JPH11120512A - Thin-film magnetic head - Google Patents

Thin-film magnetic head

Info

Publication number
JPH11120512A
JPH11120512A JP27863097A JP27863097A JPH11120512A JP H11120512 A JPH11120512 A JP H11120512A JP 27863097 A JP27863097 A JP 27863097A JP 27863097 A JP27863097 A JP 27863097A JP H11120512 A JPH11120512 A JP H11120512A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
core layer
conductive layer
nonmagnetic conductive
thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP27863097A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3428877B2 (en
Inventor
Nobuhiro Hayashi
信宏 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP27863097A priority Critical patent/JP3428877B2/en
Publication of JPH11120512A publication Critical patent/JPH11120512A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3428877B2 publication Critical patent/JP3428877B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film magnetic head formed in such a manner that write fringing may be sufficiently suppressed by a skin effect and further the lowering in leakage magnetic field strength may be held to the utmost. SOLUTION: A nonmagnetic conductive layer consisting of, for example, Cu, etc., is deposited from the front surface of a lower core layer 1 to the front ends of a gap layer 2 and an upper core layer. Then, the leaking magnetic fields protruding from a track width Tw among the leakage magnetic fields generated between the lower core layer 1 and the upper core layer are suppressed by the skin effect and the suppression of the occurrence of the write fringing is made possible and the lowering in the leakage magnetic field strength is held to the utmost. The requirement to make the write fringing quantity smaller is to use a nonmagnetic conductive material of lower specific resistance and to make a recording frequency higher.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば浮上式磁気
ヘッドなどに使用されるインダクティブ型の薄膜磁気ヘ
ッドに係り、特にライトフリンジングの発生を抑制でき
るようにした薄膜磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inductive thin film magnetic head used for a floating magnetic head, for example, and more particularly to a thin film magnetic head capable of suppressing the occurrence of write fringing.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6(a)は、従来の薄膜ヘッドを記録
媒体の対向部側から示した部分正面図である。図6
(a)に示す薄膜磁気ヘッドは、浮上式ヘッドを構成す
るスライダのトレーリング側端部に形成されたものであ
り、読み出しヘッドと記録用のインダクティブヘッドと
が積層されたものとなっている。符号1は、NiFe系
合金(パーマロイ)またはセンダストなどの高透磁率の
磁性材料で形成された下部コア層である。磁気抵抗効果
素子を利用した読出しヘッドにインダクティブヘッドが
連続して積層された複合型薄膜磁気ヘッドでは、前記下
部コア層1が、インダクティブヘッドのコア層として機
能するだけでなく、読出しヘッドの上部シールド層とし
ても機能している。
2. Description of the Related Art FIG. 6A is a partial front view showing a conventional thin film head viewed from a side facing a recording medium. FIG.
The thin-film magnetic head shown in (a) is formed at the trailing side end of a slider constituting a floating head, and has a read head and a recording inductive head laminated. Reference numeral 1 denotes a lower core layer formed of a magnetic material having a high magnetic permeability such as a NiFe alloy (Permalloy) or Sendust. In a composite thin film magnetic head in which an inductive head is continuously stacked on a read head using a magnetoresistive element, the lower core layer 1 functions not only as a core layer of the inductive head but also as an upper shield of the read head. It also functions as a layer.

【0003】下部コア層1の上には、Al23(アルミ
ナ)などの非磁性材料で形成されたギャップ層10が設
けられている。ギャップ層10の上には、例えばレジス
ト材料や他の有機材料で形成された絶縁層(図示しな
い)が形成されている。前記絶縁層の上には、Cuなど
の電気抵抗の低い導電材料によりコイル層(図示しな
い)が螺旋状に形成されている。
On the lower core layer 1, a gap layer 10 made of a nonmagnetic material such as Al 2 O 3 (alumina) is provided. On the gap layer 10, an insulating layer (not shown) made of, for example, a resist material or another organic material is formed. On the insulating layer, a coil layer (not shown) is spirally formed of a conductive material having a low electric resistance such as Cu.

【0004】前記コイルの上には、有機樹脂材料などの
絶縁層(図示しない)が形成され、前記絶縁層の上に、
磁性材料の上部コア層6が形成されている。前記上部コ
ア層6の先端部6aは、図6(a)に示すように、下部
コア層1の上にギャップ層10を介して接合され、ギャ
ップ長Glの記録用磁気ギャップが形成されている。な
お前記先端部6aの幅寸法は、トラック幅Twとほぼ同
じ幅寸法にて形成されている。
[0004] An insulating layer (not shown) of an organic resin material or the like is formed on the coil, and on the insulating layer,
An upper core layer 6 of a magnetic material is formed. As shown in FIG. 6 (a), the tip 6a of the upper core layer 6 is joined to the lower core layer 1 via a gap layer 10 to form a recording magnetic gap having a gap length Gl. . The width of the tip 6a is substantially the same as the track width Tw.

【0005】この記録用のインダクティブヘッドでは、
コイル層に記録電流が与えられると、下部コア層1およ
び上部コア層6に記録磁界が誘導され、下部コア層1と
上部コア層6の先端部6aとの磁気ギャップ部分からの
漏れ磁界により、ハードディスクなどの記録媒体に記録
信号が記録される。インダクティブヘッドの下に形成さ
れている読出しヘッドは、図に示すように、下部シール
ド層11の上に下部ギャップ層12aを介して磁気抵抗
効果素子層13が設けられ、さらにこの磁気抵抗効果素
子層13の上に上部ギャップ層12bを介して前記下部
コア層1が形成されている。前述したように、読出しヘ
ッドでは、前記下部コア層1は上部シールド層として機
能している。
[0005] In this inductive head for recording,
When a recording current is applied to the coil layer, a recording magnetic field is induced in the lower core layer 1 and the upper core layer 6, and a leakage magnetic field from a magnetic gap portion between the lower core layer 1 and the tip 6a of the upper core layer 6 causes A recording signal is recorded on a recording medium such as a hard disk. In the read head formed below the inductive head, a magnetoresistive element layer 13 is provided on a lower shield layer 11 via a lower gap layer 12a, as shown in FIG. The lower core layer 1 is formed on an upper gap layer 13 via an upper gap layer 12b. As described above, in the read head, the lower core layer 1 functions as an upper shield layer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】最近では、高密度記録
化に伴いトラック幅Twが小さくなる傾向にあるが、ト
ラック幅Twを小さくすると、下部コア層1と上部コア
層6の先端部6aとの間で発生するトラック幅Tw内で
の漏れ磁界強度が低下するといった問題が発生してしま
う。図7は、トラック幅Twと漏れ磁界強度との関係を
示すグラフであるが、図に示すように、トラック幅Tw
が約3μm以下になると、漏れ磁界強度が急激に低下す
るのがわかる。このようにトラック幅Twの狭小化に伴
い、前記トラック幅Tw内における漏れ磁界強度(記録
磁界強度)が低下してしまうのは、下部コア層1と上部
コア層6間の漏れ磁界が前記トラック幅Tw内のみに収
まらず、トラック幅Tw外に漏れやすくなるからであ
る。
Recently, the track width Tw tends to be reduced with the increase in the recording density. However, when the track width Tw is reduced, the tip portions 6a of the lower core layer 1 and the upper core layer 6 become smaller. In this case, there arises a problem that the intensity of the leakage magnetic field within the track width Tw occurring between the two decreases. FIG. 7 is a graph showing the relationship between the track width Tw and the leakage magnetic field strength. As shown in FIG.
It can be seen that the leakage magnetic field intensity sharply decreases when the value is about 3 μm or less. The reason why the leakage magnetic field intensity (recording magnetic field intensity) within the track width Tw decreases as the track width Tw becomes narrower is that the leakage magnetic field between the lower core layer 1 and the upper core layer 6 is reduced by the track width. This is because it is easy to leak out of the track width Tw, as well as within the width Tw.

【0007】図6(b)は、図6(a)に示したインダ
クティブヘッドを用いて記録媒体に磁気データを記録し
たときの記録パターン14を示している。トラック幅T
wが小さくなると、前記記録パターン14の両側部に、
本来のトラック幅Twからはみ出るライトフリンジング
(書込み滲み)が発生しやすくなり、その結果、前記の
ようにトラック幅Tw内での漏れ磁界強度が低下し、且
つ記録媒体に書込まれた記録パターン14の実質的な幅
Tfが、前記トラック幅Twよりも広くなる。ライトフ
リンジングが発生すると、書込まれた記録媒体でのトラ
ック位置検出を正確に行うことができず、トラッキング
サーボエラーを引き起こしやすくなる。
FIG. 6 (b) shows a recording pattern 14 when magnetic data is recorded on a recording medium using the inductive head shown in FIG. 6 (a). Track width T
When w becomes small, on both sides of the recording pattern 14,
Write fringing (writing bleeding) protruding from the original track width Tw is likely to occur. As a result, as described above, the leakage magnetic field intensity within the track width Tw is reduced, and the recording pattern written on the recording medium is reduced. 14 has a substantial width Tf wider than the track width Tw. When the write fringing occurs, the track position cannot be accurately detected on the written recording medium, and a tracking servo error is likely to occur.

【0008】本発明は上記従来の課題を解決するための
ものであり、表皮効果によりライトフリンジングを十分
に抑制できるようにし、しかも漏れ磁界強度の低下を極
力抑えることができるようにした薄膜磁気ヘッドを提供
することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and a thin-film magnetic recording medium capable of sufficiently suppressing write fringing by a skin effect and suppressing a decrease in leakage magnetic field intensity as much as possible. It is intended to provide a head.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、磁性材料の下
部コア層と、所定の幅Twを有する上部コア層との間
に、非磁性材料のギャップ層が形成され、さらに前記下
部コア層及び上部コア層に記録磁界を誘導する磁気発生
手段が設けられて成る薄膜磁気ヘッドにおいて、前記ギ
ャップ層のトラック幅方向の両側を覆い、且つ下部コア
層から上部コア層にかけて形成された非磁性導電層が設
けられていることを特徴とするものである。
According to the present invention, a gap layer made of a non-magnetic material is formed between a lower core layer made of a magnetic material and an upper core layer having a predetermined width Tw. A thin-film magnetic head provided with magnetic generating means for inducing a recording magnetic field in the upper core layer, wherein the non-magnetic conductive layer covers both sides of the gap layer in the track width direction and is formed from the lower core layer to the upper core layer. A layer is provided.

【0010】上記において、前記ギャップ層が、上部コ
ア層と同じ幅寸法Twで形成され、前記非磁性導電層
が、下部コア層の上面から前記ギャップ層および上部コ
ア層の両側面にかけて形成されているものであってもよ
い。
In the above, the gap layer is formed with the same width Tw as the upper core layer, and the nonmagnetic conductive layer is formed from the upper surface of the lower core layer to both side surfaces of the gap layer and the upper core layer. May be available.

【0011】また前記ギャップ層が上部コア層と同じ幅
寸法Twで形成され、さらに前記下部コア層には、前記
ギャップ層と接する部分に、前記幅寸法Twとほぼ同じ
幅寸法T2を有する隆起部が設けられており、前記非磁
性導電層が、前記下部コア層の上面から前記隆起部、前
記ギャップ層、および上部コア層の両側面にかけて形成
されているものであってもよい。
The gap layer is formed to have the same width Tw as the upper core layer, and the lower core layer has a raised portion having a width T2 substantially equal to the width Tw at a portion in contact with the gap layer. And the nonmagnetic conductive layer may be formed from an upper surface of the lower core layer to both side surfaces of the ridge, the gap layer, and the upper core layer.

【0012】また本発明は、磁性材料の下部コア層と、
所定の幅Twを有する上部コア層との間に、非磁性材料
のギャップ層が形成され、さらに前記下部コア層及び上
部コア層に記録磁界を誘導する磁気発生手段が設けられ
て成る薄膜磁気ヘッドにおいて、前記ギャップ層が、ギ
ャップ深さGdとほぼ同じ長さで形成され、前記非磁性
導電層が、下部コア層からギャップ層および上部コア層
の裏面にかけて形成されていることを特徴とするもので
ある。
The present invention also provides a lower core layer of a magnetic material,
A thin-film magnetic head comprising a gap layer made of a non-magnetic material formed between an upper core layer having a predetermined width Tw, and a magnetic generating means for inducing a recording magnetic field in the lower core layer and the upper core layer. Wherein the gap layer is formed with a length substantially equal to the gap depth Gd, and the nonmagnetic conductive layer is formed from the lower core layer to the back surface of the gap layer and the upper core layer. It is.

【0013】このように本発明では、前記非磁性導電層
が、下部コア層から上部コア層の両側面にかけて形成さ
れているだけでなく、下部コア層から上部コア層の裏面
にかけて形成されていてもよい。
As described above, in the present invention, the nonmagnetic conductive layer is formed not only from the lower core layer to both side surfaces of the upper core layer, but also from the lower core layer to the back surface of the upper core layer. Is also good.

【0014】本発明では、前記非磁性導電層の膜厚は、
0.3〜2.0μmの範囲内であり、しかも少なくとも
薄膜磁気ヘッド駆動時の記録周波数における表皮厚さS
(Sは数1の通り)以上で形成されていることが好まし
い。なお、μは透磁率、fは記録周波数、ρは比抵抗で
ある。
In the present invention, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is:
0.3 to 2.0 μm, and at least the skin thickness S at the recording frequency when the thin film magnetic head is driven.
(S is as shown in Equation 1). Here, μ is the magnetic permeability, f is the recording frequency, and ρ is the specific resistance.

【0015】また本発明では、前記非磁性導電層が、A
u,Ag,Cu,Ptのいずれか1種または2種以上の
元素により形成されていることが好ましい。
Further, in the present invention, the nonmagnetic conductive layer is preferably made of A
It is preferable to be formed of one or more of u, Ag, Cu, and Pt.

【0016】本発明では、前記非磁性導電層が、Auま
たはCuで形成され、記録周波数が50MHz以上であ
る場合、前記非磁性導電層の膜厚は、約0.9〜2.0
μmの範囲内であることが好ましい。
In the present invention, when the nonmagnetic conductive layer is formed of Au or Cu and the recording frequency is 50 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is about 0.9 to 2.0.
It is preferably within the range of μm.

【0017】また、前記非磁性導電層が、AuまたはC
uで形成され、記録周波数が100MHz以上である場
合、前記非磁性導電層の膜厚は約0.6〜2.0μmの
範囲内であることが好ましい。
Further, the nonmagnetic conductive layer is made of Au or C
When the recording frequency is 100 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is preferably in the range of about 0.6 to 2.0 μm.

【0018】さらに、前記非磁性導電層が、Auまたは
Cuで形成され、記録周波数が500MHz以上である
場合、前記非磁性導電層の膜厚は約0.3〜2.0μm
の範囲内であることが好ましい。
Further, when the nonmagnetic conductive layer is formed of Au or Cu and the recording frequency is 500 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is about 0.3 to 2.0 μm.
Is preferably within the range.

【0019】また、前記非磁性導電層がAgで形成さ
れ、記録周波数が、50MHz以上である場合、前記非
磁性導電層の膜厚は、約1.0〜2.0μmの範囲内で
あることが好ましい。
When the nonmagnetic conductive layer is made of Ag and the recording frequency is 50 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in the range of about 1.0 to 2.0 μm. Is preferred.

【0020】また、前記非磁性導電層がAgで形成さ
れ、記録周波数が、100MHz以上である場合、前記
非磁性導電層の膜厚は、0.7〜2.0μmの範囲内で
あることが好ましい。
When the nonmagnetic conductive layer is formed of Ag and the recording frequency is 100 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer may be in the range of 0.7 to 2.0 μm. preferable.

【0021】さらに、前記非磁性導電層が、Agで形成
され、記録周波数が500MHz以上である場合、前記
非磁性導電層の膜厚は、約0.3〜2.0μmの範囲内
であることが好ましい。
Further, when the non-magnetic conductive layer is formed of Ag and the recording frequency is 500 MHz or more, the thickness of the non-magnetic conductive layer is in the range of about 0.3 to 2.0 μm. Is preferred.

【0022】また前記非磁性導電層が、Ptで形成さ
れ、記録周波数が100MHz以上である場合、前記非
磁性導電層の膜厚は、約1.8〜2.0μmの範囲内で
あることが好ましい。
When the nonmagnetic conductive layer is formed of Pt and the recording frequency is 100 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer may be in the range of about 1.8 to 2.0 μm. preferable.

【0023】本発明では、下部コア層の上面から上部コ
ア層の両側面にかけて比抵抗の低い非磁性導電層を成膜
し、表皮効果により、トラック幅Twから滲み出る漏れ
磁界を抑え込み、ライトフリンジングを抑制すると同時
に漏れ磁界強度の低下を極力抑えるものである。
In the present invention, a nonmagnetic conductive layer having a low specific resistance is formed from the upper surface of the lower core layer to both side surfaces of the upper core layer, and the leakage magnetic field oozing out of the track width Tw is suppressed by the skin effect, thereby reducing the light fringe. In addition, the reduction of the leakage magnetic field strength is suppressed as much as possible.

【0024】ここで表皮効果とは、高周波電流や電磁波
が導体の表面層に局限されて内部に入らない現象をい
う。
Here, the skin effect refers to a phenomenon in which a high-frequency current or an electromagnetic wave is limited to the surface layer of the conductor and does not enter the inside.

【0025】つまり本発明でいうならば、例えば図1に
示す下部コア層1と上部コア層6との間で発生する漏れ
磁界のうち、トラック幅Tw内に収まらない漏れ磁界
が、表皮効果により非磁性導電層7の表面層しか伝わら
ず、従って従来に比べて十分にライトフリンジングを抑
制することができ、しかも漏れ磁界強度も従来に比べて
低下しない。
That is, in the present invention, for example, among the leakage magnetic fields generated between the lower core layer 1 and the upper core layer 6 shown in FIG. 1, the leakage magnetic field that does not fall within the track width Tw is caused by the skin effect. Only the surface layer of the non-magnetic conductive layer 7 is transmitted, so that write fringing can be suppressed more sufficiently than in the conventional case, and the leakage magnetic field intensity does not decrease as compared with the conventional case.

【0026】なお前記非磁性導電層7の厚さ寸法T1
は、表皮厚さ(skin depth)と同じかあるいはそれ以上
の寸法で決められている。
The thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7
Is determined to be equal to or greater than the skin depth.

【0027】ここで表皮厚さとは、磁界の強さが表面の
1/eの強さになる厚さをいう。前記表皮厚さSは、数
1の関係式で求めることができるが、表皮厚さはできる
限り薄い方が、ライトフリンジング量をより小さくする
ことができる点で好ましい。なお前述した式からわかる
ように、表皮厚さをできる限り薄くするには、比抵抗ρ
の小さい材料を選択することが必要であり、また使用す
る磁界の周波数fが高いほど効果があることがわかる。
Here, the skin thickness means a thickness at which the strength of the magnetic field becomes 1 / e of the surface. The skin thickness S can be obtained by the relational expression of Expression 1, but it is preferable that the skin thickness is as small as possible in that the light fringing amount can be further reduced. As can be seen from the above equation, in order to make the skin thickness as thin as possible, the specific resistance ρ
It is necessary to select a material having a small magnetic field, and the effect becomes higher as the frequency f of the magnetic field to be used is higher.

【0028】つまり本発明によれば、記録周波数がより
高周波数帯域になるほど、より表皮効果を発揮すること
ができ、ライトフリンジング量を小さく抑えることがで
きる。
That is, according to the present invention, as the recording frequency becomes higher, the skin effect can be more exerted, and the write fringing amount can be reduced.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1実施形態の
薄膜磁気ヘッドの構造を示す部分正面図、図2は、図1
に示す薄膜磁気ヘッドの縦断面図、図3は本発明の第2
実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造を示す部分正面図であ
る。図1、図3に示す薄膜磁気ヘッドは、書込み用のい
わゆるインダクティブヘッドであり、このインダクティ
ブヘッドの下には、図6に示す磁気抵抗効果素子層13
と下部シールド層11とを有する読出しヘッドが設けら
れている。
FIG. 1 is a partial front view showing the structure of a thin film magnetic head according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the thin-film magnetic head shown in FIG.
FIG. 2 is a partial front view showing the structure of the thin-film magnetic head of the embodiment. The thin-film magnetic head shown in FIGS. 1 and 3 is a so-called inductive head for writing. Under the inductive head, the magnetoresistive element layer 13 shown in FIG.
And a read head having a lower shield layer 11.

【0030】図1に示す符号1は、NiFe系合金(パ
ーマロイ)などの高透磁率の軟磁性材料で形成された下
部コア層1である。この下部コア層1は、前述した読出
しヘッドの上部シールド層としても機能している。前記
下部コア層1の上には、絶縁材料で形成されたギャップ
層2が形成されている。このギャップ層2の幅寸法は、
後述する上部コア層6の幅寸法(=トラック幅Tw)と
ほぼ同じ幅寸法にて形成されている。
Reference numeral 1 shown in FIG. 1 denotes a lower core layer 1 formed of a soft magnetic material having a high magnetic permeability such as a NiFe alloy (permalloy). The lower core layer 1 also functions as an upper shield layer of the above-described read head. On the lower core layer 1, a gap layer 2 made of an insulating material is formed. The width dimension of the gap layer 2 is
The upper core layer 6 has a width substantially equal to a width (track width Tw) of an upper core layer 6 described later.

【0031】また図2に示すように、前記ギャップ層2
の長さ寸法は、磁気ギャップ深さGdとほぼ同じ長さ寸
法になっている。さらに図2に示すように前記下部コア
層1上には、有機樹脂材料例えばレジスト材料の絶縁層
3が形成されており、この絶縁層の上に、Cuなどの電
気抵抗の小さい導電性材料により螺旋状のコイル層4が
形成されている。さらに前記コイル層4の上には、有機
樹脂材料の絶縁層5が形成されている。
Further, as shown in FIG.
Is approximately the same as the magnetic gap depth Gd. Further, as shown in FIG. 2, an insulating layer 3 of an organic resin material, for example, a resist material is formed on the lower core layer 1, and a conductive material having a small electric resistance such as Cu is formed on the insulating layer. A spiral coil layer 4 is formed. Further, an insulating layer 5 made of an organic resin material is formed on the coil layer 4.

【0032】そして、前記絶縁層5の上には、パーマロ
イなどの磁性材料製の上部コア層6が形成されている。
前記上部コア層6の先端部6aは、図1に示すように、
下部コア層1の対向面上に、ギャップ層2を介して接合
され、ギャップ長Glの磁気ギャップが形成されてい
る。また前記上部コア層6の先端部6aの幅寸法は、ト
ラック幅Twと同じ寸法で決められている。図1に示す
ように、下部コア層1の上面から、ギャップ層2および
上部コア層6の両側面、および上部コア層6の上面にか
けて非磁性導電層7が成膜されている。
An upper core layer 6 made of a magnetic material such as permalloy is formed on the insulating layer 5.
The tip 6a of the upper core layer 6, as shown in FIG.
A magnetic gap having a gap length G1 is formed on the opposing surface of the lower core layer 1 via a gap layer 2. The width of the tip 6a of the upper core layer 6 is determined to be the same as the track width Tw. As shown in FIG. 1, a nonmagnetic conductive layer 7 is formed from the upper surface of the lower core layer 1 to both side surfaces of the gap layer 2 and the upper core layer 6 and the upper surface of the upper core layer 6.

【0033】本発明では、前記非磁性導電層7の膜厚T
1は、0.3〜2.0μmの範囲内であることが好まし
い。前記非磁性導電層7の膜厚T1が、2.0μm以上
になると、膜応力により、前記非磁性導電層7が膜剥が
れを起こす可能性が高くなるので好ましくない。また前
記非磁性導電層7の膜厚T1が、0.3μm以下になる
と、特に図1に示すギャップ層2の両側面に前記非磁性
導電層7が成膜されにくく、ライトフリンジングを適性
に抑制することができなくなり好ましくない。
In the present invention, the thickness T of the nonmagnetic conductive layer 7
1 is preferably in the range of 0.3 to 2.0 μm. When the film thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is 2.0 μm or more, the possibility of the film peeling of the nonmagnetic conductive layer 7 increases due to film stress, which is not preferable. When the thickness T1 of the non-magnetic conductive layer 7 is 0.3 μm or less, the non-magnetic conductive layer 7 is hardly formed on both sides of the gap layer 2 shown in FIG. It is not preferable because it cannot be suppressed.

【0034】なお本発明で、前記非磁性導電層7の膜厚
T1の下限を0.3μmとしたのは、ギャップ長Glが
約0.3μmであるからである。つまり前記ギャップ長
Glがさらに小さくなれば、それに併せて、前記非磁性
導電層7の膜厚T1の下限を小さくすることが可能であ
る。さらに本発明では、前記非磁性導電層7の膜厚T1
は、薄膜磁気ヘッド駆動時の記録周波数における表皮厚
さ以上で形成されている必要がある。表皮厚さSは数1
の関係式により求めることができる。この表皮厚さS
は、非磁性導電層7とギャップ層2と境界面を非磁性導
電層7の表面7aとしたときに、非磁性導電層7内にお
いて磁界の強さが表面7aの強さの1/eになる位置の
前記表面7aからの深さを意味する。なおeは自然対数
の底である。
In the present invention, the lower limit of the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is set to 0.3 μm because the gap length Gl is about 0.3 μm. That is, if the gap length Gl is further reduced, the lower limit of the film thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 can be reduced accordingly. Further, in the present invention, the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is
Must be formed to have a thickness equal to or greater than the skin thickness at the recording frequency when the thin-film magnetic head is driven. The skin thickness S is the number 1
Can be obtained by the following relational expression. This skin thickness S
When the boundary surface between the nonmagnetic conductive layer 7 and the gap layer 2 is the surface 7a of the nonmagnetic conductive layer 7, the strength of the magnetic field in the nonmagnetic conductive layer 7 becomes 1 / e of the strength of the surface 7a. Means a depth from the surface 7a at a certain position. Note that e is the base of the natural logarithm.

【0035】少なくとも前記非磁性導電層7の膜厚T1
が、表皮厚さS以上で形成されていないと、トラック幅
Twからはみ出る漏れ磁界を抑え込み、十分にライトフ
リンジングの発生を抑制する効果を期待できない。前述
の式を見てわかるように、できる限り比抵抗ρの小さい
材質を使用し、記録周波数fが高い領域で使用すること
で、前記表皮厚さを薄くすることができ、よりライトフ
リンジング量を小さくすることができる。なお透磁率μ
はほぼ1である。
At least the thickness T 1 of the nonmagnetic conductive layer 7
However, if it is not formed with the skin thickness S or more, the effect of suppressing the leakage magnetic field protruding from the track width Tw cannot be expected to sufficiently suppress the occurrence of write fringing. As can be seen from the above equation, by using a material having the smallest possible resistivity ρ and using it in a region where the recording frequency f is high, the skin thickness can be reduced, and the amount of light fringing can be increased. Can be reduced. Note that the magnetic permeability μ
Is approximately 1.

【0036】また本発明では、図2に示すように、前記
非磁性導電層7が、下部コア層1上面からギャップ層2
および上部コア層6の裏面にかけて形成されていてもよ
い。なおこの場合の前記非磁性導電層7の膜厚T1も、
0.3〜2.0μmの範囲内で形成され、且つ前記膜厚
T1は、少なくとも表皮厚さS以上で形成されている必
要がある。
In the present invention, as shown in FIG. 2, the nonmagnetic conductive layer 7 is
And it may be formed over the back surface of the upper core layer 6. In this case, the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is also
It must be formed in the range of 0.3 to 2.0 [mu] m, and the film thickness T1 must be at least the skin thickness S or more.

【0037】下部コア層1上面から上部コア層6の裏面
にかけて非磁性導電層7を成膜する方法は、まずギャッ
プ層2が形成される下部コア層1上に、長さ寸法が磁気
ギャップ深さGdと同程度のレジスト層を形成し、前記
レジスト層の後側に、非磁性導電層7を成膜する。なお
前記非磁性導電層7の高さ寸法h1は、ギャップ長Gl
よりも大きくなるようにしておく必要がある。さらに、
前記非磁性導電層7の上面、および前記非磁性導電層7
の後側の下部コア層1の上面にかけて絶縁層3を形成
し、前記絶縁層3の上に、コイル層4、および絶縁層5
を成膜する。
The method of forming the nonmagnetic conductive layer 7 from the upper surface of the lower core layer 1 to the back surface of the upper core layer 6 is as follows. First, the length dimension is set on the lower core layer 1 where the gap layer 2 is formed. A non-magnetic conductive layer 7 is formed on the rear side of the resist layer. The height dimension h1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is determined by the gap length Gl.
Must be larger than further,
Upper surface of the nonmagnetic conductive layer 7 and the nonmagnetic conductive layer 7
The insulating layer 3 is formed on the upper surface of the lower core layer 1 on the rear side, and the coil layer 4 and the insulating layer 5 are formed on the insulating layer 3.
Is formed.

【0038】そして、前記レジスト層を除去し、前記レ
ジスト層を除去した部分に、ギャップ層2を形成し、さ
らに前記ギャップ層2上から絶縁層5上面にかけて上部
コア層6を形成する。以上のように、下部コア層1上面
から上部コア層6の裏面にかけて前記非磁性導電層7が
形成されることで、裏側から漏れる記録磁界を抑え込む
ことができ、漏れ磁界強度をより強くすることが可能に
なる。
Then, the resist layer is removed, a gap layer 2 is formed in a portion where the resist layer is removed, and an upper core layer 6 is formed from the gap layer 2 to the upper surface of the insulating layer 5. As described above, since the nonmagnetic conductive layer 7 is formed from the upper surface of the lower core layer 1 to the back surface of the upper core layer 6, the recording magnetic field leaking from the back side can be suppressed, and the strength of the leakage magnetic field can be further increased. Becomes possible.

【0039】本発明では、前記非磁性導電層7を構成す
る材質としてAu,Ag,Cu,Ptを提示することが
できる。ただし本発明では、これらの材質に限定するも
のではなく、非磁性の導電材料でしかも比抵抗がある程
度低い材料であれば前記非磁性導電層7として使用する
ことができる。本発明では、Au,Ag,Cu,Ptを
用いて、周波数と各元素における表皮厚さ(skin dept
h)との関係について調べた。その結果を図4に示す。
In the present invention, Au, Ag, Cu, Pt can be presented as a material constituting the nonmagnetic conductive layer 7. However, the present invention is not limited to these materials, and any non-magnetic conductive material having a low specific resistance can be used as the non-magnetic conductive layer 7. In the present invention, Au, Ag, Cu, and Pt are used to determine the frequency and the skin thickness (skin dept) for each element.
h) was examined. FIG. 4 shows the results.

【0040】図4に示すように、周波数が高くなるほ
ど、Au,Ag,Cu,Ptの表皮厚さは小さくなって
いることがわかる。また4つの元素のうち最も表皮厚さ
が厚くなるのは、Ptであるが、これはPtがAu,A
g,Cuに比べて高い比抵抗ρを有しているからであ
る。例えば、前記非磁性導電層7としてAuあるいはC
uを使用し、記録周波数が50MHz以上である場合、
前記非磁性導電層7の表皮厚さSは、約0.9μm以下
となる。よって、前記非磁性導電層7の膜厚T1を0.
9μm以上にすると、表皮厚さS以上に保つことがで
き、表皮効果によりライトフリンジングを十分に抑制す
る効果を有効に発揮できる。前記のように、非磁性導電
層7の膜厚T1の上限は、膜剥がれを防止するために
2.0μm以下であることが好ましい。よって記録周波
数が50MHz以上である場合、前記膜厚T1の好まし
い範囲は、0.9〜2.0μmである。
As shown in FIG. 4, it can be seen that the skin thickness of Au, Ag, Cu, Pt decreases as the frequency increases. Pt has the largest skin thickness among the four elements, and Pt is Au, A
This is because it has a higher specific resistance ρ than g and Cu. For example, as the nonmagnetic conductive layer 7, Au or C
If u is used and the recording frequency is 50 MHz or higher,
The skin thickness S of the nonmagnetic conductive layer 7 is about 0.9 μm or less. Therefore, the thickness T1 of the non-magnetic conductive layer 7 is set to 0.1.
When the thickness is 9 μm or more, the skin thickness can be maintained at S or more, and the effect of sufficiently suppressing light fringing by the skin effect can be effectively exhibited. As described above, the upper limit of the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is preferably 2.0 μm or less in order to prevent film peeling. Therefore, when the recording frequency is 50 MHz or more, the preferable range of the film thickness T1 is 0.9 to 2.0 μm.

【0041】また前記非磁性導電層7としてAuまたは
Cuを使用し、記録周波数が100MHz以上である場
合、100MHzにおける表皮厚さSは約0.6μm以
下であるので、前記非磁性導電層の膜厚T1は約0.6
〜2.0μmの範囲内であることが好ましい。すなわち
前記非磁性導電層7の膜厚T1は、表皮厚さS以上に形
成されれば、十分にライトフリンジングを抑制すること
が可能である。同様に前記非磁性導電層7をAuまたは
Cuで形成し、記録周波数帯域が500MHz以上であ
る場合、前記非磁性導電層7の膜厚T1は約0.3〜
2.0μmの範囲内であれば、前記非磁性導電層7の膜
厚T1は確実に表皮厚さ以上を保つことができるので、
表皮効果によりライトフリンジングを十分に抑制するこ
とが可能である。
When Au or Cu is used as the nonmagnetic conductive layer 7 and the recording frequency is 100 MHz or more, the skin thickness S at 100 MHz is about 0.6 μm or less. Thickness T1 is about 0.6
It is preferable that it is in the range of 2.0 μm. That is, if the film thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is formed to be equal to or more than the skin thickness S, it is possible to sufficiently suppress the light fringing. Similarly, when the nonmagnetic conductive layer 7 is formed of Au or Cu and the recording frequency band is 500 MHz or more, the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is about 0.3 to
When the thickness is within the range of 2.0 μm, the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 can be reliably maintained at or above the skin thickness.
Light fringing can be sufficiently suppressed by the skin effect.

【0042】次に前記非磁性導電層7をAgで形成し、
記録周波数帯域が、50MHz以上である場合、前記非
磁性導電層7の膜厚T1の好ましい範囲は、約1.0〜
2.0μmである。また前記非磁性導電層7をAgで形
成し、記録周波数が、100MHz以上である場合、前
記非磁性導電層7の膜厚T1の好ましい範囲は、0.7
〜2.0μmの範囲内である。
Next, the nonmagnetic conductive layer 7 is formed of Ag,
When the recording frequency band is 50 MHz or more, the preferable range of the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is approximately 1.0 to 1.0.
2.0 μm. When the nonmagnetic conductive layer 7 is formed of Ag and the recording frequency is 100 MHz or more, the preferable range of the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is 0.7
2.02.0 μm.

【0043】さらに、前記非磁性導電層7をAgで形成
し、記録周波数が500MHz以上である場合、前記非
磁性導電層7の膜厚T1の好ましい範囲は、約0.3〜
2.0μmである。また前記非磁性導電層7をPtで形
成し、記録周波数が100MHz以上である場合、前記
非磁性導電層7の膜厚T1の好ましい範囲は、約1.8
〜2.0μmである。
Further, when the nonmagnetic conductive layer 7 is formed of Ag and the recording frequency is 500 MHz or more, the preferable range of the film thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is about 0.3 to
2.0 μm. When the nonmagnetic conductive layer 7 is formed of Pt and the recording frequency is 100 MHz or more, the preferable range of the thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is about 1.8.
2.02.0 μm.

【0044】図5は、表皮厚さを0.3μmとした場合
の、周波数と比抵抗との関係を示すグラフである。例え
ば記録周波数が50MHzである場合、非磁性導電材料
に必要な比抵抗は約0.003(μΩ・cm)以下であ
ることがわかる。また例えば記録周波数が100MHz
とした場合、非磁性導電性材料に必要な比抵抗は約0.
006(μΩ・cm)以下であることがわかる。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between frequency and specific resistance when the skin thickness is 0.3 μm. For example, when the recording frequency is 50 MHz, it is understood that the specific resistance required for the nonmagnetic conductive material is about 0.003 (μΩ · cm) or less. For example, if the recording frequency is 100 MHz
, The specific resistance required for the non-magnetic conductive material is about 0.5.
006 (μΩ · cm) or less.

【0045】逆に言えば、非磁性導電層7に比抵抗が
0.006(μΩ・cm)以上の非磁性導電材料を使用
し、前記非磁性導電層7の膜厚T1を0.3μmとした
場合、記録周波数が100MHz以下であると、前記非
磁性導電層7の膜厚は表皮厚さを確保することができ
ず、十分にライトフリンジングの発生を抑制することが
できないという問題が生じる。逆に、比抵抗が0.00
3(μΩ・cm)以下で、膜厚T1が0.3μm以上で
あれば、50MHz以上の記録周波数において使用で
き、比抵抗が0.006(μΩ・cm)以下で、膜厚T
1が0.3μm以上であれば、100MHz以上の記録
周波数において使用することができる。
In other words, a nonmagnetic conductive material having a specific resistance of 0.006 (μΩ · cm) or more is used for the nonmagnetic conductive layer 7, and the film thickness T 1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is 0.3 μm. In this case, if the recording frequency is 100 MHz or less, the thickness of the nonmagnetic conductive layer 7 cannot secure the skin thickness, and the problem that write fringing cannot be sufficiently suppressed occurs. . Conversely, the specific resistance is 0.00
3 (μΩ · cm) or less and a film thickness T1 of 0.3 μm or more, it can be used at a recording frequency of 50 MHz or more.
If 1 is 0.3 μm or more, it can be used at a recording frequency of 100 MHz or more.

【0046】以上のように本発明では、下部コア層1の
上面から上部コア層6の両側面にかけて非磁性導電層7
を成膜し、前記非磁性導電層7の膜厚T1を、少なくと
もその記録周波数における表皮厚さ以上で形成している
ので、トラック幅Twから滲み出る漏れ磁界を表皮効果
により抑え込み、十分にライトフリンジングの発生を抑
制することが可能となる。また最近では高記録密度化に
対応するために、トラック幅Twを小さくすると同時
に、記録周波数を高める傾向にあるが、特に本発明で
は、高周波数帯域になるほど、表皮厚さを薄くすること
ができるので、よりライトフリンジング量を小さくする
ことが可能となる。
As described above, according to the present invention, the nonmagnetic conductive layer 7 extends from the upper surface of the lower core layer 1 to both side surfaces of the upper core layer 6.
And the film thickness T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is formed to be at least the skin thickness at the recording frequency. Therefore, the leakage magnetic field oozing from the track width Tw is suppressed by the skin effect, and sufficient writing is performed. It is possible to suppress the occurrence of fringing. Recently, in order to cope with higher recording density, there is a tendency to increase the recording frequency at the same time as reducing the track width Tw. In particular, in the present invention, the skin depth can be reduced as the frequency band becomes higher. Therefore, it is possible to further reduce the amount of light fringing.

【0047】また前述したように、トラック幅Twから
滲み出る漏れ磁界を表皮効果により抑え込んでいるの
で、漏れ磁界強度の低下を極力抑えることが可能であ
る。さらに本発明では、下部コア層1上面から上部コア
層6の裏面にかけて非磁性導電層7を成膜してもよく、
裏側に非磁性導電層7を成膜することで、より漏れ磁界
強度を強めることが可能になる。
As described above, since the leakage magnetic field oozing from the track width Tw is suppressed by the skin effect, it is possible to suppress the decrease in the leakage magnetic field intensity as much as possible. Further, in the present invention, the nonmagnetic conductive layer 7 may be formed from the upper surface of the lower core layer 1 to the back surface of the upper core layer 6.
By forming the non-magnetic conductive layer 7 on the back side, it is possible to further increase the leakage magnetic field strength.

【0048】図3に示す薄膜磁気ヘッドは、図1に示す
薄膜磁気ヘッドと比較すると、下部コア層1の形状が異
なっているだけで、それ以外の部分の形状は全く同じと
なっている。図2に示すように下部コア層1には、ギャ
ップ層2と接する部分に、幅寸法T2を有する隆起部1
aが形成されている。なおこの隆起部1aは前記下部コ
ア層1と一体となって形成されていてもよいし、あるい
は前記下部コア層1の上に積層されたものであってもよ
い。
The thin-film magnetic head shown in FIG. 3 is different from the thin-film magnetic head shown in FIG. 1 only in the shape of the lower core layer 1, and the other portions have exactly the same shape. As shown in FIG. 2, the lower core layer 1 has a raised portion 1 having a width dimension T2 at a portion in contact with the gap layer 2.
a is formed. The raised portion 1a may be formed integrally with the lower core layer 1, or may be laminated on the lower core layer 1.

【0049】またこの隆起部1aの幅寸法T2は、上部
コア層6の先端部6aおよびギャップ層2の幅寸法とほ
ぼ同じトラック幅Tw寸法で形成されている。そして、
非磁性導電層7が、下部コア層1の上面から、隆起部1
a、ギャップ層2、および先端部6aの両側面、および
前記先端部6aの上面にかけて成膜されている。この非
磁性導電層7の幅寸法T1は、前述したように、0.3
〜2.0μmの範囲内で形成され、しかも少なくとも薄
膜磁気ヘッド駆動時の記録周波数における表皮厚さ以上
で形成されている。従って表皮効果により、十分にライ
トフリンジングの発生を抑制することができる。
The width T2 of the raised portion 1a is substantially equal to the track width Tw of the tip 6a of the upper core layer 6 and the width of the gap layer 2. And
The non-magnetic conductive layer 7 extends from the upper surface of the lower core layer 1
a, the gap layer 2, and both side surfaces of the tip 6a and the upper surface of the tip 6a. The width dimension T1 of the nonmagnetic conductive layer 7 is 0.3
The thickness is formed within a range of about 2.0 μm and at least the skin thickness at the recording frequency at the time of driving the thin-film magnetic head. Therefore, the occurrence of light fringing can be sufficiently suppressed by the skin effect.

【0050】なお図3に示す薄膜磁気ヘッドでは、ほぼ
トラック幅Twと同じ幅寸法T2を有する隆起部1aと
上部コア層6の先端部6aとの間で漏れ磁界が発生する
ので、元々、非磁性導電層7が成膜されなくても、フリ
ンジング量は、図1に示す薄膜磁気ヘッドに比べて小さ
いものと推測されるが、図3に示すように前記非磁性導
電層7を成膜することで、よりライトフリンジング量の
小さい薄膜磁気ヘッドを製造することが可能となってい
る。
In the thin-film magnetic head shown in FIG. 3, since a leakage magnetic field is generated between the protruding portion 1a having the same width dimension T2 as the track width Tw and the tip portion 6a of the upper core layer 6, the non-magnetic thin film magnetic head is originally non-magnetic. Even if the magnetic conductive layer 7 is not formed, the fringing amount is estimated to be smaller than that of the thin-film magnetic head shown in FIG. 1, but the non-magnetic conductive layer 7 is formed as shown in FIG. By doing so, it is possible to manufacture a thin film magnetic head with a smaller write fringing amount.

【0051】また本発明では、下部コア層1上面から隆
起部1a、ギャップ層2、上部コア層6の裏面に前記非
磁性導電層7を成膜してもよく、これにより、漏れ磁界
強度をより強くすることが可能になる。さらに本発明で
は、図6に示す薄膜磁気ヘッドの下部コア層1の上面か
ら上部コア層6の先端部6aの両側面、および前記先端
部6aの上面にかけて非磁性導電層7を成膜してもよ
く、これにより、ライトフリンジングの発生を抑制する
ことが可能である。
According to the present invention, the nonmagnetic conductive layer 7 may be formed on the lower core layer 1 from the upper surface to the raised portion 1a, the gap layer 2, and the back surface of the upper core layer 6, thereby reducing the leakage magnetic field strength. It is possible to be stronger. Further, in the present invention, a nonmagnetic conductive layer 7 is formed from the upper surface of the lower core layer 1 of the thin-film magnetic head shown in FIG. 6 to both side surfaces of the tip 6a of the upper core layer 6 and the upper surface of the tip 6a. As a result, it is possible to suppress the occurrence of light fringing.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、下部コア
層の上面から上部コア層の両側面にかけて非磁性導電層
を成膜することで、トラック幅から滲み出る漏れ磁界を
表皮効果により抑え込み、ライトフリンジングの発生を
抑制することが可能となり、同時に漏れ磁界強度の低下
を極力抑えることができる。
According to the present invention described in detail above, a nonmagnetic conductive layer is formed from the upper surface of the lower core layer to both side surfaces of the upper core layer, so that the leakage magnetic field oozing from the track width is reduced by the skin effect. Thus, the occurrence of write fringing can be suppressed, and at the same time, a decrease in the leakage magnetic field strength can be suppressed as much as possible.

【0053】特に本発明では、よりライトフリンジング
の発生を抑制するために、表皮厚さを薄くすることが好
ましく、そのために、前記非磁性導電層として、できる
限り比抵抗の低い非磁性導電材料を使用し、しかも記録
周波数を高くすることが好ましい。
In particular, in the present invention, in order to further suppress the occurrence of light fringing, it is preferable to reduce the skin thickness, and therefore, as the nonmagnetic conductive layer, a nonmagnetic conductive material having a specific resistance as low as possible is used. It is preferable that the recording frequency be increased.

【0054】また本発明では、下部コア層上面から上部
コア層の裏面にかけて前記非磁性導電層を成膜してもよ
く、これにより、より漏れ磁界強度を強めることが可能
になる。
Further, in the present invention, the nonmagnetic conductive layer may be formed from the upper surface of the lower core layer to the back surface of the upper core layer, whereby the leakage magnetic field strength can be further increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造
を示す正面図、
FIG. 1 is a front view showing the structure of a thin-film magnetic head according to a first embodiment of the present invention;

【図2】図1に示す薄膜磁気ヘッドの縦断面図、2 is a longitudinal sectional view of the thin-film magnetic head shown in FIG. 1,

【図3】本発明の第2実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造
を示す正面図、
FIG. 3 is a front view showing the structure of a thin-film magnetic head according to a second embodiment of the present invention;

【図4】Au,Cu,Ag,Ptにおける周波数と表皮
厚さとの関係を示すグラフ、
FIG. 4 is a graph showing the relationship between frequency and skin thickness in Au, Cu, Ag, and Pt;

【図5】表皮厚さを0.3μmとした場合の、周波数と
比抵抗との関係を示すグラフ、
FIG. 5 is a graph showing the relationship between frequency and specific resistance when the skin thickness is 0.3 μm;

【図6】従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す正面図、FIG. 6 is a front view showing the structure of a conventional thin-film magnetic head;

【図7】トラック幅Twと漏れ磁界強度との関係を示す
グラフ、
FIG. 7 is a graph showing a relationship between a track width Tw and a leakage magnetic field intensity;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 下部コア層 1a 隆起部 2 ギャップ層 3、5 絶縁層 4 コイル層 6 上部コア層 6a 先端部 7 非磁性導電層 T1 (非磁性導電層の)膜厚 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lower core layer 1a Ridge part 2 Gap layer 3, 5 Insulating layer 4 Coil layer 6 Upper core layer 6a Tip part 7 Nonmagnetic conductive layer T1 Film thickness (of nonmagnetic conductive layer)

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁性材料の下部コア層と、所定の幅Tw
を有する上部コア層との間に、非磁性材料のギャップ層
が形成され、さらに前記下部コア層及び上部コア層に記
録磁界を誘導する磁気発生手段が設けられて成る薄膜磁
気ヘッドにおいて、前記ギャップ層のトラック幅方向の
両側を覆い、且つ下部コア層から上部コア層にかけて形
成された非磁性導電層が設けられていることを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド。
A lower core layer made of a magnetic material and a predetermined width Tw
A thin layer magnetic head comprising a gap layer made of a non-magnetic material formed between the upper core layer and the lower core layer, and a magnetic generating means for inducing a recording magnetic field in the lower core layer and the upper core layer. A thin-film magnetic head comprising a nonmagnetic conductive layer covering both sides of a layer in a track width direction and formed from a lower core layer to an upper core layer.
【請求項2】 前記ギャップ層が、上部コア層と同じ幅
寸法Twで形成され、前記非磁性導電層が、下部コア層
の上面から前記ギャップ層および上部コア層の両側面に
かけて形成されている請求項1記載の薄膜磁気ヘッド。
2. The gap layer is formed to have the same width Tw as an upper core layer, and the nonmagnetic conductive layer is formed from an upper surface of a lower core layer to both side surfaces of the gap layer and the upper core layer. The thin-film magnetic head according to claim 1.
【請求項3】 前記ギャップ層が上部コア層と同じ幅寸
法Twで形成され、さらに前記下部コア層には、前記ギ
ャップ層と接する部分に、前記幅寸法Twとほぼ同じ幅
寸法T2を有する隆起部が設けられており、前記非磁性
導電層が、前記下部コア層の上面から前記隆起部、前記
ギャップ層、および上部コア層の両側面にかけて形成さ
れている請求項1記載の薄膜磁気ヘッド。
3. The gap layer is formed with the same width dimension Tw as the upper core layer, and the lower core layer has a raised portion having a width dimension T2 substantially equal to the width dimension Tw at a portion in contact with the gap layer. 2. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein a portion is provided, and the nonmagnetic conductive layer is formed from an upper surface of the lower core layer to both side surfaces of the raised portion, the gap layer, and the upper core layer.
【請求項4】 磁性材料の下部コア層と、所定の幅Tw
を有する上部コア層との間に、非磁性材料のギャップ層
が形成され、さらに前記下部コア層及び上部コア層に記
録磁界を誘導する磁気発生手段が設けられて成る薄膜磁
気ヘッドにおいて、前記ギャップ層が、ギャップ深さG
dとほぼ同じ長さで形成され、前記非磁性導電層が、下
部コア層からギャップ層および上部コア層の裏面にかけ
て形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
4. A lower core layer of a magnetic material and a predetermined width Tw
A thin layer magnetic head comprising a gap layer made of a non-magnetic material formed between the upper core layer and the lower core layer, and a magnetic generating means for inducing a recording magnetic field in the lower core layer and the upper core layer. The layer has a gap depth G
d. The thin-film magnetic head having a length substantially equal to d, wherein the nonmagnetic conductive layer is formed from the lower core layer to the back surface of the gap layer and the upper core layer.
【請求項5】 前記非磁性導電層の膜厚は、0.3〜
2.0μmの範囲内である請求項1ないし請求項4のい
ずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
5. The nonmagnetic conductive layer has a thickness of 0.3 to 0.3.
5. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the thickness is within a range of 2.0 [mu] m.
【請求項6】 前記非磁性導電層の膜厚は、少なくとも
薄膜磁気ヘッド駆動時の記録周波数における表皮厚さS
以上で形成されている請求項5記載の薄膜磁気ヘッド。
ただし前記Sは以下の数1の通り。また、μは透磁率、
fは記録周波数、ρは比抵抗である。 【数1】
6. The film thickness of the nonmagnetic conductive layer is at least a skin thickness S at a recording frequency when the thin film magnetic head is driven.
6. The thin-film magnetic head according to claim 5, formed as described above.
However, S is as shown in the following Equation 1. Μ is the magnetic permeability,
f is the recording frequency, and ρ is the specific resistance. (Equation 1)
【請求項7】 前記非磁性導電層が、Au,Ag,C
u,Ptのいずれか1種または2種以上の元素により形
成されている請求項1ないし請求項6のいずれかに記載
の薄膜磁気ヘッド。
7. The non-magnetic conductive layer is made of Au, Ag, C
7. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the thin-film magnetic head is formed of one or more of u and Pt.
【請求項8】 前記非磁性導電層が、AuまたはCuで
形成され、記録周波数が50MHz以上である場合、前
記非磁性導電層の膜厚は、約0.9〜2.0μmの範囲
内である請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の薄
膜磁気ヘッド。
8. When the nonmagnetic conductive layer is made of Au or Cu and the recording frequency is 50 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in the range of about 0.9 to 2.0 μm. The thin-film magnetic head according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 前記非磁性導電層が、AuまたはCuで
形成され、記録周波数が100MHz以上である場合、
前記非磁性導電層の膜厚は約0.6〜2.0μmの範囲
内である請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の薄
膜磁気ヘッド。
9. When the nonmagnetic conductive layer is made of Au or Cu and has a recording frequency of 100 MHz or more,
8. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in a range of about 0.6 to 2.0 [mu] m.
【請求項10】 前記非磁性導電層が、AuまたはCu
で形成され、記録周波数が500MHz以上である場
合、前記非磁性導電層の膜厚は約0.3〜2.0μmの
範囲内である請求項1ないし請求項7のいずれかに記載
の薄膜磁気ヘッド。
10. The non-magnetic conductive layer is made of Au or Cu.
8. The thin film magnetic device according to claim 1, wherein when the recording frequency is 500 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in a range of about 0.3 to 2.0 [mu] m. head.
【請求項11】 前記非磁性導電層がAgで形成され、
記録周波数が、50MHz以上である場合、前記非磁性
導電層の膜厚は、約1.0〜2.0μmの範囲内である
請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の薄膜磁気ヘ
ッド。
11. The non-magnetic conductive layer is formed of Ag,
The thin-film magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein when the recording frequency is 50 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in a range of about 1.0 to 2.0 µm.
【請求項12】 前記非磁性導電層がAgで形成され、
記録周波数が、100MHz以上である場合、前記非磁
性導電層の膜厚は、0.7〜2.0μmの範囲内である
請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の薄膜磁気ヘ
ッド。
12. The non-magnetic conductive layer is formed of Ag,
The thin-film magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein when the recording frequency is 100 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in a range of 0.7 to 2.0 µm.
【請求項13】 前記非磁性導電層が、Agで形成さ
れ、記録周波数が500MHz以上である場合、前記非
磁性導電層の膜厚は、約0.3〜2.0μmの範囲内で
ある請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の薄膜磁
気ヘッド。
13. When the nonmagnetic conductive layer is formed of Ag and the recording frequency is 500 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in the range of about 0.3 to 2.0 μm. A thin-film magnetic head according to any one of claims 1 to 7.
【請求項14】 前記非磁性導電層が、Ptで形成さ
れ、記録周波数が100MHz以上である場合、前記非
磁性導電層の膜厚は、約1.8〜2.0μmの範囲内で
ある請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の薄膜磁
気ヘッド。
14. When the nonmagnetic conductive layer is formed of Pt and the recording frequency is 100 MHz or more, the thickness of the nonmagnetic conductive layer is in a range of about 1.8 to 2.0 μm. A thin-film magnetic head according to any one of claims 1 to 7.
JP27863097A 1997-10-13 1997-10-13 Thin film magnetic head Expired - Fee Related JP3428877B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27863097A JP3428877B2 (en) 1997-10-13 1997-10-13 Thin film magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27863097A JP3428877B2 (en) 1997-10-13 1997-10-13 Thin film magnetic head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11120512A true JPH11120512A (en) 1999-04-30
JP3428877B2 JP3428877B2 (en) 2003-07-22

Family

ID=17599961

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27863097A Expired - Fee Related JP3428877B2 (en) 1997-10-13 1997-10-13 Thin film magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3428877B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7538977B2 (en) 2004-04-30 2009-05-26 Hitachi Global Storage Technologies B.V. Method and apparatus for providing diamagnetic flux focusing in a storage device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7538977B2 (en) 2004-04-30 2009-05-26 Hitachi Global Storage Technologies B.V. Method and apparatus for providing diamagnetic flux focusing in a storage device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3428877B2 (en) 2003-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7196871B2 (en) Head for perpendicular recording with a floating trailing shield
KR20050031394A (en) Magnetic transducer for perpendicular magnetic recording with separate read and write heads
KR20050031937A (en) Head for perpendicular magnetic recording with a shield structure connected to the return pole piece
US6381093B2 (en) Thin film magnetic head with magnetic films with increasing widths from a surface facing a recording medium
US6785952B2 (en) Method for manufacturing a thin film magnetic head
JP3369444B2 (en) Thin film magnetic head
US6327116B1 (en) Thin film magnetic head and method for making the same
US4675766A (en) Combined magnetic write and read head for a recording medium which can be magnetized perpendicularly
US7688545B1 (en) Recording head writer with high magnetic moment material at the writer gap and associated process
US5959813A (en) Combination read/write thin film magnetic head using a shielding magnetic layer
US20040246630A1 (en) Magnetic head including metallic material layer between write head section and read head section
KR100346287B1 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same
US20020060880A1 (en) Thin film magnetic heads and a method of producing the same
US6469868B2 (en) Thin film magnetic head having a nonmagnetic conductive layer and method of manufacturing same
JP2004178664A (en) Recording and reproduction separation type magnetic head
US6822830B2 (en) Thin-film magnetic head and method of manufacturing same
JP3428877B2 (en) Thin film magnetic head
US6274256B1 (en) Thin film magnetic head
US6042897A (en) Combination read/write thin film magnetic head and its manufacturing method
KR0131975B1 (en) Thin film magnetic head
KR100234185B1 (en) Magnetoresistive recording head having partially trimed owned magnetic pole
JPH11175932A (en) Inductive/mr composite type thin film magnetic head
JP3000905B2 (en) Inductive / MR composite magnetic head and method of manufacturing the same
JPH10269533A (en) Perpendicular magnetic recording composite head
JPH06223333A (en) Magnetoresistance-effect playback head

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030430

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080516

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100516

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees