JPH1044141A - Multiple wire saw and manufacture of wafer for solar cell using therewith - Google Patents

Multiple wire saw and manufacture of wafer for solar cell using therewith

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JPH1044141A
JPH1044141A JP8201445A JP20144596A JPH1044141A JP H1044141 A JPH1044141 A JP H1044141A JP 8201445 A JP8201445 A JP 8201445A JP 20144596 A JP20144596 A JP 20144596A JP H1044141 A JPH1044141 A JP H1044141A
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wire
wafer
cut
solar cell
semiconductor ingot
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正 利根川
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize semiconductor wafers having curves shapes by a method wherein a stage, on and to which a block to be cut is installed and fixed, can become movable also normal to the direction for approaching to and separating from a wire. SOLUTION: Under the condition that wire guides 3 are fixed, a stage 2, to which a workpiece 1 is fixed, is lowered by its driving part towards a wire 4 in order to cut the workpiece vertically. Further, the stage 2 is made movable to the longitudinal direction of the workpiece 1 or to the C- and D-directions. Concretely, by moving the stage 2 to the positionally fixed wire 4, a semiconductor ingot 1 fixed to the stage 2 is cut into the desired shapes such as semiconductor wafers having the curved surface shape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はマルチワイヤーソー
に関し、特に半導体インゴットをスライスし、ウエハを
製造する際に使用されるマルチワイヤーソーに関する。
また、マルチワイヤーソーを使用して、特に太陽電池用
ウエハを製造する製造方法に関する。
The present invention relates to a multi-wire saw, and more particularly to a multi-wire saw used for slicing a semiconductor ingot and manufacturing a wafer.
The present invention also relates to a method for manufacturing a solar cell wafer using a multi-wire saw.

【0002】[0002]

【従来の技術】マルチワイヤーソーは、半導体インゴッ
ト等を薄くスライスしてウエハを切り出すために一般的
に使用されており、通常、多数のワイヤーを有してい
る。このマルチワイヤーソーを使用して半導体インゴッ
トをスライスしてウエハを製造する場合、このマルチワ
イヤーソーのワイヤーは切断の対象物である半導体イン
ゴット等のワークに対して垂直に降下、または上昇して
切断するため、作成されたウエハの表面形状は平面とな
る。
2. Description of the Related Art A multi-wire saw is generally used for thinly slicing a semiconductor ingot or the like and cutting out a wafer, and usually has a large number of wires. When a wafer is manufactured by slicing a semiconductor ingot using this multi-wire saw, the wires of this multi-wire saw are cut vertically or vertically with respect to a workpiece such as a semiconductor ingot to be cut. Therefore, the surface shape of the created wafer is flat.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、日本
瓦に太陽電池を組み込んだ構造のものがあるが、この太
陽電池は平板状のものであり、日本瓦の湾曲形状に充分
対応できる構造のものではない。これは上述のように、
従来のマルチワイヤーソーを使用して半導体インゴット
を切断して製造したウエハは平板状になるためである。
そこで、例えばこのような日本瓦にも対応できるような
湾曲した形状の半導体ウエハが得られるようなマルチワ
イヤーソーがあれば非常に有用である。
In recent years, there is a structure in which a solar cell is incorporated into a Japanese tile, but this solar cell is a flat plate and has a structure which can sufficiently cope with the curved shape of the Japanese tile. Not something. This is, as mentioned above,
This is because a wafer manufactured by cutting a semiconductor ingot using a conventional multi-wire saw becomes a flat plate.
Therefore, for example, it is very useful to have a multi-wire saw capable of obtaining a semiconductor wafer having a curved shape capable of coping with such a Japanese tile.

【0004】また、平板状の半導体ウエハから製造され
る太陽電池は、以下のような問題点も有している。
A solar cell manufactured from a flat semiconductor wafer also has the following problems.

【0005】即ち、太陽電池の製造プロセスの中で、半
導体ウエハに対して、銀を主成分とし樹脂で練ったペー
ストを印刷の手法でコーティングし、電極形成する工程
がある。このコーティング後、炉の中でいわゆる焼成が
行われるが、この焼成時にはペーストが収縮するために
ウエハの反りが生じる。この反りはウエハの厚みが薄く
なればなる程大きくなる。
That is, in the manufacturing process of a solar cell, there is a step of coating a semiconductor wafer with a paste containing silver as a main component and kneading with a resin by a printing technique to form electrodes. After the coating, so-called baking is performed in a furnace. During this baking, the paste shrinks, and the wafer is warped. This warpage increases as the thickness of the wafer decreases.

【0006】そしてこの後の工程で、ウエハに電極を形
成した太陽電池セルの上部に透明なガラス、または樹脂
を貼り付け太陽電池モジュールとし、太陽電池としての
強度を持たせるようにしている。しかしながら、上記の
ようにウエハに反りが生じるとセル割れが生じやすく、
製品としての歩留まりが悪くなる。
In a subsequent step, a transparent glass or a resin is stuck on the upper part of the solar cell having the electrodes formed on the wafer to form a solar cell module so as to have strength as a solar cell. However, when the wafer is warped as described above, cell cracks are likely to occur,
The yield as a product deteriorates.

【0007】そこで、予めウエハ自体に焼成による反り
とは逆の方向に若干の反りがあれば、ウエハ割れの低減
を図ることができる。
Therefore, if the wafer itself has a slight warp in the direction opposite to the warp due to baking in advance, the wafer cracking can be reduced.

【0008】そこで、本発明の目的は、半導体インゴッ
トをスライスする際に、曲面を有する、あるいは湾曲し
た形状の半導体ウエハを製造できるようなマルチワイヤ
ーソー及びこのマルチワイヤーソーを使用した太陽電池
の製造方法を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a multi-wire saw capable of manufacturing a semiconductor wafer having a curved surface or a curved shape when slicing a semiconductor ingot, and a method of manufacturing a solar cell using the multi-wire saw. It is to provide a method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、被切断ブロックを複数のワイヤーによって
同時に切断するマルチワイヤーソーにおいて、前記ワイ
ヤー及び該ワイヤーを動作させるワイヤーガイドの位置
が固定される一方、前記被切断ブロックを搭載、固定す
るステージが前記ワイヤに対して近接、離間する動作が
可能とされ、且つ前記近接、離間する方向と直交する方
向への移動が可能とされたことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a multi-wire saw for simultaneously cutting a block to be cut with a plurality of wires, wherein a position of the wire and a wire guide for operating the wire are fixed. On the other hand, the stage for mounting and fixing the block to be cut can move close to and away from the wire, and can move in a direction orthogonal to the direction close to and away from the wire. It is characterized by.

【0010】また、被切断ブロックを搭載、固定するス
テージに対し、前記ワイヤー及び該ワイヤーを動作させ
るワイヤーガイドを前記被切断ブロックに対して近接、
離間する動作が可能とされ、且つ前記近接、離間する方
向と直交する方向への移動が可能とされたことを特徴と
する。
In addition, the wire and a wire guide for operating the wire are brought close to the stage to be mounted and fixed on the block to be cut.
It is characterized in that it is possible to perform a separating operation and to move in a direction orthogonal to the approaching and separating directions.

【0011】上記マルチワイヤーを使用した太陽電池用
ウエハの製造方法としては、半導体インゴットの厚み方
向に対して、マルチワイヤーソーによって切り込みを入
れ徐々にスライスしていき、半導体ウエハを得る太陽電
池用ウエハの製造方法において、前記厚み方向へのスラ
イスと同時に、前記半導体インゴットまたはワイヤーの
いづれかを該半導体インゴットの厚み方向と直交する長
手方向の一方向に移動をさせることによって、湾曲した
切断面を有する太陽電池用ウエハを得ることを特徴とす
る。
As a method for manufacturing a solar cell wafer using the above-mentioned multi-wire, a notch is cut in a thickness direction of a semiconductor ingot by a multi-wire saw, and the slice is gradually sliced to obtain a semiconductor wafer. In the manufacturing method of (1), simultaneously with slicing in the thickness direction, by moving either the semiconductor ingot or the wire in one longitudinal direction orthogonal to the thickness direction of the semiconductor ingot, the sun having a curved cut surface It is characterized by obtaining a battery wafer.

【0012】また、半導体インゴットの厚み方向へのス
ライスと同時に、前記半導体インゴットまたはワイヤー
のいづれかをその厚み方向と直交する長手方向の一方向
に移動させながら、前記半導体インゴットの厚みの1/
2までを切断する第1工程と、該第1工程に続いて、前
記半導体インゴットまたはワイヤーを前記長手方向の一
方向とは逆の方向に移動させ、半導体インゴットの厚み
の残りの1/2を切断する第2工程とを有することを特
徴とする。
In addition, at the same time as slicing the semiconductor ingot in the thickness direction, while moving either the semiconductor ingot or the wire in one longitudinal direction orthogonal to the thickness direction, the semiconductor ingot or the wire is moved to 1 / th of the thickness of the semiconductor ingot.
A first step of cutting the semiconductor ingot or the wire in a direction opposite to the one direction of the longitudinal direction, and the remaining half of the thickness of the semiconductor ingot is reduced following the first step. And a second step of cutting.

【0013】また、本発明の他の製造方法として、半導
体インゴットの厚み方向へのスライスと同時に、半導体
インゴットまたはワイヤーのいづれかを、前記半導体イ
ンゴットの厚み方向と直交する長手方向の一方向への微
少な移動と逆方向への微少な移動と繰り返し、切断面に
微細な凹凸を有する太陽電池用ウエハを得ることを特徴
とする。
Further, as another manufacturing method of the present invention, simultaneously with slicing in the thickness direction of the semiconductor ingot, one of the semiconductor ingot and the wire is finely divided in one longitudinal direction orthogonal to the thickness direction of the semiconductor ingot. This method is characterized by obtaining a solar cell wafer having fine irregularities on the cut surface by repeating a small movement in the opposite direction to a small movement.

【0014】以上のように、半導体インゴットまたはワ
イヤーを、半導体インゴットの厚み方向だけでなくその
長手方向にも移動が可能となるよう構成したマルチワイ
ヤーを備え、これによって、従来のスライスでは行わな
かった長手方向への移動も行いながらスライスするの
で、その断面形状は湾曲した形状となる。
As described above, the semiconductor ingot or the wire is provided with a multi-wire configured to be movable not only in the thickness direction of the semiconductor ingot but also in the longitudinal direction of the semiconductor ingot. Since the slice is performed while moving in the longitudinal direction, the cross-sectional shape becomes a curved shape.

【0015】このようにして得られた反りを有する湾曲
形状のウエハを、例えば太陽電池に使用すれば、従来で
あれば電極形成のための焼成等によって発生していたウ
エハ割れの発生率を低減でき、歩留まり向上に寄与でき
る。
If the thus obtained curved wafer having a warp is used in, for example, a solar cell, the rate of occurrence of wafer cracking which has conventionally been caused by firing for forming electrodes is reduced. And contribute to the improvement of the yield.

【0016】また、このように反りを有するウエハは例
えば日本瓦へ組み込む太陽電池用として適当である。
The warped wafer is suitable for a solar cell to be incorporated into, for example, a Japanese tile.

【0017】また、切断面に微細な凹凸を形成すること
で、従来、太陽電池用ウエハの表面に形成していた化学
的処理によるテクスチャ構造あるいは、機械的処理によ
る溝構造に替わる構造をウエハ切り出しの段階で形成で
きるので、製造工程の低減を図れコストダウンに寄与で
きる。
Further, by forming fine irregularities on the cut surface, the wafer can be cut out of a texture structure formed by chemical processing or a groove structure formed by mechanical processing, which has conventionally been formed on the surface of a solar cell wafer. In this case, the number of manufacturing steps can be reduced and the cost can be reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の一実施例について、図1
及び図2を参照して説明する。図1及び図2はそれぞ
れ、本実施例によるマルチワイヤーソーの概念を説明す
るための、半導体インゴットのスライス部を正面から見
た図及びその側面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG.
This will be described with reference to FIG. FIGS. 1 and 2 are a front view and a side view of a slice portion of a semiconductor ingot, respectively, for explaining the concept of the multi-wire saw according to the present embodiment.

【0019】図1及び図2において、ワーク(半導体イ
ンゴット)1はステージ2に固定されており、ワイヤー
ガイド3によって保持されているワイヤー4によって切
断される構造となっている。図中、5はワイヤー4に対
して砥粒及びオイルを供給するスラリーである。
In FIG. 1 and FIG. 2, a work (semiconductor ingot) 1 is fixed to a stage 2 and is cut by a wire 4 held by a wire guide 3. In the figure, reference numeral 5 denotes a slurry for supplying abrasive grains and oil to the wire 4.

【0020】ワイヤーガイド3は固定されており、ワー
ク1を縦方向に切断するために、ワーク1を固定したス
テージ2が図示しない駆動部によってワイヤー4に対し
て下降することによって行われる。さらに、ステージ2
がワーク1の長手方向、即ち、図2のC及びDの方向に
も移動可能となっている。つまり、位置的には固定され
ているワイヤ4ーに対してステージ2が移動することに
よって、このステージ2に固定されたワーク1が所望の
形状、ここでは曲面形状に切断されることが可能となっ
ている。
The wire guide 3 is fixed, and the stage 2 to which the work 1 is fixed is moved down by the drive unit (not shown) with respect to the wire 4 in order to cut the work 1 in the vertical direction. Stage 2
Can also be moved in the longitudinal direction of the work 1, that is, in the directions C and D in FIG. In other words, by moving the stage 2 with respect to the positionally fixed wire 4, the work 1 fixed to the stage 2 can be cut into a desired shape, here a curved shape. Has become.

【0021】実際の切断時は、A,B方向への切断と同
時にC,D方向へもステージ2を移動させることによっ
て、最終的に図3に示すように、複数個のウエハ6が各
々反った状態でステージ2にぶら下がったワーク1を得
るものである。これをさらに、ウエハ毎に個別に分断す
ることで図4に示すような湾曲した形状のウエハ6を得
る。
At the time of actual cutting, the stage 2 is moved in the directions C and D simultaneously with the cutting in the directions A and B, so that a plurality of wafers 6 are finally warped as shown in FIG. In this state, the workpiece 1 hanging on the stage 2 is obtained. This is further divided individually for each wafer to obtain a wafer 6 having a curved shape as shown in FIG.

【0022】具体的な切断条件等は以下のとおりであ
る。
The specific cutting conditions are as follows.

【0023】ここでは、最終的に得ようとするウエハ6
の反りの大きさを、50mm角(図4のm)のウエハに
対してウエハ中央部で1mmと設定した(図4のウエハ
6のlを1mmとなるようにする)。なお、ワイヤーは
直径が140μmのものを使用する。
Here, the wafer 6 to be finally obtained is
Was set to 1 mm at the center of the wafer for a 50 mm square (m in FIG. 4) wafer (1 of the wafer 6 in FIG. 4 was set to 1 mm). Note that a wire having a diameter of 140 μm is used.

【0024】以下、工程順に説明すると、まず、固定さ
れたワイヤガイド3及びワイヤー4に対して、ワーク1
を固定したステージ2を下降させる。この下降速度は5
10μm/minとした。これによって、ワーク1が切
断されていくが、この時、同時にステージ2をCの方向
へ移動させる。この移動速度V(t)は時間tの単位を
秒として V(t)=−5.4×10-8t+3.3×10-4 である。
In the following, the order of the steps will be described. First, the work 1 is fixed to the fixed wire guide 3 and wire 4.
Is lowered. This descent speed is 5
It was 10 μm / min. As a result, the work 1 is being cut. At this time, the stage 2 is simultaneously moved in the direction C. The moving speed V (t) is V (t) = − 5.4 × 10 −8 t + 3.3 × 10 −4 with the unit of the time t being seconds.

【0025】この速度で切断すると、100分後に10
0mmの幅の内、半分の50mmのスライスを完了し、
図4に示すように1mmの反りができる。
When cutting at this speed, 10 minutes after 100 minutes
Complete a half 50mm slice of the 0mm width,
As shown in FIG. 4, warpage of 1 mm occurs.

【0026】次に、この時点からステージ2をCとは逆
のDの方向に移動させることによって、さらに100分
後にワーク1の全てのスライスが完了することになる。
この工程によって、図3に示すように、複数個のウエハ
6が各々反った状態でステージ2にぶら下がった形状に
なる。より詳細には、個々のウエハ6(及びスライス前
のワーク1)はカーボンから構成された図示しない捨板
に接続され、この捨板がステージ2に対して接着剤によ
って接続されている。
Next, from this point, by moving the stage 2 in the direction D opposite to C, all the slices of the work 1 are completed after another 100 minutes.
As a result of this step, as shown in FIG. 3, the plurality of wafers 6 each have a shape that hangs on the stage 2 in a warped state. More specifically, each wafer 6 (and the work 1 before slicing) is connected to an unillustrated discard plate made of carbon, and this discard plate is connected to the stage 2 by an adhesive.

【0027】そして、上記スライス後、捨板を溶かす溶
剤に上記捨板及びウエハ6を浸けることによって、図4
に示すような単一のウエハを得る。
After the slicing, the discarded plate and the wafer 6 are immersed in a solvent for dissolving the discarded plate.
A single wafer is obtained as shown in FIG.

【0028】上記のようにして得られた、予め曲面を有
するウエハであれば、例えばこのウエハを太陽電池とし
て使用する場合であっても、ウエハ6の凸状部(図4の
E側)に銀ペーストをコーティングして焼成しても、こ
の焼成による収縮がウエハ6自体の元々の反りによって
軽減されるので、モジュール化するときの割れも大幅に
低減できる。例えば、従来であればスライスしたウエハ
300枚に対して8枚程度の割れが発生していたが、本
実施例によれば同じ300枚のウエハに対して割れが生
じる枚数を1枚前後に低減できた。
If the wafer obtained as described above has a curved surface in advance, for example, even when this wafer is used as a solar cell, the wafer 6 has a convex portion (E side in FIG. 4). Even if the silver paste is coated and fired, the shrinkage due to the firing is reduced by the original warpage of the wafer 6 itself, so that cracking when modularized can be greatly reduced. For example, in the related art, about eight cracks occurred in 300 sliced wafers, but according to the present embodiment, the number of cracks occurring in the same 300 wafers is reduced to about one. did it.

【0029】なお、上記実施例では100mm角のウエ
ハに対してウエハ中央部の反りを1.0mmmとなるよ
うにしたが、他の実施の目安としては、80mm〜20
0mm角または断面円状のウエハに対して、その対辺ま
たは直径に対して0.5〜2.5mmの反りを形成する
ことが可能である。
In the above embodiment, the warpage at the central portion of the wafer is set to 1.0 mm for a 100 mm square wafer.
It is possible to form a warp of 0.5 to 2.5 mm with respect to the opposite side or the diameter of a wafer having a 0 mm square or a circular cross section.

【0030】また、本実施例では、ワイヤーガイド3お
よびワイヤー4が固定され、ステージ2によってワーク
1の方を上下及び前後に移動させる構成としたが、逆に
ワーク1の方が固定されワイヤーガイド3及びワイヤー
4の方を移動させる構成としてもよい。しかし、切断動
作も行うワイヤー側を動かすよりは、上述の実施例のよ
うに、ワーク1の方を動かす方がマルチワイヤーソー全
体の構成も簡易となり、安定した切断動作ができる。
In this embodiment, the wire guide 3 and the wire 4 are fixed, and the work 1 is moved up and down and back and forth by the stage 2. However, the work 1 is fixed and the wire guide is fixed. It is good also as composition which moves 3 and wire 4 side. However, moving the work 1, as in the above-described embodiment, simplifies the configuration of the entire multi-wire saw and enables a stable cutting operation, rather than moving the wire side that also performs the cutting operation.

【0031】以上のようにして、反りを有する湾曲した
ウエハを作成することができるが、さらに以下の工程を
付加することによって、従来別工程で形成していた太陽
電池の反射防止構造を同時に形成することができる。
As described above, a curved wafer having a warp can be produced. However, by adding the following steps, the anti-reflection structure of the solar cell conventionally formed in another step can be simultaneously formed. can do.

【0032】即ち、上述した、反りを得るためのステー
ジ2のC−D方向の動作に加え、さらに微少なC−D方
向の動作を行うことによって、ウエハ表面に微細な凹凸
形状を設けることができる。
That is, in addition to the above-described operation of the stage 2 for obtaining the warp in the CD direction, a finer CD-to-D operation is performed to provide fine irregularities on the wafer surface. it can.

【0033】具体的には、図5に示すように、ステージ
2を510μm/minの速度で5秒間の降下、5秒間
の停止を行う。そして、この5秒間の停止時間中に、ス
テージ2をC方向へ32μm/Sの速度で2.5秒間移
動させ、次いで逆方向のD方向へ同じ32μm/Sの速
度で2.5秒間移動させる。以下、この5秒間の停止中
における動作を繰り返すことによって、ワーク1の表面
に凹部7が多数形成され凹凸を有する表面とすることが
できる。この実施例によって得られる凹部ピッチ間隔は
150μm、深さは80μmである。他の実施例の目安
としては、凹部ピッチ間隔が40〜160μm、深さは
3〜80μm程度である。
Specifically, as shown in FIG. 5, the stage 2 is lowered at a speed of 510 μm / min for 5 seconds and stopped for 5 seconds. Then, during the stop time of 5 seconds, the stage 2 is moved in the direction C at a speed of 32 μm / S for 2.5 seconds, and then moved in the opposite direction D at the same speed of 32 μm / S for 2.5 seconds. . Hereinafter, by repeating the operation during the stop for 5 seconds, the surface of the work 1 can be formed as a surface having a large number of recesses 7 and having irregularities. The pitch interval between the concave portions obtained by this embodiment is 150 μm, and the depth is 80 μm. As a guide for another embodiment, the pitch between the concave portions is about 40 to 160 μm, and the depth is about 3 to 80 μm.

【0034】このようにウエハ表面に凹凸を形成する
と、太陽電池として使用した場合、単に平坦なウエハを
使用した場合に比較して、光電変換効率で約0.2%向
上させることができた。
By forming the irregularities on the wafer surface as described above, it was possible to improve the photoelectric conversion efficiency by about 0.2% when used as a solar cell, as compared with the case where a flat wafer was used.

【0035】従来、太陽電池において太陽光のエネルギ
ー吸収率を向上させるためには、製造プロセスにおいて
ウエハの表面を化学的に処理することによって、いわゆ
るテクスチャー構造を表面に形成したり、ダイシング装
置によって機械的にウエハ表面に溝を形成し太陽光をセ
ル内部に閉じ込める工夫がなされていた。しかしながら
これらの作業は当然のことながら、スライス工程とは別
の工程で行っており、工程数、作業量が多くなるという
問題を有していた。
Conventionally, in order to improve the energy absorption of sunlight in a solar cell, a so-called texture structure is formed on the surface by chemically treating the surface of the wafer in a manufacturing process, or a mechanical structure is formed by a dicing apparatus. A method has been devised to form a groove on the wafer surface and confine sunlight inside the cell. However, as a matter of course, these operations are performed in a step different from the slicing step, and there is a problem that the number of steps and the amount of work are increased.

【0036】この点、本実施例によれば、半導体インゴ
ットからのウエハの切り出しと同時に、ウエハ表面への
凹凸形状の形成もできるので、工程数、作業量の低減を
図れる。
In this regard, according to the present embodiment, since the wafer can be cut out of the semiconductor ingot and the uneven shape can be formed on the wafer surface at the same time, the number of steps and the amount of work can be reduced.

【0037】なお、本実施例においては、ワイヤーとし
て直径が140μmのものを使用したが、さらに小さい
径のものを使用すれば、よりピッチ間隔、凹凸の深さの
制御を行い易くなる。
In this embodiment, a wire having a diameter of 140 μm is used as a wire. However, if a wire having a smaller diameter is used, the pitch interval and the depth of unevenness can be more easily controlled.

【0038】また、この表面に凹凸を形成する方法は、
反りを有しない従来構造のウエハに対しても適用可能な
ことは言うまでもない。
In addition, a method for forming irregularities on this surface is as follows.
It is needless to say that the present invention can be applied to a wafer having a conventional structure having no warp.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマルチワ
イヤーソーによれば、半導体インゴットから反りを有す
るような湾曲したウエハを切り出すことができる。これ
によって、例えば日本瓦に組み込む太陽電池を作成する
ような場合でも、その瓦形状に対応できるウエハを製造
でき、しかも、太陽電池製造のプロセスにおいてもウエ
ハ割れの低減を図れる。
As described above, according to the multi-wire saw of the present invention, a curved wafer having a warp can be cut out from a semiconductor ingot. Thus, for example, even when a solar cell to be incorporated into a Japanese tile is to be manufactured, a wafer that can cope with the tile shape can be manufactured, and further, wafer cracking can be reduced in the solar cell manufacturing process.

【0040】また、ウエハ表面の微細な凹凸形状も形成
することができる。これによって、例えばウエハを太陽
電池に使用する場合であれば、従来は、表面の反射防止
構造を実現するためのテクスチャー構造や溝構造を化学
的処理、機械的処理等によって形成していたが、ウエハ
の切り出し時に同時に形成できるので、工程数の低減を
図れる。
Further, fine irregularities on the wafer surface can also be formed. Thereby, for example, in the case of using a wafer for a solar cell, conventionally, a texture structure and a groove structure for realizing a surface anti-reflection structure were formed by chemical treatment, mechanical treatment, etc. Since it can be formed at the same time as the wafer is cut out, the number of steps can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例によるマルチワイヤーソーの
構成を説明するための正面図。
FIG. 1 is a front view for explaining a configuration of a multi-wire saw according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例によるマルチワイヤーソーの
構成を説明するための側面図。
FIG. 2 is a side view for explaining a configuration of a multi-wire saw according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明のマルチワイヤーソーによってインゴッ
トをスライスした状態を示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a state where an ingot is sliced by the multi-wire saw of the present invention.

【図4】本発明によって得られたウエハ単体の断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of a single wafer obtained by the present invention.

【図5】本発明の一実施例によるウエハ表面の凹凸形状
の製造方法を説明するための断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing an uneven shape on a wafer surface according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体インゴット 2 ステージ 3 ワイヤーガイド 4 ワイヤー 7 凹部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor ingot 2 Stage 3 Wire guide 4 Wire 7 Recess

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被切断ブロックを複数のワイヤーによっ
て同時に切断するマルチワイヤーソーにおいて、 前記ワイヤー及び該ワイヤーを動作させるワイヤーガイ
ドの位置が固定される一方、前記被切断ブロックを搭
載、固定するステージが前記ワイヤに対して近接、離間
する動作が可能とされ、且つ前記近接、離間する方向と
直交する方向への移動が可能とされたことを特徴とする
マルチワイヤーソー。
1. A multi-wire saw for simultaneously cutting a block to be cut by a plurality of wires, wherein a position of the wire and a wire guide for operating the wire is fixed, and a stage for mounting and fixing the block to be cut is provided. A multi-wire saw, wherein an operation of approaching and separating from the wire is enabled, and a movement in a direction orthogonal to the direction of approaching and separating is enabled.
【請求項2】 被切断ブロックを複数のワイヤーによっ
て同時に切断するマルチワイヤーソーにおいて、 前記被切断ブロックを搭載、固定するステージに対し、
前記ワイヤー及び該ワイヤーを動作させるワイヤーガイ
ドを前記被切断ブロックに対して近接、離間する動作が
可能とされ、且つ前記近接、離間する方向と直交する方
向への移動が可能とされたことを特徴とするマルチワイ
ヤーソー。
2. A multi-wire saw for simultaneously cutting a block to be cut by a plurality of wires, wherein a stage for mounting and fixing the block to be cut is:
The wire and a wire guide for operating the wire can be moved toward and away from the block to be cut, and can be moved in a direction perpendicular to the direction of the approach and separation. And a multi-wire saw.
【請求項3】 半導体インゴットの厚み方向に対して、
マルチワイヤーソーによって切り込みを入れ徐々にスラ
イスしていき、半導体ウエハを得る太陽電池用ウエハの
製造方法において、 前記厚み方向へのスライスと同時に、前記半導体インゴ
ットまたはワイヤーのいづれかを該半導体インゴットの
厚み方向と直交する長手方向の一方向に移動をさせるこ
とによって、湾曲した切断面を有する太陽電池用ウエハ
を得ることを特徴とする太陽電池用ウエハの製造方法。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
In a method for manufacturing a solar cell wafer, in which a notch is cut by a multi-wire saw and gradually sliced to obtain a semiconductor wafer, simultaneously with the slicing in the thickness direction, either the semiconductor ingot or the wire is sliced in the thickness direction of the semiconductor ingot. A method for manufacturing a solar cell wafer, characterized in that a solar cell wafer having a curved cut surface is obtained by moving the solar cell wafer in one longitudinal direction perpendicular to the vertical direction.
【請求項4】 半導体インゴットの厚み方向に対して、
マルチワイヤーソーによって切り込みを入れ徐々にスラ
イスしていき、半導体ウエハを得る太陽電池用ウエハの
製造方法において、 前記厚み方向へのスライスと同時に、前記半導体インゴ
ットまたはワイヤーのいづれかをその厚み方向と直交す
る長手方向の一方向に移動させながら、前記半導体イン
ゴットの厚みの1/2までを切断する第1工程と、 該第1工程に続いて、前記半導体インゴットまたはワイ
ヤーを前記長手方向の一方向とは逆の方向に移動させ、
半導体インゴットの厚みの残りの1/2を切断する第2
工程とを、有することを特徴とする太陽電池用ウエハの
製造方法。
4. A semiconductor device according to claim 1, wherein:
In a method for manufacturing a solar cell wafer, in which a cut is made by a multi-wire saw and gradually sliced to obtain a semiconductor wafer, at the same time as slicing in the thickness direction, either the semiconductor ingot or the wire is orthogonal to the thickness direction. A first step of cutting up to half the thickness of the semiconductor ingot while moving the semiconductor ingot in one direction in the longitudinal direction; and following the first step, the semiconductor ingot or the wire is moved in one direction in the longitudinal direction. Move in the opposite direction,
The second to cut the remaining half of the thickness of the semiconductor ingot
And a method for manufacturing a solar cell wafer.
【請求項5】 半導体インゴットの厚み方向に対して、
マルチワイヤーソーによって切り込みを入れ徐々にスラ
イスしていき、半導体ウエハを得る太陽電池用ウエハの
製造方法において、 前記厚み方向へのスライスと同時に、前記半導体インゴ
ットまたはワイヤーのいづれかを、前記半導体インゴッ
トの厚み方向と直交する長手方向の一方向への微少な移
動と逆方向への微少な移動と繰り返し、切断面に微細な
凹凸を有する太陽電池用ウエハを得ることを特徴とする
太陽電池用ウエハの製造方法。
5. The semiconductor ingot according to claim 1, wherein:
In a method for manufacturing a solar cell wafer, in which a cut is made by a multi-wire saw and gradually sliced to obtain a semiconductor wafer, simultaneously with the slicing in the thickness direction, either the semiconductor ingot or the wire is subjected to the thickness of the semiconductor ingot. Manufacturing a solar cell wafer characterized by obtaining a solar cell wafer having fine irregularities on a cut surface by repeating a minute movement in one direction in a longitudinal direction perpendicular to the direction and a minute movement in a reverse direction. Method.
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