JPH1048144A - Glass substrate inspecting instrument - Google Patents
Glass substrate inspecting instrumentInfo
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- JPH1048144A JPH1048144A JP21779096A JP21779096A JPH1048144A JP H1048144 A JPH1048144 A JP H1048144A JP 21779096 A JP21779096 A JP 21779096A JP 21779096 A JP21779096 A JP 21779096A JP H1048144 A JPH1048144 A JP H1048144A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はガラス基板検査装置
に係り、特に切断工程を経たガラス基板上に残存する微
小ガラス屑を検出するためのガラス基板検査装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass substrate inspection apparatus, and more particularly to a glass substrate inspection apparatus for detecting minute glass chips remaining on a glass substrate after a cutting process.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、フラットディスプレイとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が
使用されている。カラーの液晶ディスプレイには、３原
色の制御を行うためにアクティブマトリックス方式およ
び単純マトリックス方式とがあり、いずれの方式におい
てもカラーフィルタが用いられている。そして、液晶デ
ィスプレイは、構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と
し、液晶の電気的スイッチングにより３原色の各光の透
過を制御してカラー表示が行われる。2. Description of the Related Art In recent years, a monochrome or color liquid crystal display (LCD) has been used as a flat display. A color liquid crystal display includes an active matrix system and a simple matrix system for controlling three primary colors, and a color filter is used in each system. In the liquid crystal display, the constituent pixel portion has three primary colors (R, G, B), and transmission of each light of the three primary colors is controlled by electrical switching of the liquid crystal to perform color display.
【０００３】このカラーフィルタは、例えば、透明基板
上にＲ，Ｇ，Ｂの各着色パターンからなる着色層、各画
素の境界部分に位置するブラックマトリックス、保護層
および透明電極層からなるカラーフィルタ層を備えてい
る。このようなカラーフィルタは、染色基材をガラス基
板上に塗布し、フォトマスクを介して露光・現像して形
成したパターンを染色する染色法、感光性レジスト内に
予め着色顔料を分散させておき、フォトマスクを介して
露光・現像する顔料分散法、印刷インキで各色を印刷す
る印刷法、および、基板上にパターンニングされた透明
電極を使用して電着により各色の着色層を形成する電着
法等により形成することができる。[0003] This color filter includes, for example, a colored layer composed of R, G, and B colored patterns on a transparent substrate, a black matrix positioned at the boundary of each pixel, a color filter layer composed of a protective layer and a transparent electrode layer. It has. For such a color filter, a dyeing substrate is applied on a glass substrate, and exposed and developed through a photomask to dye a pattern formed. A coloring pigment is dispersed in a photosensitive resist in advance. A pigment dispersion method of exposing and developing through a photomask, a printing method of printing each color with a printing ink, and an electrode forming a colored layer of each color by electrodeposition using a transparent electrode patterned on a substrate. It can be formed by a deposition method or the like.
【０００４】上述のようないずれの方法により製造され
るカラーフィルタも、製造コストの低減の要求から製造
段階での多面付化が進んでいる。そして、多面付で製造
されたカラーフィルタは、各々のカラーフィルタに分割
するために切断工程においてガラス基板の切断が行われ
る。[0004] The color filters manufactured by any of the above-mentioned methods have been increasingly multifaceted at the manufacturing stage due to a demand for reduction in manufacturing cost. Then, in the color filter manufactured with multiple faces, the glass substrate is cut in a cutting step in order to divide the color filters into respective color filters.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラス基板の
切断工程ではカレットと呼ばれる微小ガラス屑が発生し
てガラス基板に付着し、このカレットがガラス基板上の
カラーフィルタに付着した場合、かなり微小であっても
モジュール組み立て時に悪影響を及ぼし、液晶ディスプ
レイの画像品質を損なうおそれがある。However, in the process of cutting the glass substrate, fine glass debris called cullet is generated and adheres to the glass substrate. When this cullet adheres to the color filter on the glass substrate, it is extremely small. Even if it does, it may have a bad influence upon assembling the module, and may impair the image quality of the liquid crystal display.
【０００６】このため、ガラス基板の切断工程を経たカ
ラーフィルタは、ガラス基板上のカレットの有無を検出
することが要求されている。[0006] For this reason, it is required that a color filter that has undergone a glass substrate cutting process detect the presence or absence of a cullet on the glass substrate.
【０００７】しかしながら、従来の反射光学系を用いた
検査装置では、上記のようなガラス基板上の微小なカレ
ットの検出が困難であったり、また、微小なカレットの
検出は可能であっても、カラーフィルタの品質に悪影響
を及ぼさないような高さの低い突起までも検出してしま
い、的確なカレット検出が行えないという問題があっ
た。However, in a conventional inspection apparatus using a reflection optical system, it is difficult to detect a minute cullet on a glass substrate as described above, and even if a minute cullet can be detected, There is a problem that even a projection having a low height that does not adversely affect the quality of the color filter is detected, and accurate cullet detection cannot be performed.
【０００８】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、切断工程を経たガラス基板上に残存す
る微小ガラス屑を高い信頼性で検出することができるガ
ラス基板検査装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a glass substrate inspection apparatus capable of detecting, with high reliability, minute glass chips remaining on a glass substrate after a cutting step. The purpose is to do.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明はガラス基板に対して低角度で検査光
を線状照射する線状照射光源、該線状照射光源からガラ
ス基板に照射された検査光のうちガラス基板上において
散乱された散乱光を検出するための光検出器とを備える
ような構成とした。In order to achieve the above object, the present invention provides a linear irradiation light source for linearly irradiating a glass substrate with inspection light at a low angle, and a method for producing a glass substrate from the linear irradiation light source. And a photodetector for detecting scattered light scattered on the glass substrate out of the inspection light applied to the glass substrate.
【００１０】また、本発明のガラス基板検査装置は、前
記線状照射光源をガラス基板に対して０°〜３０°の範
囲で検査光の線状照射が可能であるような構成とした。Further, the glass substrate inspection apparatus of the present invention is configured such that the linear irradiation light source can irradiate the glass substrate with inspection light linearly in a range of 0 ° to 30 °.
【００１１】また、本発明のガラス基板検査装置は、前
記線状照射光源として、例えば、レーザ、ハロゲンラン
プ等を用いることができる。Further, in the glass substrate inspection apparatus of the present invention, for example, a laser, a halogen lamp or the like can be used as the linear irradiation light source.
【００１２】さらに、本発明のガラス基板検査装置は、
前記光検出器をＣＣＤラインセンサとするような構成と
した。Furthermore, the glass substrate inspection apparatus of the present invention
The photodetector was configured to be a CCD line sensor.
【００１３】上記のような本発明において、線状照射光
源から低角度でガラス基板に対して線状照射された検査
光は、ガラス基板上に存在する微小ガラス屑に当たると
散乱を生じ、この散乱光を光検出器により受光し、その
信号を処理することにより微小ガラス屑を検出する。In the present invention as described above, the inspection light linearly irradiated on the glass substrate at a low angle from the linear irradiation light source scatters when it strikes minute glass chips present on the glass substrate. Light is received by a photodetector, and the signal is processed to detect minute glass dust.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The preferred embodiments of the present invention will be described below.
【００１５】図１は本発明のガラス基板検査装置の一例
を説明するための概略構成図である。図１に示されるガ
ラス基板検査装置１は、被検査体であるガラス基板Ｓを
搬送するための搬送部２、この搬送部２上を搬送される
ガラス基板Ｓに対して低角度で検査光を線状照射するた
めの線状照射光源３、ガラス基板Ｓに存在する微小ガラ
ス屑に当たって散乱された散乱光を検出するための光検
出器４、この光検出器４からの画像信号からガラス基板
上の微小ガラス屑の存在位置を表示する検査処理部５、
および、画像表示装置６とを備えている。FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining an example of the glass substrate inspection apparatus of the present invention. A glass substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a transport unit 2 for transporting a glass substrate S as an object to be inspected, and an inspection light at a low angle with respect to the glass substrate S transported on the transport unit 2. A linear irradiation light source 3 for linear irradiation, a photodetector 4 for detecting scattered light hitting fine glass chips present on the glass substrate S, and an image signal from the photodetector 4 on the glass substrate An inspection processing unit 5 for displaying the position of the minute glass dust
And an image display device 6.
【００１６】搬送部２はガラス基板Ｓを一定の速度で搬
送するためのものであり、図示例のような搬送ベルト２
ａを駆動するための複数の搬送コロ２ｂを備えたコロ搬
送装置の他に、ステージ搬送装置、ロボット搬送装置、
コンベア搬送装置等とすることができ、ガラス基板を使
用した製造ラインを考慮して適宜選択することができ
る。また、ガラス基板Ｓに搬送ムラの影響が及ぶことを
防止するために、搬送部２にエンコーダを取り付け、光
検出器４の入力と同期をとるようにしてもよい。このよ
うな搬送部２によるガラス基板Ｓの搬送速度は、例え
ば、０．５〜１０ｍ／分程度の範囲で設定することがで
きる。The transport unit 2 is for transporting the glass substrate S at a constant speed.
a, in addition to a roller transfer device provided with a plurality of transfer rollers 2b for driving a, a stage transfer device, a robot transfer device,
It can be a conveyor conveying device or the like, and can be appropriately selected in consideration of a production line using a glass substrate. In order to prevent the influence of uneven transport on the glass substrate S, an encoder may be attached to the transport unit 2 to synchronize with the input of the photodetector 4. The transport speed of the glass substrate S by the transport unit 2 can be set, for example, in a range of about 0.5 to 10 m / min.
【００１７】線状照射光源３は、ガラス基板Ｓに対して
低角度で検査光を線状照射するためのものであり、ガラ
ス基板Ｓに対する照射角度θ1 は０°〜３０°、好まし
くは１０°〜３０°の範囲で設定することができる。照
射角度θ1 が３０°を超えると、ガラス基板Ｓの表面か
らの散乱光の強度が強くなり、これにより、検出信号の
Ｓ／Ｎ比が悪くなり好ましくない。線状照射光源３は、
レーザ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、高周波蛍光
灯、メタルハライドランプ等を使用することができる。The linear irradiation light source 3 linearly irradiates the glass substrate S with the inspection light at a low angle, and the irradiation angle θ 1 to the glass substrate S is 0 ° to 30 °, preferably 10 °. It can be set in the range of ° to 30 °. When the irradiation angle theta 1 is greater than 30 °, the intensity of the scattered light from the surface of the glass substrate S becomes strong, thereby not preferable S / N ratio of the detection signal deteriorates. The linear irradiation light source 3
A laser, a xenon lamp, a halogen lamp, a high-frequency fluorescent lamp, a metal halide lamp, or the like can be used.
【００１８】図２は、このような線状照射光源３とガラ
ス基板Ｓとの位置関係を示す平面図であり、図３は同じ
く斜視図である。この図２および図３に示されるよう
に、線状照射光源３はガラス基板Ｓの幅よりも長い幅を
有するライン状光源であり、通常、ガラス基板Ｓの搬送
方向（矢印Ａ方向）に対して軸方向が直角となるように
配設される。この線状照射光源３には、上記光源から出
射された光を線状の検査光Ｌにするためのスリットが軸
方向に平行に設けられている。このスリットの開口幅
は、使用する光源により適宜設定することができるが、
例えば、３〜１０ｍｍの範囲とすることができる。ま
た、本発明では、アクリル導光板を使用し、ハロゲンラ
ンプ等の光源からアクリル導光板の短辺に光を入射さ
せ、アクリル導光板の長辺から平行光を出射することに
より、線状の検査光Ｌをガラス基板Ｓに照射することも
できる。FIG. 2 is a plan view showing the positional relationship between the linear irradiation light source 3 and the glass substrate S, and FIG. 3 is a perspective view of the same. As shown in FIGS. 2 and 3, the linear irradiation light source 3 is a linear light source having a width longer than the width of the glass substrate S, and is usually in the transport direction of the glass substrate S (the direction of arrow A). Are arranged so that the axial directions are at right angles. The linear irradiation light source 3 is provided with a slit parallel to the axial direction for converting the light emitted from the light source into a linear inspection light L. The opening width of this slit can be appropriately set depending on the light source used,
For example, it can be in the range of 3 to 10 mm. Further, in the present invention, a linear inspection is performed by using an acrylic light guide plate, making light incident on a short side of the acrylic light guide plate from a light source such as a halogen lamp, and emitting parallel light from a long side of the acrylic light guide plate. The light L can be applied to the glass substrate S.
【００１９】光検出器４は、ガラス基板Ｓに照射された
線状の検査光Ｌのうち、ガラス基板Ｓ上に存在する微小
ガラス屑に照射されて散乱を生じた検査光を検出するた
めのものであり、例えば、ＣＣＤラインセンサ、光電子
倍増管、ＣＣＤエリアセンサ等を使用することができ
る。図示例では、この光検出器４はガラス基板Ｓに対す
る角度θ2 がほぼ垂直となるように配設されているが、
本発明では、これに限定されるものではなく、ガラス基
板Ｓに対する角度θ2 が７０°〜１１０°の範囲となる
ように光検出器４を設置することができる。The photodetector 4 detects, among the linear inspection light L illuminated on the glass substrate S, the inspection light scattered by irradiating the minute glass chips present on the glass substrate S. For example, a CCD line sensor, a photomultiplier tube, a CCD area sensor, or the like can be used. In the illustrated example, the photodetector 4 is disposed so that the angle θ 2 with respect to the glass substrate S is substantially perpendicular.
In the present invention is not limited thereto, can be installed photodetector 4 as the angle theta 2 to the glass substrate S is in the range of 70 ° to 110 °.
【００２０】検査処理部５は、光検出器４からの画像信
号を電気的に処理して、散乱光の強度分布から微小ガラ
ス屑のある箇所を所定量以上の散乱光が生じている箇所
として検出するものである。この検査処理部５として
は、微分処理、コンボリュージョン、統計処理等のモジ
ュールを備えた公知の装置を使用することができる。The inspection processing unit 5 electrically processes the image signal from the photodetector 4 and determines a portion where there is minute glass dust as a portion where a predetermined amount or more of scattered light is generated from the intensity distribution of the scattered light. It is to detect. As the inspection processing unit 5, a known device including modules for differentiation processing, convolution, statistical processing, and the like can be used.
【００２１】このような本発明のガラス基板検査装置１
では、図１の矢印Ａ方向に搬送されているガラス基板Ｓ
に対して線状照射光源３から低角度θ1 で線状照射され
た検査光Ｌが、ガラス基板Ｓ上に存在する微小ガラス屑
に当たると散乱を生じ、この散乱光が光検出器４で検出
されてガラス基板Ｓ上の微小ガラス屑が検出されるとと
もに、例えば、カラーフィルタが形成されたガラス基板
では、カラーフィルタの品質に悪影響を及ぼさないよう
な突起の検出が極めて少なく、ガラス基板上に存在する
欠陥としての微小ガラス屑を高い信頼性で検出すること
ができる。そして、光検査器４からの画像信号を検査処
理部５で電気的に処理して散乱光の強度分布を求め、所
定量以上の散乱光が生じている箇所を微小ガラス屑のあ
る箇所として検出する。検出された微小ガラス屑の存在
位置は、検査処理部５に接続された画像表示装置６によ
って表示することができる。Such a glass substrate inspection apparatus 1 of the present invention
Then, the glass substrate S conveyed in the direction of arrow A in FIG.
When the inspection light L linearly radiated from the linear irradiation light source 3 at a low angle θ 1 hits small glass chips existing on the glass substrate S, scattering occurs, and the scattered light is detected by the photodetector 4. As a result, fine glass debris on the glass substrate S is detected, and, for example, in a glass substrate on which a color filter is formed, the number of protrusions that do not adversely affect the quality of the color filter is extremely small. Fine glass dust as an existing defect can be detected with high reliability. Then, the image signal from the optical inspection device 4 is electrically processed by the inspection processing unit 5 to determine the intensity distribution of the scattered light, and a portion where the scattered light of a predetermined amount or more is generated is detected as a portion having fine glass dust. I do. The detected position of the minute glass dust can be displayed by the image display device 6 connected to the inspection processing unit 5.
【００２２】尚、上述のガラス基板検査装置１では、ガ
ラス基板Ｓを搬送部２によって搬送しながら、搬送され
るガラス基板Ｓに対して線状照射光源３から低角度で検
査光を線状照射し、反射された散乱光を光検出器４にて
検出するものであるが、本発明のガラス基板検査装置は
これに限定されるものではない。例えば、ガラス基板Ｓ
を固定載置し、線状照射光源３および光検出器４を所定
の位置関係を維持した状態で一体としてガラス基板Ｓに
対し移動可能とし、移動する線状照射光源３からガラス
基板Ｓに対して低角度で検査光を線状照射し、反射され
た散乱光を光検出器４にて検出するものであってもよ
い。In the above-described glass substrate inspection apparatus 1, while the glass substrate S is transported by the transport unit 2, the transported glass substrate S is linearly irradiated with inspection light from the linear irradiation light source 3 at a low angle. Although the reflected scattered light is detected by the photodetector 4, the glass substrate inspection apparatus of the present invention is not limited to this. For example, a glass substrate S
Is fixedly mounted, and the linear irradiation light source 3 and the photodetector 4 are integrally movable with respect to the glass substrate S while maintaining a predetermined positional relationship. Alternatively, the inspection light may be irradiated linearly at a low angle, and the reflected scattered light may be detected by the photodetector 4.
【００２３】[0023]
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
【００２４】まず、コーニング（株）製７０５９ガラス
（厚み０．７ｍｍ）からなるガラス基板上に顔料分散法
によりＲ，Ｇ，Ｂの各着色パターンからなる着色層、各
画素の境界部分にブラックマトリックスを形成し、カラ
ーフィルタが４面付けされたガラス基板を作製した。First, a colored layer composed of R, G, and B colored patterns was formed on a glass substrate made of Corning Co., Ltd. 7059 glass (thickness 0.7 mm) by a pigment dispersion method. Was formed to produce a glass substrate on which four color filters were attached.
【００２５】次に、このガラス基板の切断予定箇所にブ
レードカッターを用いて切り込みを形成し、その後、こ
の切り込み形成箇所でガラス基板を折り曲げて切断する
ことにより４分割とし、カラーフィルタが形成された個
々のガラス基板を得た。尚、このガラス基板上には、平
均粒径１０μｍのガラス屑（カレット大）、平均粒径５
μｍのガラス屑（カレット中）、平均粒径２μｍのガラ
ス屑（カレット小）が存在することを実体顕微鏡により
予め観察して確認した。また、ガラス基板には、カラー
フィルタの品質に悪影響を及ぼさないような突起を、感
光性材料を塗布した直後に微小異物を付着させることに
より形成した。Next, a notch was formed at a portion of the glass substrate to be cut using a blade cutter, and then the glass substrate was bent and cut at the portion where the notch was formed, thereby dividing the glass substrate into four parts, thereby forming a color filter. Individual glass substrates were obtained. On this glass substrate, glass dust (cullet size) having an average particle size of 10 μm and an average particle size of 5
It was confirmed by previously observing with a stereoscopic microscope that glass dust (in the cullet) of μm and glass dust (small cullet) having an average particle size of 2 μm were present. Further, on the glass substrate, projections that do not adversely affect the quality of the color filter were formed by attaching minute foreign matter immediately after the photosensitive material was applied.
【００２６】このガラス基板を、図１に示されるような
本発明のガラス基板検査装置の搬送部によってカラーフ
ィルタ層を上にした状態で搬送し、下記の条件でガラス
基板の検査を行い、その結果を下記の表１に示した。The glass substrate is transported with the color filter layer facing upward by the transport unit of the glass substrate inspection apparatus of the present invention as shown in FIG. 1, and the glass substrate is inspected under the following conditions. The results are shown in Table 1 below.
【００２７】 検査条件 ・線状照射光源：ハロゲンライン状照明（スリット開口幅８ｍｍ） （日本ピーアイ（株）製ＰＤＬ−Ｔ−７５０ＵＤ） ・光検出器 ：ＣＣＤラインセンサ （ＮＥＤ（株）製ＦＴＨ２０４８Ｂ） ・ガラス基板搬送速度 ：２．４ｍ／分 ・検査光照射角度θ1 ：０°、１０°、２０°、３０°、４０°の５種 ・光検出器設置角度θ2 ：９０° 一方、従来の検査装置として、光源に開口部が広い高周
波蛍光灯を用い、ガラス基板からの角度を６０°とした
他は、上記と同様の装置を用いて下記の条件でガラス基
板の検査を行い、その結果を下記の表１に示した。 Inspection conditions Linear irradiation light source: Halogen line illumination (slit opening width 8 mm) (PDL-T-750UD, manufactured by Nippon PI Co., Ltd.) Photodetector: CCD line sensor (FTH2048B, manufactured by NED Co., Ltd.)・ Glass substrate transfer speed: 2.4m / min ・ Inspection light irradiation angle θ 1 : 5 types of 0 °, 10 °, 20 °, 30 °, 40 ° ・ Photodetector installation angle θ 2 : 90 ° As an inspection device, a high-frequency fluorescent lamp having a wide opening as a light source was used, and the glass substrate was inspected under the following conditions using the same device as above, except that the angle from the glass substrate was 60 °. The results are shown in Table 1 below.
【００２８】 検査条件 ・照射光源 ：高周波蛍光灯（スリット開口幅５０ｍｍ） （京都電機器（株）製ＬＳＴ−３０） ・光検出器 ：ＣＣＤラインセンサ （ＮＥＤ（株）製ＦＴＨ２０４８Ｂ） ・ガラス基板搬送速度 ：２．４ｍ／分 ・検査光照射角度θ1 ：６０° ・光検出器設置角度θ2 ：６０° Inspection conditions / Irradiation light source: High-frequency fluorescent lamp (slit opening width: 50 mm) (LST-30 manufactured by Kyoto Denki Co., Ltd.) Photodetector: CCD line sensor (FTH2048B manufactured by NED Co., Ltd.) Glass transport Speed: 2.4m / min ・ Inspection light irradiation angle θ 1 : 60 ° ・ Photo detector installation angle θ 2 : 60 °
【００２９】[0029]
【表１】 表１から明らかなように、本発明のガラス基板検査装置
では、検査光照射角度θ1 が０°〜３０°の範囲でガラ
ス基板上に存在する微小ガラス屑（カレット大、中、
小）を高いＳ／Ｎ比で確実に検出することでき、また、
カラーフィルタの品質に悪影響を及ぼさないような突起
は検出しないものであった。ただし、検査光照射角度θ
1 が４０°の場合は、カレット小の検出が不可能であ
り、ガラス基板に対する検査光照射角度θ1 は０°〜３
０°の範囲が最も好ましいことが確認された。[Table 1] Table 1 As is clear, glass substrate inspection device of the present invention, small glass debris inspection light irradiation angle theta 1 is present on a glass substrate in a range of 0 ° to 30 ° (cullet large, medium,
Small) can be reliably detected with a high S / N ratio.
No protrusion that does not adversely affect the quality of the color filter is not detected. However, the inspection light irradiation angle θ
When 1 is 40 °, detection of small cullet is impossible, and the inspection light irradiation angle θ 1 with respect to the glass substrate is 0 ° to 3 °.
It was confirmed that the range of 0 ° was most preferable.
【００３０】これに対して、従来の検査装置では、照射
面が広範囲にわたっているため、背景部からの乱反射光
が強くなり、微小ガラス屑からの反射光を感度よく検出
することができず、カレット中およびカレット小の検出
が不可能であった。On the other hand, in the conventional inspection apparatus, since the illuminated surface covers a wide area, the irregularly reflected light from the background becomes strong, and the reflected light from the fine glass dust cannot be detected with high sensitivity. Medium and small cullet detection was not possible.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば線
状照射光源と光検出器を備え、線状照射光源からガラス
基板に対して低角度で線状照射された検査光は、ガラス
基板上に存在する微小ガラス屑に当たると散乱を生じ、
この散乱光が光検出器で検出されてガラス基板上の微小
ガラス屑が検出され、なおかつ、カラーフィルタの品質
に悪影響を及ぼさないような突起の検出が極めて少な
く、ガラス基板上に残存する微小ガラス屑を高い信頼性
で検出することができる。As described above in detail, according to the present invention, a linear irradiation light source and a photodetector are provided. When it hits small glass chips existing on the glass substrate, scattering occurs,
This scattered light is detected by a photodetector, and fine glass debris on the glass substrate is detected. Further, the number of protrusions that do not adversely affect the quality of the color filter is extremely small. Debris can be detected with high reliability.
【図１】本発明のガラス基板検査装置の一例を説明する
ための概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining an example of a glass substrate inspection apparatus of the present invention.
【図２】図１に示されるガラス基板検査装置の線状照射
光源とガラス基板との位置関係を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a positional relationship between a linear irradiation light source and a glass substrate of the glass substrate inspection apparatus shown in FIG.
【図３】図１に示されるガラス基板検査装置の線状照射
光源とガラス基板との位置関係を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a positional relationship between a linear irradiation light source and a glass substrate of the glass substrate inspection apparatus shown in FIG.
【符号の説明】 １…ガラス基板検査装置 ２…搬送部 ３…線状照射光源 ４…光検出器 ５…検査処理部 ６…画像表示装置 Ｓ…ガラス基板[Description of Signs] 1 ... Glass substrate inspection device 2 ... Conveying unit 3 ... Linear irradiation light source 4 ... Photodetector 5 ... Inspection processing unit 6 ... Image display device S ... Glass substrate
Claims (4)
状照射する線状照射光源、該線状照射光源からガラス基
板に照射された検査光のうちガラス基板上において散乱
された散乱光を検出するための光検出器とを備えること
を特徴とするガラス基板検査装置。1. A linear irradiation light source for linearly irradiating a glass substrate with inspection light at a low angle, and scattered light scattered on the glass substrate among inspection light irradiated from the linear irradiation light source to the glass substrate. A glass substrate inspection apparatus, comprising: a photodetector for detecting the temperature.
て０°〜３０°の範囲で検査光を線状照射可能であるこ
とを特徴とする請求項１に記載のガラス基板検査装置。2. The glass substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the linear irradiation light source is capable of linearly irradiating the glass substrate with inspection light in a range of 0 ° to 30 °.
ゲンランプのいずれかであることを特徴とする請求項１
または請求項２に記載のガラス基板検査装置。3. The apparatus according to claim 1, wherein the linear irradiation light source is one of a laser and a halogen lamp.
Alternatively, the glass substrate inspection apparatus according to claim 2.
あることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか
に記載のガラス基板検査装置。4. The glass substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the photodetector is a CCD line sensor.
Priority Applications (1)
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| JP21779096A JPH1048144A (en) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | Glass substrate inspecting instrument |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP21779096A JPH1048144A (en) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | Glass substrate inspecting instrument |
Publications (1)
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| JPH1048144A true JPH1048144A (en) | 1998-02-20 |
Family
ID=16709774
Family Applications (1)
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| JP21779096A Pending JPH1048144A (en) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | Glass substrate inspecting instrument |
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1996
- 1996-07-31 JP JP21779096A patent/JPH1048144A/en active Pending
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