JPH11131221A - 気相堆積形成コーティング装置 - Google Patents

気相堆積形成コーティング装置

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JPH11131221A
JPH11131221A JP10245459A JP24545998A JPH11131221A JP H11131221 A JPH11131221 A JP H11131221A JP 10245459 A JP10245459 A JP 10245459A JP 24545998 A JP24545998 A JP 24545998A JP H11131221 A JPH11131221 A JP H11131221A
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cathode
arc
platter
coater
driving
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JP10245459A
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Dean N Marszal
エヌ.マーゼル ディーン
Russell A Beers
エイ.ビアーズ ラッセル
Robert E Hendricks
イー.ヘンドリックス ロバート
Allan A Noetzel
エイ.ノエゼル アラン
Robert J Wright
ジェイ.ライト ロバート
David R Ervin
アール.アーヴィン デヴィド
Gerard A Sileo
エイ.シレオ ジェラルド
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高品質のコーティングを、多数の基体に連続
的に施すことのできる効率的でコスト効率のよい気相堆
積形成装置を提供することである。 【解決手段】 基体12にコーティングを施すための気
相堆積形成装置が提供され、この装置には、複数の気相
堆積コータ14と、複数のプラター16と、プラタード
ッキングステーション18と、シャトルトラック20
と、コータとプラタードッキングステーションとの間で
プラターを運搬するための装置と、が含まれる。シャト
ルトラックは、プラタードッキングステーションとコー
タとを接続する。コータより選択的に取り出されたプラ
ターは、シャトルトラックに沿ってプラタードッキング
ステーションまで運搬され、ここで、処理済の基体はプ
ラターより降ろされ未処理の基体がプラターに載せられ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主にコーティング
のための気相堆積即ち蒸着(ベーパデポジッション)を
行う装置に関し、特に、その形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】基体へのコーティングを施すための手段
として気相堆積法が当業界で知られている。この気相堆
積法としては、ケミカルベーパデポジッション法(化学
的気相堆積法)、フィジカルベーパデポジッション法
(物理的気相堆積法)、カソードアークベーパデポジッ
ション法(カソードアーク気相堆積法)を挙げることが
できる。化学的気相堆積法(CVD)は、反応性ガスで
ある元素を1つ以上のコーティングすべき基体を入れた
堆積チャンバに導入する。物理的気相堆積法(PVD)
は、供給材料及び基体を排気された堆積チャンバに導入
するステップを有している。この供給材料は、抵抗加
熱、誘導加熱又は電子ビーム手段によって加熱されるこ
とでエネルギーが加えられて気化する。
【0003】カソードアーク気相堆積法は、供給材料及
びコーティングすべき基体を排気された堆積チャンバ内
に配置するステップを有している。このチャンバは、比
較的少量の気体しか含有していない。カソードとアノー
ドとの間で移動するアークは、カソードを、原子、分
子、イオン、電子、粒子を含有するプラズマとして気化
する。正に帯電したイオンは、上記カソードから飛び出
し、この正に帯電したイオンに対して低い電位を有する
上記堆積チャンバ内のどのような物体にでも付着する。
いくつかの堆積プロセスでは、コートされる上記基体を
上記アノードと同電位に維持させている。別のプロセス
では、上記基体の電位を低下させるためにバイアス電源
を用いて、上記正帯電イオンに対しより引力を与えるよ
うにされている。どちらの場合にも、上記基体は、上記
カソードから飛び出して気化した材料によってコートさ
れることになる。
【0004】現在使用できるカソードアークコータは、
典型的には上記コータに固定された冷却カソードを用い
ている。一つの冷却方法としては、上記カソードとマニ
ホルドの間で冷媒を流すようになったマニホルドをカソ
ードに取り付けることによる。別の手法としては、ホロ
ーカソードに連結した冷却パイプを用いることによる。
いずれの場合も問題となるのは上記マニホルド又はパイ
プを収容すべく、カソードを機械加工しなければならな
いことにある。すべてのカソード材料が、機械加工が可
能ではあっても適しているわけではないので、機械加工
は、上記消耗品であるカソードに対し著しいコストを加
えてしまうことになる。上記した「直接冷却」により生
じる別の問題点は、その使用寿命が終了した場合に上記
カソードを交換する労力及び時間を伴うことにある。マ
ニホルド(又はパイプ)が上記カソードに機械的に取り
付けられている上述の場合には、上記マニホルド(又は
パイプ)は、古いカソードから取り外されて、新しいカ
ソード及び上記堆積チャンバに装着され、それに引き続
いて冷媒によって洗浄が行われる。各コーティング操作
の後にカソードを交換することが必要な用途の場合に
は、労力・コスト及び停止時間が重大な関心事となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】現在使用されている気
相堆積コータは、一般に、多量の部材が数多くの製造工
程を連続して通過することが望まれる製造環境に合うよ
うには構成されていない。連続的な処理が可能となれ
ば、作業間の停止時間は最小となり、生産速度を増すこ
とができる。現在使用されている容量が小さい研究所用
のコータでは、通常、一、二回の作業後に交換する必要
のある上記した固定カソードが使用されている。研究所
用のコータでは、カソードを交換するのに手間がかか
り、かつ、容量が限られているので、連続的に多数のコ
ーティング部材を製造する方法としては実際的ではな
い。一方、容量が大きいバッチコータは、多数の部材に
コーティングを施すことはできるが、連続した流れを提
供することはできない。大容量バッチコータは、上流の
製造作業に続いて大容量バッチコータに部材を入れるの
に時間を要し、また、コーティング工程にも時間を要す
るので、連続的な製造環境には向いていない。
【0006】即ち、効率よく操作でき、基体への高品質
のコーティングを一貫して行うことができ、多数の部材
に連続的にコーティングを施すことができ、コスト効率
が良い気相堆積形成(production)装置が必要とされてい
る。
【0007】従って、本発明の目的は、基体に高品質の
コーティングを施すことができる気相堆積形成装置を提
供することである。
【0008】本発明の他の目的は、多数の基体に連続的
にコーティングを施すことができる気相堆積形成装置を
提供することである。
【0009】本発明のまた他の目的は、効率的及びコス
ト効率よく運転することができる気相堆積形成装置を提
供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によると、基体に
コーティングを施すための気相堆積即ち蒸着形成装置
は、複数の気相堆積コータと、複数のプラターと、プラ
タードッキングステーションと、シャトルトラックと、
コータとプラタードッキングステーションとの間でプラ
ターを運搬するための手段と、を有する。シャトルトラ
ックは、プラタードッキングステーションとそれぞれの
コータとを接続する。選択的にコータより取り出される
プラターは、シャトルトラックに沿ってプラタードッキ
ングステーションまで運搬され、ここで、処理済の基体
は、これらのプラターから降ろされて、未処理の基体が
プラターに載せられる。
【0011】本発明の利点は、連続して多数の基体にコ
ーティングを施すことのできる気相積載形成装置を提供
することができる点である。このようなコーティングを
可能とする本発明の特徴の一つは、各コータでそれぞれ
使用されるカソードに関する。具体的には、カソード
は、冷媒供給源に直接接続されておらず、最低限の機械
加工のみを要し、簡単に設置及び除去することができ
る。カソードの除去及び設置のために生じる停止時間
は、効率的に削減される。本発明の形成装置が多数の基
体にコーティングを連続的に施すことができるような性
能をもたらす特徴は、プラターと、シャトルトラック
と、プラタードッキングステーションと、を含む取扱い
装置に関する。これらの要素自体によって、多量の部材
を処理するのにかかる時間及び労力が最小となる。以下
で説明するコータ、プラター、シャトルトラック、及び
プラタードッキングステーションの自動化によって、更
に、必要とされる時間及び労力を最小とし、多数の基体
に連続的にコーティングを施すことを容易にすることが
できる。
【0012】本発明の他の利点は、基体に施すための効
率的で、かつ、コスト効率がよい気相堆積形成装置を提
供することができる点である。本発明を効率的かつコス
ト効率よくするための特徴は、本発明の形成装置が多数
の基体に連続的にコーティングを施すことを可能とする
上記した特徴と同様である。更に、消耗するカソードの
比較的低価格(例えば、要求される機械加工が最小限で
ある)の形状によって一回の運転当たりのコストは最小
となり、その結果、装置のコスト効率がよくなる。
【0013】本発明の上記目的及び他の目的、特徴、効
果については、添付する図面を持ってする本発明の最適
な実施形態についての詳細な説明により、より明確とす
ることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
I.装置 図1及び図2を参照すると、基体12をコーティングす
るための気相堆積形成装置10は、複数の気相堆積コー
タ14と、複数のプラター16と、プラタードッキング
ステーション18と、シャトルトラック20と、コータ
14とプラタードッキングステーション18との間でプ
ラター16を駆動するための手段22と、を含む。気相
堆積コータ14は、カソードアーク型コータであること
が望ましいが、他の種類の気相堆積コータを代わりに使
用することもできる。
【0015】各カソードアークコータ14(図2参照)
は、容器24と、容器24内を真空に維持するための手
段30と、コンタクタ32と、カソード36と電気的に
接触するように選択的にコンタクタ32を動作させるア
クチュエータ34と、カソード36とアノード39との
間においてアークの電気エネルギーを維持させるための
手段38と、を有している。冷媒供給源40は、容器2
4及びコンタクタ32内の冷媒流路44,46を通るよ
うに冷媒を循環させることにより、コータ14の温度を
許容範囲に保っている。容器24内を真空に維持するた
めの手段30は、低真空用のメカニカル真空ポンプ50
と、容器24内部へと通された拡散型大容量真空ポンプ
と、から構成されている。これら以外の真空手段であっ
ても用いることが可能である。カソード36とアノード
39との間においてアークの電気エネルギーを維持する
ための手段38は、直流(D.C.)電源54を含む。アノー
ド(図示省略)を容器24の内部に配置することもでき
るが、容器24は、アノードとして動作するように電気
的に接続されていることが望ましい。アーク開始装置5
6は、アノード容器24の電位あるいはその付近の電位
に維持されており、アークを開始させるために用いられ
ている。
【0016】コンタクタ32は、シャフト60に取り付
けられたヘッド58と、コンタクタ32を冷却するため
の手段62と、を有している。ヘッド58は、容器24
の内側に位置決めされており、シャフト60は、ヘッド
58から容器24の外へと延ばされている。絶縁性のデ
ィスク64は、電気的にコンタクタ32を容器24から
絶縁させている。コンタクタ32を冷却するための手段
62は、シャフト60内部でこれと同軸に位置決めされ
た冷却管66と、冷却管66に連結された冷媒吸込口6
8と、同軸の冷却管66とシャフト60との間に形成さ
れた通路46に連結された冷媒排出口と、を有すること
が望ましい。冷却管66とシャフト60の間のこのよう
な同軸配置により、冷媒が冷却管66から流入してシャ
フト60と冷却管66との間の通路46を通して排出さ
れ、また、この逆も可能となっている。
【0017】ヘッド58(図3及び図4参照)は、カッ
プ72と磁界発生装置74とを備えている。磁界発生装
置74は、カップ72内に配置されており、カップ72
は、コンタクタシャフト60に固定されている。磁界発
生装置74は、カソード36の(以下で説明する)蒸発
面88と平行に流れる磁界を発生させる。コンタクタ3
2をカソード36と電気的に接触するように選択的に駆
動するアクチュエータ34(図2参照)は、対となった
2方向アクチュエータシリンダ78(油圧又は空圧式で
ある)を備えており、これらのアクチュエータシリンダ
78は、容器24とコンタクタシャフト60に取り付け
られたシャフトフランジ80との間で動作するようにな
っている。これらのアクチュエータシリンダ78の代わ
りに、機械的装置(図示省略)を用いることもできる。
【0018】デフレクタシールド82は、上記コータ1
4全体に用いられ、上記基体12の領域へと気化される
カソード材料を規制する。容器24に取り付けられたデ
フレクタシールド82と、プラター16と、コンタクタ
32とは、これらの面上に所望でない材料堆積が最小と
なるようにしている。好適実施形態では、容器24に取
り付けられたデフレクタシールド82は、電気的に容器
24と接続され、腐食に耐性のある例えばステンレスス
チールといった導電性材料から製造されている。
【0019】第一の実施形態(図3参照)では、カソー
ド36は、実質的に平行な第一の端面84及び第二の端
面86とその間に延びた蒸発面88とを備える円形のデ
ィスクとなっている。第二の実施形態(図4参照)で
は、カソード36は、実質的に平行な第一の端面84と
第二の端面86と、蒸発面88と、端面84,86の間
で延びるボア90と、を備える環形状となっている。
【0020】図1、5、及び6を参照すると、カソード
36と基体12とを保持するためのプラター16は、容
器24への着脱を容易にするためにローラ92に取り付
けられている。プラター16(図5及び図6参照)は、
トレイ94と、複数のペデスタル96と、プラター16
の一方の面に設けられたラックギア98と、ペデスタル
96を回転させるための手段100と、を有する。カソ
ード36は、プラター16(図3及び図4参照)の中心
位置でスペーサ102と電気絶縁体との上に取り付けら
れる。ペデスタル96を回転させるための手段100
は、例えば、複数のペデスタルギア108と係合する中
央ギア106を含んでもよい。各ペデスタルギア108
は、それぞれペデスタル96に固定され、中央ギア10
6及びペデスタルギア108は、トレイ94に枢軸運動
可能に設けられる。プラター16が容器24の内部に配
置された場合に、容器24の内部に設けられたギア11
0(図2参照)は、中央ギア106と係合する。容器の
壁を通って延びるシャフト112は、基体を回転させる
動力手段提供する駆動ユニット(D1)にギア110を
接続する。第二のギア114と駆動ユニット(D2)と
は、容器24の内外へプラター16を移動させるための
同様な機能を提供する。容器24の内部に配置された第
二のギア114は、プラター16に設けられたラックギ
ア98に係合される。容器の壁を通って延びるシャフト
116は、第二のギア114と第二の駆動ユニット(D
2)とを連結させる。
【0021】各コータ14は、基体12を電気的にバイ
アスするためのバイアス電源118を備えていることが
好ましい。プラター16と電気的に接続されているコン
タクト120は、プラター16が容器24内に設置され
ている場合に、電気的にバイアス電源118を基体12
へと接続する。基体12をバイアス電源118に連結さ
せるための別の手段であっても別途用いることが可能で
ある。
【0022】図7を参照すると、コータ14とプラター
ドッキングステーション18との間でプラターを駆動す
るために好ましい手段は、シャトルカー122である。
このシャトルカー122は、プラター16のローラ92
を収容するための一対のレール124と、シャトルの軌
道即ちシャトルトラック20に沿って移動するための一
組のローラと、シャトルカー122を駆動するための第
三の駆動ユニット(D3)と、プラター16をシャトル
カー122に載せたりシャトルカー122から降ろした
りするための第四の駆動ユニット(D4)と、を含む。
シャトルトラック20は、この形態では、図示のように
レールとなっている。第三の駆動ユニット(D3)は、
例えば、シャトルトラック20に設けられたラックギア
128に係合されたギアと接続されることができる。
【0023】図1を参照すると、プラタードッキングス
テーションは、第一ドック130と第二ドック132と
を有する。各ドック130,132は、プラターをドッ
ク130,132に載せたりこれらのドックから降ろし
たりするための手段134をそれぞれ有する。例えば、
プラター16を、ドック130,132に載せたりこれ
らのドックから降ろしたりするための手段134は、各
プラター16のそれぞれのラックギア98と係合可能な
ギア136を有することができる。これらのギアは、各
ドック130,132にそれぞれ接続された第五の駆動
ユニット(D5)によって駆動される。プラター16を
ドック130,132に載せたり、これらのドックから
降ろしたりするための手段134は、更に、各プラター
16のそれぞれのローラ92を支持するための一対のレ
ール138を有する。
【0024】各駆動ユニット(D1〜D5)は、ギアボ
ックス(図示省略)と連結された電動モータから成る商
業的に流通している“駆動装置”を有する。商業的に流
通しているシャフト型または直線型のエンコーダなどの
位置指示器(図示省略)は、相対的な位置を指示するた
めに使用される。例えば、第三の駆動ユニット(D3)
に接続されたシャフト型エンコーダは、第三駆動ユニッ
ト(D3)のシャフト回転を基準点からの直線距離と等
しくすることによって、シャトルカー122の位置を確
認するために使用される。また、シャトルカー122
(またはプラター16)の位置は、リミットスイッチな
どの他の手段によって確認することもできる。 中央処
理ユニットを有する制御装置140と、入力装置と、出
力装置と、メモリ格納装置と、は、各コータ14と、シ
ャトルカー122と、コータ14とプラタードッキング
ステーション18との間で折返し輸送されるプラター1
6と、をそれぞれ制御するために使用される。多くの種
類の制御装置が商業的に流通している。従って、ここで
は、制御装置の機能要件のみに関して記載し、制御装置
140に関する詳細は省略する。
【0025】II.装置の操作 図1を参照すると、本発明に係る気相堆積形成装置10
が基体12にコーティングを施すために運転されると、
空のプラターがプラタードッキングステーション18の
第一のドックに配置される。オペレータ(図示省略)が
カソード36とコーティングされる基体12とを上記空
のプラター16に積載する。同時に、コーティングされ
た基体を積載した第二のプラターは、プラタードッキン
グステーション18の第二のドックにおいて冷却されて
いる。この時点で、コータ14の内の一つは、空であ
り、コーティングされる基体12を載せたプラターを受
容するために待機している。第一のプラター16にカソ
ード36と基体12とが積載されると、第一のプラター
16は、第一のドック130から取り出されてシャトル
カー122に積載される。シャトルカー122は、積載
されたプラター16を空のコータ14まで運搬し、続い
て、プラター16がコータ14に挿入される。
【0026】図2を参照すると、プラター16がコータ
14に挿入されると、アクチュエータシリンダ78は、
カソード36と(物理的及び電気的に)接続するように
コンタクタ32を駆動し、上記容器14は閉じられる。
続いて、低真空用メカニック真空ポンプ50は、容器を
所定の圧力まで排気するように運転される。その所定圧
力にまで達すると、大容量拡散真空ポンプ52は、さら
に容器24を真空条件にまで排気する。基体12は、そ
の後、残存する汚染物及び/または酸化物があれば、そ
れらを「スパッタクリーニング」などの方法により清浄
化する。スパッタクリーニングは、当業界においては良
く知られた方法であり、本願明細書においては詳細な説
明を行わない。別の清浄化方法であっても用いることが
可能である。上記基体12が清浄化されるのと同時に、
上記汚染物質は、一般に不活性ガスを用いてパージされ
る。
【0027】アークを開始させる前に、いくつかのステ
ップを完了させておく。これらのステップとしては、
(1)バイアス電源118が起動されて、基体12が電
気的にバイアスされるステップと、(2)基体12を所
定の回転速度で回転させるステップと、(3)電源54
をセットしてアークを開始させないまま、一定の電流強
度及び電圧のアークを開始させるようにするためのステ
ップと、(4)真空ポンプ50,52を起動して上記容
器14内の気体圧力を一定の真空となるように維持させ
るステップと、(5)冷媒を容器冷媒流路44及びコン
タクタ冷媒流路46を通すステップと、を挙げることが
できる。特定のプロセスパラメータは、基体12の材
料、コーティング材料、そのコーティングの所望特性な
どに応じて定めることができる。
【0028】上記のステップが完了すると、アーク開始
装置56は、カソード36と、アノード容器24と電気
的に接続されたデフレクタシールド82との間でアーク
を生じさせる。続いて、磁界発生装置74は、アークを
カソード36の蒸発面88の周囲のアーク経路142
(図3参照)に沿って駆動する。アークによって供給さ
れるエネルギーは、カソードスポットの材料を蒸発さ
せ、原子、分子、イオン、電子、粒子をカソード36か
ら飛び出させる。図3は、侵食したカソード36を点線
で示している。カソード36のこの侵食は、アーク経路
142を中心として対照的となっている。バイアスされ
た基体12は、イオンに対して引力を生じさせて、これ
らのイオンを基体12に向かって加速させる。これらの
イオンは、基体12の表面に付着し、カソード材料のコ
ーティングを集合的に形成する。カソード36に対する
基体12の回転により、基体12に対して均一なコーテ
ィングの形成が促進される。コンタクタ32を通って流
れる冷媒は、コンタクタ32を直接冷却し、カソード3
6を間接的に冷却する。基体12に十分な厚みのコーテ
ィングが形成されると、電源54は停止され、アークが
消滅する。容器24は、不活性ガスによりパージされ、
常圧とされる。コンタクタ32は、カソード36と接触
しなくなるように駆動され、容器24は開かれて、プラ
ッター16が容器24から除去される。上記基体12
は、これに続いて上記プラッター48から取り外されて
シャトルカー122に載せられる。
【0029】図1を参照すると、このコーティング工程
において、空のシャトルカー122は、プラタードッキ
ングステーション18に戻され、第二のプラター16が
シャトルカー122を横切って第一のドック130まで
運搬される。その後、シャトルカー122は、次のコー
タまで移動して空にされ、コーティングされた基体12
を載せたプラター16を受け取りこのプラター16をプ
ラタードッキングステーションまで運搬し、ここでプラ
ター16は、第二のドック132まで運搬される。この
ように、基体12のコーティングサイクルは、繰り返さ
れる。
【0030】制御装置140は、プラター16を、シャ
トルトラック20に沿って及びプラタードッキングステ
ーション18内で運搬する作業を調整するための指令ロ
ジックを提供する。例えば、オペレータ(図示省略)
は、プラターを載せたシャトルカー122を、特定のコ
ータ14からプラタードッキングステーション18まで
運搬するための指令を入力する。制御装置140は、積
載されたシャトルカー122の実際の位置と、格納され
たプラタードッキングステーション18の基準値と、を
比較し、シャトルカー122をプラタードッキングステ
ーション18まで運搬する指令を第三の駆動ユニット
(D3)に発する。シャトルカー122の実際の位置を
検出する位置指示器からのリアルタイムの信号は、実際
の位置信号がプラタードッキングステーション18に対
応する基準値に一致するまで制御装置140に送信され
る。同様の制御ロジックは、プラター16を、第一のド
ック130及び第二のドック132の内外に、及びコー
タ14の内外に移動させるために使用される。
【0031】制御装置140は、また、各コータを運転
させるための指令ロジックも提供する。上記で説明した
以下のステップ、即ち(1)容器24を開けるステッ
プ、(2)カソード36と電気的に接触するようにコン
タクタ32を起動するステップ、(3)コータ14を排
気するように真空ポンプ50,52を運転するステッ
プ、(4)バイアス電源118によって基体12をバイ
アスすステップ、(5)プラターに取り付けられたギア
106,108を駆動することによって基体12を回転
させるステップ、(6)電源54によってカソード36
とアノード容器24との間に電位差を生じさせるステッ
プ、(7)カソード36とデフレクタシールド82(ま
たは容器24)との間にアークを開始するステップは、
全て制御装置140に格納された指令によって調整され
る。これらの指令は、商業的に流通しているコンピュー
タソフトウェアプログラム言語によって形成されて格納
される。
【0032】本発明を実施形態の詳細な説明により開示
してきたが、当業者によれば形態及び細部への種々の変
更は、本発明の趣旨及び範囲内で行うことができること
が明らかであろう。例えば、上記で説明したプログラム
ドッキングステーション18は、本発明の形成装置10
で使用可能な単純化された形態である。二つ以上のプラ
ター16を扱うことが可能なタレットなど、より複雑な
装置を選択的に使用することもできる。駆動装置も、最
適な形態から変更することができる。例えば、シャトル
カーを駆動するためにリニアモータを使用すこともで
き、プラター16をシャトルカー122に載せたり、こ
こから降ろしたりするために油圧式のアクチュエータを
使用することもできる。
【0033】本発明を要約すると、基体12にコーティ
ングを施すための気相堆積形成装置が提供され、この装
置には、複数の気相堆積コータ14と、複数のプラター
16と、プラタードッキングステーション18と、シャ
トルトラック20と、コータとプラタードッキングステ
ーションとの間でプラターを運搬するための装置と、が
含まれる。シャトルトラックは、プラタードッキングス
テーションとコータとを接続する。コータより選択的に
取り出されたプラターは、シャトルトラックに沿ってプ
ラタードッキングステーションまで運搬され、ここで、
処理済の基体はプラターより降ろされ未処理の基体がプ
ラターに載せられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基体にコーティングを施すための
気相堆積形成装置の説明図である。
【図2】本発明に係る基体にコーティングを施すための
気相堆積形成装置における複数のコータのうちの一つの
説明図である。
【図3】本発明の実施形態に係るコータのディスク形状
のカソードとコンタクタとの説明図である。
【図4】本発明の実施形態に係るコータの環形状のカソ
ードとコンタクタとの説明図である。
【図5】プラターの平面図である。
【図6】図5に示したプラターの断面図である。
【図7】シャトルトラックの一部分上でプラターを載せ
たシャトルカーの説明図である。
【符号の説明】
10…気相堆積形成手段 12…基体 14…気相堆積コータ 16…プラター 18…プラタードッキングステーション 20…シャトルトラック 130…第一のドック 132…第二のドック 134…プラター積み降ろし手段 136…ギア 138…レール 140…制御装置
フロントページの続き (72)発明者 ラッセル エイ.ビアーズ アメリカ合衆国,フロリダ,パーム ビー チ ガーデンズ,ユンジリー ストリート 6272 (72)発明者 ロバート イー.ヘンドリックス アメリカ合衆国,フロリダ,ポート セイ ント ルシー,サウスウエスト アカード アヴェニュー 1350 (72)発明者 アラン エイ.ノエゼル アメリカ合衆国,フロリダ,シンガー ア イランド,ノース オーシャン ドライヴ 300 (72)発明者 ロバート ジェイ.ライト アメリカ合衆国,ウエスト ヴァージニ ア,チャールズタウン,テュスカヴィラ ヒルズ 804 (72)発明者 デヴィド アール.アーヴィン アメリカ合衆国,フロリダ,ロイヤル パ ーム ビーチ,ドーヴ サークル 143 (72)発明者 ジェラルド エイ.シレオ アメリカ合衆国,フロリダ,ジュピター, オーシャン デューンズ サークル 1418

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体にコーティングを施すための気相堆
    積形成装置であって、 複数の気相堆積コータと、 複数のプラターと、 プラタードッキングステーションと、 前記ドッキングステーションと前記コータとを接続する
    シャトルトラックと、 前記コータと前記ドッキングステーションとの間で前記
    プラターを運搬するための手段と、を有し、 前記プラターは、前記シャトルトラックによって前記コ
    ータと前記ドッキングステーションとの間で、及び前記
    コータの内外に運搬されることを特徴とする装置。
  2. 【請求項2】 中央処理ユニットを含む制御装置を有
    し、前記制御装置は、前記コータと、前記プラターを運
    搬するための前記手段と、にそれぞれ接続されており、 前記制御装置は、前記コータと前記プラターを運搬する
    ための手段との運転を制御することを特徴とする請求項
    1記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記プラターを前記コータと前記ドッキ
    ングステーションとの間で運搬するための手段は、前記
    シャトルトラックに沿って移動するように設けられたシ
    ャトルカーを有し、このシャトルカーは、該シャトルカ
    ーを推進するための駆動手段を含むことを特徴とする請
    求項2記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記各コータは、 容器と、 前記容器を真空に維持するための手段と、 前記プラターの一つに取り付けられたカソードと、 前記容器の内部に配置されたコンタクタと、 前記コンタクタと電気的に接続されるとともに、前記カ
    ソードとアノードとの間で電気エネルギーのアークを選
    択的に持続させるための手段と、 アクチュエータと、を有し、該アクチュエータは、前記
    カソードと接触するように前記コンタクタを選択的に動
    作させ、これにより、前記カソードと、前記選択的に電
    気エネルギーのアークを持続させるための手段と、を電
    気的に接続し、前記制御装置は、前記容器を真空に維持
    するための手段と、前記選択的に電気エネルギーのアー
    クを持続させるための手段と、前記アクチュエータと、
    の運転を制御することを特徴とする請求項3記載の装
    置。
  5. 【請求項5】 前記カソードは、蒸発面によって接続さ
    れた一対の端面を有するディスク形状であり、 前記アクチュエータは、前記カソードの前記端面の一方
    と接触するように前記コンタクタを動作させ、それによ
    り、前記カソードを前記選択的に電気エネルギーのアー
    クを持続させるための手段に電気的に接続することを特
    徴とする請求項4記載の装置。
  6. 【請求項6】 前記コータは、更に、前記アークを前記
    蒸発面の周囲で駆動するための手段を有し、前記アーク
    を駆動するための手段は、前記カソードと近接する位置
    に配置され、かつ、前記アークを駆動するための手段
    は、前記カソードを透過する磁界を発生させることを特
    徴とする請求項5記載の装置。
  7. 【請求項7】 前記カソードは、環状であり、一対の端
    面と、前記端面間に延びる蒸発面及びボアと、を有し、 前記アクチュエータは、前記カソードと電気的に接触す
    るように前記コンタクタを動作させ、それにより、前記
    カソードを前記選択的に電気エネルギーのアークを持続
    させるための手段に電気的に接続することを特徴とする
    請求項4記載の装置。
  8. 【請求項8】 前記コータは、更に、前記アークを前記
    蒸発面の周囲で駆動するための手段を有し、前記アーク
    を駆動するための手段は、前記カソードの前記ボアの内
    部に配置され、かつ、前記アークを駆動するための手段
    は、前記カソードを透過する磁界を発生させることを特
    徴とする請求項7記載の装置。
  9. 【請求項9】 前記コンタクタは、 前記容器の内部に配置されたヘッドと、 前記ヘッドに接続されて前記ヘッドから前記容器の外部
    へと延びるシャフトと、を有することを特徴とする請求
    項4記載の装置。
  10. 【請求項10】 前記プラターは、基体を支持するため
    の選択的に回転可能なペデスタルを有することを特徴と
    する請求項9記載の装置。
  11. 【請求項11】 前記コータ内に配置された前記プラタ
    ーに取り付けられた基体を電気的にバイアスするための
    バイアス電源と、 前記バイアス電源を基体に電気的に接続するための手段
    と、を有することを特徴とする請求項10記載の装置。
  12. 【請求項12】 前記バイアス電源を基体に電気的に接
    続するための手段は、前記バイアス電源を前記プラター
    に電気的に接続し、前記プラターは、基体に電気的に接
    続されることを特徴とする請求項11記載の装置。
  13. 【請求項13】 前記カソードは、蒸発面によって接続
    された一対の端面を有するディスク形状であり、 前記アクチュエータは、前記カソードの前記端面の一方
    と接触するように前記コンタクタを動作させ、それによ
    り、前記カソードを前記選択的に電気エネルギーのアー
    クを持続させるための手段に電気的に接続することを特
    徴とする請求項12記載の装置。
  14. 【請求項14】 前記コータは、更に、前記アークを前
    記蒸発面の周囲で駆動するための手段を有し、前記アー
    クを駆動するための手段は、前記カソードと近接する位
    置に配置され、かつ、前記アークを駆動するための手段
    は、前記カソードを透過する磁界を発生させることを特
    徴とする請求項13記載の装置。
  15. 【請求項15】 前記カソードは、環状であり、一対の
    端面と、前記端面間に延びる蒸発面及びボアと、を有
    し、 前記アクチュエータは、前記カソードと電気的に接触す
    るように前記コンタクタを動作させ、それにより、前記
    カソードを前記選択的に電気エネルギーのアークを持続
    させるための手段に電気的に接続することを特徴とする
    請求項12記載の装置。
  16. 【請求項16】 前記コータは、更に、前記アークを前
    記蒸発面の周囲で駆動するための手段を有し、前記アー
    クを駆動するための手段は、前記カソードの前記ボアの
    内部に配置され、かつ、前記アークを駆動するための手
    段は、前記カソードを透過する磁界を発生させることを
    特徴とする請求項15記載の装置。
JP10245459A 1997-08-30 1998-08-31 気相堆積形成コーティング装置 Pending JPH11131221A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US91913097A 1997-08-30 1997-08-30
US08/919130 1997-08-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11131221A true JPH11131221A (ja) 1999-05-18

Family

ID=25441554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10245459A Pending JPH11131221A (ja) 1997-08-30 1998-08-31 気相堆積形成コーティング装置

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EP (1) EP0899357B1 (ja)
JP (1) JPH11131221A (ja)
KR (1) KR100514970B1 (ja)
DE (1) DE69832016T2 (ja)
SG (1) SG67549A1 (ja)

Families Citing this family (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Also Published As

Publication number Publication date
EP0899357A2 (en) 1999-03-03
DE69832016D1 (de) 2005-12-01
EP0899357A3 (en) 2001-02-28
DE69832016T2 (de) 2006-07-13
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EP0899357B1 (en) 2005-10-26
SG67549A1 (en) 1999-09-21
KR19990024030A (ko) 1999-03-25

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