JPH11145824A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JPH11145824A
JPH11145824A JP9310764A JP31076497A JPH11145824A JP H11145824 A JPH11145824 A JP H11145824A JP 9310764 A JP9310764 A JP 9310764A JP 31076497 A JP31076497 A JP 31076497A JP H11145824 A JPH11145824 A JP H11145824A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
input
fuse element
signal
terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9310764A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Yamada
敦史 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP9310764A priority Critical patent/JPH11145824A/en
Publication of JPH11145824A publication Critical patent/JPH11145824A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Fuses (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated circuit(IC) which can be developed and prepared in a short time, without producing an IC for every specification change, while suppressing the generation of new development cost for preparing the IC again each time, when the specification of a glass mask required for producing the IC is changed for the specification changes which are capable of being realized with only slight changes on a logic circuit which are generally called master slice. SOLUTION: A circuit specifications are changed by executing the state setting of whether or not a fuse element built in the IC is to be cut at the time of an IC wafer check process. Plural input circuits 10 composed of fuse elements 4 and pull-down resistors 5 are provided. The state setting is performed corresponding to whether or not the fuse elements 4 of plural input terminals 1 are to be cut, and a signal 101 showing the potential states of the respective input terminals is inputted to a decode circuit 8. The decode circuit 8 outputs a decode signal 80 for operation switching corresponding to the state or combining the input signals 101. A circuit 9 for switching circuit operation according to the decode signal 80 for operation switching is able to change a circuit operating function which corresponds to the inputted decode signal 80 for operation switching.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、MIS構造の半導
体集積回路装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having a MIS structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のMIS構造の半導体集積回路装置
(以下、「IC」という。)において、一般的に回路動
作仕様を変更する場合、セルベースICやスタンダード
セル方式のICでは、論理回路設計やICのレイアウト
設計を再設計する必要があった。即ち、1機種に対して
一つのICを開発する必要があった。また、ゲートアレ
イのようにICの製造における配線工程以降で変更する
必要があった。あるいは、仕様変更内容の回路修正規模
が僅かであれば、ICに回路動作仕様の切り替え用端子
を設けて、その切り替え用端子をIC外部でハイレベル
あるいはロウレベルというように状態設定して仕様変更
に対応してきた。
2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor integrated circuit device having a MIS structure (hereinafter referred to as an "IC"), when a circuit operation specification is generally changed, a logic circuit design is required for a cell-based IC or a standard cell type IC. And the layout design of the IC has to be redesigned. That is, it was necessary to develop one IC for one model. In addition, it has been necessary to make changes after the wiring step in the manufacture of ICs, such as gate arrays. Alternatively, if the circuit modification scale of the specification change is small, the IC is provided with a switching terminal for switching the circuit operation specification, and the switching terminal is set to a high level or a low level outside the IC to change the specification. I have responded.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来からの開発手法では一般的にマスタスライスと呼ば
れる僅かな回路仕様の変更でも実施しようとする場合、
セルベースICやスタンダードセル方式のICでは、I
Cのレイアウト設計を最初の段階から設計し直す必要が
あり、開発費や開発期間がかかり過ぎるという課題を有
していた。また、ゲートアレイのように配線工程以降の
変更で対応しても、設計や製造の初期工程からに比べれ
ば開発費の低下や開発期間の短縮にはなるが、全く無く
なるわけではなく根本的な解決にはならなかった。ま
た、IC外部で対応する方式は、実装面積や実装工程が
増加する。あるいは、実装基板の変更が必要になるなど
実装面でのコストアップにつながるという課題を有して
いた。
However, in the conventional development method as described above, when it is intended to implement even a slight change in circuit specifications generally called a master slice,
In cell-based ICs and standard cell ICs, I
It was necessary to redesign the layout design of C from the beginning, and there was a problem that the development cost and the development period were too long. Also, even if changes are made after the wiring process, as in the case of gate arrays, the development cost and development period will be reduced as compared with the initial process of design and manufacturing, but it will not be eliminated at all but fundamentally. It didn't work out. In addition, in a method corresponding to the outside of the IC, a mounting area and a mounting process increase. Alternatively, there has been a problem that the cost of the mounting surface is increased, such as a need to change the mounting substrate.

【0004】そこで、本発明ではこのような課題を解決
するもので、その目的とするところは、あらかじめ一般
的にマスタスライスと呼ばれる論理回路上僅かな変更で
実現できる仕様変更に対して、ICの製造に必要なガラ
スマスクを仕様変更する都度再作成するというような新
たな開発費用の発生を抑え、かつICを仕様変更毎に製
造する必要がなく短期間に開発し作成することができる
ICを提供するところにある。
Therefore, the present invention solves such a problem, and an object of the present invention is to deal with a change in the specifications of an IC that can be realized by a slight change in a logic circuit generally called a master slice in advance. An IC that can be developed and created in a short period of time without the need to manufacture new ICs every time a specification change is required. To provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】MIS構造の半導体集積
回路装置において、少なくとも一方の電源端子と入力端
子間に電気的に短絡あるいは開放させるヒューズ素子が
接続され、もう一方の電源端子と前記入力端子間に前記
ヒューズ素子の短絡状態の抵抗値より高抵抗の抵抗素子
が接続されてかつ、前記入力端子を入力信号としてその
入力信号の電位状態により回路動作機能が切り替わる回
路が接続されている回路構成にすることを特徴とする。
In a semiconductor integrated circuit device having a MIS structure, a fuse element for electrically shorting or opening is connected between at least one power supply terminal and an input terminal, and the other power supply terminal is connected to the input terminal. A circuit configuration in which a resistance element having a higher resistance than the short-circuited resistance value of the fuse element is connected therebetween, and a circuit whose circuit operation function is switched according to the potential state of the input signal using the input terminal as an input signal is connected. It is characterized by the following.

【0006】前記入力端子を複数個有し、その複数個の
入力端子の電位状態を入力信号としてその複数個の入力
信号の組み合わせ状態を示すデコード信号を出力するデ
コード回路と、前記デコード信号を入力として回路動作
機能が切り替わる回路が接続されている回路構成にする
ことを特徴とする。
A decoding circuit having a plurality of the input terminals and outputting a decode signal indicating a combination state of the plurality of input signals using a potential state of the plurality of input terminals as an input signal; And a circuit configuration in which a circuit whose circuit operation function is switched is connected.

【0007】前記ヒューズ素子として、ポリシリコン素
子を使用することを特徴とする。
[0007] A polysilicon element is used as the fuse element.

【0008】前記ヒューズ素子として、半導体集積回路
装置内で配線材料として使用しているアルミ素子を使用
することを特徴とする。
The invention is characterized in that an aluminum element used as a wiring material in a semiconductor integrated circuit device is used as the fuse element.

【0009】[0009]

【作用】本発明の上記の回路構成によれば、あらかじめ
一般的にマスタスライスと呼ばれる僅かな回路変更で実
現できる仕様変更に対して、ICに内蔵されたヒューズ
素子を切断するか否かという状態設定をICのウエハ検
査工程時に実施することにより回路仕様変更を実現する
ことが可能となる。従って、新たなガラスマスクの作成
の必要がなくなるので、開発費用の発生を抑えることが
可能となる。また、ICを仕様変更毎に開発する必要が
なるのでICを短期間に作成し納入することが可能とな
る。
According to the above-described circuit configuration of the present invention, it is determined whether or not the fuse element built in the IC should be cut in response to a change in specifications which can be realized by a slight circuit change generally called a master slice in advance. By performing the setting during the wafer inspection process of the IC, it is possible to change the circuit specifications. Therefore, there is no need to create a new glass mask, and it is possible to suppress development costs. Further, since it is necessary to develop the IC every time the specification is changed, it is possible to create and deliver the IC in a short time.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明について実施例に基
づいて詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

【0011】図1は、本発明の第1の実施の形態を示す
回路図である。1は、ヒューズ素子を使用した入力端
子、2は、第1の電源端子(以下、「VDD端子」とい
う。)でICの回路全体に電位を供給する電源端子、あ
るいは、ICの回路全体に電位を供給する電源端子から
抵抗素子等が直列に接続されているヒューズ切断用電源
端子である。3は、第2の電源端子(以下、「VSS端
子」という。)でICの回路全体に電位を供給する電源
端子、あるいは、ICの回路全体に電位を供給する電源
端子から抵抗素子等が直列に接続されているヒューズ切
断用電源端子である。4は、ICに内蔵されているヒュ
ーズ素子で通常は100Ω程度のポリシリコン抵抗素子
あるいはICの内部配線に使用しているアルミ配線材料
を使用して実現している。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention. Reference numeral 1 denotes an input terminal using a fuse element, and 2 denotes a first power supply terminal (hereinafter referred to as a “VDD terminal”) which supplies a potential to the entire circuit of the IC, or a potential to the entire circuit of the IC. This is a fuse cutting power supply terminal in which a resistance element and the like are connected in series from a power supply terminal for supplying the power supply. Reference numeral 3 denotes a second power supply terminal (hereinafter referred to as a "VSS terminal"), a power supply terminal for supplying a potential to the entire IC circuit, or a resistance element or the like in series from a power supply terminal for supplying a potential to the entire IC circuit. Is a fuse cutting power supply terminal connected to the power supply. Reference numeral 4 denotes a fuse element built in the IC, which is realized by using a polysilicon resistance element of about 100Ω or an aluminum wiring material used for internal wiring of the IC.

【0012】図10にポリシリコン抵抗素子で実現した
ヒューズ素子の実施例の平面レイアウト図を、図11に
アルミ配線材料で実現したヒューズ素子の実施例の平面
レイアウト図を示す。30は、パッド領域。31は、ポ
リシリコン抵抗素子を使用したヒューズ素子。32は、
アルミ配線材料素子を使用したヒューズ素子。33は、
電源配線領域。34は、静電保護素子配置領域である。
5は、プルダウン抵抗素子で図5と、図6に回路構成例
を示す。図5では、デプレション型NチャネルMISト
ランジスタ51で、図6では、デプレション型Nチャネ
ルMISトランジスタ51とエンハンスメント型Nチャ
ネルMISトランジスタ52とインバータ回路53にて
実現している。なお、デプレション型NチャネルMIS
トランジスタ51は、定電流回路構成になっているがゲ
ート電極をVDD端子に接続した回路構成でも構わな
い。6は、入力端子1の電位状態を示す信号101によ
り回路動作機能が切り替わる回路である。図9にカウン
タ回路で実施した例を示す。
FIG. 10 is a plan layout diagram of an embodiment of a fuse element realized by a polysilicon resistance element, and FIG. 11 is a plan layout diagram of an embodiment of a fuse element realized by an aluminum wiring material. 30 is a pad area. 31 is a fuse element using a polysilicon resistance element. 32 is
Fuse element using aluminum wiring material element. 33 is
Power wiring area. Numeral 34 denotes an electrostatic protection element arrangement area.
Reference numeral 5 denotes a pull-down resistance element, and FIGS. 5 and 6 show examples of the circuit configuration. In FIG. 5, it is realized by a depletion type N-channel MIS transistor 51, and in FIG. 6, it is realized by a depletion type N-channel MIS transistor 51, an enhancement type N-channel MIS transistor 52 and an inverter circuit 53. The depletion type N channel MIS
The transistor 51 has a constant current circuit configuration, but may have a circuit configuration in which a gate electrode is connected to a VDD terminal. Reference numeral 6 denotes a circuit whose circuit operation function is switched by a signal 101 indicating the potential state of the input terminal 1. FIG. 9 shows an example implemented by a counter circuit.

【0013】次に、図1の実施例における動作を説明す
る。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be described.

【0014】図1においてヒューズ素子4が接続されて
いる状態では、ヒューズ素子4の抵抗値がプルダウン抵
抗素子5の抵抗値に比べて低く設定されているので、入
力端子1の電位状態を示す信号101はハイレベルにな
る。ヒューズ素子4が切断されて開放状態の場合は、入
力端子1の電位状態を示す信号101はプルダウン抵抗
5によりロウレベルになる。ヒューズ素子4を開放状態
にするには、VDD端子2と入力端子1間に電流を流し
て溶断させることにより実現できる。
In FIG. 1, when the fuse element 4 is connected, the resistance value of the fuse element 4 is set lower than the resistance value of the pull-down resistance element 5, so that a signal indicating the potential state of the input terminal 1 is provided. 101 goes high. When the fuse element 4 is cut and is in an open state, the signal 101 indicating the potential state of the input terminal 1 becomes low level by the pull-down resistor 5. The fuse element 4 can be opened by blowing a current between the VDD terminal 2 and the input terminal 1 to blow it.

【0015】回路動作機能が切り替わる回路6の例とし
て図9にカウンタ回路の例を示す。61は、クロック信
号入力端子、62は、リセット信号入力端子、63は、
カウンタ回路出力端子、64は、回路動作切り替え用信
号入力端子である。図1において、ヒューズ素子4が接
続された状態では、入力端子1はハイレベルになる。入
力端子の電位状態を示す信号101により回路動作が切
り替わる回路6にハイレベルが入力されると図9のカウ
ンタは5進カウンタとして動作をする。ウエハ検査工程
で、ヒューズ素子4を切断して入力端子1をロウレベル
にすると、入力端子の電位状態を示す信号101により
図9のカウンタは6進カウンタとして動作する。即ち、
ウエハ検査工程で入力端子1のヒューズ素子4を切断す
るか否かにより入力端子1の電位状態をハイレベルある
いはロウレベルに設定することで、カウンタ回路の動作
仕様を5進カウンタ動作仕様のICと6進カウンタ動作
仕様のICに回路動作仕様を切り替えることができウエ
ハ検査工程で異なる回路動作仕様のICを作成すること
が可能になる。一般的にマスタスライスレベルで実現で
きる回路動作機能が切り替わる回路6の回路増加分は、
集積回路技術が向上した現在チップ面積で数%程度であ
りコスト面の増加は無視できるレベルである。
FIG. 9 shows an example of a counter circuit as an example of the circuit 6 whose circuit operation functions are switched. 61 is a clock signal input terminal, 62 is a reset signal input terminal, 63 is
The counter circuit output terminal 64 is a circuit operation switching signal input terminal. In FIG. 1, when the fuse element 4 is connected, the input terminal 1 is at a high level. When a high level is input to the circuit 6 whose circuit operation is switched by the signal 101 indicating the potential state of the input terminal, the counter of FIG. 9 operates as a quinary counter. In the wafer inspection process, when the fuse element 4 is cut and the input terminal 1 is set to low level, the counter of FIG. 9 operates as a hexadecimal counter by the signal 101 indicating the potential state of the input terminal. That is,
By setting the potential state of the input terminal 1 to a high level or a low level depending on whether or not the fuse element 4 of the input terminal 1 is cut in the wafer inspection process, the operation specification of the counter circuit is changed to the IC of the quinary counter operation specification. The circuit operation specification can be switched to an IC having a binary counter operation specification, and an IC having a different circuit operation specification can be created in the wafer inspection process. In general, the circuit increase of the circuit 6 whose circuit operation function can be realized at the master slice level is as follows.
At present, the integrated circuit technology has been improved to several percent in terms of chip area, and the increase in cost is negligible.

【0016】従って、図9のように入力端子1の電位状
態によりICの論理回路設計段階であらかじめ用意され
たマスタスライス仕様に応じて回路動作が切り替わる回
路6をIC内部に用意しておけば、ウエハ完成後のウエ
ハ検査工程段階で、まず作成すべき回路動作仕様になる
ようにヒューズ素子を切断するか否かで上記入力端子1
の電位状態を設定することにより所望の機能を有するI
Cを作成することができる。
Therefore, as shown in FIG. 9, if a circuit 6 whose circuit operation is switched according to the master slice specification prepared in advance in the logic circuit design stage of the IC according to the potential state of the input terminal 1 is prepared inside the IC, In a wafer inspection process stage after completion of the wafer, the input terminal 1 is determined by whether or not the fuse element is cut so as to satisfy a circuit operation specification to be created.
Having a desired function by setting the potential state of
C can be created.

【0017】図2においてもヒューズ素子4とプルアッ
プ抵抗7により同様の回路構成を実現することができ
る。7は、プルアップ抵抗素子で図7と、図8に構成例
を示す。図7では、デプレション型PチャネルMISト
ランジスタ54で、図8では、デプレション型Pチャネ
ルMISトランジスタ54とエンハンスメント型Pチャ
ネルMISトランジスタ55とインバータ回路53にて
実現している。なお、デプレション型PチャネルMIS
トランジスタ54は、定電流回路になっているがゲート
電極をVSS端子に接続した回路構成でも構わない。
In FIG. 2, a similar circuit configuration can be realized by the fuse element 4 and the pull-up resistor 7. Reference numeral 7 denotes a pull-up resistance element, and a configuration example is shown in FIGS. In FIG. 7, it is realized by a depletion-type P-channel MIS transistor 54, and in FIG. 8, it is realized by a depletion-type P-channel MIS transistor 54, an enhancement-type P-channel MIS transistor 55, and an inverter circuit 53. The depletion-type P-channel MIS
The transistor 54 is a constant current circuit, but may have a circuit configuration in which a gate electrode is connected to a VSS terminal.

【0018】次に上記の入力端子1を複数個有する場合
の実施例を図3に示す。図3の実施例では、ヒューズ素
子4とプルダウン抵抗5で構成される入力回路10を複
数個有している。複数個の入力端子1のヒューズ素子4
を切断するか否かにより状態設定して各入力端子の電位
状態を示す信号101がデコード回路8に入力される。
デコード回路8では入力信号101の組み合わせ状態に
対応した動作切り替え用デコード信号80を出力する。
動作切り替え用デコード信号80により回路動作が切り
替わる回路9は、入力される動作切り替え用デコード信
号80に対応して回路動作機能を変更することができ
る。従って、図1では2状態しか設定できないのに対し
て、入力端子の数に応じて3個以上の動作機能の切り替
えが可能となる。図4も、ヒューズ素子4とプルアップ
抵抗7で構成される入力回路20を複数個有しており、
図3と同様な機能変更が実現できる。
FIG. 3 shows an embodiment in which a plurality of the input terminals 1 are provided. In the embodiment of FIG. 3, a plurality of input circuits 10 each including a fuse element 4 and a pull-down resistor 5 are provided. Fuse element 4 of a plurality of input terminals 1
And a signal 101 indicating the potential state of each input terminal is input to the decoding circuit 8.
The decoding circuit 8 outputs an operation switching decode signal 80 corresponding to the combination state of the input signal 101.
The circuit 9 whose circuit operation is switched by the operation switching decode signal 80 can change the circuit operation function in accordance with the input operation switching decode signal 80. Therefore, while only two states can be set in FIG. 1, three or more operation functions can be switched according to the number of input terminals. FIG. 4 also has a plurality of input circuits 20 each including a fuse element 4 and a pull-up resistor 7.
A function change similar to that of FIG. 3 can be realized.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上、述べたように本発明によれば、一
般的にマスタスライスと呼ばれる僅かな回路変更で実現
できる仕様変更に対して、ウエハ検査工程において、ヒ
ューズ素子を有する入力端子のヒューズ素子を切断する
か否かで状態設定することで所望の動作機能をするIC
を作成することができるので、ICを仕様変更毎にウエ
ハプロセス工程から製造する必要がなくなり、新たなガ
ラスマスク等の開発費用の発生をなくすことができ、か
つ短期間に所望のICを作成することができるなどすぐ
れた効果を有するものである。また、ウエハ製造プロセ
ス工程で1種類のICを製造するだけで済むことになる
ので、工程管理や在庫管理面での合理化が図れるなどす
ぐれた効果も有する。
As described above, according to the present invention, in a wafer inspection process, a fuse of an input terminal having a fuse element can be used for a specification change which can be realized by a slight circuit change generally called a master slice. An IC that performs a desired operation function by setting the state depending on whether the element is cut or not
, It is not necessary to manufacture an IC from a wafer process every time a specification is changed, it is possible to eliminate the development cost of a new glass mask and the like, and to produce a desired IC in a short time. It has excellent effects such as being able to do. In addition, since only one type of IC needs to be manufactured in the wafer manufacturing process, there is an excellent effect such as rationalization of process management and inventory management.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施の形態を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施の形態を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図5】入力のプルダウン抵抗の実施例を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment of an input pull-down resistor.

【図6】入力のプルダウン抵抗の実施例を示す回路図。FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment of an input pull-down resistor.

【図7】入力のプルアップ抵抗の実施例を示す回路図。FIG. 7 is a circuit diagram showing an embodiment of an input pull-up resistor.

【図8】入力のプルアップ抵抗の実施例を示す回路図。FIG. 8 is a circuit diagram showing an embodiment of an input pull-up resistor.

【図9】入力信号により回路動作が切り替わる回路の実
施例を示す回路図。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an embodiment of a circuit whose circuit operation is switched by an input signal.

【図10】半導体基板上にポリシリコン抵抗で作成され
たヒューズ素子の平面レイアウト図。
FIG. 10 is a plan layout view of a fuse element formed on a semiconductor substrate with a polysilicon resistor.

【図11】半導体基板上にアルミ配線素子で作成された
ヒューズ素子の平面レイアウト図。
FIG. 11 is a plan layout view of a fuse element formed of an aluminum wiring element on a semiconductor substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1は、ヒューズ素子を使用した入力端子 2は、VDD端子 3は、VSS端子 4は、ヒューズ素子 5は、プルダウン抵抗素子 6は、入力端子の電位状態により回路動作機能が切り替
わる回路 7は、プルアップ抵抗素子 8は、デコード回路 9は、デコード信号により回路動作機能が切り替わる回
路 10は、プルダウン抵抗とヒューズ素子により構成され
る入力回路 20は、プルアップ抵抗とヒューズ素子により構成され
る入力回路 30は、パッド領域 31は、ポリシリコン抵抗素子を使用したヒューズ素子 32は、アルミ配線材料を使用したヒューズ素子 33は、電源配線領域 34は、静電保護素子領域 51は、デプレション型NチャネルMISトランジスタ 52は、エンハンスメント型NチャネルMISトランジ
スタ 53は、インバータ回路 54は、デプレション型PチャネルMISトランジスタ 55は、エンハンスメント型PチャネルMISトランジ
スタ 61は、クロック信号入力端子 62は、リセット信号入力端子 63は、カウンタ回路出力端子 64は、回路動作切り替え用信号入力端子 80は、回路動作切り替え用デコード信号 101は、入力端子の電位状態を示す信号
1 is an input terminal using a fuse element, 2 is a VDD terminal, 3 is a VSS terminal, 4 is a fuse element, 5 is a pull-down resistor, and 6 is a pull-down resistor. The up-resistance element 8 is a decoding circuit 9. The circuit 10 whose circuit operation function is switched by a decoding signal. The input circuit 20 is composed of a pull-down resistor and a fuse element. The input circuit 20 is composed of a pull-up resistance and a fuse element. Is a pad region 31 is a fuse element using a polysilicon resistance element 32 is a fuse element 33 using an aluminum wiring material 33 is a power supply wiring area 34 is an electrostatic protection element area 51 is a depletion type N-channel MIS The transistor 52 is an enhancement type N-channel MIS transistor Data circuit 54, a depletion-type P-channel MIS transistor 55, an enhancement-type P-channel MIS transistor 61, a clock signal input terminal 62, a reset signal input terminal 63, a counter circuit output terminal 64, and a circuit operation switching terminal. A signal input terminal 80 is a circuit operation switching decode signal 101 is a signal indicating the potential state of the input terminal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 27/088 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 27/088

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】MIS構造の半導体集積回路装置におい
て、少なくとも第1の電源端子と入力端子間に電気的に
短絡あるいは開放させるヒューズ素子が接続され、第2
の電源端子と前記入力端子間に前記ヒューズ素子の短絡
状態の抵抗値より高抵抗の抵抗素子が接続されてかつ、
前記入力端子を入力信号としてその入力信号の電位状態
により回路動作機能が切り替わる回路が接続されている
回路構成にすることを特徴とする半導体集積回路装置。
In a semiconductor integrated circuit device having a MIS structure, a fuse element for electrically shorting or opening is connected between at least a first power supply terminal and an input terminal;
A resistance element having a higher resistance than the short-circuited resistance value of the fuse element is connected between the power supply terminal and the input terminal;
A semiconductor integrated circuit device having a circuit configuration in which a circuit whose circuit operation function is switched according to a potential state of the input signal with the input terminal as an input signal is connected.
【請求項2】MIS構造の半導体集積回路装置におい
て、少なくとも第2の電源端子と入力端子間に電気的に
短絡あるいは開放させるヒューズ素子が接続され、第1
の電源端子と前記入力端子間に前記ヒューズ素子の短絡
状態の抵抗値より高抵抗の抵抗素子が接続されてかつ、
前記入力端子を入力信号としてその入力信号の電位状態
により回路動作機能が切り替わる回路が接続されている
回路構成にすることを特徴とする半導体集積回路装置。
2. A semiconductor integrated circuit device having an MIS structure, wherein a fuse element for electrically shorting or opening is connected between at least a second power supply terminal and an input terminal, and
A resistance element having a higher resistance than the short-circuited resistance value of the fuse element is connected between the power supply terminal and the input terminal;
A semiconductor integrated circuit device having a circuit configuration in which a circuit whose circuit operation function is switched according to a potential state of the input signal with the input terminal as an input signal is connected.
【請求項3】前記請求項1記載の少なくとも第1の電源
端子と入力端子間に電気的に短絡あるいは開放させるヒ
ューズ素子が接続され、第2の電源端子と前記入力端子
間に前記ヒューズ素子の短絡状態の抵抗値より高抵抗の
抵抗素子が接続されている入力端子を複数個有し、その
複数個の入力端子の電位状態を入力信号としてその複数
個の入力信号の組み合わせ状態を示すデコード信号を出
力するデコード回路と、前記デコード信号を入力として
回路動作機能が切り替わる回路が接続されている回路構
成にすることを特徴とする半導体集積回路装置。
3. A fuse element for electrically shorting or opening between at least a first power supply terminal and an input terminal according to claim 1, wherein said fuse element is electrically connected between a second power supply terminal and said input terminal. A decode signal having a plurality of input terminals to which a resistance element having a higher resistance than the resistance value in the short-circuit state is connected, and a potential state of the plurality of input terminals is used as an input signal to indicate a combined state of the plurality of input signals. And a circuit for switching a circuit operation function by using the decode signal as an input.
【請求項4】前記請求項2記載の少なくとも第2の電源
端子と入力端子間に電気的に短絡あるいは開放させるヒ
ューズ素子が接続され、第1の電源端子と前記入力端子
間に前記ヒューズ素子の短絡状態の抵抗値より高抵抗の
抵抗素子が接続されている入力端子を複数個有し、その
複数個の入力端子の電位状態を入力信号としてその複数
個の入力信号の組み合わせ状態を示すデコード信号を出
力するデコード回路と、前記デコード信号を入力として
回路動作機能が切り替わる回路が接続されている回路構
成にすることを特徴とする半導体集積回路装置。
4. A fuse element for electrically shorting or opening between at least a second power supply terminal and an input terminal according to claim 2, wherein said fuse element is electrically connected between said first power supply terminal and said input terminal. A decode signal having a plurality of input terminals to which a resistance element having a higher resistance than the resistance value in the short-circuit state is connected, and a potential state of the plurality of input terminals is used as an input signal to indicate a combined state of the plurality of input signals. And a circuit for switching a circuit operation function by using the decode signal as an input.
【請求項5】前記請求項1及び前記請求項2記載のヒュ
ーズ素子としてポリシリコン素子を使用することを特徴
とする半導体集積回路装置。
5. A semiconductor integrated circuit device using a polysilicon element as the fuse element according to claim 1 or 2.
【請求項6】前記請求項1及び前記請求項2記載のヒュ
ーズ素子として、半導体集積回路装置内で配線材料とし
て使用しているアルミ素子を使用することを特徴とする
半導体集積回路装置。
6. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein an aluminum element used as a wiring material in the semiconductor integrated circuit device is used as the fuse element according to claim 1.
JP9310764A 1997-11-12 1997-11-12 Semiconductor integrated circuit device Withdrawn JPH11145824A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9310764A JPH11145824A (en) 1997-11-12 1997-11-12 Semiconductor integrated circuit device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9310764A JPH11145824A (en) 1997-11-12 1997-11-12 Semiconductor integrated circuit device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11145824A true JPH11145824A (en) 1999-05-28

Family

ID=18009201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9310764A Withdrawn JPH11145824A (en) 1997-11-12 1997-11-12 Semiconductor integrated circuit device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11145824A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3807818B2 (en) Mode setting circuit for semiconductor devices
US20090189226A1 (en) Electrical fuse circuit
US5302871A (en) Delay circuit
US7764108B2 (en) Electrical fuse circuit
JPH05343648A (en) Master slice system semiconductor integrated circuit device
EP1204990B1 (en) An integrated circuit with metal programmable logic having enhanced reliability
JP3130918B2 (en) Design change cell and layout method using the same
JPH11145824A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2749185B2 (en) Composite logic circuit
US5874843A (en) Power-on reset circuit without an RC Network
US5585759A (en) Input buffer of semiconductor integrated circuit
US7307295B2 (en) Method and an apparatus for a hard-coded bit value changeable in any layer of metal
JP2000353782A (en) Semiconductor device and electronic equipment equipped with the same
JPH11284501A (en) Stand-by current reduction circuit
JP2590681B2 (en) Semiconductor logic circuit device
JPS6016438A (en) Mos integrated circuit
JPS61190958A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH06242191A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0513542B2 (en)
JP2992073B2 (en) Output circuit and manufacturing method thereof
JPH05166934A (en) Circuit composition selecting device
JPS5916345A (en) Integrated circuit device
JPH07297290A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH01215118A (en) Semiconductor integrated circuit
JPS592437A (en) Programmable output buffer

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040406

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20040603