JPH1045684A - アジン類及びそれを用いるアミン類の製造方法 - Google Patents
アジン類及びそれを用いるアミン類の製造方法Info
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- JPH1045684A JPH1045684A JP20027996A JP20027996A JPH1045684A JP H1045684 A JPH1045684 A JP H1045684A JP 20027996 A JP20027996 A JP 20027996A JP 20027996 A JP20027996 A JP 20027996A JP H1045684 A JPH1045684 A JP H1045684A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的に優れたアミン類の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式（Ｉ） で示されるアジン類を還元することを特徴とする一般式
(II)
る。 【解決手段】 一般式（Ｉ） で示されるアジン類を還元することを特徴とする一般式
(II)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アジン類およびそ
れを用いるアミン類の製造方法に関する。
れを用いるアミン類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アミン
類は、医農薬等の原料として有用であり、対応するケト
ン類から製造することも知られている。例えば、α−メ
チルベンジルアミンは、アセトフェノンをヒドロキシル
アミンを用いてアセトフェノンオキシムに誘導し、これ
を還元する方法（J.Chem.Soc.(C)，531(1966))、アセト
フェノンを還元アミノ化する方法（J.Am.Chem.Soc., 6
1,3499(1939))等が知られている。しかしながら、収率
が、前者の方法では63％程度、後者の方法では50％程度
であり、より高収率でアミン類を与える製造方法の出現
が望まれていた。
類は、医農薬等の原料として有用であり、対応するケト
ン類から製造することも知られている。例えば、α−メ
チルベンジルアミンは、アセトフェノンをヒドロキシル
アミンを用いてアセトフェノンオキシムに誘導し、これ
を還元する方法（J.Chem.Soc.(C)，531(1966))、アセト
フェノンを還元アミノ化する方法（J.Am.Chem.Soc., 6
1,3499(1939))等が知られている。しかしながら、収率
が、前者の方法では63％程度、後者の方法では50％程度
であり、より高収率でアミン類を与える製造方法の出現
が望まれていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】このような状況下、本発
明者らは、対応するケトン類から収率良くアミン類を製
造する方法を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、ケトン
類をヒドラジンを用いてアジン類に誘導し、これを還元
すれば、高い収率でアミン類が製造し得ることを見出す
とともに、さらに種々の検討を加え本発明を完成した。
明者らは、対応するケトン類から収率良くアミン類を製
造する方法を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、ケトン
類をヒドラジンを用いてアジン類に誘導し、これを還元
すれば、高い収率でアミン類が製造し得ることを見出す
とともに、さらに種々の検討を加え本発明を完成した。
【０００４】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）
【０００５】（式中、Ｒ1,Ｒ2 は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基又は低級
アルコキシ基を、Ｒ3 は低級アルキル基を表す。 Ｘは
単なる結合又は低級アルキレン基を表す。)で示される
アジン類を還元することを特徴とする式(II)
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基又は低級
アルコキシ基を、Ｒ3 は低級アルキル基を表す。 Ｘは
単なる結合又は低級アルキレン基を表す。)で示される
アジン類を還元することを特徴とする式(II)
【０００６】
【０００７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘは前記と同
じ意味を有する。）で示されるアミン類の製造方法及び
上記一般式(I) において、Ｘが単なる結合、Ｒ1 が水素
原子又はp-位のハロゲン原子であり、Ｒ1 が水素の場合
はＲ2 が、m-位の低級アルコキシ基、Ｒ1 がp-位のハロ
ゲン原子の場合はＲ2 が、o-位又はm-位のハロゲン原子
であるアジン類を提供するものである。
じ意味を有する。）で示されるアミン類の製造方法及び
上記一般式(I) において、Ｘが単なる結合、Ｒ1 が水素
原子又はp-位のハロゲン原子であり、Ｒ1 が水素の場合
はＲ2 が、m-位の低級アルコキシ基、Ｒ1 がp-位のハロ
ゲン原子の場合はＲ2 が、o-位又はm-位のハロゲン原子
であるアジン類を提供するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の原料として用いられるアジン類(I) におけるＲ
1,Ｒ2 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を表すもの
であるが、ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩
素、臭素等が挙げられる。ここで、低級アルキル基とし
ては、例えばメチル、エチル、プロピル、i-プロピル、
ブチル、i-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ペンチル等
が挙げられる。また低級アルコキシ基としては、例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、i-プロポキシ、ブト
キシ、i-ブトキシ、sec-ブトキシ、ペントキシ等が挙げ
られる。
本発明の原料として用いられるアジン類(I) におけるＲ
1,Ｒ2 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を表すもの
であるが、ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩
素、臭素等が挙げられる。ここで、低級アルキル基とし
ては、例えばメチル、エチル、プロピル、i-プロピル、
ブチル、i-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ペンチル等
が挙げられる。また低級アルコキシ基としては、例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、i-プロポキシ、ブト
キシ、i-ブトキシ、sec-ブトキシ、ペントキシ等が挙げ
られる。
【０００９】また置換基Ｒ3 は、低級アルキル基を表す
ものであるが、例えばメチル、エチル、プロピル、i-プ
ロピル、ブチル、i-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ペ
ンチル等が挙げられる。Ｘは、単なる結合又は低級アル
キレン基を表すが、低級アルキレン基としては、例えば
メチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン
等が挙げられる。アジン類(I) の代表例としては、例え
ばアセキフェノンアジン、2'- メチルアセトフェノンア
ジン、3'- メチルアセトフェノンアジン、3',4'-ジメチ
ルアセトフェノンアジン、2'- クロロアセトフェノンア
ジン、2'- フルオロアセトフェノンアジン、4'- クロロ
アセトフェノンアジン、2',4'-ジクロロアセトフェノン
アジン、3',4'-ジクロロアセトフェノンアジン、2'- ヒ
ドロキシアセトフェノンアジン、4'- ヒドロキシアセト
フェノンアジン、2'- メトキシアセトフェノンアジン、
3'- メトキシアセトフェノンアジン、4'- メトキシアセ
トフェノンアジン、3'- メトキシ-4'-ヒドロキシアセト
フェノンアジン、プロピオフェノンアジン、4'- ブロモ
プロピオフェノンアジン、メチルベンジルケトンアジ
ン、メチル-3'-メトキシベンジルケトンアジン、メチル
-4'-メトキシベンジルケトンアジン、メチル-3',4'- ジ
メトキシベンジルケトンアジン等が挙げられる。
ものであるが、例えばメチル、エチル、プロピル、i-プ
ロピル、ブチル、i-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ペ
ンチル等が挙げられる。Ｘは、単なる結合又は低級アル
キレン基を表すが、低級アルキレン基としては、例えば
メチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン
等が挙げられる。アジン類(I) の代表例としては、例え
ばアセキフェノンアジン、2'- メチルアセトフェノンア
ジン、3'- メチルアセトフェノンアジン、3',4'-ジメチ
ルアセトフェノンアジン、2'- クロロアセトフェノンア
ジン、2'- フルオロアセトフェノンアジン、4'- クロロ
アセトフェノンアジン、2',4'-ジクロロアセトフェノン
アジン、3',4'-ジクロロアセトフェノンアジン、2'- ヒ
ドロキシアセトフェノンアジン、4'- ヒドロキシアセト
フェノンアジン、2'- メトキシアセトフェノンアジン、
3'- メトキシアセトフェノンアジン、4'- メトキシアセ
トフェノンアジン、3'- メトキシ-4'-ヒドロキシアセト
フェノンアジン、プロピオフェノンアジン、4'- ブロモ
プロピオフェノンアジン、メチルベンジルケトンアジ
ン、メチル-3'-メトキシベンジルケトンアジン、メチル
-4'-メトキシベンジルケトンアジン、メチル-3',4'- ジ
メトキシベンジルケトンアジン等が挙げられる。
【００１０】またアジン類(I) は、例えば対応する一般
式(III)
式(III)
【００１１】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘは前記と同
じ意味を有する。）で示されるケトン類にヒドラジンを
反応させることにより製造し得る。ここで、ヒドラジン
としては、通常、ヒドラジンの１水和物が使用される
が、もちろん無水物であっても、ヒドラジンの水溶液で
あっても使用し得る。またヒドラジンの塩酸塩、臭酸
塩、硫酸塩等の塩類であっても使用し得る。その使用量
は、ヒドラジン換算で、ケトン類(III) に対して、通常
0.4 〜１モル倍程度である。
じ意味を有する。）で示されるケトン類にヒドラジンを
反応させることにより製造し得る。ここで、ヒドラジン
としては、通常、ヒドラジンの１水和物が使用される
が、もちろん無水物であっても、ヒドラジンの水溶液で
あっても使用し得る。またヒドラジンの塩酸塩、臭酸
塩、硫酸塩等の塩類であっても使用し得る。その使用量
は、ヒドラジン換算で、ケトン類(III) に対して、通常
0.4 〜１モル倍程度である。
【００１２】ヒドラジンを反応させるにあたっては、通
常、触媒の存在下、溶媒中で実施される。かかる触媒と
しては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、
安息香酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸
等の有機酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸が挙げられ
る。ヒドラジンの塩類を使用した場合は、かかる触媒は
使用することなしに、実施することもできる。触媒の使
用量は、ケトン類(III) に対して、通常0.001 〜１重量
％程度、好ましくは0.01〜0.1 重量％程度である。また
溶媒としては、例えばエタノール、メタノール、プロパ
ノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒が挙げられ
るが、アルコール系溶媒が好ましく使用される。溶媒
は、ケトン類(III) に対して、0.2 〜10重量倍程度、好
ましくは0.5 〜３重量倍程度使用される。
常、触媒の存在下、溶媒中で実施される。かかる触媒と
しては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、
安息香酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸
等の有機酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸が挙げられ
る。ヒドラジンの塩類を使用した場合は、かかる触媒は
使用することなしに、実施することもできる。触媒の使
用量は、ケトン類(III) に対して、通常0.001 〜１重量
％程度、好ましくは0.01〜0.1 重量％程度である。また
溶媒としては、例えばエタノール、メタノール、プロパ
ノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒が挙げられ
るが、アルコール系溶媒が好ましく使用される。溶媒
は、ケトン類(III) に対して、0.2 〜10重量倍程度、好
ましくは0.5 〜３重量倍程度使用される。
【００１３】反応は、通常40〜150 ℃程度、好ましくは
60〜100 ℃程度で実施され、通常は常圧下で実施される
が、加圧下でも、減圧下でも実施し得る。また反応で副
生する水を除去するためにモレキュラーシーブス、活性
炭等の脱水剤を反応系に共存させることもできる。かく
してアジン類(I) が生成するが、これを反応マスから取
り出す場合は、例えば溶媒を留去することにより、取り
出すことができる。また反応マスを冷却して結晶が析出
する場合は、これを濾過することにより取り出すことも
できる。取り出したアジン類(I) は、再結晶等の精製手
段を施すことにより更に精製することもできる。
60〜100 ℃程度で実施され、通常は常圧下で実施される
が、加圧下でも、減圧下でも実施し得る。また反応で副
生する水を除去するためにモレキュラーシーブス、活性
炭等の脱水剤を反応系に共存させることもできる。かく
してアジン類(I) が生成するが、これを反応マスから取
り出す場合は、例えば溶媒を留去することにより、取り
出すことができる。また反応マスを冷却して結晶が析出
する場合は、これを濾過することにより取り出すことも
できる。取り出したアジン類(I) は、再結晶等の精製手
段を施すことにより更に精製することもできる。
【００１４】次に、アジン類(I) を還元することによる
アミン類(II)の製造方法について、説明する。アジン類
(I) は反応マスの状態でも、これを取り出したもので
も、さらに精製したものであっても使用し得る。還元
は、接触還元による方法、還元剤による方法のいづれの
方法も採用し得る。接触還元による場合、触媒として
は、例えばパラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、
ニッケル、コバルト等の金属触媒が挙げられる。これら
は活性炭、アルミナ、シリカ等の担体に担持されたもの
が好ましく使用される。またニッケル触媒、コバルト触
媒は、ラネーニッケル、ラネーコバルト等も好ましく使
用される。
アミン類(II)の製造方法について、説明する。アジン類
(I) は反応マスの状態でも、これを取り出したもので
も、さらに精製したものであっても使用し得る。還元
は、接触還元による方法、還元剤による方法のいづれの
方法も採用し得る。接触還元による場合、触媒として
は、例えばパラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、
ニッケル、コバルト等の金属触媒が挙げられる。これら
は活性炭、アルミナ、シリカ等の担体に担持されたもの
が好ましく使用される。またニッケル触媒、コバルト触
媒は、ラネーニッケル、ラネーコバルト等も好ましく使
用される。
【００１５】かかる金属触媒は、その種類にもよるが、
通常、アジン類(I) に対して0.01〜50重量％、好ましく
は0.1 〜20重量％である。接触還元は、溶媒中で通常実
施される。かかる溶媒としては、反応を阻害するもので
なければ良く、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、スルホ
ラン、γ−ブチロラクトン、N-メチルピロリドン等の極
性溶媒、これらの混合物などが挙げられる。溶媒の使用
量は、通常、アジン類(I) に対して0.5 〜20重量倍程度
である。
通常、アジン類(I) に対して0.01〜50重量％、好ましく
は0.1 〜20重量％である。接触還元は、溶媒中で通常実
施される。かかる溶媒としては、反応を阻害するもので
なければ良く、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、スルホ
ラン、γ−ブチロラクトン、N-メチルピロリドン等の極
性溶媒、これらの混合物などが挙げられる。溶媒の使用
量は、通常、アジン類(I) に対して0.5 〜20重量倍程度
である。
【００１６】また反応温度は、通常-20 〜200 ℃程度の
範囲、好ましくは0 〜150 ℃程度の範囲である。圧力
は、通常、１〜150 気圧程度の範囲、好ましくは1 〜10
0 気圧程度の範囲である。生成したアミン類(II)は、常
法により反応マスから触媒を分離した後、例えば溶媒を
留去することにより取り出すことができる。
範囲、好ましくは0 〜150 ℃程度の範囲である。圧力
は、通常、１〜150 気圧程度の範囲、好ましくは1 〜10
0 気圧程度の範囲である。生成したアミン類(II)は、常
法により反応マスから触媒を分離した後、例えば溶媒を
留去することにより取り出すことができる。
【００１７】一方、還元剤を用いて還元する場合、還元
剤としては、金属水素化物が通常使用される。かかる金
属水素化物としては、例えば水素化ホウ素、水素化ホウ
素ナトリウム等の水素化ホウ素金属、水素化リチウムア
ルミニウム等の水素化アルミニウム金属等か挙げられ
る。その使用量は、アジン類(I) に対して0.5 〜５当量
程度、好ましくは1.5 〜3.5 当量程度である。
剤としては、金属水素化物が通常使用される。かかる金
属水素化物としては、例えば水素化ホウ素、水素化ホウ
素ナトリウム等の水素化ホウ素金属、水素化リチウムア
ルミニウム等の水素化アルミニウム金属等か挙げられ
る。その使用量は、アジン類(I) に対して0.5 〜５当量
程度、好ましくは1.5 〜3.5 当量程度である。
【００１８】反応は、溶媒中で通常実施される。かかる
溶媒としては、反応を阻害するものでなければ良く、例
えばテトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、エチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系
溶媒、これらの混合物等が挙げられる。溶媒の使用量
は、通常、アジン類(I) に対して0.5 〜20重量倍程度で
ある。また反応温度は、通常-20 〜200 ℃程度の範囲、
好ましくは0 〜150 ℃程度の範囲である。生成したアミ
ン類(II)は、常法により、還元剤を失活除去した後、例
えば溶媒を留去することにより取り出すことができる。
溶媒としては、反応を阻害するものでなければ良く、例
えばテトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、エチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系
溶媒、これらの混合物等が挙げられる。溶媒の使用量
は、通常、アジン類(I) に対して0.5 〜20重量倍程度で
ある。また反応温度は、通常-20 〜200 ℃程度の範囲、
好ましくは0 〜150 ℃程度の範囲である。生成したアミ
ン類(II)は、常法により、還元剤を失活除去した後、例
えば溶媒を留去することにより取り出すことができる。
【００１９】かくして、アミン類(II)が得られるが、必
要に応じて蒸留、再結晶等の精製手段を施すことにより
精製することもできる。アミン類(II)の代表例として
は、例えばα−メチルベンジルアミン、α−エチルベン
ジルアミン、2-メチル- α- メチルベンジルアミン、2,
3-ジメチル- α-メチルベンジルアミン、2-クロロ- α-
メチルベンジルアミン、4-クロロ- α-メチルベンジル
アミン、2,4-ジクロロ- α- メチルベンジルアミン、3-
メトキシ- α- メチルベンジルアミン、2-ヒドロキシ-
α- メチルベンジルアミン、3,4-ジクロロ- α- メチル
ベンジルアミン、2-クロロ- α- メチルベンジルアミ
ン、2-メトキシ- α- メチルベンジルアミン、4-メトキ
シ- α- メチルベンジルアミン、α- メチルフェネチル
アミン、3-メトキシ- α- メチルフェネチルアミン、4-
メトキシ- α- メチルフェネチルアミン、3,4-ジメトキ
シ- α- メチルフェネチルアミン等が挙げられる。
要に応じて蒸留、再結晶等の精製手段を施すことにより
精製することもできる。アミン類(II)の代表例として
は、例えばα−メチルベンジルアミン、α−エチルベン
ジルアミン、2-メチル- α- メチルベンジルアミン、2,
3-ジメチル- α-メチルベンジルアミン、2-クロロ- α-
メチルベンジルアミン、4-クロロ- α-メチルベンジル
アミン、2,4-ジクロロ- α- メチルベンジルアミン、3-
メトキシ- α- メチルベンジルアミン、2-ヒドロキシ-
α- メチルベンジルアミン、3,4-ジクロロ- α- メチル
ベンジルアミン、2-クロロ- α- メチルベンジルアミ
ン、2-メトキシ- α- メチルベンジルアミン、4-メトキ
シ- α- メチルベンジルアミン、α- メチルフェネチル
アミン、3-メトキシ- α- メチルフェネチルアミン、4-
メトキシ- α- メチルフェネチルアミン、3,4-ジメトキ
シ- α- メチルフェネチルアミン等が挙げられる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、目的とするアミン類(I
I)を収率良く製造し得る。
I)を収率良く製造し得る。
【００２１】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２２】実施例１ (1)アジン類の製造例 モレキュラシーブス４Ａを入れたソックスレイ抽出管を
取り付けたフラスコに、 3'-メトキシアセトフェノン 1
5.9g、p-トルエンスルホン酸一水和物 5mg、i-プロピル
アルコール 60gを入れた後、ヒドラジン一水和物 2.58g
を30分かけて加えた。 次いで、溶媒が還流するまで昇
温し、還流下に脱水しながら６時間反応を続けた。反応
後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾過することによ
り、3'- メトキシアセトフェノンアジンの(E,E)-体 12.
26g を得た。 濾液を濃縮することにより、(E,E)-体、
(E,Z)-体、(Z,Z)-体を含有する混合物 3.1g を得た。3'
- メトキシアセトフェノンアジンの収率は98％であっ
た。
取り付けたフラスコに、 3'-メトキシアセトフェノン 1
5.9g、p-トルエンスルホン酸一水和物 5mg、i-プロピル
アルコール 60gを入れた後、ヒドラジン一水和物 2.58g
を30分かけて加えた。 次いで、溶媒が還流するまで昇
温し、還流下に脱水しながら６時間反応を続けた。反応
後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾過することによ
り、3'- メトキシアセトフェノンアジンの(E,E)-体 12.
26g を得た。 濾液を濃縮することにより、(E,E)-体、
(E,Z)-体、(Z,Z)-体を含有する混合物 3.1g を得た。3'
- メトキシアセトフェノンアジンの収率は98％であっ
た。
【００２３】(E,E)-体の融点 94.5 〜95℃ (E,E)-体のNMR(270MHz CDCl3)1 H(ppm) 2.29(S,3H),3.87(S,3H),6.97(1H),7.34(1H),
7.45(1H),7.51(1H)13 C(ppm) 15.17,55.33,111.61,115.62,119.23,129.27,
139.80,157.18,159.59
7.45(1H),7.51(1H)13 C(ppm) 15.17,55.33,111.61,115.62,119.23,129.27,
139.80,157.18,159.59
【００２４】(2)アミン類の製造例 オートクレーブに、3'- メトキシアセトフェノンアジン
の(E,E)-体 3g、メタノール 10g、ラネーコバルト触媒
0.5g を入れ、水素 20 気圧、100 ℃で2 時間反応させ
た。冷却後、水素をパージし、反応マスを取り出してこ
れをガスクロマトグラフィーで分析した。3-メトキシ-
α- メチルベンジルアミンの収率は88.5％であった。
の(E,E)-体 3g、メタノール 10g、ラネーコバルト触媒
0.5g を入れ、水素 20 気圧、100 ℃で2 時間反応させ
た。冷却後、水素をパージし、反応マスを取り出してこ
れをガスクロマトグラフィーで分析した。3-メトキシ-
α- メチルベンジルアミンの収率は88.5％であった。
【００２５】実施例２ 窒素気流、攪拌下、3'- メトキシアセトフェノンアジン
の(E,E)-体 7.41g、テトラヒドロフラン40ml、水素化ホ
ウ素ナトリウム 2.46gからなる混合物を50℃まで昇温し
た後、同温度下、これに100 ％硫酸 3.19gとテトラヒド
ロフラン30mlからなる混合物を１時間かけて加えた。次
いで、80℃まで昇温して、同温度で５時間攪拌した。冷
却後、反応マスを取り出しガスクロマトグラフィーで分
析した。3-メトキシ- α- メチルベンジルアミンの収率
は88.3％であった。
の(E,E)-体 7.41g、テトラヒドロフラン40ml、水素化ホ
ウ素ナトリウム 2.46gからなる混合物を50℃まで昇温し
た後、同温度下、これに100 ％硫酸 3.19gとテトラヒド
ロフラン30mlからなる混合物を１時間かけて加えた。次
いで、80℃まで昇温して、同温度で５時間攪拌した。冷
却後、反応マスを取り出しガスクロマトグラフィーで分
析した。3-メトキシ- α- メチルベンジルアミンの収率
は88.3％であった。
【００２６】実施例３ 実施例１−(1) において、 3'-メトキシアセトフェノン
の代わりに、2',4'-ジクロロアセトフェノン20g 用いる
以外は、実施例１−(1) に準拠して実施し、反応マス
を、室温まで冷却した。析出した結晶を濾過することに
より、2',4'-ジクロロアセトフェノンアジンの(E,E)-体
10.92g を得た。 濾液を濃縮することにより(E,E)-
体、(E,Z)-体、(Z,Z)-体をそれぞれ0.9g、6.73g 、0.74
g 含有する混合物 8.37gを得た。2',4'- ジクロロアセ
トフェノンアジンの収率は97.5％であった。
の代わりに、2',4'-ジクロロアセトフェノン20g 用いる
以外は、実施例１−(1) に準拠して実施し、反応マス
を、室温まで冷却した。析出した結晶を濾過することに
より、2',4'-ジクロロアセトフェノンアジンの(E,E)-体
10.92g を得た。 濾液を濃縮することにより(E,E)-
体、(E,Z)-体、(Z,Z)-体をそれぞれ0.9g、6.73g 、0.74
g 含有する混合物 8.37gを得た。2',4'- ジクロロアセ
トフェノンアジンの収率は97.5％であった。
【００２７】(E,E)-体の融点 112 〜112.5 ℃ (E,E)-体のNMR(270MHz CDCl3)1 H(ppm) 2.23(S,3H), 7.3(1H), 7.4(1H), 7.45(1H)13 C(ppm) 19.1, 123.3, 129.8, 130.6, 132.9, 135.2,
137.4, 157.7
137.4, 157.7
【００２８】実施例４ 実施例１−(1) において、 3'-メトキシアセトフェノン
の代わりに、アセトフェノン 12.7g用いる以外は、実施
例１−(1) に準拠して実施することにより、アセトフェ
ノンアジンを得た。収率98.2％ 実施例１−(2) において、 3'-メトキシアセトフェノン
アジンの代わりに、アセトフェノンアジン3gを用いる以
外は、実施例１−(2) に準拠して実施することにより、
α- メチルベンジルアミンを得た。収率 89.5 ％であっ
た。
の代わりに、アセトフェノン 12.7g用いる以外は、実施
例１−(1) に準拠して実施することにより、アセトフェ
ノンアジンを得た。収率98.2％ 実施例１−(2) において、 3'-メトキシアセトフェノン
アジンの代わりに、アセトフェノンアジン3gを用いる以
外は、実施例１−(2) に準拠して実施することにより、
α- メチルベンジルアミンを得た。収率 89.5 ％であっ
た。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、Ｒ1,Ｒ2 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を、Ｒ3 は低級アルキル基を表す。 Ｘは単なる結合
又は低級アルキレン基を表す。)で示されるアジン類を
還元することを特徴とする一般式(II) （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘは前記と同じ意味を有す
る。）で示されるアミン類の製造方法。 - 【請求項２】アジン類として、一般式(III) （式中、Ｒ1,Ｒ2 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を、Ｒ3 は低級アルキル基を表す。 Ｘは単なる結合
又は低級アルキレン基を表す。)で示されるケトン類に
ヒドラジンを反応させて得られたアジン類を使用するこ
とを特徴とする請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】上記一般式(I) において、Ｘが単なる結
合、Ｒ1 が水素原子又はp-位のハロゲン原子であり、Ｒ
1 が水素の場合はＲ2 が、m-位の低級アルコキシ基、Ｒ
1 がp-位のハロゲン原子の場合はＲ2 が、o-位又はm-位
のハロゲン原子であるアジン類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20027996A JPH1045684A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | アジン類及びそれを用いるアミン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20027996A JPH1045684A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | アジン類及びそれを用いるアミン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1045684A true JPH1045684A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16421681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20027996A Withdrawn JPH1045684A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | アジン類及びそれを用いるアミン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1045684A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005534693A (ja) * | 2002-07-30 | 2005-11-17 | クラリアント（フランス） | 第一級アミン類の調製法 |
-
1996
- 1996-07-30 JP JP20027996A patent/JPH1045684A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005534693A (ja) * | 2002-07-30 | 2005-11-17 | クラリアント（フランス） | 第一級アミン類の調製法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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