JPH11134889A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH11134889A
JPH11134889A JP29509997A JP29509997A JPH11134889A JP H11134889 A JPH11134889 A JP H11134889A JP 29509997 A JP29509997 A JP 29509997A JP 29509997 A JP29509997 A JP 29509997A JP H11134889 A JPH11134889 A JP H11134889A
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JP
Japan
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bit line
sense amplifier
potential
drive signal
amplifier drive
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Application number
JP29509997A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Sakagami
雅彦 坂上
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a flash writing function by which data are written into a plurality of memory cells simultaneously in a semiconductor storage device. SOLUTION: Power supply side sensing amplifier driving signals SAP1 and SAP2 of 2 systems and ground side sensing amplifier driving signals SAN1 and SAN2 are inputted to a sensing amplifier 13. If the level of the signal SAP1 is 'H' and the level of the signal SAN1 is 'L', a bit line BL is driven to a power supply potential and a bit line NBL is driven to the ground potential. On the other hand, if the level of the signal SAP2 is 'H' an the level of the signal SAN2 is 'L', the bit line BL is driven to the ground potential and the bit line NBL is driven to the power supply potential. As the bit line potentials can be set by the sensing amplifier, a circuit which sets the bit line potentials during a flash writing operation and is necessary in a conventional constitution is not necessary.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関するものであり、特に複数のメモリセルに一斉にデー
タを書き込むフラッシュライト機能を有する半導体記憶
装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a flash write function of writing data to a plurality of memory cells at once.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置は、一般に、メモリセル
がマトリックス状に配置されたメモリセルマトリックス
から任意のメモリセルを選択するため、外部から列アド
レス及び行アドレスが与えられる。与えられた列アドレ
スに従って任意のワード線を活性化すると共に与えられ
た行アドレスに従って任意のビット線対を選択すること
によって、その活性化されたワード線と選択されたビッ
ト線対との交差部のメモリセルが選択され、そのメモリ
セルに対してデータの読み出し又は書き込みが行われ
る。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor memory device is externally supplied with a column address and a row address in order to select an arbitrary memory cell from a memory cell matrix in which memory cells are arranged in a matrix. By activating an arbitrary word line according to a given column address and selecting an arbitrary bit line pair according to a given row address, an intersection between the activated word line and the selected bit line pair is obtained. Is selected, and data reading or writing is performed on the memory cell.

【0003】近年、システムの高速化に伴い半導体記憶
装置の高速化が要望されており、このため高速モードの
一つである『フラッシュライト』を実現する半導体記憶
装置が提案されている。
In recent years, there has been a demand for speeding up of a semiconductor memory device along with an increase in the speed of a system. For this reason, a semiconductor memory device that realizes “flash write”, which is one of the high-speed modes, has been proposed.

【0004】図16は、フラッシュライト機能を有する
従来の半導体記憶装置の構成を示す回路図である。図1
6では、ビット線対BL,NBLと4本のワード線WL
1,WL2,WL3,WL4とが交差する部分のみを示
している。実際には同一ビット線対上に数百本以上のワ
ード線が接続されており、複数のワード線が各々接続さ
れた複数のビット線対によってメモリセル・マトリック
スが構成されている。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device having a flash write function. FIG.
6, the bit line pair BL, NBL and the four word lines WL
Only the portion where 1, WL2, WL3 and WL4 intersect is shown. Actually, several hundred or more word lines are connected on the same bit line pair, and a memory cell matrix is constituted by a plurality of bit line pairs each connected to a plurality of word lines.

【0005】メモリセル・ブロックには、トランジスタ
Q51及びコンデンサC51からなるメモリセル51
と、トランジスタQ52及びコンデンサC52からなる
メモリセル52とがある。メモリセル51はワード線W
L1及びビット線BLに接続されており、メモリセル5
2はワード線WL2及びビット線NBLに接続されてお
り、共にセルプレート電位VCPが供給されている。
The memory cell block includes a memory cell 51 including a transistor Q51 and a capacitor C51.
And a memory cell 52 including a transistor Q52 and a capacitor C52. The memory cell 51 has a word line W
L1 and the bit line BL.
2 is connected to the word line WL2 and the bit line NBL, and both are supplied with the cell plate potential VCP.

【0006】ビット線プリチャージ・ブロックは、ビッ
ト線プリチャージ信号φBPの制御によって、ビット線
対BL,NBLをビット線プリチャージレベル(1/2
Vcc)にプリチャージする。
The bit line precharge block controls the bit line pair BL, NBL to the bit line precharge level (1/2) by controlling the bit line precharge signal φBP.
Vcc).

【0007】センスアンプブロックには、ビット線対B
L,NBLの間に接続されたセンスアンプ53がある。
センスアンプ53は、4つのトランジスタQ53,Q5
4,Q55,Q56によって構成されている。トランジ
スタQ53はゲートがビット線NBLに接続されると共
にドレインがビット線BLに接続され、トランジスタQ
54はトランジスタQ53と同様にゲートがビット線N
BLに接続されると共にドレインがビット線BLに接続
され、トランジスタQ55はゲートがビット線BLに接
続されると共にドレインがビット線NBLに接続され、
トランジスタQ56はトランジスタQ55と同様にゲー
トがビット線BLに接続されると共にドレインがビット
線NBLに接続されている。
The sense amplifier block includes a bit line pair B
There is a sense amplifier 53 connected between L and NBL.
The sense amplifier 53 includes four transistors Q53, Q5
4, Q55 and Q56. The transistor Q53 has a gate connected to the bit line NBL, a drain connected to the bit line BL, and a transistor Q53.
54 has a bit line N similar to the transistor Q53.
BL, the drain is connected to the bit line BL, and the transistor Q55 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL,
The transistor Q56 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL, similarly to the transistor Q55.

【0008】また、トランジスタQ53及びQ55のソ
ースには電源側センスアンプ駆動信号SAPが与えら
れ、トランジスタQ54及びQ56のソースには接地側
センスアンプ駆動信号SANが与えられる。電源側セン
スアンプ駆動信号SAPは、通常はビット線プリチャー
ジレベルと同様のレベル(1/2Vcc)にあり、活性状
態で電源電位Vccに遷移する。一方、接地側センスアン
プ駆動信号SANは、通常はビット線プリチャージレベ
ルと同様のレベル(1/2Vcc)にあり、活性状態で接
地電位Vssに遷移する。
The sources of the transistors Q53 and Q55 are supplied with the power supply side sense amplifier drive signal SAP, and the sources of the transistors Q54 and Q56 are supplied with the ground side sense amplifier drive signal SAN. The power supply side sense amplifier drive signal SAP is normally at the same level (1 / Vcc) as the bit line precharge level, and transitions to the power supply potential Vcc in the active state. On the other hand, the ground side sense amplifier drive signal SAN is normally at the same level (1 / Vcc) as the bit line precharge level, and transitions to the ground potential Vss in the active state.

【0009】ビット線選択ブロックは、各ビット線毎に
独立して与えられるビット線選択信号φBの指示に従っ
て、ビット線対BL,NBLを選択する。ビット線選択
信号φBは、ビット線対BL,NBLを選択するとき、
通常の書き込み動作及び読み出し動作時においてセンス
アンプ53が活性した後に“H”レベルとなる。
The bit line selection block selects a pair of bit lines BL and NBL in accordance with an instruction of a bit line selection signal φB provided independently for each bit line. The bit line selection signal φB is used to select a pair of bit lines BL and NBL.
At the time of normal write operation and read operation, it becomes “H” level after the sense amplifier 53 is activated.

【0010】データ入力アンプ及びデータ出力アンプと
ビット線選択ブロックとの接続関係から、ビット線BL
に接続されたメモリセル51は外部データDINと論理
的に同相のデータが書き込まれる一方、ビット線NBL
に接続されたメモリセル52は外部データと論理的に逆
相のデータが書き込まれる。
From the connection relationship between the data input amplifier and the data output amplifier and the bit line selection block, the bit line BL
Is written into the memory cell 51 connected to the external data DIN, and the bit line NBL
Are written in the memory cell 52 connected to the external data.

【0011】また、フラッシュライト・ブロックには、
トランジスタQ61及びQ62からなるフラッシュライ
ト用書込回路60が構成されている。トランジスタQ6
1のゲートにはゲート信号φRが与えられ、トランジス
タQ62のゲートにはゲート信号φPが与えられる。フ
ラッシュライト用書込回路60はフラッシュライト動作
時にビット線対BL,NBLの電位を設定するものであ
り、同様の回路が各ビット線対に対して構成されてい
る。
[0011] The flashlight block includes:
A flash write circuit 60 composed of transistors Q61 and Q62 is configured. Transistor Q6
Gate signal φR is applied to the gate of 1 and gate signal φP is applied to the gate of transistor Q62. The flash write circuit 60 sets the potential of the bit line pair BL and NBL during the flash write operation, and a similar circuit is configured for each bit line pair.

【0012】図16に示す半導体記憶装置において、通
常の書き込み動作は次のように行われる。まず、フラッ
シュライト用書込回路60のトランジスタQ61及びQ
62のゲートに入力される信号φR,φPを“L”レベ
ルに固定する。次に、任意のワード線を活性化(電位が
“H”レベル)した後にセンスアンプ53を動作させ、
ビット線電位を増幅させ、その後、ビット線選択信号φ
Bを“H”レベルにし、データ入力アンプを活性化す
る。このような動作によって、メモリセルへのデータの
書き込みが行われる。
In the semiconductor memory device shown in FIG. 16, a normal write operation is performed as follows. First, the transistors Q61 and Q61 of the write circuit 60 for flash write
Signals .phi.R and .phi.P input to gate 62 are fixed at "L" level. Next, after an arbitrary word line is activated (the potential is at “H” level), the sense amplifier 53 is operated,
The bit line potential is amplified, and then the bit line selection signal φ
B is set to the “H” level to activate the data input amplifier. With such an operation, data is written to the memory cell.

【0013】このような通常の書き込み動作では、1回
の書き込み動作によって、1つのメモリセルに対する1
ビットのデータの書き込みしかできない。
In such a normal write operation, one write operation performs one write operation on one memory cell.
Only bit data can be written.

【0014】例えば、全メモリセルに外部論理“L”デ
ータを書き込む場合、全アドレスを順次選択し、選択し
たメモリセルに対し外部論理“L”データを書き込む動
作が必要である(1Mワードのアドレス空間を有する場
合、1,048,576サイクル(=220)が必要)。
For example, when writing external logic "L" data to all memory cells, it is necessary to sequentially select all addresses and write the external logic "L" data to the selected memory cells (1M word address). If there is space, 1,048,576 cycles (= 2 20 ) are required).

【0015】それに対して『フラッシュライト』は、活
性化されたワード線上の全メモリセルに対し同時に同一
のデータを書き込む動作モードであり、図17を用いて
その動作を説明する。
On the other hand, "flash write" is an operation mode in which the same data is simultaneously written to all memory cells on an activated word line, and the operation will be described with reference to FIG.

【0016】図17は、ワード線WL1上のメモリセル
(図16ではメモリセル51)に対し、外部論理“L”
のデータを一斉に書き込む場合の動作を示すタイミング
図である。
FIG. 17 shows that an external logic "L" is applied to a memory cell (memory cell 51 in FIG. 16) on word line WL1.
FIG. 9 is a timing chart showing an operation in the case of writing all data at once.

【0017】図17に示すように、ビット線プリチャー
ジ信号φBPが”L”レベルになりビット線のプリチャ
ージが終了してから、フラッシュライト用書込回路60
のトランジスタQ61のゲート信号φRを“H”レベル
にする。これにより、ハイ・インピーダンス状態にある
ビット線BLは、プリチャージされた電荷がトランジス
タQ61を通して徐々に抜かれてその電位は1/2Vcc
から“L”レベルに遷移する。
As shown in FIG. 17, after the bit line precharge signal .phi.BP attains "L" level and the precharging of the bit line is completed, the write circuit 60 for flash write is completed.
The gate signal φR of the transistor Q61 is set to “H” level. As a result, the bit line BL in the high impedance state gradually loses the precharged charge through the transistor Q61 and the potential thereof becomes 1/2 Vcc.
To the “L” level.

【0018】次に、ワード線WL1の電位を“H”レベ
ルにする。このとき、メモリセル51のコンデンサC5
1からビット線BLに電荷が供給されるが、一般的にメ
モリセルのコンデンサの容量は非常に微少であるので、
ビット線BLの電位の変動はごくわずかである。したが
って、フラッシュライト用書込回路60がビット線BL
の電位を“L”レベルにする動作への影響は、ほとんど
ない。
Next, the potential of the word line WL1 is set to "H" level. At this time, the capacitor C5 of the memory cell 51
Although the charge is supplied from 1 to the bit line BL, the capacitance of the capacitor of the memory cell is generally very small.
The fluctuation of the potential of the bit line BL is very small. Therefore, the write circuit 60 for flash write is
Has almost no effect on the operation of setting the potential of the pixel to the "L" level.

【0019】フラッシュライト用書込回路60のトラン
ジスタQ61によってビット線BLの電位が“L”レベ
ルになり、さらに接地側センスアンプ駆動信号SANが
1/2Vccから接地電位に遷移することによって、ビッ
ト線BLの電位が“L”レベルに遷移する動作が助長さ
れる。一方、ビット線NBLは、電源側センスアンプ駆
動信号SAPが1/2Vccから電源電位になることによ
って、その電位が“H”レベルに遷移する。
The potential of the bit line BL is set to the "L" level by the transistor Q61 of the write circuit 60 for flash write, and the ground side sense amplifier drive signal SAN transitions from 1/2 Vcc to the ground potential. The operation of transitioning the potential of BL to the “L” level is promoted. On the other hand, the potential of the bit line NBL changes to “H” level when the power supply side sense amplifier drive signal SAP changes from V Vcc to the power supply potential.

【0020】この様にして、ワード線WL1上のメモリ
セル51に書き込まれていたデータに関係なく、ビット
線BLとビット線NBLの電位はそれぞれ接地電位Vs
s、電源電位Vccとなり、メモリセル51を含むワード
線WL1上のメモリセルには“L”データが一斉に書き
込まれる。
In this manner, the potentials of the bit line BL and the bit line NBL are set to the ground potential Vs regardless of the data written in the memory cell 51 on the word line WL1.
s, the power supply potential Vcc, and "L" data is simultaneously written to the memory cells on the word line WL1 including the memory cell 51.

【0021】また、図17ではゲート信号φRを“H”
レベルにするタイミングはワード線WL1の活性化より
も前であるが、ワード線WL1が活性化した後(ただし
センスアンプの動作より前)でも特に問題がない。
In FIG. 17, the gate signal φR is set to “H”.
The timing of setting the level is before the activation of the word line WL1, but there is no particular problem even after the activation of the word line WL1 (but before the operation of the sense amplifier).

【0022】図18はワード線WL2上のメモリセル
(図16ではメモリセル52)に対して外部論理“L”
データを一斉に書き込む場合の動作を示すタイミング図
である。
FIG. 18 shows an external logic "L" for a memory cell (memory cell 52 in FIG. 16) on word line WL2.
FIG. 9 is a timing chart showing an operation when data is written all at once.

【0023】ワード線WL2上のメモリセルはビット線
NBLに接続されているため、すでに説明したように、
外部論理と反転したデータが書き込まれる。例えば、外
部論理“L”データを書き込むとき、ビット線NBLに
接続されたメモリセルには“H”レベルの電荷が書き込
まれる。このため、フラッシュ・ライト時のビット線N
BLの電位を“H”レベルにすればよい。したがって、
ワード線WL2上のメモリセルに一斉に外部論理“L”
データを書き込むには、ワード線WL1の代わりにワー
ド線WL2を活性化する以外は、図17に示す動作と同
様である。
Since the memory cell on word line WL2 is connected to bit line NBL, as described above,
External logic and inverted data are written. For example, when writing external logic “L” data, an “H” level charge is written to a memory cell connected to the bit line NBL. Therefore, the bit line N at the time of flash write is
What is necessary is just to set the potential of BL to "H" level. Therefore,
The external logic "L" is simultaneously applied to the memory cells on the word line WL2.
The operation of writing data is the same as the operation shown in FIG. 17 except that the word line WL2 is activated instead of the word line WL1.

【0024】図19はワード線WL1上のメモリセルに
対し一斉に外部論理“H”データを書き込む場合の動作
を示すタイミング図である。また、図20はワード線W
L2上のメモリセルに対し一斉に外部論理“H”データ
を書き込む場合の動作を示すタイミング図である。
FIG. 19 is a timing chart showing the operation when writing external logic "H" data to memory cells on word line WL1 all at once. FIG. 20 shows the word line W
FIG. 11 is a timing chart showing an operation when writing external logic “H” data to memory cells on L2 all at once.

【0025】図19,図20に示す動作は、図17,図
18に示す動作と比べると、ゲート信号φRの代わりに
ゲート信号φPを“H”レベルにする、すなわちビット
線NBLの電位を接地電位Vssに遷移させると共にビッ
ト線BLの電位を電源電位Vccにさせる点以外は同様の
動作であり、詳細な説明は省略する。
The operation shown in FIGS. 19 and 20 sets gate signal .phi.P to "H" level instead of gate signal .phi.R, ie, sets the potential of bit line NBL to ground, as compared with the operation shown in FIGS. This is the same operation except that the potential is changed to the potential Vss and the potential of the bit line BL is set to the power supply potential Vcc, and the detailed description is omitted.

【0026】[0026]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の半導
体記憶装置には以下のような問題がある。
However, the conventional semiconductor memory device has the following problems.

【0027】図16に示す従来の半導体記憶装置では、
トランジスタQ61及びQ62からなるフラッシュライ
ト用書込回路60をビット線対BL,NBLに対して備
えている。すなわち、フラッシュライト機能を実現する
ために、各ビット線対に対して2つの素子(トランジス
タ)を追加する必要がある。実際の半導体記憶装置は多
数のビット線対を備えているので、フラッシュライト機
能を実現するために(ビット線対数×2)個のトランジ
スタが必要になる。
In the conventional semiconductor memory device shown in FIG.
A flash write circuit 60 including transistors Q61 and Q62 is provided for the bit line pair BL and NBL. That is, in order to realize the flash write function, it is necessary to add two elements (transistors) to each bit line pair. Since an actual semiconductor memory device has a number of bit line pairs, (number of bit line pairs × 2) transistors are required to realize the flash write function.

【0028】したがって、半導体記憶装置にフラッシュ
ライト機能を付加することによって、素子数の大幅な増
大を招いてしまうという問題があった。半導体装置の場
合、素子数の増大は製造上の歩留や信頼性の低下につな
がので、重大な問題となる。
Therefore, there is a problem that adding the flash write function to the semiconductor memory device causes a large increase in the number of elements. In the case of a semiconductor device, an increase in the number of elements leads to a reduction in manufacturing yield and reliability, which is a serious problem.

【0029】前記の問題に鑑み、本発明は、素子数の大
幅な増大を招くことなくフラッシュライト機能を実現す
る半導体記憶装置を提供する。
In view of the above problems, the present invention provides a semiconductor memory device that realizes a flash write function without causing a large increase in the number of elements.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、請求項1の発明が講じた解決手段は、複数のワード
線と複数のビット線対との交差部に設けられた複数のメ
モリセルと、前記複数のビット線対に各々接続された複
数のセンスアンプとを備えた半導体記憶装置において、
前記センスアンプは、電源側センスアンプ駆動信号及び
接地側センスアンプ駆動信号の少なくとも一方を2系統
入力とし、前記電源側センスアンプ駆動信号及び接地側
センスアンプ駆動信号に従って、接続されたビット線対
の電位を設定可能であるものとする。これにより、ビッ
ト線対の電位をセンスアンプによって設定することがで
きるので、フラッシュライト動作においてビット線対の
電位を設定するために従来必要であった回路が不要にな
り、素子数の大幅な増大を招くことなくフラッシュライ
ト機能を実現することができる。
Means for Solving the Problems To solve the above-mentioned problems, a solution taken by the invention of claim 1 is a plurality of memories provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs. In a semiconductor memory device including a cell and a plurality of sense amplifiers respectively connected to the plurality of bit line pairs,
The sense amplifier receives at least one of a power-supply-side sense amplifier drive signal and a ground-side sense amplifier drive signal as a two-system input, and sets a bit line pair connected according to the power-supply-side sense amplifier drive signal and the ground-side sense amplifier drive signal. It is assumed that the potential can be set. As a result, the potential of the bit line pair can be set by the sense amplifier, so that the circuit conventionally required for setting the potential of the bit line pair in the flash write operation becomes unnecessary, and the number of elements is greatly increased. The flash light function can be realized without inducing.

【0031】請求項2の発明では、前記請求項1の半導
体記憶装置におけるセンスアンプは、第1及び第2の電
源側センスアンプ駆動信号と第1及び第2の接地側セン
スアンプ駆動信号とを入力とし、前記第1の電源側セン
スアンプ駆動信号が高電位になり前記第1の接地側セン
スアンプ駆動信号が低電位になるときは、接続されたビ
ット線対のうちの一方のビット線を電源電位に駆動する
と共に他方のビット線を接地電位に駆動する一方、前記
第2の電源側センスアンプ駆動信号が高電位になり前記
第2の接地側センスアンプ駆動信号が低電位になるとき
は、前記一方のビット線を接地電位に駆動すると共に前
記他方のビット線を電源電位に駆動するものとする。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the sense amplifier converts the first and second power supply side sense amplifier drive signals and the first and second ground side sense amplifier drive signals. As an input, when the first power supply side sense amplifier drive signal has a high potential and the first ground side sense amplifier drive signal has a low potential, one bit line of the connected bit line pair is While driving to the power supply potential and driving the other bit line to the ground potential, when the second power supply side sense amplifier drive signal becomes high potential and the second ground side sense amplifier drive signal becomes low potential, The one bit line is driven to a ground potential and the other bit line is driven to a power supply potential.

【0032】請求項2の発明により、センスアンプは、
第1及び第2の電源側センスアンプ駆動信号と第1及び
第2の接地側センスアンプ駆動信号に従って、接続され
たビット線対の電位の一方を電源電位に駆動すると共に
他方を接地電位に駆動する。このため、ビット線対の電
位をセンスアンプによって設定することができるので、
フラッシュライト動作においてビット線対の電位を設定
するために従来必要であった回路が不要になり、素子数
の大幅な増大を招くことなくフラッシュライト機能を実
現することができる。
According to the second aspect of the present invention, the sense amplifier comprises:
According to the first and second power supply side sense amplifier drive signals and the first and second ground side sense amplifier drive signals, one of the potentials of the connected bit line pair is driven to the power supply potential and the other is driven to the ground potential. I do. Therefore, since the potential of the bit line pair can be set by the sense amplifier,
A circuit conventionally required for setting the potential of the bit line pair in the flash write operation becomes unnecessary, and the flash write function can be realized without causing a large increase in the number of elements.

【0033】また、請求項3の発明では、前記請求項1
の半導体記憶装置におけるセンスアンプは、第1及び第
2の電源側センスアンプ駆動信号と接地側センスアンプ
駆動信号とを入力とし、前記第1の電源側センスアンプ
駆動信号が高電位になり前記接地側センスアンプ駆動信
号が低電位になるときは、接続されたビット線対のうち
の一方のビット線を電源電位に駆動すると共に他方のビ
ット線を接地電位に駆動する一方、前記第2の電源側セ
ンスアンプ駆動信号が高電位になり前記接地側センスア
ンプ駆動信号が低電位になるときは、前記一方のビット
線を接地電位に駆動すると共に前記他方のビット線を電
源電位に駆動するものとする。
According to the third aspect of the present invention, in the first aspect,
The first and second power supply side sense amplifier drive signals and the ground side sense amplifier drive signal are input, and the first power supply side sense amplifier drive signal becomes high potential and the ground When the side sense amplifier drive signal has a low potential, one bit line of the connected bit line pair is driven to a power supply potential and the other bit line is driven to a ground potential while the second power supply When the side sense amplifier drive signal is at a high potential and the ground side sense amplifier drive signal is at a low potential, the one bit line is driven to a ground potential and the other bit line is driven to a power supply potential. I do.

【0034】請求項3の発明により、センスアンプは、
第1及び第2の電源側センスアンプ駆動信号と接地側セ
ンスアンプ駆動信号に従って、接続されたビット線対の
電位の一方を電源電位に駆動すると共に他方を接地電位
に駆動する。このため、ビット線対の電位をセンスアン
プによって設定することができるので、フラッシュライ
ト動作においてビット線対の電位を設定するために従来
必要であった回路が不要になり、素子数の大幅な増大を
招くことなくフラッシュライト機能を実現することがで
きる。
According to the third aspect of the present invention, the sense amplifier comprises:
According to the first and second power supply side sense amplifier drive signals and the ground side sense amplifier drive signal, one of the potentials of the connected bit line pair is driven to the power supply potential and the other is driven to the ground potential. Therefore, since the potential of the bit line pair can be set by the sense amplifier, a circuit conventionally required for setting the potential of the bit line pair in the flash write operation becomes unnecessary, and the number of elements is greatly increased. The flash light function can be realized without inducing.

【0035】そして、請求項4の発明では、前記請求項
1の半導体記憶装置におけるセンスアンプは、第1及び
第2の接地側センスアンプ駆動信号と電源側センスアン
プ駆動信号とを入力とし、前記第1の接地側センスアン
プ駆動信号が低電位になり前記電源側センスアンプ駆動
信号が高電位になるときは、接続されたビット線対のう
ちの一方のビット線を電源電位に駆動すると共に他方の
ビット線を接地電位に駆動する一方、前記第2の接地側
センスアンプ駆動信号が低電位になり前記電源側センス
アンプ駆動信号が高電位になるときは、前記一方のビッ
ト線を接地電位に駆動すると共に前記他方のビット線を
電源電位に駆動するものとする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the first aspect, the sense amplifier receives first and second ground-side sense amplifier drive signals and a power supply-side sense amplifier drive signal as inputs, When the first ground-side sense amplifier drive signal has a low potential and the power supply-side sense amplifier drive signal has a high potential, one bit line of the connected bit line pair is driven to the power supply potential and the other bit line is driven. When the second ground-side sense amplifier drive signal goes low and the power supply-side sense amplifier drive signal goes high, the one bit line is driven to ground potential. Drive and drive the other bit line to a power supply potential.

【0036】請求項4の発明により、センスアンプは、
第1及び第2の接地側センスアンプ駆動信号と電源側セ
ンスアンプ駆動信号に従って、接続されたビット線対の
電位の一方を電源電位に駆動すると共に他方を接地電位
に駆動する。このため、ビット線対の電位をセンスアン
プによって設定することができるので、フラッシュライ
ト動作においてビット線対の電位を設定するために従来
必要であった回路が不要になり、素子数の大幅な増大を
招くことなくフラッシュライト機能を実現することがで
きる。
According to the fourth aspect of the present invention, the sense amplifier comprises:
According to the first and second ground side sense amplifier drive signals and the power supply side sense amplifier drive signal, one of the potentials of the connected bit line pair is driven to the power supply potential and the other is driven to the ground potential. Therefore, since the potential of the bit line pair can be set by the sense amplifier, a circuit conventionally required for setting the potential of the bit line pair in the flash write operation becomes unnecessary, and the number of elements is greatly increased. The flash light function can be realized without inducing.

【0037】さらに、請求項5の発明では、前記請求項
1の半導体記憶装置におけるセンスアンプは、複数のメ
モリセルに一斉にデータを書き込むフラッシュ動作時に
おいて、電源側センスアンプ駆動信号及び接地側センス
アンプ駆動信号に従って、接続されたビット線対の電位
を設定するものとする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the first aspect, the sense amplifier drive signal and the ground side sense amplifier drive signal during a flash operation of writing data to a plurality of memory cells simultaneously. It is assumed that the potential of the connected bit line pair is set according to the amplifier drive signal.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0039】(第1の実施形態)図1は本発明の第1の
実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す回路図であ
る。図1では、メモリセルマトリックスにおいてビット
線対BL,NBLと4本のワード線WL1,WL2,W
L3,WL4とが交差する部分のみを示している。
(First Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, in a memory cell matrix, a bit line pair BL, NBL and four word lines WL1, WL2, W
Only the portion where L3 and WL4 intersect is shown.

【0040】メモリセル・ブロックは、トランジスタQ
11及びコンデンサC11からなるメモリセル11と、
トランジスタQ12及びコンデンサC12からなるメモ
リセル12とを備えている。メモリセル11はワード線
WL1及びビット線BLに接続されており、メモリセル
12はワード線WL2及びビット線NBLに接続されて
おり、共にセルプレート電位VCPが供給されている。
The memory cell block includes a transistor Q
A memory cell 11 comprising a capacitor 11 and a capacitor C11;
And a memory cell 12 including a transistor Q12 and a capacitor C12. The memory cell 11 is connected to the word line WL1 and the bit line BL, and the memory cell 12 is connected to the word line WL2 and the bit line NBL, and both are supplied with the cell plate potential VCP.

【0041】ビット線プリチャージ・ブロックは、ビッ
ト線プリチャージ信号φBPの制御によって、ビット線
対BL,NBLをビット線プリチャージレベル(1/2
Vcc)にプリチャージする。
The bit line precharge block controls the bit line pair BL, NBL to the bit line precharge level (1/2) by controlling the bit line precharge signal φBP.
Vcc).

【0042】ビット線対BL,NBLの間には、4つの
トランジスタQ13,Q14,Q15,Q16によって
構成されたセンスアンプ13が接続されている。トラン
ジスタQ13は、ゲートがビット線NBLに接続される
と共にドレインがビット線BLに接続され、トランジス
タQ14は、トランジスタQ13と同様にゲートがビッ
ト線NBLに接続されると共にドレインがビット線BL
に接続され、トランジスタQ15は、ゲートがビット線
BLに接続されると共にドレインがビット線NBLに接
続され、トランジスタQ16は、トランジスタQ15と
同様にゲートがビット線BLに接続されると共にドレイ
ンがビット線NBLに接続されている。
A sense amplifier 13 composed of four transistors Q13, Q14, Q15, Q16 is connected between the bit line pair BL, NBL. The transistor Q13 has a gate connected to the bit line NBL and a drain connected to the bit line BL, and the transistor Q14 has a gate connected to the bit line NBL and a drain connected to the bit line BL similarly to the transistor Q13.
The transistor Q15 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL. The transistor Q16 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line similarly to the transistor Q15. Connected to NBL.

【0043】第1の電源側センスアンプ駆動信号SAP
1はトランジスタQ13のソースに与えられ、第2の電
源側センスアンプ駆動信号SAP2はトランジスタQ1
5のソースに与えられる。また、第1の接地側センスア
ンプ駆動信号SAN1はトランジスタQ16のソースに
与えられ、第2の接地側センスアンプ駆動信号SAN2
はトランジスタQ14のソースに与えられる。
First power supply side sense amplifier drive signal SAP
1 is supplied to the source of the transistor Q13, and the second power supply side sense amplifier driving signal SAP2 is supplied to the transistor Q1.
5 sources. The first ground-side sense amplifier drive signal SAN1 is applied to the source of the transistor Q16, and the second ground-side sense amplifier drive signal SAN2
Is applied to the source of transistor Q14.

【0044】第1及び第2の電源側センスアンプ駆動信
号SAP1,SAP2は、通常はビット線プリチャージ
レベルと同じレベル(1/2Vcc)にあり、活性状態で
電源電位Vccに遷移する。一方、第1及び第2の接地側
センスアンプ駆動信号SAN1,SAN2は、通常はビ
ット線プリチャージレベルと同じレベル(1/2Vcc)
にあり、活性状態で接地電位Vssに遷移する。
The first and second power supply side sense amplifier drive signals SAP1 and SAP2 are normally at the same level (1/2 Vcc) as the bit line precharge level, and transition to the power supply potential Vcc in the active state. On the other hand, the first and second ground-side sense amplifier drive signals SAN1 and SAN2 are usually at the same level (1/2 Vcc) as the bit line precharge level.
, And transitions to the ground potential Vss in the active state.

【0045】ビット線選択ブロックは、各ビット線毎に
独立して与えられるビット線選択信号φBの指示に従っ
て、ビット線対BL,NBLを選択する。ビット線選択
信号φBは、ビット線対BL,NBLを選択するとき、
通常の書き込み動作及び読み出し動作時においてセンス
アンプ13が活性した後に“H”レベルとなる。一方、
本発明に係るフラッシュ・ライト動作時は、非活性
(“L”レベル)のままである。
The bit line selection block selects a pair of bit lines BL and NBL in accordance with an instruction of a bit line selection signal φB provided independently for each bit line. The bit line selection signal φB is used to select a pair of bit lines BL and NBL.
At the time of normal write operation and read operation, it becomes “H” level after the sense amplifier 13 is activated. on the other hand,
During the flash write operation according to the present invention, it remains inactive (“L” level).

【0046】また、データ入力アンプ及びデータ出力ア
ンプとビット線選択ブロックとの接続関係から、ビット
線BLに接続されたメモリセル11に入力データDIN
と同相のデータが入力される一方、ビット線NBLに接
続されたメモリセル12に入力データDINと逆相のデ
ータが入力される。
Further, based on the connection relationship between the data input amplifier and the data output amplifier and the bit line selection block, the input data DIN is applied to the memory cell 11 connected to the bit line BL.
, While data having a phase opposite to that of the input data DIN is input to the memory cell 12 connected to the bit line NBL.

【0047】図1に示す本実施形態に係る半導体記憶装
置において、書き込み動作及び読み出し動作は、2系統
に分かれている電源側センスアンプ駆動信号SAP1,
SAP2と2系統に分かれている接地側センスアンプ駆
動信号SAN1,SAN2とをワード線立ち上がり後に
同時に活性化する以外は、従来例における書き込み動作
及び読み出し動作と同じであり、詳細な説明は省略す
る。
In the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. 1, the write operation and the read operation are performed by the power supply side sense amplifier drive signals SAP1 and SAP2 divided into two systems.
Except that SAP2 and the ground-side sense amplifier drive signals SAN1 and SAN2, which are divided into two systems, are activated at the same time after the rise of the word line, the operation is the same as the write operation and the read operation in the conventional example, and the detailed description is omitted.

【0048】次に、図1に示す半導体記憶装置における
フラッシュ・ライト動作について説明する。
Next, a flash write operation in the semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be described.

【0049】図2は、ワード線WL1上の全メモリセル
に対し一斉に外部論理“L”データ(メモリセルのコン
デンサを“L”レベルにする)をフラッシュ・ライトす
る場合のタイミング図である。
FIG. 2 is a timing chart in the case where the external logic "L" data (the capacitor of the memory cell is set to "L" level) is flash-written to all the memory cells on the word line WL1 at the same time.

【0050】ビット線プリチャージ信号φBPが“H”
レベルのとき、全てのビット線が1/2Vccにプリチャ
ージされ、ビット線対BL,NBLも1/2Vccにプリ
チャージされる。このとき、センスアンプ駆動信号SA
P1,SAP2,SAN1,SAN2の電位は全て1/
2Vccである。
Bit line precharge signal φBP is at "H"
At the time of the level, all the bit lines are precharged to 1/2 Vcc, and the bit line pairs BL and NBL are also precharged to 1/2 Vcc. At this time, the sense amplifier drive signal SA
The potentials of P1, SAP2, SAN1, and SAN2 are all 1 /
2 Vcc.

【0051】ビット線プリチャージ信号φBPが“L”
レベルになりビット線対BL,NBLのプリチャージが
終了した後、第2の電源側センスアンプ駆動信号SAP
2を“H”レベルにすると共に第2の接地側センスアン
プ駆動信号SAN2を“L”レベルにする。すると、ビ
ット線BLはセンスアンプ13のトランジスタQ14を
通して電荷が抜かれてその電位が徐々に“L”レベルに
遷移する一方、ビット線NBLはセンスアンプ13のト
ランジスタQ15を通して電荷が供給されその電位が
“H”レベルに遷移する。
When bit line precharge signal φBP is at "L"
Level and the precharge of the bit line pair BL and NBL is completed, and then the second power supply side sense amplifier drive signal SAP
2 to “H” level and the second ground-side sense amplifier drive signal SAN2 to “L” level. Then, the charge is extracted from the bit line BL through the transistor Q14 of the sense amplifier 13 and its potential gradually transitions to the “L” level, while the bit line NBL is supplied with charge through the transistor Q15 of the sense amplifier 13 and the potential is “ H ”level.

【0052】次に、ワード線WL1の電位を“H”レベ
ルにする。このとき、メモリセル11のコンデンサC1
1に蓄えられていた電荷がトランジスタQ11を通して
ビット線BLに移動しても、センスアンプ13の動作に
は影響がない。したがって、メモリセル11に書き込ま
れていたデータに関わらず、ビット線BLの電位は
“L”レベルになる一方、ビット線NBLの電位は
“H”レベルになる。
Next, the potential of the word line WL1 is set to "H" level. At this time, the capacitor C1 of the memory cell 11
Even if the charge stored in 1 moves to the bit line BL through the transistor Q11, the operation of the sense amplifier 13 is not affected. Therefore, regardless of the data written in the memory cell 11, the potential of the bit line BL goes low while the potential of the bit line NBL goes high.

【0053】ビット線対BL,NBLの電位が十分に電
源電位、接地電位になった後、第2の電源側センスアン
プ駆動信号SAP2及び第2の接地側センスアンプ駆動
信号SAN2が活性状態のままワード線WL1の電位を
“L”レベルにすることによって、メモリセル11を含
めてワード線WL1上の全てのメモリセルに外部論理
“L”データが一斉に書き込まれる。データが書き込ま
れた後に、第2の電源側センスアンプ駆動信号SAP2
及び第2の接地側センスアンプ駆動信号SAN2を非活
性状態(1/2Vcc)に戻す。以上のような動作によっ
て、フラッシュ・ライト動作が実現される。
After the potentials of the bit lines BL and NBL have sufficiently become the power supply potential and the ground potential, the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2 and the second ground side sense amplifier drive signal SAN2 remain active. By setting the potential of the word line WL1 to the “L” level, external logic “L” data is simultaneously written to all the memory cells on the word line WL1 including the memory cell 11. After the data is written, the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2
And return the second ground-side sense amplifier drive signal SAN2 to the inactive state (1/2 Vcc). The flash write operation is realized by the above operation.

【0054】なお、ワード線WL1は、第2の電源側セ
ンスアンプ駆動信号SAP2及び第2の接地側センスア
ンプ駆動信号SAN2の活性化よりも前に活性化(電位
が“H”レベル)しても何ら問題はない。また、第2の
電源側センスアンプ駆動信号SAP2と第2の接地側セ
ンスアンプ駆動信号SAN2とは必ずしも同時に遷移す
る必要はない。さらに、第1の電源側センスアンプ駆動
信号SAP1及び第1の接地側センスアンプ駆動信号S
AN1の電位は1/2Vccのままで良く、活性化する必
要がない。
The word line WL1 is activated (the potential is at "H" level) before the activation of the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2 and the second ground side sense amplifier drive signal SAN2. There is no problem at all. In addition, the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2 and the second ground side sense amplifier drive signal SAN2 do not always need to transition simultaneously. Further, the first power supply side sense amplifier drive signal SAP1 and the first ground side sense amplifier drive signal S1
The potential of AN1 may be kept at 1/2 Vcc, and there is no need to activate it.

【0055】図3は、ワード線WL2上のメモリセルに
一斉に外部論理“L”データをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 3 is a timing chart in the case where external logic "L" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL2.

【0056】すでに説明したように、メモリセル12を
含むワード線WL2上のメモリセルには外部論理とは反
転(逆相)のデータがコンデンサに書き込まれる。この
ため、外部論理“L”データを書き込む場合はワード線
WL2上のメモリセルのコンデンサを“H”レベルにす
ればよいので、フラッシュ・ライト時のビット線NBL
の電位を“H”レベルにすればよい。したがって、この
場合の動作は、図3に示すように、選択されるワード線
がWL1からWL2に代わる以外は前記の図2に示す動
作と同様であり、ここでは詳細な説明を省略する。
As described above, in the memory cells on the word line WL2 including the memory cells 12, data whose phase is opposite (extra phase) to the external logic is written to the capacitor. Therefore, when writing external logic "L" data, the capacitor of the memory cell on word line WL2 may be set to "H" level, so that bit line NBL at the time of flash write is written.
May be set to the “H” level. Therefore, the operation in this case is the same as the operation shown in FIG. 2 except that the selected word line is changed from WL1 to WL2 as shown in FIG. 3, and the detailed description is omitted here.

【0057】図4は、ワード線WL1上のメモリセルに
一斉に外部論理“H”データ(メモリセルのコンデンサ
を“H”レベルにする)をフラッシュ・ライトする場合
のタイミング図である。
FIG. 4 is a timing chart in the case where external logic "H" data (the capacitor of the memory cell is set to "H" level) is simultaneously flash-written to the memory cells on the word line WL1.

【0058】ビット線プリチャージ信号φBPが“H”
レベルのときは、図2に示す場合と同様である。
Bit line precharge signal φBP is at "H"
In the case of the level, it is the same as the case shown in FIG.

【0059】ビット線プリチャージ信号φBPが“L”
レベルになりビット線プリチャージが終了した後、第1
の電源側センスアンプ駆動信号SAP1を“H”レベル
にすると共に第1の接地側センスアンプ駆動信号SAN
1を“L”レベルにする。すると、ビット線BLはセン
スアンプ13のトランジスタQ13を通して電荷が供給
されてその電位は徐々に“H”レベルに遷移する一方、
ビット線NBLはセンスアンプ13のトランジスタQ1
6を通して電荷が抜かれてその電位は“L”レベルに遷
移する。したがって、メモリセル11に書き込まれてい
たデータに関わらず、ビット線BLの電位は“H”レベ
ルになる一方、ビット線NBLの電位は“L”レベルに
なる。以降の動作は図2の動作と同様であり、ここでは
説明を省略する。
When bit line precharge signal φBP is at "L"
Level and the bit line precharge ends.
Of the power supply side sense amplifier drive signal SAP1 at "H" level and the first ground side sense amplifier drive signal SAN1.
1 is set to the “L” level. Then, a charge is supplied to the bit line BL through the transistor Q13 of the sense amplifier 13, and the potential of the bit line BL gradually transitions to the “H” level.
The bit line NBL is connected to the transistor Q1 of the sense amplifier 13.
The electric charge is discharged through 6, and the potential of the electric charge changes to "L" level. Therefore, regardless of the data written in the memory cell 11, the potential of the bit line BL goes high while the potential of the bit line NBL goes low. Subsequent operations are the same as the operations in FIG. 2, and a description thereof will not be repeated.

【0060】なお、図2に示す場合と同様に、ワード線
WL1は、第1の電源側センスアンプ駆動信号SAP1
及び第1の接地側センスアンプ駆動信号SAN1の活性
化より前に活性化(電位が“H”レベル)しても、ある
いは後で活性化しても何ら問題はない。また、第1の電
源側センスアンプ駆動信号SAP1と第1の接地側セン
スアンプ駆動信号SAN1とは必ずしも同時に遷移する
必要がない。さらに、第2の電源側センスアンプ駆動信
号SAP2及び第2の接地側センスアンプ駆動信号SA
N2の電位は1/2Vccのままで良く、活性化する必要
がない。
As in the case shown in FIG. 2, the word line WL1 is connected to the first power supply side sense amplifier drive signal SAP1.
There is no problem if the signal is activated before the activation of the first ground-side sense amplifier drive signal SAN1 (the potential is at the “H” level) or activated later. Further, the first power supply side sense amplifier drive signal SAP1 and the first ground side sense amplifier drive signal SAN1 do not always need to transition simultaneously. Furthermore, the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2 and the second ground side sense amplifier drive signal SA
The potential of N2 may be kept at 1/2 Vcc, and need not be activated.

【0061】図5は、ワード線WL2上のメモリセルに
一斉に外部論理“H”データをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 5 is a timing chart in the case where external logic "H" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL2.

【0062】すでに説明したように、メモリセル12を
含むワード線WL2上のメモリセルには外部論理とは反
転(逆相)のデータがコンデンサに書き込まれる。この
ため、外部論理“H”データを書き込む場合はワード線
WL2上のメモリセルのコンデンサを“L”レベルにす
ればよいので、フラッシュ・ライト時のビット線NBL
の電位を“L”レベルにすればよい。したがって、この
場合の動作は、図5に示すように、選択されるワード線
がWL1からWL2に代わる以外は前記の図4に示す動
作と同様であり、ここでは詳細な説明を省略する。
As already described, data of a logic (inverted phase) opposite to the external logic is written into the memory cells on the word line WL2 including the memory cells 12. Therefore, when writing external logic "H" data, the capacitor of the memory cell on word line WL2 may be set to "L" level.
May be set to the “L” level. Therefore, the operation in this case is the same as the operation shown in FIG. 4 except that the selected word line is changed from WL1 to WL2 as shown in FIG. 5, and the detailed description is omitted here.

【0063】以上説明したように、本実施形態による
と、各ビット線対のセンスアンプを、電源側センスアン
プ駆動信号及び接地側センスアンプ駆動信号がそれぞれ
2系統入力とし、この電源側センスアンプ駆動信号及び
接地側センスアンプ駆動信号によってビット線対の電位
を設定可能な構成とすることによって、従来ではフラッ
シュ・ライトを行う上で必要であった各ビット線毎のフ
ラッシュ・ライト用トランジスタを必要とせず、大幅な
素子数の増加無しにフラッシュ・ライト動作を実現する
ことができる。
As described above, according to the present embodiment, the sense amplifier of each bit line pair is supplied with a power supply side sense amplifier drive signal and a ground side sense amplifier drive signal, each of which has two inputs. The configuration in which the potential of the bit line pair can be set by the signal and the ground side sense amplifier drive signal eliminates the need for a flash write transistor for each bit line, which was conventionally required for performing flash write. Therefore, a flash write operation can be realized without a significant increase in the number of elements.

【0064】なお、図1に示す半導体記憶装置における
フラッシュ・ライト動作の場合、従来例よりも早い時点
でセンスアンプ駆動信号を起動できるため、従来以上の
高速化も可能となる。
In the case of the flash write operation in the semiconductor memory device shown in FIG. 1, the sense amplifier drive signal can be activated at an earlier point in time than in the conventional example, so that the speed can be further increased.

【0065】(第2の実施形態)図6は本発明の第2の
実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す回路図であ
る。本実施形態に係る半導体記憶装置と図1に示す第1
の実施形態に係る半導体記憶装置と異なるのは、第1の
実施形態では電源側センスアンプ駆動信号及び接地側セ
ンスアンプ駆動信号が共に2系統に分かれているのに対
し、本実施形態では電源側センスアンプ駆動信号のみが
2系統に分かれている点である。図6において、図1に
示す各構成要素と共通の要素には同一の符号を付してあ
り、その説明を省略する。
(Second Embodiment) FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. The semiconductor memory device according to the present embodiment and the first memory device shown in FIG.
The difference from the semiconductor memory device according to the second embodiment is that both the power supply side sense amplifier drive signal and the ground side sense amplifier drive signal are divided into two systems in the first embodiment, The point is that only the sense amplifier drive signal is divided into two systems. 6, the same reference numerals are given to the same components as those shown in FIG. 1, and the description thereof will be omitted.

【0066】ビット線対BL,NBLの間には、4つの
トランジスタQ13,Q14,Q15,Q16によって
構成されたセンスアンプ23が接続されている。トラン
ジスタQ13はゲートがビット線NBLに接続されると
共にドレインがビット線BLに接続され、トランジスタ
Q14はトランジスタQ13と同様にゲートがビット線
NBLに接続されると共にドレインがビット線BLに接
続され、トランジスタQ15はゲートがビット線BLに
接続されると共にドレインがビット線NBLに接続さ
れ、トランジスタQ16はトランジスタQ15と同様に
ゲートがビット線BLに接続されると共にドレインがビ
ット線NBLに接続される。
A sense amplifier 23 composed of four transistors Q13, Q14, Q15, Q16 is connected between the bit line pair BL, NBL. The transistor Q13 has a gate connected to the bit line NBL and a drain connected to the bit line BL, and the transistor Q14 has a gate connected to the bit line NBL and a drain connected to the bit line BL similarly to the transistor Q13. Q15 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL, and the transistor Q16 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL, similarly to the transistor Q15.

【0067】第1の電源側センスアンプ駆動信号SAP
1はトランジスタQ13のソースに与えられ、第2の電
源側センスアンプ駆動信号SAP2はトランジスタQ1
5のソースに与えられる。また、接地側センスアンプ駆
動信号SANはトランジスタQ14及びQ16のソース
に与えられる。
First power supply side sense amplifier drive signal SAP
1 is supplied to the source of the transistor Q13, and the second power supply side sense amplifier driving signal SAP2 is supplied to the transistor Q1.
5 sources. Further, the ground side sense amplifier drive signal SAN is supplied to the sources of the transistors Q14 and Q16.

【0068】第1及び第2の電源側センスアンプ駆動信
号SAP1,SAP2は、通常はビット線プリチャージ
レベルと同様のレベル(1/2Vcc)にあり、活性状態
で電源電位Vccに遷移する。一方、接地側センスアンプ
駆動信号SANは、通常はビット線プリチャージレベル
と同様のレベル(1/2Vcc)にあり、活性状態で接地
電位Vssに遷移する。
The first and second power supply side sense amplifier drive signals SAP1 and SAP2 are normally at the same level (1 / Vcc) as the bit line precharge level, and transition to the power supply potential Vcc in the active state. On the other hand, the ground side sense amplifier drive signal SAN is normally at the same level (1 / Vcc) as the bit line precharge level, and transitions to the ground potential Vss in the active state.

【0069】図6に示す本実施形態に係る半導体記憶装
置において、書き込み動作及び読み出し動作は、2系統
に分かれている電源側センスアンプ駆動信号SAP1,
SAP2をワード線立ち上がり後に同時に活性化する以
外は、従来例における書き込み動作及び読み出し動作と
同じであり、詳細な説明は省略する。
In the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. 6, the write operation and the read operation are performed by the power supply side sense amplifier drive signals SAP1 and SAP1 divided into two systems.
Except that SAP2 is activated simultaneously after the rise of the word line, it is the same as the write operation and the read operation in the conventional example, and the detailed description is omitted.

【0070】次に、図6に示す半導体記憶装置における
フラッシュ・ライト動作について説明する。
Next, a flash write operation in the semiconductor memory device shown in FIG. 6 will be described.

【0071】図7はワード線WL1上のメモリセルに一
斉に外部論理“L”データをフラッシュ・ライトする場
合のタイミング図である。
FIG. 7 is a timing chart in the case where external logic "L" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL1.

【0072】ビット線プリチャージ信号φBPが“L”
レベルになりビット線プリチャージが終了した後、第2
の電源側センスアンプ駆動信号SAP2を“H”レベル
にする。すると、トランジスタQ15が導通し、ビット
線NBLはトランジスタQ15を通して電荷が供給され
てその電位は徐々に“H”レベルに遷移する。次に、接
地側センスアンプ駆動信号SANを“L”レベルにす
る。すると、トランジスタQ14は、ゲートに接続され
たビット線NBLの電位が“H”レベルであるので導通
し、ビット線BLはトランジスタQ14を通して電荷が
抜かれてその電位は徐々に“L”レベルに遷移する。し
たがって、メモリセル11に書き込まれていたデータに
関わらず、ビット線BLの電位は“L”レベルになる一
方、ビット線NBLの電位は“H”レベルになる。以降
の動作については、第1の実施形態と同様であり、詳細
な説明は省略する。
When bit line precharge signal φBP is at "L"
Level and the bit line precharge is completed.
Is set to the “H” level. Then, the transistor Q15 is turned on, and charge is supplied to the bit line NBL through the transistor Q15, and the potential of the bit line NBL gradually transitions to the “H” level. Next, the ground side sense amplifier drive signal SAN is set to “L” level. Then, the transistor Q14 conducts because the potential of the bit line NBL connected to the gate is at the "H" level, and the bit line BL is discharged through the transistor Q14, and its potential gradually transitions to the "L" level. . Therefore, regardless of the data written in the memory cell 11, the potential of the bit line BL goes low while the potential of the bit line NBL goes high. Subsequent operations are the same as in the first embodiment, and a detailed description will be omitted.

【0073】なお、ワード線WL1は、第2の電源側セ
ンスアンプ駆動信号SAP2及び接地側センスアンプ駆
動信号SANの活性化より前に活性化(電位が“H”レ
ベル)しても、あるいは後で活性化しても何ら問題はな
い。また、第1の電源側センスアンプ駆動信号SAP1
は1/2Vccのままで良く、活性化する必要がない。
The word line WL1 is activated (potential is at “H” level) before or after activation of the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2 and the ground side sense amplifier drive signal SAN. There is no problem even if activated. Also, the first power supply side sense amplifier drive signal SAP1
May be left at 1/2 Vcc and need not be activated.

【0074】図8はワード線WL2上のメモリセルに一
斉に外部論理“L”データをフラッシュ・ライトする場
合のタイミング図である。
FIG. 8 is a timing chart in the case where external logic "L" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL2.

【0075】すでに説明したように、メモリセル12を
含むワード線WL2上のメモリセルには外部論理とは反
転(逆相)のデータがコンデンサに書き込まれる。この
ため、外部論理“L”データを書き込む場合はワード線
WL2上のメモリセルのコンデンサを“H”レベルにす
ればよいので、フラッシュ・ライト時のビット線NBL
の電位を“H”レベルにすればよい。したがって、この
場合の動作は、図8に示すように、選択されるワード線
がWL1からWL2に代わる以外は図7に示す動作と同
様であり、ここでは詳細な説明を省略する。
As already described, data of a logic (inverse phase) with respect to the external logic is written to the memory cell on the word line WL2 including the memory cell 12. Therefore, when writing external logic "L" data, the capacitor of the memory cell on word line WL2 may be set to "H" level, so that bit line NBL at the time of flash write is written.
May be set to the “H” level. Therefore, the operation in this case is the same as the operation shown in FIG. 7 except that the selected word line is changed from WL1 to WL2 as shown in FIG. 8, and a detailed description is omitted here.

【0076】図9はワード線WL1上のメモリセルに一
斉に外部論理“H”データをフラッシュ・ライトする場
合のタイミング図である。
FIG. 9 is a timing chart in the case where external logic "H" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL1.

【0077】ビット線プリチャージが終了した後、第1
の電源側センスアンプ駆動信号SAP1を“H”レベル
にする。すると、トランジスタQ13が導通し、ビット
線BLは電荷が供給されその電位は徐々に“H”レベル
に遷移する。次に、接地側センスアンプ駆動信号SAN
を“L”レベルにする。すると、トランジスタQ16
は、ゲートに接続されたビット線BLの電位が“H”レ
ベルであるため導通し、ビット線NBLはトランジスタ
Q16を通して電荷が抜かれその電位は徐々に“L”レ
ベルに遷移する。したがって、メモリセル11に書き込
まれていたデータに関わらず、ビット線BLの電位は
“H”レベルになる一方、ビット線NBLの電位は
“L”レベルになる。以降の動作については、これまで
の実施形態と同様であり、詳細な説明は省略する。
After the bit line precharge is completed, the first
Is set to the “H” level. Then, the transistor Q13 is turned on, the charge is supplied to the bit line BL, and the potential thereof gradually transitions to the “H” level. Next, the ground side sense amplifier drive signal SAN
To the “L” level. Then, the transistor Q16
Is turned on because the potential of the bit line BL connected to the gate is at the "H" level, the charge of the bit line NBL is discharged through the transistor Q16, and the potential gradually transitions to the "L" level. Therefore, regardless of the data written in the memory cell 11, the potential of the bit line BL goes high while the potential of the bit line NBL goes low. Subsequent operations are the same as those in the previous embodiments, and a detailed description thereof will be omitted.

【0078】なお、ワード線WL1は、第1の電源側セ
ンスアンプ駆動信号SAP1及び接地側センスアンプ駆
動信号SANの活性化より前に活性化しても、あるいは
後で活性化しても何ら問題はない。また、第2の電源側
センスアンプ駆動信号SAP2は1/2Vccのままで良
く、活性化する必要がない。
Note that there is no problem if the word line WL1 is activated before the activation of the first power supply side sense amplifier drive signal SAP1 and the ground side sense amplifier drive signal SAN, or activated later. . Further, the second power supply side sense amplifier drive signal SAP2 may remain at 1/2 Vcc, and need not be activated.

【0079】図10はワード線WL2上のメモリセルに
一斉に外部論理“H”レベルをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 10 is a timing chart when the external logic "H" level is simultaneously flash-written to the memory cells on the word line WL2.

【0080】すでに説明したように、メモリセル12を
含むワード線WL2上のメモリセルには外部論理とは反
転(逆相)のデータがコンデンサに書き込まれる。この
ため、外部論理“H”データを書き込む場合はワード線
WL2上のメモリセルのコンデンサを“L”レベルにす
ればよいので、フラッシュ・ライト時のビット線NBL
の電位を“L”レベルにすればよい。したがって、図1
0に示すように、この場合の動作は選択されるワード線
がWL1からWL2に代わる以外は図9に示す動作と同
様であり、ここでは詳細な説明を省略する。
As already described, data of the logic opposite to the external logic (in the opposite phase) is written to the memory cells on the word line WL2 including the memory cells 12. Therefore, when writing external logic "H" data, the capacitor of the memory cell on word line WL2 may be set to "L" level.
May be set to the “L” level. Therefore, FIG.
As shown by 0, the operation in this case is the same as the operation shown in FIG. 9 except that the selected word line is changed from WL1 to WL2, and the detailed description is omitted here.

【0081】以上説明したように、本実施形態による
と、各ビット線対のセンスアンプを、電源側センスアン
プ駆動信号を2系統入力とし、この電源側センスアンプ
駆動信号によってビット線対の電位を設定可能な構成と
することによって、従来ではフラッシュ・ライトを行う
上で必要であった各ビット線毎のフラッシュ・ライト用
トランジスタを必要とせず、大幅な素子数の増加無しに
フラッシュ・ライト動作を実現することができる。
As described above, according to the present embodiment, the sense amplifier of each bit line pair is supplied with two power supply side sense amplifier drive signals, and the potential of the bit line pair is changed by the power supply side sense amplifier drive signal. By using a configuration that can be set, a flash write transistor is not required for each bit line, which was conventionally required for flash write, and flash write operation can be performed without a large increase in the number of elements. Can be realized.

【0082】(第3の実施形態)図11は本発明の第3
の実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す回路図で
ある。本実施形態に係る半導体記憶装置が図1に示す第
1の実施形態に係る半導体記憶装置と異なるのは、第1
の実施形態では電源側センスアンプ駆動信号及び接地側
センスアンプ駆動信号が共に2系統に分かれているのに
対し、本実施形態では接地側センスアンプ駆動信号のみ
が2系統に分かれている点である。図11において、図
1に示す各構成要素と共通の要素には同一の符号を付し
てあり、その説明を省略する。
(Third Embodiment) FIG. 11 shows a third embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment. The semiconductor memory device according to the present embodiment is different from the semiconductor memory device according to the first embodiment shown in FIG.
In this embodiment, both the power supply side sense amplifier drive signal and the ground side sense amplifier drive signal are divided into two systems, whereas in this embodiment, only the ground side sense amplifier drive signal is divided into two systems. . 11, the same reference numerals are given to the same components as those shown in FIG. 1 and the description thereof will be omitted.

【0083】ビット線対BL,NBLの間には、4つの
トランジスタQ13,Q14,Q15,Q16によって
構成されたセンスアンプ33が接続されている。トラン
ジスタQ13はゲートがビット線NBLに接続されると
共にドレインがビット線BLに接続され、トランジスタ
Q14はトランジスタQ13と同様にゲートがビット線
NBLに接続されると共にドレインがビット線BLに接
続され、トランジスタQ15はゲートがビット線BLに
接続されると共にドレインがビット線NBLに接続さ
れ、トランジスタQ16はトランジスタQ15と同様に
ゲートがビット線BLに接続されると共にドレインがビ
ット線NBLに接続される。
A sense amplifier 33 composed of four transistors Q13, Q14, Q15, Q16 is connected between the bit line pair BL, NBL. The transistor Q13 has a gate connected to the bit line NBL and a drain connected to the bit line BL, and the transistor Q14 has a gate connected to the bit line NBL and a drain connected to the bit line BL similarly to the transistor Q13. Q15 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL, and the transistor Q16 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line NBL, similarly to the transistor Q15.

【0084】電源側センスアンプ駆動信号SAPはトラ
ンジスタQ13及びQ15のソースに与えられる。ま
た、第1の接地側センスアンプ駆動信号SAN1はトラ
ンジスタQ16のソースに与えられ、第2の接地側セン
スアンプ駆動信号SAN2はトランジスタQ14のソー
スに与えられる。
The power supply side sense amplifier drive signal SAP is applied to the sources of the transistors Q13 and Q15. Further, the first ground side sense amplifier drive signal SAN1 is provided to the source of the transistor Q16, and the second ground side sense amplifier drive signal SAN2 is provided to the source of the transistor Q14.

【0085】電源側センスアンプ駆動信号SAPは、通
常はビット線プリチャージレベルと同様のレベル(1/
2Vcc)にあり、活性状態で電源電位Vccに遷移する。
一方、第1及び第2の接地側センスアンプ駆動信号SA
N1,SAN2は、通常はビット線プリチャージレベル
と同様のレベル(1/2Vcc)にあり、活性状態で接地
電位Vssに遷移する。
The power supply side sense amplifier drive signal SAP is normally at the same level (1/1) as the bit line precharge level.
2 Vcc), and transitions to the power supply potential Vcc in the active state.
On the other hand, the first and second ground-side sense amplifier drive signals SA
Normally, N1 and SAN2 are at the same level (1/2 Vcc) as the bit line precharge level, and transition to the ground potential Vss in the active state.

【0086】図11に示す本実施形態に係る半導体記憶
装置において、書き込み動作及び読み出し動作は、2系
統に分かれている接地側センスアンプ駆動信号SAN
1,SAN2をワード線立ち上がり後に同時に活性化す
る以外は、従来例における書き込み動作及び読み出し動
作と同じであり、詳細な説明は省略する。
In the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. 11, the write operation and the read operation are performed by the ground-side sense amplifier drive signal SAN divided into two systems.
Except that the first and SAN2 are simultaneously activated after the rise of the word line, they are the same as the write operation and the read operation in the conventional example, and the detailed description is omitted.

【0087】次に、図11に示す本実施形態に係る半導
体記憶装置におけるフラッシュ・ライト動作について説
明する。
Next, a flash write operation in the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. 11 will be described.

【0088】図12はワード線WL1上のメモリセルに
一斉に外部論理“L”データをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 12 is a timing chart in the case where external logic "L" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL1.

【0089】ビット線プリチャージ信号φBPが“L”
レベルになりビット線プリチャージが終了した後、第2
の接地側センスアンプ駆動信号SAN2を“L”レベル
にする。すると、トランジスタQ15が導通し、ビット
線BLはトランジスタQ15を通して電荷が抜かれその
電位は徐々に“L”レベルに遷移する。次に、電源側セ
ンスアンプ駆動信号SAPを“H”レベルにする。する
と、トランジスタQ15は、ゲートに接続されたビット
線BLの電位が“L”レベルであるため導通し、ビット
線NBLは電荷がトランジスタQ15を通して供給され
その電位は徐々に“H”レベルに遷移する。したがっ
て、メモリセル11に書き込まれていたデータに関わら
ず、ビット線BLの電位は“L”レベルになる一方、ビ
ット線NBLの電位は“H”レベルになる。以降の動作
については、これまで説明した実施形態と同様であり、
詳細な説明は省略する。
When bit line precharge signal φBP is at "L"
Level and the bit line precharge is completed.
Is set to the “L” level. Then, the transistor Q15 is turned on, the charge of the bit line BL is discharged through the transistor Q15, and the potential of the bit line BL gradually transitions to the “L” level. Next, the power supply side sense amplifier drive signal SAP is set to the “H” level. Then, the transistor Q15 conducts because the potential of the bit line BL connected to the gate is at the “L” level, and the charge is supplied to the bit line NBL through the transistor Q15, and the potential thereof gradually transitions to the “H” level. . Therefore, regardless of the data written in the memory cell 11, the potential of the bit line BL goes low while the potential of the bit line NBL goes high. Subsequent operations are the same as those of the embodiment described above.
Detailed description is omitted.

【0090】なお、ワード線WL1は、電源側センスア
ンプ駆動信号SAP及び第2の接地側センスアンプ駆動
信号SAN2の活性化より前に活性化(“H”レベル)
しても、あるいは後で活性化しても何ら問題はない。ま
た、第1の接地側センスアンプ駆動信号SAN1は1/
2Vccのままで良く、活性化する必要がない。
The word line WL1 is activated (“H” level) before the activation of the power supply side sense amplifier drive signal SAP and the second ground side sense amplifier drive signal SAN2.
There is no problem if activated later. The first ground-side sense amplifier drive signal SAN1 is 1 /
It may be kept at 2 Vcc, and need not be activated.

【0091】図13はワード線WL2上のメモリセルに
一斉に外部論理“L”データをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 13 is a timing chart in the case where external logic "L" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL2.

【0092】すでに説明したように、メモリセル12を
含むワード線WL2上のメモリセルには外部論理とは反
転(逆相)のデータがコンデンサに書き込まれる。この
ため、外部論理“L”データを書き込む場合はワード線
WL2上のメモリセルのコンデンサを“H”レベルにす
ればよいので、フラッシュ・ライト時のビット線NBL
の電位を“H”レベルにすればよい。したがって、図1
3に示すように、この場合の動作は選択されるワード線
がWL1からWL2に代わる以外は図12に示す動作と
同様であり、ここでは詳細な説明を省略する。
As described above, in the memory cells on the word line WL2 including the memory cells 12, data whose phase is reversed (in opposite phase) to the external logic is written to the capacitor. Therefore, when writing external logic "L" data, the capacitor of the memory cell on word line WL2 may be set to "H" level, so that bit line NBL at the time of flash write is written.
May be set to the “H” level. Therefore, FIG.
As shown in FIG. 3, the operation in this case is the same as the operation shown in FIG. 12 except that the selected word line is changed from WL1 to WL2, and the detailed description is omitted here.

【0093】図14はワード線WL1上のメモリセルに
一斉に外部論理“H”データをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 14 is a timing chart in the case where external logic "H" data is simultaneously flash-written to the memory cells on word line WL1.

【0094】ビット線プリチャージ信号φBPが“L”
レベルになりビット線のプリチャージが終了した後、第
1の接地側センスアンプ駆動信号SAN1を“L”レベ
ルにする。すると、トランジスタQ16が導通し、ビッ
ト線NBLはトランジスタQ16を通して電荷が供給さ
れその電位は徐々に“L”レベルに遷移する。次に、電
源側センスアンプ駆動信号SAPを“H”レベルにす
る。すると、トランジスタQ13は、ゲートに接続され
たビット線NBLの電位が“L”レベルであるため導通
し、ビット線BLはトランジスタQ13を通して電荷が
供給されその電位は徐々に“H”レベルに遷移する。し
たがって、メモリセル11に書き込まれていたデータに
関わらず、ビット線BLの電位は“H”レベルになる一
方、ビット線NBLの電位は“L”レベルになる。以降
の動作については、これまでの実施形態と同様であり、
詳細な説明は省略する。
When bit line precharge signal φBP is at "L"
After that, the bit line is precharged and the first ground-side sense amplifier drive signal SAN1 is set to "L" level. Then, the transistor Q16 is turned on, the charge is supplied to the bit line NBL through the transistor Q16, and the potential gradually transitions to the “L” level. Next, the power supply side sense amplifier drive signal SAP is set to the “H” level. Then, the transistor Q13 conducts because the potential of the bit line NBL connected to the gate is at the “L” level, and charge is supplied to the bit line BL through the transistor Q13, and the potential gradually transitions to the “H” level. . Therefore, regardless of the data written in the memory cell 11, the potential of the bit line BL goes high while the potential of the bit line NBL goes low. Subsequent operations are the same as in the previous embodiments.
Detailed description is omitted.

【0095】なお、ワード線WL1は、電源側センスア
ンプ駆動信号SAP及び第1の接地側センスアンプ駆動
信号SAN1の活性化より前に活性化しても、あるいは
後で活性化しても何ら問題はない。また、第2の接地側
センスアンプ駆動信号SAN2は1/2Vccのままで良
く、活性化する必要がない。
It should be noted that there is no problem if the word line WL1 is activated before the activation of the power supply side sense amplifier drive signal SAP and the first ground side sense amplifier drive signal SAN1, or activated later. . Further, the second ground-side sense amplifier drive signal SAN2 may be kept at 1/2 Vcc, and need not be activated.

【0096】図15はワード線WL2上のメモリセルに
一斉に外部論理“H”データをフラッシュ・ライトする
場合のタイミング図である。
FIG. 15 is a timing chart in the case where external logic "H" data is simultaneously flash-written to memory cells on word line WL2.

【0097】すでに説明したように、メモリセル12を
含むワード線WL2上のメモリセルには外部論理とは反
転(逆相)のデータがコンデンサに書き込まれる。この
ため、外部論理“H”データを書き込む場合はワード線
WL2上のメモリセルのコンデンサを“L”レベルにす
ればよいので、フラッシュ・ライト時のビット線NBL
の電位を“L”レベルにすればよい。したがって、図1
5に示すように、この場合の動作は選択されるワード線
がWL1からWL2に代わる以外は図14に示す動作と
同様であり、ここでは詳細な説明を省略する。
As described above, in the memory cells on the word line WL2 including the memory cells 12, data inverted (in opposite phase) to the external logic is written to the capacitors. Therefore, when writing external logic "H" data, the capacitor of the memory cell on word line WL2 may be set to "L" level.
May be set to the “L” level. Therefore, FIG.
As shown in FIG. 5, the operation in this case is the same as the operation shown in FIG. 14 except that the selected word line is changed from WL1 to WL2, and the detailed description is omitted here.

【0098】以上説明したように、本実施形態による
と、各ビット線対のセンスアンプを、接地側センスアン
プ駆動信号を2系統入力とし、この接地側センスアンプ
駆動信号によってビット線対の電位を設定可能な構成と
することによって、従来ではフラッシュ・ライトを行う
上で必要であった各ビット線毎のフラッシュ・ライト用
トランジスタを必要とせず、大幅な素子数の増加無しに
フラッシュ・ライト動作を実現することができる。
As described above, according to the present embodiment, the sense amplifier of each bit line pair has two inputs of the ground sense amplifier drive signal, and the potential of the bit line pair is changed by the ground sense amplifier drive signal. By using a configuration that can be set, a flash write transistor is not required for each bit line, which was conventionally required for flash write, and flash write operation can be performed without a large increase in the number of elements. Can be realized.

【0099】[0099]

【発明の効果】以上のように、本発明によると、各ビッ
ト線対の電位をセンスアンプによって設定することがで
きるので、フラッシュライト動作においてビット線対の
電位を設定するために従来必要であった回路が不要にな
り、素子数の大幅な増大を招くことなくフラッシュライ
ト機能を実現することができる。
As described above, according to the present invention, since the potential of each bit line pair can be set by the sense amplifier, it is conventionally necessary to set the potential of the bit line pair in a flash write operation. This eliminates the need for a circuit and makes it possible to realize the flash write function without significantly increasing the number of elements.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置
の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL1上のメモリセルに対し外部論理
“L”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 2 is a timing chart for explaining an operation when flashing / writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL1 in the semiconductor memory device according to the first embodiment;

【図3】第1の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL2上のメモリセルに対し外部論理
“L”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 3 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL2 in the semiconductor memory device according to the first embodiment;

【図4】第1の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL1上のメモリセルに対し外部論理
“H”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 4 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL1 in the semiconductor memory device according to the first embodiment;

【図5】第1の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL2上のメモリセルに対し外部論理
“H”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 5 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL2 in the semiconductor memory device according to the first embodiment;

【図6】本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置
の構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】第2の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL1上のメモリセルに対し外部論理
“L”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 7 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL1 in the semiconductor memory device according to the second embodiment;

【図8】第2の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL2上のメモリセルに対し外部論理
“L”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 8 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL2 in the semiconductor memory device according to the second embodiment;

【図9】第2の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL1上のメモリセルに対し外部論理
“H”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 9 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL1 in the semiconductor memory device according to the second embodiment;

【図10】第2の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL2上のメモリセルに対し外部論理
“H”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 10 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL2 in the semiconductor memory device according to the second embodiment;

【図11】本発明の第3の実施形態に係る半導体記憶装
置の構成を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図12】第3の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL1上のメモリセルに対し外部論理
“L”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 12 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL1 in the semiconductor memory device according to the third embodiment;

【図13】第3の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL2上のメモリセルに対し外部論理
“L”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 13 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL2 in the semiconductor memory device according to the third embodiment;

【図14】第3の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL1上のメモリセルに対し外部論理
“H”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 14 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL1 in the semiconductor memory device according to the third embodiment;

【図15】第3の実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、ワード線WL2上のメモリセルに対し、外部論理
“H”データをフラッシュ・ライトする場合の動作を説
明するためのタイミング図である。
FIG. 15 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL2 in the semiconductor memory device according to the third embodiment.

【図16】従来のフラッシュ・ライト機能を有する半導
体記憶装置の構成例を示す回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration example of a conventional semiconductor memory device having a flash write function.

【図17】従来例において、ワード線WL1上のメモリ
セルに対し外部論理“L”データをフラッシュ・ライト
する場合の動作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 17 is a timing chart for explaining an operation when flashing and writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL1 in the conventional example.

【図18】従来例において、ワード線WL2上のメモリ
セルに対し外部論理“L”データをフラッシュ・ライト
する場合の動作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 18 is a timing chart for explaining an operation when flashing / writing external logic “L” data to a memory cell on a word line WL2 in a conventional example.

【図19】従来例において、ワード線WL1上のメモリ
セルに対し外部論理“H”データをフラッシュ・ライト
する場合の動作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 19 is a timing chart for explaining an operation when flashing / writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL1 in the conventional example.

【図20】従来例において、ワード線WL2上のメモリ
セルに対し外部論理“H”データをフラッシュ・ライト
する場合の動作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 20 is a timing chart for explaining an operation when flashing / writing external logic “H” data to a memory cell on a word line WL2 in the conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

WL1,WL2,WL3,WL4 ワード線 BL,NBL ビット線 11,12 メモリセル C11,C12 コンデンサ Q11,Q12 トランジスタ 13,23,33 センスアンプ SAP1 第1の電源側センスアンプ駆動信号 SAP2 第2の電源側センスアンプ駆動信号 SAP 電源側センスアンプ駆動信号 SAN1 第1の接地側センスアンプ駆動信号 SAN2 第2の接地側センスアンプ駆動信号 SAN 接地側センスアンプ駆動信号 Q13,Q14,Q15,Q16 トランジスタ WL1, WL2, WL3, WL4 Word line BL, NBL Bit line 11, 12 Memory cell C11, C12 Capacitor Q11, Q12 Transistor 13, 23, 33 Sense amplifier SAP1 First power supply side sense amplifier drive signal SAP2 Second power supply side Sense amplifier drive signal SAP Power supply side sense amplifier drive signal SAN1 First ground side sense amplifier drive signal SAN2 Second ground side sense amplifier drive signal SAN Ground side sense amplifier drive signal Q13, Q14, Q15, Q16 Transistor

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワード線と複数のビット線対との
交差部に設けられた複数のメモリセルと、前記複数のビ
ット線対に各々接続された複数のセンスアンプとを備え
た半導体記憶装置において、 前記センスアンプは、 電源側センスアンプ駆動信号及び接地側センスアンプ駆
動信号の少なくとも一方を2系統入力とし、この電源側
センスアンプ駆動信号及び接地側センスアンプ駆動信号
に従って、接続されたビット線対の電位を設定可能であ
るものとしたことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory comprising: a plurality of memory cells provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs; and a plurality of sense amplifiers respectively connected to the plurality of bit line pairs. In the apparatus, the sense amplifier receives at least one of a power supply side sense amplifier drive signal and a ground side sense amplifier drive signal as a two-system input, and connects a bit connected according to the power supply side sense amplifier drive signal and the ground side sense amplifier drive signal. A semiconductor memory device wherein a potential of a line pair can be set.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 センスアンプは、 第1及び第2の電源側センスアンプ駆動信号と第1及び
第2の接地側センスアンプ駆動信号とを入力とし、前記
第1の電源側センスアンプ駆動信号が高電位になり前記
第1の接地側センスアンプ駆動信号が低電位になるとき
は、接続されたビット線対のうちの一方のビット線を電
源電位に駆動すると共に他方のビット線を接地電位に駆
動する一方、前記第2の電源側センスアンプ駆動信号が
高電位になり前記第2の接地側センスアンプ駆動信号が
低電位になるときは、前記一方のビット線を接地電位に
駆動すると共に前記他方のビット線を電源電位に駆動す
ることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the sense amplifier receives first and second power supply side sense amplifier drive signals and first and second ground side sense amplifier drive signals as inputs, When the first power supply side sense amplifier drive signal has a high potential and the first ground side sense amplifier drive signal has a low potential, one of the connected bit line pairs is set to the power supply potential. When the second power supply side sense amplifier drive signal goes high and the second ground side sense amplifier drive signal goes low while driving the other bit line to ground potential, Wherein the other bit line is driven to a ground potential and the other bit line is driven to a power supply potential.
【請求項3】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 センスアンプは、 第1及び第2の電源側センスアンプ駆動信号と接地側セ
ンスアンプ駆動信号とを入力とし、前記第1の電源側セ
ンスアンプ駆動信号が高電位になり前記接地側センスア
ンプ駆動信号が低電位になるときは、接続されたビット
線対のうちの一方のビット線を電源電位に駆動すると共
に他方のビット線を接地電位に駆動する一方、前記第2
の電源側センスアンプ駆動信号が高電位になり前記接地
側センスアンプ駆動信号が低電位になるときは、前記一
方のビット線を接地電位に駆動すると共に前記他方のビ
ット線を電源電位に駆動することを特徴とする半導体記
憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the sense amplifier receives first and second power-supply-side sense amplifier drive signals and a ground-side sense amplifier drive signal, and receives the first power supply side. When the sense amplifier drive signal becomes high potential and the ground side sense amplifier drive signal becomes low potential, one bit line of the connected bit line pair is driven to the power supply potential and the other bit line is grounded. Drive to the potential while the second
When the power supply side sense amplifier drive signal becomes high potential and the ground side sense amplifier drive signal becomes low potential, the one bit line is driven to the ground potential and the other bit line is driven to the power supply potential. A semiconductor memory device characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 センスアンプは、 第1及び第2の接地側センスアンプ駆動信号と電源側セ
ンスアンプ駆動信号とを入力とし、前記第1の接地側セ
ンスアンプ駆動信号が低電位になり前記電源側センスア
ンプ駆動信号が高電位になるときは、接続されたビット
線対のうちの一方のビット線を電源電位に駆動すると共
に他方のビット線を接地電位に駆動する一方、前記第2
の接地側センスアンプ駆動信号が低電位になり前記電源
側センスアンプ駆動信号が高電位になるときは、前記一
方のビット線を接地電位に駆動すると共に前記他方のビ
ット線を電源電位に駆動することを特徴とする半導体記
憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said sense amplifier receives first and second ground-side sense amplifier drive signals and a power-supply-side sense amplifier drive signal, and said first ground side. When the sense amplifier drive signal becomes low potential and the power supply side sense amplifier drive signal becomes high potential, one bit line of the connected bit line pair is driven to the power supply potential and the other bit line is grounded. Drive to the potential while the second
When the ground side sense amplifier drive signal goes low and the power supply side sense amplifier drive signal goes high, the one bit line is driven to the ground potential and the other bit line is driven to the power potential. A semiconductor memory device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 センスアンプは、 複数のメモリセルに一斉にデータを書き込むフラッシュ
動作時において、電源側センスアンプ駆動信号及び接地
側センスアンプ駆動信号に従って、接続されたビット線
対の電位を設定することを特徴とする半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein in a flash operation of writing data to a plurality of memory cells at a time, a sense amplifier operates in accordance with a power supply side sense amplifier drive signal and a ground side sense amplifier drive signal. A semiconductor memory device for setting a potential of a connected bit line pair.
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