JPH1050968A - Optical waveguide type demagnetification image sensor and fabrication of optical waveguide array therefor - Google Patents

Optical waveguide type demagnetification image sensor and fabrication of optical waveguide array therefor

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JPH1050968A
JPH1050968A JP8200008A JP20000896A JPH1050968A JP H1050968 A JPH1050968 A JP H1050968A JP 8200008 A JP8200008 A JP 8200008A JP 20000896 A JP20000896 A JP 20000896A JP H1050968 A JPH1050968 A JP H1050968A
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array
image sensor
optical
tapered
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small optical waveguide type demagnetification image sensor in which reading can be performed with high sensitivity and high S/N while simplifying the manufacturing process. SOLUTION: The optical waveguide type demagnetification image sensor comprises an optical waveguide array 2 to be introduced with an input light from an object, and a photoelectric conversion element array 3 for converting the output light from the optical waveguide array 2 into an electric signal. The optical waveguide 1 of the optical waveguide array 2 has an input end tapered to enlarge in the main and sub-scanning directions so that the input light from the object enters directly into the incident end part of the optical waveguide 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードコピー画像
の一次元読み取り縮小光学系に使用される光導波路縮小
光学型イメージセンサ及びそれに用いる光導波路アレイ
の製造方法に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an optical waveguide reduced optical image sensor used in a one-dimensional readout optical system for hard copy images and a method of manufacturing an optical waveguide array used therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のこの種のイメージセンサとして
は、密着型イメージセンサと、単一のレンズ系及びミラ
ーを用いた縮小光学イメージセンサ(レンズ縮小光学型
イメージセンサ)とが知られている。前者の密着型イメ
ージセンサは、小型であるという利点を有する反面、そ
の構成要素である光電変換素子や、原稿から光電変換素
子への反射光を導くセルフォックスレンズが高価である
ことと、焦点深度が浅いという欠点を有する。一方、後
者のレンズ縮小光学型イメージセンサは、焦点深度が深
く、受光素子が小型で安価であり、装置全体としても低
価格であるという利点を有するが、ミラー光学系により
光路を折り返した構成としても、装置の小型化に限界が
ある。また、このレンズ縮小光学型イメージセンサは、
機械的安定性や信頼性に欠けるという欠点も有する。
2. Description of the Related Art As conventional image sensors of this type, a contact type image sensor and a reduction optical image sensor using a single lens system and a mirror (lens reduction optical image sensor) are known. The former contact-type image sensor has the advantage of being small in size, but on the other hand, the photoelectric conversion element, which is a component thereof, and the self-fox lens for guiding the reflected light from the document to the photoelectric conversion element are expensive, and the depth of focus is high. However, it has the disadvantage that it is shallow. On the other hand, the latter lens-reduced optical image sensor has the advantages that the depth of focus is deep, the light-receiving element is small and inexpensive, and the overall apparatus is inexpensive. However, there is a limit to miniaturization of the device. This lens-reduced optical image sensor is
It also has the disadvantage of lacking mechanical stability and reliability.

【0003】そこで、これらの欠点を解消するために、
光導波路を用いた縮小光学系から成る縮小光学型イメー
ジセンサ(光導波路縮小光学型イメージセンサ)が提案
されている。その概略構造を、図11の平面図に示す。
この光導波路縮小光学型イメージセンサは、原稿からの
反射光が、マイクロレンズアレイ10を介して、光導波
路アレイ12の光導波路11に導入され、それからの出
力光が光電変換素子であるCCD13の個々の素子に照
射され、電気信号に変換されるというものである。
[0003] In order to solve these drawbacks,
2. Related Art A reduction optical image sensor (optical waveguide reduction optical image sensor) including a reduction optical system using an optical waveguide has been proposed. The schematic structure is shown in the plan view of FIG.
In this optical waveguide reduced optical image sensor, reflected light from a document is introduced into an optical waveguide 11 of an optical waveguide array 12 via a microlens array 10, and output light from the CCD 13 is a photoelectric conversion element. Is irradiated on the element and converted into an electric signal.

【0004】ここで、光導波路アレイ12の光導波路1
1の間隔は、イメージセンサの分解能に応じて、設定す
るものであり、200dpiの分解能のイメージセンサ
を構成するとすると、それに用いる光導波路アレイ12
は125μm間隔となる。そして、光電変換素子アレイ
であるCCD13として、素子間隔が約14μmの汎用
のリニアCCDを用いたとすると、光導波路アレイ12
の出力部の光導波路間隔をその素子間隔(14μm)と
一致させるので、図11に示すように、光導波路11に
2カ所の屈曲部を設けて2回折り曲げるようにして、光
導波路アレイの入力端の光導波路間隔(125μm)の
約9分の1としている。
[0004] Here, the optical waveguide 1 of the optical waveguide array 12 is used.
The interval of 1 is set in accordance with the resolution of the image sensor. If an image sensor having a resolution of 200 dpi is configured, the optical waveguide array 12 used for the image sensor has a resolution of 200 dpi.
Are 125 μm intervals. Assuming that a general-purpose linear CCD having a device interval of about 14 μm is used as the CCD 13 as the photoelectric conversion element array,
Since the interval between the optical waveguides of the output section is made equal to the element interval (14 μm), as shown in FIG. 11, the optical waveguide 11 is provided with two bent portions and bent twice so that the input of the optical waveguide array The distance is set to about 1/9 of the distance between the optical waveguides at the ends (125 μm).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の密着型イメージセンサは、小型ではあるものの、高
価であり、焦点深度が浅いという欠点を有していた。ま
た、上記従来のレンズ縮小光学型イメージセンサは、安
価ではあるものの、サイズが比較的大きく、機械的衝撃
に弱いという欠点を有していた。
However, the above-mentioned conventional contact type image sensor, although small in size, is expensive and has a short focal depth. In addition, the above-mentioned conventional lens-reduced optical image sensor has a disadvantage that, although inexpensive, it is relatively large in size and is vulnerable to mechanical shock.

【0006】そこで、上述のように、これらの欠点を解
決するイメージセンサとして、光導波路縮小光学型イメ
ージセンサが提案されている。この従来の光導波路縮小
光学型イメージセンサは、光電変換素子アレイとして安
価で高感度なリニアCCDを用いると、上述のとおり光
導波路アレイの出力端の光導波路間隔を十数μmとする
ので、光導波路幅を10μm以下とする必要がある。そ
して、光導波路アレイの入力側の光導波路間隔は、原稿
の分解能に対応させなければならず、汎用FAXであれ
ば分解能が200dpiであるので125μmの光導波
路間隔となる。これらの条件の下で、入出力間を結ぶ光
導波路アレイとして、デバイスを小型化するのに、上記
のように、光導波路を途中で2回90°近く折り曲げる
構造が提案されている。
Accordingly, as described above, an optical waveguide reduced optical image sensor has been proposed as an image sensor that solves these drawbacks. In this conventional optical waveguide reduced optical image sensor, if an inexpensive and highly sensitive linear CCD is used as the photoelectric conversion element array, the interval between the optical waveguides at the output end of the optical waveguide array is set to tens of μm as described above. The wave path width needs to be 10 μm or less. The interval between the optical waveguides on the input side of the optical waveguide array must correspond to the resolution of the original document. In the case of a general-purpose FAX, the resolution is 200 dpi, so that the interval between the optical waveguides is 125 μm. Under these conditions, as an optical waveguide array connecting the input and the output, a structure in which the optical waveguide is bent twice at about 90 ° on the way has been proposed as described above to reduce the size of the device.

【0007】しかしながら、このように光導波路が途中
で2回折り曲げられたような構造のものでは、急激な光
導波路の折り曲げによる光損失が発生する。この光損失
を抑制するには、光導波路のNAが小さいほど、その光
導波路の屈曲部の曲率半径を大きくする必要がある。と
ころが、そのように曲率半径を大きくすると、デバイス
サイズが大きくなってしまう。
However, in such a structure in which the optical waveguide is bent twice in the middle, light loss occurs due to sharp bending of the optical waveguide. In order to suppress this optical loss, it is necessary to increase the radius of curvature of the bent portion of the optical waveguide as the NA of the optical waveguide decreases. However, when the radius of curvature is increased in such a manner, the device size increases.

【0008】また、上記従来の光導波路縮小光学型イメ
ージセンサでは、光導波路アレイの入力端で原稿からの
入力光を効率良く導入するには、図12の概念図に示す
ように、マイクロレンズアレイを用いて、光導波路の入
力端に原稿の像を結像させる必要がある。しかしなが
ら、マイクロレンズアレイを用いると、それ自体が高価
であること、マイクロレンズアレイと光導波路アレイと
の結合に高精度の調整を要すること、更に隣接するマイ
クロレンズとの結合部分によるクロストーク等の問題を
生じてしまう。
In the conventional optical waveguide reduced optical image sensor, in order to efficiently introduce input light from a document at the input end of the optical waveguide array, as shown in a conceptual diagram of FIG. , It is necessary to form an image of a document on the input end of the optical waveguide. However, the use of a microlens array is expensive in itself, requires high-precision adjustment of the coupling between the microlens array and the optical waveguide array, and furthermore, such as crosstalk due to the coupling portion with the adjacent microlens. It creates problems.

【0009】また、図13の概念図に示すように、光導
波路アレイとマイクロレンズアレイとの結合した場合、
一つの光導波路に対して、隣り合うマイクロレンズa,
bによる結像がオーバーラップするため、光導波路アレ
イの出力光がそれを反映し、イメージセンサの分解能を
低下させてしまう。この解決策として、マイクロレンズ
のNAと光導波路のNAとを一致させることが考えられ
る。しかしながら、マイクロレンズのNAは、焦点深度
を深くして原稿の浮き(原稿面距離の不均一)に対応す
るために、小さく設定する必要があり、従って光導波路
のNAも小さくしなければない。光導波路のNAを小さ
くすると、光導波路の屈曲部の曲率を大きくする必要が
あり、これも、デバイスサイズを大きくさせる要因とな
ってしまう。
As shown in the conceptual diagram of FIG. 13, when the optical waveguide array and the microlens array are coupled,
For one optical waveguide, adjacent microlenses a,
Since the images formed by b overlap each other, the output light of the optical waveguide array reflects the overlap and lowers the resolution of the image sensor. As a solution to this, it is conceivable to make the NA of the microlens coincide with the NA of the optical waveguide. However, the NA of the microlens needs to be set small in order to cope with the floating of the document (unevenness of the document surface distance) by increasing the depth of focus. Therefore, the NA of the optical waveguide must also be reduced. When the NA of the optical waveguide is reduced, it is necessary to increase the curvature of the bent portion of the optical waveguide, which also becomes a factor for increasing the device size.

【0010】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、高価なマイクロレンズアレ
イを必要とせず、低価格で、デバイスサイズの小型化が
可能な光導波路縮小光学型イメージセンサ及びそれに用
いる光導波路アレイの製造方法を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and does not require an expensive microlens array, is inexpensive, and can reduce the size of an optical waveguide. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a type image sensor and an optical waveguide array used therein.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、被写体からの入力光が導入される光導
波路アレイと、その光導波路アレイからの出力光を電気
信号に変換する光電変換素子アレイとから成る光導波路
縮小光学型イメージセンサにおいて、光導波路アレイの
光導波路の入力端部を主走査方向及び副走査方向に広が
ったテーパ形状として、被写体からの入力光を直接光導
波路の入射端部に入射するように構成している。
According to the present invention, there is provided an optical waveguide array into which input light from a subject is introduced, and a photoelectric conversion device for converting output light from the optical waveguide array into an electric signal. In an optical waveguide reduced optical image sensor comprising an element array, the input end of the optical waveguide of the optical waveguide array is tapered so as to spread in the main scanning direction and the sub-scanning direction, and input light from a subject is directly incident on the optical waveguide. It is configured to be incident on the end.

【0012】また、本発明では、被写体からの入力光が
導入される光導波路アレイと、その光導波路アレイから
の出力光を電気信号に変換する光電変換素子アレイとか
ら成る光導波路縮小光学型イメージセンサにおいて、光
導波路アレイの入力端部に円柱レンズを設け、光導波路
アレイの光導波路の入力端部を主走査方向に広がったテ
ーパ形状として構成している。
Further, according to the present invention, an optical waveguide reduced optical image comprising an optical waveguide array into which input light from a subject is introduced, and a photoelectric conversion element array for converting output light from the optical waveguide array into an electric signal. In the sensor, a cylindrical lens is provided at the input end of the optical waveguide array, and the input end of the optical waveguide of the optical waveguide array is configured to have a tapered shape extending in the main scanning direction.

【0013】さらに、本発明では、上記の光導波路縮小
光学型イメージセンサにおいて、光導波路の入力端部の
テーパ形状の角度を0.5°以上2°以下としている。
Further, in the present invention, in the optical waveguide reduced optical image sensor described above, the angle of the tapered shape of the input end of the optical waveguide is set to 0.5 ° or more and 2 ° or less.

【0014】さらに、本発明では、上記の光導波路縮小
光学型イメージセンサにおいて、被写体からの入力光を
得るために被写体を照射する発光素子を設けて構成して
いる。 また、本発明では、入力端部が主走査方向及び
副走査方向に広がったテーパ形状の光導波路から成る光
導波路アレイの製造方法において、レーザの照射エネル
ギー量を制御して、テーパ形状を有する溝をプラスチッ
ク基板に加工してマスター原版を作製する工程と、その
マスター原版のテーパ溝加工面に金属を形成して金型を
作製する工程と、その金型を用いて射出成型技術により
コアとなる溝を有する光導波路基板を作製する工程と、
その光導波路基板の溝にコア材料を充填し重合させてコ
アを形成する工程とを含むこととしている。
Further, according to the present invention, in the above-described optical waveguide reduced optical image sensor, a light emitting element for irradiating a subject to obtain input light from the subject is provided. Further, according to the present invention, in a method of manufacturing an optical waveguide array including a tapered optical waveguide having an input end portion that is widened in a main scanning direction and a sub-scanning direction, the amount of laser irradiation energy is controlled to form a tapered groove. To form a master by processing into a plastic substrate, a step of forming a metal by forming a metal on the tapered groove processing surface of the master, and forming a core by injection molding technology using the die Producing an optical waveguide substrate having a groove,
Filling a groove of the optical waveguide substrate with a core material and polymerizing the core material to form a core.

【0015】本発明の光導波路縮小光学型イメージセン
サによれば、被写体からの入力光を光導波路に導入する
のにマイクロレンズアレイを用いないので、従来のもの
のようにマイクロレンズアレイと光導波路アレイとを結
合されるために必要であった高精度な調整が不要とな
り、コストを低減することができる。なお、円柱レンズ
を用いるものでも、マイクロレンズアレイを用いる従来
のものと比較すれば、高精度な調整は不要なので、同様
にコストを低減できるものである。
According to the optical waveguide reduced optical image sensor of the present invention, a micro lens array is not used to introduce input light from a subject into the optical waveguide. This eliminates the need for high-precision adjustment that was required to combine the above and the cost can be reduced. It should be noted that, even in the case of using a cylindrical lens, high-precision adjustment is not required as compared with a conventional device using a microlens array, so that the cost can be similarly reduced.

【0016】さらに、本発明光導波路縮小光学型イメー
ジセンサによれば、テーパ形状の光導波路は、光導波路
のコアとクラッドとの屈折率差が大きくてもコントラス
トを低下させることがないので、従来のものと比較し
て、光導波路の幅を狭く、光導波路の屈曲部の曲率半径
を小さくすることでき、デバイスサイズの小型が可能と
なる。
Furthermore, according to the optical waveguide reduced optical image sensor of the present invention, the tapered optical waveguide does not lower the contrast even if the refractive index difference between the core and the clad of the optical waveguide is large. In comparison with the optical waveguide, the width of the optical waveguide can be reduced, the radius of curvature of the bent portion of the optical waveguide can be reduced, and the device size can be reduced.

【0017】また、本発明の光導波路アレイの製造方法
によれば、上記のようなテーパ形状の光導波路を有する
光導波路アレイを製造することが可能となる。
Further, according to the method for manufacturing an optical waveguide array of the present invention, it is possible to manufacture an optical waveguide array having the above-described tapered optical waveguide.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明による実施形態につ
いて、図面を参照して説明する。図1は本発明の第1の
実施形態の光導波路縮小光学型イメージセンサの概略平
面図であり、図2はその光導波路アレイの要部拡大斜視
図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view of an optical waveguide reduced optical image sensor according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the optical waveguide array.

【0019】図1に示すように、本実施形態の光導波路
縮小光学型イメージセンサは、その入力端部がテーパ形
状で屈曲部を有する光導波路であるテーパ導波路1がア
レイ化されてなる光導波路アレイ2と、光導波路アレイ
2の出力端部からの光を受光し、それを電気信号に変換
する光電変換素子アレイであるCCD3から構成される
ものである。なお、テーパ導波路1は、図2に示すよう
に、主走査方向及び副走査方向の両方に広がったような
3次元テーパ形状の3次元テーパ導波路1であり、これ
により3次元テーパ導波路アレイ2が構成される。
As shown in FIG. 1, the optical waveguide reduced optical image sensor according to the present embodiment has an optical waveguide formed by arraying a tapered waveguide 1 which is an optical waveguide having an input end tapered and having a bent portion. It comprises a waveguide array 2 and a CCD 3 which is a photoelectric conversion element array that receives light from an output end of the optical waveguide array 2 and converts it into an electric signal. As shown in FIG. 2, the tapered waveguide 1 is a three-dimensional tapered waveguide 1 having a three-dimensional tapered shape that spreads in both the main scanning direction and the sub-scanning direction. Array 2 is configured.

【0020】なお、主走査方向とはテーパ導波路1が直
線状にアレイ化されている方向を称し、副走査方向とは
光導波路アレイ2の厚さ方向、即ち図1の奥行き方向を
称するものである。
The main scanning direction refers to the direction in which the tapered waveguides 1 are linearly arrayed, and the sub-scanning direction refers to the thickness direction of the optical waveguide array 2, that is, the depth direction in FIG. It is.

【0021】次に、このテーパ導波路1において、被写
体からの入力光である原稿からの反射光の伝播の原理に
ついて、図3を用いて説明する。このようなテーパ導波
路1へ入射された光は、側面での反射を繰り返す毎に、
側面への入射角度が小さくなる。そして、図3のテーパ
導波路Bに示すように、テーパ導波路1の入力面に垂直
近く入射された光は、テーパの側面で反射を繰り返した
後、光導波路の直線部分(ストレート導波路)へ入射す
ることができる。しかしながら、図3のテーパ導波路A
に示すように、テーパ導波路1の入力面に角度をもって
入射された光は、テーパ面での反射を繰り返す毎に、入
射角度が減少し、遂には逆行して入力面から出ていく
か、全反射の臨界角を越えて光導波路から抜けていく。
Next, the principle of propagation of reflected light from a document, which is input light from a subject, in the tapered waveguide 1 will be described with reference to FIG. Each time light incident on such a tapered waveguide 1 is repeatedly reflected on the side surface,
The angle of incidence on the side is reduced. Then, as shown in the tapered waveguide B of FIG. 3, the light that has been nearly perpendicularly incident on the input surface of the tapered waveguide 1 repeats reflection on the side surface of the taper, and then the linear portion (straight waveguide) of the optical waveguide. Can be incident. However, the tapered waveguide A of FIG.
As shown in the figure, the light incident on the input surface of the tapered waveguide 1 at an angle decreases the incident angle every time the reflection on the tapered surface is repeated, and finally goes backward and exits the input surface. The light exits the optical waveguide beyond the critical angle of total reflection.

【0022】これは、光導波路のNAが、コアとクラッ
ドとの屈折率差で決まるNAよりも実質的に小さくなる
ことを意味する。したがって、光導波路の屈折率差を大
きく設計しても、光導波路へ入射できる光の角度が小さ
くなり、マイクロレンズを用いなくても、それぞれの光
導波路入力部に対応する原稿面からの反射光のみが光導
波路へ入射することになり、クロストークを低減するこ
とができる。また、マイクロレンズを用いないので、コ
アとクラッドとの屈折率差を大きくすることができ、こ
れにより、従来のマイクロレンズを用いたものと比較し
て、光の閉じ込め効率を上げると共に、光導波路の屈曲
部での曲率半径を小さくすることができる。
This means that the NA of the optical waveguide is substantially smaller than the NA determined by the refractive index difference between the core and the clad. Therefore, even if the refractive index difference of the optical waveguide is designed to be large, the angle of light that can enter the optical waveguide becomes small, and the reflected light from the original surface corresponding to each optical waveguide input section can be obtained without using a microlens. Only the light enters the optical waveguide, and crosstalk can be reduced. In addition, since a microlens is not used, the refractive index difference between the core and the clad can be increased, thereby increasing the light confinement efficiency as compared with a conventional microlens, and improving the optical waveguide. Can reduce the radius of curvature at the bent portion.

【0023】ここで一例として、図4に、テーパ導波路
の入力端面の幅が125μm、テーパ角度が1.1°、
光導波路間隔が125μmのテーパ導波路を用いて、2
00dpiに相当する1mm当たり白黒ライン4本の原
稿を読み取った場合のコントラストについて、原稿−導
波路間距離によるMTFの変化として示す。コントラス
ト変化MTFは、黒線読み取り位置の光導波路からの出
力をIBとし、白線読み取り位置の光導波路からの出力
をIWとすると、MTF=(IW−IB)/(IW+I
B)から算出される。
Here, as an example, FIG. 4 shows that the width of the input end face of the tapered waveguide is 125 μm, the taper angle is 1.1 °,
Using a tapered waveguide having an optical waveguide spacing of 125 μm, 2
The contrast when reading an original with four black and white lines per mm corresponding to 00 dpi is shown as a change in MTF depending on the distance between the original and the waveguide. Assuming that the output from the optical waveguide at the black line reading position is IB and the output from the optical waveguide at the white line reading position is IW, MTF = (IW−IB) / (IW + I
B).

【0024】クロストークはIBの値を増加させコント
ラストを低下させものであり、このことから実用的に
は、MTFの値として0.33以上に以上にすることが
必要である。図4から、この例では、原稿位置を光導波
路の入射面から1mmに設定した場合、2mm原稿が浮
いても、MTFが0.33以上の良好なコントラストを
維持することができることがわかる。
The crosstalk increases the value of IB and lowers the contrast. Therefore, in practice, it is necessary to increase the MTF to 0.33 or more. FIG. 4 shows that in this example, when the document position is set to 1 mm from the incident surface of the optical waveguide, a good contrast of MTF of 0.33 or more can be maintained even when the 2 mm document floats.

【0025】次に、テーパ導波路のテーパ部の角度につ
いて説明する。上記の例のもの(テーパ角度は変化させ
る)で、原稿−導波路間距離を1mm,2mm,3m
m,4mmと変化させたときのMTFのテーパ角度依存
性を図5に示す。図5から、テーパ導波路のテーパ角度
を浅く(小さく)するにつれ、MTFを増加させること
ができることがわかる。実用上、光導波路入力端面から
原稿までの距離は2mm程度以下と考えられるので、図
5においてこの距離が2mmのものを見ると、MTFを
0.33以上にするためにはテーパ角度を2°以下にす
る必要があることがわかる。したがって、テーパ導波路
のテーパ角度としては、2°以下に設定することが好ま
しい。
Next, the angle of the tapered portion of the tapered waveguide will be described. In the above example (the taper angle is changed), the distance between the document and the waveguide is 1 mm, 2 mm, 3 m
FIG. 5 shows the dependence of the MTF on the taper angle when changed to m and 4 mm. FIG. 5 shows that the MTF can be increased as the taper angle of the tapered waveguide is reduced (smaller). In practice, the distance from the input end face of the optical waveguide to the document is considered to be about 2 mm or less. Therefore, when the distance is 2 mm in FIG. 5, the taper angle is set to 2 ° to make the MTF 0.33 or more. It turns out that it is necessary to do the following. Therefore, the taper angle of the tapered waveguide is preferably set to 2 ° or less.

【0026】また、テーパ導波路のテーパ角度を0°と
した場合に相当する直線状のストレート導波路では、半
値幅が非常に大きくなり、入射角度依存性が減少し、ク
ロストークが発生してしまう。そこで、テーパ角度の最
小限界について検討した結果、テーパ角度の加工制度と
側面の平坦性やデバイスサイズ等に依存するものではあ
るが、実用上0.5°程度以上であれば、本発明の効果
が得られるものである。
In a straight straight waveguide corresponding to the case where the taper angle of the tapered waveguide is set to 0 °, the half-value width becomes very large, the incident angle dependency is reduced, and crosstalk occurs. I will. Therefore, as a result of examining the minimum limit of the taper angle, it depends on the processing accuracy of the taper angle, the flatness of the side surface, the device size, and the like. Is obtained.

【0027】以上のことから、本発明のテーパ導波路の
テーパ角度としては、0.5°以上2°以下が好まし
い。
From the above, the taper angle of the tapered waveguide of the present invention is preferably 0.5 ° or more and 2 ° or less.

【0028】この第1の実施形態の光導波路縮小光学型
イメージセンサに、原稿(被写体)を照射してそれから
の反射光として光導波路アレイへの入力光を得るための
発光素子であるLEDアレイ4を設けたものを、その該
略図である図6に示す。なお、図6(A)は平面図、図
6(B)は図1のB方向からの側面図、図6(C)は図
1のC方向からの側面図である。
An LED array 4 which is a light emitting element for irradiating an original (subject) to the optical waveguide reduced optical image sensor of the first embodiment and obtaining input light to the optical waveguide array as reflected light from the original. Is schematically shown in FIG. 6 (A) is a plan view, FIG. 6 (B) is a side view from the direction B in FIG. 1, and FIG. 6 (C) is a side view from the direction C in FIG.

【0029】図6に示すように、この光導波路縮小光学
型イメージセンサは、原稿照射のための光源であるLE
Dアレイ4を、光導波路アレイ2に対して斜め約45°
で配置したものである。このイメージセンサの光導波路
アレイ2の入力側を、原稿に対して垂直に配置すれば、
LEDアレイ4が斜め約45°から原稿面をほぼ均一に
照射し、原稿からの反射光のうち原稿に対してほぼ垂直
に反射した光が、従来のもののようにマイクロレンズア
レイを介することなく、直接テーパ導波路1にその入力
端から導入される。このとき、上述のように、テーパ導
波路1の入力端部が3次元テーパ形状となっているの
で、テーパ導波路1に斜めから入射した光は、テーパ部
で反射を繰り返すうちに逆行するか臨界角度を越えて光
導波路から排除される。そして、光導波路中を伝播した
光は、その出力端からCCD3に受光され電気信号に変
換される。
As shown in FIG. 6, this optical waveguide reduced optical image sensor is an LE which is a light source for irradiating a document.
The D array 4 is inclined at an angle of about 45 ° with respect to the optical waveguide array 2.
It is arranged in. If the input side of the optical waveguide array 2 of this image sensor is arranged perpendicular to the original,
The LED array 4 irradiates the document surface almost uniformly from an oblique angle of about 45 °, and the light reflected almost perpendicularly to the document among the reflected light from the document does not pass through the microlens array unlike the conventional one, It is introduced directly into the tapered waveguide 1 from its input end. At this time, as described above, since the input end of the tapered waveguide 1 has a three-dimensional tapered shape, the light that is obliquely incident on the tapered waveguide 1 goes backward while repeating reflection at the tapered portion. Excluded from the optical waveguide beyond the critical angle. Then, the light that has propagated in the optical waveguide is received by the CCD 3 from its output end and is converted into an electric signal.

【0030】次に、第1の実施形態の光導波路アレイの
製造方法として、A4サイズで分解能200dpiの光
導波路縮小光学型イメージセンサに用いるものの作製例
について説明する。
Next, as a method of manufacturing the optical waveguide array of the first embodiment, an example of manufacturing an A4 size optical waveguide reduced optical image sensor having a resolution of 200 dpi will be described.

【0031】まず、3次元テーパ導波路アレイのマスタ
ー原版作製について、その概念説明図である図6を用い
て説明する。図7に示すように、エキシマレーザの照射
による加工により、プラスチック基板に溝を形成し、マ
スター原版を作製する。このとき、溝の深さは、エキシ
マレーザの照射エネルギー量に比例する。したがって、
プラスチック基板の移動速度を変化させるか、エキシマ
レーザの発振レートを変化させて、エキシマレーザの照
射エネルギーを制御することによって、溝の深さを変化
させることができる。また、溝の幅は、マスクを通して
レーザを照射し、スポットサイズを変化させることによ
り調節できる。
First, the production of a master master of a three-dimensional tapered waveguide array will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7, grooves are formed in a plastic substrate by processing by excimer laser irradiation, and a master master is manufactured. At this time, the depth of the groove is proportional to the irradiation energy amount of the excimer laser. Therefore,
By controlling the irradiation energy of the excimer laser by changing the moving speed of the plastic substrate or the oscillation rate of the excimer laser, the depth of the groove can be changed. The width of the groove can be adjusted by irradiating a laser through a mask and changing the spot size.

【0032】次いで、上記のマスター原版を用いた光導
波路アレイの作製工程について、その説明図である図8
を用いて説明する。なお、図8において、図面左縦列に
はテーパ導波路入力端からの側面図を示し、図面右列に
はテーパ導波路を含む光伝播方向の面の側面断面図を示
す。
Next, FIG. 8 is an explanatory view showing a process of manufacturing an optical waveguide array using the master master.
This will be described with reference to FIG. In FIG. 8, the left column in the drawing shows a side view from the input end of the tapered waveguide, and the right column in the drawing shows a side sectional view of a surface in the light propagation direction including the tapered waveguide.

【0033】上記のようにして作製したマスター原版は
図8(a)に示すようなものであり、その溝加工面にニ
ッケル金属膜を蒸着して電極とし(図8(b))、これ
を用いて電解メッキによって、ニッケル金属を積層して
電解鍍金する(図8(c))。そして、このニッケル金
属膜を剥離することによりマスター原版を離脱させ、ニ
ッケル金属から成る金型を作製する(図8(d))。次
に、この金型を用いて射出成型を行い(図8(e))、
金型から射出成型物を離型してテーパ光導波路と成る溝
を有する光導波路基板を作製する。なお、本実施形態で
は、射出成型プラスチック材料として、アクリルである
PMMAを用いた。
The master master produced as described above is as shown in FIG. 8A. A nickel metal film is deposited on the grooved surface to form an electrode (FIG. 8B). Then, nickel metal is laminated by electrolytic plating and electrolytic plating is performed (FIG. 8C). Then, by peeling off the nickel metal film, the master master is released, and a mold made of nickel metal is manufactured (FIG. 8D). Next, injection molding is performed using this mold (FIG. 8 (e)).
An injection molded product is released from the mold to produce an optical waveguide substrate having a groove serving as a tapered optical waveguide. In this embodiment, PMMA which is acrylic is used as the plastic material for injection molding.

【0034】その後、この光導波路基板の溝にコア材料
を塗布して充填し(図8(g))、その上から上部クラ
ッド基板である平面基板を重ね圧力を加えて密着接合さ
せる(図8(h))。なお、本実施形態では、コア材料
として光学接着剤である紫外線硬化樹脂(スリーボンド
社製TB3042)を用いたので、図8(i)に示すよ
うに、紫外線照射により、コアの形成と共に光導波路基
板と平面基板との接着を行う。また、光導波路のクラッ
ドと成る光導波路基板及び平面基板は、コアよりも屈折
率が低い必要があるものであり、平面基板の材料には光
導波路基板と同じアクリルであるPMMAを用いた。
Thereafter, a core material is applied and filled into the grooves of the optical waveguide substrate (FIG. 8 (g)), and a flat substrate, which is an upper clad substrate, is overlaid thereon and adhered tightly by applying pressure (FIG. 8). (H)). In this embodiment, since an ultraviolet curable resin (TB3042 manufactured by Three Bond Co.) as an optical adhesive was used as the core material, as shown in FIG. And the flat substrate. Further, the optical waveguide substrate and the planar substrate which are to be clad of the optical waveguide need to have a lower refractive index than the core, and PMMA which is the same acrylic as the optical waveguide substrate is used for the material of the planar substrate.

【0035】そして、最後に、その入力端面及び出力端
を研磨して、はみ出したコア材料を除去することによっ
て、光導波路アレイの製造が完了する。このようにして
製造した光導波路アレイの出力端面に光電変換素子アレ
イであるCCDを結合させ、光導波路アレイの入力側の
側面に原稿照射のためのLEDアレイを取り付ければ、
図6に示したような、上述の光導波路縮小光学型イメー
ジセンサが得られるものである。ここで、従来のマイク
ロレンズアレイを用いたもののように、マイクロレンズ
が光導波路に対応するように結合させるために必要だっ
た高精度な調整が不要となるので、容易に光導波路縮小
光学型イメージセンサを製造することができる。
Finally, the input end face and the output end are polished to remove the protruding core material, thereby completing the manufacture of the optical waveguide array. By coupling a CCD, which is a photoelectric conversion element array, to the output end face of the optical waveguide array manufactured in this way, and attaching an LED array for illuminating a document on the input side surface of the optical waveguide array,
The above-described optical waveguide reduced optical image sensor as shown in FIG. 6 is obtained. Here, unlike the conventional microlens array, high-precision adjustment required for coupling the microlenses so as to correspond to the optical waveguide is unnecessary, so that the optical waveguide reduced optical image can be easily obtained. A sensor can be manufactured.

【0036】次いで、第2の実施形態として、光導波路
アレイの光導波路の入力端部を主走査方向に広がったテ
ーパ形状とし、その入力側に円柱レンズを設けた光導波
路縮小光学型イメージセンサについて説明する。
Next, as a second embodiment, an optical waveguide reduced optical image sensor in which the input end of the optical waveguide of the optical waveguide array has a tapered shape extending in the main scanning direction and a cylindrical lens is provided on the input side. explain.

【0037】第2の実施形態の光導波路縮小光学型イメ
ージセンサの概略平面図は、上記第1の実施形態の説明
に用いた図1に示したものの光導波路アレイ2の入力端
側に円柱レンズを配置したものである。すなわち、その
要部拡大斜視図である図9に示すように、主走査方向の
みに広がったような2次元テーパ形状の2次元テーパ導
波路1’がアレイ化されて成る2次元テーパ導波路アレ
イ2’から構成され、その入力端側に円柱レンズである
シリンドリカルレンズ5が配置されたものとなる。した
がって、この2次元テーパ光導波路アレイ2’とシリン
ドリカルレンズ5以外は、上記第1の実施形態と同様の
構成である。
The schematic plan view of the optical waveguide reduced optical image sensor according to the second embodiment is the same as that shown in FIG. 1 used in the description of the first embodiment, but a cylindrical lens is provided on the input end side of the optical waveguide array 2. Is arranged. That is, as shown in FIG. 9 which is an enlarged perspective view of the main part, a two-dimensional tapered waveguide array in which a two-dimensional tapered waveguide 1 ′ having a two-dimensional tapered shape extending only in the main scanning direction is arrayed. 2 ', and a cylindrical lens 5 which is a cylindrical lens is arranged on the input end side. Therefore, the structure other than the two-dimensional tapered optical waveguide array 2 ′ and the cylindrical lens 5 is the same as that of the first embodiment.

【0038】この第2の実施形態のものでは、被写体か
らの入力光である原稿からの反射光のうち、副走査方向
に広がった光はシリンドリカルレンズ5により2次元テ
ーパ導波路に絞り込まれ、主走査方向に広がった光は上
記第1の実施形態で説明したような原理で2次元テーパ
導波路1’によりその直線状のストレート導波路部に導
入される。また、第2の実施形態の2次元テーパ導波路
1’においても、上記第1の実施形態と同様、そのテー
パ角度としては、0.5°以上2°以下が好ましいもの
である。
In the second embodiment, of the reflected light from the original, which is the input light from the subject, the light that has spread in the sub-scanning direction is narrowed down by the cylindrical lens 5 to the two-dimensional tapered waveguide. The light spread in the scanning direction is introduced into the linear straight waveguide portion by the two-dimensional tapered waveguide 1 'according to the principle described in the first embodiment. Further, also in the two-dimensional tapered waveguide 1 ′ of the second embodiment, the taper angle is preferably 0.5 ° or more and 2 ° or less, as in the first embodiment.

【0039】この第2の実施形態の光導波路縮小光学型
イメージセンサに、原稿(被写体)を照射してそれから
の反射光として光導波路アレイへの入力光を得るための
発光素子であるLEDアレイ4を設けたものを、その該
略図である図10に示す。なお、図10(A)は平面
図、図10(B)は図1のB方向からの側面図、図10
(C)は図1のC方向からの側面図にそれぞれ相当す
る。
An LED array 4 which is a light emitting element for irradiating an original (subject) to the optical waveguide reduced optical image sensor of the second embodiment and obtaining input light to the optical waveguide array as reflected light from the original. Is schematically shown in FIG. 10A is a plan view, FIG. 10B is a side view from the direction B in FIG.
(C) corresponds to a side view from the C direction in FIG. 1.

【0040】図10に示すように、この光導波路縮小光
学型イメージセンサは、原稿照射のための光源であるL
EDアレイ4を、光導波路アレイ2’に対して斜め約4
5°で配置したものである。このイメージセンサの光導
波路アレイ2’の入力側を、原稿に対して垂直に配置す
れば、LEDアレイ4が斜め約45°から原稿面をほぼ
均一に照射し、原稿からの反射光のうち原稿に対してほ
ぼ垂直に反射した光が、従来のもののようにマイクロレ
ンズアレイを介する代わりに、シリンドリカルレンズ4
を介して、テーパ導波路1’にその入力端から導入され
る。このとき、副走査方向の光はシリンドリカルレンズ
5により、テーパ導波路2’に導入される。そして、上
述のように、テーパ導波路1’の入力端部が2次元テー
パ形状となっているので、テーパ導波路1’にその主走
査方向で斜めから入射した光は、テーパ部で反射を繰り
返すうちに逆行するか臨界角度を越えて光導波路から排
除される。そして、光導波路中を伝播した光は、その出
力端からCCD3に受光され電気信号に変換される。
As shown in FIG. 10, this optical waveguide reduced optical image sensor has a light source L for illuminating a document.
The ED array 4 is inclined by about 4 with respect to the optical waveguide array 2 '.
They are arranged at 5 °. If the input side of the optical waveguide array 2 ′ of this image sensor is arranged perpendicular to the document, the LED array 4 irradiates the document surface almost uniformly from an oblique angle of about 45 °, and the reflected light from the document reflects the document. The light reflected almost perpendicularly to the lens is not passed through a microlens array as in the conventional case, but is replaced by a cylindrical lens 4.
Through the input end of the tapered waveguide 1 ′. At this time, light in the sub-scanning direction is introduced into the tapered waveguide 2 ′ by the cylindrical lens 5. As described above, since the input end of the tapered waveguide 1 ′ has a two-dimensional tapered shape, light incident on the tapered waveguide 1 ′ obliquely in the main scanning direction is reflected by the tapered portion. As it repeats, it goes backwards or exceeds the critical angle and is removed from the optical waveguide. Then, the light that has propagated in the optical waveguide is received by the CCD 3 from its output end and converted into an electric signal.

【0041】次に、第1の実施形態の光導波路アレイの
製造方法として、A4サイズで分解能200dpiの光
導波路縮小光学型イメージセンサに用いるものの作製例
について説明する。
Next, as a method of manufacturing the optical waveguide array of the first embodiment, an example of manufacturing an A4 size optical waveguide reduced optical image sensor having a resolution of 200 dpi will be described.

【0042】まず、ガラス基板上に厚膜レジストを塗布
し、テーパ導波路パターンを形成してこれをマスター原
版とし、このマスター原版のパターン面に、上記第1の
実施形態と同様にして、ニッケル金属膜を蒸着し、これ
を電極としてニッケル金属を電気メッキした後、ガラス
/レジストから剥離して金型を作製する。これ以降は、
上記第1の実施形態と同様にして、射出成型技術を用い
て、光導波路アレイの作製する。
First, a thick film resist is applied on a glass substrate to form a tapered waveguide pattern, which is used as a master master. A nickel master is formed on the pattern surface of the master master in the same manner as in the first embodiment. A metal film is vapor-deposited, nickel metal is electroplated using the metal film as an electrode, and then separated from the glass / resist to form a mold. From now on,
In the same manner as in the first embodiment, an optical waveguide array is manufactured by using an injection molding technique.

【0043】このようにして製造した光導波路アレイの
出力端面に光電変換素子アレイであるCCDを結合さ
せ、光導波路アレイの入力側の側面に原稿照射のための
LEDアレイを取り付ければ、図10に示したような、
上述の光導波路縮小光学型イメージセンサが得られるも
のである。ここで、従来のマイクロレンズアレイを用い
たもののように、マイクロレンズが光導波路に対応する
ように結合させるために必要だった高精度な調整が不要
となり、単にシリンドリカルレンズをさせるだけで良い
ので、容易に光導波路縮小光学型イメージセンサを製造
することができる。
When a CCD, which is a photoelectric conversion element array, is coupled to the output end face of the optical waveguide array manufactured as described above, and an LED array for illuminating a document is attached to the input side surface of the optical waveguide array. As shown,
The above-described optical waveguide reduced optical image sensor can be obtained. Here, as in the case of using the conventional microlens array, the high-precision adjustment required for coupling the microlenses so as to correspond to the optical waveguide is unnecessary, and it is sufficient to simply make the cylindrical lenses. The optical waveguide reduced optical image sensor can be easily manufactured.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上のように、本発明の光導波路縮小光
学型イメージセンサによれば、3次元テーパ導波路を用
いたものではマイクロレンズを必要とせず、2次元テー
パ導波路を用いたものではマイクロレンズの代わりに円
柱レンズを使用できるので、コストの低減と調整プロセ
スの簡略化が可能となる。
As described above, according to the optical waveguide-reduced optical image sensor of the present invention, a micro-lens is not required in a device using a three-dimensional tapered waveguide, and a device using a two-dimensional tapered waveguide is required. Since a cylindrical lens can be used instead of the micro lens, the cost can be reduced and the adjustment process can be simplified.

【0045】さらに、本発明の光導波路縮小光学型イメ
ージセンサによれば、採用したテーパ導波路は、光導波
路のコアとクラッドとの屈折率差が大きくとも、入射臨
界角度を小さくできるので、実質的にNAを下げること
ができ、光学系の分解能を向上させることが可能とな
る。また、光導波路の屈折率差を大きく設定できること
から、光導波路の幅を小さくでき、光導波路の屈曲部の
曲率半径を小さくできるので、イメージセンサのサイズ
を小型化することが可能となる。
Further, according to the optical waveguide reduced optical image sensor of the present invention, the employed tapered waveguide can reduce the critical angle of incidence even if the refractive index difference between the core and the clad of the optical waveguide is large. The NA can be reduced, and the resolution of the optical system can be improved. In addition, since the refractive index difference of the optical waveguide can be set large, the width of the optical waveguide can be reduced, and the radius of curvature of the bent portion of the optical waveguide can be reduced, so that the size of the image sensor can be reduced.

【0046】また、本発明の光導波路アレイの製造方法
によれば、上記の光導波路縮小光学型イメージセンサに
用いられる3次元テーパ導波路を有する光導波路アレイ
を製造することが可能となる。
Further, according to the method for manufacturing an optical waveguide array of the present invention, it is possible to manufacture an optical waveguide array having a three-dimensional tapered waveguide used in the optical waveguide reduced optical image sensor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の光導波路縮小光学型
イメージセンサの概略構造を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a schematic structure of an optical waveguide reduced optical image sensor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施形態の光導波路アレイの要部拡大斜
視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the optical waveguide array according to the first embodiment.

【図3】テーパ導波路において被写体からの入力光であ
る原稿からの反射光の伝播の原理を説明する概念図であ
る。
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating the principle of propagation of reflected light from a document, which is input light from a subject, in a tapered waveguide.

【図4】第1の実施形態におけるコントラスト変化MT
Fの原稿−導波路間距離依存性を示す図である。
FIG. 4 shows a contrast change MT according to the first embodiment.
FIG. 9 is a diagram showing the dependence of F on the distance between the original and the waveguide.

【図5】第1の実施形態におけるコントラスト変化MT
Fのテーパ角度依存性を示す図である。
FIG. 5 shows a contrast change MT according to the first embodiment.
It is a figure showing taper angle dependence of F.

【図6】第1の実施形態の光導波路縮小光学型イメージ
センサにLEDアレイを設けたものの概略構造を示す図
である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a schematic structure of an optical waveguide reduced optical image sensor according to the first embodiment in which an LED array is provided.

【図7】第1の実施形態の光導波路アレイ製造に用いる
マスター原版を作製を説明するための概念図である。
FIG. 7 is a conceptual diagram for explaining the preparation of a master master used for manufacturing the optical waveguide array according to the first embodiment.

【図8】第1の実施形態の光導波路アレイの製造工程を
説明するための概略側面図である。
FIG. 8 is a schematic side view for explaining a manufacturing process of the optical waveguide array according to the first embodiment.

【図9】第2の実施形態の光導波路アレイの要部拡大斜
視図である。
FIG. 9 is an enlarged perspective view of a main part of the optical waveguide array according to the second embodiment.

【図10】第2の実施形態の光導波路縮小光学型イメー
ジセンサにLEDアレイを設けたものの概略構造を示す
図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a schematic structure of an optical waveguide reduced optical image sensor according to a second embodiment in which an LED array is provided.

【図11】従来の光導波路縮小光学型イメージセンサの
概略構造を示す平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing a schematic structure of a conventional optical waveguide reduced optical image sensor.

【図12】従来の光導波路縮小光学型イメージセンサに
おける原稿からの反射光の伝播の原理を説明する概念図
である。
FIG. 12 is a conceptual diagram illustrating the principle of propagation of reflected light from a document in a conventional optical waveguide reduced optical image sensor.

【図13】従来の光導波路縮小光学型イメージセンサに
おける隣り合う光導波路でのクロストークの発生を説明
する概念図である。
FIG. 13 is a conceptual diagram illustrating occurrence of crosstalk in adjacent optical waveguides in a conventional optical waveguide reduced optical image sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1’ テーパ導波路 2,2’ テーパ導波路アレイ 3 CCD 4 シリンドリカルレンズ 5 LEDアレイ 1, 1 'tapered waveguide 2, 2' tapered waveguide array 3 CCD 4 cylindrical lens 5 LED array

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被写体からの入力光が導入される光導波
路アレイと、該光導波路アレイからの出力光を電気信号
に変換する光電変換素子アレイとから成る光導波路縮小
光学型イメージセンサにおいて、 前記光導波路アレイの光導波路の入力端部を主走査方向
及び副走査方向に広がったテーパ形状として、前記被写
体からの入力光を直接前記光導波路の入射端部に入射す
るように構成されたことを特徴とする光導波路縮小光学
型イメージセンサ。
1. An optical waveguide reduction optical image sensor comprising: an optical waveguide array into which input light from a subject is introduced; and a photoelectric conversion element array that converts output light from the optical waveguide array into an electric signal. The input end of the optical waveguide of the optical waveguide array has a tapered shape extending in the main scanning direction and the sub-scanning direction, so that the input light from the subject is directly incident on the incident end of the optical waveguide. Characterized optical waveguide reduced optical image sensor.
【請求項2】 被写体からの入力光が導入される光導波
路アレイと、該光導波路アレイからの出力光を電気信号
に変換する光電変換素子アレイとから成る光導波路縮小
光学型イメージセンサにおいて、 前記光導波路アレイの入力端部に円柱レンズを設け、前
記光導波路アレイの光導波路の入力端部を主走査方向に
広がったテーパ形状としたことを特徴とする光導波路縮
小光学型イメージセンサ。
2. An optical waveguide reduction optical image sensor comprising: an optical waveguide array into which input light from a subject is introduced; and a photoelectric conversion element array for converting output light from the optical waveguide array into an electric signal. An optical waveguide reduced optical image sensor, wherein a cylindrical lens is provided at an input end of the optical waveguide array, and the input end of the optical waveguide of the optical waveguide array is tapered so as to expand in the main scanning direction.
【請求項3】 前記光導波路の入力端部のテーパ形状の
角度が0.5°以上2°以下であることを特徴とする請
求項1又は2に記載の光導波路縮小光学型イメージセン
サ。
3. The optical waveguide reduced optical image sensor according to claim 1, wherein the angle of the tapered shape of the input end of the optical waveguide is 0.5 ° or more and 2 ° or less.
【請求項4】 前記被写体からの入力光を得るために被
写体を照射する発光素子を設けたことを特徴とする請求
項1、2、又は3に記載の光導波路縮小光学型イメージ
センサ。
4. The optical waveguide reduced optical image sensor according to claim 1, further comprising a light emitting element for irradiating the object to obtain input light from the object.
【請求項5】 入力端部が主走査方向及び副走査方向に
広がったテーパ形状の光導波路から成る光導波路アレイ
の製造方法において、 レーザの照射エネルギー量を制御して、テーパ形状を有
する溝をプラスチック基板に加工してマスター原版を作
製する工程と、 該マスター原版のテーパ溝加工面に金属を形成して金型
を作製する工程と、 該金型を用いて射出成型技術によりコアとなる溝を有す
る光導波路基板を作製する工程と、 該光導波路基板の溝にコア材料を充填し重合させてコア
を形成する工程とを含むことを特徴とする光導波路アレ
イの製造方法。
5. A method of manufacturing an optical waveguide array comprising a tapered optical waveguide having an input end extending in a main scanning direction and a sub-scanning direction, wherein a laser irradiation energy amount is controlled to form a tapered groove. Processing a plastic substrate to form a master master; forming a metal on the tapered groove processing surface of the master master to form a mold; and forming a core by injection molding technology using the mold. A method for manufacturing an optical waveguide array, comprising: a step of producing an optical waveguide substrate having: and a step of filling a groove of the optical waveguide substrate with a core material and polymerizing the core material to form a core.
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