JPH105165A - Dish washer - Google Patents

Dish washer

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JPH105165A
JPH105165A JP16162496A JP16162496A JPH105165A JP H105165 A JPH105165 A JP H105165A JP 16162496 A JP16162496 A JP 16162496A JP 16162496 A JP16162496 A JP 16162496A JP H105165 A JPH105165 A JP H105165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
pressure
electrodes
high voltage
dishwasher
Prior art date
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Pending
Application number
JP16162496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeo Abe
剛夫 安部
Tetsuo Moriyama
徹夫 森山
Noritake Sumida
憲武 隅田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP16162496A priority Critical patent/JPH105165A/en
Publication of JPH105165A publication Critical patent/JPH105165A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide waterless washing by providing a pressure reducing means for reducing the pressure in a washing chamber, a gas feed means for feeding a prescribed volume of gas, and a high voltage power supply for applying high voltage to electrodes, reducing the pressure in the washing chamber, feeding gas therein, and washing a dish by plasma discharge across the electrodes. SOLUTION: In operating a dish washer 1, at first, dishes 2 to be washed are mounted between electrodes 3, 3 in a washing chamber 5. Secondly, when the washing chamber 5 is closed and sealed, a vacuum pump 8 is started so as to reduce the pressure in the washing chamber 5, and after reaching a prescribed vacuum degree, a feed air flow adjustment valve 13 is opened so that a prescribed volume of gas is started to flow in. At the same time, the current whose voltage is increased by a high voltage power supply is fed to the electrodes 3, 3 so as to excite across the electrodes 3, 3 into a plasma state P. This constitution permits the gas present between the electrodes 3, 3 to become an excited state, resolves and vaporizes the dirt stuck to the surface of the dishes 2, and sucks and disposes the vaporized dirt in the vacuum side.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は洗浄工程において水
を使用しない乾式の食器洗浄機に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry dishwasher which does not use water in a washing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の食器洗浄機、例えば洗浄水を使用
して食器の洗浄を行う食器洗浄機は図6に示すように、
洗浄槽51内の食器棚52に食器53を載置し、洗浄槽
51下部に貯留した洗浄水を専用洗剤と共にポンプ54
にてノズル55より噴出させて食器53の洗浄を行い、
その後、洗浄水の入れ替えを行ってすすぎを行い、数回
すすぎを行った後、乾燥を行う構成にしたものである。
2. Description of the Related Art A conventional dishwasher, for example, a dishwasher for washing dishes using washing water, as shown in FIG.
The tableware 53 is placed on a cupboard 52 in the washing tank 51, and the washing water stored in the lower part of the washing tank 51 is pumped together with a special detergent.
At the nozzle 55 to wash the tableware 53,
Thereafter, the washing water is replaced, rinsing is performed, rinsing is performed several times, and then drying is performed.

【0003】また、プラズマを利用し洗浄を行う洗浄機
としては、樹脂を塗装する場合の前処理や電気電子部品
の精密洗浄、接着の前処理などに利用されているプラズ
マエッチング機が産業用として使用されている。そし
て、分析用の灰化装置としてプラズマを利用して対象物
の灰化を行う装置が存在する。
As a cleaning machine for performing cleaning using plasma, a plasma etching machine used for pretreatment for coating resin, precision cleaning for electric and electronic parts, and pretreatment for bonding is used for industrial purposes. It is used. There is an apparatus for ashing an object using plasma as an ashing apparatus for analysis.

【0004】これらの装置(技術)は真空中にそれぞれ
の目的に合わせた所定のガスをチャンバー中に流入し1
3.56MHzなどの高周波をチャンバーに供給してプ
ラズマを発生させ処理を行うものである。この装置は真
空に限らず常圧に数万KVといった電圧を印加し発生さ
せている例もある。
In these devices (techniques), a predetermined gas suitable for each purpose is introduced into a chamber in a vacuum, and the gas is supplied to the chamber.
The process is performed by supplying a high frequency such as 3.56 MHz to the chamber to generate plasma. In some cases, this device generates a voltage of tens of thousands KV at normal pressure as well as vacuum.

【0005】上記のような洗浄装置において真空チャン
バーに関する発明として、特開平6―220668号公
報に記載のように、真空チャンバー内の複数の処理物存
置用の棚に空間相互間にプラズマ発生させるための電極
を設けたものが提案されている。
As an invention relating to a vacuum chamber in the above-described cleaning apparatus, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-220668, a plasma is generated between spaces on a plurality of shelves for storing a plurality of processing objects in a vacuum chamber. The one provided with the above electrode has been proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の食
器洗浄機においては、洗浄手段として水と洗剤を使用し
ており、そのために、水を使用することによって食器洗
浄機の設置の際、通常の水栓から分岐するなどの給水配
管及び食器洗浄後の洗浄排水の配管などの設置工事を必
要とし、また、食器洗浄機は設置の際、水道付近から離
せないため設置場所が限定されるなどの問題があり、更
に、洗剤使用等による水質の汚染は環境汚染の問題を抱
えているのも事実である。
As described above, in a conventional dishwasher, water and a detergent are used as washing means. Therefore, when the dishwasher is installed by using water, Installation work such as water supply piping such as branching from a normal faucet and piping for washing and draining after dishwashing is required, and the installation place is limited because the dishwasher can not be separated from near the water supply at the time of installation In addition, it is a fact that water pollution caused by the use of detergents has a problem of environmental pollution.

【0007】本発明は上記のような課題を解決したもの
で、洗浄工程において水を使用しない乾式方式として置
き場所に困らないしかも環境に優しい食器洗浄機を提供
することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an environment-friendly dishwasher which is a dry type which does not use water in a washing process and which is not troublesome in its place.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の食器洗浄機は上
記のような課題を解決するために、請求項1記載の発明
は、扉を備えた耐真空構造の洗浄室のなかに対向する電
極とその間に食器を載置する手段とを備え、洗浄室を所
定の圧力に減圧する減圧手段と所定の量のガスを給気す
るガス給気手段と電極に高電圧を印加する高電圧電源と
を設け、洗浄室内を減圧した後ガスを供給して電極間に
プラズマ放電させて載置した食器をプラズマにより洗浄
を行うようにしたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to the first aspect of the present invention is directed to a dishwasher having a vacuum-resistant washing room provided with a door. A pressure reducing means for reducing the pressure of the washing chamber to a predetermined pressure, a gas supply means for supplying a predetermined amount of gas, and a high-voltage power supply for applying a high voltage to the electrode, comprising an electrode and means for placing tableware between the electrodes. After the pressure in the cleaning chamber is reduced, a gas is supplied to cause a plasma discharge between the electrodes, and the placed tableware is cleaned by the plasma.

【0009】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の発明の構成に加えて、効果的な洗浄を行うために、
食器を載置した後、扉を密封し30Torr以下の減圧値に
減圧するための圧力調節手段と、減圧後所定の量の洗浄
効率を向上させるためのガスを給気するガス量調節手段
と、前記減圧値に適合する電極間電圧を印加する高電圧
調整手段と、所定の時間電極間に該高電圧を印加する計
時手段とを備えてプラズマ洗浄を行うものである。
[0009] The invention according to claim 2 provides, in addition to the configuration of the invention according to claim 1, a method for performing effective cleaning.
After the tableware is placed, the door is sealed, the pressure adjusting means for reducing the pressure to a reduced pressure value of 30 Torr or less, and the gas amount adjusting means for supplying a gas for improving a predetermined amount of cleaning efficiency after the pressure reduction, The plasma cleaning is performed by providing high voltage adjusting means for applying an inter-electrode voltage suitable for the reduced pressure value and time measuring means for applying the high voltage between the electrodes for a predetermined time.

【0010】そして、請求項3記載の発明は、請求項1
記載の発明の構成に加えて、真空圧を所定の回数以上付
加した場合でも洗浄チャンバーが所定の強度を保つため
に、食器洗浄機の洗浄室の全体または一部が外側に膨ら
む曲面をなしたステンレスからなり扉部分が密封構造と
してなるものである。
[0010] The invention according to claim 3 is based on claim 1.
In addition to the configuration of the invention described, in order to keep the cleaning chamber at a predetermined strength even when a vacuum pressure is applied a predetermined number of times or more, the entire or a part of the cleaning chamber of the dishwasher has a curved surface that expands outward. The door part is made of stainless steel and has a sealed structure.

【0011】そしてまた、請求項4記載の発明は、請求
項1記載の発明の構成に加えて、電極の耐熱性及び耐食
性を向上させる手段として、電極の対向面に導電性のセ
ラミックを使用してなるものである。さらに、請求項5
記載の発明は、請求項1記載の発明の構成に加えて、発
生させたプラズマを安定させるため、食器を載置する棚
を絶縁体のセラミックまたは樹脂またはガラスで形成す
るか、またはそれらで表面が被覆された金属チャンバー
か合成樹脂、若しくはセラミックで形成してなるもので
ある。
According to a fourth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the first aspect of the present invention, as means for improving the heat resistance and corrosion resistance of the electrode, a conductive ceramic is used on the opposing surface of the electrode. It is. Further, claim 5
According to the invention described above, in addition to the configuration of the invention described in claim 1, in order to stabilize the generated plasma, the shelf on which the tableware is placed is formed of an insulating ceramic or resin or glass, or the surface thereof is made of them. Is formed of a coated metal chamber or a synthetic resin or ceramic.

【0012】さらにまた、請求項6記載の発明は、請求
項1記載の発明の構成に加えて、真空チャンバー内をク
リーンに保つため、ドライ真空ポンプを備えてなるもの
である。また、請求項7記載の発明は、請求項1記載の
発明の構成に加えて、洗浄の際、完全に洗浄しきるまで
の時間を短縮する手段として、気体分離手段を用いて大
気から分離して得られる酸素を利用するものである。
Further, the invention according to claim 6 is provided with a dry vacuum pump in order to keep the inside of the vacuum chamber clean in addition to the structure of the invention according to claim 1. According to a seventh aspect of the present invention, in addition to the configuration of the first aspect of the present invention, as means for shortening the time required for complete cleaning during cleaning, gas is separated from the atmosphere using gas separating means. It utilizes the oxygen obtained.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の食器洗浄機は、食器の洗
浄に際してはプラズマを用いることによって洗浄に水を
必要としない乾式の食器洗浄機であり、真空にした洗浄
チャンバー中に高電圧を印加することによってチャンバ
ー内に封入されていたガスをプラズマ状に励起し、プラ
ズマ状態に励起された封入ガスは非常に高い電子温度を
持ち非常に高い酸化力を有し、そのプラズマが食器表面
に付着した汚染に触れることによって汚染は表面から徐
々に気体となり、ついには完全に気体に分解して食器を
洗浄するようにしたものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The dishwasher of the present invention is a dry dishwasher that does not require water for washing by using plasma when washing dishes, and a high voltage is applied to a vacuumed washing chamber. By applying the gas, the gas sealed in the chamber is excited into a plasma state, and the sealed gas excited in the plasma state has a very high electron temperature and a very high oxidizing power, and the plasma is applied to the surface of the tableware. By touching the contaminants, the contaminants gradually become gas from the surface, and eventually break down completely into gas to wash the dishes.

【0014】以下本発明の食器洗浄機の第1の実施の形
態について図1及び図2と共に説明する。
Hereinafter, a first embodiment of a dishwasher according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0015】本発明の第1の実施の形態の食器洗浄機は
図1に示すように構成するものであり、図1において、
食器洗浄機1は洗浄すべき食器2と、プラズマを発生さ
せるため洗浄チャンバー内にあり対向する電極3と、電
極3に高圧電流を印加させるための高電圧電源4と、洗
浄すべき食器2を収納することができる耐真空洗浄チャ
ンバー5と、高電圧を電極3に供給するための配線15
と、洗浄チャンバー5と配線15の間で高電圧印加時に
おいても絶縁が保て空気漏れも起こさない絶縁シール材
l6と、チャンバー5内にあり食器を載置するためのラ
ック6と、ラック6を対向する電極3の間に支えておく
ためのラックホルダー7と、チャンバー5内を所定の真
空に引くための真空ポンプ8と、真空ポンプ8と真空洗
浄チャンバー5とを接続しチャンバー5内のガスを排気
するための排気管9と排気口10と、チャンバー5の外
部からチャンバー5内にガスを送り込むための給気口1
1と給気管12と、給気するガスの流量を調節するため
の給気流量調節弁13と、電極3を洗浄チャンバー5な
いに保持するための電極保持具14とを備えている。
A dishwasher according to a first embodiment of the present invention is configured as shown in FIG. 1. In FIG.
The dishwasher 1 includes a tableware 2 to be cleaned, an electrode 3 located in a cleaning chamber and facing to generate plasma, a high voltage power supply 4 for applying a high voltage current to the electrode 3, and a tableware 2 to be cleaned. Vacuum-resistant cleaning chamber 5 that can be housed, and wiring 15 for supplying high voltage to electrode 3
An insulating sealing material 16 which maintains insulation even when a high voltage is applied between the cleaning chamber 5 and the wiring 15 and does not cause air leakage; a rack 6 in the chamber 5 for placing tableware; , A rack holder 7 for holding the space between the opposing electrodes 3, a vacuum pump 8 for drawing a predetermined vacuum in the chamber 5, and a connection between the vacuum pump 8 and the vacuum cleaning chamber 5. Exhaust pipe 9 and exhaust port 10 for exhausting gas, and air supply port 1 for sending gas into chamber 5 from outside of chamber 5
1, an air supply pipe 12, an air supply flow rate control valve 13 for adjusting the flow rate of gas to be supplied, and an electrode holder 14 for holding the electrode 3 without the cleaning chamber 5.

【0016】次に上記のように構成してなる食器洗浄機
の運転動作について説明する。まず、洗浄すべき食器2
を洗浄チャンバー5内の対向する電極3の間に挟まれる
ように載置する。その際、ラック6はラックホルダー7
の上に載せ固定する。ラック載置の方法は電極3に直接
載せる方法でも支障はない。
Next, the operation of the dishwasher constructed as described above will be described. First, tableware 2 to be washed
Is placed between the opposing electrodes 3 in the cleaning chamber 5. At this time, the rack 6 is attached to the rack holder 7
Place on top and secure. The rack can be placed directly on the electrode 3 without any problem.

【0017】食器2の収納作業が終了すると、洗浄チャ
ンバー5を閉じて密封した後真空ポンプ8の始動にて洗
浄チャンバー5内の減圧を開始し、所定の真空度まで到
達すると給気流量調節弁13が開かれ所定のガスの流入
が開始され、ガスの流入開始と共に高電圧電源4によっ
て昇圧された電流が電極3に供給される。
After the work of storing the tableware 2 is completed, the washing chamber 5 is closed and sealed, and then the vacuum pump 8 is started to start reducing the pressure in the washing chamber 5. 13 is opened to start the flow of a predetermined gas, and the current boosted by the high-voltage power supply 4 is supplied to the electrode 3 with the start of the flow of the gas.

【0018】そして、電極3に高電圧が印加されること
によって電極3間はプラズマ状態Pに励起され、電極3
間に存在するガスは励起された状態になり励起ガスが食
器2表面に付着している汚染を分解し気化させていき、
気化された汚染は真空側に吸引されていき廃棄される。
所定の時間プラズマを照射し洗浄行程は終了する。その
後、給気流量調整弁13を解放し大気圧に復圧させる。
以上のようにして食器の洗浄を行う。
When a high voltage is applied to the electrodes 3, the space between the electrodes 3 is excited to a plasma state P,
The gas existing in between is in an excited state, and the excited gas decomposes and vaporizes the contamination attached to the tableware 2 surface,
The vaporized contamination is sucked to the vacuum side and discarded.
The plasma is irradiated for a predetermined time, and the cleaning process is completed. Thereafter, the supply air flow control valve 13 is released to return to the atmospheric pressure.
The dishes are washed as described above.

【0019】上記のようにして洗浄した結果を図2に示
す。このような結果からプラズマでの洗浄が可能であ
り、プラズマの発生については洗浄チャンバー5内の圧
力は30Torr以下であることが望ましい。食器の洗浄に
適量なガス量とプラズマの立ち上がり安さを考慮に入れ
ると1Torr付近が最も望ましい数値である。また、洗浄
の媒体となるガスは一定量のバージンガスをチャンバー
5内に取り込みながら洗浄を行う必要がある。
FIG. 2 shows the result of the cleaning as described above. From these results, it is possible to perform cleaning with plasma, and it is desirable that the pressure in the cleaning chamber 5 be 30 Torr or less for generation of plasma. Taking into account the appropriate amount of gas for washing dishes and the low rise of plasma, the most desirable value is around 1 Torr. Further, it is necessary to perform the cleaning while taking a certain amount of virgin gas into the chamber 5 as a gas serving as a cleaning medium.

【0020】上記の場合、ラックは絶縁物から作られて
いる必要がある。なぜなら、導電体をプラズマ中に載置
するのは安定したプラズマ生成の妨げになるからであ
る。また、真空ポンプ8はオイルを利用しないドライ真
空ポンプであることが望ましい。なぜなら、油回転ポン
プはオイルミストが真空側にも飛散するおそれがあり、
使用回数や時間によってオイルの劣化が起こるためオイ
ル交換の必要が生じる。以上のようなことからドライ真
空ポンプが適している。
In the above case, the rack must be made of an insulating material. This is because placing the conductor in the plasma hinders stable plasma generation. Further, it is desirable that the vacuum pump 8 is a dry vacuum pump that does not use oil. This is because the oil rotary pump may cause oil mist to scatter on the vacuum side,
Since the oil deteriorates depending on the number of times of use and time, it is necessary to change the oil. For these reasons, a dry vacuum pump is suitable.

【0021】そして、流入ガスは酸素であることが望ま
しい。なぜなら、汚染物の酸化に直接寄与するのは酸素
の活性種であるためガスの酸素濃度が高いのは洗浄に対
して非常に有用である。洗浄試験によると空気を用いた
場合と酸素を用いた場合では酸素の場合の方が半分程度
の時間で洗浄が可能であった。
Preferably, the inflow gas is oxygen. Because the active species of oxygen directly contribute to the oxidation of contaminants, the high oxygen concentration of the gas is very useful for cleaning. According to the cleaning test, when air was used and when oxygen was used, cleaning was possible in about half the time in the case of oxygen.

【0022】次に、本発明の食器洗浄機の第2の実施の
形態について図3及び図4と共に説明する。
Next, a second embodiment of the dishwasher according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0023】本発明の第2の実施の形態の食器洗浄機は
図3に示すように構成するものであり、図3は本発明の
食器洗浄機の洗浄チャンバーの概略斜視構成図であり、
図3において、洗浄チャンバー20(図1の洗浄チャン
バー5に相当)は開閉自在の扉21と、扉21を開閉し
易くするためのノブ22と、扉21を支えかつ開閉自在
に保つための蝶番23と、扉21と本体との接触部分に
設けられた真空シール部分24と、真空ポンプの排気口
25と、電極へ電力の供給を行うための送電部分26
と、給気部分27と、真空シールを補助するための扉ロ
ック28とからなる。
The dishwasher according to the second embodiment of the present invention is configured as shown in FIG. 3, and FIG. 3 is a schematic perspective view of a washing chamber of the dishwasher according to the present invention.
3, a cleaning chamber 20 (corresponding to the cleaning chamber 5 in FIG. 1) includes a door 21 that can be opened and closed, a knob 22 that facilitates opening and closing of the door 21, and a hinge that supports the door 21 and keeps the door 21 openable and closable. 23, a vacuum seal portion 24 provided at a contact portion between the door 21 and the main body, an exhaust port 25 of a vacuum pump, and a power transmission portion 26 for supplying power to the electrodes.
And an air supply portion 27 and a door lock 28 for assisting a vacuum seal.

【0024】材質はステンレス製とし図3に示したよう
に膨らみを持たして補強した場合厚みは2mm以下で十分
強度保持が可能である。ステンレス鋼の中でもSUS3
04が適当である。更に板厚を薄くする手段として、図
4(a),(b)に示したように壁面の方向に対して直
角方向に傾きを持つように側面板に補強を導入すること
が必要になる。このような補強を複数設けることにより
板厚を下げることが可能である。
When the material is made of stainless steel and swelled and reinforced as shown in FIG. 3, the thickness is 2 mm or less and sufficient strength can be maintained. SUS3 among stainless steel
04 is appropriate. As means for further reducing the plate thickness, it is necessary to introduce reinforcement into the side plate so as to be inclined at right angles to the direction of the wall surface as shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). By providing a plurality of such reinforcements, the plate thickness can be reduced.

【0025】次に、本発明の食器洗浄機の第3の実施の
形態について図5(a),(b)と共に説明する。
Next, a third embodiment of the dishwasher according to the present invention will be described with reference to FIGS. 5 (a) and 5 (b).

【0026】本発明の第3の実施の形態の食器洗浄機は
図5(a),(b)に示すように構成するものであり、
図5(a)は本発明の食器洗浄機の電極の概略斜視構成
図であり、図5(b)は本発明の食器洗浄機の電極の概
略断面構成図である。
A dishwasher according to a third embodiment of the present invention is configured as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b).
FIG. 5A is a schematic perspective configuration diagram of an electrode of the dishwasher of the present invention, and FIG. 5B is a schematic cross-sectional configuration diagram of an electrode of the dishwasher of the present invention.

【0027】図5(a),(b)において、電極板30
は導電性を持つセラミックから成形されるものであり、
セラミックによって成形された電極板31と、電極板3
1に電力を送り込むための電力供給端子32と、それら
の周囲にあり電力供給端子32にプラズマ34が回り込
みするのを防止するための絶縁シールド33より成り立
っている。
5A and 5B, the electrode plate 30
Is molded from a conductive ceramic,
An electrode plate 31 formed of ceramic;
1 includes an electric power supply terminal 32 for supplying electric power to the power supply terminal 1 and an insulating shield 33 around the electric power supply terminal 32 for preventing the plasma 34 from entering the electric power supply terminal 32.

【0028】導電性のセラミック素材としては炭化珪素
が熱による変形が少なくかつ耐食性も優れており非常に
有用であり、セラミックの中でも緻密体のセラミックが
更に有用である。これはチャンバーを真空に引く際、多
孔質セラミックの場合に吸着しているガスの発生をなる
べく防ぐためである。ポンプ能力によっては多孔質でも
30Torr以下の真空引きは十分可能である。また、電力
供給端子32と電極板31を一体で成形することも可能
であるが、ステンレス製の電力供給端子32と電極板3
1を銀などに代表される導電性のペーストを用いて接着
し成形することも可能である。絶縁シールド33と電極
板31と電力供給端子32は熱膨張率が近い素材が望ま
しい。
As a conductive ceramic material, silicon carbide is very useful because it is less deformed by heat and has excellent corrosion resistance, and among ceramics, a dense ceramic is more useful. This is to prevent the generation of gas adsorbed in the case of porous ceramics when the chamber is evacuated to a vacuum. Depending on the pumping capability, evacuation of 30 Torr or less is sufficiently possible even with a porous structure. Although the power supply terminal 32 and the electrode plate 31 can be formed integrally, it is possible to form the power supply terminal 32 and the electrode plate 3 made of stainless steel.
It is also possible to bond and mold 1 using a conductive paste represented by silver or the like. It is desirable that the insulating shield 33, the electrode plate 31, and the power supply terminal 32 be made of materials having similar thermal expansion coefficients.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明の食器洗浄機は上記のような構成
であるから、請求項1記載の発明は扉を備えた耐真空構
造の洗浄室のなかに対向する電極とその間に食器を載置
する手段とを備え、洗浄室を所定の圧力に減圧する減圧
手段と所定の量のガスを給気するガス給気手段と電極に
高電圧を印加する高電圧電源とを設け、洗浄室内を減圧
した後ガスを供給して電極間にプラズマ放電させて載置
した食器をプラズマにより洗浄することによって、食器
洗浄機の置き場所を水道周りから離すことが可能であ
り、また、気体のみでの洗浄であるから環境問題につい
ても全く無害であり、しかも、設置場所がフリーである
から設置工事も必要がないといった効果が得られる。
Since the dishwasher of the present invention has the above-described structure, the invention according to claim 1 mounts the facing electrode in a vacuum-resistant washing room having a door and the tableware between the electrodes. And a gas supply means for supplying a predetermined amount of gas, and a high-voltage power supply for applying a high voltage to the electrodes. After the pressure is reduced, a gas is supplied to cause a plasma discharge between the electrodes, and the placed tableware is washed with the plasma, so that the place where the dishwasher is placed can be separated from the surroundings of the tap water. Since the cleaning is performed, environmental effects are completely harmless. Further, since the installation place is free, there is an effect that no installation work is required.

【0030】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の発明の効果に加えて、棚に食器を載置した後、扉を
密封し30Torr以下の減圧値に減圧するための圧力調節
手段と、減圧後所定の量の洗浄効率を向上させるための
ガスを給気するガス量調節手段と、前記減圧値に適合す
る電極間電圧を印加する高電圧調整手段と、所定の時間
電極間に該高電圧を印加する計時手段とを備えてプラズ
マ洗浄を行うためプラズマの安定した発生が容易に得ら
れる。
The invention according to claim 2 has the effect of the invention according to claim 1, and furthermore, after the tableware is placed on the shelf, the door is sealed and the pressure is adjusted to reduce the pressure to a reduced pressure value of 30 Torr or less. Means, gas amount adjusting means for supplying a gas for improving a predetermined amount of cleaning efficiency after decompression, high voltage adjusting means for applying an inter-electrode voltage suitable for the reduced pressure value, and a predetermined time between the electrodes. And a timer for applying the high voltage to perform the plasma cleaning so that stable generation of plasma can be easily obtained.

【0031】そして、請求項3記載の発明は、請求項1
記載の発明の効果に加えて、洗浄室は全体または一部か
外側に膨らむ曲面をなしたステンレスからなり扉部分は
密封構造で構成されているため安価に真空チヤンバーが
製作可能である。
[0031] The third aspect of the present invention provides the first aspect.
In addition to the effects of the described invention, the cleaning chamber is made of stainless steel having a curved surface which swells in whole or in part or outwards, and the door portion is constituted by a sealed structure, so that a vacuum chamber can be manufactured at low cost.

【0032】そしてまた、請求項4に記載の発明は、請
求項1記載の発明の効果に加えて、電極の対向面が導電
性のセラミックから構成しているため熱による変形が少
なく安定した放電状態が得られ、これにより安定した食
器の洗浄が可能である。
Further, according to the invention of claim 4, in addition to the effect of the invention of claim 1, since the opposing surface of the electrode is made of conductive ceramic, there is little deformation due to heat and stable discharge. A condition is obtained, which allows a stable washing of the dishes.

【0033】さらに、請求項5に記載の発明は、請求項
1記載の発明の効果に加えて、食器載置用の棚は絶縁体
のセラミックまたは樹脂またはガラスで形成するか、ま
たはそれらで表面を被覆された金属チャンバーか合成樹
脂、もしくはセラミックで形成されているためプラズマ
の安定した放電を得ることができる。
Further, according to the invention described in claim 5, in addition to the effect of the invention described in claim 1, the shelf for placing tableware is formed of an insulating ceramic, resin, or glass, or has a surface made of them. A stable discharge of plasma can be obtained because the metal chamber coated with is formed of synthetic resin or ceramic.

【0034】さらにまた、請求項6記載の発明は、請求
項1記載の発明の効果に加えて、減圧手段にドライ真空
ポンプを使用することによって洗浄チャンバー中に真空
ポンプからのオイルミストの侵入を無くすことができ、
しかも、ユーザーのメンテナンスをフリーにすることが
可能である。
[0034] Further, in addition to the effect of the first aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the present invention, the use of a dry vacuum pump for the pressure reducing means prevents oil mist from entering the cleaning chamber from the vacuum pump. Can be lost,
In addition, it is possible to make user maintenance free.

【0035】また、請求項7記載の発明は、請求項1記
載の発明の効果に加えて、ガスが気体分離手段を用いて
大気から分離して得られる酸素からなることによって通
常の空気で洗浄するよりも早く洗浄することが可能であ
る。
According to a seventh aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the present invention, since the gas is made of oxygen obtained by separating from the atmosphere using a gas separating means, the gas is washed with ordinary air. It is possible to wash faster than before.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の食器洗浄機の第1の実施の形態を示す
要部断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a main part of a dishwasher according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の食器洗浄機の洗浄率の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a cleaning rate of the dishwasher of the present invention.

【図3】本発明の食器洗浄機の第2の実施の形態を示す
概略構成斜視図である。
FIG. 3 is a schematic configuration perspective view showing a second embodiment of the dishwasher of the present invention.

【図4】本発明の食器洗浄機の真空チャンバーの補強方
法の断面説明図である。
FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view of a method for reinforcing a vacuum chamber of a dishwasher according to the present invention.

【図5】本発明の食器洗浄機の電極の概略構成図であ
る。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an electrode of the dishwasher of the present invention.

【図6】従来の食器洗浄機の実施の形態を示す概略断面
構成図である。
FIG. 6 is a schematic sectional configuration view showing an embodiment of a conventional dishwasher.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 食器洗浄機 2 食器 3 電極 4 高電圧電源 5 洗浄チャンバー 8 真空ポンプ 13 給気流量調節弁 20 洗浄チャンバー 24 真空シール部分 30 セラミック電極 31 電極板 32 電力供給端子 33 絶縁シールド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dishwasher 2 Tableware 3 Electrode 4 High voltage power supply 5 Cleaning chamber 8 Vacuum pump 13 Supply air flow control valve 20 Cleaning chamber 24 Vacuum seal part 30 Ceramic electrode 31 Electrode plate 32 Power supply terminal 33 Insulation shield

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 扉を備えた耐真空構造の洗浄室のなかに
対向する電極とその間に食器を載置する手段とを備え、
洗浄室を所定の圧力に減圧する減圧手段と所定の量のガ
スを給気するガス給気手段と電極に高電圧を印加する高
電圧電源とを設け、洗浄室内を減圧した後ガスを供給し
て電極間にプラズマ放電させて載置した食器をプラズマ
により洗浄することを特徴とする食器洗浄機。
1. An apparatus according to claim 1, further comprising: an opposite electrode in a vacuum-resistant cleaning chamber having a door; and means for placing tableware therebetween.
A pressure reducing means for reducing the pressure of the cleaning chamber to a predetermined pressure, a gas supply means for supplying a predetermined amount of gas, and a high voltage power supply for applying a high voltage to the electrodes are provided. A dishwasher characterized in that dishwashers placed by plasma discharge between electrodes are washed with plasma.
【請求項2】 上記食器を載置した後、扉を密封し30
Torr以下の減圧値に減圧するための圧力調節手段と、減
圧後所定の量の洗浄効率を向上させるためのガスを給気
するガス量調節手段と、上記減圧値に適合する電極間電
圧を印加する高電圧調整手段と、所定の時間電極間に該
高電圧を印加する計時手段とを備えてプラズマ洗浄を行
うことを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
2. After the tableware is placed, the door is closed and sealed.
A pressure adjusting means for reducing the pressure to a reduced pressure value of Torr or less, a gas amount adjusting means for supplying a gas for improving a predetermined amount of cleaning efficiency after the pressure reduction, and applying an inter-electrode voltage suitable for the reduced pressure value. 2. The dishwasher according to claim 1, wherein the dishwasher is provided with a high voltage adjusting means for performing the plasma cleaning and a time measuring means for applying the high voltage between the electrodes for a predetermined time.
【請求項3】 上記洗浄室は、全体または一部が外側に
膨らむ曲面をなしたステンレスからなり扉部分が密封構
造としてなることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄
機。
3. The dishwasher according to claim 1, wherein the washing chamber is entirely or partially made of stainless steel having a curved surface bulging outward, and a door portion has a sealed structure.
【請求項4】 上記電極の対向面は、導電性のセラミッ
クからなることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄
機。
4. The dishwasher according to claim 1, wherein the opposing surface of the electrode is made of a conductive ceramic.
【請求項5】 上記食器を設置する手段は、絶縁体のセ
ラミックまたは樹脂またはガラス若しくはそれらで表面
を被覆された金属チャンバーか合成樹脂、もしくはセラ
ミックで形成してなる棚であることを特徴とする請求項
1記載の食器洗浄機。
5. The means for installing the tableware is characterized in that it is an insulating ceramic or resin or glass or a metal chamber coated with glass or a shelf made of synthetic resin or ceramic. The dishwasher according to claim 1.
【請求項6】 上記減圧手段は、ドライ真空ポンプであ
ることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
6. The dishwasher according to claim 1, wherein said pressure reducing means is a dry vacuum pump.
【請求項7】 上記ガスは、気体分離手段を用いて大気
から分離して得られる酸素からなることを特徴とする請
求項1記載の食器洗浄機。
7. The dishwasher according to claim 1, wherein the gas comprises oxygen obtained by separating the gas from the atmosphere using a gas separating means.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107616765A (en) * 2017-09-20 2018-01-23 宁波创健环保科技有限公司 Waterless dishwasher and its control method
CN109222817A (en) * 2018-11-26 2019-01-18 珠海格力电器股份有限公司 Dish washing machine and control method thereof
CN109303537A (en) * 2018-11-26 2019-02-05 珠海格力电器股份有限公司 Novel dish washing machine and control method thereof
US10369814B2 (en) 2013-01-11 2019-08-06 Ceraloc Innovations Ab Digital embossing

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