JPH1092179A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH1092179A
JPH1092179A JP8243522A JP24352296A JPH1092179A JP H1092179 A JPH1092179 A JP H1092179A JP 8243522 A JP8243522 A JP 8243522A JP 24352296 A JP24352296 A JP 24352296A JP H1092179 A JPH1092179 A JP H1092179A
Authority
JP
Japan
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signal
data
bit line
input
write
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8243522A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoyasu Akai
清恭 赤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH1092179A publication Critical patent/JPH1092179A/en
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device which enables the quick recovery of a bit line. SOLUTION: A column selection gate control signal CSGC is generated in accordance with a data transition detection signal DTD and a column decoding signal CD. A precharge signal PC is generated in accordance with the data transition detection signal DTD and an internal writing enable signal/WEi. If the internal writing enable signal/WEi is inactivated, the precharge signal is activated and the precharge of a bit line is started. Further, in response to the column selection gate control signal CSGC, even after a writing cycle is finished, a column selection gate is continuously in an open state for a period Δt by a writing circuit and the precharge of the bit line is continued.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特に、ビット線の電位をプリチャージする回路を
備えた半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a circuit for precharging the potential of a bit line.

【0002】[0002]

【従来の技術】図23は、従来の半導体記憶装置内のコ
ラム選択ゲート制御信号を生成するコラム選択ゲ−ト制
御信号生成回路2300を示す回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 23 is a circuit diagram showing a column selection gate control signal generation circuit 2300 for generating a column selection gate control signal in a conventional semiconductor memory device.

【0003】図23を参照して、コラム選択ゲ−ト制御
信号生成回路2300は、NANDゲート701と、N
ANDゲート701の出力ノードに接続されたインバー
タ703とを備える。
Referring to FIG. 23, a column selection gate control signal generating circuit 2300 includes a NAND gate 701 and an N gate.
And an inverter 703 connected to the output node of the AND gate 701.

【0004】NANDゲート701の一方の入力ノード
にはデータ遷移検知信号DTDが入力され、他方の入力
ノードにはビット線を選択するための列デコード信号が
入力されている。ここで、データ遷移検知信号DTD
は、外部から入力されたデータの遷移を検知して活性化
される信号である。
A data transition detection signal DTD is inputted to one input node of the NAND gate 701, and a column decode signal for selecting a bit line is inputted to the other input node. Here, the data transition detection signal DTD
Is a signal that is activated by detecting a transition of data input from the outside.

【0005】NANDゲート701からの出力信号はイ
ンバータ703で反転され、コラム選択ゲート制御信号
CSGCが出力される。
[0005] The output signal from NAND gate 701 is inverted by inverter 703, and a column selection gate control signal CSGC is output.

【0006】図24は、従来の半導体記憶装置内のビッ
ト線対20とコラム選択ゲート27a,27bと、プリ
チャージ回路601との周辺部を示す回路図である。
FIG. 24 is a circuit diagram showing a peripheral portion of a bit line pair 20, column select gates 27a and 27b, and a precharge circuit 601 in a conventional semiconductor memory device.

【0007】図24を参照して、ビット線対20は、ビ
ット線20aとビット線20bとを含む。
Referring to FIG. 24, bit line pair 20 includes a bit line 20a and a bit line 20b.

【0008】データ書込回路において,ビット線対20
aはコラム選択ゲート27aに接続され、,ビット線対
20bはコラム選択ゲート27bに接続されている。
In a data write circuit, a bit line pair 20
a is connected to the column selection gate 27a, and the bit line pair 20b is connected to the column selection gate 27b.

【0009】プリチャージ回路601は、一方のソース
/ドレイン電極に電源電圧が与えられたNMOSトラン
ジスタ25a,25bを備える。NMOSトランジスタ
25a,25bはビット線負荷であり、NMOSトラン
ジスタ25a他方のソース/ドレイン電極はビット線2
0aに接続され、NMOSトランジスタ25bの他方の
ソース/ドレイン電極はビット線20bに接続されてい
る。
The precharge circuit 601 includes NMOS transistors 25a and 25b each having a source / drain electrode supplied with a power supply voltage. The NMOS transistors 25a and 25b are bit line loads, and the other source / drain electrode of the NMOS transistor 25a is the bit line 2
0a, and the other source / drain electrode of the NMOS transistor 25b is connected to the bit line 20b.

【0010】図23のコラム選択ゲート制御信号CSG
Cは、コラム選択ゲート27a,27bのゲート電極に
入力され、インバータ2101で反転されたコラム選択
ゲート制御信号の反転信号/CSGCはプリチャージ信
号PCとして、NMOSトランジスタから成るコラム選
択ゲート27a,27bのゲート電極に入力されてい
る。図25は、通常状態におけるビット線20a,20
bの電圧のリカバリの様子を示すタイミングチャートで
ある。
The column selection gate control signal CSG shown in FIG.
C is input to the gate electrodes of the column selection gates 27a and 27b. The inverted signal / CSGC of the column selection gate control signal inverted by the inverter 2101 is used as the precharge signal PC for the column selection gates 27a and 27b formed of NMOS transistors. Input to the gate electrode. FIG. 25 shows bit lines 20a, 20a in a normal state.
6 is a timing chart showing a state of recovery of a voltage b.

【0011】図25を参照して、書込サイクル時、外部
から入力された書込イネーブル信号/WEをもとに内部
書込イネーブル信号/WEiが生成され、同時に、外部
から入力されたデータをもとに書込データWDが生成さ
れる。
Referring to FIG. 25, in a write cycle, an internal write enable signal / WEi is generated based on an externally input write enable signal / WE, and at the same time, externally input data is transferred. Write data WD is originally generated.

【0012】これらをもとに、ビット線27a,27b
に与えるための相補なデータ信号DATA,/DATA
が生成され書込回路(図示せず)からコラム選択ゲート
27a,27bに与えられる。列デコード信号CDは列
アドレスが変化するまでHレベルで活性化されており、
書込サイクル中Hレベルで活性化されており、一方デー
タ遷移検知信号DTDは外部から入力されたデータと内
部書込イネーブル信号/WEiの遷移を検知して所定期
間活性化されHレベルとなる。このデータ遷移検知信号
DTDと列デコード信号CDとにより書込列デコード信
号生成回路2300から、データ遷移検知信号DTDに
応答してHレベルに活性化され、遷移検知信号DTDが
Lレベルに不活性化されるとそれに応答してLレベルに
不活性化されるコラム選択ゲート制御信号CSGCが生
成されコラム選択ゲート27a,27bのゲート電極に
与えられる。
Based on these, bit lines 27a, 27b
Data signals DATA, / DATA to be supplied to
Is generated and applied to column select gates 27a and 27b from a write circuit (not shown). The column decode signal CD is activated at H level until the column address changes.
The data transition detection signal DTD is activated at the H level during the write cycle, and is activated for a predetermined period of time upon detecting the transition of the externally input data and the internal write enable signal / WEi to attain the H level. In response to data transition detection signal DTD, write column decode signal generation circuit 2300 activates H level in response to data transition detection signal DTD and column decode signal CD, and deactivates transition detection signal DTD to L level. Then, in response thereto, a column selection gate control signal CSGC inactivated to L level is generated and applied to the gate electrodes of column selection gates 27a and 27b.

【0013】したがって、通常状態の場合、ビット線へ
のデータの伝達を決定しているのはデータ遷移検知信号
DTDであり、このデータ遷移検知信号のパルスが終了
すると、ビット線へのデータ伝達が終了し、ビット線の
リカバリが開始される。通常状態では、データ遷移検知
信号DTDのパルスは、書込サイクルから読出サイクル
へ移る際の外部アドレス信号の変化より十分速く立下が
るため、次のアドレスが選択されるまでにビット線のリ
カバリが完了する。よって、次のアドレスアクセスなど
に影響を与えない。
Therefore, in the normal state, it is the data transition detection signal DTD that determines the transmission of data to the bit line. When the pulse of the data transition detection signal ends, the data transmission to the bit line is stopped. Then, the recovery of the bit line is started. In the normal state, the pulse of the data transition detection signal DTD falls sufficiently faster than the change of the external address signal when shifting from the write cycle to the read cycle, so that the bit line recovery is completed before the next address is selected. I do. Therefore, it does not affect the next address access or the like.

【0014】ここで、通常状態とは、電源電圧Vcc=
5[V]で、外部アドレス信号が変化する前に書込サイ
クル内で書込動作が終了する状態をいう。
Here, the normal state means that the power supply voltage Vcc =
5 V means that the write operation is completed in the write cycle before the external address signal changes.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、外部ア
ドレス信号の変化と同時に書込動作を完了し、かつ、書
込サイクル中にデータが変化する場合であって、電源電
圧Vccが低電圧(3[V]程度)の場合、上記通常状
態の場合とは異なり、データ遷移検知信号DTDのパル
スは外部アドレス信号の変化時より後に不活性化され
る。
However, in the case where the write operation is completed simultaneously with the change of the external address signal and the data changes during the write cycle, the power supply voltage Vcc is low (3 [ V], the pulse of the data transition detection signal DTD is inactivated after the change of the external address signal, unlike the case of the normal state.

【0016】図26は、電源電圧Vccが低電圧の場合
のビット線のリカバリの様子を示すタイミングチャート
である。
FIG. 26 is a timing chart showing how bit lines are recovered when power supply voltage Vcc is low.

【0017】図26を参照して、データ遷移検知信号D
TDは、外部アドレス信号の変化時から、さらにΔtの
期間中、Hレベルとなっている。
Referring to FIG. 26, data transition detection signal D
TD is at the H level during the period Δt from the time when the external address signal changes.

【0018】したがって、コラム選択ゲート制御信号C
SGCの反転信号であるプリチャージ信号PCは、外部
アドレス信号の変化時から、時間Δt遅れてHレベルと
なる。
Therefore, column select gate control signal C
The precharge signal PC, which is an inverted signal of the SGC, goes to the H level with a delay of time Δt from the change of the external address signal.

【0019】このプリチャージ信号PCにより、ビット
線負荷25a,25bは、外部アドレス信号が読出サイ
クルになってからも、Δtの期間オフしたままであり、
ビット線のプリチャージが遅れてしまうという問題点が
あった。
Due to the precharge signal PC, the bit line loads 25a and 25b remain off for a period Δt even after the external address signal enters a read cycle.
There is a problem that the precharge of the bit line is delayed.

【0020】すなわち、電源電圧Vccが低電圧の場
合、ビット線へのデータの伝達を決定しているのは、通
常状態の場合と異なり、データ遷移検知信号DTDでは
なく、内部書込信号/WEiとなる。この内部書込信号
/WEiは外部アドレス信号の変化と同時に不活性化さ
れHレベルに立上がるため、ビット線のリカバリはこの
タイミングで開始される。そのため、通常状態の場合と
は異なり、ビット線のリカバリは次の読出サイクルまで
及び、アドレスアクセスの遅延、データ化けなどが生じ
てしまう。
That is, when power supply voltage Vcc is low, transmission of data to bit lines is determined differently from the case of normal state, not by data transition detection signal DTD, but by internal write signal / WEi. Becomes Since internal write signal / WEi is inactivated and rises to H level simultaneously with the change of the external address signal, the recovery of the bit line is started at this timing. Therefore, unlike the case of the normal state, the recovery of the bit line extends to the next read cycle, causing a delay in address access, garbled data, and the like.

【0021】このようなリカバリによる不良を防ぐに
は、ビット線負荷のサイズを大きくしたり、ビット線の
イコライズを強くするなどの方法が考えられるが、どち
らもチップ面積の増大を招くという問題点があった。
In order to prevent such a failure due to the recovery, it is conceivable to employ a method of increasing the size of the bit line load or increasing the bit line equalization. However, any of these methods causes an increase in the chip area. was there.

【0022】特開平3−29189号公報では、上記の
問題点を解決するために、以下の方法がめされている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-29189 discloses the following method to solve the above-mentioned problems.

【0023】図27,28は、特開平3−29189号
公報に示されている従来のスタティックランダムアクセ
スメモリを示す回路図である。
FIGS. 27 and 28 are circuit diagrams showing a conventional static random access memory disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-29189.

【0024】図29は、図27,28のスタティックラ
ンダムアクセスメモリによるビット線のプリチャージの
様子を示すタイミングチャートである。
FIG. 29 is a timing chart showing how the bit line is precharged by the static random access memory shown in FIGS.

【0025】図27〜29を参照して、このスタティッ
クランダムアクセスメモリは、遅延回路1と、書き込み
回路2と、NMOSTr(コラム選択ゲ−ト)4,5
と、NMOSTr(ビット線負荷)29,30と、ビッ
ト線BL,/BLと、書込回路出力制御端子11と、W
L(1〜n)とを主な構成としている。遅延回路1に
は、書き込み制御入力WEが入力されている。
Referring to FIGS. 27 to 29, this static random access memory includes a delay circuit 1, a write circuit 2, and NMOS Trs (column selection gates) 4, 5.
, NMOS Trs (bit line loads) 29 and 30, bit lines BL and / BL, write circuit output control terminal 11,
L (1 to n) is the main configuration. The write control input WE is input to the delay circuit 1.

【0026】このスタティックランダムアクセスメモリ
においては、書込終了後、図28に示した回路によりプ
リチャージが行なわれる期間中の一定時間(D)に、図
27の書込回路2によりプリチャージが行なわれる。
In this static random access memory, after completion of writing, precharging is performed by writing circuit 2 of FIG. 27 for a predetermined time (D) during a period in which precharging is performed by the circuit shown in FIG. It is.

【0027】しかしながら、図28の回路によるプリチ
ャージを制御するためのプリチャージ信号PCは、図2
7の書込回路2内のNMOSTr4,5を制御する書込
制御信号WEの遅延信号とその生成において全く関連が
ないため、書込回路2によるプリチャージ時間Dを制御
しにくいという問題点があった。
However, the precharge signal PC for controlling precharge by the circuit of FIG.
7, since there is no relation between the delay of the write control signal WE for controlling the NMOS Trs 4 and 5 in the write circuit 2 and its generation, it is difficult to control the precharge time D by the write circuit 2. Was.

【0028】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、チップ面積を増大させることな
く、ビット線の電圧のリカバリを改善することが可能な
半導体記憶装置を提供することを第1の目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and provides a semiconductor memory device capable of improving bit line voltage recovery without increasing the chip area. This is the first object.

【0029】また、プリチャージ回路と書込回路とによ
るプリチャ−ジの時間を、容易に制御することが可能な
半導体記憶装置を提供することを第2の目的とする。
A second object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of easily controlling a precharge time by a precharge circuit and a write circuit.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
半導体記憶装置は、メモリセルと、メモリセルに接続さ
れたビット線と、第1の信号に応答してメモリセルにデ
ータを書込むデータ書込手段と、第2の信号に応答して
データ書込手段によるデータ書込終了後にビット線をプ
リチャージするプリチャージ手段と、書込イネーブル信
号をもとに、データ書込手段によるデータ書込時に活性
化され、データ書込終了後も続けて所定時間活性化され
る第1の信号と、データ書込手段によるデータ書込終了
後に活性化される第2の信号とを生成し出力する信号生
成手段とを設けたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, comprising: a memory cell; a bit line connected to the memory cell; and data written to the memory cell in response to a first signal. Data writing means, precharge means for precharging a bit line after completion of data writing by the data writing means in response to the second signal, and data writing means based on the write enable signal. A first signal which is activated at the time of data writing and is continuously activated for a predetermined time after the data writing is completed, and a second signal which is activated after the data writing by the data writing means is completed. And a signal generating means for outputting.

【0031】本発明の請求項2に係る半導体記憶装置
は、請求項1の半導体記憶装置において、外部から入力
されたデータの遷移を検知してデータ遷移検知信号を出
力するデータ遷移検知手段をさらに設けたものであり、
データ書込手段に、メモリセルに書込むためのデータを
出力する書込バッファと、書込バッファとビット線との
間に接続され第1の信号に応答してオン/オフするコラ
ム選択ゲートとを設け、プリチャージ手段に、ビット線
と電源との間に接続され第2の信号に応答してプリチャ
ージ電圧を供給するビット線負荷を設け、信号生成手段
に、一方の入力ノードにビット線を選択するためのコラ
ム選択信号が入力され、他方の入力ノードにデータ遷移
検知信号が入力され、第1の信号を出力する第1のAN
Dゲートと、一方の入力ノードに書込イネーブル信号が
入力され、他方の入力ノードにデータ遷移検知信号が入
力され、第2の信号を出力する第2のANDゲートとを
設けたものである。
A semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first aspect, further comprising a data transition detecting means for detecting a transition of externally input data and outputting a data transition detection signal. Provided
A write buffer for outputting data to be written to the memory cell to the data writing means, a column selection gate connected between the write buffer and the bit line and turned on / off in response to a first signal; And a precharge means is provided with a bit line load connected between the bit line and the power supply for supplying a precharge voltage in response to a second signal, and the signal generation means is provided with a bit line at one input node. , A data selection detection signal is input to the other input node, and a first AN that outputs a first signal is input.
A D gate and a second AND gate that receives a write enable signal at one input node, receives a data transition detection signal at the other input node, and outputs a second signal are provided.

【0032】本発明の請求項3に係る半導体記憶装置
は、請求項1の半導体記憶装置において、外部から入力
されたデータの遷移を検知してデータ遷移検知信号を出
力するデータ遷移検知手段をさらに設けたものであり、
データ書込手段に、メモリセルに書込むためのデータを
出力する書込バッファと、書込バッファとビット線との
間に接続され第1の信号に応答してオン/オフするコラ
ム選択ゲートとを設け、プリチャージ手段に、ビット線
と電源との間に接続され第2の信号に応答してプリチャ
ージ電圧を供給するビット線負荷を設け、信号生成手段
に、書込イネーブル信号を遅延して書込イネーブル信号
の遅延信号を生成する遅延手段と、一方の入力ノードに
ビット線を選択するためのコラム選択信号が入力され、
他方の入力ノードに書込イネーブル信号の遅延信号が入
力され、第1の信号を出力する第1のANDゲートと、
一方の入力ノードに書込イネーブル信号が入力され、他
方の入力ノードに書込イネーブル信号の遅延信号が入力
され、第2の信号を出力する第2のANDゲートとを設
けたものである。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the first aspect, the semiconductor memory device further comprises a data transition detecting means for detecting a transition of externally input data and outputting a data transition detection signal. Provided
A write buffer for outputting data to be written to the memory cell to the data writing means, a column selection gate connected between the write buffer and the bit line and turned on / off in response to a first signal; And a bit line load connected between the bit line and the power supply for supplying a precharge voltage in response to the second signal is provided in the precharge means, and the write enable signal is delayed in the signal generation means. A delay means for generating a delay signal of a write enable signal, and a column selection signal for selecting a bit line to one input node,
A first AND gate to which a delay signal of the write enable signal is input to the other input node and which outputs a first signal;
A write enable signal is input to one input node, a delay signal of the write enable signal is input to the other input node, and a second AND gate that outputs a second signal is provided.

【0033】本発明の請求項4に係る半導体記憶装置
は、請求項1の半導体記憶装置において、データ書込手
段に、メモリセルに書込むためのデータを出力する書込
バッファと、書込バッファとビット線との間に接続され
第1の信号に応答してオン/オフするコラム選択ゲート
とを設け、プリチャージ手段に、ビット線と電源との間
に接続され第2の信号に応答してプリチャージ電圧を供
給するビット線負荷を設け、信号生成手段に、一方の入
力ノードにビット線を選択するためのコラム選択信号が
入力され、他方の入力ノードにデータ遷移検知信号が入
力され、第2の信号を出力するANDゲートと、第2の
信号を遅延して第1の信号を生成する遅延手段とを設
け、外部から入力されたデータの遷移を検知してデータ
遷移検知信号を出力するデータ遷移検知手段とをさらに
設けたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the write buffer for outputting data to be written to the memory cell to the data writing means, and the write buffer. A column selection gate connected between the bit line and a power supply, the column selection gate being turned on / off in response to a first signal, provided between the bit line and a power supply. A bit line load for supplying a precharge voltage, a column selection signal for selecting a bit line is input to one input node to the signal generation means, and a data transition detection signal is input to the other input node, An AND gate that outputs a second signal; and a delay unit that delays the second signal to generate a first signal, detects a transition of data input from the outside, and outputs a data transition detection signal. You It is obtained by further providing a data transition detection means.

【0034】本発明の請求項5に係る半導体記憶装置
は、請求項1の半導体記憶装置において、データ書込手
段に、メモリセルに書込むためのデータを出力する書込
バッファと、書込バッファとビット線との間に接続され
第1の信号に応答してオン/オフするコラム選択ゲート
とを設け、プリチャージ手段に、ビット線と電源との間
に接続され第2の信号に応答してプリチャージ電圧を供
給するビット線負荷を設け、信号生成手段に、一方の入
力ノードにビット線を選択するためのコラム選択信号が
入力され、他方の入力ノードに書込イネーブル信号が入
力され、第2の信号を出力するANDゲートと、第2の
信号を遅延して前記第1の信号を生成する遅延手段とを
設けたものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the first aspect, a write buffer for outputting data to be written to the memory cell to the data writing means, and a write buffer. A column selection gate connected between the bit line and a power supply, the column selection gate being turned on / off in response to a first signal, provided between the bit line and a power supply. A bit line load for supplying a precharge voltage, a column selection signal for selecting a bit line is input to one input node to the signal generation means, a write enable signal is input to the other input node, An AND gate for outputting a second signal and delay means for delaying the second signal to generate the first signal are provided.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0036】また、図中同一符号は、同一または相当部
分を示す。 (1) 実施の形態1 図1は、本発明の実施の形態1の半導体記憶装置100
の構成を示すブロック図である。
The same reference numerals in the drawings denote the same or corresponding parts. (1) First Embodiment FIG. 1 shows a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of FIG.

【0037】半導体記憶装置100は、行アドレス信号
入力端子101と、入力された行アドレス信号を増幅ま
たは反転するための行アドレスバッファ102と、行ア
ドレス信号入力端子101に与えられた行アドレス信号
を復号化するための行デコーダと、列アドレス信号入力
端子104と、入力された列アドレス信号を増幅または
反転するための列アドレスバッファ105と、列アドレ
ス信号入力端子104に与えられた列アドレス信号を復
号化するための列デコーダ106と、データを記憶した
複数のメモリセルがマトリックス状に配列されたメモリ
セルアレイ107と、マルチプレクサ108と、小振幅
の読出電圧を感知増幅するセンスアンプ109と、セン
スアンプ109の出力をさらに半導体記憶装置100の
外部に取出すレベルまで増幅するための出力データバッ
ファ110と、読出データを出力するための読出データ
出力端子111と、書込データを入力するための書込デ
ータ入力端子112と、書込データ入力端子112に与
えられた書込データを増幅するための書き込み回路11
3と、チップ選択信号入力端子114と、読出/書込制
御入力端子115と、チップ選択/非選択とデータ読出
/書込モードに応じてセンスアンプ109,データ出力
バッファ110,書込データバッファ113などを制御
する読出/書込制御回路116と、信号生成回路201
とを備える。
The semiconductor memory device 100 includes a row address signal input terminal 101, a row address buffer 102 for amplifying or inverting the input row address signal, and a row address signal applied to the row address signal input terminal 101. A row decoder for decoding, a column address signal input terminal 104, a column address buffer 105 for amplifying or inverting the input column address signal, and a column address signal applied to the column address signal input terminal 104 A column decoder 106 for decoding, a memory cell array 107 in which a plurality of memory cells storing data are arranged in a matrix, a multiplexer 108, a sense amplifier 109 for sensing and amplifying a small amplitude read voltage, and a sense amplifier Level for further taking out the output of the semiconductor memory device 100 Output data buffer 110 for amplifying the read data, read data output terminal 111 for outputting read data, write data input terminal 112 for inputting write data, and write data input terminal 112. Write circuit 11 for amplifying read data
3, a chip selection signal input terminal 114, a read / write control input terminal 115, and a sense amplifier 109, a data output buffer 110, and a write data buffer 113 according to chip selection / non-selection and data read / write mode. Read / write control circuit 116 that controls
And

【0038】行アドレス信号入力端子101は行アドレ
スバッファ102に接続されている。行アドレスバッフ
ァ102は行デコーダ103に接続されている。行デコ
ーダ103はメモリセルアレイ107内の複数のワード
線(図示せず)に接続されている。
The row address signal input terminal 101 is connected to a row address buffer 102. The row address buffer 102 is connected to a row decoder 103. The row decoder 103 is connected to a plurality of word lines (not shown) in the memory cell array 107.

【0039】列アドレス信号入力ノード104は、列ア
ドレスバッファ105に接続されている。列アドレスバ
ッファ105は列デコーダ106に接続されている。列
デコーダ106はマルチプレクサ108に接続されてい
る。マルチプレクサ108はメモリセルアレイ107内
の複数のビット線(図示せず)に接続されている。
The column address signal input node 104 is connected to a column address buffer 105. The column address buffer 105 is connected to a column decoder 106. The column decoder 106 is connected to the multiplexer 108. The multiplexer 108 is connected to a plurality of bit lines (not shown) in the memory cell array 107.

【0040】センスアンプ109はマルチプレクサ10
8に接続され、その出力は出力データバッファ110に
接続されている。出力バッファ110の出力ノードには
データ出力端子111が設けられている。
The sense amplifier 109 is connected to the multiplexer 10
8 and its output is connected to the output data buffer 110. An output node of the output buffer 110 is provided with a data output terminal 111.

【0041】データバッファ113の入力ノードにはデ
ータ入力端子112が設けられ、出力ノードはマルチプ
レクサ108に接続されている。
A data input terminal 112 is provided at an input node of the data buffer 113, and an output node is connected to the multiplexer 108.

【0042】読出/書込制御回路115にはチップセレ
クト入力端子114と読出/書込制御入力端子115と
が設けられ、その出力はセンスアンプ109と、出力デ
ータバッファ110と、書込データバッファ113とに
接続されている。
The read / write control circuit 115 is provided with a chip select input terminal 114 and a read / write control input terminal 115, the outputs of which are sense amplifier 109, output data buffer 110, and write data buffer 113 And connected to.

【0043】データ入力端子112から入力されたデー
タは入力データバッファ113とマルチプレクサ108
とを介してメモリセルアレイ107内のメモリセルに書
込まれる。また、メモリセルアレイ107内のメモリセ
ルから読出されたデータは、マルチプレクサ108を介
してセンスアンプ109で増幅され出力データバッファ
110を介してデータ出力端子111から読出される。
Data input from the data input terminal 112 is input to the input data buffer 113 and the multiplexer 108.
Are written to the memory cells in the memory cell array 107 via Data read from a memory cell in memory cell array 107 is amplified by sense amplifier 109 via multiplexer 108 and read from data output terminal 111 via output data buffer 110.

【0044】このとき、書込または読出が行なわれるメ
モリセルの選択は、行アドレス信号101から入力され
た行アドレス信号と列アドレス信号入力端子104から
入力された列アドレス信号とに基づいて選択されたワー
ド線およびビット線に接続されたメモリセルが選択され
る。
At this time, a memory cell to be written or read is selected based on a row address signal input from row address signal 101 and a column address signal input from column address signal input terminal 104. The memory cell connected to the selected word line and bit line is selected.

【0045】図2は、図1のメモリセルアレイ107の
内部および周辺部を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of memory cell array 107 of FIG.

【0046】ここでは、簡単のため、2行2列の構成の
ものを示している。図2を参照して、メモリセルアレイ
107は、行デコーダ103に接続されたワード線2
2,23と、ビット線対20,21と、メモリセル24
a,24b,24c,24dとを備える。
Here, for simplicity, a configuration having two rows and two columns is shown. Referring to FIG. 2, memory cell array 107 includes word line 2 connected to row decoder 103.
2, 23, a bit line pair 20, 21 and a memory cell 24.
a, 24b, 24c, 24d.

【0047】ビット線対20は、ビット線20a,20
bを含む。ビット線対21は、ビット線21a,21b
を含む。
Bit line pair 20 includes bit lines 20a and 20a.
b. The bit line pair 21 includes bit lines 21a and 21b.
including.

【0048】メモリセルアレイ107の周辺部には、プ
リチャージ回路601と、マルチプレクサ108と、入
出力線対29とを備える。
A peripheral portion of the memory cell array 107 includes a precharge circuit 601, a multiplexer 108, and an input / output line pair 29.

【0049】プリチャージ回路601は、ビット線負荷
25a,25b,26a,26bを備える。マリチプレ
クサ108は、コラム選択ゲート27a,27b,28
a,28bを備える。入出力線対29は、入出力線29
a,29bを含む。
The precharge circuit 601 includes bit line loads 25a, 25b, 26a, 26b. The multiplexer 108 includes column selection gates 27a, 27b, 28
a, 28b. The input / output line pair 29 is
a, 29b.

【0050】行デコーダ103に接続されたワード線2
2は、メモリセル24a,24bとに接続されている。
同様に、行デコーダ103に接続されたワード線23
は、メモリセル24c,24dに接続されている。
Word line 2 connected to row decoder 103
2 is connected to the memory cells 24a and 24b.
Similarly, the word line 23 connected to the row decoder 103
Are connected to the memory cells 24c and 24d.

【0051】マルチプレクサ108は、コラム選択ゲー
ト27a,27b,28a,28bを備える。
The multiplexer 108 includes column selection gates 27a, 27b, 28a, 28b.

【0052】入出力線対の一方の入出力線29aは、コ
ラム選択ゲート27aを介してビット線対20の一方の
ビット線対20aに接続され、コラム選択ゲート28a
を介してビット線対21の一方のビット線21aに接続
されている。入出力線対29の他方の入出力線29b
は、コラム選択ゲート27bを介してビット線20の他
方のビット線20bに接続され、コラム選択ゲート28
bを介してビット線対21の他方のビット線21bに接
続されている。コラム選択ゲート27a,27bは共通
に接続され、コラム選択ゲート28a,28bは共通に
接続され、ともに列デコーダ106に接続されている。
One input / output line 29a of the input / output line pair is connected to one bit line pair 20a of the bit line pair 20 via a column selection gate 27a.
Is connected to one of the bit lines 21a of the bit line pair 21. The other input / output line 29b of the input / output line pair 29
Is connected to the other bit line 20b of the bit line 20 via a column selection gate 27b.
b, it is connected to the other bit line 21b of the bit line pair 21. The column selection gates 27a and 27b are commonly connected, and the column selection gates 28a and 28b are commonly connected and both are connected to the column decoder 106.

【0053】プリチャージ回路601内のビット線負荷
25a,25b,26a,26bは、NMOSトランジ
スタであり、その一方のソース/ドレイン電極とゲート
電極とは電源に接続されている。ビット線負荷25aの
他方のソース/ドレイン電極はビット線20aに、ビッ
ト線負荷25bの他方のソース/ドレイン電極はビット
線20bに、ビット線負荷26aの他方のソース/ドレ
イン電極はビット線21aに、ビット線負荷26bの他
方のソース/ドレイン電極はビット線21bにそれぞれ
接続されている。
The bit line loads 25a, 25b, 26a and 26b in the precharge circuit 601 are NMOS transistors, one of which has a source / drain electrode and a gate electrode connected to a power supply. The other source / drain electrode of bit line load 25a is connected to bit line 20a, the other source / drain electrode of bit line load 25b is connected to bit line 20b, and the other source / drain electrode of bit line load 26a is connected to bit line 21a. , The other source / drain electrode of the bit line load 26b is connected to the bit line 21b.

【0054】図8において、データ入力端子112から
入力された書込データは、データ入力バッファ113に
より相補な信号となって入出力線対29の各々の入力線
29a,29bに与えられる。そして、列デコーダ10
6によりオンされたコラム選択ゲート27a,27bま
たは28a,28bを介して、行デコーダ103により
選択されたワード線22または23に接続されたメモリ
セル24a,24bのいずれかに記憶される。
In FIG. 8, write data input from data input terminal 112 is supplied to input lines 29a and 29b of input / output line pair 29 as complementary signals by data input buffer 113. And the column decoder 10
The data is stored in one of the memory cells 24a, 24b connected to the word line 22 or 23 selected by the row decoder 103 via the column selection gates 27a, 27b or 28a, 28b turned on by 6.

【0055】図3は、図2のメモリセル24a〜24d
の一例である高抵抗負荷型NMOSメモリセルを示す回
路図である。
FIG. 3 shows the memory cells 24a to 24d of FIG.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a high-resistance load type NMOS memory cell as an example of FIG.

【0056】図4は、図2のメモリセル24a〜24d
の一例であるCMOS型メモリセルを示す回路図であ
る。
FIG. 4 shows the memory cells 24a to 24d of FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a CMOS type memory cell as an example of FIG.

【0057】図3を参照して、高抵抗負荷型NMOSメ
モリセル300は、Nチャネルのドライバトランジスタ
41a,41bと、Nチャネルのアクセストランジスタ
42a,42bと、負荷抵抗43a,43bとを備え
る。
Referring to FIG. 3, high resistance load type NMOS memory cell 300 includes N-channel driver transistors 41a and 41b, N-channel access transistors 42a and 42b, and load resistors 43a and 43b.

【0058】Nチャネルのドライバトランジスタ41
a,41bは、一方のソース/ドレイン電極が記憶ノー
ド45a,45bに、他方のソース/ドレイン電極が接
続され、ゲート電極が互いの一方のソース/ドレイン電
極に接続されている。Nチャネルのアクセストランジス
タ42a,42bは、一方のソース/ドレイン電極が記
憶ノード45a,45bに他方のソース/ドレイン電極
がビット線20a(21a),20b(21b)に接続
され、ゲート電極がワード線22(23)に接続されて
いる。負荷抵抗43a,43bは、一方端が電源に接続
され、他方端が記憶ノード45a,45bに接続されて
いる。
N-channel driver transistor 41
In a and 41b, one source / drain electrode is connected to the storage nodes 45a and 45b, the other source / drain electrode is connected, and the gate electrode is connected to one of the source / drain electrodes. N-channel access transistors 42a and 42b have one source / drain electrode connected to storage nodes 45a and 45b and the other source / drain electrode connected to bit lines 20a (21a) and 20b (21b), and a gate electrode connected to a word line. 22 (23). The load resistors 43a and 43b have one ends connected to the power supply and the other ends connected to the storage nodes 45a and 45b.

【0059】図4を参照して、CMOS型メモリセル4
00は、図3の高抵抗負荷型NMOSメモリセル300
において、負荷抵抗43a,43bを、それぞれPMO
Sトランジスタ44a,44bに置換えたものである。
Referring to FIG. 4, CMOS memory cell 4
00 is a high resistance load type NMOS memory cell 300 of FIG.
, The load resistors 43a and 43b are respectively connected to the PMO
It is replaced with S transistors 44a and 44b.

【0060】PMOSトランジスタ44aのゲート電極
はNチャネルのドライバトランジスタ41aのゲート電
極に接続され、さらに記憶ノード45bに接続されてい
る。また、PMOSトランジスタ44bのゲート電極は
Nチャネルのアクセストランジスタ41bのゲート電極
に接続され、さらに記憶ノード45aに接続されてい
る。
The gate electrode of the PMOS transistor 44a is connected to the gate electrode of the N-channel driver transistor 41a, and further connected to the storage node 45b. The gate electrode of the PMOS transistor 44b is connected to the gate electrode of the N-channel access transistor 41b, and further connected to the storage node 45a.

【0061】図5は、図1〜4の回路の動作を説明する
ためのタイミングチャートである。図5において、Ai
nはアドレス信号入力、Aoutはアドレスバッファ出
力、WLはワード線、I/Oは入出力線、SAoutは
センスアンプ出力、Doutはデータ出力を示す。
FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation of the circuits shown in FIGS. In FIG. 5, Ai
n indicates an address signal input, Aout indicates an address buffer output, WL indicates a word line, I / O indicates an input / output line, SAout indicates a sense amplifier output, and Dout indicates a data output.

【0062】メモリセル24aが選択される場合には、
行アドレス信号入力ノード104から選択すべきメモリ
セル24aが位置する行に対応した行アドレス信号が入
力され、メモリセル24aが接続されたワード線22が
選択レベル(たとえばHレベル)になり、他のワード線
23は非選択レベル(たとえばLレベル)になる。
When the memory cell 24a is selected,
A row address signal corresponding to the row in which memory cell 24a to be selected is located is input from row address signal input node 104, and word line 22 connected to memory cell 24a attains a selected level (for example, H level). Word line 23 is at a non-selected level (for example, L level).

【0063】同様にビット線の選択についても、列アド
レス入力端子104から選択すべきメモリセル24aが
接続されたビット線対20が位置する列に対応した列ア
ドレス信号が入力され、そのビット線対20のビット線
20a,20bに接続されたトランスファゲート27
a,27bのみが導通するので、選択されたビット線2
0a,20bのみ入出力線対29の入出力線29a,2
9bに接続され、他のビット線対21は非選択となり入
出力線対29から切離される。
Similarly, when selecting a bit line, a column address signal corresponding to the column where bit line pair 20 to which memory cell 24a to be selected is connected is input from column address input terminal 104, and the bit line pair is input. Transfer gate 27 connected to 20 bit lines 20a, 20b
a and 27b conduct, so that the selected bit line 2
The input / output lines 29a, 29 of the input / output line pair 29 only for 0a, 20b
9b, the other bit line pair 21 is deselected and disconnected from the input / output line pair 29.

【0064】次に、選択されたメモリセル24aからの
読出動作について説明する。今、図4において、メモリ
セルの記憶ノード45aがHレベルであり、記憶ノード
45bがLレベルであるとする。
Next, a read operation from the selected memory cell 24a will be described. Now, in FIG. 4, it is assumed that storage node 45a of the memory cell is at H level and storage node 45b is at L level.

【0065】このとき、メモリセル24aの一方のドラ
イバトランジスタ41aは非導通状態にあり、他方のド
ライバトランジスタ41bは導通状態である。また、ワ
ード線22がHレベルで選択された状態であるから、メ
モリセル24aのアクセストランジスタ42a,42b
はともに導通状態にある。
At this time, one driver transistor 41a of memory cell 24a is off, and the other driver transistor 41b is on. Since the word line 22 is selected at the H level, the access transistors 42a and 42b of the memory cell 24a are selected.
Are both conductive.

【0066】したがって、電源Vcc→ビット線負荷2
5b→ビット線20b→アクセストランジスタ42b→
ドライバトランジスタ41b→接地GNDの経路で直流
電流が発生する。
Therefore, power supply Vcc → bit line load 2
5b → bit line 20b → access transistor 42b →
A direct current is generated on the path from the driver transistor 41b to the ground GND.

【0067】しかし、もう一方の経路である電源(Vc
c)→ビット線負荷25a→ビット線20a→アクセス
トランジスタ42a→ドライバトランジスタ41a→接
地(GND)の経路では、ドライバトランジスタ41a
が非導通状態であるので直流電流は流れない。このと
き、直流電流の流れないビット線20aの電位は、ビッ
ト線負荷トランジスタ25a,25b,26a,26b
のしきい値電圧をVthとすると、(電源電位Vcc−
しきい値電圧Vth)となる。また、直流電流の流れる
ビット線20aの電位は、ドライバトランジスタ41
b,アクセストランジスタ42bとビット線負荷25b
との導通抵抗で抵抗分割されて、(電源電位Vcc−し
きい値電圧Vth)からΔVだけ電位が低下し、(電源
電位Vcc−しきい値電圧Vth−ΔV)になる。
However, the power supply (Vc
c) → the bit line load 25a → the bit line 20a → the access transistor 42a → the driver transistor 41a → the driver transistor 41a in the path of ground (GND)
Is in a non-conducting state, no DC current flows. At this time, the potential of the bit line 20a through which no DC current flows is changed by the bit line load transistors 25a, 25b, 26a, 26b.
Is assumed to be Vth (power supply potential Vcc−
(Threshold voltage Vth). Further, the potential of the bit line 20a through which the DC current flows depends on the driver transistor 41
b, access transistor 42b and bit line load 25b
Are divided by the conduction resistance between the two, and the potential drops by ΔV from (power supply potential Vcc−threshold voltage Vth) to (power supply potential Vcc−threshold voltage Vth−ΔV).

【0068】ここで、ΔVはビット線振幅と呼ばれ、通
常50mV〜500mV程度であり、ビット線負荷の大
きさにより調節される。このビット線振幅はトランスフ
ァゲート27a,27bを介して入出力線対29の入出
力線29a,29bに表われ、これがセンスアンプ10
9により増幅され、さらに出力バッファ110で増幅さ
れてデータ出力端子111から読出される。なお、読出
の場合には、入力データバッファ113は読出/書込制
御回路116により入出力線29を駆動しないようにし
てある。書込の場合には、Lレベルのデータを書込む側
のビット線の電位が強制的に低電位に引下げられ、他方
のビット線の電位が高電位に引上げられることにより書
込が行なわれる。
Here, ΔV is called a bit line amplitude, which is usually about 50 mV to 500 mV, and is adjusted according to the magnitude of the bit line load. This bit line amplitude appears on the input / output lines 29a and 29b of the input / output line pair 29 via the transfer gates 27a and 27b.
9 and further amplified by the output buffer 110 and read out from the data output terminal 111. In the case of reading, the input / output buffer 29 is not driven by the read / write control circuit 116 in the input data buffer 113. In the case of writing, writing is performed by forcibly lowering the potential of the bit line on which L-level data is written to a low potential and raising the potential of the other bit line to a high potential.

【0069】たとえば、メモリセル24aに反転データ
を書込むには、データ入力バッファ113により一方の
入出力線29aがLレベルに、他方の入出力線29bが
Hレベルにされ、一方のビット線20aがLレベルに、
他方のビット線20bがHレベルにされ、書込動作が行
なわれる。
For example, to write inverted data in memory cell 24a, one input / output line 29a is set to L level and the other input / output line 29b is set to H level by data input buffer 113, and one bit line 20a is set. To L level,
The other bit line 20b is set to the H level, and a write operation is performed.

【0070】図6は、ビット線対20とプリチャージ回
路601とコラム選択ゲート25a,25bとを示す回
路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing bit line pair 20, precharge circuit 601, and column select gates 25a and 25b.

【0071】図6を参照して、プリチャージ回路601
は、ビット線負荷27a,27bを備える。
Referring to FIG. 6, precharge circuit 601
Includes bit line loads 27a and 27b.

【0072】ビット線負荷25aの一方のソース/ドレ
イン電極は電源に接続され、他方のソース/ドレイン電
極はビット線対20の一方のビット線20aに接続され
ている。ビット線負荷25bの一方のソース/ドレイン
電極は電源に接続され、他方のソース/ドレイン電極は
ビット線対20の他方のビット線20bに接続されてい
る。ビット線負荷25a,25bのゲート電極は互いに
接続され、プリチャージ信号PCが与えられている。
One source / drain electrode of the bit line load 25a is connected to a power supply, and the other source / drain electrode is connected to one bit line 20a of the bit line pair 20. One source / drain electrode of the bit line load 25b is connected to a power supply, and the other source / drain electrode is connected to the other bit line 20b of the bit line pair 20. The gate electrodes of the bit line loads 25a and 25b are connected to each other, and are supplied with a precharge signal PC.

【0073】ビット線20aには、書込回路113か
ら、コラム選択ゲート27aを介してデータ信号DAT
Aが与えられる。ビット線20bには、書込回路113
から、コラム選択ゲート27bを介してデータ信号DA
TAと相補なデータ信号/DATAが与えられる。コラ
ム選択ゲート27a,27bのゲート電極は互いに接続
され、信号生成回路201からコラム選択ゲート制御信
号CSGCが与えられる。
Data signal DAT is applied to bit line 20a from write circuit 113 via column select gate 27a.
A is given. The write circuit 113 is connected to the bit line 20b.
From the data signal DA via the column selection gate 27b.
Data signal / DATA complementary to TA is applied. The gate electrodes of the column selection gates 27a and 27b are connected to each other, and supplied with a column selection gate control signal CSGC from the signal generation circuit 201.

【0074】図7は、図6のコラム選択ゲート制御信号
CSGCとプリチャージ信号PCを生成するための信号
生成回路201の一例である信号生成回路700を示す
回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a signal generation circuit 700 which is an example of the signal generation circuit 201 for generating the column selection gate control signal CSGC and the precharge signal PC of FIG.

【0075】図7を参照して、信号生成回路700は、
NANDゲート701,702と、インバータ703,
704とを備える。
Referring to FIG. 7, signal generation circuit 700 includes:
NAND gates 701 and 702 and an inverter 703
704.

【0076】NAND回路701の一方の入力ノードに
は、列デコード信号CDが入力され、他方の入力ノード
には、データ遷移検知信号DTDが与えられる。NAN
Dゲート701の出力ノードには、インバータ703が
接続され、その出力ノードからは、コラム選択ゲート制
御信号CSGCが出力される。
One input node of NAND circuit 701 receives column decode signal CD, and the other input node receives data transition detection signal DTD. NAN
An inverter 703 is connected to an output node of D gate 701, and a column selection gate control signal CSGC is output from the output node.

【0077】NAND回路702の一方の入力ノードに
は、データ遷移検知信号DTDが入力されている。イン
バータ704には、内部書込イネーブル信号/WEiが
入力され、その出力ノードは、NAND回路702の他
方の入力ノードに接続されている。
Data transition detection signal DTD is input to one input node of NAND circuit 702. Inverter 704 receives an internal write enable signal / WEi, and has an output node connected to the other input node of NAND circuit 702.

【0078】NANDゲート702の出力ノードからは
プリチャージ信号PCが出力される。
Precharge signal PC is output from the output node of NAND gate 702.

【0079】図8は、図6のデータ信号DATA,/D
ATAを出力する書込回路113を示す回路図である。
FIG. 8 shows data signals DATA, / D of FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a write circuit 113 that outputs ATA.

【0080】書込回路113は、NANDゲート80
1,802と、インバータ803〜805とを備える。
The write circuit 113 includes a NAND gate 80
1, 802 and inverters 803 to 805.

【0081】NANDゲート801の一方の入力ノード
には、インバータ803,804を介して書込データ信
号WDが与えられ、他方の入力ノードにはインバータ8
05を介して内部書込イネーブル信号の反転信号/WE
iが与えられ、その出力ノードからはデータ信号/DA
TAが出力される。
Write data signal WD is applied to one input node of NAND gate 801 via inverters 803 and 804, and inverter 8 is applied to the other input node.
05 through the inverted signal / WE of the internal write enable signal
i from the output node, and a data signal / DA
TA is output.

【0082】NANDゲート802の一方の入力ノード
には、インバータ803を介して書込データ信号WDが
与えられ、他方の入力ノードには内部書込イネーブル信
号WEiの反転信号/WEiが与えられ、その出力ノー
ドからはデータ信号DATAが出力される。
One input node of NAND gate 802 is supplied with write data signal WD via inverter 803, and the other input node is supplied with inverted signal / WEi of internal write enable signal WEi. A data signal DATA is output from the output node.

【0083】図9は、図7のデータ遷移検知信号DTD
を生成するデータ検知回路900を示す回路図である。
FIG. 9 shows the data transition detection signal DTD of FIG.
FIG. 9 is a circuit diagram showing a data detection circuit 900 that generates the data.

【0084】データ遷移検知回路(以下、DTD回路と
称す)900は、書込イネーブルバッファ901と、ロ
ーカルDTDバッファ902と、データ入力バッファ1
13と、ローカルDTDバッファ904と、ORゲート
905と、遅延回路906とを備える。
A data transition detection circuit (hereinafter referred to as a DTD circuit) 900 includes a write enable buffer 901, a local DTD buffer 902, and a data input buffer 1
13, a local DTD buffer 904, an OR gate 905, and a delay circuit 906.

【0085】外部から入力された書込イネーブル信号W
Eは、書込イネーブルバッファ901とローカルDTD
バッファ902とを介してORゲート905の一方の入
力ノードに与えられる。また、外部から入力されたデー
タ信号は、データ入力バッファ113とローカルDTD
バッファ904とを介してORゲート905の他方の入
力ノードに与えられている。ORゲート905の出力ノ
ードは遅延回路906に接続され、遅延回路906から
データ遷移検知信号DTDが出力される。
Write enable signal W input from outside
E indicates the write enable buffer 901 and the local DTD
The signal is supplied to one input node of OR gate 905 via buffer 902. The data signal input from the outside is supplied to the data input buffer 113 and the local DTD.
The signal is supplied to the other input node of the OR gate 905 via the buffer 904. An output node of the OR gate 905 is connected to the delay circuit 906, and the data transition detection signal DTD is output from the delay circuit 906.

【0086】すなわち、データ遷移検知信号DTDは書
込イネーブル信号WEをもとに生成されている。
That is, the data transition detection signal DTD is generated based on the write enable signal WE.

【0087】図10は、図9のDTD回路900におけ
る信号を示すタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing signals in DTD circuit 900 of FIG.

【0088】NA,NB,NCはそれぞれDTD回路9
00におけるノードを示す。外部からあるレベルのデー
タ信号/DATAが入力され、次にそれと異なるレベル
のデータ信号DATAが入力されたとする。
NA, NB and NC are DTD circuits 9 respectively.
The node at 00 is shown. It is assumed that a certain level of data signal / DATA is input from the outside, and then a different level of data signal DATA is input.

【0089】このとき、外部から入力された書込イネー
ブル信号/WEが立下がるとノードNAでパルスが発生
する。そしてデータ信号DATAが外部から入力された
ときノードNBにパルスが発生する。これらのパルスを
もとにデータ遷移検知信号DTDが出力される。
At this time, when write enable signal / WE input from the outside falls, a pulse is generated at node NA. When the data signal DATA is externally input, a pulse is generated at the node NB. The data transition detection signal DTD is output based on these pulses.

【0090】図11は、図6,7の回路によるビット線
のプリチャージを説明するためのタイミングチャートで
ある。
FIG. 11 is a timing chart for explaining precharging of bit lines by the circuits of FIGS.

【0091】時刻t0で、外部からアドレス信号が入力
され、書込サイクルが始まる。時刻t1で、外部から書
込データのデータ信号が入力される。そして、時刻t2
で、外部から入力された書込イネーブル信号/WEが活
性化されて立下がり、その立下がりに応答して書込デー
タ信号が生成され、書込イネーブル信号/WEをもとに
内部書込イネーブル信号/WEiもまた生成される。そ
して、この内部書込イネーブル信号/WEiに応答し
て、データ信号DATAが生成される。
At time t0, an address signal is externally input, and a write cycle starts. At time t1, a data signal of write data is input from outside. Then, at time t2
In response, a write enable signal / WE input from the outside is activated and falls, a write data signal is generated in response to the fall, and an internal write enable signal is generated based on write enable signal / WE. The signal / WEi is also generated. Then, data signal DATA is generated in response to internal write enable signal / WEi.

【0092】前述のように、動作電圧が高い通常状態の
場合、内部書込イネーブル信号/WEiが不活性化され
てHレベルに立上がるタイミングよりも早く、データ遷
移検知信号DTDはLレベルに立下がるが、動作電圧が
低い場合、内部書込イネーブル信号/WEiの立上がり
よりも遅く、データ遷移検知信号DTDは立下がる。こ
のとき、コラム選択ゲート制御信号CSGCはデータ遷
移検知信号DTDにより波形が決定され、プリチャージ
信号PCは内部書込イネーブル信号/WEiにより波形
が決定される。
As described above, in the normal state where the operating voltage is high, the data transition detection signal DTD goes to L level earlier than the timing when the internal write enable signal / WEi is inactivated and rises to H level. However, when the operating voltage is low, the data transition detection signal DTD falls later than the rise of the internal write enable signal / WEi. At this time, the waveform of column select gate control signal CSGC is determined by data transition detection signal DTD, and the waveform of precharge signal PC is determined by internal write enable signal / WEi.

【0093】このため、内部書込イネーブル信号/WE
iの立上がり時刻t3とデータ遷移検知信号DTDの立
下がり時刻t3との差Δtの期間中、コラム選択ゲート
制御信号CSGCとプリチャージ信号PCとがともにH
レベルとなり、ビット線負荷25a,25bとコラム選
択ゲート25a,25bとがともにオンしている。ま
た、このコラム選択ゲート25a,25bに入出力線2
9を介して接続されている書込回路113は、内部書込
イネーブル信号/WEiが不活性化され、Hレベルに立
上がっているため、出力されるデータ信号DATA,/
DATAはともにHレベルとなっている。そのため、Δ
tの期間中、ビット線20a,20bはビット線負荷2
7a,27bを含むプリチャージ回路601と書込回路
113との両方によりプリチャージされる。
Therefore, internal write enable signal / WE
During the period Δt between the rise time t3 of i and the fall time t3 of the data transition detection signal DTD, both the column selection gate control signal CSGC and the precharge signal PC are at H level.
Level, and the bit line loads 25a, 25b and the column selection gates 25a, 25b are both on. The column select gates 25a and 25b are connected to the input / output line 2
9, the internal write enable signal / WEi is inactivated and rises to the H level, so that the output data signals DATA, /
DATA is at H level. Therefore, Δ
During the period t, the bit lines 20a and 20b
It is precharged by both the precharge circuit 601 including 7a and 27b and the write circuit 113.

【0094】以上のように、本発明の実施の形態1の半
導体記憶装置によれば、ビット線負荷を含むプリチャー
ジ回路と書込回路との両方により、ビット線がプリチャ
ージされるため、ビット線の電圧のリカバリを速やかに
行なうことが可能となる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the first embodiment of the present invention, the bit line is precharged by both the precharge circuit including the bit line load and the write circuit. It is possible to quickly recover the line voltage.

【0095】また、データ遷移検知信号DTDを用いて
コラム選択ゲート制御信号CSGCとプリチャージ信号
PCとを生成するため、プリチャージ回路が動作を開始
してからコラム選択ゲートが導通状態となり、書込回路
がビット線をプリチャージする時間を、データ遷移検知
信号DTDを制御することにより、容易に調整すること
が可能となる。
Further, since column select gate control signal CSGC and precharge signal PC are generated using data transition detection signal DTD, the column select gate is turned on after the precharge circuit starts operating, and the write operation is performed. The time for the circuit to precharge the bit line can be easily adjusted by controlling the data transition detection signal DTD.

【0096】(2) 実施の形態2 本発明の実施の形態2の半導体記憶装置は、実施の形態
1の半導体記憶装置における図1と同様の構成を有す
る。
(2) Second Embodiment A semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention has the same configuration as that of the semiconductor memory device according to the first embodiment in FIG.

【0097】図12は、本発明の実施の形態2の半導体
記憶装置の図1のメモリセルアレイ107の内部および
周辺部を示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of memory cell array 107 of FIG. 1 of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【0098】図12を参照して、本発明の実施の形態2
の半導体記憶装置は、信号生成回路201を以下の図1
3に示す信号生成回路1300に置換えたものである。
Referring to FIG. 12, Embodiment 2 of the present invention
In the semiconductor memory device of FIG.
3 is replaced with a signal generation circuit 1300 shown in FIG.

【0099】実施の形態1の図7の信号生成回路700
には、内部書込イネーブル信号/WEiとデータ遷移検
知信号DTDとが入力されていたが、信号生成回路13
00では、内部書込イネーブル信号/WEiを遅延させ
た内部書込イネーブル遅延信号WEi−dが用いられる
ため、データ遷移検知信号DTDに代わって、読出/書
込回路113から内部書込イネーブル信号/WEiのみ
が入力される。
Signal generation circuit 700 of FIG. 7 of the first embodiment
Has been input with the internal write enable signal / WEi and the data transition detection signal DTD.
In 00, since internal write enable delay signal WEi-d obtained by delaying internal write enable signal / WEi is used, read / write circuit 113 sends internal write enable signal / WEi instead of data transition detection signal DTD. Only WEi is input.

【0100】図13は、図12の信号生成回路1300
を示す回路図である。図13を参照して、図7の信号生
成回路700において、NANDゲート901の他方の
入力ノードおよびNANDゲート902の一方端に、デ
ータ遷移検知信号DTDの代わりに、NANDゲート9
01の他方の入力ノードおよびNANDゲート902の
一方端には、内部書込イネーブル信号/WEiを遅延さ
せた内部書込イネーブル遅延信号WEi−dが入力され
ている。
FIG. 13 shows the signal generation circuit 1300 of FIG.
FIG. Referring to FIG. 13, in signal generation circuit 700 of FIG. 7, NAND gate 9 is provided at the other input node of NAND gate 901 and one end of NAND gate 902 instead of data transition detection signal DTD.
01 and one end of a NAND gate 902, an internal write enable delay signal WEi-d obtained by delaying the internal write enable signal / WEi is input.

【0101】図14は、図13の遅延信号生成回路14
00を示す回路図である。図14を参照して、遅延信号
生成回路1400は、遅延回路1303とインバータ1
305とを備える。
FIG. 14 shows the delay signal generation circuit 14 of FIG.
It is a circuit diagram which shows 00. Referring to FIG. 14, delay signal generation circuit 1400 includes delay circuit 1303 and inverter 1
305.

【0102】遅延回路1303とインバータ1305と
は直列に接続され、外部から入力された書込イネーブル
信号WEは、読出/書込回路116内の書込バッファ1
401を介して内部書込イネーブル信号/WEiとな
り、さらに遅延信号生成回路1400により内部書込イ
ネーブル遅延信号WEi−dとなって、信号生成回路1
300に入力されている。
Delay circuit 1303 and inverter 1305 are connected in series, and externally input write enable signal WE is supplied to write buffer 1 in read / write circuit 116.
The internal write enable signal / WEi is output via the signal generation circuit 1400 and the internal write enable delay signal WEi-d is output from the delay signal generation circuit 1400.
300 has been entered.

【0103】図15は、図13,14の回路によるビッ
ト線のプリチャージを説明するためのタイミングチャー
トである。
FIG. 15 is a timing chart for explaining precharging of bit lines by the circuits of FIGS.

【0104】図15を参照して、外部から入力された書
込イネーブル信号WEの立下がりに応答して内部書込イ
ネーブル信号/WEiが立下がり、さらにそれに応答し
て書込イネーブル遅延信号WEi−dが立上がる。
Referring to FIG. 15, internal write enable signal / WEi falls in response to the fall of write enable signal WE input from the outside, and further, in response thereto, write enable delay signal WEi- d rises.

【0105】一定時間後、外部書込イネーブル信号WE
が立上がると、それに応答して内部書込イネーブル信号
/WEiが立上がり、内部書込イネーブル信号/WEi
が立上がってからΔt2時間後に、内部書込イネーブル
遅延信号WEi−dが立下がる。
After a predetermined time, external write enable signal WE
Rises, internal write enable signal / WEi rises in response to internal write enable signal / WEi.
Δt after the rise of the internal write enable delay signal WEi-d falls.

【0106】これらの信号により、プリチャージ信号P
Cが活性化されてからも、コラム選択ゲートはさらに続
けてΔt2時間導通状態となるので、このΔt2の期間
中、プリチャージ回路601に加えて書込回路113に
よりビット線がプリチャージされる。
By these signals, the precharge signal P
Even after C is activated, the column selection gate is kept conductive for a further Δt2 time. Therefore, during this Δt2, the bit line is precharged by the write circuit 113 in addition to the precharge circuit 601.

【0107】以上のように、本発明の請求項2の半導体
記憶装置によれば、請求項1の半導体記憶装置による効
果と同様に、ビット線負荷を含むプリチャージ回路と書
込回路との両方により、ビット線がプリチャージされる
ため、ビット線の電圧のリカバリを速やかに行なうこと
が可能となる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the second aspect of the present invention, similarly to the effect of the semiconductor memory device of the first aspect, both the precharge circuit including the bit line load and the write circuit are provided. Thereby, the bit line is precharged, so that the voltage of the bit line can be quickly recovered.

【0108】また、内部書込イネーブル信号/WEiを
用いてコラム選択ゲート制御信号CSGCとプリチャー
ジ信号PCとを生成するため、プリチャージ回路が動作
を開始してからコラム選択ゲートが導通状態となり、書
込回路がビット線をプリチャージする時間を、内部書込
イネーブル信号/WEiを制御することにより、容易に
調整することが可能となる。なお、図13において、イ
ンバータ704を除き、NANDゲート704の上記他
方の入力ノードにを入力しても同様の効果を得ることが
できる。
Since column selection gate control signal CSGC and precharge signal PC are generated using internal write enable signal / WEi, the column selection gate is turned on after the precharge circuit starts operating. By controlling the internal write enable signal / WEi, the time during which the write circuit precharges the bit line can be easily adjusted. In FIG. 13, except for the inverter 704, the same effect can be obtained by inputting to the other input node of the NAND gate 704.

【0109】(3) 実施の形態3 本発明の実施の形態3の半導体記憶装置は、実施の形態
1の半導体記憶装置における図1と同様の構成を有す
る。
(3) Third Embodiment A semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention has a configuration similar to that of the semiconductor memory device according to the first embodiment shown in FIG.

【0110】図16は、本発明の実施の形態3の半導体
記憶装置の図1のメモリセルアレイ107の内部および
周辺部を示す回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portion of memory cell array 107 of FIG. 1 of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.

【0111】図16を参照して、本発明の実施の形態3
の半導体記憶装置は、信号生成回路201を以下の図1
7に示す信号生成回路1700に置換えたものである。
Referring to FIG. 16, Embodiment 3 of the present invention
In the semiconductor memory device of FIG.
7 is replaced with a signal generation circuit 1700 shown in FIG.

【0112】実施の形態1の図7の信号生成回路700
には、内部書込イネーブル信号/WEiとデータ遷移検
知信号DTDとが入力されていたが、信号生成回路17
00には、データ遷移検知信号DTDのみが入力されて
いる。
Signal generation circuit 700 of FIG. 7 of the first embodiment
Has been input with the internal write enable signal / WEi and the data transition detection signal DTD.
00, only the data transition detection signal DTD is input.

【0113】図17は、図16の信号生成回路1700
を示す回路図である。図17を参照して、信号生成回路
1700は、NANDゲート701と、インバータ70
3,1703と、遅延回路1701とを備える。
FIG. 17 shows the signal generation circuit 1700 of FIG.
FIG. Referring to FIG. 17, signal generation circuit 1700 includes a NAND gate 701 and an inverter 70.
3, 1703 and a delay circuit 1701.

【0114】NANDゲート701の一方の入力ノード
には列デコード信号が入力され、他方の入力ノードには
データ遷移検知信号DTDが入力され、その出力ノード
はインバータ703,1703を介してプリチャージ信
号PCを出力する。また、インバータ703の出力ノー
ドには遅延回路1701が接続され、遅延回路1701
からはコラム選択ゲート制御信号CSGC1701が出
力される。
A column decode signal is input to one input node of NAND gate 701, a data transition detection signal DTD is input to the other input node, and its output node is connected to precharge signal PC via inverters 703 and 1703. Is output. Further, a delay circuit 1701 is connected to an output node of the inverter 703, and the delay circuit 1701
Outputs a column selection gate control signal CSGC1701.

【0115】図18は、図17の信号生成回路1700
をビット線20a,20bに接続した様子を示す回路図
である。
FIG. 18 shows the signal generation circuit 1700 of FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a state in which is connected to bit lines 20a and 20b.

【0116】図19は、図17,18の回路によるビッ
ト線のプリチャージを説明するためのタイミングチャー
トである。
FIG. 19 is a timing chart for explaining the precharging of the bit lines by the circuits of FIGS.

【0117】書込サイクル期間内で内部書込イネーブル
信号/WEiが不活性化され、デ−タ遷移検知信号DT
Dが書込サイクルの終了時までにLレベルに立下がる場
合に適応することができ、デ−タ遷移検知信号DTDが
プリチャージ信号PCとしてプリチャージ回路601に
入力され、また、デ−タ遷移検知信号DTDの遅延信号
がコラム選択ゲート25a,25bのゲート電極に与え
られ、書込終了後、プリチャージ回路に加えて、所定期
間、書込回路113によりビット線20がプリチャージ
される。
In the write cycle period, internal write enable signal / WEi is inactivated and data transition detection signal DT
This can be applied to the case where D falls to the L level by the end of the write cycle. The data transition detection signal DTD is input to the precharge circuit 601 as the precharge signal PC, and the data transition is performed. The delay signal of the detection signal DTD is applied to the gate electrodes of the column selection gates 25a and 25b, and after writing is completed, the bit line 20 is precharged by the write circuit 113 for a predetermined period in addition to the precharge circuit.

【0118】以上のように、本発明の請求項3の半導体
記憶装置によれば、請求項1の半導体記憶装置による効
果と同様に、ビット線負荷を含むプリチャージ回路と書
込回路との両方により、ビット線がプリチャージされる
ため、ビット線の電圧のリカバリを速やかに行なうこと
が可能となる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the third aspect of the present invention, similarly to the effect of the semiconductor memory device of the first aspect, both the precharge circuit including the bit line load and the write circuit are provided. Thereby, the bit line is precharged, so that the voltage of the bit line can be quickly recovered.

【0119】また、デ−タ遷移検知信号DTDを用いて
コラム選択ゲート制御信号CSGCとプリチャージ信号
PCとを生成するため、プリチャージ回路が動作を開始
してからコラム選択ゲートが導通状態となり、書込回路
がビット線をプリチャージする時間を、デ−タ遷移検知
信号DTDを制御することにより、容易に調整すること
が可能となる。
Since the column selection gate control signal CSGC and the precharge signal PC are generated using the data transition detection signal DTD, the column selection gate becomes conductive after the precharge circuit starts operating, By controlling the data transition detection signal DTD, the time during which the write circuit precharges the bit line can be easily adjusted.

【0120】(4) 実施の形態4 本発明の実施の形態4の半導体記憶装置は、実施の形態
1の半導体記憶装置における図1と同様の構成を有す
る。
(4) Fourth Embodiment A semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention has the same configuration as that of the semiconductor memory device according to the first embodiment shown in FIG.

【0121】図20は、本発明の実施の形態4の半導体
記憶装置の図1のメモリセルアレイ107の内部および
周辺部を示す回路図である。
FIG. 20 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of memory cell array 107 of FIG. 1 of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.

【0122】実施の形態4の半導体記憶装置は、実施の
形態3の半導体記憶装置における図17の信号生成回路
1700を、以下に示す図21の信号生成回路2100
に置換えたものである。
The semiconductor memory device of the fourth embodiment differs from the semiconductor memory device of the third embodiment in that the signal generation circuit 1700 of FIG. 17 is replaced by a signal generation circuit 2100 of FIG.
Is replaced by

【0123】図21は、本発明の実施の形態4の半導体
記憶装置内の信号生成回路2100を示す回路図であ
る。
FIG. 21 is a circuit diagram showing a signal generation circuit 2100 in the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.

【0124】図21を参照して、信号生成回路2100
は、図17の信号生成回路1700において、データ遷
移検知信号DTDを、外部から入力された書込イネーブ
ル信号WEを図1の読出/書込制御回路116に含まれ
ている書き込みバッファ(図示せず)に入力して得られ
た内部書込イネーブル信号WEiに置換えたものであ
る。
Referring to FIG. 21, signal generation circuit 2100
In the signal generation circuit 1700 of FIG. 17, the data transition detection signal DTD and the write enable signal WE input from the outside are written in the write buffer (not shown) included in the read / write control circuit 116 of FIG. ) Is replaced with the internal write enable signal WEi obtained by inputting the signal.

【0125】図22は、図21の信号生成回路2100
によるビット線のプリチャージを説明するためのタイミ
ングチャートである。
FIG. 22 shows the signal generation circuit 2100 of FIG.
4 is a timing chart for explaining precharging of a bit line due to the following.

【0126】実施の形態3の図19のタイミングチャー
トと同様であり、書込サイクル期間内でビット線負荷2
7a,27bを含むプリチャージ回路601と書込回路
113とによりビット線20がプリチャージされるた
め、速やかにビット線の電圧のリカバリが行なわれる。
Similar to the timing chart of FIG. 19 of the third embodiment, bit line load 2
Since bit line 20 is precharged by precharge circuit 601 including write circuits 7a and 27b and write circuit 113, the voltage of the bit line is quickly recovered.

【0127】以上のように、本発明の請求項4の半導体
記憶装置によれば、請求項3の半導体記憶装置による効
果と同様に、ビット線負荷を含むプリチャージ回路と書
込回路との両方により、ビット線がプリチャージされる
ため、ビット線の電圧のリカバリを速やかに行なうこと
が可能となる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the fourth aspect of the present invention, similarly to the effect of the semiconductor memory device of the third aspect, both the precharge circuit including the bit line load and the write circuit are provided. Thereby, the bit line is precharged, so that the voltage of the bit line can be quickly recovered.

【0128】また、内部書込イネーブル信号WEiを用
いてコラム選択ゲート制御信号CSGCとプリチャージ
信号PCとを生成するため、プリチャージ回路が動作を
開始してからコラム選択ゲートが導通状態となり、書込
回路がビット線をプリチャージする時間を内部書込イネ
ーブル信号WEiを制御することにより、容易に調整す
ることが可能となる。
Further, since column select gate control signal CSGC and precharge signal PC are generated using internal write enable signal WEi, the column select gate is turned on after the precharge circuit starts operating, and the write operation is started. By controlling the internal write enable signal WEi, the time during which the input circuit precharges the bit line can be easily adjusted.

【0129】前述の実施の形態1〜4において、ビット
線を入出力線に適応することも可能である。
In the first to fourth embodiments, the bit line can be adapted to the input / output line.

【0130】このとき、入出力線をプリチャージ回路と
書込回路によりプリチャージすることにより、速やかに
入出力線の電圧のリカバリを行なうことも可能となる。
At this time, by precharging the input / output lines by the precharge circuit and the write circuit, the voltage of the input / output lines can be quickly recovered.

【0131】[0131]

【発明の効果】本発明の請求項1の半導体記憶装置によ
れば、書込イネーブル信号をもとに第1の信号と第2の
信号とが生成され、書込サイクル終了後、第2の信号に
よりプリチャージ手段によるビット線のプリチャージが
開始され、それと同時に、第1の信号によりデ−タ書込
手段によるプリチャージが所定時間行なわれるので、ビ
ット線の電圧のリカバリを速やかに行なうことが可能と
なるとともに、書込手段がビット線をプリチャージする
上記所定時間を書込イネーブル信号を制御することによ
り容易に調整することが可能となる。
According to the semiconductor memory device of the first aspect of the present invention, the first signal and the second signal are generated based on the write enable signal, and the second signal is generated after the end of the write cycle. The signal starts the precharging of the bit line by the precharging means, and at the same time, the precharging by the data writing means is performed for a predetermined time by the first signal, so that the bit line voltage can be quickly recovered. In addition to the above, the predetermined time during which the writing means precharges the bit line can be easily adjusted by controlling the write enable signal.

【0132】本発明の請求項2の半導体記憶装置によれ
ば、請求項1の半導体記憶装置による効果に加えて、書
き込みイネーブル信号とデータ遷移検知信号とをもと
に、第1および第2のANDゲートから第1および第2
の信号が生成され、第1の信号によりコラム選択ゲート
が制御され、第2の信号によりビット線負荷が制御され
て、ビット線のプリチャージが行われる。
According to the semiconductor memory device of the second aspect of the present invention, in addition to the effects of the semiconductor memory device of the first aspect, based on the write enable signal and the data transition detection signal, the first and second semiconductor memory devices are provided. First and second from the AND gate
Are generated, the column selection gate is controlled by the first signal, the bit line load is controlled by the second signal, and the bit line is precharged.

【0133】本発明の請求項3の半導体記憶装置によれ
ば、請求項1の半導体記憶装置による効果に加えて、書
き込みイネーブル信号とその遅延信号とをもとに、第1
および第2の信号が生成され、第1の信号によりコラム
選択ゲートが制御され、第2の信号によりビット線負荷
が制御されて、ビット線のプリチャージが行われる。
According to the semiconductor memory device of the third aspect of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor memory device of the first aspect, the first memory device can be configured based on a write enable signal and its delay signal.
And a second signal are generated. The first signal controls the column selection gate, the second signal controls the bit line load, and precharges the bit line.

【0134】本発明の請求項4の半導体記憶装置によれ
ば、請求項1の半導体記憶装置による効果に加えて、デ
ータ遷移検知信号とその遅延信号とをもとに、第1およ
び第2の信号が生成され、第1の信号によりコラム選択
ゲートが制御され、第2の信号によりビット線負荷が制
御されて、ビット線のプリチャージが行われる。
According to the semiconductor memory device of the fourth aspect of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor memory device of the first aspect, the first and the second signals are based on the data transition detection signal and its delay signal. A signal is generated, a column select gate is controlled by a first signal, and a bit line load is controlled by a second signal, thereby precharging the bit line.

【0135】本発明の請求項5の半導体記憶装置によれ
ば、請求項1の半導体記憶装置による効果に加えて、書
き込みイネーブル信号とその遅延信号とをもとに、第1
および第2の信号を生成され、第1の信号によりコラム
選択ゲートが制御され、第2の信号によりビット線負荷
が制御されて、ビット線のプリチャージが行われる。
According to the semiconductor memory device of the fifth aspect of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor memory device of the first aspect, in addition to the first effect based on the write enable signal and its delay signal,
And a second signal are generated. The first signal controls the column selection gate, the second signal controls the bit line load, and precharges the bit line.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1〜4の半導体記憶装置
の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to first to fourth embodiments of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態1の図1のメモリセルア
レイ内部および周辺部のを示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of the memory cell array of FIG. 1 according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 図2のメモリセルの一例である高抵抗負荷型
NMOSメモリセルを示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a high resistance load type NMOS memory cell which is an example of the memory cell of FIG. 2;

【図4】 図2のメモリセルの一例であるCMOS型メ
モリセルを示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a CMOS memory cell as an example of the memory cell of FIG. 2;

【図5】 図1〜4の回路の動作を説明するためのタイ
ミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation of the circuits of FIGS.

【図6】 図2のビット線対とプリチャージ回路とコラ
ム選択ゲートとを示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a bit line pair, a precharge circuit, and a column selection gate of FIG. 2;

【図7】 図6のコラム選択ゲート制御信号とプリチャ
ージ信号とを生成するための信号生成回路の一例を示す
回路図である。
7 is a circuit diagram showing an example of a signal generation circuit for generating a column selection gate control signal and a precharge signal of FIG.

【図8】 図6のデータ信号DATA,/DATAを出
力する書込回路を示す回路図である。
8 is a circuit diagram showing a write circuit that outputs data signals DATA and / DATA of FIG.

【図9】 図7のデータ遷移検知信号を生成するデータ
遷移検知回路を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram illustrating a data transition detection circuit that generates the data transition detection signal of FIG. 7;

【図10】 図9のデータ遷移検知回路における信号を
示すタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing signals in the data transition detection circuit of FIG. 9;

【図11】 図6,7の回路によるビット線のプリチャ
ージを説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 11 is a timing chart for explaining precharging of bit lines by the circuits of FIGS.

【図12】 本発明の実施の形態2の図1のメモリセル
アレイ内部および周辺部のを示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of the memory cell array of FIG. 1 according to the second embodiment of the present invention;

【図13】 図12の信号生成回路を示す回路図であ
る。
FIG. 13 is a circuit diagram showing the signal generation circuit of FIG.

【図14】 図13の遅延信号生成回路を示す回路図で
ある。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a delay signal generation circuit of FIG.

【図15】 図12〜14の回路によるビット線のプリ
チャージを説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 15 is a timing chart for explaining precharging of bit lines by the circuits of FIGS.

【図16】 本発明の実施の形態3の図1のメモリセル
アレイの内部および周辺部を示す回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of the memory cell array of FIG. 1 according to the third embodiment of the present invention;

【図17】 図16の信号生成回路を示す回路図であ
る。
FIG. 17 is a circuit diagram illustrating the signal generation circuit of FIG. 16;

【図18】 図17の信号生成回路をビット線に接続し
た様子を示す回路図である。
18 is a circuit diagram showing a state where the signal generation circuit of FIG. 17 is connected to a bit line.

【図19】 図17,18の回路によるビット線のプリ
チャージを説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 19 is a timing chart for explaining precharging of a bit line by the circuits of FIGS. 17 and 18;

【図20】 本発明の実施の形態4の図1のメモリセル
アレイの内部および周辺部を示す回路図である。
FIG. 20 is a circuit diagram showing the inside and peripheral portions of the memory cell array of FIG. 1 according to the fourth embodiment of the present invention;

【図21】 図20の信号生成回路を示す回路図であ
る。
21 is a circuit diagram illustrating the signal generation circuit of FIG.

【図22】 図21の回路によるビット線のプリチャー
ジを説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 22 is a timing chart for explaining precharging of bit lines by the circuit of FIG. 21;

【図23】 従来の半導体記憶装置内のコラム選択ゲー
ト制御信号を生成する信号生成回路を示す回路図であ
る。
FIG. 23 is a circuit diagram showing a signal generation circuit for generating a column selection gate control signal in a conventional semiconductor memory device.

【図24】 従来の半導体記憶装置内のプリチャージ回
路とコラム選択ゲートと、プリチャージ回路との周辺部
を示す回路図である。
FIG. 24 is a circuit diagram showing peripheral portions of a precharge circuit, a column selection gate, and a precharge circuit in a conventional semiconductor memory device.

【図25】 通常状態におけるビット線20a,20b
の電圧のリカバリの様子を示すタイミングチャートであ
る。
FIG. 25 shows bit lines 20a and 20b in a normal state.
6 is a timing chart showing a state of voltage recovery.

【図26】 動作電圧が低電圧の場合のビット線のリカ
バリの様子を示すタイミングチャートである。
FIG. 26 is a timing chart showing how bit lines are recovered when the operating voltage is low.

【図27】 特開平3−29189号公報に示されてい
る従来のスタティックランダムアクセスメモリを示す回
路図である。
FIG. 27 is a circuit diagram showing a conventional static random access memory disclosed in Japanese Patent Laying-Open No. 3-29189.

【図28】 特開平3−29189号公報に示されてい
る従来のスタティックランダムアクセスメモリを示す回
路図である。
FIG. 28 is a circuit diagram showing a conventional static random access memory disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-29189.

【図29】 図27,28のスタティックランダムアク
セスメモリによるビット線のプリチャージの様子を示す
タイミングチャートである。
FIG. 29 is a timing chart showing how a bit line is precharged by the static random access memories of FIGS. 27 and 28.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 半導体記憶装置、113 書込回路、25a,
25b,26a,26b コラム選択ゲート、20a,
20b,21a,21b ビット線、27a,27b,
28a,28b ビット線負荷、700,1300,1
700,2100 信号生成回路、601 プリチャー
ジ回路。
100 semiconductor memory device, 113 writing circuit, 25a,
25b, 26a, 26b column select gate, 20a,
20b, 21a, 21b bit lines, 27a, 27b,
28a, 28b bit line load, 700, 1300, 1
700, 2100 signal generation circuit, 601 precharge circuit.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルと、 前記メモリセルに接続されたビット線と、 第1の信号に応答して、前記メモリセルにデータを書込
むデータ書込手段と、 第2の信号に応答して、前記データ書込手段によるデー
タ書込終了後に前記ビット線をプリチャージするプリチ
ャージ手段と、 書込イネーブル信号をもとに、前記データ書込手段によ
るデータ書込時に活性化され、データ書込終了後も続け
て所定時間活性化される第1の信号と、前記データ書込
手段によるデータ書込終了後に活性化される第2の信号
とを生成し出力する信号生成手段とを備えた、半導体記
憶装置。
A memory cell; a bit line connected to the memory cell; data writing means for writing data to the memory cell in response to a first signal; and a data writing means in response to a second signal. A precharging means for precharging the bit line after the data writing by the data writing means is completed; and a data writing means activated when the data writing means writes data based on a write enable signal. Signal generating means for generating and outputting a first signal that is activated for a predetermined time continuously after the data writing is completed and a second signal that is activated after the data writing by the data writing means is completed. , Semiconductor storage devices.
【請求項2】 外部から入力されたデータの遷移を検知
してデータ遷移検知信号を出力するデータ遷移検知手段
とをさらに備え、 前記データ書込手段は、 前記メモリセルに書込むためのデータを出力する書込バ
ッファと、 前記書込バッファと前記ビット線との間に接続され、前
記第1の信号に応答してオン/オフするコラム選択ゲー
トとを備え、 前記プリチャージ手段は、前記ビット線と電源との間に
接続され、前記第2の信号に応答してプリチャージ電圧
を供給するビット線負荷を備え、 前記信号生成手段は、 一方の入力ノードに前記ビット線を選択するためのコラ
ム選択信号が入力され、他方の入力ノードに前記データ
遷移検知信号が入力され、前記第1の信号を出力する第
1のANDゲートと、 一方の入力ノードに前記書込イネーブル信号が入力さ
れ、他方の入力ノードに前記データ遷移検知信号が入力
され、前記第2の信号を出力する第2のANDゲートと
を備えた、請求項1に記載の半導体記憶装置。
2. A data transition detecting means for detecting a transition of data inputted from outside and outputting a data transition detecting signal, wherein said data writing means writes data for writing to said memory cell. A write buffer to be output; and a column selection gate connected between the write buffer and the bit line and turned on / off in response to the first signal. A bit line load connected between the power supply line and a power supply for supplying a precharge voltage in response to the second signal, wherein the signal generation means includes a first input node for selecting the bit line. A first AND gate that receives a column selection signal, receives the data transition detection signal at the other input node, and outputs the first signal; and a write enable at one input node. Le signal is input, the data transition detection signal to the other input node is input, and a second AND gate for outputting the second signal, the semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】 外部から入力されたデータの遷移を検知
してデータ遷移検知信号を出力するデータ遷移検知手段
をさらに備え、 前記データ書込手段は、 前記メモリセルに書込むため、データを出力する書込バ
ッファと、 前記書込バッファと前記ビット線との間に接続され前記
第1の信号に応答してオン/オフするコラム選択ゲート
とを備え、 前記プリチャージ手段は、前記ビット線と電源との間に
接続され前記第2の信号に応答してプリチャージ電圧を
供給するビット線負荷 を備え、 前記信号生成手段は、 前記書込イネーブル信号を遅延して書込イネーブル信号
の遅延信号を出力する遅延手段と、 一方の入力ノードに前記ビット線を選択するためのコラ
ム選択信号が入力され、他方の入力ノードに前記書込イ
ネーブル信号の遅延信号が入力され、前記第1の信号を
出力する第1のANDゲートと、 一方の入力ノードに前記書込イネーブル信号が入力さ
れ、他方の入力ノードに前記書込イネーブル信号の遅延
信号が入力され、前記第2の信号を出力する第2のAN
Dゲートとを備えた、請求項1に記載の半導体記憶装
置。
3. A data transition detecting means for detecting a transition of data inputted from outside and outputting a data transition detecting signal, wherein said data writing means outputs data for writing to said memory cell. And a column selection gate connected between the write buffer and the bit line and turned on / off in response to the first signal. A bit line load connected to a power supply for supplying a precharge voltage in response to the second signal, wherein the signal generating means delays the write enable signal and delays the write enable signal And a column selection signal for selecting the bit line is input to one input node, and a delay signal of the write enable signal is input to the other input node. A first AND gate that outputs the first signal; a write enable signal input to one input node; a delay signal of the write enable signal input to the other input node; 2 which outputs the second signal
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a D gate.
【請求項4】 外部から入力されたデータの遷移を検知
してデータ遷移検知信号を出力するデータ遷移検知手段
をさらに備え、 前記データ書込手段は、 前記メモリセルに書込むためのデータを出力する書込バ
ッファと、 前記書込バッファと前記ビット線との間に接続され前記
第1の信号に応答してオン/オフするコラム選択ゲート
とを備え、 前記プリチャージ手段は、前記ビット線と電源との間に
接続され前記第2の信号に応答してプリチャージ電圧を
供給するビット線負荷を備え、 前記信号生成手段は、 一方の入力ノードに前記ビット線を選択するためのコラ
ム選択信号が入力され、他方の入力ノードに前記データ
遷移検知信号が入力され、前記第2の信号を出力するA
NDゲートと、 前記第2の信号を遅延して前記第1の信号を生成する遅
延手段とを備えた、請求項1に記載の半導体記憶装置。
4. A data transition detecting means for detecting a transition of data inputted from outside and outputting a data transition detecting signal, wherein said data writing means outputs data to be written to said memory cell. A write buffer, and a column selection gate connected between the write buffer and the bit line, which is turned on / off in response to the first signal, wherein the precharge means comprises: A bit line load connected between the power supply and a second signal to supply a precharge voltage in response to the second signal, wherein the signal generation means includes a column selection signal for selecting the bit line at one input node. A, which receives the data transition detection signal at the other input node and outputs the second signal
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: an ND gate; and a delay unit that delays the second signal to generate the first signal.
【請求項5】 前記データ書込手段は、 前記メモリセルに書込むためのデータを出力する書込バ
ッファと、 前記書込バッファと前記ビット線との間に接続され前記
第1の信号に応答してオン/オフするコラム選択ゲート
とを備え、 前記プリチャージ手段は、前記ビット線と電源との間に
接続され前記第2の信号に応答してプリチャージ電圧を
供給するビット線負荷を備え、 前記信号生成手段は、 一方の入力ノードに前記ビット線を選択するためのコラ
ム選択信号が入力され、他方の入力ノードに前記書込イ
ネーブル信号が入力され、前記第2の信号を出力するA
NDゲートと、 前記第2の信号を遅延して前記第1の信号を生成する遅
延手段とを備えた、請求項1に記載の半導体記憶装置。
5. A data writing means, comprising: a write buffer for outputting data to be written to the memory cell; and a data buffer connected between the write buffer and the bit line and responsive to the first signal. And a column selection gate that is turned on / off in response to the second signal. The precharge means includes a bit line load connected between the bit line and a power supply for supplying a precharge voltage in response to the second signal. The signal generating means includes a column selection signal for selecting the bit line input to one input node, the write enable signal input to the other input node, and an output of the second signal.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: an ND gate; and a delay unit that delays the second signal to generate the first signal.
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