JPH1114933A - Galvanometer mirror and optical disk device using the mirror - Google Patents

Galvanometer mirror and optical disk device using the mirror

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Publication number
JPH1114933A
JPH1114933A JP9167676A JP16767697A JPH1114933A JP H1114933 A JPH1114933 A JP H1114933A JP 9167676 A JP9167676 A JP 9167676A JP 16767697 A JP16767697 A JP 16767697A JP H1114933 A JPH1114933 A JP H1114933A
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JP
Japan
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oscillating
oscillating portion
galvanomirror
mirror
optical
Prior art date
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Application number
JP9167676A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyotaka Uchimaru
丸 清 隆 内
Isao Hoshino
野 功 星
Minoru Yonezawa
澤 実 米
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH1114933A publication Critical patent/JPH1114933A/en
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  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin optical disk device which can stably be controlled with simple constitution and has sufficient rigidity against an external force applied by the galvanometer mirror. SOLUTION: The galvanometer mirror 9A has a fixation part 22 around a swing part 23 having a reflecting mirror on its surface, two arbitrary opposite points at the outer periphery of the swing part 23 are suspended and supported on the fixation part 22 by a couple of elastic parts 25a and 25b, and on the reverse surface of the swing part 23, a projection part 26 is formed successively to the elastic parts 25a and 25b. On either of the reverse surface of the swing part 23 and the surface 37 facing it, a recessed part 34 may be formed including a part at least crossing the straight line connecting the elastic members 25a and 25b. Further, HOE(holographic optical element) 56 may be formed instead of a reflecting mirror on the top surface of the swing part 23.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を所定の
方向に反射するガルバノミラーおよびこれを用いた光デ
ィスク装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a galvanomirror for reflecting a laser beam in a predetermined direction and an optical disk device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンパクトディスク(CD)やレ
ーザディスク(LD)に代表されるように、レーザ光を
用いて情報の記録再生を行なう光ディスク装置が広く普
及している。また、最近では、この光ディスク装置はコ
ンピュータの外部記録装置として利用されるようになっ
ている。このような光ディスク装置の普及に伴い、情報
の記録再生を高速で行なえるように、光学系を搭載した
光学ヘッドを高速で駆動できる技術が要求されるように
なっている。
2. Description of the Related Art In recent years, optical disk devices, such as a compact disk (CD) and a laser disk (LD), for recording and reproducing information using a laser beam, have become widespread. Recently, this optical disk device has been used as an external recording device of a computer. With the widespread use of such optical disk devices, there has been a demand for a technique capable of driving an optical head equipped with an optical system at a high speed so that information can be recorded and reproduced at a high speed.

【0003】この光学ヘッドの高速移動の要求に対し、
光の向きを変えるガルバノミラーをシリコンにより形成
して小型化し、これを光学ヘッドに搭載して光学ヘッド
の質量をできるだけ小さくすることにより素速いシーク
を実現する方式が提案されている。
In response to the demand for high-speed movement of the optical head,
A method has been proposed in which a galvanomirror that changes the direction of light is formed of silicon to reduce the size, and is mounted on an optical head to reduce the mass of the optical head as much as possible to realize a quick seek.

【0004】以下、このガルバノミラーおよびこれを用
いた光ディスク装置の一例を図13から図17を参照し
て説明する。なお、図13から図17においては、説明
の便宜のために図中にX,Y,Z軸が付記されている。
An example of the galvanometer mirror and an optical disk apparatus using the same will be described below with reference to FIGS. 13 to 17, X, Y, and Z axes are additionally shown in the drawings for convenience of description.

【0005】図13において、情報の記録再生に用いら
れるディスク1は、図示しないベースに固定されたスピ
ンドルモータ2に対してマグネットチャック等のチャッ
キング手段により保持されており、記録再生時にはこの
スピンドルモータ2によって安定に回転駆動される。な
お、本明細書においては、ディスク1は、例えば光ディ
スク、光磁気ディスク等の光スポットにより情報の記録
再生を行なうディスク状の全ての情報記録媒体をいうも
のとする。
In FIG. 13, a disc 1 used for recording and reproducing information is held by a chucking means such as a magnet chuck on a spindle motor 2 fixed to a base (not shown). 2 stably drives. In the present specification, the disk 1 refers to all disk-shaped information recording media on which information is recorded and reproduced using a light spot, such as an optical disk or a magneto-optical disk.

【0006】前記ディスク1に照射するためのレーザ光
を発生させる半導体レーザ3は、図16に示すように、
フォトディテクタ4とホログラム光学素子(以下、HO
E―Holographic Optical Element ―と略記する)5等
と共に光学ユニット6を構成している。光学ユニット6
は、図13に示すように光学ヘッド7の下部に固定され
ている。なお、光学ユニット6の底面には放熱性を高め
る目的で複数の凹凸6aが形成されている。
A semiconductor laser 3 for generating a laser beam for irradiating the disk 1 has a structure as shown in FIG.
The photodetector 4 and the hologram optical element (hereinafter, HO)
An optical unit 6 is configured together with E-Holographic Optical Element 5). Optical unit 6
Is fixed to the lower part of the optical head 7 as shown in FIG. Note that a plurality of irregularities 6a are formed on the bottom surface of the optical unit 6 for the purpose of enhancing heat dissipation.

【0007】半導体レーザ3より発せられたレーザ光
は、ガラス面に形成されたHOE5を通過し、HOE5
の反対面に固定されたプリズム8で90°向きを変えた
後、ガルバノミラー9で再び90°向きを変えて光学ヘ
ッド7の上部に配置された対物レンズ10に導かれる。
そして、この対物レンズ10よりディスク1の記録トラ
ック上にレーザ光を集光させて焦点を形成する。
[0007] The laser light emitted from the semiconductor laser 3 passes through the HOE 5 formed on the glass surface, and
After the orientation is changed by 90 ° by the prism 8 fixed to the opposite surface of the optical head 7, the orientation is changed again by 90 ° by the galvanomirror 9 and guided to the objective lens 10 arranged above the optical head 7.
Then, the laser beam is focused on the recording track of the disk 1 by the objective lens 10 to form a focal point.

【0008】また、ディスク1からの反射光は対物レン
ズ10に戻り、ガルバノミラー9、プリズム8を経由
し、図16に示すように、HOE5で向きを変えてフォ
トディテクタ4に戻される。フォトディテクタ4に取り
込まれた反射光から、記録情報信号、フォーカスオフセ
ット信号、トラックオフセット信号等が生成される。そ
して、フォーカスオフセット信号を用いることにより対
物レンズ10のフォーカス方向の位置ズレが検出され、
この位置ズレを補正するようにフォーカスコイル11に
電流を流す制御動作を行なう。また、トラックオフセッ
ト信号を用いることにより対物レンズ10のトラック方
向の位置ズレが検出され、この位置ズレを補正するよう
にリニアモータコイル12とガルバノミラー9に電圧を
加えて制御動作を行なう。このようにしてディスク1の
記録トラック上に情報が記録され、またディスク1の記
録トラック上から情報が読み取られる。
The reflected light from the disk 1 returns to the objective lens 10, passes through the galvanomirror 9 and the prism 8, and changes its direction by the HOE 5 as shown in FIG. A recording information signal, a focus offset signal, a track offset signal, and the like are generated from the reflected light captured by the photodetector 4. Then, by using the focus offset signal, the positional deviation of the objective lens 10 in the focus direction is detected,
A control operation for supplying a current to the focus coil 11 is performed so as to correct the positional deviation. Further, a position shift of the objective lens 10 in the track direction is detected by using the track offset signal, and a control operation is performed by applying a voltage to the linear motor coil 12 and the galvanometer mirror 9 so as to correct the position shift. In this way, information is recorded on the recording track of the disk 1, and the information is read from the recording track of the disk 1.

【0009】対物レンズ10は、図13に示すように、
プラスチックマグネットで形成された対物レンズホルダ
13に保持されている。また、平行板バネ14の一端が
対物レンズホルダ13に固定され、平行板バネ14の他
端は光学ヘッド7に固定されることにより、対物レンズ
10はその光軸方向に移動可能に支持されている。プラ
スチックマグネットからなる対物レンズホルダ13と、
光学ヘッド7に巻装固定されたフォーカスコイル11に
流れる電流との間に電磁作用が作用し、対物レンズ10
にフォーカス駆動力を発生させる。
The objective lens 10 is, as shown in FIG.
It is held by an objective lens holder 13 formed of a plastic magnet. Further, one end of the parallel leaf spring 14 is fixed to the objective lens holder 13 and the other end of the parallel leaf spring 14 is fixed to the optical head 7, so that the objective lens 10 is supported so as to be movable in the optical axis direction. I have. An objective lens holder 13 made of a plastic magnet,
Electromagnetic action acts on the current flowing through the focus coil 11 fixedly wound around the optical head 7 and the objective lens 10
To generate a focus driving force.

【0010】リニアモータコイル12は筒状に形成され
ており、光学ヘッド7の両側面に各1個が固定されてい
る。光学ヘッド7のリニアモータコイル12を挟んで両
側には、計4個の滑り軸受15が形成されている。この
滑り軸受け15は、図14,図15に示すように、ディ
スク1の径方向(X軸方向)に延設された2本のガイド
シャフト16とそれぞれ係合している。これにより、光
学ヘッド7はディスク1の半径方向に移動できるように
支持されている。
The linear motor coil 12 is formed in a cylindrical shape, and one linear motor coil is fixed to each side surface of the optical head 7. A total of four sliding bearings 15 are formed on both sides of the linear motor coil 12 of the optical head 7. As shown in FIGS. 14 and 15, the sliding bearing 15 is engaged with two guide shafts 16 extending in the radial direction (X-axis direction) of the disk 1, respectively. Thus, the optical head 7 is supported so as to be movable in the radial direction of the disk 1.

【0011】ガイドシャフト16は磁性体で形成されて
おり、磁気回路のヨークとしての役割も果たしている。
図14に示すように、ガイドシャフト16の両端にはコ
字形のバックヨーク17が固定されている。また、磁気
ギャップを挟んでリニアモータコイル12と対向する位
置にはラジアル磁石18が配置され、バックヨーク17
に固定されている。これらガイドシャフト16、バック
ヨーク17、ラジアル磁石18がラジアル磁気回路19
を形成しており、リニアモータコイル12に磁界を作用
させ、リニアモータコイル12に流れる電流との電磁作
用により、光学ヘッド7にディスク1の半径方向への駆
動力を発生させている。
The guide shaft 16 is made of a magnetic material, and also serves as a yoke for a magnetic circuit.
As shown in FIG. 14, U-shaped back yokes 17 are fixed to both ends of the guide shaft 16. A radial magnet 18 is disposed at a position facing the linear motor coil 12 with the magnetic gap therebetween, and a back yoke 17 is provided.
It is fixed to. These guide shaft 16, back yoke 17 and radial magnet 18 form a radial magnetic circuit 19.
Is formed, and a magnetic field is applied to the linear motor coil 12 to generate a driving force in the radial direction of the disk 1 on the optical head 7 by an electromagnetic action with a current flowing through the linear motor coil 12.

【0012】上記構成において、図17を参照しながら
従来のガルバノミラー90の構成について説明する。図
17において、ガルバノミラー90は第1のプレート9
1,第2のプレート96,第3のプレート98を接合し
て構成されている。第1のプレート91は、枠部材92
に一対の弾性部93を介してシリコン等の半導体よりな
る揺動部94を接続配置しており、揺動部94には反射
ミラー95が形成されている。
In the above configuration, the configuration of a conventional galvanometer mirror 90 will be described with reference to FIG. In FIG. 17, the galvanomirror 90 is the first plate 9
1, a second plate 96 and a third plate 98 are joined. The first plate 91 includes a frame member 92
A oscillating portion 94 made of a semiconductor such as silicon is connected via a pair of elastic portions 93 to each other, and a reflecting mirror 95 is formed on the oscillating portion 94.

【0013】第1のプレート91の上下には、第2及び
第3のプレート96,98がそれぞれ電気絶縁された状
態に接合されている。第2,第3のプレート96,98
の揺動部94と対向する各部位には、それぞれ対象な位
置で電極97a,97bと電極99a,99bが設けら
れている。このような構成において揺動部94を+極
(または−極)に帯電させ、また電極97b,99aを
−極(または+極)、電極97a,99bを+極(また
は−極)にそれぞれ帯電させると、一対の弾性部93の
ねじれ変形を伴いながら揺動部94が回転(揺動)され
る。
Above and below the first plate 91, second and third plates 96 and 98 are respectively joined in an electrically insulated state. Second and third plates 96, 98
The electrodes 97a and 97b and the electrodes 99a and 99b are provided at respective positions opposed to the swinging portion 94 of each of them. In such a configuration, the swing portion 94 is charged to the positive (or negative) pole, the electrodes 97b and 99a are charged to the negative (or positive) pole, and the electrodes 97a and 99b are charged to the positive (or negative) pole. Then, the swinging portion 94 is rotated (swinged) with the torsional deformation of the pair of elastic portions 93.

【0014】光学ヘッド7の内部で、ガルバノミラー9
は、半導体レーザ3と対物レンズ10の中間に配置され
ており、しかも半導体レーザ3から出光されたレーザ光
は対物レンズ10に向かって拡大していくように設定さ
れている。
Inside the optical head 7, a galvanomirror 9
Is arranged between the semiconductor laser 3 and the objective lens 10, and the laser light emitted from the semiconductor laser 3 is set to expand toward the objective lens 10.

【0015】これにより、対物レンズ10に入射する前
の光の直径に比べて、ガルバノミラー9の反射ミラー9
5を小さくすることができる。
As a result, the diameter of the reflecting mirror 9 of the galvanometer mirror 9 is compared with the diameter of the light before entering the objective lens 10.
5 can be reduced.

【0016】このような配置を有する光学系により構成
された光学ヘッドは、一般に有限光学系ヘッドと呼ばれ
ており、半導体レーザから出光された光が対物レンズに
達する前にコリメートレンズで平行光にする無限光学系
ヘッドと区別している。
An optical head constituted by an optical system having such an arrangement is generally called a finite optical system head, and the light emitted from the semiconductor laser is converted into parallel light by a collimating lens before reaching the objective lens. Infinite optical system head.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】コイルに流れる電流と
この電流により発生させられる磁束の作用・反作用によ
り物体を運動させるアクチュエータにおいては、コイル
に+方向と−方向の電流を流すことにより、逆転する力
が得られるので、通常1つのアクチュエータ用のアンプ
は1つあれば充分である。
In an actuator that moves an object by the action / reaction of a current flowing through a coil and a magnetic flux generated by the current, the coil is reversed by passing a current in a positive direction and a current in a negative direction. Normally, one amplifier for one actuator is sufficient because of the available force.

【0018】これに対して、電極と揺動部とに作用する
クーロン力で、揺動部を運動させる上記従来のガルバノ
ミラーの場合、クーロン力では引力しか発生しないた
め、複数の電極を用いて、反対側から引くことにより逆
方向の力を発生させる必要がある。このようなクーロン
力により揺動部を駆動するアクチュエータにおいては、
例えば、電極97a,99bを帯電させて揺動部94を
一方向に回転させた状態から、この逆方向に揺動部94
を回転させようとすれば、電極97a,99bとは別の
電極97b,99aを帯電させて、このクーロン力によ
り揺動部94にトルクを加えるしかない。
On the other hand, in the case of the above-mentioned conventional galvanomirror in which the oscillating portion is moved by the Coulomb force acting on the electrode and the oscillating portion, since only Coulomb force generates attraction, a plurality of electrodes are used. , It is necessary to generate a reverse force by pulling from the opposite side. In an actuator that drives the swinging part by such Coulomb force,
For example, from the state where the electrodes 97a and 99b are charged and the swinging part 94 is rotated in one direction, the swinging part 94 is rotated in the opposite direction.
In order to rotate, the electrodes 97b and 99a different from the electrodes 97a and 99b must be charged, and torque must be applied to the oscillating portion 94 by the Coulomb force.

【0019】したがって、上記従来のガルバノミラーの
アクチュエータにおいては、異なる極性の複数の電極を
必要とするが、複数の電極を用いるということは、必ず
複数の出力、つまり増幅器(アンプ)が必要になる。よ
って、これら複数のアンプのオフセットや増幅率のバラ
ツキにより、揺動部94においては、揺動部94に取り
付けられた反射ミラー95の反射面に対して垂直方向に
力が加えられることになる。
Therefore, in the above-described conventional galvano mirror actuator, a plurality of electrodes having different polarities are required. However, using a plurality of electrodes necessarily requires a plurality of outputs, that is, an amplifier (amplifier). . Therefore, due to the offset of the plurality of amplifiers and the variation of the amplification factor, a force is applied in the oscillating portion 94 in a direction perpendicular to the reflection surface of the reflecting mirror 95 attached to the oscillating portion 94.

【0020】また、上記従来のガルバノミラーにおいて
は4個の電極を用いているが、電極を4つも設けると、
反射ミラー95に対し揺動部94を大きくする必要があ
り、揺動部94の駆動感度の低下を招いていた。
In the above-mentioned conventional galvano mirror, four electrodes are used. However, if four electrodes are provided,
The swing part 94 needs to be larger than the reflection mirror 95, and the drive sensitivity of the swing part 94 has been reduced.

【0021】また、電極99a,99bだけで揺動部9
4を駆動しようとすると、バイアス電圧を電極99a,
99bにかけて揺動部94を第3のプレート98側に引
きつけて、駆動入力に対して前記電圧のバランスを変え
て揺動部94に回転トルクを与えるように構成してもよ
い。しかしながら、このような構成とした場合でも、前
記揺動部94を第3のプレート98に引きつける力が、
前記駆動入力により変化してしまい、安定した制御を行
なうことができないという問題があった。
The oscillating portion 9 is formed only by the electrodes 99a and 99b.
4 is driven, a bias voltage is applied to the electrodes 99a, 99a.
The oscillating portion 94 may be configured to be attracted toward the third plate 98 toward 99b so as to apply a rotational torque to the oscillating portion 94 by changing the voltage balance with respect to the drive input. However, even in the case of such a configuration, the force for attracting the swinging portion 94 to the third plate 98 is small.
There is a problem in that the control is changed by the drive input and stable control cannot be performed.

【0022】従来のガルバノミラー90では、反射ミラ
ー95を有する揺動部94よりも弾性体93の厚みが薄
いか、もしくは同じ厚みであるので、揺動部94を反射
ミラー95の反射面と垂直方向に支持する剛性が低かっ
た。
In the conventional galvanomirror 90, the thickness of the elastic body 93 is smaller than or the same as that of the oscillating portion 94 having the reflecting mirror 95, so that the oscillating portion 94 is perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror 95. The rigidity to support in the direction was low.

【0023】また、有限光学系のヘッドでは、ガルバノ
ミラー90の反射ミラー95が反射面と垂直方向に移動
すると、半導体レーザ3と対物レンズ10の距離が変化
するため対物レンズ10によって集光されたビームスポ
ットの焦点位置が、フォーカス方向に移動してしまうと
ともに、対物レンズに入射する光の位置にもオフセット
が発生するため、前記ビームスポットがディスク1のト
ラッキング方向にも移動してしまう。
In the head of the finite optical system, when the reflecting mirror 95 of the galvano mirror 90 moves in the direction perpendicular to the reflecting surface, the distance between the semiconductor laser 3 and the objective lens 10 changes, so that the light is focused by the objective lens 10. The focus position of the beam spot moves in the focus direction, and an offset also occurs in the position of the light incident on the objective lens. Therefore, the beam spot also moves in the tracking direction of the disk 1.

【0024】したがって、従来のガルバノミラーでは、
揺動部94を反射ミラー95の反射面と垂直方向に支持
する剛性が低いため、揺動部94を回転させると、揺動
部94が反射ミラー95の反射面と垂直方向に振動して
しまい、これにより、安定な制御を実現することが困難
であった。
Therefore, in the conventional galvanomirror,
Since the rigidity of supporting the oscillating portion 94 in the direction perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror 95 is low, when the oscillating portion 94 is rotated, the oscillating portion 94 vibrates in the direction perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror 95. Thus, it has been difficult to realize stable control.

【0025】また、光ヘッド7を有する光ディスク装置
そのものに、外力が加わったとき、揺動部94を反射ミ
ラー95の反射面と垂直方向に支持する剛性が低いと、
揺動部94が反射ミラー95の反射面と垂直方向に振動
しやすく、これにより、外乱に対する耐性を確保するこ
とが困難であった。
Also, if the rigidity for supporting the oscillating portion 94 in the direction perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror 95 is low when an external force is applied to the optical disk device itself having the optical head 7,
The oscillating portion 94 easily vibrates in the direction perpendicular to the reflection surface of the reflection mirror 95, and it has been difficult to ensure resistance to disturbance.

【0026】揺動部94が反射ミラー95の反射面と垂
直方向に振動したとき、対物レンズ10により集光され
たビームスポットの焦点位置がフォーカス方向に移動せ
ず、しかも、前記ビームスポットがディスク1のトラッ
キング方向にも移動しないようにするため、光学ヘッド
7を無限光学系により構成することが考えられる。しか
しながら、光学ヘッド7を無限光学系にするためには、
コリメートレンズなどが新たに必要になりコストの上昇
を招くばかりか、対物レンズ10に入射する前の光の直
径に比べて、ガルバノミラー90の反射面95を小さく
することができるという有限光学系の利点である構成に
することができないので、光ディスク装置の薄型化を阻
害していた。
When the oscillating section 94 vibrates in the direction perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror 95, the focal position of the beam spot converged by the objective lens 10 does not move in the focusing direction, and the beam spot is In order to prevent the optical head 7 from moving in the one tracking direction, the optical head 7 may be configured by an infinite optical system. However, in order to make the optical head 7 an infinite optical system,
In addition to the necessity of a new collimating lens and the like, the cost is increased, and the reflecting surface 95 of the galvanomirror 90 can be made smaller than the diameter of the light before entering the objective lens 10. The advantage of the configuration cannot be achieved, which hinders the thinning of the optical disk device.

【0027】そこで本発明は、簡単な構成により安定な
制御を実現することが可能なガルバノミラー、および外
力が加えられても充分な耐性を有する薄型の光ディスク
装置を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a galvanomirror capable of realizing stable control with a simple configuration, and a thin optical disk device having sufficient resistance even when an external force is applied.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1に係るガルバノミラーは、表面に反射ミラ
ーを有する揺動部と、この揺動部の周囲に配置される固
定部と、前記揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の
弾性部と、前記揺動部の裏面に前記弾性部と連続して形
成された凸部と、を備えることを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a galvanomirror comprising: a oscillating portion having a reflecting mirror on a surface thereof; and a fixed portion disposed around the oscillating portion. And a pair of elastic portions for suspending and supporting the swinging portion on the fixed portion, and a convex portion formed on the back surface of the swinging portion so as to be continuous with the elastic portion.

【0029】また、請求項2に係るガルバノミラーは表
面に反射ミラーを有する揺動部と、この揺動部の周囲に
配置される固定部と、前記揺動部を前記固定部に吊設支
持する一対の弾性部と、前記揺動部の裏面およびこれに
対向する前記固定部の面のいずれか一方に形成されると
共に、前記一対の弾性部を結ぶ直線を少なくとも横切る
部分を含む凹部と、を備えることを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a galvanomirror having a oscillating portion having a reflection mirror on a surface thereof, a fixed portion disposed around the oscillating portion, and the oscillating portion suspended from and supported by the fixed portion. A pair of elastic portions, and a concave portion that is formed on one of the back surface of the swing portion and the surface of the fixed portion opposed thereto, and includes a portion that at least crosses a straight line connecting the pair of elastic portions, It is characterized by having.

【0030】また、請求項3に係るガルバノミラーは、
ホログラフィック光学素子が表面に形成された備えた揺
動部と、この揺動部の周囲に配置される固定部と、前記
揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性部と、を
備えることを特徴とする。
The galvanomirror according to claim 3 is
A swinging portion provided with a holographic optical element formed on a surface thereof, a fixed portion disposed around the swinging portion, and a pair of elastic portions that suspend and support the swinging portion to the fixed portion, It is characterized by having.

【0031】また、請求項4に係るガルバノミラーは表
面の一部に反射ミラーが形成され、この反射ミラーが形
成されていない部分に所定形状の穴部を有する揺動部
と、この揺動部の周囲に配置される固定部と、前記揺動
部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性部と、を備え
ることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a galvanomirror in which a reflecting mirror is formed on a part of the surface, and a swinging portion having a hole of a predetermined shape in a portion where the reflecting mirror is not formed, and the swinging portion. And a pair of elastic portions for suspending and supporting the swinging portion on the fixed portion.

【0032】また、請求項5に係るガルバノミラーは、
請求項4に記載のものにおいて、前記所定形状の穴部
は、楕円形状の揺動部の中心に穿設されていることを特
徴とする。
The galvanomirror according to claim 5 is
The hole according to claim 4, wherein the hole having the predetermined shape is formed at the center of the elliptical swinging portion.

【0033】また、請求項6に係るガルバノミラーは、
請求項4に記載のものにおいて、前記反射ミラーは楕円
形状の揺動部の略中心に形成され、前記所定形状の穴部
は前記反射ミラーを囲むように複数穿設されていること
を特徴とする。
The galvanomirror according to claim 6 is
5. The device according to claim 4, wherein the reflection mirror is formed substantially at the center of an elliptical swinging portion, and a plurality of holes having the predetermined shape are formed so as to surround the reflection mirror. I do.

【0034】請求項7に係る光ディスク装置は、光源
と、この光源より出射されるレーザ光を光ディスクの情
報記録面に収束させて光スポットを形成する対物レンズ
と、前記光源と前記対物レンズとの間に設けられ、表面
に反射ミラーが形成された揺動部,この揺動部の周囲に
位置する固定部,前記揺動部の外周を前記固定部に吊設
支持する一対の弾性部,前記揺動部の裏面に前記弾性部
と連続して形成された凸部,を具備するガルバノミラー
と、を備え、前記一対の弾性部を結ぶ直線が、前記光デ
ィスクの情報記録トラックと前記対物レンズの光軸を含
む平面に含まれるとともに、前記情報記録面に対して交
点を有することを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an optical disc apparatus comprising: a light source; an objective lens for converging a laser beam emitted from the light source on an information recording surface of the optical disc to form a light spot; An oscillating portion provided between the oscillating portions and having a reflection mirror formed on a surface thereof, a fixed portion located around the oscillating portion, a pair of elastic portions for suspending and supporting the outer periphery of the oscillating portion on the fixed portion; A galvanomirror having a convex portion formed continuously with the elastic portion on the back surface of the oscillating portion, and a straight line connecting the pair of elastic portions is formed between the information recording track of the optical disc and the objective lens. It is included in a plane including the optical axis and has an intersection with the information recording surface.

【0035】請求項8に係る光ディスク装置は、光ディ
スクを回転させる回転駆動手段と、前記光ディスクを前
記回転駆動手段に着脱可能に固定する固定手段と、光源
と前記対物レンズとの間に設けられ、表面に反射ミラー
が形成された揺動部,この揺動部の周囲に位置する固定
部,前記揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性
部,前記揺動部の裏面に前記弾性部と連続して形成され
た凸部,を具備するガルバノミラーと、前記ガルバノミ
ラーを含む光ヘッドを前記光ディスクの半径方向に移動
可能に支持する送り機構と、前記固定手段に前記光ディ
スクの情報記録トラックの中心と、前記回転駆動手段の
回転中心との間を調整する自動調芯機構と、を備えるこ
とを特徴としている。
An optical disk apparatus according to claim 8 is provided with a rotation driving means for rotating the optical disk, a fixing means for detachably fixing the optical disk to the rotation driving means, and between the light source and the objective lens. An oscillating portion having a reflection mirror formed on a surface thereof, a fixed portion located around the oscillating portion, a pair of elastic portions for suspending and supporting the oscillating portion on the fixed portion, and a back surface of the oscillating portion. A galvanomirror having a convex portion formed continuously with an elastic portion, a feed mechanism for supporting an optical head including the galvanomirror movably in a radial direction of the optical disc, and information of the optical disc on the fixing means. An automatic centering mechanism for adjusting the distance between the center of the recording track and the rotation center of the rotation drive unit is provided.

【0036】以上のような本発明によれば、揺動部の質
量に比べて、揺動部と反射ミラーの反射面と垂直方向に
支持する剛性が高いので、揺動部が反射ミラーの反射面
と垂直方向に振動し難くく、これにより、簡単な構成
で、外乱に対する耐性が高いガルバノミラーを実現でき
る。
According to the present invention as described above, since the rigidity of supporting the oscillating portion and the reflecting surface of the reflecting mirror in a direction perpendicular to the mass of the oscillating portion is high, the oscillating portion reflects the reflecting mirror. It is difficult to vibrate in the direction perpendicular to the plane, and thus, a galvanomirror with a simple configuration and high resistance to disturbance can be realized.

【0037】また、ガルバノミラーと光ヘッドの送り機
構と自動調芯装置を組み合わせることで、装置に加わる
外乱に対して、十分な耐性を有する光ディスク装置が実
現する。
Also, by combining the galvanomirror, the feed mechanism of the optical head, and the automatic alignment device, an optical disk device having sufficient resistance to disturbance applied to the device can be realized.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
に係るガルバノミラーおよびこれを用いた光ディスク装
置の好適な実施形態を説明する。本発明に係るガルバノ
ミラーが取り付けられる光学ヘッドの構成は、図13か
ら図16を用いて従来の装置において説明した構成と全
く同様であるため重複説明を省略する。本発明に特有の
構成は図13におけるガルバノミラー9を図1に示すよ
うな構成のガルバノミラー9Aとした点である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a galvanometer mirror according to the present invention and an optical disk apparatus using the same will be described below with reference to the accompanying drawings. The configuration of the optical head to which the galvanomirror according to the present invention is attached is completely the same as the configuration described in the conventional apparatus with reference to FIGS. The configuration unique to the present invention is that the galvanomirror 9 in FIG. 13 is replaced with a galvanomirror 9A having a configuration as shown in FIG.

【0039】図13において、光学ヘッド7の内部で、
ガルバノミラー9は、半導体レーザ3と対物レンズ10
の中間に配置されており、しかも半導体レーザ3から出
光されたレーザ光は対物レンズ10に向かい拡大するよ
うに設定されている。これにより、対物レンズ10に入
射する前の光の直径に比べて、ガルバノミラー9のミラ
ー面を小さくすることができ、結果として、光学ヘッド
7を薄型に形成することができる。
In FIG. 13, inside the optical head 7,
The galvanometer mirror 9 includes the semiconductor laser 3 and the objective lens 10
The laser light emitted from the semiconductor laser 3 is set so as to expand toward the objective lens 10. Thereby, the mirror surface of the galvanometer mirror 9 can be made smaller than the diameter of the light before the light enters the objective lens 10, and as a result, the optical head 7 can be formed thin.

【0040】このような有限光学系のヘッドは、構成が
簡単で、光ディスク装置の薄型化に適しているが、ガル
バノミラー9の反射ミラーがミラー面と垂直方向に移動
すると、半導体レーザ3と対物レンズ10の距離が変化
するため対物レンズ10によって集光されたビームスポ
ットの焦点位置が、フォーカス方向に移動してしまうと
共に、対物レンズに入射する光の位置にもオフセットが
発生するため、前記ビームスポットがディスク1のトラ
ッキング方向にも移動してしまう欠点も有している。
The head of such a finite optical system has a simple structure and is suitable for thinning the optical disk device. However, when the reflection mirror of the galvanometer mirror 9 moves in the direction perpendicular to the mirror surface, the semiconductor laser 3 and the objective Since the distance of the lens 10 changes, the focal position of the beam spot condensed by the objective lens 10 moves in the focusing direction, and an offset also occurs in the position of light incident on the objective lens. There is also a disadvantage that the spot moves in the tracking direction of the disk 1.

【0041】このような欠点を補完するため、図1に示
すようなガルバノミラー9Aが、対物レンズの下側に設
けられている。ガルバノミラー9Aは、図1に示すよう
に、第1のプレート20、第2のプレート30の2つの
プレートが積層された構造となっている。第1のプレー
ト20は、図2に示されるように、ガード部21,固定
部22,揺動部23,一対の弾性部25a,25bから
構成されている。
In order to compensate for such a disadvantage, a galvano mirror 9A as shown in FIG. 1 is provided below the objective lens. The galvanomirror 9A has a structure in which two plates, a first plate 20 and a second plate 30, are stacked as shown in FIG. As shown in FIG. 2, the first plate 20 includes a guard part 21, a fixed part 22, a swing part 23, and a pair of elastic parts 25a and 25b.

【0042】固定部22は、第2のプレート30に接合
されることによって第1のプレート20全体を固定保持
している。揺動部23は、第1のプレート20のガード
部21,固定部22に包囲されるように形成されてお
り、その表面には半導体レーザ3からのレーザ光を反射
するミラー面24が、鏡面加工などによって一体形成さ
れている。さらに、ミラー面24は、揺動部23の表面
に、金属薄膜や誘電体多層膜等を蒸着して形成される。
第1のプレート20、第2のプレート30を例えばシリ
コンウェハ等から形成するため、揺動部23は50から
500μm程度の厚さを有している。
The fixing portion 22 is fixed to the entire first plate 20 by being joined to the second plate 30. The oscillating portion 23 is formed so as to be surrounded by the guard portion 21 and the fixed portion 22 of the first plate 20, and has a mirror surface 24 for reflecting laser light from the semiconductor laser 3 on its surface. It is integrally formed by processing or the like. Further, the mirror surface 24 is formed by evaporating a metal thin film, a dielectric multilayer film, or the like on the surface of the oscillating portion 23.
In order to form the first plate 20 and the second plate 30 from, for example, a silicon wafer or the like, the swing portion 23 has a thickness of about 50 to 500 μm.

【0043】弾性部25a,25bは、その一端が揺動
部23に、他端が固定部22にそれぞれ接続されること
により、揺動部23と固定部22とを連結して吊設支持
している。ここで、揺動部23の質量の重心は、一対の
弾性部25a,25bを結ぶ線上の丁度中間となるよう
に構成されている。揺動部23のミラー面24の裏側に
は、弾性部25a,25bと同じ厚さの凸部26が一対
の揺動部23を連絡する梁のように設けられている。
The elastic portions 25a and 25b are connected to the swinging portion 23 at one end and connected to the fixed portion 22 at the other end, so that the swinging portion 23 and the fixed portion 22 are connected and suspended and supported. ing. Here, the center of gravity of the mass of the oscillating portion 23 is configured to be exactly intermediate on a line connecting the pair of elastic portions 25a and 25b. On the back side of the mirror surface 24 of the swing portion 23, a convex portion 26 having the same thickness as the elastic portions 25a and 25b is provided like a beam connecting the pair of swing portions 23.

【0044】換言すると、凸部26を形成するため固定
部22、弾性部25a,25b、揺動部23をミラー面
24側からエッチングする前に、揺動部23はミラー面
24の反対側から予めエッチングされている。その際、
図2に示すように、凸部26の横幅t1 が、弾性部25
a,25bの横幅よりも広いことにより、上記エッチン
グを第1のプレート20のミラー面24側とその反対側
の両側から行なうときの誤差によって、凸部26と弾性
部25a,25bとが連続しなくなってしまう可能性を
低減させている。
In other words, before the fixing portion 22, the elastic portions 25a, 25b, and the oscillating portion 23 are etched from the mirror surface 24 side to form the convex portion 26, the oscillating portion 23 is moved from the side opposite to the mirror surface 24. It has been etched beforehand. that time,
As shown in FIG. 2, the width t 1 of the convex portion 26 is
Since the width is wider than the horizontal widths of the first and second plates a and 25b, the convex portion 26 and the elastic portions 25a and 25b are continuous due to an error when the etching is performed from both sides of the first plate 20 on the mirror surface 24 side and the opposite side. The possibility of disappearing is reduced.

【0045】このように、揺動部23が裏面に凸部26
を有し、凸部26が弾性部25a,25bと連続してい
ると、揺動部23の弾性部25a,25b回りの慣性モ
ーメントを増加させないで、弾性部25a,25bの厚
みを確保することができる。さらに、凸部26に弾性体
25a,25bが引っ張り圧縮力を伝えることができる
ので、揺動部23を反射ミラー24と垂直な方向に振動
させる力に対して、剛性が高くなるばかりか、揺動部2
3の慣性質量が低減するため、揺動部23が反射ミラー
24と垂直な方向に振動するモードの共振周波数を引き
上げ、外乱によるミラー面24の垂直方向の振動を低減
することができる。
As described above, the swing portion 23 has the convex portion 26 on the back surface.
When the convex portion 26 is continuous with the elastic portions 25a and 25b, the thickness of the elastic portions 25a and 25b is secured without increasing the moment of inertia of the swing portion 23 around the elastic portions 25a and 25b. Can be. Further, since the elastic bodies 25a and 25b can transmit the tensile compressive force to the convex portion 26, not only the rigidity is increased but also the oscillating force is increased with respect to the force for vibrating the oscillating portion 23 in the direction perpendicular to the reflecting mirror 24. Moving part 2
Since the inertial mass of No. 3 is reduced, the resonance frequency of the mode in which the oscillating portion 23 vibrates in the direction perpendicular to the reflecting mirror 24 can be raised, and the vertical vibration of the mirror surface 24 due to disturbance can be reduced.

【0046】なお、凸部26は揺動部23のミラー面2
4の裏側の面上で、必ずしも連続している必要はない。
また、第1のプレート20を構成する固定部24、揺動
部23、一対の弾性部25a,25bの形状は、反応性
イオンエッチング(以下、RIE―Reactive Ion Etchi
ng―と略記する。)により形成されている。
The convex portion 26 is the mirror surface 2 of the swing portion 23.
It is not always necessary to be continuous on the back side of 4.
The shapes of the fixed portion 24, the swinging portion 23, and the pair of elastic portions 25a and 25b constituting the first plate 20 are formed by reactive ion etching (hereinafter referred to as RIE-Reactive Ion Etchi).
Abbreviated as ng-. ).

【0047】一方、第2のプレート30は、例えばガラ
ス板等の電気的絶縁材料で形成されるか、あるいは表面
に電気的絶縁材料(または酸化膜)がコーティングされ
たシリコンで形成されており、第1のプレート20の固
定部22に対して静電接合、拡散接合、陽極酸化接合、
水ガラスを介した接合等のいずれかの方法で接合されて
いる。また、図3に示すように、第2のプレート30上
の揺動部23と対向する部位には、電極31a,31b
が形成され、この電極31a,31bには端子32a,
32bが接続されている。さらに、第2のプレート20
には、揺動部23の中央部と周縁の対向する2点をそれ
ぞれ2対1程度に分ける点、33a,33bを中心に、
揺動部23の外周に向かって、放射状および環状に形成
された凹部34が形成されている。これらの凹部34の
深さは、例えば10ミクロンから300ミクロンの範囲
に設定される。
On the other hand, the second plate 30 is formed of an electrically insulating material such as a glass plate, or is formed of silicon having a surface coated with an electrically insulating material (or an oxide film). Electrostatic bonding, diffusion bonding, anodic oxidation bonding, to the fixed portion 22 of the first plate 20,
It is joined by any method such as joining via water glass. Further, as shown in FIG. 3, electrodes 31a, 31b
Are formed on the electrodes 31a and 31b.
32b is connected. Further, the second plate 20
The point which divides each of the two opposing points of the central part and the peripheral edge of the swinging part 23 into approximately two to one, and centering on points 33a and 33b,
A radially and annularly formed concave portion 34 is formed toward the outer periphery of the swing portion 23. The depth of these recesses 34 is set, for example, in the range of 10 to 300 microns.

【0048】図1に示すように、凹部34を揺動部23
の第2のプレート30に対向する部分から、第2のプレ
ート30上で揺動部23と対向しない部分まで連続させ
るとともに、さらに、一部の凹部31を弾性部25a,
25bに対向する第2のプレート22上の直線と交差す
るように連続させると、揺動部23の揺動によって発生
する正圧および負圧を大気中に放出して、正圧と負圧を
相殺する。
As shown in FIG. 1, the recess 34 is
From the portion opposing the second plate 30 to the portion not opposing the swing portion 23 on the second plate 30, and furthermore, a part of the concave portion 31 is formed by the elastic portion 25 a,
When it is continued so as to intersect with the straight line on the second plate 22 facing the second plate 25b, the positive pressure and the negative pressure generated by the swing of the swing part 23 are released into the atmosphere, and the positive pressure and the negative pressure are reduced. cancel.

【0049】これにより、揺動部23の揺動により発生
する圧力が低減され、結果として、揺動部23が揺動の
際に受ける抵抗力を低減し、同じ駆動力に対する揺動部
23の偏角を大きくでき、駆動感度を向上させることが
できる。揺動部23が弾性部25a,25bを中心軸と
して回転すると、例えば点33aに発生する圧力が正圧
であるとすると、点33bに発生する圧力は負圧にな
る。また、揺動部23を反射ミラー24の垂直方向に移
動させるときに発生する圧力は、例えば点33aに発生
する圧力が正であるとすると、点33bに発生する圧力
も正になる。
As a result, the pressure generated by the swing of the swing unit 23 is reduced, and as a result, the resisting force of the swing unit 23 when the swing unit 23 swings is reduced, and the swing unit 23 responds to the same driving force. The deflection angle can be increased, and the drive sensitivity can be improved. When the oscillating portion 23 rotates about the elastic portions 25a and 25b as a central axis, for example, if the pressure generated at the point 33a is a positive pressure, the pressure generated at the point 33b becomes a negative pressure. Also, assuming that the pressure generated at the point 33a is positive when the swinging part 23 is moved in the vertical direction of the reflection mirror 24, the pressure generated at the point 33b is also positive.

【0050】そこで、前述のように、一部の凹部34を
弾性部25a,25bに対向する第2のプレート30上
の直線と交差するように連続させると、点33a,33
bの間に圧力抜けの流路が形成されるので、揺動部23
を回転させるときに発生する圧力は低下させられるが、
揺動部23を反射ミラー24の垂直方向に移動させると
きに発生する圧力は、点33a,33bの間に流れが発
生しないので、低下することはない。
Therefore, as described above, when some of the recesses 34 are made continuous so as to intersect with the straight line on the second plate 30 facing the elastic portions 25a and 25b, the points 33a and 33
b, a pressure release channel is formed between
The pressure generated when rotating is reduced,
The pressure generated when the oscillating portion 23 is moved in the vertical direction of the reflecting mirror 24 does not decrease because no flow occurs between the points 33a and 33b.

【0051】したがって、揺動部23を弾性部25a,
25b回りに回転させるときには抵抗力が小さく、揺動
部23を反射ミラー24の垂直方向に移動させるときに
は、空気の圧力により高い抵抗力を発生する。よって、
ガルバノミラー9Aは高い駆動感度を維持するととも
に、装置に加わる外力により、揺動部23が反射ミラー
24の垂直方向には移動され難い構成となっている。
Therefore, the swinging part 23 is connected to the elastic part 25a,
When rotating around the mirror 25b, the resistance is small, and when moving the oscillating portion 23 in the vertical direction of the reflection mirror 24, a high resistance is generated by the pressure of air. Therefore,
The galvanomirror 9A maintains a high drive sensitivity and has a configuration in which the oscillating portion 23 is not easily moved in the vertical direction of the reflecting mirror 24 by an external force applied to the device.

【0052】また、第2のプレート30には凸部35,
36が形成されている。これは、換言すると、電極31
a,31bが形成されている面37は、ウェハからなる
第2のプレート30をエッチングすることにより凸部3
5,36の上面から掘り下げられている。前述のよう
に、固定部21,22は第2のプレート30に接合され
ることにより第1のプレート20全体を固定保持してい
るが、第1,第2のプレート20,30は、固定部21
と凸部35,固定部22と凸部36とをそれぞれ介して
接合される。
The second plate 30 has a projection 35,
36 are formed. This is, in other words, the electrode 31
The surface 37 on which the a and 31b are formed is formed by etching the second plate 30 made of a wafer to form the convex portion 3.
It is dug down from the upper surface of 5,36. As described above, the fixing portions 21 and 22 are fixed to the entire first plate 20 by being joined to the second plate 30, but the first and second plates 20 and 30 are fixed to the fixing portion. 21
And the convex portion 35, and the fixing portion 22 and the convex portion 36, respectively.

【0053】また、凸部36は、固定部22に比べて、
揺動部23の反射面と垂直な方向から見たときの面積が
小さくなっている。さらに、凸部36には凸部35の内
部から第2のプレート30の端部に向かって、切欠き溝
38が形成されている。凸部36を固定部22より小さ
くし、凹部38を設けることにより、例えば、前述のミ
ラー面24を金属の蒸着により形成する際に、揺動部2
3のみを穴のあいたマスクで囲み、揺動部23だけに金
属を蒸着する必要が無い。
Further, the convex portion 36 has a larger size than the fixed portion 22.
The area when viewed from a direction perpendicular to the reflection surface of the swing portion 23 is small. Further, a notch groove 38 is formed in the protrusion 36 from the inside of the protrusion 35 toward the end of the second plate 30. By providing the convex portion 36 smaller than the fixed portion 22 and providing the concave portion 38, for example, when the above-described mirror surface 24 is formed by vapor deposition of metal, the swing portion 2
Only 3 is surrounded by a perforated mask, and there is no need to deposit metal only on the swing portion 23.

【0054】つまり、マスクを使用しないでプレート全
体に金属を蒸着しても、固定部22よりも凸部36が小
さいので、揺動部23と電極31a,31bがショート
することが無く、さらに固定部22の周囲において、弾
性体25a,25bの下の第2のプレート30上には金
属は蒸着されず、さらに切欠き溝38により、固定部2
2の外側でも第2プレート30が分離されているので、
電極に31a,31bが電気的に短絡することが無い。
これにより、マスクをプレートと位置合わせする必要が
無くなり、工数を低減することができる。
That is, even if metal is deposited on the entire plate without using a mask, the convex portion 36 is smaller than the fixing portion 22, so that the swinging portion 23 and the electrodes 31a and 31b are not short-circuited, and are further fixed. No metal is deposited on the second plate 30 under the elastic bodies 25a and 25b around the portion 22, and the fixing portion 2 is formed by the notch groove 38.
Since the second plate 30 is also separated outside of 2,
There is no electrical short circuit between the electrodes 31a and 31b.
This eliminates the need to align the mask with the plate, thereby reducing man-hours.

【0055】また、電極31a,31bはそれぞれ、端
子32a,32bにより電気的に接続されている。そし
て、外部より端子32a,32bに電圧を印加すること
により電極31a,31bに電圧を印加することができ
るようになっている。
The electrodes 31a and 31b are electrically connected by terminals 32a and 32b, respectively. Then, a voltage can be applied to the electrodes 31a and 31b by applying a voltage to the terminals 32a and 32b from outside.

【0056】一方、固定部22の表面には端子27a,
27bが形成されている。これら端子27a,27bは
接地レベルに接続されることにより、揺動部23は常に
接地レベルに接続されている。そのため、チリ等の浮遊
物が揺動部23上の反射ミラー24に吸着してしまう危
険性が大幅に低下し、ガルバノミラー9Aの性能が長期
間維持される。ただし、電極31a,31bと端子32
a,32bは第1のプレート20側とは電気的に接続さ
れないように設計されている。
On the other hand, the terminals 27a,
27b are formed. Since these terminals 27a and 27b are connected to the ground level, the swinging part 23 is always connected to the ground level. Therefore, the danger of floating substances such as dust adhering to the reflecting mirror 24 on the oscillating portion 23 is greatly reduced, and the performance of the galvanomirror 9A is maintained for a long time. However, the electrodes 31a and 31b and the terminal 32
a and 32b are designed so as not to be electrically connected to the first plate 20 side.

【0057】具体的には、電極31a,31bと第1の
プレート20には、前記凸部36によって1ミクロンか
ら20ミクロン程度の隙間が形成されるようになってい
る。また、電極31a,31bを形成する面37上で、
電極31a,31bを形成した面とその周囲の一部だけ
を、図3の上方に形成するようにし、揺動部23の凸部
26と面37の隙間と、揺動部23の凸部26以外の面
と電極31a,31bの隙間を独立に調整できるように
構成してもかまわない。なお、第1のプレート20と第
2のプレート30の材料は、ほぼ同じ熱膨張係数を有す
るものが選択されていることが好ましい。
More specifically, a gap of about 1 to 20 μm is formed between the electrodes 31 a and 31 b and the first plate 20 by the projection 36. Also, on the surface 37 on which the electrodes 31a and 31b are formed,
Only the surface on which the electrodes 31a and 31b are formed and a part of the periphery thereof are formed above in FIG. 3, and the gap between the convex portion 26 of the oscillating portion 23 and the surface 37 and the convex portion 26 of the oscillating portion 23 are formed. The gap between the other surfaces and the electrodes 31a and 31b may be adjusted independently. It is preferable that the materials of the first plate 20 and the second plate 30 have substantially the same thermal expansion coefficients.

【0058】上記構成の第1実施形態に係るガルバノミ
ラー9Aは、光学ヘッド7の一部に設けられた端子と、
ガルバノミラー9Aに設けられた端子35a,35b,
36a,36bとが半田などにより電気的に接続され、
また機械的にも強固に接続されている。
The galvanomirror 9 A according to the first embodiment having the above-described configuration includes a terminal provided on a part of the optical head 7,
The terminals 35a, 35b provided on the galvanometer mirror 9A,
36a and 36b are electrically connected by solder or the like,
In addition, the connection is mechanically strong.

【0059】次に、第1実施形態に係るガルバノミラー
9Aの具体的な動作について説明する。まず、端子32
a,32bに初期電位を与えることにより、接地レベル
との間に電位差を生じさせ、電位が接地レベルである揺
動部23と電極31a,31bがクーロン力により引き
合うようにする。ここで、端子32aと端子32bに印
加される電圧を変化させると、揺動部23と電極31a
と電極31bとが引き合う力が変化して偶力が作用する
ので、2枚の弾性部25a,25bが捻れ変形を起こ
し、揺動部23は図1におけるY軸回りに回転する。
Next, a specific operation of the galvanomirror 9A according to the first embodiment will be described. First, the terminal 32
By applying an initial potential to the terminals a and 32b, a potential difference is generated between the ground and the ground, so that the oscillating portion 23 having the potential of the ground and the electrodes 31a and 31b are attracted by Coulomb force. Here, when the voltage applied to the terminal 32a and the terminal 32b is changed, the swing portion 23 and the electrode 31a are changed.
The force of attraction between the electrode and the electrode 31b changes, and a couple acts, so that the two elastic portions 25a and 25b are torsionally deformed, and the swinging portion 23 rotates around the Y axis in FIG.

【0060】揺動部23が図1のY軸回りに回転する
と、半導体レーザ3から図中Z方向に出光し、プリズム
8で90°曲げられて図中X方向に進行した光は、ガル
バノミラー9Aで図中Y軸回りに回転させられるので、
ディスク1上でビームスポットがディスク1のトラッキ
ング方向に移動することになる。コイルに流れる電流と
磁束の作用・反作用により物体を運動させるアクチュエ
ータにおいては、電流をコイルに正電位(+)方向また
は負電位(−)方向に流すことにより、逆転する力が得
られので、通常1つのアクチュエータにアンプは1つし
か用いない。
When the oscillating portion 23 rotates about the Y axis in FIG. 1, light is emitted from the semiconductor laser 3 in the Z direction in the figure, and the light which has been bent by 90 ° by the prism 8 and travels in the X direction in the figure is a galvanomirror. Since it can be rotated around the Y axis in the figure at 9A,
The beam spot moves on the disk 1 in the tracking direction of the disk 1. In an actuator that moves an object by the action / reaction of a current and a magnetic flux flowing through a coil, a reverse current is obtained by flowing a current through the coil in a positive potential (+) direction or a negative potential (−) direction. Only one amplifier is used for one actuator.

【0061】これに対して、電極と揺動部に作用するク
ーロン力で、揺動体を運動させる場合、クーロン力では
引力しか発生しないため、複数の電極を用いて、反対側
から引くことにより逆方向の力を発生させる必要があ
る。クーロン力により揺動部23を駆動する本発明のア
クチュエータにおいては、例えば、電極31aを帯電さ
せて揺動部23を回転させた状態から、この逆方向に揺
動部23を高速で回転させようとすれば、電極31bを
帯電させてクーロン力により揺動部23にトルクを加え
るしかない。したがって、前記アクチュエータにおいて
は、必ず複数の電極を必要とし、ディスク1のトラッキ
ングエラー信号から得られた1つの制御入力を、何らか
の方法により、接地レベルに対する端子32a,32b
に加える電圧として振り分ける必要があるが、通常は各
端子毎にオペアンプを接続して各端子の電位を調整す
る。
On the other hand, when the oscillator is moved by the Coulomb force acting on the electrode and the oscillating portion, only the attractive force is generated by the Coulomb force. It is necessary to generate a directional force. In the actuator of the present invention that drives the oscillating portion 23 by Coulomb force, for example, from the state where the electrode 31a is charged and the oscillating portion 23 is rotated, the oscillating portion 23 is rotated at a high speed in the opposite direction. In this case, the only choice is to charge the electrode 31b and apply torque to the swinging part 23 by Coulomb force. Therefore, the actuator always requires a plurality of electrodes, and one control input obtained from the tracking error signal of the disk 1 is connected to the terminals 32a, 32b with respect to the ground level by some method.
Although it is necessary to distribute the voltage to be applied to each terminal, usually, an operational amplifier is connected to each terminal to adjust the potential of each terminal.

【0062】しかし、オペアンプや抵抗のバラツキがな
くとも、電極31a,31bが揺動部23を第2のプレ
ート30方向に引く力が変化する。また、仮に上記のよ
うなバラツキがなくとも、以下の原理により揺動部23
には第2のプレート30方向に変動する力が加わる。
However, even if there is no variation in the operational amplifier and the resistance, the force by which the electrodes 31a and 31b pull the swing portion 23 toward the second plate 30 changes. Further, even if there is no variation as described above, the swinging portion 23 is formed by the following principle.
, A force that varies in the direction of the second plate 30 is applied.

【0063】揺動部23と電極31a,31bのあいだ
に介在する媒質(通常は空気)の誘電率をε、電極31
a,31bの面積をS、揺動部23と電極31a,31
bの距離をd、電極31a,31bに加える初期電位を
Vo 、トラッキングオフセット信号から送出された電極
31a,31bに差分電圧として加える制御入力量を△
V、電極31a,31bの作用位置の、一対の弾性部2
5a,25bを結ぶ直線を第2のプレート30に投影し
た直線との距離をr、とすると、揺動部23に働くトル
クTと、揺動部23を第2のプレート30方向に引きつ
ける力Fは、下式(1)(2)のようになる。 T=2・ε・S・Vo ・△V・r/d2 …… (1) F=ε・S・(Vo2+△V2)/d2 …… (2) 力Fを算出する式(2)の右辺には、制御入力量△Vが
存在するので、力Fは制御入力量△Vの変動により変化
し、揺動部23は制御入力により第2のプレート30方
向に変動する力をかけられることになる。
The dielectric constant of a medium (usually air) interposed between the swinging part 23 and the electrodes 31a and 31b is set to ε,
The area of a, 31b is S, the swinging part 23 and the electrodes 31a, 31
The distance of b is d, the initial potential applied to the electrodes 31a and 31b is Vo, and the control input amount applied as a differential voltage to the electrodes 31a and 31b sent from the tracking offset signal is △.
V, a pair of elastic portions 2 at the operation positions of the electrodes 31a and 31b.
Assuming that the distance between the straight line connecting 5a and 25b and the straight line projected on the second plate 30 is r, the torque T acting on the swinging portion 23 and the force F for attracting the swinging portion 23 in the direction of the second plate 30. Is as shown in the following equations (1) and (2). T = 2 · ε · S · Vo · △ V · r / d 2 (1) F = ε · S · (Vo 2 + △ V 2 ) / d 2 (2) Formula for calculating force F Since the control input amount △ V exists on the right side of (2), the force F changes due to the fluctuation of the control input amount △ V, and the oscillating unit 23 changes the force that changes in the direction of the second plate 30 by the control input. Will be applied.

【0064】前述のように、このような構成のガルバノ
ミラー9Aによれば、揺動部23が凸部26を有し、し
かも凸部26が弾性部25a,25bと連続しているの
で、揺動部23の弾性部25a,25b回りの慣性モー
メントを増加させることがなく、弾性部25a,25b
の厚みを確保することができ、しかも凸部26に弾性部
25a,25bが引っ張り力および圧縮力を伝えること
ができるので、揺動部23を反射ミラー24と垂直な方
向に振動させる力に対して、剛性が高くなる。そればか
りでなく、揺動部23の慣性質量が低減するため、揺動
部23が反射ミラー24と垂直な方向に振動するモード
の共振周波数を引き上げ、外乱によるミラー面の垂直方
向の振動を低減することができる。したがって、揺動部
23に第2のプレート30方向に変動する力が加えられ
ても、その振幅を低減させることができる。
As described above, according to the galvanomirror 9A having such a configuration, the swinging portion 23 has the convex portion 26 and the convex portion 26 is continuous with the elastic portions 25a and 25b. Without increasing the moment of inertia of the moving part 23 around the elastic parts 25a, 25b, the elastic parts 25a, 25b
And the elastic portions 25a and 25b can transmit a tensile force and a compressive force to the convex portion 26. Therefore, the rigidity is increased. In addition, since the inertial mass of the oscillating portion 23 is reduced, the resonance frequency of the mode in which the oscillating portion 23 oscillates in a direction perpendicular to the reflection mirror 24 is increased, and the vertical vibration of the mirror surface due to disturbance is reduced. can do. Therefore, even if a force fluctuating in the direction of the second plate 30 is applied to the swing portion 23, the amplitude can be reduced.

【0065】また、リニアモータコイル12により光学
ヘッド7が図中X方向に高速で移動しても、対物レンズ
10を図中Z方向に高速で移動させることにより、光学
ヘッド7に接合されたフォーカスコイル11が反作用に
よる力を受けても、光ディスク装置に外力が作用するこ
とにより、光学ヘッド7に力が作用しても、これらの外
乱によるミラー面の垂直方向の振動が少ない。
Even if the optical head 7 moves at a high speed in the X direction in the figure by the linear motor coil 12, the objective lens 10 is moved at a high speed in the Z direction in the figure, so that the focus joined to the optical head 7 is obtained. Even if the coil 11 receives the force due to the reaction, the external force acts on the optical disk device, and even if the force acts on the optical head 7, the vertical vibration of the mirror surface due to these disturbances is small.

【0066】その結果、光学ヘッド7が半導体レーザ3
から対物レンズ10に向かってレーザ光が拡大する有限
光学系であっても、半導体レーザ3と対物レンズ10の
距離が変化し難いため対物レンズ10によって集光され
たビームスポットの焦点位置が、フォーカス方向にずれ
難いとともに、対物レンズに入射する光の位置にもオフ
セットが発生し難いため、前記ビームスポットがディス
ク1のトラッキング方向にも移動し難い。したがって、
構成が簡単で、光ディスク装置の薄型化に適した構成で
ありながら、外乱に強く、安定した制御を実現すること
ができる。
As a result, the optical head 7 is
Even in a finite optical system in which the laser light expands from the laser beam toward the objective lens 10, since the distance between the semiconductor laser 3 and the objective lens 10 hardly changes, the focal position of the beam spot collected by the objective lens 10 It is difficult for the beam spot to move in the tracking direction of the disk 1 because it is difficult to shift in the direction and the position of the light incident on the objective lens is hardly offset. Therefore,
Although the configuration is simple and suitable for thinning the optical disk device, it is strong against disturbance and can realize stable control.

【0067】また、静電力を利用して駆動力を発生する
構成であるため、消費電力を少なくすることができ、光
学ヘッド7に搭載される光学ユニット6や対物レンズ1
0などに与える熱的悪影響を極力回避することができ
る。また、第1のプレート20と第2のプレート30は
反射ミラー24の反射面と平行な平面を(1,0,0)
面となるようにすれば、第1のプレート20と第2のプ
レート30を構成するウェハとして、最も市場流通量の
多い(1,0,0)ウェハをそれぞれ用いることができ
る。
Since the driving force is generated by utilizing the electrostatic force, the power consumption can be reduced, and the optical unit 6 and the objective lens 1 mounted on the optical head 7 can be reduced.
Thermal adverse effects on 0 or the like can be avoided as much as possible. Further, the first plate 20 and the second plate 30 define a plane parallel to the reflection surface of the reflection mirror 24 as (1, 0, 0).
When the first and second plates 20 and 30 are formed as planes, (1, 0, 0) wafers having the largest market volume can be used as the wafers constituting the first plate 20 and the second plate 30.

【0068】次に、本発明の第2実施形態に係るガルバ
ノミラーおよびこれを用いた光ディスク装置について説
明する。なお、以下の各実施形態の説明においては、前
述の第1実施形態と同一構成要素には同一符号を付して
重複する説明を省略する。
Next, a galvanomirror according to a second embodiment of the present invention and an optical disk apparatus using the same will be described. In the following description of each embodiment, the same components as those in the above-described first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0069】本第2実施形態が第1実施形態と異なる点
は、図3における凹部34の断面形状にある。すなわ
ち、第1実施形態における凹部34は、図4の(a)に
概略を断面表示するように、面37より所定の深さの単
純な溝状に形成されている。これに対して、第2実施形
態においては、図4の(b)に示すように、第2のプレ
ート30における面37の裏面より空隙部状の凹部39
が形成されている。
The second embodiment differs from the first embodiment in the cross-sectional shape of the recess 34 in FIG. That is, the concave portion 34 in the first embodiment is formed in a simple groove shape having a predetermined depth from the surface 37 as schematically shown in cross section in FIG. On the other hand, in the second embodiment, as shown in FIG.
Are formed.

【0070】具体的には、第1実施形態の凹部34が、
例えば図4(a)のように、第2のプレート30に、例
えば10ミクロンから200ミクロンの深さだけエッチ
ングすることにより形成されているとすると、第2実施
形態においては、凹部34が揺動部23と対向する面か
らエッチングされているとすると、この反対側、つまり
第2のプレート30の揺動部23と対向していない側か
ら凹部39をエッチングし、両者を第2のプレート30
の内部で連続させている。
Specifically, the recess 34 of the first embodiment is
For example, as shown in FIG. 4A, if the second plate 30 is formed by etching to a depth of, for example, 10 to 200 microns, the concave portion 34 swings in the second embodiment. If the etching is performed from the surface facing the portion 23, the concave portion 39 is etched from the opposite side, that is, the side of the second plate 30 not facing the swinging portion 23, and both are etched by the second plate 30.
It is continuous inside.

【0071】また、凹部39のエッチングは、第2のプ
レート30の厚みから凹部39の深さを除いた長い深さ
にわたって行なうエッチングであるので、水酸化カリウ
ムなどによる異方性エッチングが適している。第2実施
形態では、凹部51と複数の凹部50が連続している
が、1個の凹部34に対し、1個の凹部39を設けても
かまわない。
Since the etching of the concave portion 39 is performed over a long depth excluding the depth of the concave portion 39 from the thickness of the second plate 30, anisotropic etching using potassium hydroxide or the like is suitable. . In the second embodiment, the recess 51 and the plurality of recesses 50 are continuous, but one recess 39 may be provided for one recess 34.

【0072】上記のように、凹部34が凹部39により
大気中に解放されていると、凹部34の圧力低減効果が
増大し、揺動部23を駆動する際の抵抗力が低減するこ
とにより、揺動部23の駆動感度が大きくなる。その結
果、トラッキング方向のみには、トラッキング方向の駆
動感度の大きさにより、対物レンズに入射する光の位置
のオフセットによる、前記ビームスポットがディスク1
のトラッキング方向にずれることによる影響を低減する
ことができる。
As described above, when the concave portion 34 is released to the atmosphere by the concave portion 39, the effect of reducing the pressure of the concave portion 34 is increased, and the resistance when driving the swinging portion 23 is reduced. The drive sensitivity of the oscillating portion 23 increases. As a result, in the tracking direction only, the beam spot is shifted by the offset of the position of the light incident on the objective lens due to the magnitude of the drive sensitivity in the tracking direction.
Can be reduced.

【0073】次に、本発明の第3実施形態に係るガルバ
ノミラーを用いた集積光学装置を説明する。この第3実
施形態に係る集積光学装置は、図5に示すX,Y,Z軸
が、図13から図16に示すX,Y,Z軸と一致するよ
うに配置されている。第3実施形態が第1実施形態と異
なる点は、特に、ガルバノミラー40をHOE5よりも
半導体レーザ3の近くに配置し、図13の光学ユニット
6を集積光学装置41として再構成した点である。
Next, an integrated optical device using a galvanomirror according to a third embodiment of the present invention will be described. The integrated optical device according to the third embodiment is arranged such that the X, Y, and Z axes shown in FIG. 5 coincide with the X, Y, and Z axes shown in FIGS. The third embodiment is different from the first embodiment, in particular, in that the galvanomirror 40 is arranged closer to the semiconductor laser 3 than the HOE 5 and the optical unit 6 of FIG. .

【0074】集積光学装置41は、フォトディテクタ4
を形成したシリコンプレート42をエッチングし、底面
が2段に形成された凹部43を有する。凹部43の上段
底面44に半導体レーザ3を貼り付け、凹部43の下段
底面45と、フォトディテクタ4が設けられた面と45
度の角度をなす面46との交線に、ガルバノミラー40
の第2のプレート30の底面の端が一致するように接合
して形成している。
The integrated optical device 41 includes the photodetector 4
Is etched to form a recess 43 having a bottom surface formed in two steps. The semiconductor laser 3 is adhered to the upper bottom surface 44 of the concave portion 43, and the lower bottom surface 45 of the concave portion 43 and the surface on which the photodetector 4 is provided 45
The galvanomirror 40 is located at the line of intersection with the
The second plate 30 is formed so as to be joined so that the edges of the bottom surface thereof coincide with each other.

【0075】また、第1実施形態でガルバノミラー9A
が配置されていた場所には、図中X方向に進行してくる
光を図中Z方向に90°折り曲げるために、ガラス板に
よる立ち上げミラーが配置されている。
In the first embodiment, the galvanomirror 9A
In the place where has been arranged, a rising mirror made of a glass plate is arranged to bend the light traveling in the X direction in the figure by 90 ° in the Z direction in the figure.

【0076】半導体レーザ3を出光したレーザ光はガル
バノミラー40の揺動部23の回転により図中Y軸回り
に回転するが、光ビームがY軸回りに回転することによ
り、プリズム8、立ち上げミラー24で90°曲げら
れ、図中Z方向に進行する光は図中Y軸回りに回転させ
られ、ディスク1上で対物レンズ10により集光された
ビームスポットがディスク1のトラッキング方向に移動
することになる。
The laser beam emitted from the semiconductor laser 3 rotates around the Y axis in the figure due to the rotation of the oscillating portion 23 of the galvanomirror 40. However, when the light beam rotates around the Y axis, the prism 8 rises. The light that is bent 90 ° by the mirror 24 and travels in the Z direction in the figure is rotated about the Y axis in the figure, and the beam spot collected by the objective lens 10 on the disk 1 moves in the tracking direction of the disk 1. Will be.

【0077】ガルバノミラー40は、半導体レーザ3に
近接させて配置することにより、揺動部23を非常に小
さく形成できるが、逆に、揺動部23が小さくなると、
揺動部23を変形させる力に対する剛性を十分に確保す
ることができるので、揺動部23の厚みは薄くても良い
ことになる。
By arranging the galvanomirror 40 close to the semiconductor laser 3, the oscillating portion 23 can be formed very small. Conversely, if the oscillating portion 23 becomes small,
Since the rigidity against the force for deforming the swinging portion 23 can be sufficiently ensured, the thickness of the swinging portion 23 may be small.

【0078】揺動部23は、図6に示すように、スパッ
タ装置、気相成長装置、液相成長装置等の薄膜形成装置
により形成するので、揺動部23の厚さは、例えば0.
1ミクロンから10ミクロン程度に限定される。
As shown in FIG. 6, the oscillating portion 23 is formed by a thin film forming device such as a sputtering device, a vapor phase growth device, or a liquid phase growth device.
It is limited to about 1 to 10 microns.

【0079】次に、第3実施形態に係るガルバノミラー
40の製造方法について説明する。図6(a)に示すよ
うに、ガルバノミラー40の第2のプレート30を形成
するガラスなどの不導体または表面に窒化シリコン等の
絶縁膜を形成したシリコンなどの半導体もしくは金属な
どの導体からなるウェハ50を用意し、このウェハ50
に、図6(b)に示すように、駆動電極31a,31b
を形成する。この際、第1実施形態と同じように凹部3
4を形成してもよい。
Next, a method of manufacturing the galvanometer mirror 40 according to the third embodiment will be described. As shown in FIG. 6A, the galvanometer mirror 40 is made of a non-conductor such as glass forming the second plate 30 or a conductor such as a semiconductor such as silicon or a metal having an insulating film such as silicon nitride formed on the surface. A wafer 50 is prepared.
Next, as shown in FIG. 6B, the drive electrodes 31a and 31b
To form At this time, as in the first embodiment, the recess 3
4 may be formed.

【0080】次に、図6(c)に示すように、例えば窒
化シリコン等の犠牲層51を全面に形成し、さらに図6
(d)に示すように、ポリイミド等からなる犠牲層52
をやはり全面に形成し、図6(e)に示すように、犠牲
層52の表面を研磨して平坦化する。
Next, as shown in FIG. 6C, a sacrificial layer 51 of, for example, silicon nitride is formed on the entire surface.
As shown in (d), the sacrificial layer 52 made of polyimide or the like is used.
Is formed over the entire surface, and the surface of the sacrificial layer 52 is polished and flattened as shown in FIG.

【0081】さらに、図6(f)に示すように、犠牲層
52に、ガルバノミラー40の反射面24と垂直な方向
からみて、凸部26の幅t1と同じ幅で、弾性部25
a,25bの端から端までの長さで犠牲層52をエッチ
ングして溝53を形成し、さらに固定部21,22にあ
たる部分を、犠牲層51,52ともにエッチングする。
なお、図6においては、固定部21,22に相当する部
分については図示されていない。この際、固定部24に
あたる部分のエッチングは、犠牲層52のエッチングだ
けでも良い。
Further, as shown in FIG. 6F, the elastic portion 25 has the same width as the width t1 of the convex portion 26 when viewed from the direction perpendicular to the reflection surface 24 of the galvanometer mirror 40.
The groove 53 is formed by etching the sacrifice layer 52 over the length of the end portions a and 25b, and the portions corresponding to the fixing portions 21 and 22 are etched together with the sacrifice layers 51 and 52.
In FIG. 6, a portion corresponding to the fixing portions 21 and 22 is not shown. At this time, the portion corresponding to the fixing portion 24 may be etched only by etching the sacrificial layer 52.

【0082】次に、図6(g)に示すように、揺動部2
3の材料となる、例えば金属やシリコン、誘電体等から
なる薄膜54を、スパッタ装置、気相成長装置、液相成
長装置等の薄膜形成装置により形成する。この薄膜54
は、図6(h)に示すように研磨されて平坦化される。
次に、図6(i)に示すように、揺動部23,固定部2
1,22,弾性部25a,25b等をRIE等によるド
ライエッチングにより形成する。
Next, as shown in FIG.
A thin film 54 made of, for example, metal, silicon, or a dielectric material, which is the material of No. 3, is formed by a thin film forming apparatus such as a sputtering apparatus, a vapor phase growth apparatus, and a liquid phase growth apparatus. This thin film 54
Is polished and flattened as shown in FIG.
Next, as shown in FIG. 6 (i), the swing part 23, the fixed part 2
The first and second elastic portions 25a and 25b are formed by dry etching such as RIE.

【0083】さらに、図6(j)に示すように、犠牲層
52を除去し、また、図6(k)に示すように、ウェハ
50を切断・分離(ダイシング)することによりウェハ
50から個別の第2のプレート30に分離する。最後
に、図6(l)に示すように、犠牲層51を除去して、
ガルバノミラー40が完成する。
Further, as shown in FIG. 6 (j), the sacrificial layer 52 is removed, and as shown in FIG. 6 (k), the wafer 50 is cut and separated (diced) to separate from the wafer 50. To the second plate 30. Finally, as shown in FIG. 6 (l), the sacrifice layer 51 is removed,
The galvanometer mirror 40 is completed.

【0084】図6に示す製造工程は、順番を入れ替えて
行なってもかまわないが、ダイシングを行なう前に、犠
牲層51もしくは犠牲層52を完全に除去してしまう
と、切断時の振動により弾性部25a,25bが破損す
る恐れがあるので、揺動部23を少なくとも第1の犠牲
層51により第2のプレート30に接合した状態でダイ
シングを行なうのが好ましい。
The manufacturing process shown in FIG. 6 may be performed in a different order. However, if the sacrificial layer 51 or the sacrificial layer 52 is completely removed before dicing, the elasticity due to vibration at the time of cutting is reduced. Since the portions 25a and 25b may be damaged, it is preferable to perform dicing in a state where the swinging portion 23 is joined to the second plate 30 by at least the first sacrificial layer 51.

【0085】このような構造のガルバノミラー60であ
っても、前述の第1実施形態と同様の効果を得ることが
できる。さらに、第1実施形態に対し、揺動部23を小
さく形成できるので、駆動感度を高くすることができ
る。また、同様に第1実施形態に対し、揺動部23を小
さくできるので、ウェハ50から第2のプレート30を
数多く形成することができ、コストを低減することがで
きる。
With the galvanomirror 60 having such a structure, the same effect as in the first embodiment can be obtained. Further, since the swing portion 23 can be formed smaller than in the first embodiment, the drive sensitivity can be increased. Similarly, since the swing portion 23 can be made smaller than in the first embodiment, a large number of second plates 30 can be formed from the wafer 50, and the cost can be reduced.

【0086】さらに、HOE5により、特別なガラス部
品を用いなくとも、半導体レーザ3とフォトディテクタ
4とともにガルバノミラー40を外部環境から隔絶する
ことができるので、ガルバノミラー40に湿度や、ゴミ
の影響が及ぶことが無く、しかもガラス部品の分だけコ
ストを低減させることができる。
Furthermore, the HOE 5 allows the galvanometer mirror 40 to be isolated from the external environment together with the semiconductor laser 3 and the photodetector 4 without using any special glass parts, so that the galvanometer mirror 40 is affected by humidity and dust. And the cost can be reduced by the amount of the glass parts.

【0087】また、本第3実施形態では、集積光学装置
41を1枚のシリコンプレート42から構成するように
記述したが、面44,45,46の位置を正確に形成す
るため、集積光学装置41を複数のプレートの張り合わ
せにより構成してもよい。
In the third embodiment, the integrated optical device 41 is described as being composed of one silicon plate 42. However, in order to accurately form the positions of the surfaces 44, 45, and 46, the integrated optical device 41 is required. 41 may be configured by laminating a plurality of plates.

【0088】次に、本発明の第4実施形態を説明する。
図7は本発明の第4実施形態に係るガルバノミラー55
を示す斜視図である。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 7 shows a galvanomirror 55 according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG.

【0089】この第4実施形態においては、ガルバノミ
ラー55の揺動部23の上にHOE56が形成されてい
る。揺動部23は、前述のようにシリコンなどで形成さ
れているので、ガラスよりもむしろエッチング時の形状
変形が少なく、ガラスよりも微細な溝57を形成するこ
とができ、ホログラム形状を精密に加工することができ
る。また、HOE5の分だけコストを低減することがで
きると共に、光学ヘッド7を軽量化することができ、こ
のため、リニアモーターコイル12が発生する力に対し
て光学ヘッド7を高加速度でディスク1のトラッキング
方向に追従させることができるので、光ディスク装置に
加わる外力に対して余裕を確保することができる。
In the fourth embodiment, the HOE 56 is formed on the swing part 23 of the galvanomirror 55. Since the oscillating portion 23 is formed of silicon or the like as described above, the shape of the oscillating portion 23 is less deformed at the time of etching than glass, and a groove 57 finer than glass can be formed. Can be processed. Further, the cost can be reduced by the amount of the HOE 5, and the weight of the optical head 7 can be reduced. For this reason, the optical head 7 can be moved at a high acceleration with respect to the force generated by the linear motor coil 12. Since it is possible to follow in the tracking direction, it is possible to secure a margin against an external force applied to the optical disk device.

【0090】次に、本発明の第5実施形態を説明する。
図8は本発明の第5実施形態に係るガルバノミラー60
の斜視図である。図8において、ガルバノミラー60の
揺動部23の周縁に複数の穴部62が設けられている。
揺動部23の穴部61が無い中央部には反射ミラー62
が形成されている。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 8 shows a galvanomirror 60 according to a fifth embodiment of the present invention.
It is a perspective view of. In FIG. 8, a plurality of holes 62 are provided on the periphery of the swinging portion 23 of the galvanometer mirror 60.
A reflection mirror 62 is provided at the center of the swing portion 23 where the hole 61 is not provided.
Are formed.

【0091】穴部61のある揺動部23を形成すると、
揺動部23を駆動する電極31a,31bを相対的に大
きくすることができるが、揺動部23に穴部61を形成
することにより、揺動部23の慣性モーメントは大きく
増加することはない。これにより、揺動部23のトラッ
キング方向の駆動感度が向上するので、結果として、対
物レンズに入射する光の位置のオフセットにより前記ビ
ームスポットがディスク1のトラッキング方向にずれる
不具合を低減できる。
When the swinging portion 23 having the hole 61 is formed,
Although the electrodes 31a and 31b for driving the swinging portion 23 can be relatively large, the formation of the hole 61 in the swinging portion 23 does not greatly increase the moment of inertia of the swinging portion 23. . As a result, the drive sensitivity of the oscillating portion 23 in the tracking direction is improved, and as a result, the problem that the beam spot shifts in the tracking direction of the disk 1 due to the offset of the position of the light incident on the objective lens can be reduced.

【0092】次に、本発明の第6実施形態を説明する。
図9は本発明の第6実施形態に係るガルバノミラー65
の斜視図である。図9において、ガルバノミラー65の
揺動部23の中央に穴部66が設けられている。穴部6
6に対向する第2のプレート30上と、穴部の側壁67
と、穴部の縁68には、反射防止膜69が塗布されてい
る。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 9 shows a galvanomirror 65 according to a sixth embodiment of the present invention.
It is a perspective view of. In FIG. 9, a hole 66 is provided at the center of the swinging portion 23 of the galvanometer mirror 65. Hole 6
6 and the side wall 67 of the hole.
The antireflection film 69 is applied to the edge 68 of the hole.

【0093】揺動部23をこのように形成すると、対物
レンズ10に入射する高速の対物レンズ10の中央部に
ガルバノミラー65からの反射光が到達しないので、対
物レンズ10によりディスク1上に集光されるビームス
ポットを小さく形成することができる。これにより、少
なくともディスク1のトラッキング方向にもビームスポ
ットが小さくなるので、トラッキング方向に制御をかけ
る際に許容される誤差に対する余裕が拡大する。その結
果、前記ビームスポットがディスク1のトラッキング方
向にずれることによる影響を低減できる。
When the oscillating portion 23 is formed in this manner, the reflected light from the galvanometer mirror 65 does not reach the central portion of the high-speed objective lens 10 incident on the objective lens 10, so that the objective lens 10 collects the light on the disk 1. A light beam spot can be formed small. As a result, the beam spot becomes smaller at least in the tracking direction of the disk 1, so that a margin for an error allowed when controlling in the tracking direction is expanded. As a result, it is possible to reduce the influence of the beam spot being shifted in the tracking direction of the disk 1.

【0094】次に、図10から図12を用いて本発明の
第7実施形態を説明する。なお、図10から図12には
説明の便宜のためX,Y,Z軸を付記しているが、図1
3から図17と図5に示したX,Y,Z軸とは関係な
い。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In FIGS. 10 to 12, X, Y, and Z axes are added for convenience of description, but FIG.
3 to 17 have no relation to the X, Y, and Z axes shown in FIG.

【0095】第7実施形態に係る光ディスク装置70で
は、ディスク1を安定駆動する回転駆動手段としてのス
ピンドルモータ2に、ディスク1をクランプする磁性体
で形成される永久磁石が接合された固定手段としてのタ
ーンテーブル71を、ロータ72の回転中心からXY平
面内で自由に移動させ、ディスク1のトラック73に対
してロータ72の回転中心を位置させることが可能な自
動調芯装置を有する光ディスク装置としている。
In the optical disk device 70 according to the seventh embodiment, as a fixing means in which a permanent magnet formed of a magnetic material for clamping the disk 1 is joined to the spindle motor 2 as a rotation driving means for stably driving the disk 1. The optical disc device having an automatic alignment device capable of freely moving the turntable 71 from the rotation center of the rotor 72 in the XY plane and positioning the rotation center of the rotor 72 with respect to the track 73 of the disc 1 I have.

【0096】ディスク1はターンテーブル71に安定的
にクランプされている。このクランプは、例えば、ター
ンテーブル71に固定された永久磁石74と、ディスク
1に固定された磁性体とによる磁気吸引力により行なわ
れる。ターンテーブル71には、例えば、樹脂や硬質ゴ
ム等の摩擦係数が比較的大きな板材を介して、ロータ7
2にコイルバネ75の引っ張り力により予圧力が与えら
れている。この引っ張り力は磁性体などにより与えても
よい。
The disk 1 is stably clamped to the turntable 71. This clamping is performed by, for example, the magnetic attraction force of the permanent magnet 74 fixed to the turntable 71 and the magnetic material fixed to the disk 1. The turntable 71 is connected to the rotor 7 via a plate having a relatively large friction coefficient such as resin or hard rubber.
2, a preload is applied by the tensile force of the coil spring 75. This pulling force may be given by a magnetic material or the like.

【0097】ターンテーブル71、ロータ72の回りに
は、ヨーク76a,76bとコイル77a,77bから
なる磁気回路78a,78bが形成されており、コイル
77a,77bに通電することにより、磁性体で形成さ
れるか永久磁石が接合されたターンテーブル74を図の
Y方向のどちらにでも移動させることができる。
Around the turntable 71 and the rotor 72, magnetic circuits 78a and 78b each composed of yokes 76a and 76b and coils 77a and 77b are formed. When the coils 77a and 77b are energized, they are formed of a magnetic material. Or the turntable 74 to which the permanent magnets are joined can be moved in either of the Y directions in the figure.

【0098】ロータ72の回転角度は駆動基盤79上に
形成されたホールセンサ80によりロータ72の内側に
貼り付けられた図示されない回転用の駆動磁石の磁性を
検出することにより得られる。なお、回転角度の検出
は、コイル77a,77bの電磁誘電により行なっても
かまわない。
The rotation angle of the rotor 72 is obtained by detecting the magnetism of a rotating drive magnet (not shown) attached to the inside of the rotor 72 by a Hall sensor 80 formed on the drive base 79. Note that the rotation angle may be detected by the electromagnetic induction of the coils 77a and 77b.

【0099】自動調芯機構による自動調芯は、ロータ7
2を回転させることによってターンテーブル71とディ
スク1を回転させ、フォトディテクタ4により検出され
るトラッキングエラー信号からのトラッククロス数をカ
ウントするとともに、ホールセンサ80の信号を検出す
ることにより、ディスク1の偏芯量の絶対量と方向を算
出する演算回路81により検出する。
The automatic alignment by the automatic alignment mechanism is performed by the rotor 7.
By rotating the turntable 71 and the disk 1 by rotating the disk 1, the number of track crosses from the tracking error signal detected by the photodetector 4 is counted, and by detecting the signal of the Hall sensor 80, the bias of the disk 1 is adjusted. It is detected by an arithmetic circuit 81 that calculates the absolute amount and direction of the core amount.

【0100】ロータ72を回転させて、ホールセンサ8
0によりロータ72の回転角度を検出しながら、コイル
77a,77bに通電することにより、ターンテーブル
71を、ディスク1の偏芯方向と反対方向に駆動し、偏
芯量が1ミクロン程度になるまでこの作業を続け、偏芯
量が所定の量以下になったら、コイル77a,77bに
通電するのをやめ、光学ヘッドを動作させる。
By rotating the rotor 72, the Hall sensor 8
By energizing the coils 77a and 77b while detecting the rotation angle of the rotor 72 by 0, the turntable 71 is driven in a direction opposite to the eccentric direction of the disk 1 until the eccentric amount becomes about 1 micron. This operation is continued, and when the amount of eccentricity becomes equal to or less than the predetermined amount, the current supply to the coils 77a and 77b is stopped, and the optical head is operated.

【0101】ディスク1とターンテーブル71、および
ターンテーブル71とロータ72には、光ディスク装置
70に定められた耐振動・衝撃の仕様の範囲内で、ずれ
が発生しない程度のクランプ力と予圧力とが与えられて
いる。また、上記クランプ力と予圧力は遠心クラッチ等
により、回転数の増加とともに増加する構成となってい
てもよい。
The disc 1 and the turntable 71, and the turntable 71 and the rotor 72, have a clamping force, a preload, and the like that do not cause any deviation within the range of the vibration and shock specifications specified for the optical disc device 70. Is given. Further, the clamping force and the preload may be configured to increase as the number of rotations increases due to a centrifugal clutch or the like.

【0102】光ヘッド82は、第1実施形態と同じ光学
ユニット6を用いているが、半導体レーザ3からXY平
面内に出光されたレーザ光は、HOE5を通り、このレ
ーザ光に対して45°に傾いたガルバノミラー83によ
り、図中略Z方向に光が反射される。
The optical head 82 uses the same optical unit 6 as in the first embodiment, but the laser light emitted from the semiconductor laser 3 into the XY plane passes through the HOE 5 and is 45 ° with respect to this laser light. The light is reflected in the substantially Z direction in the figure by the galvanomirror 83 inclined to.

【0103】ガルバノミラー9Bは、図12に示すよう
に、楕円の斜め方向に一対の弾性部25a,25bが形
成されている。この一対の弾性部25a,25bを結ぶ
直線は、トラック73の方向と対物レンズ10の光軸を
含む平面である図中YZ平面と、ガルバノミラー9Bの
反射面に平行な平面の交線と平行になるように形成され
ている。
As shown in FIG. 12, the galvanometer mirror 9B has a pair of elastic portions 25a and 25b formed in oblique directions of the ellipse. The straight line connecting the pair of elastic portions 25a and 25b is parallel to the intersection line of the YZ plane in the drawing, which is the plane including the direction of the track 73 and the optical axis of the objective lens 10, and the plane parallel to the reflection surface of the galvanometer mirror 9B. It is formed to become.

【0104】この一対の弾性部25a,25bを結ぶ直
線は、半導体レーザ3から出光した光が、図中X方向に
進行してガルバノミラー9Bに照射される場合を除いて
必ずディスク1と交点を有する関係にある。
The straight line connecting the pair of elastic portions 25a and 25b always crosses the disk 1 except for the case where the light emitted from the semiconductor laser 3 travels in the X direction in the figure and irradiates the galvanomirror 9B. Have a relationship.

【0105】前記光がX方向に進行する場合には、前記
直線はY軸に平行になり、前記光がY方向に進行する場
合には、前記直線はYZ平面内に存在し、ディスク1の
再生もしくは記録・再生面と45°の角度をなす直線と
なる。
When the light travels in the X direction, the straight line is parallel to the Y axis, and when the light travels in the Y direction, the straight line exists in the YZ plane. This is a straight line that forms an angle of 45 ° with the reproduction or recording / reproduction surface.

【0106】第2のプレート30上には電極31a,3
1bが設けられ、この電極31a,31bも、一対の弾
性部25a,25bを結ぶ直線に沿って分割されてい
る。電極31a,31bと連続した端子32a,32b
と接地レベルに接続された端子27a,27bに電圧を
かけ、端子32a,32bに印加される電圧に差をもた
せると、揺動部23は弾性部25a,25b回りに回転
する。この揺動部23の回転により、揺動部23に形成
された反射ミラー24が光を図中略Z方向に反射すと共
に、対物レンズ10がディスク1上に集光されたビーム
スポットを図10中のX方向であるトラッキング方向に
移動させることができる。
On the second plate 30, the electrodes 31a, 3
The electrodes 31a and 31b are also divided along a straight line connecting the pair of elastic portions 25a and 25b. Terminals 32a, 32b continuous with electrodes 31a, 31b
When a voltage is applied to the terminals 27a and 27b connected to the ground level and the terminals 32a and 32b, and the voltage applied to the terminals 32a and 32b has a difference, the oscillating portion 23 rotates around the elastic portions 25a and 25b. Due to the rotation of the oscillating portion 23, the reflecting mirror 24 formed on the oscillating portion 23 reflects light substantially in the Z direction in the figure, and the objective lens 10 changes the beam spot condensed on the disk 1 in FIG. In the tracking direction, which is the X direction.

【0107】このように、対物レンズ10の下に光を導
く光路83を、図10中のトラッキング方向であるX方
向に対して傾けるようにして光ヘッド82を構成するこ
とにより、光ヘッド82をコンパクトにすることができ
る。また、図10に示すように、四角形形状である光デ
ィスク装置70の対角線方向にトラッキング方向を設定
することにより、光ディスク装置70をディスク1とほ
とんど寸法が変わらない、いわゆるジャケットサイズに
相当する小型にすることができる。
As described above, the optical head 82 is configured such that the optical path 83 for guiding the light under the objective lens 10 is inclined with respect to the X direction which is the tracking direction in FIG. It can be compact. Further, as shown in FIG. 10, by setting the tracking direction in the diagonal direction of the optical disk device 70 having a rectangular shape, the optical disk device 70 is reduced in size to almost the same size as the disk 1, that is, equivalent to a so-called jacket size. be able to.

【0108】このとき、光学ヘッド82のトラッキング
送りは、ネジが切られて図示しないベースに回転自在に
支持された送り軸84と、送り軸84を回転させるベー
スに取り付けられた駆動モータ85と、ネジが切られて
おらずベースに固定された軸86と、送り軸84,86
にトラッキング方向に摺動自在に填める嵌合され、光学
ヘッド82と樹脂などで一体に成型された軸受87と、
送り軸84のネジの谷と摺動自在に嵌合し、光学ヘッド
82から図示しないバネなどで予圧力を受け、送り軸8
4に押しあてられた爪88の作用により行なわれる。
At this time, tracking feed of the optical head 82 is performed by a feed shaft 84 threaded and rotatably supported by a base (not shown), a drive motor 85 mounted on the base for rotating the feed shaft 84, and A shaft 86 which is not threaded and is fixed to the base;
A bearing 87 which is slidably fitted in the tracking direction and is integrally molded with the optical head 82 and a resin;
The optical head 82 is slidably fitted to the thread valley of the feed shaft 84 and receives a preload from the optical head 82 by a spring or the like (not shown).
4 is carried out by the action of the pawl 88 pressed against it.

【0109】具体的には、光学ヘッド82は軸受87と
送り軸84、軸86によりトラッキング方向(X方向)
に移動自在に支持されているが、駆動モーター85が回
転することにより、送り軸84が回転し、トラッキング
方向の駆動力が爪88から光学ヘッド82に伝えられ
る。
More specifically, the optical head 82 is moved in the tracking direction (X direction) by a bearing 87, a feed shaft 84, and a shaft 86.
When the driving motor 85 rotates, the feed shaft 84 rotates, and the driving force in the tracking direction is transmitted from the claw 88 to the optical head 82.

【0110】上記構成の光ディスク装置70によれば、
対物レンズ10によってディスク1上に集光されるビー
ムスポットのトラッキング方向の制御において、予めデ
ィスク1の偏芯を自動調芯機構により1ミクロン程度に
低減するとともに、この1ミクロン程度の偏芯は静電気
により駆動されるガルバノミラー9Bが修正しているた
め消費電力が少ない。
According to the optical disk device 70 having the above configuration,
In controlling the tracking direction of the beam spot focused on the disk 1 by the objective lens 10, the eccentricity of the disk 1 is reduced to about 1 micron by an automatic alignment mechanism in advance, and the eccentricity of about 1 micron is The power consumption is small because the galvanomirror 9B driven by the correction is corrected.

【0111】光ディスク装置に衝撃等が加えられたと
き、図10中のX,Z方向に移動可能な2軸のアクチュ
エータによりディスク1の偏芯を取り除く一般的な機構
では、この2軸アクチュエータの振幅がトラッキング方
向に500ミクロン程度あるため、記録中に衝撃が加え
られると、数100トラックのデーターを破壊する恐れ
がある。
In a general mechanism for removing eccentricity of the disk 1 by a two-axis actuator movable in the X and Z directions in FIG. 10 when an impact or the like is applied to the optical disk device, the amplitude of the two-axis actuator Is about 500 microns in the tracking direction, so that if an impact is applied during recording, data of several hundred tracks may be destroyed.

【0112】これに対して、本発明の光ディスク装置で
は、送り軸84と爪88の嵌合により光ヘッド82はト
ラッキング方向への移動が阻止され、ガルバノミラー9
Bは第1実施形態で説明したように、揺動部23と電極
31a,31bの隙間が1ミクロンから20ミクロン程
度なので、揺動部23の回転に起因して数100トラッ
クものデーターを破壊することはあり得ない。したがっ
て、簡単な構成により消費電力が少なく、装置に加わる
外力に対して十分な耐性を有する光ディスク装置を提供
することができる。
On the other hand, in the optical disk apparatus of the present invention, the optical head 82 is prevented from moving in the tracking direction by the engagement of the feed shaft 84 and the claw 88, and the galvanomirror 9
In B, as described in the first embodiment, since the gap between the swinging portion 23 and the electrodes 31a and 31b is about 1 to 20 microns, several hundred tracks of data are destroyed due to the rotation of the swinging portion 23. It is impossible. Therefore, it is possible to provide an optical disk device that has a simple configuration, consumes less power, and has sufficient resistance to external force applied to the device.

【0113】なお、本発明は上述した各実施形態および
変形例に限定されるものではなく、その主旨を逸脱しな
い範囲で種々変形して実施できることは言うまでもな
い。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments and modified examples, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0114】[0114]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば簡
単な構成で、安定な制御を実現することが可能なガルバ
ノミラー、および装置に加わる外力に対して十分な耐性
を有する光ディスク装置を実現できる。
As described above, according to the present invention, a galvanomirror capable of realizing stable control with a simple structure and an optical disk device having sufficient resistance to external force applied to the device are provided. realizable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係るガルバノミラーを
示す斜視面図。
FIG. 1 is a perspective view showing a galvanomirror according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1実施形態における第1のプレートの裏面を
示す斜視図。
FIG. 2 is a perspective view showing a back surface of a first plate according to the first embodiment.

【図3】第1実施形態における第2のプレートの表面を
示す斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing the surface of a second plate in the first embodiment.

【図4】(a)第1実施形態の第2のプレートの断面
図、および(b)第2実施形態の第2のプレートの断面
図。
4A is a sectional view of a second plate of the first embodiment, and FIG. 4B is a sectional view of a second plate of the second embodiment.

【図5】本発明の第3実施形態に係るガルバノミラーを
含む集積光学装置の斜視図。
FIG. 5 is a perspective view of an integrated optical device including a galvanomirror according to a third embodiment of the present invention.

【図6】第3実施形態に係るガルバノミラーの製造工程
をそれぞれ示す断面図。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing the galvanomirror according to the third embodiment.

【図7】本発明の第4実施形態に係るガルバノミラーを
示す斜視図。
FIG. 7 is a perspective view showing a galvanomirror according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第5実施形態に係るガルバノミラーを
示す斜視図。
FIG. 8 is a perspective view showing a galvanomirror according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第6実施形態に係るガルバノミラーを
示す斜視図。
FIG. 9 is a perspective view showing a galvanomirror according to a sixth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第7実施形態に係るガルバノミラー
を用いた光ディスク装置を示す平面図。
FIG. 10 is a plan view showing an optical disc device using a galvanomirror according to a seventh embodiment of the present invention.

【図11】第7実施形態に用いられる自動調芯装置を示
す斜視図。
FIG. 11 is a perspective view showing an automatic alignment device used in a seventh embodiment.

【図12】第7実施形態に適用されるガルバノミラーを
示す平面図。
FIG. 12 is a plan view showing a galvano mirror applied to a seventh embodiment.

【図13】本発明を含む一般的な光ディスク装置の内部
構造を示す断面図。
FIG. 13 is a sectional view showing the internal structure of a general optical disk device including the present invention.

【図14】本発明を含む一般的な光学ヘッドを含む駆動
系を示す平面図。
FIG. 14 is a plan view showing a drive system including a general optical head including the present invention.

【図15】本発明を含む一般的な光学ヘッドを示す断面
図。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a general optical head including the present invention.

【図16】本発明を含む一般的な光学ユニットを示す断
面図。
FIG. 16 is a sectional view showing a general optical unit including the present invention.

【図17】従来のガルバノミラーを示す分解斜視図。FIG. 17 is an exploded perspective view showing a conventional galvanometer mirror.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク 2 回転駆動手段(スピンドルモータ) 3 半導体レーザ 9,9A,9B ガルバノミラー 10 対物レンズ 22 固定部 23 揺動部 24 反射ミラー 25a,25b 弾性部 26 凸部 34 凹部 37 面 56 HOE 71 固定手段(ターンテーブル) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical disk 2 Rotation drive means (spindle motor) 3 Semiconductor laser 9, 9A, 9B Galvano mirror 10 Objective lens 22 Fixed part 23 Swing part 24 Reflection mirror 25a, 25b Elastic part 26 Convex part 34 Concave part 37 Surface 56 HOE 71 Fixing means (Turntable)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に反射ミラーを有する揺動部と、 この揺動部の周囲に配置される固定部と、 前記揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性部
と、 前記揺動部の裏面に前記弾性部と連続して形成された凸
部と、 を備えることを特徴とするガルバノミラー。
An oscillating portion having a reflection mirror on a surface thereof; a fixed portion disposed around the oscillating portion; a pair of elastic portions for suspending and supporting the oscillating portion on the fixed portion; And a convex portion formed on the back surface of the swing portion so as to be continuous with the elastic portion.
【請求項2】表面に反射ミラーを有する揺動部と、 この揺動部の周囲に配置される固定部と、 前記揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性部
と、 前記揺動部の裏面およびこれに対向する前記固定部の面
のいずれか一方に形成されると共に、前記一対の弾性部
を結ぶ直線を少なくとも横切る部分を含む凹部と、 を備えることを特徴とするガルバノミラー。
An oscillating portion having a reflection mirror on a surface thereof; a fixed portion disposed around the oscillating portion; a pair of elastic portions for suspending and supporting the oscillating portion on the fixed portion; A concave portion formed on one of the back surface of the oscillating portion and the surface of the fixed portion facing the oscillating portion, the concave portion including at least a portion crossing a straight line connecting the pair of elastic portions. mirror.
【請求項3】ホログラフィック光学素子が表面に形成さ
れた揺動部と、 この揺動部の周囲に配置される固定部と、 前記揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性部
と、 を備えることを特徴とするガルバノミラー。
3. A oscillating portion having a holographic optical element formed on a surface thereof, a fixed portion disposed around the oscillating portion, and a pair of elastic members for suspending and supporting the oscillating portion on the fixed portion. A galvanomirror, comprising:
【請求項4】表面の一部に反射ミラーが形成され、この
反射ミラーが形成されていない部分に所定形状の穴部を
有する揺動部と、 この揺動部の周囲に配置される固定部と、 前記揺動部を前記固定部に吊設支持する一対の弾性部
と、 を備えることを特徴とするガルバノミラー。
4. A oscillating portion having a reflection mirror formed on a part of the surface and having a hole of a predetermined shape at a portion where the reflection mirror is not formed, and a fixed portion disposed around the oscillating portion. And a pair of elastic portions for suspending and supporting the swinging portion on the fixed portion.
【請求項5】前記所定形状の穴部は、楕円形状の揺動部
の中心に穿設されていることを特徴とする請求項4に記
載のガルバノミラー。
5. The galvanomirror according to claim 4, wherein the hole having the predetermined shape is formed at the center of the elliptical swinging portion.
【請求項6】前記反射ミラーは、楕円形状の揺動部の略
中心に形成され、前記所定形状の穴部は、前記反射ミラ
ーを囲むように複数穿設されていることを特徴とする請
求項4に記載のガルバノミラー。
6. The reflection mirror is formed substantially at the center of an elliptical oscillating portion, and a plurality of holes of the predetermined shape are formed so as to surround the reflection mirror. Item 6. A galvanometer mirror according to Item 4.
【請求項7】光源と、 この光源より出射されるレーザ光を光ディスクの情報記
録面に収束させて光スポットを形成する対物レンズと、 前記光源と前記対物レンズとの間に設けられると共に、
表面に反射ミラーが形成された揺動部,この揺動部の周
囲に位置する固定部,前記揺動部を前記固定部に吊設支
持する一対の弾性部,前記揺動部の裏面に前記弾性部と
連続して形成された凸部を具備するガルバノミラーと、 を備え、 前記一対の弾性部を結ぶ直線が、前記光ディスクの情報
記録トラックと前記対物レンズの光軸を含む平面に含ま
れるとともに、前記情報記録面に対して交点を有するこ
とを特徴とする光ディスク装置。
7. A light source, an objective lens for converging laser light emitted from the light source on an information recording surface of an optical disc to form a light spot, and provided between the light source and the objective lens;
An oscillating portion having a reflection mirror formed on a surface thereof, a fixed portion located around the oscillating portion, a pair of elastic portions for suspending and supporting the oscillating portion on the fixed portion, A galvanomirror having a convex portion formed continuously with the elastic portion, wherein a straight line connecting the pair of elastic portions is included in a plane including the information recording track of the optical disc and the optical axis of the objective lens. An optical disc device having an intersection with the information recording surface.
【請求項8】光ディスクを回転させる回転駆動手段と、 前記光ディスクを前記回転駆動手段に着脱可能に固定す
る固定手段と、 光源と前記対物レンズとの間に設けられると共に、表面
に反射ミラーが形成された揺動部,この揺動部の周囲に
位置する固定部,前記揺動部を前記固定部に吊設支持す
る一対の弾性部,前記揺動部の裏面に前記弾性部と連続
して形成された凸部,を具備するガルバノミラーと、 前記ガルバノミラーを含む光ヘッドを前記光ディスクの
半径方向に移動可能に支持する送り機構と、 前記固定手段に前記光ディスクの情報記録トラックの中
心と、前記回転駆動手段の回転中心との間を調整する自
動調芯機構と、 を備えることを特徴とする光ディスク装置。
8. A rotation driving means for rotating the optical disk, a fixing means for detachably fixing the optical disk to the rotation driving means, and a reflection mirror formed on a surface between the light source and the objective lens. Oscillating portion, a fixed portion located around the oscillating portion, a pair of elastic portions for suspending and supporting the oscillating portion on the fixed portion, and a back surface of the oscillating portion connected to the elastic portion. A galvanomirror having a convex portion formed thereon, a feeding mechanism for supporting an optical head including the galvanomirror movably in a radial direction of the optical disc, a center of an information recording track of the optical disc on the fixing means, An automatic centering mechanism for adjusting a distance between a rotation center of the rotation driving means and the rotation center of the optical disk device.
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