Coating formation on display surface of display device, manufacture of display device, and fault inspecting device for display device Pending JPH11162344A (en)

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JP32507897A JPH11162344A (en) 1997-11-27 1997-11-27 Coating formation on display surface of display device, manufacture of display device, and fault inspecting device for display device

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JPH11162344A true JPH11162344A (en) 1999-06-18

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017208159A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 日立オートモティブシステムズ株式会社 Connector and electronic control device

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