JPH11121207A - Temperature sensor - Google Patents

Temperature sensor

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JPH11121207A
JPH11121207A JP27861297A JP27861297A JPH11121207A JP H11121207 A JPH11121207 A JP H11121207A JP 27861297 A JP27861297 A JP 27861297A JP 27861297 A JP27861297 A JP 27861297A JP H11121207 A JPH11121207 A JP H11121207A
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JP
Japan
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temperature
platinum
sensitive film
temperature sensor
film
Prior art date
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Application number
JP27861297A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Osada
慎一 長田
Junichi Saito
順一 斉藤
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a temperature sensor which can be used at a high temperatures in a range of 800 to 1,000 deg.C. SOLUTION: A resistor pattern 3 made of a platinum group element and having a thickness of 2.5 to 5 μm and an average crystal grain size of 10 μm or greater is formed on an insulating board 2 by electroless plating. Terminal mounting electrodes 4 and 4 are formed on both ends of the resistor pattern 3. Lead terminals 5 and 5 are connected and fixed to the terminal mounting electrodes 4 and 4 by a method such as welding. Connection parts between the terminal mounting electrodes 4 and 4 and the lead terminals 5 and 5 are coated with fixing materials 6 and 6. Moreover, a protective coating film 7 made of resin or glass is formed on the resistor pattern 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、自動車の触媒、排
気管等の高温下で温度の測定に用いる高温用温度センサ
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high temperature sensor used for measuring the temperature of a catalyst, an exhaust pipe or the like of an automobile at a high temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2に従来の一般的な温度センサ11を
示す。セラミックからなる絶縁基板12上に感温膜から
なる抵抗パターン13が形成され、抵抗パターン13の
両端には端子取付電極14,14が形成されている。端
子取付電極14,14にはリード端子15,15が溶接
等の手段で接続固定されている。端子取付電極14,1
4とリード端子15,15との接続固定部分はフィキシ
ング材16,16でコーティングされ、また、抵抗パタ
ーン13上には樹脂又はガラス等の保護コート膜17が
形成されている。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows a conventional general temperature sensor 11. A resistance pattern 13 made of a temperature-sensitive film is formed on an insulating substrate 12 made of ceramic, and terminal mounting electrodes 14 and 14 are formed at both ends of the resistance pattern 13. Lead terminals 15, 15 are connected and fixed to the terminal mounting electrodes 14, 14 by means such as welding. Terminal mounting electrode 14, 1
The fixed portions of the connection between the lead 4 and the lead terminals 15, 15 are coated with fixing materials 16, 16, and a protective coat film 17 such as resin or glass is formed on the resistance pattern 13.

【0003】抵抗パターン12を構成する感温膜は、通
常白金、白金を含む合金等の貴金属、あるいは、ニッケ
ル、鉄、銅またはそれらの合金等の卑金属が使用されて
いる。このうち、ニッケル、鉄、銅またはそれらの合金
等の卑金属を使用した感温膜は、高温下では感温膜が酸
化するため、抵抗値が変化する等の特性変動が生じると
いう問題を有していた。これらの卑金属からなる感温膜
は、実用に供せる温度は300℃程度であり、これより
高温で用いると上記のように特性変動が生じるため、平
均的な温度が800〜1000℃に達する排気管の温度
を測定する高温用として用いることはできなかった。
The temperature-sensitive film constituting the resistance pattern 12 is usually made of a noble metal such as platinum or an alloy containing platinum, or a base metal such as nickel, iron, copper or an alloy thereof. Among them, a temperature-sensitive film using a base metal such as nickel, iron, copper or an alloy thereof has a problem that the temperature-sensitive film is oxidized at a high temperature, so that a characteristic change such as a change in resistance occurs. I was The temperature-sensitive film made of these base metals has a practical temperature of about 300 ° C., and when used at a higher temperature, the characteristics change as described above, so that the exhaust temperature reaches an average temperature of 800 to 1000 ° C. It could not be used for high temperature measurements of tube temperature.

【0004】これに対して白金は化学的に極めて安定し
ているため、白金を感温膜に用いた測温抵抗体等の温度
センサは高温用途によく用いられている。
[0004] On the other hand, platinum is chemically extremely stable, so that temperature sensors such as a resistance temperature detector using platinum as a temperature-sensitive film are often used for high-temperature applications.

【0005】このような白金を用いた感温膜の形成方法
として、特開昭63−269502号のようなスパッタ
リング法や特開昭57−207835号のような無電解
めっき法等の方法がある。これらの白金感温膜の膜厚
は、特開昭63−269502号のスパッタリング法で
は、1μm程度の厚みに設定されており、特開昭57−
207835号の無電解めっき法では1.5μm程度の
厚みに設定されている。すなわち、0.5〜1.5μm
の膜厚が平均的な厚みとして用いられていた。
As a method for forming such a temperature-sensitive film using platinum, there are methods such as a sputtering method as disclosed in JP-A-63-269502 and an electroless plating method as disclosed in JP-A-57-207835. . The thickness of these platinum thermosensitive films is set to about 1 μm in the sputtering method of JP-A-63-269502.
In the electroless plating method of No. 207835, the thickness is set to about 1.5 μm. That is, 0.5 to 1.5 μm
Was used as an average thickness.

【0006】また、特開平6−96904号では、無電
解メッキ法で膜厚が3μmで結晶粒径が450Å〜50
0Åの白金感温膜を形成した白金温度センサが記載され
ている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-96904 discloses an electroless plating method having a film thickness of 3 μm and a crystal grain size of 450 ° to 50 °.
A platinum temperature sensor having a 0 ° platinum sensitive film is described.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
白金感温膜を有する温度センサであっても、600〜7
00℃が使用可能な最高温度であり、これを超えると抵
抗値が変化する等の特性変動が生じるという問題を有し
ていた。すなわち、従来構造の白金感温膜を有する温度
センサでは、800〜1000℃の高温で使用される自
動車などの汎用温度センサとして用いることができなか
った。
By the way, even in the case of such a temperature sensor having a platinum temperature-sensitive film, 600 to 7
00 ° C. is the maximum usable temperature, and if it exceeds this, there is a problem that characteristic fluctuations such as a change in resistance value occur. That is, a temperature sensor having a platinum temperature-sensitive film having a conventional structure cannot be used as a general-purpose temperature sensor for an automobile or the like used at a high temperature of 800 to 1000 ° C.

【0008】なお、800〜1000℃のような高温で
用いられる温度センサとしては、高純度アルミナ管に白
金線を巻き付けた温度センサが知られているが、抵抗値
が3〜5Ωと低く少なくとも50Ω程度の抵抗値を必要
とする自動車などの汎用温度センサとして用いることが
できなかった。
As a temperature sensor used at a high temperature such as 800 to 1000 ° C., a temperature sensor in which a platinum wire is wound around a high-purity alumina tube is known, but the resistance value is as low as 3 to 5 Ω and at least 50 Ω. It could not be used as a general-purpose temperature sensor for an automobile or the like that requires a certain resistance value.

【0009】このような問題を解決するために特表平4
−503511号では、白金感温膜の上にガラス膜とセ
ラミック膜を積層形成する構成が提案されている。すな
わち、特表平4−503511号では、卑金属の場合と
同様に高温使用時に白金感温膜に酸素が進入して白金感
温膜が酸化することが、抵抗値が変化する等の特性変動
の原因であるとして、白金感温膜の上にガラス膜とセラ
ミック膜を積層形成することにより、この特性変動を防
止を図っている。
In order to solve such a problem, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
Japanese Patent No. 503511 proposes a configuration in which a glass film and a ceramic film are laminated on a platinum temperature-sensitive film. That is, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-503511, as in the case of the base metal, oxygen enters the platinum temperature-sensitive film and oxidizes the platinum temperature-sensitive film when used at a high temperature. As a cause, a characteristic change is prevented by laminating a glass film and a ceramic film on the platinum temperature-sensitive film.

【0010】しかしながら、白金は酸化に非常に強い物
質であるため、高温下でも酸化による感温膜の特性変動
はほとんどないものである。実際に感温膜の特性変動の
原因を追求してみると、感温膜の特性変動は、高温下で
白金の結晶粒界に硫黄やカーボン等の微量の不純物が入
り込むことことによって生じていることが判明した。
However, since platinum is a substance that is very resistant to oxidation, there is almost no change in the characteristics of the thermosensitive film due to oxidation even at high temperatures. Actually pursuing the cause of the characteristic fluctuation of the temperature-sensitive film, the characteristic fluctuation of the temperature-sensitive film is caused by a trace amount of impurities such as sulfur and carbon entering the crystal grain boundary of platinum at a high temperature. It has been found.

【0011】そこで、本発明は、上記の問題点を鑑みて
なされたもので、800℃〜1000℃の高温下で使用
が可能な温度センサを提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a temperature sensor that can be used at a high temperature of 800 ° C. to 1000 ° C.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】そこで、請求項1に係る
発明では、絶縁基板上に白金族元素を主成分とする感温
膜を形成した温度センサにおいて、前記感温膜を薄膜形
成技術により形成するとともに、前記感温膜の膜厚を
2.5〜5.0μmに形成し、前記感温膜の面広がり方
向の平均粒径を10μm以上となるように形成してい
る。
According to the present invention, there is provided a temperature sensor in which a temperature-sensitive film containing a platinum group element as a main component is formed on an insulating substrate. At the same time, the temperature-sensitive film is formed to have a thickness of 2.5 to 5.0 μm, and the average particle size in the surface spreading direction of the temperature-sensitive film is 10 μm or more.

【0013】これにより、感温膜における粒界存在密度
が低下する。
As a result, the density of grain boundaries in the temperature-sensitive film decreases.

【0014】また、請求項2に係る発明では、絶縁基板
をアルミナ基板にし、感温膜を純度99.9%以上の白
金感温膜としている。
Further, in the invention according to claim 2, the insulating substrate is an alumina substrate, and the temperature-sensitive film is a platinum temperature-sensitive film having a purity of 99.9% or more.

【0015】これにより、白金の純度が99.9%より
下の白金感温膜に比べて不純物が混入する可能性が低下
する。
[0015] Thus, the possibility of impurities being mixed in is lower than that of a platinum thermosensitive film having a purity of platinum lower than 99.9%.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施の形態
を説明する。図1に示すように、温度センサ1は、絶縁
基板2上に感温膜から成る抵抗パターン3を形成して構
成されている。絶縁基板2はアルミナ基板であり、抵抗
パターン3は純度99.9%の白金膜である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, the temperature sensor 1 is formed by forming a resistance pattern 3 made of a temperature-sensitive film on an insulating substrate 2. The insulating substrate 2 is an alumina substrate, and the resistance pattern 3 is a 99.9% pure platinum film.

【0017】抵抗パターン3の両端上には端子取付電極
4,4が形成されている。端子取付電極4,4にはリー
ド端子5,5が溶接等の手法で接続固定されている。端
子取付電極4,4とリード端子5,5との接続部分はフ
ィキシング材6,6でコーティングされ、さらに、抵抗
パターン3上には樹脂又はガラス等の保護コート膜7が
形成されている。
On both ends of the resistance pattern 3, terminal mounting electrodes 4, 4 are formed. Lead terminals 5, 5 are connected and fixed to the terminal mounting electrodes 4, 4 by a method such as welding. The connecting portions between the terminal mounting electrodes 4 and 4 and the lead terminals 5 and 5 are coated with fixing materials 6 and 6, and a protective coating film 7 such as resin or glass is formed on the resistance pattern 3.

【0018】抵抗パターン3は、3μmの厚みに形成さ
れ、その膜広がり方向の平均結晶粒径が10μmに設定
されている。
The resistance pattern 3 is formed to have a thickness of 3 μm, and the average crystal grain size in the film spreading direction is set to 10 μm.

【0019】このように構成することにより、抵抗パタ
ーンの平均結晶粒径が従来の温度センサの平均結晶粒径
に比べて大きい10μmにしているため、抵抗パターン
3内での粒界存在密度が従来のものに比べて減少するた
め、粒界に不純物が混入して抵抗値が変化するという問
題を低減することができる。
With this configuration, the average crystal grain size of the resistor pattern is set to 10 μm, which is larger than the average crystal grain size of the conventional temperature sensor. Therefore, the problem that impurities are mixed in the grain boundaries to change the resistance value can be reduced.

【0020】次に温度センサ1の製造方法について説明
する。まず、96%アルミナ母基板を用意し、このアル
ミナ母基板を超音波洗浄、脱脂後、フッ酸による表面粗
化を行う。その後、表面粗化した抵抗パターン形成面を
塩化すず、塩化パラジウム溶液により活性化、感受性化
処理を行ってメッキを行いやすくする。さらに、アルミ
ナ母基板を十分に水洗して付着物を除去し、白金無電解
メッキ浴へ侵せきしてアルミナ母基板の表面に白金感温
膜を形成する。感温膜形成後、1000℃で2時間焼成
し、特性の安定化と白金の結晶成長を行う。この時、無
電解メッキによって形成された感温膜の膜厚と、形成後
の焼成温度と焼成時間によって平均結晶粒径を調整する
ことができる。例えば、膜厚を2.5μmにし、135
0℃で2時間焼成した場合、平均結晶粒径は20μmと
することができる。また、膜厚を5μmにし、1350
℃で2時間焼成した場合、平均結晶粒径は25μmを超
える大きさとすることができる。このような平均結晶粒
径にすることで、さらに粒界存在密度が減少させること
ができるので、粒界に不純物が混入して抵抗値が変化す
るという問題をさらに低減することができる。
Next, a method of manufacturing the temperature sensor 1 will be described. First, a 96% alumina mother substrate is prepared, and the alumina mother substrate is subjected to ultrasonic cleaning and degreasing, and then subjected to surface roughening with hydrofluoric acid. After that, the surface on which the resistance pattern has been roughened is not chlorinated, but is activated and sensitized with a palladium chloride solution to facilitate plating. Further, the alumina mother substrate is sufficiently washed with water to remove the deposits, and is immersed in a platinum electroless plating bath to form a platinum thermosensitive film on the surface of the alumina mother substrate. After the formation of the temperature-sensitive film, the film is baked at 1000 ° C. for 2 hours to stabilize characteristics and grow platinum crystals. At this time, the average crystal grain size can be adjusted by the thickness of the temperature-sensitive film formed by the electroless plating, the firing temperature after the formation, and the firing time. For example, if the film thickness is set to 2.5 μm and 135
When calcined at 0 ° C. for 2 hours, the average crystal grain size can be 20 μm. Further, the film thickness is set to 5 μm and 1350
When calcined at 2 ° C. for 2 hours, the average crystal grain size can be greater than 25 μm. With such an average crystal grain size, the density of grain boundaries can be further reduced, so that the problem that impurities are mixed into the grain boundaries and the resistance value changes can be further reduced.

【0021】次に感温膜をレーザーカットあるいはドラ
イエッチングすることによって一部除去し複数の抵抗パ
ターンを形成する。さらに、抵抗パターン形成時に生じ
た機械的歪みを除去するため、1300℃で2時間熱処
理を行う。
Next, the temperature-sensitive film is partially removed by laser cutting or dry etching to form a plurality of resistance patterns. Further, heat treatment is performed at 1300 ° C. for 2 hours in order to remove mechanical strain generated at the time of forming the resistance pattern.

【0022】その後、抵抗パターンの機械的、電気的保
護のために抵抗パターンの両端及び調整用の部分を除い
て耐熱ガラスやセラミック等から成る保護コート膜を各
抵抗パターン毎に形成する。この時、コーティング方法
としてはペースト印刷法やゾルゲルコート法等を用い
る。
Thereafter, a protective coating film made of heat-resistant glass, ceramic, or the like is formed for each resistance pattern except for both ends of the resistance pattern and a portion for adjustment, for mechanical and electrical protection of the resistance pattern. At this time, a paste printing method, a sol-gel coating method, or the like is used as a coating method.

【0023】さらに、保護コート膜から露出した抵抗パ
ターンの両端上に白金から成る端子取付電極を厚膜スク
リーン印刷により抵抗パターン毎に形成する。この時、
端子取付電極には粒径0.1〜1μmのアルミナ粒子を
10w%程度分散させると、端子取付電極の抵抗パター
ンに対する高温密着性の向上を図ることができる。
Further, on both ends of the resistance pattern exposed from the protective coat film, terminal mounting electrodes made of platinum are formed for each resistance pattern by thick film screen printing. At this time,
When alumina particles having a particle size of 0.1 to 1 μm are dispersed in the terminal mounting electrode by about 10 w%, the high-temperature adhesion of the terminal mounting electrode to the resistance pattern can be improved.

【0024】そして、アルミナ母基板上に形成された抵
抗パターン毎に抵抗値を規格値にあわせるために、保護
コート膜から露出した調整部分をレーザーによりトリミ
ングして調整する。その後、場合によっては、調整のレ
ーザートリミングにより機械歪みがわずかながら生じる
ため、抵抗パターン形成時と同様に熱処理を行うとさら
に特性の向上を図ることができる。
Then, in order to adjust the resistance value to the standard value for each resistance pattern formed on the alumina mother substrate, the adjustment portion exposed from the protective coat film is adjusted by trimming with a laser. Thereafter, in some cases, slight mechanical distortion is caused by the adjustment laser trimming, so that a heat treatment similar to that for forming the resistance pattern can further improve the characteristics.

【0025】次に、アルミナ母基板を抵抗パターン毎に
短冊状に切断し、端子取付電極にリード線を溶接する。
溶接後、端子取付電極とリード線との接合部にフィキシ
ング材を塗布し、焼成して付着させることによって、接
合部の補強及び電気的絶縁を行っている。
Next, the alumina mother substrate is cut into strips for each resistance pattern, and a lead wire is welded to the terminal mounting electrode.
After welding, a fixing material is applied to the joint between the terminal mounting electrode and the lead wire, and is baked and adhered, thereby reinforcing the joint and providing electrical insulation.

【0026】以上の工程を経て、製造されている温度セ
ンサは、800〜1000℃の高温下においても、特性
の変動が少なく、その上、抵抗値が50〜200Ωと大
きいので、自動車等の汎用温度センサとして好適であ
る。
The temperature sensor manufactured through the above-described steps has a small characteristic variation even at a high temperature of 800 to 1000 ° C., and has a large resistance value of 50 to 200 Ω. It is suitable as a temperature sensor.

【0027】なお、本実施形態では、抵抗パターンの材
料として白金を用いたがこれに限るものではなく、白金
族元素(ルテニウム・ロジウム・パラジウム・オスミウ
ム・イリジウム・白金)のうち少なくとも1種類の元素
を主成分として用いる金属・合金であれば良いが、コス
トや薄膜形成の容易さ、特性の安定性の点から、白金を
用いるのが好ましい。
In the present embodiment, platinum is used as the material of the resistance pattern. However, the present invention is not limited to this. At least one element among platinum group elements (ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum) Any metal or alloy that uses as a main component may be used, but platinum is preferably used in view of cost, ease of forming a thin film, and stability of characteristics.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように、本発明の温度センサで
は、感温膜の膜厚を2.5〜5.0μmに形成し、感温
膜の面広がり方向の平均粒径を10μm以上に形成して
いるので、粒界存在密度が減少し、高温下で白金の結晶
粒界に硫黄やカーボン等の微量の不純物が入り込むこと
を低減することができる。その結果、不純物の混入によ
る抵抗値変動を抑えることができ、800〜1000℃
の高温下で用いることのできる温度センサを得ることが
できる。
As described above, in the temperature sensor of the present invention, the thickness of the temperature-sensitive film is formed to be 2.5 to 5.0 μm, and the average particle diameter in the surface spreading direction of the temperature-sensitive film is set to 10 μm or more. As a result, the density of the grain boundaries is reduced, and it is possible to reduce the entry of trace impurities such as sulfur and carbon into the crystal grain boundaries of platinum at high temperatures. As a result, it is possible to suppress the fluctuation of the resistance value due to the mixing of impurities,
A temperature sensor that can be used at a high temperature can be obtained.

【0029】請求項2記載の温度センサでは、感温膜に
99.9%の白金を用いているので、不純物が混入する
ことをさらに防ぐことができる。その上、白金は他の白
金族元素に比べてコスト的に安価であるため、他の白金
族元素を用いた場合と比較して温度センサのコストを低
減することができる。また、白金は他の白金族元素に比
べて薄膜形成が容易であるため、他の白金族元素を用い
た場合と比較して抵抗パターンの形成が容易で製造コス
トも低減できる。
In the temperature sensor according to the second aspect, since 99.9% of platinum is used for the temperature-sensitive film, contamination of impurities can be further prevented. In addition, since platinum is inexpensive compared with other platinum group elements, the cost of the temperature sensor can be reduced as compared with the case where other platinum group elements are used. In addition, since platinum is easier to form a thin film than other platinum group elements, formation of a resistance pattern is easier and manufacturing cost can be reduced as compared with the case where another platinum group element is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態を説明するための温度センサの
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a temperature sensor for explaining a first embodiment.

【図2】従来の温度センサの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a conventional temperature sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 温度センサ 2 絶縁基板 3 抵抗パターン 4 端子取付電極 5 リード端子 6 フィキシング材 7 保護コート膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Temperature sensor 2 Insulating substrate 3 Resistance pattern 4 Terminal mounting electrode 5 Lead terminal 6 Fixing material 7 Protective coating film

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板上に白金族元素を主成分とする
感温膜を形成した温度センサにおいて、前記感温膜が薄
膜形成技術により形成されるとともに、前記感温膜の膜
厚が2.5〜5.0μmに形成され、前記感温膜の面広
がり方向の平均粒径が10μm以上に形成されているこ
とを特徴とする温度センサ。
1. A temperature sensor in which a temperature-sensitive film containing a platinum group element as a main component is formed on an insulating substrate, wherein the temperature-sensitive film is formed by a thin film forming technique and the temperature-sensitive film has a thickness of 2 mm. A temperature sensor having a thickness of 0.5 to 5.0 μm and an average particle size in the surface spreading direction of the temperature-sensitive film of 10 μm or more.
【請求項2】 前記絶縁基板がアルミナ基板であり、前
記感温膜が純度99.9%以上の白金感温膜であること
を特徴とする請求項1記載の温度センサ。
2. The temperature sensor according to claim 1, wherein the insulating substrate is an alumina substrate, and the temperature-sensitive film is a platinum temperature-sensitive film having a purity of 99.9% or more.
JP27861297A 1997-10-13 1997-10-13 Temperature sensor Pending JPH11121207A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004511763A (en) * 2000-10-07 2004-04-15 ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング Device for detecting longitudinal expansion of mechanical parts due to heat
EP2894447A4 (en) * 2012-09-06 2016-06-01 Mitsubishi Materials Corp Temperature sensor
DE102018110889A1 (en) 2017-05-16 2018-11-22 Koa Corporation Temperature sensor element
CN109655171A (en) * 2018-12-18 2019-04-19 陕西电器研究所 Liquid line temperature sensor and preparation method thereof based on ion beam deposition

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004511763A (en) * 2000-10-07 2004-04-15 ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング Device for detecting longitudinal expansion of mechanical parts due to heat
EP2894447A4 (en) * 2012-09-06 2016-06-01 Mitsubishi Materials Corp Temperature sensor
US9851262B2 (en) 2012-09-06 2017-12-26 Mitsubishi Materials Corporation Temperature sensor
DE102018110889A1 (en) 2017-05-16 2018-11-22 Koa Corporation Temperature sensor element
US11131586B2 (en) 2017-05-16 2021-09-28 Koa Corporation Temperature sensor element
CN109655171A (en) * 2018-12-18 2019-04-19 陕西电器研究所 Liquid line temperature sensor and preparation method thereof based on ion beam deposition

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