JPH11157062A - Ink jet type recording head - Google Patents

Ink jet type recording head

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JPH11157062A
JPH11157062A JP32482197A JP32482197A JPH11157062A JP H11157062 A JPH11157062 A JP H11157062A JP 32482197 A JP32482197 A JP 32482197A JP 32482197 A JP32482197 A JP 32482197A JP H11157062 A JPH11157062 A JP H11157062A
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pressure generating
generating chamber
piezoelectric
recording head
ink jet
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    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2002/14491Electrical connection

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent cracks or the like to be generated in the vicinity of a peripheral wall of a pressure generating chamber of a piezoelectric body active section and secure durability. SOLUTION: An ink jet type recording head is provided with a piezoelectric vibrator with a piezoelectric body active section 320 constituted of a piezoelectric body layer 70 and an upper electrode 80 on a vibration plate surface constituting a part of a pressure generating chamber 12 communicated with a nozzle hole, and the piezoelectric body active section 320 is provided with a connecting section 321 across the boundary between an area facing the pressure generating chamber 12 and an area facing the peripheral wall of a longitudinal direction end of the pressure generating chamber 12 formed at least on one end section, and vibration control layer coating at least the piezoelectric body active section 320 and controlling the vibration of the vibration plate is formed on the side, on which at least the connecting section 321 formed, of the longitudinal direction end of the pressure generating chamber 12. The vibration of the vibration plate in an area facing the vicinity of the boundary of the pressure generating chamber 12 is controlled by the arrangement to prevent the breakdown generated by cracks and improve durability.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出す
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板の表面に圧電体層を形成して、圧電体
層の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure generating chamber which is in communication with a nozzle opening for discharging ink droplets, and which is constituted by a vibrating plate. The present invention relates to an ink jet recording head that ejects ink droplets by displacement of a layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電振動子により変形させて圧力発生室のインクを加圧し
てノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット
式記録ヘッドには、圧電振動子の軸方向に伸長、収縮す
る縦振動モードの圧電振動子を使用したものと、たわみ
振動モードの圧電振動子を使用したものの2種類が実用
化されている。
2. Description of the Related Art A part of a pressure generating chamber which communicates with a nozzle opening for discharging ink droplets is constituted by a vibrating plate. There are two types of ink-jet recording heads that eject ink droplets from a piezoelectric vibrator, one that uses a longitudinal vibration mode piezoelectric vibrator that expands and contracts in the axial direction of the piezoelectric vibrator, and the other that uses a flexural vibration mode piezoelectric vibrator. Has been put to practical use.

【0003】前者は圧電振動子の端面を振動板に当接さ
せることにより圧力発生室の容積を変化させることがで
きて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電振動子をノズル開口の配列ピッチに一致させて
櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられ
た圧電振動子を圧力発生室に位置決めして固定する作業
が必要となり、製造工程が複雑であるという問題があ
る。
In the former method, the volume of the pressure generating chamber can be changed by bringing the end face of the piezoelectric vibrator into contact with the vibrating plate, so that a head suitable for high-density printing can be manufactured. A complicated process of cutting the piezoelectric vibrators into a comb-tooth shape in accordance with the arrangement pitch of the nozzle openings, and a work of positioning and fixing the separated piezoelectric vibrators in the pressure generating chambers, which complicates the manufacturing process. There is.

【0004】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電振動子を
作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する
関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困
難であるという問題がある。
On the other hand, in the latter, a piezoelectric vibrator can be formed on a diaphragm by a relatively simple process of sticking a green sheet of a piezoelectric material according to the shape of a pressure generating chamber and firing the green sheet. However, due to the use of flexural vibration, a certain area is required, and there is a problem that high-density arrangement is difficult.

【0005】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電振動子を形成したものが提案
されている。
On the other hand, in order to solve the latter disadvantage of the recording head, a uniform piezoelectric material layer is formed by a film forming technique over the entire surface of the diaphragm as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-286131. A proposal has been made in which this piezoelectric material layer is cut into a shape corresponding to the pressure generating chambers by lithography, and a piezoelectric vibrator is formed so as to be independent for each pressure generating chamber.

【0006】これによれば圧電振動子を振動板に貼付け
る作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、
かつ簡便な手法で圧電振動子を作り付けることができる
ばかりでなく、圧電振動子の厚みを薄くできて高速駆動
が可能になるという利点がある。
[0006] According to this, the work of attaching the piezoelectric vibrator to the diaphragm is not required, and the precision of the lithography method is used.
In addition to the fact that the piezoelectric vibrator can be manufactured by a simple and simple method, there is an advantage that the thickness of the piezoelectric vibrator can be reduced and high-speed driving is possible.

【0007】また、この場合、圧電材料層は振動板の表
面全体に設けたままで少なくとも上電極のみを各圧力発
生室毎に設けることにより、各圧力発生室に対応する圧
電振動子を駆動することができるが、単位駆動電圧当た
りの変位量および圧力発生室に対向する部分とその外部
とを跨ぐ部分で圧電体層へかかる応力の問題から、圧電
体層および上電極からなる圧電体能動部を、少なくとも
一端部以外は圧力発生室外に出ないように形成するのが
望ましい。
In this case, the piezoelectric vibrator corresponding to each pressure generating chamber is driven by providing at least only the upper electrode for each pressure generating chamber while the piezoelectric material layer is provided on the entire surface of the vibration plate. However, due to the problem of the amount of displacement per unit driving voltage and the stress applied to the piezoelectric layer at the part facing the pressure generating chamber and the part straddling the outside, the piezoelectric active part consisting of the piezoelectric layer and the upper electrode is However, it is desirable that at least one end be formed so as not to go outside the pressure generating chamber.

【0008】さらに、このようなたわみモードの圧電振
動子を使用した記録ヘッドでは、一般には、各圧力発生
室に対応する圧電振動子は絶縁体層で覆われ、この絶縁
体層には各圧電振動子を駆動するための電圧を供給する
リード電極との接続部を形成するために窓(以下、コン
タクトホールという)が各圧力発生室に対応して設けら
れており、各圧電振動子とリード電極の接続部がコンタ
クトホール内に形成される。
Further, in a recording head using such a flexural mode piezoelectric vibrator, generally, the piezoelectric vibrators corresponding to the respective pressure generating chambers are covered with an insulating layer, and each of the piezoelectric layers is covered with an insulating layer. A window (hereinafter, referred to as a contact hole) is provided for each pressure generating chamber to form a connection portion with a lead electrode for supplying a voltage for driving the vibrator. An electrode connection is formed in the contact hole.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たたわみモードの圧電振動子を使用した記録ヘッドで
は、圧電体能動部が圧力発生室とその周壁との境界を横
切る部分で、圧電体層にクラックが発生し易いという問
題がある。
However, in the above-described recording head using the flexural mode piezoelectric vibrator, the piezoelectric active portion crosses the boundary between the pressure generating chamber and its peripheral wall, and cracks in the piezoelectric layer. There is a problem that is easily generated.

【0010】ところで、上述したようなインクジェット
式記録ヘッドにおいては、圧電振動子の駆動による振動
板の変位効率を向上するために、圧電振動子の両側に対
応する部分の振動板を薄くする構造が提案されている。
しかしながら、このように変位を大きくとるようにする
と、特に、上述したような圧力発生室の周壁近傍、ある
いはコンタクトホール近傍にクラック等の破壊が生じ易
い傾向が助長される。
Incidentally, in the above-mentioned ink jet recording head as described above, in order to improve the displacement efficiency of the diaphragm by driving the piezoelectric vibrator, a structure in which portions of the diaphragm corresponding to both sides of the piezoelectric vibrator are thinned. Proposed.
However, such a large displacement promotes the tendency of breakage such as cracks to occur particularly near the peripheral wall of the pressure generating chamber or near the contact hole as described above.

【0011】また、これらの問題は、特に、圧電材料層
を成膜技術で形成した場合に生じやすい。なぜなら、成
膜技術で形成した圧電材料層は非常に薄いため、圧電振
動子を貼付したものに比較して剛性が低いためである。
[0011] These problems tend to occur particularly when the piezoelectric material layer is formed by a film forming technique. This is because the piezoelectric material layer formed by the film formation technique is extremely thin, and therefore has lower rigidity than a piezoelectric vibrator attached thereto.

【0012】本発明はこのような事情に鑑み、圧電体能
動部の圧力発生室の周壁近傍での剥がれ及び割れ等並び
に振動板の割れ等を防止し、耐久性を確保することがで
きるインクジェット式記録ヘッドを提供することを課題
とする。
In view of such circumstances, the present invention can prevent the peeling and cracking near the peripheral wall of the pressure generating chamber of the piezoelectric active portion, the cracking of the diaphragm, etc., and can ensure the durability of the ink jet type. It is an object to provide a recording head.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室の
一部を構成し且つ少なくとも上面が下電極として作用す
る振動板と、該振動板の表面に形成された圧電体層及び
該圧電体層の表面に形成された上電極からなり且つ前記
圧力発生室に対向する領域に形成された圧電体能動部と
からなる圧電振動子を備え、前記圧電体能動部の少なく
とも一端部に前記圧力発生室に対向する領域と当該圧力
発生室の長手方向端部の周壁に対向する領域との境界を
横切る連結部を有するインクジェット式記録ヘッドにお
いて、前記圧力発生室の長手方向端部の少なくとも前記
連結部が設けられた側に、当該端部近傍の少なくとも前
記圧電体能動部上に積層されて前記振動板の振動を規制
する振動規制層を有することを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッドにある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a diaphragm which forms a part of a pressure generating chamber which communicates with a nozzle opening and has at least an upper surface serving as a lower electrode. A piezoelectric vibrator comprising: a piezoelectric layer formed on the surface of the vibration plate; and an upper electrode formed on the surface of the piezoelectric layer, and a piezoelectric active portion formed in a region facing the pressure generating chamber. An ink jet recording head having a connecting portion at at least one end of the piezoelectric active portion, which crosses a boundary between a region facing the pressure generating chamber and a region facing a peripheral wall at a longitudinal end of the pressure generating chamber. , A vibration regulating layer that is laminated on at least the piezoelectric active portion near the end of the longitudinal end of the pressure generating chamber at the side where the connecting portion is provided and regulates the vibration of the diaphragm. To In an ink jet recording head, characterized by.

【0014】かかる第1の態様では、圧電体能動部の端
部又は連結部での振動板の振動が規制され、圧電体能動
部の剥がれ及び割れ等並びに振動板の割れ等が防止され
る。
In the first aspect, the vibration of the vibration plate at the end portion or the connection portion of the piezoelectric active portion is regulated, and peeling and cracking of the piezoelectric active portion and cracking of the diaphragm are prevented.

【0015】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記圧力発生室の少なくとも長手方向端部近傍を覆
うように績層された絶縁体層が前記振動規制層を構成す
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the insulating layer formed so as to cover at least the vicinity of the longitudinal end of the pressure generating chamber constitutes the vibration regulating layer. The feature is the ink jet recording head.

【0016】かかる第2の態様では、絶縁体層により、
圧力発生室の長手方向端部近傍での圧電体能動部の剥が
れ及び割れ等並びに振動板の割れ等が防止される。
In the second aspect, the insulating layer provides
Peeling and cracking of the piezoelectric active portion near the longitudinal end of the pressure generating chamber and cracking of the diaphragm are prevented.

【0017】本発明の第3の態様は、第1又は2の態様
において、前記圧電体能動部の少なくとも前記連結部上
に設けられている層が前記振動規制層を構成することを
特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, a layer provided on at least the connecting portion of the piezoelectric active portion constitutes the vibration regulating layer. In the ink jet recording head.

【0018】かかる第3の態様では、連結部に対応する
部分の圧電体能動部の剥がれ及び割れ等並びに振動板の
割れ等が防止される。
In the third aspect, peeling and cracking of the piezoelectric active portion at a portion corresponding to the connecting portion and cracking of the diaphragm are prevented.

【0019】本発明の第4の態様は、第3の態様におい
て、前記上電極の膜厚を他の部分より大きくすることに
より前記振動規制層を構成することを特徴とするインク
ジェット式記録ヘッドにある。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording head according to the third aspect, wherein the vibration regulating layer is formed by making the upper electrode thicker than other portions. is there.

【0020】かかる第4の態様では、上電極の膜厚を他
の部分よりも大きくすることで振動が規制され、圧電体
能動部の剥がれ及び割れ等並びに振動板の割れ等が防止
される。
In the fourth aspect, the vibration is regulated by making the thickness of the upper electrode larger than that of the other portions, and peeling and cracking of the piezoelectric active portion and cracking of the diaphragm are prevented.

【0021】本発明の第5の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、少なくとも前記圧電体能動部の幅方向
両側で前記圧力発生室の縁部に沿った部分の前記振動板
は、当該圧電体能動部に対応する部分の当該振動板の厚
さより薄い薄肉部となっていることを特徴とするインク
ジェット式記録ヘッドにある。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, at least portions of the vibrating plate along the edge of the pressure generating chamber on both sides in the width direction of the piezoelectric active portion are provided. And a thin portion thinner than a thickness of the diaphragm at a portion corresponding to the piezoelectric active portion.

【0022】かかる第5態様では、圧力発生室に対向す
る領域の圧電体能動部への電圧印加による変位量が向上
される。
In the fifth aspect, the amount of displacement caused by applying a voltage to the piezoelectric active portion in the region facing the pressure generating chamber is improved.

【0023】本発明の第6の態様は、第1〜5の何れか
の態様において、前記連結部は、前記圧電体層及び前記
上電極の両者が他の部分より幅狭に形成されたものであ
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fifth aspects, the connecting portion is formed such that both the piezoelectric layer and the upper electrode are formed narrower than other portions. An ink jet recording head is characterized in that:

【0024】かかる第6の態様では、連結部での応力が
小さくなり、クラック等の破壊が防止される。
[0024] In the sixth aspect, the stress at the connecting portion is reduced, and breakage such as cracks is prevented.

【0025】本発明の第7の態様は、第1〜5の何れか
の態様において、前記連結部は、前記上電極のみが他の
部分より幅狭に形成されたものであることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to fifth aspects, the connection portion is formed such that only the upper electrode is formed narrower than other portions. Ink-jet recording head.

【0026】かかる第7の態様では、連結部での応力が
小さくなり、クラック等の破壊が防止され、耐久性が向
上する。
In the seventh aspect, the stress at the connecting portion is reduced, breakage such as cracks is prevented, and durability is improved.

【0027】本発明の第8の態様は、第1〜7の何れか
の態様において、前記圧電体能動部へ電圧を印加するた
めのリード電極と前記上電極との接続を行うコンタクト
部が、前記圧力発生室の周壁に対向する部分に設けられ
ていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドに
ある。
According to an eighth aspect of the present invention, in any one of the first to seventh aspects, a contact portion for connecting a lead electrode for applying a voltage to the piezoelectric active portion to the upper electrode is provided. An ink jet recording head is provided at a portion facing a peripheral wall of the pressure generating chamber.

【0028】かかる第8の態様では、コンタクト部での
クラック等の破壊が防止される。
In the eighth aspect, breakage of a crack or the like at the contact portion is prevented.

【0029】本発明の第9の態様は、第1〜8の何れか
の態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶基板
に異方性エッチングにより形成され、前記圧電振動子の
各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたもので
あることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
According to a ninth aspect of the present invention, in any one of the first to eighth aspects, the pressure generation chamber is formed by anisotropic etching on a silicon single crystal substrate, and each layer of the piezoelectric vibrator is formed by film formation. And an ink jet recording head formed by a lithography method.

【0030】かかる第9の態様では、高密度のノズル開
口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ比
較的容易に製造することができる。
According to the ninth aspect, an ink jet recording head having high-density nozzle openings can be manufactured in a large amount and relatively easily.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下に本発明を実施形態に基づい
て詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.

【0032】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す組立斜視図
であり、図2は、平面図及びその1つの圧力発生室の長
手方向における断面構造を示す図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is an assembled perspective view showing an ink jet recording head according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a plan view and a cross section of one of the pressure generating chambers in the longitudinal direction. It is a figure showing a structure.

【0033】図示するように、流路形成基板10は、本
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
As shown in the figure, the flow path forming substrate 10 is made of a silicon single crystal substrate having a plane orientation (110) in this embodiment. As the flow path forming substrate 10, usually 150 to 3
A thickness of about 00 μm is used.
Those having a thickness of about 0 to 280 μm, more preferably about 220 μm are suitable. This is because the arrangement density can be increased while maintaining the rigidity of the partition wall between the adjacent pressure generating chambers.

【0034】流路形成基板10の一方の面は開口面とな
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ0.1〜2μmの弾性膜50が形成
されている。
One surface of the flow path forming substrate 10 is an opening surface, and the other surface is formed with a 0.1 to 2 μm thick elastic film 50 made of silicon dioxide previously formed by thermal oxidation.

【0035】一方、流路形成基板10の開口面には、シ
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。
On the other hand, the opening surface of the flow path forming substrate 10 is anisotropically etched on a silicon single crystal substrate,
A nozzle opening 11 and a pressure generating chamber 12 are formed.

【0036】ここで、異方性エッチングは、シリコン単
結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)と約35度の角度をなす第2の(11
1)面とが出現し、(110)面のエッチングレートと
比較して(111)面のエッチングレートが約1/18
0であるという性質を利用して行われるものである。か
かる異方性エッチングにより、二つの第1の(111)
面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成される平
行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うこと
ができ、圧力発生室12を高密度に配列することができ
る。
Here, in the anisotropic etching, when the silicon single crystal substrate is immersed in an alkaline solution such as KOH, the substrate is gradually eroded and the first (111) plane perpendicular to the (110) plane and the first (111) plane are formed. The second (11) which forms an angle of about 70 degrees with the (111) plane and forms an angle of about 35 degrees with the above (110).
1) plane appears, and the etching rate of the (111) plane is about 1/18 as compared with the etching rate of the (110) plane.
This is performed using the property of being 0. By such anisotropic etching, two first (111)
Precision processing can be performed based on the depth processing of a parallelogram formed by two surfaces and two oblique second (111) surfaces, and the pressure generating chambers 12 can be arranged at high density.

【0037】本実施形態では、各圧力発生室12の長辺
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
In this embodiment, the long side of each pressure generating chamber 12 is formed by the first (111) plane, and the short side is formed by the second (111) plane. The pressure generating chamber 12 is provided on the flow path forming substrate 1.
It is formed by etching until it reaches the elastic film 50 almost through 0. The amount of the elastic film 50 that is attacked by the alkaline solution for etching the silicon single crystal substrate is extremely small.

【0038】一方、各圧力発生室12の一端に連通する
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。
On the other hand, each nozzle opening 11 communicating with one end of each pressure generating chamber 12 is formed narrower and shallower than the pressure generating chamber 12. That is, the nozzle opening 11 is formed by partially etching (half-etching) the silicon single crystal substrate in the thickness direction. In addition,
Half etching is performed by adjusting the etching time.

【0039】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
Here, the size of the pressure generating chamber 12 for applying the ink droplet ejection pressure to the ink and the size of the nozzle opening 11 for ejecting the ink droplet depend on the amount of the ejected ink droplet, the ejection speed, and the ejection frequency. Optimized. For example,
When recording 360 ink droplets per inch, the nozzle openings 11 need to be formed with a groove width of several tens of μm with high accuracy.

【0040】また、各圧力発生室12と後述する共通イ
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
Further, each pressure generating chamber 12 and a common ink chamber 31 described later are connected to each pressure generating chamber 1 of the sealing plate 20 described later.
The ink is supplied from a common ink chamber 31 through the ink supply communication port 21 formed at a position corresponding to one end of the pressure generation chamber 12. Distributed to

【0041】封止板20は、前述の各圧力発生室12に
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一つのスリット
孔21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであっ
てもよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10
の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外
力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板2
0は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
The sealing plate 20 is provided with an ink supply communication port 21 corresponding to each of the pressure generating chambers 12 described above, has a thickness of, for example, 0.1 to 1 mm, and has a linear expansion coefficient of 300 ° C. or less. , For example, 2.5-4.5 [× 10 −6 / ° C.]. In addition, the ink supply communication port 21
Each of the pressure generating chambers 1 is, as shown in FIGS.
It may be one slit hole 21A crossing the vicinity of the second ink supply side end or a plurality of slit holes 21B. The sealing plate 20 is provided on one side with the flow path forming substrate 10.
, And also serves as a reinforcing plate for protecting the silicon single crystal substrate from impacts and external forces. Also, sealing plate 2
0 forms one wall surface of the common ink chamber 31 on the other surface.

【0042】共通インク室形成基板30は、共通インク
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
The common ink chamber forming substrate 30 forms the peripheral wall of the common ink chamber 31 and is formed by punching a stainless steel plate having an appropriate thickness according to the number of nozzles and the ink droplet ejection frequency. . In the present embodiment, the thickness of the common ink chamber forming substrate 30 is 0.2 mm.

【0043】インク室側板40は、ステンレス基板から
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
The ink chamber side plate 40 is made of a stainless steel substrate, and one surface thereof constitutes one wall surface of the common ink chamber 31. In the ink chamber side plate 40, a thin wall 41 is formed by forming a concave portion 40a by half etching on a part of the other surface, and an ink introduction port 42 for receiving ink supply from the outside is punched and formed. ing. The thin wall 41 is for absorbing pressure generated at the time of ink droplet ejection toward the side opposite to the nozzle opening 11, and is unnecessary for the other pressure generating chambers 12 via the common ink chamber 31. Prevents positive or negative pressure from being applied.
In the present embodiment, the ink chamber side plate 40 is made 0.2 mm in consideration of rigidity required at the time of connection between the ink introduction port 42 and an external ink supply means, and a part of the thickness is 0.02 mm.
The thickness of the ink chamber side plate 40 may be 0.02 mm from the beginning in order to omit the formation of the thin wall 41 by half etching.

【0044】一方、流路形成基板10の開口面とは反対
側の弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.5μm
の下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜
70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電振動子
(圧電素子)を構成している。このように、弾性膜50
の各圧力発生室12に対向する領域には、各圧力発生室
12毎に独立して圧電振動子が設けられており、本実施
形態では、下電極膜60は圧電振動子の共通電極とし、
上電極膜80を圧電振動子の個別電極としているが、駆
動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。ま
た、本実施形態では、圧電体膜70を各圧力発生室12
に対応して個別に設けたが、圧電体膜を全体に設け、上
電極膜80を各圧力発生室12に対応するように個別に
設けてもよい。何れの場合においても、各圧力発生室1
2毎に圧電体能動部が形成されていることになる。
On the other hand, the thickness of the elastic film 50 on the opposite side of the opening surface of the flow path forming substrate 10 is, for example, about 0.5 μm.
A lower electrode film 60, a piezoelectric film 70 having a thickness of, for example, about 1 μm, and an upper electrode film 80 having a thickness of, for example, about 0.1 μm are formed by lamination in a process to be described later. (Piezoelectric element). Thus, the elastic film 50
In the region facing each pressure generating chamber 12, a piezoelectric vibrator is provided independently for each pressure generating chamber 12, and in the present embodiment, the lower electrode film 60 is a common electrode of the piezoelectric vibrator.
Although the upper electrode film 80 is used as an individual electrode of the piezoelectric vibrator, there is no problem even if the upper electrode film 80 is reversed for convenience of a drive circuit and wiring. In the present embodiment, the piezoelectric film 70 is connected to each pressure generating chamber 12.
However, the piezoelectric film may be provided as a whole, and the upper electrode film 80 may be separately provided so as to correspond to each pressure generating chamber 12. In any case, each pressure generating chamber 1
That is, a piezoelectric active portion is formed every two.

【0045】ここで、シリコン単結晶基板からなる流路
形成基板10上に、圧電体膜70等を形成するプロセス
を図4を参照しながら説明する。
Here, a process for forming the piezoelectric film 70 and the like on the flow path forming substrate 10 made of a silicon single crystal substrate will be described with reference to FIG.

【0046】図4(a)に示すように、まず、流路形成
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
As shown in FIG. 4A, first, a silicon single crystal substrate wafer serving as the flow path forming substrate 10 is
Thermal oxidation is performed in a diffusion furnace at 0 ° C. to form an elastic film 50 made of silicon dioxide.

【0047】次に、図4(b)に示すように、スパッタ
リングで下電極膜60を形成する。下電極膜60の材料
としては、Pt等が好適である。これは、スパッタリン
グやゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70は、成
膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜100
0℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるから
である。すなわち、下電極膜70の材料は、このような
高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければなら
ず、殊に、圧電体膜70としてPZTを用いた場合に
は、PbOの拡散による導電性の変化が少ないことが望
ましく、これらの理由からPtが好適である。
Next, as shown in FIG. 4B, a lower electrode film 60 is formed by sputtering. Pt or the like is preferable as the material of the lower electrode film 60. This is because a piezoelectric film 70 to be described later, which is formed by sputtering or a sol-gel method, has a thickness of 600 to 100
This is because it is necessary to perform crystallization by firing at a temperature of about 0 ° C. That is, the material of the lower electrode film 70 must be able to maintain conductivity at such a high temperature and in an oxidizing atmosphere. In particular, when PZT is used as the piezoelectric film 70, the conductivity of the material by diffusion of PbO is increased. It is desirable that there is little change in sex, and Pt is preferred for these reasons.

【0048】次に、図4(c)に示すように、圧電体膜
70を成膜する。この圧電体膜70の成膜にはスパッタ
リングを用いることもできるが、本実施形態では、金属
有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥
してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物
からなる圧電体膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法を
用いている。圧電体膜70の材料としては、チタン酸ジ
ルコン酸鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記録
ヘッドに使用する場合には好適である。
Next, as shown in FIG. 4C, a piezoelectric film 70 is formed. The piezoelectric film 70 can be formed by sputtering, but in this embodiment, a so-called sol in which a metal organic substance is dissolved and dispersed in a solvent is applied, dried and gelled, and further baked at a high temperature. A so-called sol-gel method for obtaining a piezoelectric film 70 made of an oxide is used. As a material for the piezoelectric film 70, a lead zirconate titanate (PZT) -based material is suitable when used in an ink jet recording head.

【0049】次に、図4(d)に示すように、上電極膜
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、Al、Au、Ni、Pt等の多くの金属
や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、P
tをスパッタリングにより成膜している。
Next, as shown in FIG. 4D, an upper electrode film 80 is formed. The upper electrode film 80 only needs to be a material having high conductivity, and many metals such as Al, Au, Ni, and Pt, and a conductive oxide can be used. In the present embodiment, P
t is formed by sputtering.

【0050】次に、図5に示すように、下電極膜60、
圧電体膜70及び上電極膜80をパターニングする。
Next, as shown in FIG. 5, the lower electrode film 60,
The piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 are patterned.

【0051】まず、図5(a)に示すように、下電極膜
60、圧電体膜70及び上電極膜80を一緒にエッチン
グして下電極膜60の全体パターンをパターニングす
る。次いで、図5(b)に示すように、圧電体膜70及
び上電極膜80のみをエッチングして圧電体能動部32
0のパターニングを行う。次に、図5(c)に示すよう
に、各圧力発生室12(図5では圧力発生室12は形成
前であるが、破線で示す)の幅方向両側に対向した領域
である圧電体能動部320の両側の振動板の腕に相当す
る部分の下電極膜60を除去することにより、下電極膜
除去部350を形成する。このように下電極膜除去部3
50を設けることにより、圧電体能動部320への電圧
印加による変位量の向上を図るものである。なお、下電
極膜除去部350は、下電極膜60を完全に除去せず、
厚さを相対的に薄くしてもよく、また、弾性膜50の厚
さ方向の一部まで除去してもよい。
First, as shown in FIG. 5A, the lower electrode film 60, the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 are etched together to pattern the entire pattern of the lower electrode film 60. Next, as shown in FIG. 5B, only the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 are etched to form the piezoelectric active portion 32.
0 patterning is performed. Next, as shown in FIG. 5 (c), the piezoelectric active region is a region opposed to both sides in the width direction of each pressure generating chamber 12 (in FIG. 5, the pressure generating chamber 12 has not been formed yet but is indicated by a broken line). By removing portions of the lower electrode film 60 corresponding to the arms of the diaphragm on both sides of the portion 320, a lower electrode film removing portion 350 is formed. Thus, the lower electrode film removing section 3
By providing 50, the amount of displacement due to application of a voltage to the piezoelectric body active section 320 is improved. The lower electrode film removing unit 350 does not completely remove the lower electrode film 60,
The thickness may be made relatively thin, or a part of the elastic film 50 in the thickness direction may be removed.

【0052】以上のように、下電極膜60等をパターニ
ングした後には、好ましくは、各上電極膜80の上面の
少なくとも周縁、及び圧電体膜70および下電極膜60
の側面を覆うように電気絶縁性を備えた絶縁体層90を
形成する(図1参照)。この際、後述するように、圧電
体能動部320の両端部には、他の部分の絶縁体層90
の厚さよりも厚い絶縁体層厚膜部95を形成する。
After patterning the lower electrode film 60 and the like as described above, preferably, at least the periphery of the upper surface of each upper electrode film 80, and the piezoelectric film 70 and the lower electrode film 60 are preferably formed.
Is formed so as to cover the side surfaces of the substrate (see FIG. 1). At this time, as will be described later, both ends of the piezoelectric active portion 320 are provided with the insulating layer 90 of another portion.
Is formed thicker than the thickness of the insulator layer 95.

【0053】そして、本実施形態では、絶縁体層厚膜部
95の各圧電体能動部320の一端部に対応する部分の
上面を覆う部分の一部には、後述するリード電極100
と接続するために上電極膜80の一部を露出させるコン
タクトホール90aが形成されている。そして、このコ
ンタクトホール90aを介して各上電極膜80に一端が
接続し、また他端が接続端子部に延びるリード電極10
0が形成されている。リード電極100は、駆動信号を
上電極膜80に確実に供給できる程度に可及的に狭い幅
となるように形成されている。
In this embodiment, a part of the insulating layer thick film portion 95 that covers the upper surface of the portion corresponding to one end of each piezoelectric active portion 320 has a lead electrode 100 described later.
A contact hole 90a exposing a part of the upper electrode film 80 is formed to connect with the contact hole 90a. One end is connected to each upper electrode film 80 via the contact hole 90a, and the other end is connected to the lead electrode 10 extending to the connection terminal portion.
0 is formed. The lead electrode 100 is formed so as to be as narrow as possible so as to reliably supply a drive signal to the upper electrode film 80.

【0054】このような絶縁体層の形成プロセスを図6
に示す。
FIG. 6 shows a process for forming such an insulator layer.
Shown in

【0055】まず、図6(a)に示すように、上電極膜
80の周縁部、圧電体膜70および下電極膜60の側面
を覆うように絶縁体層90を形成し、さらに、圧電体能
動部の320の両端部に絶縁体層を積層し、他の部分よ
りも厚い絶縁体層厚膜部95を形成する。本実施形態で
は、絶縁体層90及び絶縁体層厚膜部95として、ネガ
型の感光性ポリイミドを用いた。
First, as shown in FIG. 6A, an insulator layer 90 is formed so as to cover the peripheral portion of the upper electrode film 80 and the side surfaces of the piezoelectric film 70 and the lower electrode film 60. An insulator layer is laminated on both ends of the active portion 320, and an insulator layer thick film portion 95 thicker than other portions is formed. In this embodiment, a negative photosensitive polyimide is used for the insulator layer 90 and the insulator layer thick part 95.

【0056】次に、図6(b)に示すように、絶縁体層
厚膜部95をパターニングすることにより、各圧力発生
室12のインク供給側の周壁に対向する部分にコンタク
トホール90aを形成する。続いて、例えば、Cr−A
uなどの導電体を全面に成膜した後、パターニングする
ことにより、コンタクトホール90aを介して上電極膜
80と接続されるリード電極100を形成する。なお、
図6(b)には、説明の都合上、圧力発生室12外の周
壁に対向する領域のコンタクトホール90a部分の断面
を示す。
Next, as shown in FIG. 6B, a contact hole 90a is formed in a portion of each of the pressure generating chambers 12 facing the ink supply side peripheral wall by patterning the insulator layer thick film portion 95. I do. Subsequently, for example, Cr-A
After a conductor such as u is formed on the entire surface, patterning is performed to form the lead electrode 100 connected to the upper electrode film 80 via the contact hole 90a. In addition,
FIG. 6B shows a cross section of the contact hole 90a in a region facing the peripheral wall outside the pressure generating chamber 12 for convenience of explanation.

【0057】以上が膜形成プロセスである。このように
して膜形成を行った後、図6(c)に示すように、前述
したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エ
ッチングを行い、圧力発生室12等を形成する。なお、
以上説明した一連の膜形成及び異方性エッチングは、一
枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成し、プロセス
終了後、図1に示すような一つのチップサイズの各流路
形成基板10に分割する。また、分割した流路形成基板
10を、封止板20、共通インク室形成基板30、及び
インク室側板40と順次接着して一体化し、インクジェ
ット式記録ヘッドとする。
The above is the film forming process. After forming the film in this manner, as shown in FIG. 6C, the silicon single crystal substrate is subjected to anisotropic etching with the above-described alkali solution to form the pressure generating chamber 12 and the like. In addition,
In the series of film formation and anisotropic etching described above, a number of chips are simultaneously formed on one wafer, and after the process is completed, the flow path forming substrate 10 having one chip size as shown in FIG. To divide. Further, the divided flow path forming substrate 10 is sequentially adhered and integrated with the sealing plate 20, the common ink chamber forming substrate 30, and the ink chamber side plate 40 to form an ink jet recording head.

【0058】このように形成された圧電体能動部320
及び絶縁体層厚膜部95と圧力発生室12との平面位置
関係及び断面を図7に示す。
The thus formed piezoelectric active portion 320
FIG. 7 shows a planar positional relationship and a cross section between the insulator layer thick film portion 95 and the pressure generating chamber 12.

【0059】図7(a)に示すように、圧電体膜70お
よび上電極膜80からなる圧電体能動部320は、基本
的には圧力発生室12に対向する領域内に設けられて、
圧力発生室12の幅より若干狭い幅で形成されている。
また、圧力発生室12の一端部においては、圧力発生室
12に対向する領域から周壁に対向する領域まで連続的
に延設されており、圧力発生室12に対向する領域と周
壁に対向する領域との境界近傍を連結部321とする。
As shown in FIG. 7A, the piezoelectric active portion 320 including the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 is basically provided in a region facing the pressure generating chamber 12,
The width of the pressure generation chamber 12 is slightly smaller than the width of the pressure generation chamber 12.
In addition, at one end of the pressure generation chamber 12, the area continuously extends from the area facing the pressure generation chamber 12 to the area facing the peripheral wall, and the area facing the pressure generation chamber 12 and the area facing the peripheral wall. The vicinity of the boundary with is referred to as a connecting portion 321.

【0060】また、圧力発生室12に対向する領域の圧
電体能動部320上には、図7(b)のB−B’断面に
示すように、通常の厚さの絶縁体層90が形成されてい
るが、圧電体能動部320の両端部及び連結部321上
には、図7(c)のC−C’断面に示すように、通常よ
りも厚い厚さの絶縁体層厚膜部95が形成され、振動板
の振動を規制する振動規制層325となっている。ま
た、周壁に対向する領域の圧電体能動部320に対応す
る位置には、リード電極100と上電極膜80とを接続
するためのコンタクトホール90aが形成されている。
On the piezoelectric active portion 320 in a region facing the pressure generating chamber 12, an insulator layer 90 having a normal thickness is formed as shown in a BB 'section of FIG. 7B. However, on both ends of the piezoelectric active part 320 and on the connecting part 321, as shown in the cross section CC ′ of FIG. 95 are formed to form a vibration regulation layer 325 for regulating the vibration of the diaphragm. A contact hole 90 a for connecting the lead electrode 100 and the upper electrode film 80 is formed at a position corresponding to the piezoelectric active portion 320 in a region facing the peripheral wall.

【0061】さらに、圧力発生室12の幅方向両側の周
壁との境界近傍に対向し且つ圧電体能動部320の両側
の部分、すなわち、振動板の腕部分の下電極膜60は除
去されて下電極膜除去部350が形成されている。
Further, the lower electrode film 60 facing the vicinity of the boundary with the peripheral walls on both sides in the width direction of the pressure generating chamber 12 and on both sides of the piezoelectric active portion 320, ie, the arm portion of the diaphragm is removed. An electrode film removing part 350 is formed.

【0062】このような構成にすることにより、圧電体
能動部320に電圧を印加して駆動すると、両端部及び
連結部321のみの駆動が規制されて、この部分の近傍
のみにおいて、変位量が相対的に小さくなり、全体とし
ての変位量を大きく低下させることなく端部での変位量
を抑えることができ、圧電体能動部320の端部の剥が
れ及び割れ等並びに振動板の割れ等を防止することがで
きる。
With this configuration, when the piezoelectric active portion 320 is driven by applying a voltage, the drive of both ends and the connecting portion 321 is restricted, and the displacement amount is reduced only in the vicinity of this portion. It is relatively small, and the amount of displacement at the end can be suppressed without greatly reducing the amount of displacement as a whole, and peeling and cracking of the end of the piezoelectric active portion 320 and cracking of the diaphragm are prevented. can do.

【0063】なお、絶縁体層厚膜部95は、本実施形態
では、圧電体能動部320の両端部及び連結部321上
に設けたが、連結部321側のみに設けてもよい。ま
た、絶縁体層厚膜部95は、他の部分と相対的に厚膜に
なっていればよい。従って、絶縁体層90上に他の層を
積層してもよく、また、絶縁体層厚膜部95の部分のみ
に通常の厚さの絶縁体層を設けてもよい。
In this embodiment, the insulator layer thick film portion 95 is provided on both ends of the piezoelectric active portion 320 and on the connecting portion 321, but may be provided only on the connecting portion 321 side. Also, the insulator layer thick film portion 95 may be thicker relatively than other portions. Therefore, another layer may be stacked on the insulator layer 90, or an insulator layer having a normal thickness may be provided only on the insulator layer thick portion 95.

【0064】このように構成したインクジェットヘッド
は、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導
入口42からインクを取り込み、共通インク室31から
ノズル開口11に至るまで内部をインクで満たした後、
図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、リー
ド電極100を介して下電極膜60と上電極膜80との
間に電圧を印加し、弾性膜50、下電極膜60及び圧電
体膜70をたわみ変形させることにより、圧力発生室1
2内の圧力が高まりノズル開口11からインク滴が吐出
する。
The ink jet head thus configured takes in ink from an ink inlet 42 connected to external ink supply means (not shown), fills the interior from the common ink chamber 31 to the nozzle opening 11 with ink, and
In accordance with a recording signal from an external drive circuit (not shown), a voltage is applied between the lower electrode film 60 and the upper electrode film 80 via the lead electrode 100, and the elastic film 50, the lower electrode film 60, and the piezoelectric film 70 The pressure generating chamber 1 is deformed by bending.
The pressure in 2 increases, and ink droplets are ejected from nozzle opening 11.

【0065】(実施形態2)図8には、本発明の実施形
態2に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近
傍の圧電体能動部等の平面位置関係及び断面を示す。
(Embodiment 2) FIG. 8 shows a planar positional relationship and a cross section of a piezoelectric active portion and the like near a pressure generating chamber of an ink jet recording head according to Embodiment 2 of the present invention.

【0066】本実施形態では、圧力発生室12の境界及
び周壁に対向する領域の圧電体膜70上に他の部分の上
電極膜80よりも厚い厚膜部85を形成して振動規制層
325Aとし、圧力発生室12の領域に対向する領域
で、振動板の振動を規制している。
In this embodiment, a thick film portion 85 thicker than the upper electrode film 80 of the other portion is formed on the piezoelectric film 70 in a region opposed to the boundary and the peripheral wall of the pressure generating chamber 12 to form the vibration regulating layer 325A. In a region opposed to the region of the pressure generating chamber 12, the vibration of the diaphragm is regulated.

【0067】図8(a)に示すように、圧電体能動部3
20は、実施形態1と同様、基本的には圧力発生室12
に対向する領域内に設けられ、圧力発生室12の一端部
においては、圧力発生室12に対向する領域から周壁に
対向する領域へ横切る連結部321を介して周壁上まで
連続的に延設されている。この圧電体能動部320上に
は絶縁体層90が形成され、周壁に対向する領域の圧電
体能動部320に対応する位置には、リード電極100
と上電極膜80とを接続するためのコンタクトホール9
0aが形成されている。また、振動板の腕部の部分の下
電極膜60は除去されて下電極膜除去部350が形成さ
れいる。
As shown in FIG. 8A, the piezoelectric active portion 3
20 is basically the same as the first embodiment.
At one end of the pressure generating chamber 12, and is continuously extended from the area facing the pressure generating chamber 12 to the area facing the peripheral wall via a connecting portion 321 that crosses over the peripheral wall. ing. An insulator layer 90 is formed on the piezoelectric active portion 320, and a lead electrode 100 is provided at a position corresponding to the piezoelectric active portion 320 in a region facing the peripheral wall.
Hole 9 for connecting the electrode with upper electrode film 80
0a is formed. In addition, the lower electrode film 60 at the arm portion of the diaphragm is removed to form a lower electrode film removing portion 350.

【0068】また、上電極膜80は、圧力発生室12に
対向する領域では、図8(b)のD−D’断面に示すよ
うに、通常の厚さで形成されているが、連結部321及
び周壁に対向する領域では、図8(c)のE−E’断面
に示すように、他の部分よりも厚い厚膜部85となり、
振動規制層325Aを構成している。
The upper electrode film 80 has a normal thickness in a region facing the pressure generating chamber 12 as shown in a section DD ′ of FIG. 321 and the region facing the peripheral wall, as shown in the EE ′ cross section of FIG. 8C, becomes a thick film portion 85 thicker than other portions.
It constitutes the vibration regulation layer 325A.

【0069】このような構成にすることにより、実施形
態1と同様の効果を奏することができる。
With this configuration, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

【0070】なお、厚膜部85は、本実施形態では、連
結部321及び周壁に対向する領域の圧電体膜70上に
形成されているが、少なくとも連結部321の圧電体膜
70上に形成されていれば、同様の効果を得ることがで
きる。
In the present embodiment, the thick film portion 85 is formed on the piezoelectric film 70 in a region opposed to the connecting portion 321 and the peripheral wall, but at least on the piezoelectric film 70 of the connecting portion 321. If so, a similar effect can be obtained.

【0071】また、本実施形態の構成に、さらに実施形
態1のような絶縁体層厚膜部95を設けてもよく、これ
により、さらに顕著な効果を奏する。
Further, the structure of the present embodiment may be further provided with an insulator layer thick film portion 95 as in the first embodiment, whereby a more remarkable effect is exerted.

【0072】(実施形態3)図9には、本発明の実施形
態3に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近
傍の圧電体能動部等のパターン形状を示す。
(Embodiment 3) FIG. 9 shows a pattern shape of a piezoelectric active portion and the like near a pressure generating chamber of an ink jet recording head according to Embodiment 3 of the present invention.

【0073】本実施形態は、図9に示すように、圧電体
能動部320の圧力発生室12に対向する領域から周壁
に対向する領域へ横切る部分である連結部322が他の
部分より幅狭となっている以外は実施形態1と同様であ
る。なお、本実施形態の連結部322は、圧電体膜70
及び上電極膜80の両者を幅狭に形成したものである。
In the present embodiment, as shown in FIG. 9, the connecting portion 322, which is a portion crossing from the region facing the pressure generating chamber 12 of the piezoelectric active portion 320 to the region facing the peripheral wall, is narrower than other portions. It is the same as the first embodiment except for the following. Note that the connecting portion 322 of the present embodiment is
And both the upper electrode film 80 and the upper electrode film 80 are formed narrow.

【0074】このような構成では、圧電体能動部320
を駆動した際、絶縁体層厚膜部95により、連結部32
2及び周壁に対向する領域で、振動板の振動が抑えられ
ることに加え、さらに、圧力発生室12内とその周壁境
界から圧力発生室12に向かってたわみが緩やかに生じ
るため、連結部322での応力が小さくなり、クラック
等の破壊が防止され、耐久性が向上する。
In such a configuration, the piezoelectric active section 320
Is driven, the connecting portion 32 is formed by the insulator layer thick film portion 95.
In addition to the fact that the vibration of the diaphragm is suppressed in the region facing the peripheral wall 2 and the peripheral wall, furthermore, the bending is gradually generated in the pressure generating chamber 12 and from the boundary of the peripheral wall toward the pressure generating chamber 12. Stress is reduced, breakage such as cracks is prevented, and durability is improved.

【0075】(実施形態4)図10には、本発明の実施
形態4に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室
近傍の圧電体能動部等のパターン形状を示す。
(Embodiment 4) FIG. 10 shows a pattern shape of a piezoelectric active portion and the like near a pressure generating chamber of an ink jet recording head according to Embodiment 4 of the present invention.

【0076】本実施形態は、図10に示すように、圧電
体能動部320の連結部323を上電極膜80のみを幅
狭に形成して圧電体層70は他の部分と同一の厚さにし
た以外は実施形態3と同様である。
In this embodiment, as shown in FIG. 10, the connecting portion 323 of the piezoelectric active portion 320 is formed so that only the upper electrode film 80 is narrow, and the piezoelectric layer 70 has the same thickness as the other portions. The third embodiment is the same as the third embodiment except for the following.

【0077】このような構成によっても実施形態3と同
様な効果を奏することができる。
With such a configuration, the same effect as in the third embodiment can be obtained.

【0078】(他の実施形態)以上、本発明の各実施形
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
(Other Embodiments) The embodiments of the present invention have been described above, but the basic configuration of the ink jet recording head is not limited to the above.

【0079】例えば、上述した封止板20の他、共通イ
ンク室形成板30をガラスセラミックス製としてもよ
く、さらには、薄肉膜41を別部材としてガラスセラミ
ックス製としてもよく、材料、構造等の変更は自由であ
る。
For example, in addition to the sealing plate 20 described above, the common ink chamber forming plate 30 may be made of glass ceramic, and the thin film 41 may be made of glass ceramic as a separate member. Changes are free.

【0080】また、上述した実施形態では、ノズル開口
を流路形成基板10の端面に形成しているが、面に垂直
な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。
In the above-described embodiment, the nozzle openings are formed on the end surface of the flow path forming substrate 10. However, the nozzle openings may be formed to project in a direction perpendicular to the surface.

【0081】このように構成した実施形態の分解斜視図
を図11、その流路の断面を図12にぞれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電振動子とは反対
のノズル基板120に穿設され、これらノズル開口11
と圧力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封
止板20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及
びインク室側板40Aを貫通するように配されている。
FIG. 11 is an exploded perspective view of the embodiment configured as described above, and FIG. 12 is a cross-sectional view of the flow path. In this embodiment, the nozzle openings 11 are drilled in the nozzle substrate 120 opposite to the piezoelectric vibrator, and these nozzle openings 11
A nozzle communication port 22 for communicating the pressure generating chamber 12 with the pressure generating chamber 12 is provided so as to penetrate the sealing plate 20, the common ink chamber forming plate 30, the thin plate 41A, and the ink chamber side plate 40A.

【0082】なお、本実施形態は、その他、薄肉板41
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
In this embodiment, the thin plate 41
A is basically the same as the above-described embodiment except that the ink chamber side plate 40A and the ink chamber side plate 40A are separate members, and the opening is formed in the ink chamber side plate 40. Is omitted.

【0083】ここで、この実施形態においても、上述し
た各実施形態と同様に、振動規制層を設けて、圧電体能
動部の振動を規制して圧力発生室の周縁との境界近傍の
割れ等を防止することができる。
In this embodiment, as in the above-described embodiments, a vibration regulating layer is provided to regulate the vibration of the piezoelectric active portion, and to prevent cracks near the boundary with the periphery of the pressure generating chamber. Can be prevented.

【0084】また、勿論、共通インク室を流路形成基板
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
Further, needless to say, the present invention can be similarly applied to an ink jet recording head of a type in which a common ink chamber is formed in a flow path forming substrate.

【0085】また、以上説明した各実施形態は、成膜及
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成する
もの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本
発明を採用することができる。
In each of the embodiments described above, a thin film type ink jet recording head which can be manufactured by applying a film forming and lithography process is described as an example.
Of course, the present invention is not limited to this. For example, a piezoelectric film is formed by laminating substrates to form a pressure generating chamber, or a piezoelectric film is formed by attaching a green sheet or by screen printing, or a piezoelectric film formed by crystal growth. The present invention can be applied to ink jet recording heads having various structures, such as those that form a recording medium.

【0086】さらに、上述した各実施形態では、振動板
として下電極膜とは別に弾性膜を設けたが、下電極膜が
弾性膜を兼ねるようにしてもよい。
Further, in each of the above-described embodiments, the elastic film is provided separately from the lower electrode film as the vibration plate. However, the lower electrode film may also serve as the elastic film.

【0087】また、圧電振動子とリード電極との間に絶
縁体層を設けた例を説明したが、これに限定されず、例
えば、絶縁体層を設けないで、各上電極に異方性導電膜
を熱溶着し、この異方性導電膜をリード電極と接続した
り、その他、ワイヤボンディング等の各種ボンディング
技術を用いて接続したりする構成としてもよい。
Further, the example in which the insulator layer is provided between the piezoelectric vibrator and the lead electrode has been described. However, the present invention is not limited to this. The conductive film may be thermally welded, and the anisotropic conductive film may be connected to the lead electrode, or may be connected using various bonding techniques such as wire bonding.

【0088】このように、本発明は、その趣旨に反しな
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
As described above, the present invention can be applied to ink-jet recording heads having various structures, as long as the gist of the present invention is not contradicted.

【0089】[0089]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、圧力発生室の境界近傍に圧電体能動部の駆動に伴う
振動板の振動を相対的に規制する振動規制層を設けたこ
とにより、この部分のたわみが他の部分より小さくな
り、クラック等の破壊が防止され、耐久性が向上すると
いう効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the vibration regulating layer for relatively regulating the vibration of the diaphragm accompanying the driving of the piezoelectric active portion is provided near the boundary of the pressure generating chamber. The flexure of this portion is smaller than that of the other portions, so that cracks and the like are prevented from being broken and the durability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記
録ヘッドの分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of an ink jet recording head according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view of the inkjet recording head according to the first embodiment of the present invention, showing the same.

【図3】図1の封止板の変形例を示す図である。FIG. 3 is a view showing a modification of the sealing plate of FIG. 1;

【図4】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing a thin film manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram illustrating a thin film manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す図で
ある。
FIG. 6 is a view showing a thin film manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施形態1の要部を示す平面図及び断
面図である。
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a main part of the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施形態2を説明する要部平面図及び
断面図である。
8A and 8B are a plan view and a cross-sectional view of a main part illustrating a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施形態3を説明する要部平面図であ
る。
FIG. 9 is a main part plan view for explaining Embodiment 3 of the present invention.

【図10】本発明の実施形態4を説明する要部平面図で
ある。
FIG. 10 is a main part plan view for explaining Embodiment 4 of the present invention.

【図11】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの分解斜視図である。
FIG. 11 is an exploded perspective view of an ink jet recording head according to another embodiment of the present invention.

【図12】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドを示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating an ink jet recording head according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 流路形成基板 11 ノズル開口 12 圧力発生室 50 弾性膜 60 下電極膜 70 圧電体膜 80 上電極膜 90 絶縁体層 90a コンタクトホール 100 リード電極 320 圧電体能動部 321,322,323 連結部 325、325A 振動規制層 350 下電極膜除去部 Reference Signs List 10 flow path forming substrate 11 nozzle opening 12 pressure generating chamber 50 elastic film 60 lower electrode film 70 piezoelectric film 80 upper electrode film 90 insulating layer 90a contact hole 100 lead electrode 320 piezoelectric active portion 321, 322, 323 connecting portion 325 , 325A Vibration control layer 350 Lower electrode film removal part

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノズル開口に連通する圧力発生室の一部
を構成し且つ少なくとも上面が下電極として作用する振
動板と、該振動板の表面に形成された圧電体層及び該圧
電体層の表面に形成された上電極からなり且つ前記圧力
発生室に対向する領域に形成された圧電体能動部とから
なる圧電振動子を備え、前記圧電体能動部の少なくとも
一端部に前記圧力発生室に対向する領域と当該圧力発生
室の長手方向端部の周壁に対向する領域との境界を横切
る連結部を有するインクジェット式記録ヘッドにおい
て、 前記圧力発生室の長手方向端部の少なくとも前記連結部
が設けられた側に、当該端部近傍の少なくとも前記圧電
体能動部上に積層されて前記振動板の振動を規制する振
動規制層を有することを特徴とするインクジェット式記
録ヘッド。
1. A vibrating plate constituting a part of a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening and having at least an upper surface acting as a lower electrode, a piezoelectric layer formed on the surface of the vibrating plate, and a piezoelectric layer A piezoelectric vibrator comprising an upper electrode formed on a surface thereof and a piezoelectric active portion formed in a region opposed to the pressure generating chamber, wherein at least one end of the piezoelectric active portion is provided in the pressure generating chamber. In an ink jet recording head having a connecting portion that crosses a boundary between a facing region and a region facing a peripheral wall at a longitudinal end of the pressure generating chamber, at least the connecting portion at a longitudinal end of the pressure generating chamber is provided. An ink jet recording head, comprising a vibration regulation layer laminated on at least the piezoelectric active portion near the end and regulating the vibration of the diaphragm on the side of the recording medium.
【請求項2】 請求項1において、前記圧力発生室の少
なくとも長手方向端部近傍を覆うように積層された絶縁
体層が前記振動規制層を構成することを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッド。
2. The ink jet recording head according to claim 1, wherein an insulator layer laminated so as to cover at least a vicinity of an end in the longitudinal direction of the pressure generating chamber constitutes the vibration regulating layer.
【請求項3】 請求項1又は2において、前記圧電体能
動部の少なくとも前記連結部上に設けられている層が前
記振動規制層を構成することを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッド。
3. The ink jet recording head according to claim 1, wherein a layer provided on at least the connecting portion of the piezoelectric active portion constitutes the vibration regulating layer.
【請求項4】 請求項3において、前記上電極の膜厚を
他の部分より大きくすることにより前記振動規制層を構
成することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
4. The ink jet recording head according to claim 3, wherein the vibration regulating layer is formed by making the upper electrode thicker than other portions.
【請求項5】 請求項1〜4の何れかにおいて、少なく
とも前記圧電体能動部の幅方向両側で前記圧力発生室の
縁部に沿った部分の前記振動板は、当該圧電体能動部に
対応する部分の当該振動板の厚さより薄い薄肉部となっ
ていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
5. The piezoelectric element according to claim 1, wherein at least a portion of the diaphragm along the edge of the pressure generating chamber on both sides in the width direction of the piezoelectric element corresponds to the piezoelectric element. An ink jet recording head, wherein the thin portion is thinner than the thickness of the vibrating plate.
【請求項6】 請求項1〜5の何れかにおいて、前記連
結部は、前記圧電体層及び前記上電極の両者が他の部分
より幅狭に形成されたものであることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッド。
6. The ink jet printer according to claim 1, wherein the connecting portion is formed such that both the piezoelectric layer and the upper electrode are formed narrower than other portions. Type recording head.
【請求項7】 請求項1〜5の何れかにおいて、前記連
結部は、前記上電極のみが他の部分より幅狭に形成され
たものであることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッド。
7. The ink jet recording head according to claim 1, wherein the connection portion is formed such that only the upper electrode is formed narrower than other portions.
【請求項8】 請求項1〜7の何れかにおいて、前記圧
電体能動部へ電圧を印加するためのリード電極と前記上
電極との接続を行うコンタクト部が、前記圧力発生室の
周壁に対向する部分に設けられていることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッド。
8. The pressure generating chamber according to claim 1, wherein a contact portion for connecting a lead electrode for applying a voltage to the piezoelectric active portion and the upper electrode faces a peripheral wall of the pressure generating chamber. An ink jet recording head provided in a portion to be formed.
【請求項9】 請求項1〜8の何れかにおいて、前記圧
力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチングによ
り形成され、前記圧電振動子の各層が成膜及びリソグラ
フィ法により形成されたものであることを特徴とするイ
ンクジェット式記録ヘッド。
9. The pressure generating chamber according to claim 1, wherein the pressure generating chamber is formed on a silicon single crystal substrate by anisotropic etching, and each layer of the piezoelectric vibrator is formed by film formation and lithography. An ink jet recording head, characterized in that:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6764167B2 (en) 2000-10-16 2004-07-20 Seiko Epson Corporation Ink-jet recording head inkjet recording apparatus
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