JPH11119207A - Color filter substrate and liquid crystal device using the substrate - Google Patents

Color filter substrate and liquid crystal device using the substrate

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JPH11119207A
JPH11119207A JP28026597A JP28026597A JPH11119207A JP H11119207 A JPH11119207 A JP H11119207A JP 28026597 A JP28026597 A JP 28026597A JP 28026597 A JP28026597 A JP 28026597A JP H11119207 A JPH11119207 A JP H11119207A
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JP
Japan
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color filter
substrate
liquid crystal
area
display
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Application number
JP28026597A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Suzuki
正明 鈴木
Yuichi Masaki
裕一 正木
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To decrease the difference in level on the surface of a flattened layer surface, in a color filter substrate constituting a liquid crystal device of a color display. SOLUTION: A light shielding film 21, which has dotty apertures 23 in a display region 6 and covers peripheral regions 7 over the entire surface is formed on a transparent substrate. Respective color filters are formed in such a manner that the covering area rate [e×f×100/(g×h)] of the color filters 24 of the peripheral region 7 to the substrate attains 70 to 95% with respect to the covering area rate [a×b×100/(c×d)] of the color filters 22 of the display region to the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置等に用い
られるカラー表示の液晶素子とその構成部材であるカラ
ーフィルタ基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color liquid crystal element used for a display device and the like, and a color filter substrate as a constituent member thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータ等の発達
に伴って、表示装置として用いる液晶素子に対する需要
が増加しているが、特に、カラー表示の高画質化が要望
されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of personal computers and the like, the demand for liquid crystal elements used as display devices is increasing. In particular, there is a demand for higher image quality of color display.

【0003】図1に一般的な液晶素子の平面模式図を示
す。図中、1及び3はガラス等からなる透明基板で、そ
れぞれ内側に透明電極(図示しない)が設けられてい
る。2及び4はそれぞれ、透明基板1,3にそれぞれ形
成された透明電極の駆動回路を接続する実装端子部であ
り、透明基板1,3はシール材5により貼り合わされて
液晶を挟持している。透明基板1,3にそれぞれ形成さ
れた透明電極が対向する領域6が液晶を駆動する領域で
あり、表示領域という。また、該表示領域を取り囲む領
域7は周辺領域である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a general liquid crystal element. In the figure, reference numerals 1 and 3 denote transparent substrates made of glass or the like, each having a transparent electrode (not shown) provided inside. Reference numerals 2 and 4 denote mounting terminal portions for connecting driving circuits for the transparent electrodes formed on the transparent substrates 1 and 3, respectively. The transparent substrates 1 and 3 are adhered by a sealing material 5 to sandwich the liquid crystal. The area 6 where the transparent electrodes formed on the transparent substrates 1 and 3 face each other is an area for driving the liquid crystal, and is called a display area. The area 7 surrounding the display area is a peripheral area.

【0004】従来の液晶素子の一例の断面図を図8に模
式的に示す。図中、21は金属遮光膜、22は表示領域
に形成されたドット状のカラーフィルタ、24は周辺領
域に形成されたドット状のカラーフィルタ、31は平坦
化層、81及び83は透明電極、82及び84は配向制
御膜、86はスペーサー、87は液晶である。尚、図8
は単純マトリクス構造の素子の例であり、透明電極81
と83は互いに直交するストライプ状に形成されてい
る。また、透明基板3が観察者側に配置される。
FIG. 8 schematically shows a cross-sectional view of an example of a conventional liquid crystal element. In the figure, 21 is a metal light shielding film, 22 is a dot color filter formed in a display area, 24 is a dot color filter formed in a peripheral area, 31 is a flattening layer, 81 and 83 are transparent electrodes, 82 and 84 are alignment control films, 86 is a spacer, and 87 is a liquid crystal. FIG.
Is an example of an element having a simple matrix structure.
And 83 are formed in stripes orthogonal to each other. Further, the transparent substrate 3 is arranged on the viewer side.

【0005】金属遮光膜21は、モリブデン等の金属
で、透過率が0%近くなるように、厚さが少なくとも
0.08μm以上、通常は0.1〜0.2μmの範囲で
形成されている。図9はカラーフィルタ群の平面模式図
であり、図9に示すように、該金属遮光膜21は、表示
領域6においては、隣接するカラーフィルタ間を遮光す
るようにドット状の開口部23を設けて形成され、一方
表示領域7には全面にベタ状に形成されている。
The metal light-shielding film 21 is made of a metal such as molybdenum and has a thickness of at least 0.08 μm or more, usually 0.1 to 0.2 μm, so that the transmittance is close to 0%. . FIG. 9 is a schematic plan view of a color filter group. As shown in FIG. 9, the metal light-shielding film 21 has a dot-shaped opening 23 in the display area 6 so as to shield light between adjacent color filters. On the other hand, the display area 7 is formed over the entire surface in a solid shape.

【0006】また、カラーフィルタ群は、表示領域6に
おいては、赤(R)、緑(G)、青(B)を1画素分と
して、それぞれドット状に上記金属遮光膜21の開口部
23上に、分光透過率を考慮して厚さ0.8以上、通常
1.0〜1.8μmの範囲で形成され、また、周辺領域
7にも、R,G,Bのいずれか1色あるいは表示領域6
と同様に3色でドット状に形成されている。尚、例えば
周辺領域7のカラーフィルタ24各ドットは、表示領域
6のカラーフィルタの各ドットよりも大きく形成されて
いる。また、周辺領域7のカラーフィルタ24は、金属
遮光膜21上にベタ状に形成される場合もある。
In the display area 6, the color filters are arranged in a dot-like manner on the opening 23 of the metal light-shielding film 21 with red (R), green (G), and blue (B) as one pixel. In consideration of the spectral transmittance, it is formed in a thickness of 0.8 or more, usually in the range of 1.0 to 1.8 μm, and the peripheral region 7 is also provided with any one of R, G, and B colors or display. Area 6
In the same manner as described above, dots are formed in three colors. Note that, for example, each dot of the color filter 24 in the peripheral area 7 is formed larger than each dot of the color filter in the display area 6. Further, the color filter 24 in the peripheral region 7 may be formed in a solid shape on the metal light shielding film 21 in some cases.

【0007】周辺領域7にカラーフィルタ24を形成し
ている理由は、表示領域6と周辺領域7との境界部で急
激な段差を生じさせないためである。また、形成される
カラーフィルタのサイズを変えているのは、密着性を考
慮したためであり、表示領域6のカラーフィルタ22は
透明基板1(多くはガラス基板)上に形成される場合に
は強い密着性が得られるが、金属遮光膜21の上に形成
されるカラーフィルタ24の場合には、若干密着性が弱
くなり、製造工程中に剥離する場合があるからである。
The reason why the color filter 24 is formed in the peripheral area 7 is to prevent a sharp step from being generated at the boundary between the display area 6 and the peripheral area 7. The size of the formed color filter is changed in consideration of the adhesion, and the color filter 22 in the display area 6 is strong when formed on the transparent substrate 1 (often a glass substrate). This is because the adhesiveness is obtained, but in the case of the color filter 24 formed on the metal light-shielding film 21, the adhesiveness is slightly weakened and the color filter 24 may be peeled off during the manufacturing process.

【0008】また、周辺領域7のカラーフィルタ24
は、多くは青(B)1色で形成されることがあるが、こ
れも他色に比べて密着性が良いことと、金属遮光膜21
にピンホール等が有った場合に他色よりも光漏れを低減
させる効果が高いためである。
The color filter 24 in the peripheral area 7
Is often formed in one color of blue (B), which also has better adhesion than other colors,
This is because when there is a pinhole or the like, the effect of reducing light leakage is higher than that of other colors.

【0009】そして通常は、カラーフィルタ群の上に
は、カラーフィルタの保護と、カラーフィルタ間の平坦
化、及び上層に形成される電極群と金属遮光膜21との
電気的な絶縁を目的として、透明樹脂からなる平坦化層
31が形成されている。
Usually, on the color filter group, protection of the color filters, flattening between the color filters, and electrical insulation between the electrode group formed on the upper layer and the metal light shielding film 21 are usually performed. A flattening layer 31 made of a transparent resin is formed.

【0010】液晶素子としては、図8に示すように、カ
ラーフィルタを形成した透明基板1を透明基板3と対向
配置させる。それぞれの基板の対向する面には、透明基
板1には平坦化層31上の少なくとも表示領域6に透明
電極81を、透明基板3上にも透明電極84を形成し、
両基板とも、透明電極上に液晶分子を配向させるための
ポリイミドなどの薄膜からなる配向制御膜82、83が
それぞれ同じ厚さ0.02〜0.05μmで積層されて
いる。両基板は、スペーサー86を介し、シール材5に
よって対向して加圧して貼り合わされ、その間隙に液晶
87が封入されている。封入されている液晶87は、上
下基板を貼り合わせた後にセル内部を減圧し、液晶注入
口(図1の8)よりセル内外の圧力差を利用する真空注
入法により注入され、封口材(図1の9)により封止さ
れている。
As a liquid crystal element, as shown in FIG. 8, a transparent substrate 1 on which a color filter is formed is arranged to face a transparent substrate 3. On the opposing surfaces of the respective substrates, a transparent electrode 81 is formed on at least the display area 6 on the planarizing layer 31 on the transparent substrate 1 and a transparent electrode 84 is also formed on the transparent substrate 3.
In both substrates, alignment control films 82 and 83 each made of a thin film of polyimide or the like for aligning liquid crystal molecules are laminated on the transparent electrode with the same thickness of 0.02 to 0.05 μm. The two substrates are opposed to each other by the seal member 5 under pressure via the spacer 86 and are bonded together, and the liquid crystal 87 is sealed in the gap. After the sealed liquid crystal 87 is bonded to the upper and lower substrates, the inside of the cell is depressurized, and is injected from a liquid crystal injection port (8 in FIG. 1) by a vacuum injection method using a pressure difference between the inside and the outside of the cell. It is sealed by 1) 9).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶素子においては、上記平坦化層31で充分に平坦化
できないという問題を生じていた。図10、図11に従
来の液晶素子に用いていたカラーフィルタ基板(透明基
板1上に平坦化層31まで形成した構造)の断面を模式
的に示す。これらの図に示されるように、表示領域6と
周辺領域7では、カラーフィルタの被覆面積が異なるた
め、平坦化層31を形成する際に該カラーフィルタ上に
塗布される平坦化層形成素材がカラーフィルタドット間
を流動する量が変わる。それに伴って、カラーフィルタ
22、24上の平坦化層31の膜厚は異なってくる。そ
のため、表示領域6と周辺領域7では段差が生じ、その
形状は境界部で連続的なスロープ状となる。仮に、周辺
領域に形成されるカラーフィルタ24を、表示領域6と
同じ大きさ、形状としても、少なくとも金属遮光膜21
の膜厚分は段差が生じてしまう。この問題は、1画素が
小さく、高精細表示を行なう液晶素子に用いるカラーフ
ィルタ基板において顕著である。
However, in the conventional liquid crystal device, there has been a problem that the flattening layer 31 cannot be sufficiently flattened. FIGS. 10 and 11 schematically show cross sections of a color filter substrate (structure in which a flattening layer 31 is formed on a transparent substrate 1) used in a conventional liquid crystal element. As shown in these figures, since the display area 6 and the peripheral area 7 have different color filter covering areas, the flattening layer forming material applied on the color filters when forming the flattening layer 31 is formed. The amount flowing between the color filter dots changes. Accordingly, the thickness of the flattening layer 31 on the color filters 22 and 24 becomes different. Therefore, a step is generated between the display area 6 and the peripheral area 7, and the shape becomes a continuous slope at the boundary. Even if the color filter 24 formed in the peripheral area has the same size and shape as the display area 6, at least the metal light shielding film 21
The film thickness has a step. This problem is remarkable in a color filter substrate used for a liquid crystal element having a small pixel and performing high-definition display.

【0012】上記カラーフィルタ基板における問題は、
該カラーフィルタ基板を用いて形成した液晶素子にも影
響し、セルギャップが周辺領域7近傍において局所的に
変化してしまう。特に、セルギャップが1〜2μmと薄
い強誘電性液晶素子においては、その影響が強くなり、
セルギャップの差が局所的に0.05μmを超えると色
むらの発生や駆動マージンの低下を招き、結果として表
示むらとなって表示品位を低下させる原因となってい
た。
The problem with the color filter substrate is that
This also affects the liquid crystal element formed using the color filter substrate, and the cell gap locally changes near the peripheral region 7. In particular, in a ferroelectric liquid crystal element having a thin cell gap of 1 to 2 μm, the influence becomes strong.
If the difference in the cell gap locally exceeds 0.05 μm, color unevenness is generated and the drive margin is reduced, resulting in display unevenness and deterioration of display quality.

【0013】本発明の目的は、上記問題を解決し、局所
的な段差を防止したカラーフィルタ基板を実現し、表示
むらがなく表示品位の高い液晶素子を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, to realize a color filter substrate in which local steps are prevented, and to provide a liquid crystal element with high display quality without display unevenness.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、表示領域とそ
れを取り囲む周辺領域を有する液晶素子に用いるカラー
フィルタ基板であって、透明基板上に少なくとも、表示
領域にドット状の開口部を有し且つ周辺領域全面を覆う
遮光膜と、表示領域の遮光膜の開口部上及び周辺領域の
遮光膜上に設けられた着色樹脂からなるドット状のカラ
ーフィルタ群と、該カラーフィルタ群の上に全面に被覆
された平坦化層を有し、上記カラーフィルタ群におい
て、周辺領域に設けられたカラーフィルタの基板に対す
る被覆面積率が表示領域に設けられたカラーフィルタの
基板に対する被覆面積率の70〜95%であることを特
徴とするカラーフィルタ基板を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a color filter substrate used for a liquid crystal device having a display area and a peripheral area surrounding the display area, and has at least a dot-shaped opening in the display area on a transparent substrate. A light-shielding film that covers the entire surface of the peripheral region; a dot-shaped color filter group made of a colored resin provided on the opening of the light-shielding film in the display region and on the light-shielding film in the peripheral region; The color filter group includes a flattening layer coated on the entire surface, and in the color filter group, the coverage area ratio of the color filter provided in the peripheral region to the substrate is 70 to 70% of the coverage area ratio of the color filter provided in the display region to the substrate An object of the present invention is to provide a color filter substrate characterized by being 95%.

【0015】さらに、本発明は、一対の電極基板間に液
晶を挟持してなる液晶素子であって、一方の基板を上記
カラーフィルタ基板を用いて構成したことを特徴とする
液晶素子を提供するものである。
Further, the present invention provides a liquid crystal element in which liquid crystal is sandwiched between a pair of electrode substrates, wherein one of the substrates is formed using the color filter substrate. Things.

【0016】本発明においては、周辺領域に設けるカラ
ーフィルタを、表示領域に設けるカラーフィルタに対し
て基板に対する被覆面積率が70〜95%となるように
形成することにより、平坦化層を形成する際に平坦化層
形成素材がカラーフィルタ間に流れ込む流動体積を制御
し、表示領域のカラーフィルタ上の平坦化層膜厚と周辺
領域のカラーフィルタ上の平坦化層膜厚を変化させ、結
果的に表示領域と周辺領域で平坦化層表面の段差を実質
的に影響の出ない程度まで抑えることができる。
In the present invention, the flattening layer is formed by forming the color filter provided in the peripheral region so that the coverage ratio of the color filter provided in the display region to the substrate is 70 to 95%. In this case, the flow volume of the material for forming the flattening layer flowing between the color filters is controlled, and the thickness of the flattening layer on the color filter in the display area and the thickness of the flattening layer on the color filter in the peripheral area are changed. In addition, the step on the surface of the flattening layer in the display region and the peripheral region can be suppressed to a level that does not substantially affect the surface.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】図2に本発明のカラーフィルタ基
板の一実施形態の平面模式図を、図3にその断面模式図
を示す。図中、a,bは表示領域6のカラーフィルタ2
2の1ドットのサイズであり、c,dは表示領域6のカ
ラーフィルタ22のピッチである。また、同様にe、f
は周辺領域7のカラーフィルタ24の1ドットのサイズ
であり、g,hはピッチである。尚、表示領域6のカラ
ーフィルタ22の1ドットは、黒色の金属材料等からな
る遮光膜21により規定される開口部23の部分で光を
透過するべく機能する。
FIG. 2 is a schematic plan view of an embodiment of the color filter substrate of the present invention, and FIG. 3 is a schematic sectional view thereof. In the figure, a and b are the color filters 2 in the display area 6.
2 is the size of one dot, and c and d are the pitches of the color filters 22 in the display area 6. Similarly, e, f
Is the size of one dot of the color filter 24 in the peripheral area 7, and g and h are pitches. One dot of the color filter 22 in the display area 6 functions so as to transmit light at the opening 23 defined by the light shielding film 21 made of a black metal material or the like.

【0018】本発明において、カラーフィルタの1ドッ
トの被覆面積は、それぞれ、a×b及びe×fで示さ
れ、また、カラーフィルタの基板に対する被覆面積率
(%)は、それぞれ、a×b×100/(c×d)及び
e×f×100/(g×h)で示される。
In the present invention, the coverage area of one dot of the color filter is represented by a × b and e × f, and the coverage area ratio (%) of the color filter to the substrate is a × b. × 100 / (c × d) and e × f × 100 / (g × h).

【0019】本発明においては、周辺領域7に設けられ
たカラーフィルタ24の基板に対する被覆面積率が表示
領域6に設けられたカラーフィルタ22の基板に対する
被覆面積率の70〜95%に設定される。また、周辺領
域7に設けられたカラーフィルタ24の1ドットの被覆
面積は、表示領域6に設けられたカラーフィルタ22の
1ドットの被覆面積の400%以下になるように形成す
ることが好ましい。
In the present invention, the covering area ratio of the color filter 24 provided in the peripheral region 7 to the substrate is set to 70 to 95% of the covering area ratio of the color filter 22 provided in the display region 6 to the substrate. . Further, it is preferable to form the color filter 24 provided in the peripheral region 7 so that the area covered by one dot of the color filter 22 provided in the display region 6 is 400% or less.

【0020】尚、図2に示した実施形態においては、カ
ラーフィルタ22、24はいずれも正方形に形成されて
いるが、図5に示されるような長方形であっても良い。
また、本発明にかかる表示領域と周辺領域とのカラーフ
ィルタの被覆面積率の関係を満足しておれば、矩形以外
の他の形状であっても構わない。
In the embodiment shown in FIG. 2, each of the color filters 22 and 24 is formed in a square, but may be a rectangle as shown in FIG.
In addition, as long as the relationship between the display area and the peripheral area according to the present invention in the color filter covering area ratio is satisfied, a shape other than a rectangle may be used.

【0021】本発明の液晶素子は、上記カラーフィルタ
基板を用いる以外は、従来の液晶素子と同じ部材、製法
により構成することができる。即ち、図8に示した様
に、本発明のカラーフィルタ基板の平坦化層上には、透
明電極、配向制御膜を設け、同様に透明電極と配向制御
膜を設けた対向基板とシール材を介して貼り合わせ、液
晶を注入して形成される。
The liquid crystal element of the present invention can be constituted by the same members and manufacturing method as the conventional liquid crystal element except that the above-mentioned color filter substrate is used. That is, as shown in FIG. 8, a transparent electrode and an orientation control film are provided on the flattening layer of the color filter substrate of the present invention. Similarly, an opposing substrate provided with the transparent electrode and the orientation control film and a sealing material are provided. And formed by injecting liquid crystal.

【0022】[0022]

【実施例】【Example】

[実施例1]本発明第1の実施例として、図2、図3に
示す構造のカラーフィルタ基板を作製した。先ず、厚さ
1.1mmのガラス基板1上に、モリブデンからなる金
属遮光膜21を厚さ0.1μmで形成した。形成方法と
しては、スパッタリングにより全面成膜後、所望の形状
にフォトリソ・エッチングによりパターニングした。
尚、表示領域6に対応する領域での金属遮光膜21の開
口部23の寸法は44μm×44μmとし、各開口部間
の間隔を16μmとした。
Example 1 As a first example of the present invention, a color filter substrate having the structure shown in FIGS. 2 and 3 was manufactured. First, a metal light-shielding film 21 made of molybdenum was formed to a thickness of 0.1 μm on a glass substrate 1 having a thickness of 1.1 mm. As a forming method, after forming the entire surface by sputtering, it was patterned into a desired shape by photolithographic etching.
The size of the opening 23 of the metal light shielding film 21 in the area corresponding to the display area 6 was 44 μm × 44 μm, and the interval between the openings was 16 μm.

【0023】上記金属遮光膜21の上に、ドット状に
R、G、Bの各着色樹脂(宇部興産社製「PA−101
2」シリーズ)からなるカラーフィルタ22(a=b=
50μm、c=d=60μm、被覆面積率=69%)
を、厚さが1.5μmとなるように順次形成した。形成
方法としては、スピンナーにより1色の着色樹脂を全面
塗布後、ホットプレートにより仮乾燥、露光、現像、ポ
ストベークし、この工程をR、G、Bで繰り返して順次
パターニングした。また、周辺領域7には、金属遮光膜
21上にBのみのドット状のカラーフィルタ24(e=
f=95μm、g=h=120μm、被覆面積率=63
%、カラーフィルタ22の被覆面積率に対して90%、
カラーフィルタ22の面積に対して361%)を、後工
程で剥れないようにカラーフィルタ22のBの工程と同
時に形成した。
On the metal light-shielding film 21, R, G, and B colored resins ("PA-101" manufactured by Ube Industries, Ltd.)
2 "series) color filter 22 (a = b =
(50 μm, c = d = 60 μm, covering area ratio = 69%)
Were sequentially formed to a thickness of 1.5 μm. As a formation method, after one-colored resin was applied over the entire surface by a spinner, temporary drying, exposure, development, and post-baking were performed using a hot plate, and this process was repeated for R, G, and B to sequentially pattern. In the peripheral region 7, a dot-shaped color filter 24 (e =
f = 95 μm, g = h = 120 μm, covering area ratio = 63
%, 90% with respect to the covering area ratio of the color filter 22,
(361% of the area of the color filter 22) was formed simultaneously with the step B of the color filter 22 so as not to be peeled off in a later step.

【0024】さらに、上記カラーフィルタ22、24の
上に、透明樹脂(東レ社製「PSB−K31」)からな
る平坦化層31を、スピンナー塗布・ベーキングにより
厚さ1.0〜2.0μmになるように全面積層した。そ
の結果、透明樹脂素材のカラーフィルタ22、24の間
隙への流動レベリングにより、周辺領域7と表示領域6
では、平坦化層31の膜厚が異なり、結果的に図3に示
す周辺領域7と表示領域6との最大段差Aは0.05μ
m以内に収まった。
Further, a flattening layer 31 made of a transparent resin ("PSB-K31" manufactured by Toray Industries, Ltd.) is formed on the color filters 22 and 24 to a thickness of 1.0 to 2.0 μm by spinner coating and baking. The entire surface was laminated so as to be as follows. As a result, due to the flow leveling in the gap between the color filters 22 and 24 made of the transparent resin material, the peripheral area 7 and the display area 6
In this case, the film thickness of the planarizing layer 31 is different, and as a result, the maximum step A between the peripheral region 7 and the display region 6 shown in FIG.
m.

【0025】[比較例1]図2に示したカラーフィルタ
24を、e=f=108μm(被覆面積率=80%、カ
ラーフィルタ22の被覆面積率に対して116%、カラ
ーフィルタ22の面積に対して467%)で形成する以
外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタ基板を作製
した。
[Comparative Example 1] The color filter 24 shown in FIG. 2 was changed to e = f = 108 μm (coverage area ratio = 80%, 116% with respect to the color filter 22 coverage area, A color filter substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the color filter substrate was formed at 467%.

【0026】その結果、図4に示すように、周辺領域7
と表示領域6との最大段差Aは0.4μmで、その形状
は表示領域6と周辺領域7との境界部付近で連続的なス
ロープ状になっていた。
As a result, as shown in FIG.
The maximum step A between the display area 6 and the display area 6 was 0.4 μm, and the shape was a continuous slope near the boundary between the display area 6 and the peripheral area 7.

【0027】[実施例2]本発明第2の実施例として、
図5、図6に示す構造のカラーフィルタ基板を作製し
た。先ず、実施例1と同じガラス基板1上に、液晶素子
を構成した際の表面反射率を低減するために酸化クロム
とクロムを積層して厚さ0.2μmの金属遮光膜21を
形成した。形成方法は実施例1と同じである。尚、表示
領域6に対応する領域での金属遮光膜21の開口部23
の寸法は80μm×280μmとし、各開口部の間隔は
縦横とも20μmとした。
[Embodiment 2] As a second embodiment of the present invention,
A color filter substrate having the structure shown in FIGS. 5 and 6 was manufactured. First, on the same glass substrate 1 as in Example 1, chromium oxide and chromium were laminated to form a metal light-shielding film 21 having a thickness of 0.2 μm to reduce the surface reflectance when a liquid crystal element was formed. The forming method is the same as in the first embodiment. The opening 23 of the metal light shielding film 21 in a region corresponding to the display region 6
Was 80 μm × 280 μm, and the distance between the openings was 20 μm both vertically and horizontally.

【0028】上記金属遮光膜21の上に、実施例1と同
様にして、カラーフィルタ22(a=90μm、b=2
90μm、c=100μm、d=300μm、被覆面積
率=87%)、及びカラーフィルタ24(e=78μ
m、f=270μm、g=100μm、h=300μ
m、被覆面積率=70%、カラーフィルタ22の被覆面
積率に対して80%、カラーフィルタ22の面積に対し
て81%)を形成し、平坦化層31を積層した。
A color filter 22 (a = 90 μm, b = 2) is formed on the metal light shielding film 21 in the same manner as in the first embodiment.
90 μm, c = 100 μm, d = 300 μm, covering area ratio = 87%), and the color filter 24 (e = 78 μm)
m, f = 270 μm, g = 100 μm, h = 300 μ
m, covering area ratio = 70%, covering area ratio of the color filter 22 was 80%, and covering area of the color filter 22 was 81%), and the flattening layer 31 was laminated.

【0029】本実施例のカラーフィルタ基板において
も、図6示す周辺領域7と表示領域6との最大段差Aは
0.05μm以内に収まった。
Also in the color filter substrate of this embodiment, the maximum step A between the peripheral area 7 and the display area 6 shown in FIG. 6 was within 0.05 μm.

【0030】[比較例2]周辺領域7にも、表示領域6
と全く同じ大きさとピッチでカラーフィルタ(被覆面積
率87%、カラーフィルタ22の被覆面積率に対して1
00%、カラーフィルタ22の面積に対して100%)
を形成した以外は、実施例2と同様にしてカラーフィル
タ基板を作製した。
[Comparative Example 2] The display area 6 is also provided in the peripheral area 7.
With the same size and pitch as the color filter (coverage area ratio 87%, 1
00%, 100% of the area of the color filter 22)
A color filter substrate was manufactured in the same manner as in Example 2 except that was formed.

【0031】図7に示すように、周辺領域7と表示領域
6の最大段差Aは0.2μmで、境界部では連続的にス
ロープ状になっていた。
As shown in FIG. 7, the maximum step A between the peripheral area 7 and the display area 6 was 0.2 μm, and the boundary portion had a continuous slope shape.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
周辺領域と表示領域との段差を0.05μm以下に低減
することができ、実質的に段差の表示への影響を防止す
ることができる。これにより、製造コストを落とすこと
なく、表示品質の良い液晶素子を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention,
The step between the peripheral area and the display area can be reduced to 0.05 μm or less, and the effect of the step on the display can be substantially prevented. Thus, a liquid crystal element with good display quality can be provided without reducing the manufacturing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】液晶素子の一例の構成を示す平面模式図であ
る。
FIG. 1 is a schematic plan view illustrating a configuration of an example of a liquid crystal element.

【図2】本発明の第1の実施例のカラーフィルタ基板の
カラーフィルタの形状を示す平面模式図である。
FIG. 2 is a schematic plan view illustrating a shape of a color filter of the color filter substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図2に示したカラーフィルタ基板の断面を示す
模式図である。
FIG. 3 is a schematic view showing a cross section of the color filter substrate shown in FIG.

【図4】本発明の第1の比較例のカラーフィルタ基板の
断面を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a cross section of a color filter substrate according to a first comparative example of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例のカラーフィルタ基板の
カラーフィルタの形状を示す平面模式図である。
FIG. 5 is a schematic plan view showing a shape of a color filter of a color filter substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図6】図5に示したカラーフィルタ基板の断面を示す
模式図である。
FIG. 6 is a schematic view showing a cross section of the color filter substrate shown in FIG.

【図7】本発明の第2の比較例のカラーフィルタ基板の
断面を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a cross section of a color filter substrate according to a second comparative example of the present invention.

【図8】従来の液晶素子の断面を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic view showing a cross section of a conventional liquid crystal element.

【図9】従来のカラーフィルタ基板のカラーフィルタの
形状を示す平面模式図である。
FIG. 9 is a schematic plan view showing the shape of a color filter of a conventional color filter substrate.

【図10】従来のカラーフィルタ基板の断面を示す模式
図である。
FIG. 10 is a schematic view showing a cross section of a conventional color filter substrate.

【図11】従来のカラーフィルタ基板の断面を示す模式
図である。
FIG. 11 is a schematic view showing a cross section of a conventional color filter substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,3 透明基板 2,4 実装端子部 5 シール材 6 表示領域 7 周辺領域 8 液晶注入口 9 封口材 21 金属遮光膜 22 カラーフィルタ(表示領域) 23 金属遮光膜の開口部 24 カラーフィルタ(周辺領域) 31 平坦化層 81,83 透明電極 82,84 配向制御膜 86 スペーサー 87 液晶 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 3 Transparent substrate 2, 4 Mounting terminal part 5 Sealing material 6 Display area 7 Peripheral area 8 Liquid crystal injection port 9 Sealing material 21 Metal light shielding film 22 Color filter (display area) 23 Metal light shielding film opening 24 Color filter (periphery) Region) 31 Flattening layer 81, 83 Transparent electrode 82, 84 Alignment control film 86 Spacer 87 Liquid crystal

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示領域とそれを取り囲む周辺領域を有
する液晶素子に用いるカラーフィルタ基板であって、透
明基板上に少なくとも、表示領域にドット状の開口部を
有し且つ周辺領域全面を覆う遮光膜と、表示領域の遮光
膜の開口部上及び周辺領域の遮光膜上に設けられた着色
樹脂からなるドット状のカラーフィルタ群と、該カラー
フィルタ群の上に全面に被覆された平坦化層を有し、上
記カラーフィルタ群において、周辺領域に設けられたカ
ラーフィルタの基板に対する被覆面積率が表示領域に設
けられたカラーフィルタの基板に対する被覆面積率の7
0〜95%であることを特徴とするカラーフィルタ基
板。
1. A color filter substrate for use in a liquid crystal element having a display area and a peripheral area surrounding the display area, wherein at least a transparent substrate has a dot-shaped opening in the display area and covers the entire peripheral area. Film, a dot-shaped color filter group made of a colored resin provided on the opening of the light-shielding film in the display region and on the light-shielding film in the peripheral region, and a flattening layer entirely coated on the color filter group In the above color filter group, the coverage area ratio of the color filter provided in the peripheral region to the substrate is 7% of the coverage area ratio of the color filter provided in the display region to the substrate.
A color filter substrate, which is 0 to 95%.
【請求項2】 上記周辺領域に設けられたカラーフィル
タの1ドットの被覆面積が、表示領域に設けられたカラ
ーフィルタの1ドットの被覆面積の400%以下である
請求項1記載のカラーフィルタ基板。
2. The color filter substrate according to claim 1, wherein a coverage area of one dot of the color filter provided in the peripheral area is 400% or less of a coverage area of one dot of the color filter provided in the display area. .
【請求項3】 前記遮光膜が金属材料からなる請求項1
記載のカラーフィルタ基板。
3. The light shielding film is made of a metal material.
The color filter substrate as described in the above.
【請求項4】 一対の電極基板間に液晶を挟持してなる
液晶素子であって、一方の基板が、請求項1〜3のいず
れかに記載のカラーフィルタ基板を用いて構成されてい
ることを特徴とする液晶素子。
4. A liquid crystal element having a liquid crystal sandwiched between a pair of electrode substrates, wherein one of the substrates is formed using the color filter substrate according to claim 1. A liquid crystal device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 上記カラーフィルタ基板とは反対側の基
板を観察者側に配置する請求項4記載の液晶素子。
5. The liquid crystal device according to claim 4, wherein a substrate opposite to the color filter substrate is arranged on a viewer side.
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