JPH1055680A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH1055680A
JPH1055680A JP8214789A JP21478996A JPH1055680A JP H1055680 A JPH1055680 A JP H1055680A JP 8214789 A JP8214789 A JP 8214789A JP 21478996 A JP21478996 A JP 21478996A JP H1055680 A JPH1055680 A JP H1055680A
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JP
Japan
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input
output node
semiconductor memory
source
memory device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8214789A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Motoi Ota
基 太田
Kentaro Nakai
健太郎 中井
Kazuhiro Sakami
和弘 酒見
Ryuji Omachi
隆二 大町
Tatsuji Kobayashi
辰治 小林
Yoshinori Murakami
佳紀 村上
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH1055680A publication Critical patent/JPH1055680A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory which can prevent malfunction of a MOS transistor caused by a potential of an input/output node and prevent a leakage current. SOLUTION: A source/drain electrode of an NMOS transistor 101 connected to an input/output node Nio to which a DQ pin 110 is connected is connected to a gate electrode of the NMOS transistor 101 through a capacitor 103. When a negative potential is given to the DQ pin 110 in writing data, it is transmitted to a gate electrode of the NMOS transistor 101 through the capacitor 103, source/drain electrodes and a gate electrode connected to the input/output node Nio of the NMOS transistor 101 and the gate electrode are made the same potential.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特に、データを入出力するための入出力回路を有す
る半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having an input / output circuit for inputting and outputting data.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、従来の半導体記憶装置700を
示す回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor memory device 700.

【0003】図7を参照して、半導体記憶装置700に
おいて、NMOSトランジスタ101,102によりN
MOSインバータが構成されている。NMOSトランジ
スタ101のゲート電極には、ノードN1からインバー
タ104を介して読出データ/RDが与えられている。
NMOSトランジスタ102のゲート電極には、ノード
N2からインバータ105を介して読出データRDが与
えられている。NMOSインバータの出力ノードにはD
Qピン(デ−タ入出力ピン)110が接続され、外部に
データを出力するとともに外部からデ−タが入力され
る。以下、このNMOSインバータの出力ノードを入出
力ノードNioと称す。
Referring to FIG. 7, in a semiconductor memory device 700, NMOS transistors 101 and 102 cause N
A MOS inverter is configured. Read data / RD is applied to the gate electrode of NMOS transistor 101 from node N1 via inverter 104.
The read data RD is supplied to the gate electrode of the NMOS transistor 102 from the node N2 via the inverter 105. The output node of the NMOS inverter is D
A Q pin (data input / output pin) 110 is connected to output data to the outside and input data from the outside. Hereinafter, the output node of this NMOS inverter is referred to as an input / output node Nio.

【0004】図8は、図7の半導体記憶装置700のデ
−タ読出時の動作を示すタイミングチャートである。
FIG. 8 is a timing chart showing an operation at the time of data reading of semiconductor memory device 700 of FIG.

【0005】図8を用いて半導体記憶装置700のデ−
タ読出時の動作を説明する。図7,8を参照して、ノー
ドN1,N2がともにH(論理ハイ)レベルのときは、
DQピン(入出力ノードNio)110から外部に出力
される出力データDoutはHi−Z(ハイインピーダ
ンス)状態となる。また、Hレベル,L(論理ロー)レ
ベルの相補な読出データRD,/RDが入力されたとき
は、NMOSトランジスタ101,102のいずれか一
方がオン状態、他方がオフ状態となり、DQピン110
からHレベルまたはLレベルの出力データDoutが外
部に出力される。
[0005] Referring to FIG.
The operation at the time of data reading will be described. Referring to FIGS. 7 and 8, when nodes N1 and N2 are both at H (logic high) level,
Output data Dout output from the DQ pin (input / output node Nio) 110 to the outside is in a Hi-Z (high impedance) state. When complementary read data RD and / RD of H level and L (logic low) level are input, one of the NMOS transistors 101 and 102 is turned on and the other is turned off, and the DQ pin 110 is turned off.
Output data Dout of H level or L level is output to the outside.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
記憶装置700において、データ書込時、ノードN1,
N2がともにHレベルのとき、NMOSトランジスタ1
01,102がともにオフ状態であれば、外部からDQ
ピン110に送られてくるデータにノイズなどがのり、
たとえば−1[V]以下の負の電位がDQピン110に
与えられた場合、NMOSトランジスタ101,102
の各々のゲート電極の電位(=Z[V])に対して、D
Qピン(入出力ノードNio)110に接続されたソー
ス/ドレイン電極の電位がサブスレッショルド(sub-th
reshold )電位以下となり、NMOSトランジスタ10
1,102がオン状態となる。
However, in semiconductor memory device 700, at the time of data writing, nodes N1 and N1 are not connected.
When both N2 are at H level, the NMOS transistor 1
If both 01 and 102 are off, DQ
Noise is put on the data sent to the pin 110,
For example, when a negative potential of -1 [V] or less is applied to the DQ pin 110, the NMOS transistors 101 and 102
With respect to the potential of each gate electrode (= Z [V])
The potential of the source / drain electrode connected to the Q pin (input / output node Nio) 110 is set to a sub-threshold (sub-th
reshold) potential and the NMOS transistor 10
1, 102 are turned on.

【0007】その結果、DQピン110にリ−ク電流が
流れてしまうという問題点があった。さらに、NMOS
トランジスタ101,102の基板にも電流が流れ、基
板電位を浮かせてしまい、このとき基板に生じたホール
が、メモリセル(図示せず)のデータを破壊してしま
う、すなわちインジェクション不良が発生するという問
題点があった。
As a result, there is a problem that a leak current flows through the DQ pin 110. Furthermore, NMOS
A current also flows through the substrates of the transistors 101 and 102, causing the substrate potential to float. At this time, holes generated in the substrate destroy data in a memory cell (not shown), that is, an injection failure occurs. There was a problem.

【0008】本発明は以上のような問題点を解決するた
めになされたもので、入出力ノードの電位による誤動作
を防ぎ、リーク電流を防ぐことが可能な半導体記憶装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of preventing a malfunction due to a potential of an input / output node and preventing a leak current. I do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
半導体記憶装置は、一方のソース/ドレイン電極が第1
の電源に接続され、他方のソース/ドレイン電極が入出
力ノードに接続された第1のMOSトランジスタと、一
方のソース/ドレイン電極が第2の電源に接続され、他
方のソース/ドレイン電極が入出力ノードに接続された
第2のMOSトランジスタと、入出力ノードからデータ
が入力されたとき、入出力ノードの電位を第1のMOS
トランジスタのゲート電極に供給する電位供給手段とを
設けたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, wherein one of the source / drain electrodes is the first.
And a first MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node, one source / drain electrode connected to the second power supply, and the other source / drain electrode connected to the input / output node. A second MOS transistor connected to the output node; and, when data is input from the input / output node, the potential of the input / output node is changed to the first MOS transistor.
A potential supply means for supplying a voltage to the gate electrode of the transistor.

【0010】本発明の請求項2に係る半導体記憶装置
は、一方のソース/ドレイン電極が第1の電源に接続さ
れ、他方のソース/ドレイン電極が入出力ノードに接続
された第1のMOSトランジスタと、一方のソース/ド
レイン電極が第2の電源に接続され、他方のソース/ド
レイン電極が入出力ノードに接続された第2のMOSト
ランジスタと、一方電極が第1のMOSトランジスタの
ゲート電極に接続され、他方電極が入出力ノードに接続
されたキャパシタとを設けたものである。
In a semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention, a first MOS transistor having one source / drain electrode connected to a first power supply and the other source / drain electrode connected to an input / output node. And a second MOS transistor having one source / drain electrode connected to the second power supply and the other source / drain electrode connected to the input / output node, and one electrode connected to the gate electrode of the first MOS transistor. And a capacitor whose other electrode is connected to the input / output node.

【0011】本発明の請求項3に係る半導体記憶装置
は、一方のソース/ドレイン電極が第1の電源に接続さ
れ、他方のソース/ドレイン電極が入出力ノードに接続
された第1のMOSトランジスタと、一方のソース/ド
レイン電極が第2の電源に接続され、他方のソース/ド
レイン電極が入出力ノードに接続された第2のMOSト
ランジスタと、一方電極が入出力ノードに接続されたキ
ャパシタと、入出力ノードからデータが入力されると
き、第1のMOSトランジスタのゲート電極とキャパシ
タの他方電極とを接続するスイッチング手段とを設けた
ものである。
According to a third aspect of the present invention, in a semiconductor memory device, a first MOS transistor having one source / drain electrode connected to a first power supply and the other source / drain electrode connected to an input / output node. A second MOS transistor having one source / drain electrode connected to the second power supply and the other source / drain electrode connected to the input / output node; and a capacitor having one electrode connected to the input / output node. And switching means for connecting the gate electrode of the first MOS transistor and the other electrode of the capacitor when data is input from the input / output node.

【0012】本発明の請求項4に係る半導体記憶装置
は、請求項3の半導体記憶装置において、スイッチング
手段は、入出力ノードからデータが出力されるとき、第
1のMOSトランジスタのゲート電極とキャパシタの他
方電極とを切離す。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the third aspect, when the data is output from the input / output node, the switching means includes a gate electrode of the first MOS transistor and a capacitor. Is separated from the other electrode.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】また、図中、同一符号は同一または相当部
分を示す。 (1) 実施の形態1 図1は、本発明の実施の形態1の半導体記憶装置100
を示す回路図である。
In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts. (1) First Embodiment FIG. 1 shows a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention.
FIG.

【0015】図1を参照して、半導体記憶装置100
は、NMOSトランジスタ101,102と、キャパシ
タ103と、インバータ104,105とを備える。
Referring to FIG. 1, semiconductor memory device 100
Includes NMOS transistors 101 and 102, a capacitor 103, and inverters 104 and 105.

【0016】NMOSトランジスタ101,102は、
NMOSインバ−タを構成している。すなわち、NMO
Sトランジスタ101の一方のソース/ドレイン電極は
電源電圧Vccを与えるVcc電源に接続され、他方の
ソース/ドレイン電極はデータの入出力が行なわれる入
出力ノードNioに接続されている。NMOSトランジ
スタ102の一方のソース/ドレイン電極は接地され、
他方のソース/ドレイン電極は入出力ノードNioに接
続されている。インバータ104の入力ノードには、ノ
ードN1から読出データ/RDが入力され、その出力ノ
ードはNMOSトランジスタ101のゲート電極に接続
されている。インバータ105の入力ノードには、ノー
ドN2から読出データRDが入力され、その出力ノード
はNMOSトランジスタ102のゲート電極に接続され
ている。入出力ノードNioには外部とデータの入出力
を行なうためのDQピン110が接続されている。キャ
パシタ103の一方電極はNMOSトランジスタ101
のゲート電極(ノ−ドN3)に接続され、他方電極は入
出力ノードNioに接続されている。
The NMOS transistors 101 and 102 are
It constitutes an NMOS inverter. That is, NMO
One source / drain electrode of S transistor 101 is connected to a Vcc power supply for supplying power supply voltage Vcc, and the other source / drain electrode is connected to input / output node Nio for inputting / outputting data. One source / drain electrode of the NMOS transistor 102 is grounded,
The other source / drain electrode is connected to the input / output node Nio. Read data / RD is input to the input node of inverter 104 from node N 1, and its output node is connected to the gate electrode of NMOS transistor 101. Read data RD is input to the input node of inverter 105 from node N 2, and the output node is connected to the gate electrode of NMOS transistor 102. A DQ pin 110 for inputting / outputting data to / from the outside is connected to the input / output node Nio. One electrode of the capacitor 103 is an NMOS transistor 101
Is connected to the input / output node Nio.

【0017】図2は、図1の半導体記憶装置100のデ
−タ読出時の状態を示すタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing a state at the time of data reading of semiconductor memory device 100 of FIG.

【0018】図2を用いて半導体記憶装置100のデ−
タ読出時の動作を説明する。図1,2を参照して、ノー
ドN1,N2がともにHレベルのときは、入出力ノード
Nioに接続されたDQピン110から出力される出力
データDoutはHi−Z状態である。ノードN1,N
2にHレベルおよびLレベルの相補な読出データRD,
/RDが入力されたとき、NMOSトランジスタ10
1,102のいずれか一方がオン状態、他方がオフ状態
となり、DQピン110から出力される出力データDo
utは、NMOSトランジスタ101がオン状態のとき
はHレベル、NMOSトランジスタ102がオン状態の
ときはLレベルとなる。
Referring to FIG. 2, data of semiconductor memory device 100 will be described.
The operation at the time of data reading will be described. Referring to FIGS. 1 and 2, when nodes N1 and N2 are both at H level, output data Dout output from DQ pin 110 connected to input / output node Nio is in a Hi-Z state. Node N1, N
2, complementary read data RD of H level and L level,
/ RD is input, the NMOS transistor 10
1 and 102 are turned on and the other is turned off, and the output data Do output from the DQ pin 110 is output.
ut is at the H level when the NMOS transistor 101 is on, and at the L level when the NMOS transistor 102 is on.

【0019】データ出力後は、ノードN1,N2は再び
ともにHレベルとなり、DQピン110はHi−Z状態
となる。
After data output, nodes N1 and N2 are both at H level again, and DQ pin 110 is in the Hi-Z state.

【0020】次に、データ書込時は、外部からDQピン
110にHレベルまたはLレベルのデータが送られてく
る。一方、ノードN1,N2はともにHレベルとなり、
NMOSトランジスタ101,102はオフ状態となっ
て、データは入力バッファ回路(図示せず)に送られ
る。
Next, at the time of data writing, H-level or L-level data is sent to the DQ pin 110 from outside. On the other hand, nodes N1 and N2 both attain an H level,
The NMOS transistors 101 and 102 are turned off, and data is sent to an input buffer circuit (not shown).

【0021】このとき、外部からDQピン110を介し
て送られてくるデータにノイズなどがのり、たとえば瞬
間的に−1[V]以下の負の電位を有するデータが入力
されたとする。
At this time, it is assumed that noise or the like is included in data transmitted from the outside via the DQ pin 110, and data having a negative potential of, for example, -1 [V] or less is input instantaneously.

【0022】図3は、図1の半導体記憶装置100のD
Qピン110に、デ−タ書込時に負の電位が与えられた
ときの状態を示すタイミングチャートである。
FIG. 3 is a circuit diagram of the semiconductor memory device 100 shown in FIG.
6 is a timing chart showing a state when a negative potential is applied to the Q pin 110 during data writing.

【0023】図3を参照して、DQピン110に与えら
れた負の電位は、キャパシタ103を介してNMOSト
ランジスタ101のゲート電極が接続されたノードN3
に与えられる。よって、NMOSトランジスタ101の
ゲート電極の電位は、DQピン110に入力されたデー
タと等しい負の電位となるため、オン状態にならない。
Referring to FIG. 3, a negative potential applied to DQ pin 110 is applied to node N3 to which the gate electrode of NMOS transistor 101 is connected via capacitor 103.
Given to. Therefore, the potential of the gate electrode of the NMOS transistor 101 is a negative potential equal to the data input to the DQ pin 110, so that the NMOS transistor 101 is not turned on.

【0024】以上のように、本発明の実施の形態1の半
導体記憶装置は、DQピン110から負の電位がノイズ
的に入力されても、キャパシタを介してNMOSトラン
ジスタ101のゲート電極にその負の電位が与えられ、
ゲート電極とDQピン110に接続されたソース/ドレ
イン電極とが同電位となるため、誤ってオン状態になる
のを防ぐことができ、リーク電流を防ぐことができる。
As described above, in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, even if a negative potential is input as noise from DQ pin 110, the negative potential is applied to the gate electrode of NMOS transistor 101 via the capacitor. Given the potential of
Since the gate electrode and the source / drain electrode connected to the DQ pin 110 have the same potential, it is possible to prevent an erroneous ON state and prevent a leak current.

【0025】これにより、基板に電流が流れホールが発
生してメモリセルのデータを破壊するインジェクション
不良の発生を防止することができる。
As a result, it is possible to prevent the occurrence of an injection failure in which a current flows through the substrate to generate holes and destroy data in the memory cells.

【0026】(2) 実施の形態2 図4は、本発明の実施の形態2の半導体記憶装置400
を示す回路図である。
(2) Second Embodiment FIG. 4 shows a semiconductor memory device 400 according to a second embodiment of the present invention.
FIG.

【0027】図4を参照して、半導体記憶装置400
は、図1の実施の形態1の半導体記憶装置100に、ト
ランスファゲート401をさらに設けたものである。
Referring to FIG. 4, semiconductor memory device 400
In the semiconductor memory device 100 of the first embodiment shown in FIG. 1, a transfer gate 401 is further provided.

【0028】図4を参照して、トランスファゲート40
1は、キャパシタ103の一方電極とNMOSトランジ
スタ101のゲート電極(ノ−ドN3)との間に接続さ
れている。
Referring to FIG. 4, transfer gate 40
1 is connected between one electrode of the capacitor 103 and the gate electrode (node N3) of the NMOS transistor 101.

【0029】ここで、トランスファゲート401は、ク
ロック信号φに応答してオン/オフするPMOSトラン
ジスタ401と、クロック信号φと相補なクロック信号
/φに応答してオン/オフするNMOSトランジスタと
に構成されている。クロック信号φ,/φは、たとえ
ば、外部から入力される出力イネーブル信号/OE、ま
たは、書込指定信号/Wの遅延信号などをもとに生成さ
れ、データの入出力時にトランスファゲート401をオ
ン/オフさせる。
Here, the transfer gate 401 is composed of a PMOS transistor 401 which is turned on / off in response to a clock signal φ, and an NMOS transistor which is turned on / off in response to a clock signal / φ complementary to the clock signal φ. Have been. Clock signals φ and / φ are generated based on, for example, output enable signal / OE externally input or a delay signal of write designation signal / W, and turn on transfer gate 401 when data is input / output. / Off.

【0030】図5は、図4の半導体記憶装置400の状
態を示すタイミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart showing a state of semiconductor memory device 400 of FIG.

【0031】図5を用いて半導体記憶装置400の動作
を説明する。図4,5を参照して、データ読出時は、ク
ロック信号φ,/φに応答してトランスファゲート40
1はオフ状態となる。
The operation of the semiconductor memory device 400 will be described with reference to FIG. Referring to FIGS. 4 and 5, at the time of data reading, transfer gate 40 responds to clock signals φ and / φ.
1 is turned off.

【0032】これにより、NMOSトランジスタ101
のゲート電極とキャパシタ103の一方電極とは切離さ
れるため、動作速度をロスすることなくデータを伝達す
ることができる。
As a result, the NMOS transistor 101
Is separated from one of the electrodes of the capacitor 103, so that data can be transmitted without losing the operation speed.

【0033】データ書込時は、逆に、クロック信号φ,
/φに応答してトランスファゲート401がオン状態と
なり、実施の形態1の半導体記憶装置100と同様の回
路となる。
Conversely, when writing data, clock signals φ,
The transfer gate 401 is turned on in response to / φ, and a circuit similar to the semiconductor memory device 100 of the first embodiment is obtained.

【0034】したがって、実施の形態1で述べたのと同
様に、DQピン110に負の電位が与えられても、その
電位がキャパシタ103を介してNMOSトランジスタ
101のゲート電極に伝えられ、ゲート電極とDQピン
110に接続されたソース/ドレイン電極とが同電位と
なり、NMOSトランジスタ101の誤動作を防ぎ、リ
ーク電流を防ぐことができる。
Therefore, as described in the first embodiment, even if a negative potential is applied to DQ pin 110, the potential is transmitted to the gate electrode of NMOS transistor 101 via capacitor 103, and And the source / drain electrode connected to the DQ pin 110 have the same potential, so that malfunction of the NMOS transistor 101 can be prevented, and leakage current can be prevented.

【0035】以上のように、本発明の実施の形態2の半
導体記憶装置は、実施の形態1の半導体記憶装置の効果
に加えて、データ読出時に、キャパシタ103に起因す
る動作速度のロスをなくすことが可能となる。
As described above, in the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor memory device according to the first embodiment, the operation speed loss caused by the capacitor 103 during data reading is eliminated. It becomes possible.

【0036】(3) 実施の形態3 図6は、本発明の実施の形態3の半導体記憶装置600
を示す回路図である。
(3) Third Embodiment FIG. 6 shows a semiconductor memory device 600 according to a third embodiment of the present invention.
FIG.

【0037】図6を参照して、半導体記憶装置600
は、図1の実施の形態1の半導体記憶装置100におい
て、キャパシタ103をNMOSトランジスタ601に
置換え、NMOSトランジスタ601を制御するための
電位検出回路602をさらに設けたものである。
Referring to FIG. 6, semiconductor memory device 600
In the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment shown in FIG. 1, the capacitor 103 is replaced with an NMOS transistor 601, and a potential detection circuit 602 for controlling the NMOS transistor 601 is further provided.

【0038】NMOSトランジスタ601の一方ソース
/ドレイン電極はNMOSトランジスタ101のゲート
電極に接続され、他方のソース/ドレイン電極は入出力
ノードNioに接続されている。電位検出回路602の
入力ノードは入出力ノードNioに接続され、出力ノー
ドはNMOSトランジスタ601のゲート電極に接続さ
れている。
One source / drain electrode of the NMOS transistor 601 is connected to the gate electrode of the NMOS transistor 101, and the other source / drain electrode is connected to the input / output node Nio. The input node of the potential detection circuit 602 is connected to the input / output node Nio, and the output node is connected to the gate electrode of the NMOS transistor 601.

【0039】電位検出回路602は、入出力ノードNi
oの電位、すなわちDQピン110から入力されたデー
タの電位が(0[V]以下の)負の電位であることを検
出すると、Hレベルの制御信号をNMOSトランジスタ
601のゲート電極に出力する。これにより、NMOS
トランジスタ601はオン状態となり、DQピン110
に入力されたデータの負の電位がNMOSトランジスタ
101のゲート電極に伝えられ、NMOSトランジスタ
101の入出力ノードNioに接続されたソース/ドレ
イン電極とゲート電極とが同電位となる。よって、NM
OSトランジスタ101はオン状態となることはない。
The potential detection circuit 602 includes an input / output node Ni
When detecting that the potential o, that is, the potential of the data input from the DQ pin 110 is a negative potential (less than or equal to 0 [V]), it outputs an H-level control signal to the gate electrode of the NMOS transistor 601. Thereby, NMOS
The transistor 601 is turned on, and the DQ pin 110
Is transmitted to the gate electrode of the NMOS transistor 101, and the source / drain electrode connected to the input / output node Nio of the NMOS transistor 101 and the gate electrode have the same potential. Therefore, NM
The OS transistor 101 is not turned on.

【0040】電位検出回路602は、DQピン110の
電位が負になったときのみNMOSトランジスタ601
のゲート電極にHレベルの制御信号を与えオン状態にす
るので、データ読出時などの通常の動作時は前述の実施
の形態1,2の場合と同様である。
The potential detection circuit 602 operates only when the potential of the DQ pin 110 becomes negative.
Since a high level control signal is applied to the gate electrode to turn it on, the normal operation such as data reading is the same as in the first and second embodiments.

【0041】以上のように、本発明の実施の形態3の半
導体記憶装置は、実施の形態1の半導体記憶装置と同様
の効果を得ることができる。
As described above, the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention can obtain the same effects as the semiconductor memory device according to the first embodiment.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の請求項1の半導体記憶装置によ
れば、入出力ノ−ドの電位に起因する第1のMOSトラ
ンジスタの誤動作を防ぎ、リ−ク電流を防ぐことが可能
となる。
According to the semiconductor memory device of the first aspect of the present invention, it is possible to prevent malfunction of the first MOS transistor due to the potential of the input / output node and prevent leakage current. .

【0043】本発明の請求項2の半導体記憶装置によれ
ば、入出力ノ−ドからデ−タが入力されたとき、キャパ
シタを介して第1のMOSトランジスタのゲ−ト電極に
入出力ノ−ドの電位が与えられるので、入出力ノ−ドの
電位に起因する第1のMOSトランジスタの誤動作を防
ぎ、リ−ク電流を防ぐことが可能となる。
According to the semiconductor memory device of the second aspect of the present invention, when data is input from the input / output node, the input / output node is connected to the gate electrode of the first MOS transistor via the capacitor. Since a negative potential is applied, it is possible to prevent a malfunction of the first MOS transistor caused by the potential of the input / output node and to prevent a leak current.

【0044】本発明の請求項3の半導体記憶装置によれ
ば、入出力ノ−ドからデ−タが入力されたとき、スイッ
チング手段で第1のMOSトランジスタのゲ−ト電極と
入出力ノ−ドとがキャパシタを介して接続され、第1の
MOSトランジスタのゲ−ト電極に入出力ノ−ドの電位
が与えられるので、入出力ノ−ドからデ−タが入力され
たとき、キャパシタを介して第1のMOSトランジスタ
のゲ−ト電極に入出力ノ−ドの電位が与えられるので、
入出力ノ−ドの電位に起因する第1のMOSトランジス
タの誤動作を防ぎ、リ−ク電流を防ぐことが可能とな
る。
According to the semiconductor memory device of the third aspect of the present invention, when data is input from the input / output node, the gate electrode of the first MOS transistor is connected to the input / output node by the switching means. Are connected to each other via a capacitor, and the potential of the input / output node is applied to the gate electrode of the first MOS transistor. Therefore, when data is input from the input / output node, the capacitor is disconnected. The potential of the input / output node is applied to the gate electrode of the first MOS transistor via
Malfunction of the first MOS transistor caused by the potential of the input / output node can be prevented, and leak current can be prevented.

【0045】本発明の請求項4の半導体記憶装置によれ
ば、請求項3の半導体記憶装置入の効果に加えて、入出
力ノ−ドからデ−タが出力されるとき、スイッチング手
段により第1のMOSトランジスタのゲ−ト電極と入出
力ノ−ドとが切離されるので、キャパシタに起因する動
作速度のロスをなくすことが可能である。
According to the semiconductor memory device of the fourth aspect of the present invention, in addition to the effect of the semiconductor memory device of the third aspect, when data is output from the input / output node, the data is output by the switching means. Since the gate electrode of one MOS transistor is separated from the input / output node, it is possible to eliminate a loss in operating speed due to the capacitor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1の半導体記憶装置を示
す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1の半導体記憶装置のデ−タ読出時の状態
を示すタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing a state at the time of data reading of the semiconductor memory device of FIG. 1;

【図3】 図1の半導体記憶装置のDQピンにデ−タ書
込時に負の電位が与えられたときの状態を示すタイミン
グチャートである。
FIG. 3 is a timing chart showing a state when a negative potential is applied to a DQ pin of the semiconductor memory device of FIG. 1 during data writing.

【図4】 本発明の実施の形態2の半導体記憶装置を示
す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】 図4の半導体記憶装置の状態を示すタイミン
グチャートである。
FIG. 5 is a timing chart showing a state of the semiconductor memory device of FIG. 4;

【図6】 本発明の実施の形態3の半導体記憶装置を示
す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】 従来の半導体記憶装置を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor memory device.

【図8】 図7の半導体記憶装置のデ−タ読出時の状態
を示すタイミングチャートである。
8 is a timing chart showing a state at the time of data reading of the semiconductor memory device of FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,400,600 半導体記憶装置、101,1
02,601 NMOSトランジスタ、103 キャパ
シタ、401 トランスファゲート、602電位検出回
路。
100, 400, 600 Semiconductor storage device, 101, 1
02,601 NMOS transistor, 103 capacitor, 401 transfer gate, 602 potential detection circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大町 隆二 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 三 菱電機エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 小林 辰治 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 三 菱電機エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 村上 佳紀 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 三 菱電機エンジニアリング株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Ryuji Omachi 2-6-2 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Electric Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Tatsuharu Kobayashi 2-6-Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo 2. Mitsubishi Electric Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Yoshinori Murakami 2-6-1 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Electric Engineering Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入出力ノードからデータを入出力する半
導体記憶装置であって、 一方のソース/ドレイン電極が第1の電源に接続され、
他方のソース/ドレイン電極が前記入出力ノードに接続
された第1のMOSトランジスタと、 一方のソース/ドレイン電極が第2の電源に接続され、
他方のソース/ドレイン電極が前記入出力ノードに接続
された第2のMOSトランジスタと、 前記入出力ノードからデータが入力されたとき、前記入
出力ノードの電位を前記第1のMOSトランジスタのゲ
ート電極に供給する電位供給手段と、を備える半導体記
憶装置。
1. A semiconductor memory device for inputting / outputting data from an input / output node, wherein one source / drain electrode is connected to a first power supply,
A first MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node, and one source / drain electrode connected to a second power supply;
A second MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node; and, when data is input from the input / output node, the potential of the input / output node is changed to a gate electrode of the first MOS transistor. And a potential supply means for supplying the potential to the semiconductor memory device.
【請求項2】 入出力ノードからデータを入出力する半
導体記憶装置であって、 一方のソース/ドレイン電極が第1の電源に接続され、
他方のソース/ドレイン電極が前記入出力ノードに接続
された第1のMOSトランジスタと、 一方のソース/ドレイン電極が第2の電源に接続され、
他方のソース/ドレイン電極が前記入出力ノードに接続
された第2のMOSトランジスタと、 一方電極が前記第1のMOSトランジスタのゲート電極
に接続され、他方電極が前記入出力ノードに接続された
キャパシタと、を備える半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device for inputting / outputting data from an input / output node, wherein one source / drain electrode is connected to a first power supply,
A first MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node, and one source / drain electrode connected to a second power supply;
A second MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node; and a capacitor having one electrode connected to the gate electrode of the first MOS transistor and the other electrode connected to the input / output node. And a semiconductor storage device comprising:
【請求項3】 入出力ノードからデータを入出力する半
導体記憶装置であって、 一方のソース/ドレイン電極が第1の電源に接続され、
他方のソース/ドレイン電極が前記入出力ノードに接続
された第1のMOSトランジスタと、 一方のソース/ドレイン電極が第2の電源に接続され、
他方のソース/ドレイン電極が前記入出力ノードに接続
された第2のMOSトランジスタと、 一方電極が前記入出力ノードに接続されたキャパシタ
と、 前記入出力ノードからデータが入力されるとき、前記第
1のMOSトランジスタのゲート電極と前記キャパシタ
の他方電極とを接続するスイッチング手段と、を備える
半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device for inputting / outputting data from an input / output node, wherein one source / drain electrode is connected to a first power supply,
A first MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node, and one source / drain electrode connected to a second power supply;
A second MOS transistor having the other source / drain electrode connected to the input / output node; a capacitor having one electrode connected to the input / output node; A switching device for connecting a gate electrode of one MOS transistor to the other electrode of the capacitor;
【請求項4】 前記スイッチング手段は、 前記入出力ノードからデータが出力されるとき、前記第
1のMOSトランジスタのゲート電極と前記キャパシタ
の他方電極とを切離す、請求項3に記載の半導体記憶装
置。
4. The semiconductor memory according to claim 3, wherein said switching means disconnects a gate electrode of said first MOS transistor and another electrode of said capacitor when data is output from said input / output node. apparatus.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004104754A (en) * 2002-07-15 2004-04-02 Renesas Technology Corp Semiconductor device

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