JPH11158163A - 3-aminobenzotriazole, its use and production - Google Patents
3-aminobenzotriazole, its use and productionInfo
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- JPH11158163A JPH11158163A JP34215297A JP34215297A JPH11158163A JP H11158163 A JPH11158163 A JP H11158163A JP 34215297 A JP34215297 A JP 34215297A JP 34215297 A JP34215297 A JP 34215297A JP H11158163 A JPH11158163 A JP H11158163A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なアミノフェ
ニルベンゾトリアゾール系化合物、その用途およびその
製造方法に関する。[0001] The present invention relates to a novel aminophenylbenzotriazole compound, its use and a method for producing the same.
【０００２】[0002]
【従来技術】下記一般式（４）2. Description of the Related Art The following general formula (4)
【化５】 （ただしＲ11は水素、塩素、炭素数１〜４の低級アルキ
ル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシ
ル基またはスルホン酸基を表わし、Ｒ12は水素、塩素、
炭素数１〜４の低級アルキル基、または炭素数１〜４の
低級アルコキシル基を表わし、Ｒ13は水素、塩素、炭素
数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基ま
たはアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基を表わし、Ｒ14は水素、塩素、ヒドロキシル基または
炭素数１〜４のアルコキシル基を表わし、Ｒ15は水素、
炭素数１〜１２のアルキル基またはアルキル部分の炭素
数が１〜４のフェニルアルキル基を表わす。）で示され
る２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラスチック、
塗料、油等に添加される紫外線吸収剤として知られてい
る。Embedded image (However, R 11 represents hydrogen, chlorine, a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group or a sulfonic acid group, and R 12 represents hydrogen, chlorine,
Represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein R 13 is hydrogen, chlorine, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, Alkyl group, phenyl group, carbon number 1-8
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group or a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion; R 14 represents hydrogen, chlorine, a hydroxyl group or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 15 is hydrogen,
Represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion. 2-phenylbenzotriazoles represented by) are plastics,
It is known as an ultraviolet absorber added to paints, oils and the like.
【０００３】しかしながら、３位にアミノ基が導入され
た３−アミノフェニルベンゾトリアゾール系化合物はい
まだ未知の化合物である。However, 3-aminophenylbenzotriazole compounds having an amino group introduced at the 3-position are still unknown compounds.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
な３−アミノフェニルベンゾトリアゾール系化合物、そ
の紫外線吸収剤としての用途およびその製造方法を提供
する点にある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel 3-aminophenylbenzotriazole compound, its use as an ultraviolet absorber, and a method for producing the same.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、下記一
般式（１）Means for Solving the Problems A first aspect of the present invention is the following general formula (1):
【化６】 （式中、Ｒ1は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される３−アミノフェニルベ
ンゾトリアゾール系化合物に関する。Embedded image (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. )).
【０００６】本発明の第二は、請求項１記載の３−アミ
ノフェニルベンゾトリアゾール系化合物を含有すること
を特徴とする紫外線吸収剤に関する。A second aspect of the present invention relates to an ultraviolet absorbent containing the 3-aminophenylbenzotriazole compound according to the first aspect.
【０００７】本発明の第三は、下記一般式（２）A third aspect of the present invention is the following general formula (2)
【化７】 （式中、Ｒ1は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される２−ヒドロキシフェニ
ルベンゾトリアゾールをニトロ化し、下記一般式（３）Embedded image (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. ) Is nitrated to give the following general formula (3)
【化８】 （式中、Ｒ1は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フエノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される２−ヒドロキシ−３−
ニトロ−フェニルベンゾトリアゾールを得、ついでこの
化合物のニトロ基をアミノ基に変換することを特徴とす
る下記一般式（１）Embedded image (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
Is a group selected from the group consisting of a phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. 2-hydroxy-3-)
Nitro-phenylbenzotriazole is obtained, and the nitro group of this compound is converted into an amino group.
【化９】 （式中、Ｒ1は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される３−アミノフェニルベ
ンゾトリアゾール系化合物の製造方法に関する。Embedded image (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. The present invention relates to a method for producing a 3-aminophenylbenzotriazole-based compound represented by the following formula:
【０００８】前記Ｒ1の具体例としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−
ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｔ−ヘ
プチル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニ
ル基、ｔ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｔ−デシル基、ｎ
−ウンデシル基、ｔ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、
ｔ−ドデシル基などを挙げることができる。ハロゲンと
しては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることがで
きる。炭素数１〜４の低級アルコキシル基としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など
を挙げることができる。シクロアルキル基としては、シ
クロペンチル、シクロヘキシル基などを挙げることがで
き、炭素数１〜８のアルキル基に置換されたフェニル基
としては、トリル基、エチルフェニル基などを挙げるこ
とができ、アルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルア
ルキル基としては、ベンジル基、クミル基などが挙げら
れる。Specific examples of R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, an n-amyl group, a t-amyl group, and a n-amyl group.
Hexyl group, t-hexyl group, n-heptyl group, t-heptyl group, n-octyl group, t-octyl group, n-nonyl group, t-nonyl group, n-decyl group, t-decyl group, n
-Undecyl group, t-undecyl group, n-dodecyl group,
and a t-dodecyl group. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine, and iodine. Examples of the lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. Examples of the cycloalkyl group include cyclopentyl and cyclohexyl groups, and examples of the phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a tolyl group and an ethylphenyl group. Examples of the phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a benzyl group and a cumyl group.
【０００９】前記Ｒ2またはＲ3におけるハロゲン原子と
しては、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることがで
きるが、塩素が比較的好ましい。また、前記Ｒ2または
Ｒ3における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−
ブチル基、ｔ−ブチル基などを挙げることができ、炭素
数１〜４の低級アルコキシル基としては、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などを挙げるこ
とができる。Examples of the halogen atom for R 2 or R 3 include chlorine, bromine, fluorine and iodine, and chlorine is relatively preferred. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms for R 2 or R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a sec-
Butyl group, t-butyl group and the like. Examples of the lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methoxy group,
An ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like can be mentioned.
【００１０】本発明におけるニトロ化は通常のニトロ化
手段を任意に採用することができる。ニトロ化剤として
は硝酸、硫酸、硫酸−硝酸よりなる混酸，硝酸−酢酸よ
りなる混酸、硝酸塩−硫酸、五酸化二窒素、有機硝酸エ
ステルなどが挙げられるが、とりわけ硝酸が好ましい。
使用する硝酸の濃度は、５〜７０重量％、好ましくは５
〜４０重量％であり、その使用量は一般式（２）で示さ
れる２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールに対
し、１当量以上になるような量で用いる。場合によって
は硝酸をもって溶媒を兼ねさせることもある。For the nitration in the present invention, any ordinary nitration means can be employed. Examples of the nitrating agent include nitric acid, sulfuric acid, a mixed acid composed of sulfuric acid-nitric acid, a mixed acid composed of nitric acid-acetic acid, nitrate-sulfuric acid, nitrous oxide, and an organic nitrate ester, with nitric acid being particularly preferred.
The concentration of nitric acid used is 5 to 70% by weight, preferably 5 to 70% by weight.
４０40% by weight, and the amount used is 1 equivalent or more based on 2-hydroxyphenylbenzotriazole represented by the general formula (2). In some cases, nitric acid may also serve as the solvent.
【００１１】通常、ニトロ化にあたっては、その反応条
件では不活性の溶媒を使用することができる。その不活
性溶媒としては、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
トリクロロベンゼン、ニトロベンゼンなどがあるが、好
ましくは、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンであり、
その使用量は一般式（２）の化合物に対し、３〜１０倍
量で好ましくは５〜７倍量である。Usually, in the nitration, a solvent which is inert under the reaction conditions can be used. As the inert solvent, chlorobenzene, dichlorobenzene,
There are trichlorobenzene, nitrobenzene, etc., preferably, chlorobenzene, dichlorobenzene,
The amount used is 3 to 10 times, preferably 5 to 7 times the amount of the compound of the general formula (2).
【００１２】ニトロ化の反応温度は１０〜８０℃であり
好ましくは３０〜６０℃である。The reaction temperature for nitration is from 10 to 80 ° C, preferably from 30 to 60 ° C.
【００１３】一般式（３）の化合物を還元して一般式
（１）の化合物にする方法は、接触水素化方法、強酸あ
るいは苛性アルカリ中金属で還元する方法、硫化アルカ
リまたはヒドラジンで還元する一般的な還元法が採用さ
れるが好ましくは接触水素化方法である。The method of reducing the compound of the general formula (3) to the compound of the general formula (1) includes catalytic hydrogenation, reduction with a strong acid or metal in caustic alkali, reduction with alkali sulfide or hydrazine. Although a typical reduction method is employed, a catalytic hydrogenation method is preferred.
【００１４】前記還元反応にあたっては、通常触媒とし
て、ラネーニッケル、パラジウム、ロジウム、白金など
を使用することができる。In the above-mentioned reduction reaction, Raney nickel, palladium, rhodium, platinum and the like can be usually used as a catalyst.
【００１５】[0015]
【実施例】つぎに実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれにより何ら限定されるものではない。The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited thereby.
【００１６】実施例１ （１）２−（２−ヒドロキシ−３−ニトロ−５−メチル
フェニル）ベンゾトリアゾールの合成 温度計、撹拌器を付した３リットルフラスコに１７ｗｔ
％硝酸１５００ｇを取り、強力な撹拌下４０〜４５℃に
加熱した状態で粉砕した２−（２−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール６７．５ｇを少量ず
つ３時間かけて加え、加え終わってから内温を５５〜６
０℃に昇温して、同温度で３時間撹拌反応し析出してい
る黄色結晶を濾過により採取し、充分水洗後乾燥すると
７９ｇの２−（２−ヒドロキシ−３−ニトロ−５−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾールの粗製品を得た（融点
１７０〜１８０℃）。この粗製品をトルエン５００ｇに
加熱溶解後、少量の不溶性分を濾過により除去し、濾液
を冷却後、析出した結晶を濾過により分離し、少量のト
ルエンで洗浄後乾燥すると７０．０ｇの収量で精製品を
得た。 融点１８２．５〜１８３．８℃ 収率８６．４％。Example 1 (1) Synthesis of 2- (2-hydroxy-3-nitro-5-methylphenyl) benzotriazole 17 wt. In a 3 liter flask equipped with a thermometer and a stirrer.
% Nitric acid, 1500 g, heated and heated to 40-45 ° C. under vigorous stirring, and 67.5 g of pulverized 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole are added little by little over 3 hours. From 55 to 6
The temperature was raised to 0 ° C., and the mixture was stirred and reacted at the same temperature for 3 hours. The precipitated yellow crystals were collected by filtration, washed sufficiently with water and dried to obtain 79 g of 2- (2-hydroxy-3-nitro-5-methylphenyl). ) A crude product of benzotriazole was obtained (melting point 170-180 ° C). After dissolving this crude product in 500 g of toluene by heating, a small amount of insoluble matter is removed by filtration. After cooling the filtrate, the precipitated crystal is separated by filtration, washed with a small amount of toluene and dried, and then dried in a yield of 70.0 g. Got the product. Melting point: 182.5-183.8 ° C. Yield: 86.4%.
【００１７】（２）２−（２−ヒドロキシ−３−アミノ
−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールの合成 ５００ｍｌのオートクレーブに前項（１）で合成した２
−（２−ヒドロキシ−３−ニトロ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール２７ｇ、イソプロピルアルコー
ル２５０ｇ、トルエン５０ｇを加え、更に触媒としてラ
ネーニッケル１．５ｇ添加してから８気圧になるまで水
素を導入する。撹拌下、８０℃に昇温し、同温度で３時
間反応させて還元反応を終了する。残存水素を系外に除
去後、窒素気流下で濾過し、ラネーニッケルを回収後、
濾液のイソプロピルアルコール、トルエンを蒸留により
回収し、析出した結晶を濾過により採取した後、イソプ
ロピルアルコールから再結晶すると２３４ｇの収量で２
−（２−ヒドロキシ−３−アミノ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾールを得た。 融点２２０〜２２１℃ 収率９２．１％。(2) Synthesis of 2- (2-hydroxy-3-amino-5-methylphenyl) benzotriazole In a 500 ml autoclave, 2 was synthesized in the above item (1).
27 g of-(2-hydroxy-3-nitro-5-methylphenyl) benzotriazole, 250 g of isopropyl alcohol and 50 g of toluene are added. Further, 1.5 g of Raney nickel is added as a catalyst, and hydrogen is introduced until the pressure becomes 8 atm. The temperature is raised to 80 ° C. with stirring, and the reaction is carried out at the same temperature for 3 hours to complete the reduction reaction. After removing residual hydrogen outside the system, filtration under a nitrogen stream, and recovery of Raney nickel,
The isopropyl alcohol and toluene in the filtrate were recovered by distillation, and the precipitated crystals were collected by filtration and recrystallized from isopropyl alcohol to give 234 g in a yield of 234 g.
-(2-Hydroxy-3-amino-5-methylphenyl) benzotriazole was obtained. Melting point 220-221 [deg.] C yield 92.1%.
【００１８】本化合物１．０ｍｇをクロロホルム１００
ｍｌに溶解したものの吸収スペクトルを測定した所、最
大吸収波長は３２４ｎｍで分子吸光係数は２．１７×１
０4（トルエン）であった。The compound (1.0 mg) was added to chloroform (100).
When the absorption spectrum of the solution dissolved in ml was measured, the maximum absorption wavelength was 324 nm and the molecular absorption coefficient was 2.17 × 1.
0 was 4 (toluene).
【００１９】対象化合物であるアミノ基未置換の２−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリア
ゾール（従来の吸収剤）の最大吸収波長は３４５ｎｍで
分子吸光係数は１．６５×１０4（トルエン）であっ
た。The target compound, amino-unsubstituted 2-
(2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole (conventional absorbent) had a maximum absorption wavelength of 345 nm and a molecular extinction coefficient of 1.65 × 10 4 (toluene).
【００２０】実施例２ （１）２−（２−ヒドロキシ−３−ニトロ−５−ｔ−オ
クチルフェニル）ベンゾトリアゾールの合成 １リットルコルベンに６２ｗｔ％硝酸４６．７ｇ、水１
２０ｍｌを取り、撹拌下４５〜５０℃に加熱し、これ
に、クロロベンゼン６０．０ｇに２−（２−ヒドロキシ
−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール９
６．９ｇを５０℃で溶解した液を３．５時間で滴下し
た。滴下終了後、徐々に５５℃まで昇温し、５５〜６０
℃で３時間反応させた。反応終了後、１５℃に冷却し、
析出した結晶を濾過により採取し、９９．３ｇの収量で
２−（２−ヒドロキシ−３−ニトロ−５−ｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾールを得た。 融点１３９〜１４１℃ 収率９０．０％。Example 2 (1) Synthesis of 2- (2-hydroxy-3-nitro-5-tert-octylphenyl) benzotriazole In a 1-liter corbene, 46.7 g of 62 wt% nitric acid and 1 water
Take 20 ml and heat to 45-50 ° C. with stirring, add 2- (2-hydroxy-5-t-octylphenyl) benzotriazole 9 to 60.0 g of chlorobenzene.
A solution in which 6.9 g was dissolved at 50 ° C. was added dropwise over 3.5 hours. After completion of the dropping, the temperature is gradually raised to 55 ° C.
The reaction was carried out at a temperature of 3 ° C. for 3 hours. After the completion of the reaction, the mixture was cooled to 15 ° C.
The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 99.3 g of 2- (2-hydroxy-3-nitro-5-t-octylphenyl) benzotriazole. 139-141 ° C, yield 90.0%.
【００２１】（２）２−（２−ヒドロキシ−３−アミノ
−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールの合
成 実施例１に於ける２−（２−ヒドロキシ−３−ニトロ−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール２７ｇの代わ
りに実施例２の（１）で得た２−（２−ヒドロキシ−３
−ニトロ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール３６．８ｇを使用した以外は全く実施例１と同様に
実施し、３２．７ｇの収量で２−（２−ヒドロキシ−３
−アミノ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ールを得た。 融点１４９．９〜１５０．８℃ 収率９３．０％。(2) Synthesis of 2- (2-hydroxy-3-amino-5-t-octylphenyl) benzotriazole 2- (2-hydroxy-3-nitro-
2- (2-hydroxy-3) obtained in (1) of Example 2 instead of 27 g of 5-methylphenyl) benzotriazole
-Nitro-5-t-octylphenyl) benzotriazole was carried out in the same manner as in Example 1 except for using 36.8 g, and 2- (2-hydroxy-3) was obtained in a yield of 32.7 g.
-Amino-5-t-octylphenyl) benzotriazole was obtained. 149.9-150.8 degreeC of melting | fusing point 93.0% of a yield.
【００２２】本化合物１．０ｍｇをクロロホルム１００
ｍｌに溶解したものの吸収スペクトルを測定した所、最
大吸収波長は３２４．５ｎｍで分子吸光係数は２．２０
×１０4（トルエン）であった。The compound (1.0 mg) was added to chloroform 100
When the absorption spectrum of the solution dissolved in ml was measured, the maximum absorption wavelength was 324.5 nm and the molecular extinction coefficient was 2.20.
× 10 4 (toluene).
【００２３】対象化合物であるアミノ基未置換の２−
（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール（従来の吸収剤）の最大吸収波長は３４５
ｎｍで分子吸光係数１．６５×１０4（トルエン）であ
った。The target compound, amino-unsubstituted 2-
The maximum absorption wavelength of (2-hydroxy-5-t-octylphenyl) benzotriazole (conventional absorbent) is 345.
The molecular extinction coefficient was 1.65 × 10 4 (toluene) in nm.
【００２４】[0024]
【効果】本発明の化合物は新規な化合物であると共に紫
外線をよく吸収するので紫外線吸収剤としてプラスチッ
ク、塗料、油、化粧品等に使用できる。式（１）におけ
るアミノ基を持たないフェニルベンゾトリアゾール類は
現在も有用な紫外線吸収剤として市販されているがそれ
にアミノ基を導入した本発明化合物は、従来品に比し
１．３〜１．６倍の紫外線吸収能を有する。しかも、太
陽光線中最も有害とされている３２０〜３３０ｎｍに強
力でしかも鋭利な吸収能を有する。The compound of the present invention is a novel compound and absorbs ultraviolet light well, so that it can be used as an ultraviolet absorber in plastics, paints, oils, cosmetics and the like. Although phenylbenzotriazoles having no amino group in the formula (1) are still commercially available as useful ultraviolet absorbers, the compounds of the present invention having an amino group introduced therein are 1.3 to 1. It has 6 times the ultraviolet absorption capacity. In addition, it has a strong and sharp absorption capability at 320 to 330 nm, which is considered to be the most harmful in sunlight.
Claims (3)
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される３−アミノフェニルベ
ンゾトリアゾール系化合物。[Claim 1] The following general formula (1) (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. 3-aminophenylbenzotriazole-based compound represented by the formula:
ゾトリアゾール系化合物を含有することを特徴とする紫
外線吸収剤。2. An ultraviolet absorber comprising the 3-aminophenylbenzotriazole-based compound according to claim 1.
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される２−ヒドロキシフェニ
ルベンゾトリアゾールをニトロ化し、下記一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ1は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される２−ヒドロキシ−３−
ニトロ−フェニルベンゾトリアゾールを得、ついでこの
化合物のニトロ基をアミノ基に変換することを特徴とす
る下記一般式（１） 【化４】 （式中、Ｒ1は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキ
シル基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８
のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基お
よびアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル
基よりなる群から選ばれた基であり、Ｒ2、Ｒ3は水素、
ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシル
基およびスルホン酸基よりなる群からそれぞれ独立して
選ばれた基である。）で示される３−アミノフェニルベ
ンゾトリアゾール系化合物の製造方法。3. The following general formula (2): (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. The 2-hydroxyphenylbenzotriazole represented by the formula) is nitrated to give the following general formula (3). (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. 2-hydroxy-3-)
A nitro-phenylbenzotriazole is obtained, and the nitro group of this compound is converted to an amino group. (In the formula, R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, a phenyl group, and 1 to 8 carbon atoms.
A phenyl group substituted with an alkyl group, a phenoxy group and a phenylalkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, wherein R 2 and R 3 are hydrogen,
It is a group independently selected from the group consisting of halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group and a sulfonic acid group. A method for producing a 3-aminophenylbenzotriazole-based compound represented by the following formula:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34215297A JPH11158163A (en) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | 3-aminobenzotriazole, its use and production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34215297A JPH11158163A (en) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | 3-aminobenzotriazole, its use and production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158163A true JPH11158163A (en) | 1999-06-15 |
Family
ID=18351535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34215297A Pending JPH11158163A (en) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | 3-aminobenzotriazole, its use and production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158163A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2440638A (en) * | 2007-07-24 | 2008-02-06 | Ciba Sc Holding Ag | 2-(2'-Hydroxy-4'-aminophenyl)benzotriazoles as UV protecting agents |
| US8221729B2 (en) | 2006-07-27 | 2012-07-17 | Basf Se | Use of aminophenylbenzotriazole derivatives for protecting human and animal skin and hair from the harmful effects of UV radiation and cosmetic compositions thereof |
| JP2018528165A (en) * | 2015-07-07 | 2018-09-27 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Substituted benzotriazole phenol |
| WO2023120036A1 (en) * | 2021-12-22 | 2023-06-29 | 富士フイルム株式会社 | Resin composition, film, optical filter, solid-state imaging element, and image display device |
-
1997
- 1997-11-27 JP JP34215297A patent/JPH11158163A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8221729B2 (en) | 2006-07-27 | 2012-07-17 | Basf Se | Use of aminophenylbenzotriazole derivatives for protecting human and animal skin and hair from the harmful effects of UV radiation and cosmetic compositions thereof |
| GB2440638A (en) * | 2007-07-24 | 2008-02-06 | Ciba Sc Holding Ag | 2-(2'-Hydroxy-4'-aminophenyl)benzotriazoles as UV protecting agents |
| JP2018528165A (en) * | 2015-07-07 | 2018-09-27 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Substituted benzotriazole phenol |
| WO2023120036A1 (en) * | 2021-12-22 | 2023-06-29 | 富士フイルム株式会社 | Resin composition, film, optical filter, solid-state imaging element, and image display device |
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