JPH1039132A - Production of color filter for liquid crystal display - Google Patents

Production of color filter for liquid crystal display

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JPH1039132A
JPH1039132A JP19490196A JP19490196A JPH1039132A JP H1039132 A JPH1039132 A JP H1039132A JP 19490196 A JP19490196 A JP 19490196A JP 19490196 A JP19490196 A JP 19490196A JP H1039132 A JPH1039132 A JP H1039132A
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JP
Japan
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light
color filter
filter
laser
interference
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JP19490196A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinjiro Umeya
慎次郎 梅屋
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method for a color filter for liquid crystal display by which a color filter having excellent color characteristics, little dependence on a visual angle and high performance such as fast response of an LCD can be produced in a simple processes at a low cost. SOLUTION: A filter agent 1 comprising a photosensitive polymer material is applied on a substrate 10 in a filter agent applying process (A) and then dried in a drying process (B). Then, the filter agent 1 is irradiated with laser L1 of red light R through a mask 13 in an exposing process (C) for a red color R so that the reflected laser L1 interferes with irradiating laser L1. By this method, a R part R1 having a layer with different refractive index in the interference part is formed just under the mask hole 13a. After exposing processes (D) and (E) for green G and blue B colors are successively carried out, the filter layer is fixed in a fixing process (F). Thereby, an interference color filter 30 having the R part R1 where only red light is reflected, the G part G1 where only green light is reflected and the B part B1 where only blue light is reflected can be produced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、LCD(液晶ディ
スプレイ)の色選別に用いられる液晶ディスプレイ用カ
ラーフィルターの製造方法に関し、特に、干渉型及び透
過型のカラーフィルターの製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display used for color selection of an LCD (liquid crystal display), and more particularly to a method of manufacturing an interference type and a transmission type color filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーフィルターは、LCDの重要な部
品であり、LCDのローコスト化と高速応答性などの高
性能化の鍵を握っている。カラーフィルターは、吸収型
カラーフィルターと干渉型カラーフィルターとの2種類
に大別することができる。
2. Description of the Related Art A color filter is an important component of an LCD, and holds a key to high performance such as low cost and high speed response of the LCD. Color filters can be broadly classified into two types: absorption type color filters and interference type color filters.

【0003】吸収型カラーフィルターは、染料,顔料の
光の吸収を利用したものである。染料の光の吸収を利用
した吸収型カラーフィルターは、染色法によるフォトリ
ソグラフィによって製造される。すなわち、感光性高分
子にマスクを使ってパターニングした後、染料によって
染色することで製造される。また、顔料の光の吸収を利
用した吸収型カラーフィルターは、顔料分散法によるフ
ォトリソグラフィによって製造される。すなわち、予め
感光性高分子中に顔料を分散させておき、それをマスク
を使ってパターニングすることで製造される。
An absorption type color filter utilizes light absorption of a dye or a pigment. An absorption type color filter utilizing light absorption of a dye is manufactured by photolithography by a dyeing method. That is, it is manufactured by patterning a photosensitive polymer using a mask and then dyeing it with a dye. Further, an absorption type color filter utilizing light absorption of a pigment is manufactured by photolithography using a pigment dispersion method. That is, it is manufactured by previously dispersing a pigment in a photosensitive polymer and patterning it with a mask.

【0004】干渉型カラーフィルターは、図11に示す
ように、ZnS等の高屈折率の薄膜9aとNa3AlF6
等の低屈折率の薄膜9bとを、1/4波長の光学厚さで
交互に積層した構造になっており、入射した光が、2種
類の薄膜9a,9bの界面で反射と干渉を繰り返し、特
定波長の光だけが強められて外部に取り出されるように
なっている。したがって、フィルター特性を上げるため
には、積層する薄膜9a,9bを増やす必要があり、通
常は10層程度のものから数10層に及ぶものまで存在
する。
As shown in FIG. 11, an interference type color filter is composed of a thin film 9a of high refractive index such as ZnS and Na3AlF6.
And the like and a low refractive index thin film 9b having a quarter-wave optical thickness are alternately laminated, and the incident light repeatedly reflects and interferes at the interface between the two types of thin films 9a and 9b. Only light of a specific wavelength is enhanced and extracted to the outside. Therefore, in order to improve the filter characteristics, it is necessary to increase the number of thin films 9a and 9b to be laminated, and there are usually about 10 layers to several tens layers.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
のカラーフィルターでは、次のような問題がある。吸収
型カラーフィルターでは、加工精度の高いものが製造さ
れるが、製造工程が複雑である。図13は、顔料の光の
吸収を利用した吸収型カラーフィルターの製造方法を示
す。すなわち、図13に示すように、まず、ブラックマ
トリックス基盤10上に、フィルター剤11を塗布する
フィルター剤塗布工程を行い、しかる後、酸素遮蔽剤1
2をフィルター剤11の上に塗布する酸素遮蔽剤塗布工
程を行う。そして、乾燥工程を経た後、マスク13を介
して、光を照射する露光工程を行い、現像工程及び乾
燥,定着工程とを施すことにより、例えばR(赤)部分
14を形成する。このような一連の工程を繰り返して、
G(緑)部分15とB(青)部分16とを形成し、オー
バーコート剤塗布工程と乾燥工程とを経て、オーバーコ
ート剤17で覆われた吸収型カラーフィルター20を製
造するのである。このように、従来の吸収型カラーフィ
ルターを製造するには、フィルター剤塗布工程から乾
燥,定着工程にいたる複雑な工程を、R,G,B部分1
4〜16形成のために、3回も繰り返さなければならな
い。このため、製造コストが著しく高くついていた。ま
た、高価な色素材料を不効率に使用するので、製造コス
トが高くついてしまう。さらに、オーバーコート剤17
表面の凸凹が、LCDのパネルギャップの狭小化を妨げ
るので、高速応答性など、LCDの高性能化が困難であ
った。
However, the above-mentioned conventional color filters have the following problems. Although an absorption type color filter is manufactured with high processing accuracy, the manufacturing process is complicated. FIG. 13 shows a method of manufacturing an absorption type color filter utilizing the light absorption of a pigment. That is, as shown in FIG. 13, first, a filter agent application step of applying a filter agent 11 on the black matrix substrate 10 is performed.
An oxygen shielding agent application step of applying 2 on the filter agent 11 is performed. After the drying step, an exposure step of irradiating light through the mask 13 is performed, and a developing step and a drying and fixing step are performed to form, for example, an R (red) portion 14. By repeating such a series of steps,
The G (green) portion 15 and the B (blue) portion 16 are formed, and an absorption color filter 20 covered with the overcoat agent 17 is manufactured through an overcoat agent application step and a drying step. As described above, in order to manufacture a conventional absorption type color filter, a complicated process from a filter agent application process to a drying and fixing process is performed in the R, G, and B portions 1.
It must be repeated three times for forming 4-16. For this reason, the manufacturing cost is extremely high. Further, since expensive dye materials are used inefficiently, the manufacturing cost is high. Furthermore, overcoat agent 17
Since the unevenness of the surface prevents the narrowing of the panel gap of the LCD, it has been difficult to improve the performance of the LCD such as high-speed response.

【0006】これに対して、干渉型カラーフィルター
は、吸収型カラーフィルターに比べると、フィルター特
性が良く且つ透過率が高いという長所がある。しかしな
がら、ZnSとNa3AlF6というような薄膜を、スパ
ッタリングなどの製膜プロセスによって積層することで
製造するので、製造コストが非常に高くついてしまう。
また、フィルタリングする光の波長毎に構造を設計し直
す必要がある。したがって、R(赤),G(緑),B
(青)の3色タイプのフィルターを製造する場合には、
複雑なリソグラフィプロセスが必要となる。また、吸収
型カラーフィルターほどではないが、構造の違いによっ
て生じる表面の凸凹がLCDの高性能化の妨げとなって
いる。さらに、干渉を利用して、色選別を行う構造であ
るので、視角依存性が大きい。このため、設計と異なる
見方をすると、色特性が劣化してしまう。
[0006] On the other hand, the interference type color filter has advantages that the filter characteristics are better and the transmittance is higher than the absorption type color filter. However, since thin films such as ZnS and Na3AlF6 are manufactured by laminating them by a film forming process such as sputtering, the manufacturing cost is extremely high.
Further, it is necessary to redesign the structure for each wavelength of the light to be filtered. Therefore, R (red), G (green), B
When manufacturing a filter of three colors (blue),
A complicated lithography process is required. Further, although not as large as the absorption type color filter, the unevenness of the surface caused by the difference in the structure hinders the high performance of the LCD. Furthermore, since the structure is such that color selection is performed by utilizing interference, the visual angle dependency is large. For this reason, when viewed differently from the design, the color characteristics deteriorate.

【0007】本発明は上述した課題を解決するためにな
されたもので、簡単な工程により、色特性が優れ且つL
CDの高速応答性などの高性能化が可能で、しかも視角
依存性が少ないカラーフィルターを安価に製造すること
ができる液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方
法を提供することを目的としている。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has excellent color characteristics and L
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display, which can improve the performance of a CD such as a high-speed response and can manufacture a color filter having little viewing angle dependence at low cost.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明に係る液晶ディスプレイ用カラーフ
ィルターの製造方法は、感光性高分子材料に特定波長の
光を照射して、この光を上記感光性高分子材料内で干渉
させることにより、非干渉部分の屈折率と異なる屈折率
を有した層を光が強められる干渉部分に形成する露光工
程と、上記露光工程で形成した上記層を固定する固定工
程とを具備する構成とした。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to the present invention comprises irradiating a photosensitive polymer material with light having a specific wavelength. By causing light to interfere in the photosensitive polymer material, an exposure step of forming a layer having a refractive index different from the refractive index of a non-interference part in an interference part where light is enhanced, and the exposure step formed in the exposure step And a fixing step of fixing the layer.

【0009】請求項2の発明は、請求項1に記載の液晶
ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法において、
上記露光工程は、異なる波長の複数の光を順次照射し
て、各光を上記感光性高分子材料内で各々干渉させるこ
とにより、屈折率が異なる複数の層を各光の干渉部分に
形成するものである構成とした。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to the first aspect.
The exposing step is to sequentially irradiate a plurality of lights of different wavelengths and cause each light to interfere with each other in the photosensitive polymer material, thereby forming a plurality of layers having different refractive indices on the interference portions of each light. Configuration.

【0010】上記請求項1の発明によれば、露光工程に
おいて、特定波長の光が感光性高分子材料に照射され、
その干渉により、非干渉部分の屈折率と異なる屈折率の
層が干渉部分に形成される。そして、固定工程におい
て、その層が固定されて、カラーフィルターが製造され
る。白色光をこのカラーフィルターに照射すると、上記
特定波長の光が上記層の界面において反射,干渉を繰り
返し、白色光照射側から出てくる。したがって、製造さ
れたカラーフィルターは、干渉型カラーフィルターとし
て使用することができる。
According to the first aspect of the invention, in the exposure step, light of a specific wavelength is irradiated on the photosensitive polymer material,
Due to the interference, a layer having a refractive index different from that of the non-interfering portion is formed in the interfering portion. Then, in the fixing step, the layer is fixed, and the color filter is manufactured. When white light is applied to this color filter, the light of the specific wavelength repeats reflection and interference at the interface between the layers, and emerges from the white light irradiation side. Therefore, the manufactured color filter can be used as an interference type color filter.

【0011】請求項2の発明によれば、露光工程におい
て、異なる波長の複数の光が感光性高分子材料に順次照
射され、屈折率が異なる複数の層が各光の干渉部分に形
成される。そして、白色光をこのカラーフィルターに照
射すると、各光が各光の干渉部分に形成された層の界面
で反射,干渉を繰り返して、白色光照射側から出てく
る。したがって、製造されたカラーフィルターは、複数
光を同時にフィルタリングする干渉型カラーフィルター
として使用することができる。また、このカラーフィル
ターは、上記異なる波長の光以外の光を透過させるの
で、この光をフィルタリングする透過型カラーフィルタ
ーとしても使用することができる。
According to the second aspect of the present invention, in the exposure step, a plurality of light beams having different wavelengths are sequentially irradiated on the photosensitive polymer material, and a plurality of layers having different refractive indexes are formed at the interference portions of the respective light beams. . Then, when white light is applied to this color filter, each light repeatedly reflects and interferes at the interface of the layer formed at the interference portion of each light, and comes out from the white light irradiation side. Therefore, the manufactured color filter can be used as an interference color filter that filters a plurality of lights simultaneously. Further, since this color filter transmits light other than the light having the different wavelength, it can be used as a transmission color filter for filtering this light.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。 (第1の実施形態)まず、本発明の第1の実施形態に係
る液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法につ
いて説明する。本実施形態は、単色光用の干渉型カラー
フィルターの製造方法であり、図1はその工程図であ
る。なお、図13に示した部材と同一部材については同
一符号を付して説明する。図1に示すように、本実施形
態の製造方法は、フィルター剤塗布工程Aと乾燥工程B
とR露光工程CとG露光工程DとB露光工程Eと定着,
固定工程Fとでなる。本製造方法に用いられる基盤は、
ブラックマトリックス基盤10であり、ガラス10a上
に、格子状又はスプライト状のブラックマトリックス線
10bが形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) First, a method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention will be described. The present embodiment is a method for manufacturing an interference type color filter for monochromatic light, and FIG. 1 is a process diagram thereof. The same members as those shown in FIG. 13 are described with the same reference numerals. As shown in FIG. 1, the manufacturing method of the present embodiment includes a filter agent applying step A and a drying step B.
, R exposure step C, G exposure step D, B exposure step E and fixing,
This is the fixing step F. The base used in this manufacturing method is
This is a black matrix substrate 10, on which a grid or sprite black matrix line 10b is formed on a glass 10a.

【0013】まず、フィルター剤塗布工程Aにおいて、
上記基盤10上にフィルター剤1を塗布する。このフィ
ルター剤1は、感光性高分子材料であるデュポン社製の
「OMNI−DEX」である。そして、乾燥工程Bにお
いて、塗布したフィルター剤1を乾燥した後、R露光工
程Cに移行する。
First, in the filter agent application step A,
The filter agent 1 is applied on the base 10. The filter agent 1 is “OMNI-DEX” manufactured by DuPont, which is a photosensitive polymer material. Then, in the drying step B, after the applied filter agent 1 is dried, the process proceeds to the R exposure step C.

【0014】R露光工程Cにおいては、図2に示すホロ
グラム(hologram)装置2が用いられる。ホロ
グラム装置2は、レーザー発振器3とミラー4とシャッ
ター5とビームエキスパンダー6と台座7とを具備して
いる。レーザー発振器3は、波長647(nm)のKr
(クリプトン)レーザーL1と、波長514(nm)の
Ar(アルゴン)レーザーL2と、波長488(nm)の
ArレーザーL3とを選択的に発振可能な機器である。ま
た、台座7上には、反射面をビームエキスパンダー6側
に向けたミラー8が取り付けられている。R露光工程C
では、乾燥工程Bを終了した基盤10をこのミラー8の
上に固定することにより、基盤10をミラー8とマスク
13との間に介在させて露光する。具体的には、レーザ
ーL1をレーザー発振器3から例えば500mJ/平方
センチメートルのパワーで発振し、ミラー4で反射した
レーザーL1をシャッター5で絞った後、ビームエキス
パンダー6で平行光にし、このレーザーL1をマスク1
3を介して、基盤10のフィルター剤1の表面に90度
の角度で入射させる。
In the R exposure step C, a hologram device 2 shown in FIG. 2 is used. The hologram device 2 includes a laser oscillator 3, a mirror 4, a shutter 5, a beam expander 6, and a pedestal 7. The laser oscillator 3 has a Kr of wavelength 647 (nm).
This device is capable of selectively oscillating a (krypton) laser L1, an Ar (argon) laser L2 having a wavelength of 514 (nm), and an Ar laser L3 having a wavelength of 488 (nm). A mirror 8 having a reflecting surface facing the beam expander 6 is mounted on the base 7. R exposure step C
Then, the substrate 10 after the drying step B is fixed on the mirror 8 so that the substrate 10 is exposed between the mirror 8 and the mask 13 for exposure. Specifically, the laser L1 is oscillated from the laser oscillator 3 at a power of, for example, 500 mJ / cm 2, the laser L1 reflected by the mirror 4 is squeezed by the shutter 5, and then collimated by the beam expander 6, and the laser L1 is masked. 1
3, the light is incident on the surface of the filter agent 1 of the base 10 at an angle of 90 degrees.

【0015】図3に示すように、レーザーL1が基盤1
0のフィルター剤1に入射すると、レーザーL1は、フ
ィルター剤1とガラス10aとを通過してミラー8に至
り、反射される。したがって、入射レーザーL1と反射
レーザーL1との干渉現象がフィルター剤1内で発生す
ることとなる。ところで、フィルター剤1であるデュポ
ン社製の「OMNI−DEX」は、図4の(a)に示す
ように、初期状態では、モノマー1aがマトリックスポ
リマー1bに均一に分散している。そして、上記のよう
に、レーザーL1がこのフィルター剤1内で干渉する
と、図4の(b)に示すように、モノマー1aが、光が
強められた干渉部分に移動し、重合反応を起こす。した
がって、モノマー1aの濃度が場所によって変わり、屈
折率変調が生じする。すなわち、斜線を施した重合反応
済みのモノマー1a´の層がレーザーL1の1/2波長
(323.5nm)の間隔で多数形成される。この結
果、屈折率が異なる層が交互に積層された状態になり、
図1に示すマスク孔13a真下のフィルター剤1部分
に、323.5nm間隔のモノマー1a´の層を有した
R部分R1が形成される。これにより、図1のR露光工
程Cが終了し、G露光工程Dに移行する。
[0015] As shown in FIG.
When the laser light L1 is incident on the filter material 1 of No. 0, the laser beam L1 passes through the filter material 1 and the glass 10a, reaches the mirror 8, and is reflected. Therefore, an interference phenomenon between the incident laser L1 and the reflected laser L1 occurs in the filter agent 1. By the way, as shown in FIG. 4 (a), the monomer 1a is uniformly dispersed in the matrix polymer 1b in "OMNI-DEX" manufactured by DuPont, which is the filter agent 1. Then, as described above, when the laser L1 interferes in the filter agent 1, as shown in FIG. 4 (b), the monomer 1a moves to the interference portion where the light is intensified, causing a polymerization reaction. Therefore, the concentration of the monomer 1a changes depending on the location, and the refractive index modulation occurs. That is, a large number of hatched layers of the polymerization-reacted monomer 1a 'are formed at an interval of a half wavelength (323.5 nm) of the laser L1. As a result, layers having different refractive indices are alternately stacked,
An R portion R1 having a layer of the monomer 1a 'at an interval of 323.5 nm is formed in a portion of the filter agent 1 immediately below the mask hole 13a shown in FIG. Thus, the R exposure step C in FIG. 1 is completed, and the process proceeds to the G exposure step D.

【0016】G露光工程Dにおいては、マスク孔13a
の位置をずらし、レーザーL2を、例えば30mJ/平
方センチメートルのパワーで図2のレーザー発振器3か
ら発振する。これにより、レーザーL1の場合と同様
に、モノマー1a´の層が1/2波長(257nm)の
間隔で形成される。この結果、かかる層を有したG部分
G1がマスク孔13aの真下に形成され、B露光工程E
への移行が行われる。B露光工程Eにおいても、R露光
工程C,G露光工程Dとほぼ同様に、パワーが例えば2
5mJ/平方センチメートルのレーザーL3をレーザー
発振器3から発振することで、1/2波長(244n
m)の間隔のモノマー1a´層を有したB部分B1がマ
スク孔13aの真下に形成される。かかるG露光工程D
の終了後、定着,固定工程Fに移行する。
In the G exposure step D, the mask holes 13a
The laser L2 is oscillated from the laser oscillator 3 shown in FIG. 2 at a power of, for example, 30 mJ / cm 2. Thereby, similarly to the case of the laser L1, the layers of the monomer 1a 'are formed at an interval of a half wavelength (257 nm). As a result, a G portion G1 having such a layer is formed immediately below the mask hole 13a, and the B exposure step E
The transition to is performed. In the B exposure step E, as in the R exposure step C and the G exposure step D, the power is 2
By oscillating a laser L3 of 5 mJ / square centimeter from the laser oscillator 3, a half wavelength (244n
The B portion B1 having the monomer 1a 'layer at the interval m) is formed immediately below the mask hole 13a. G exposure step D
After the completion of the above, the process proceeds to the fixing and fixing step F.

【0017】定着,固定工程Fは、モノマー1aの重合
を完了させる工程である。すなわち、図4の(b)に示
すように、レーザーL1〜L3の照射だけでは、未反応の
モノマー1aが多少残存する。したがって、100mJ
/平方センチメートルの紫外光UV(または可視光)を
フィルター剤1の全面に照射することにより、未反応の
モノマー1aを反応させて重合を完了する。さらに、フ
ィルター剤1の部分を例えば120°Cの温度で2時間
加熱して、屈折率変調度の増強を行う。これにより、R
部分R1,G部分G1,B部分B1を有した干渉型カラ
ーフィルター30が製造される。
The fixing and fixing step F is a step for completing the polymerization of the monomer 1a. That is, as shown in FIG. 4B, only the irradiation of the lasers L1 to L3 leaves some unreacted monomer 1a. Therefore, 100mJ
By irradiating the entire surface of the filter agent 1 with ultraviolet light UV (or visible light) of / cm 2, the unreacted monomer 1a is reacted to complete the polymerization. Further, the portion of the filter agent 1 is heated at a temperature of, for example, 120 ° C. for 2 hours to increase the refractive index modulation degree. This gives R
The interference type color filter 30 having the portion R1, the G portion G1, and the B portion B1 is manufactured.

【0018】次に、本実施形態の製造方法で製造した干
渉型カラーフィルター30の特性について説明する。図
5に示すように、R部分R1,G部分G1,B部分B1
が並んだ干渉型カラーフィルター30の表面側から、白
色光wを照射する。R部分R1においては、モノマー1
a´の層が323.5nm間隔で形成されているので、
入射光がモノマー1a´の層と他の層との界面で反射,
干渉を繰り返し、647nmの赤色光Rのみが強められ
て干渉型カラーフィルター30の表面側に出てくる。G
部分G1,B部分B1においても同様にして514nm
の緑色光G,488nmの青色光Bのみが表面側に出て
くる。すなわち、干渉型カラーフィルター30は、R部
分R1で赤色光Rを、G部分G1で緑色光Gを、B部分
B1で青色光Bをフィルタリングするカラーフィルター
としての特性を示す。
Next, the characteristics of the interference type color filter 30 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment will be described. As shown in FIG. 5, R part R1, G part G1, B part B1
Are irradiated with white light w from the surface side of the interference type color filter 30 in which are arranged. In the R part R1, the monomer 1
Since the layers a ′ are formed at intervals of 323.5 nm,
Incident light is reflected at the interface between the layer of monomer 1a 'and another layer,
The interference is repeated, and only the red light R of 647 nm is strengthened and emerges on the surface side of the interference type color filter 30. G
514 nm is similarly applied to the portions G1 and B1.
Only green light G and blue light B of 488 nm emerge on the surface side. That is, the interference type color filter 30 exhibits characteristics as a color filter that filters the red light R in the R portion R1, the green light G in the G portion G1, and the blue light B in the B portion B1.

【0019】図6は、干渉型カラーフィルター30の分
光特性図であり、赤色光R,緑色光G,青色光Bの特性
曲線が、647nm,514nm,488nmのところ
で先鋭に立ち上がっている。これに対して、従来の顔料
を分散した吸収型のカラーフィルターでは、図12に示
すように、赤色光R,緑色光G,青色光Bの特性曲線が
先鋭に立ち上がっていない。したがって、本実施形態の
製造方法で製造した干渉型カラーフィルター30を用い
ることで、従来の吸収型カラーフィルターよりも、色度
図の広い範囲を再現することができる。なお、色の再現
領域は、干渉型カラーフィルター30の厚みをコントロ
ールすることで調整可能である。すなわち、フィルター
剤塗布工程Aでフィルター剤1の厚さを調整すること
で、図6に示す赤色光R,緑色光G,青色光Bの特性曲
線の幅を変えることができる。
FIG. 6 is a spectral characteristic diagram of the interference type color filter 30. The characteristic curves of the red light R, the green light G, and the blue light B sharply rise at 647 nm, 514 nm, and 488 nm. On the other hand, in the absorption type color filter in which the conventional pigment is dispersed, the characteristic curves of the red light R, the green light G, and the blue light B do not rise sharply as shown in FIG. Therefore, by using the interference type color filter 30 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to reproduce a wider range of the chromaticity diagram than the conventional absorption type color filter. The color reproduction area can be adjusted by controlling the thickness of the interference type color filter 30. That is, the width of the characteristic curve of the red light R, the green light G, and the blue light B shown in FIG. 6 can be changed by adjusting the thickness of the filter agent 1 in the filter agent application step A.

【0020】このように、本実施形態の液晶ディスプレ
イ用カラーフィルターの製造方法によれば、色特性の良
い干渉型カラーフィルター30を製造することができ
る。また、図13に示した従来の吸収型カラーフィルタ
ー20のようにオーバーコート剤17を使用する必要が
ないので、干渉型カラーフィルター30の表面に凸凹が
発生しない。したがって、この干渉型カラーフィルター
30を用いれば、LCDのパネルギャップの狭小化が可
能となり、高速応答性など、LCDの高性能化が可能と
なる。また、従来の吸収型カラーフィルター20を製造
するには、R,G,B部分14〜16形成のために、フ
ィルター剤塗布工程から乾燥,定着工程にいたる複雑な
工程を3回も繰り返さなければならなかった。一方、従
来の干渉型カラーフィルターの製造では、屈折率が異な
る多層の薄膜を、スパッタリングなどを繰り返して形成
しなければならなかった。このため、従来の吸収型及び
干渉型カラーフィルターでは、複雑且つ多数の工程が必
要であり、製造コストが著しく高くついていた。これに
対して、本実施形態の製造方法では、図1に示すよう
に、R露光工程C,G露光工程D,B露光工程Eを連続
して行うことで、干渉型カラーフィルター30のR部分
R1,G部分G1,B部分B1を一度に形成することが
できる。さらに、R部分R1,G部分G1,B部分B1
内の屈折率が異なる層を形成する際にも、スパッタリン
グなどを繰り返す必要がなく、露光によって一度に形成
することができる。したがって、本実施形態の製造方法
によれば、少ない工程で、高性能の干渉型カラーフィル
ター30を製造することができるので、製造コストを大
きく削減することができる。
As described above, according to the method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display of the present embodiment, an interference type color filter 30 having good color characteristics can be manufactured. Further, since there is no need to use the overcoat agent 17 unlike the conventional absorption type color filter 20 shown in FIG. 13, no irregularities are generated on the surface of the interference type color filter 30. Therefore, by using the interference type color filter 30, it is possible to narrow the panel gap of the LCD, and to improve the performance of the LCD such as high-speed response. In addition, in order to manufacture the conventional absorption type color filter 20, a complicated process from a filter agent application process to a drying and fixing process must be repeated three times to form the R, G, and B portions 14 to 16. did not become. On the other hand, in the production of a conventional interference type color filter, a multilayer thin film having a different refractive index has to be formed by repeating sputtering or the like. For this reason, the conventional absorption-type and interference-type color filters require complicated and many steps, and the production cost is extremely high. On the other hand, in the manufacturing method of the present embodiment, as shown in FIG. 1, the R exposure step C, the G exposure step D, and the B exposure step E are performed successively, so that the R portion of the interference type color filter 30 is formed. The R1, G portion G1, and B portion B1 can be formed at once. Furthermore, R part R1, G part G1, B part B1
Even when layers having different refractive indices are formed, there is no need to repeat sputtering or the like, and they can be formed at once by exposure. Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, the high-performance interference type color filter 30 can be manufactured in a small number of steps, so that the manufacturing cost can be greatly reduced.

【0021】(第2の実施形態)次いで、本発明の第2
の実施形態に係る液晶ディスプレイ用カラーフィルター
の製造方法について説明する。本実施形態の液晶ディス
プレイ用カラーフィルターの製造方法は、複数光を反射
して取り出すことができる干渉型カラーフィルターの製
造方法である。この製造方法は、図1において、基盤1
0にフィルター剤1を塗布するフィルター剤塗布工程A
と、フィルター剤1を乾燥させる乾燥工程Bと、定着,
固定工程Fとを具備する点は上記第1の実施形態と同様
であるが、乾燥工程Bと定着,固定工程Fとの間の露光
工程が異なる。したがって、重複記載を避けるため、こ
こでは、露光工程についてのみ説明する。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described.
A method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to the embodiment will be described. The method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to the present embodiment is a method for manufacturing an interference type color filter capable of reflecting and extracting a plurality of lights. This manufacturing method is shown in FIG.
Filter agent application step A in which filter agent 1 is applied to filter agent 0
Drying step B for drying the filter agent 1;
The point of including the fixing step F is the same as that of the first embodiment, except that the exposure step between the drying step B and the fixing and fixing step F is different. Therefore, in order to avoid redundant description, only the exposure step will be described here.

【0022】赤色光R,緑色光Gを反射可能な干渉型カ
ラーフィルターを製造する際の露光工程では、乾燥工程
Bの終了後、まず、パワーが例えば200mJ/平方セ
ンチメートルのレーザーL1を基盤10のフィルター剤
1に照射する。これにより、レーザーL1の1/2波長
(323.5nm)の間隔で、モノマー1a´の層がフ
ィルター剤1に形成される。しかる後、パワーが例えば
10mJ/平方センチメートルのレーザーL2をフィル
ター剤1に照射すると、レーザーL2の1/2波長(2
57nm)の間隔でモノマー1a´の層が形成される。
すなわち、レーザーL1とレーザーL2の波長が異なるこ
とから、フィルター剤1内には、図7の(a)に示すよ
うに、レーザーL1によるモノマー1a´の層R2とレ
ーザーL2によるモノマー1a´の層G2とが形成され
ることとなる。しかる後、定着,固定工程Fに移行し、
紫外光UV(または可視光)の照射と加熱とを行って、
重合を完成させることで、干渉型カラーフィルター31
が製造される。
In the exposure step for producing an interference type color filter capable of reflecting the red light R and the green light G, after the drying step B is completed, first, a laser L1 having a power of, for example, 200 mJ / cm 2 is applied to the filter of the substrate 10. Irradiate Agent 1. Thus, a layer of the monomer 1a 'is formed on the filter agent 1 at an interval of a half wavelength (323.5 nm) of the laser L1. Thereafter, when a laser L2 having a power of, for example, 10 mJ / cm 2 is irradiated on the filter agent 1, a half wavelength (2
A layer of the monomer 1a 'is formed at an interval of 57 nm).
That is, since the wavelengths of the laser L1 and the laser L2 are different, as shown in FIG. G2 is formed. Thereafter, the process proceeds to the fixing and fixing process F,
By irradiating with UV light (or visible light) and heating,
By completing the polymerization, the interference type color filter 31
Is manufactured.

【0023】このようにして製造された干渉型カラーフ
ィルター31は、図7の(a)に示すように、白色光w
が照射されると、層R2で赤色光Rが反射され、層G2
で緑色光Gが反射されて、赤色光R,緑色光Gの2つの
光が取り出される。図8は、上記干渉型カラーフィルタ
ー31の分光特性図である。図8に示すように、干渉型
カラーフィルター31によれば、647nm,514n
mのところで先鋭に立ち上がる赤色光R,緑色光Gの特
性曲線を得ることができ、干渉型カラーフィルター31
の色特性が非常に優れていることが判る。
The interference type color filter 31 manufactured as described above has a white light w as shown in FIG.
Is irradiated, the red light R is reflected by the layer R2, and the layer G2
Reflects the green light G, and two lights of red light R and green light G are extracted. FIG. 8 is a spectral characteristic diagram of the interference type color filter 31. As shown in FIG. 8, according to the interference type color filter 31, 647 nm, 514 n
m, the characteristic curves of the red light R and the green light G rising sharply can be obtained.
It can be seen that the color characteristics are very excellent.

【0024】また、赤色光R,青色光Bを反射可能な干
渉型カラーフィルターを製造する際の露光工程では、レ
ーザーL1をフィルター剤1に照射後、レーザーL3を照
射する。これにより、図7の(b)に示すように、フィ
ルター剤1にレーザーL1によるモノマー1a´の層R
2が形成され、レーザーL3による244nm間隔のモ
ノマー1a´の層B2が形成される。しかる後、定着,
固定工程Fを行うことで、赤色光R,青色光Bの2つの
光を反射する干渉型カラーフィルター32が製造され
る。同様に、緑色光G,青色光Bを反射可能な干渉型カ
ラーフィルターを製造する際の露光工程では、レーザー
L2とレーザーL3とをフィルター剤1に照射して、図7
の(c)に示すように、層G2,層B2をフィルター剤
1に形成する。
In the exposure step for producing an interference type color filter capable of reflecting the red light R and the blue light B, a laser L1 is applied to the filter agent 1 and then to a laser L3. As a result, as shown in FIG. 7 (b), the layer R of the monomer 1a 'was
2 is formed, and a layer B2 of the monomer 1a 'is formed at an interval of 244 nm by the laser L3. After a while, fixation,
By performing the fixing step F, the interference type color filter 32 that reflects the two lights of the red light R and the blue light B is manufactured. Similarly, in an exposure step for manufacturing an interference type color filter capable of reflecting green light G and blue light B, laser L2 and laser L3 are irradiated on the filter agent 1 so that the filter agent 1 shown in FIG.
(C), the layer G2 and the layer B2 are formed on the filter agent 1.

【0025】従来の干渉型カラーフィルターでは、特定
の波長に対して一義的に設計を行うため、複数の光を同
時にフィルタリングする構造にすることは困難であっ
た。しかし、本実施形態の製造方法によれば、上記した
ように、定着,固定工程Fの前であれば、フィルター剤
1を複数のレーザー光で多重に露光することができるの
で、複数の光を同時にフィルタリングする構造の干渉型
カラーフィルター31を容易に製造することができる。
In a conventional interference type color filter, since it is uniquely designed for a specific wavelength, it is difficult to adopt a structure for simultaneously filtering a plurality of lights. However, according to the manufacturing method of the present embodiment, as described above, the filter agent 1 can be multiple-exposed with a plurality of laser beams before the fixing and fixing step F, so that the plurality of beams can be The interference type color filter 31 having a structure for filtering at the same time can be easily manufactured.

【0026】ところで、図7に示すように、白色光wを
照射すると、干渉型カラーフィルター31〜33が、赤
色光R及び緑色光G,赤色光R及び青色光B,緑色光G
及び青色光Bを表面側に反射するということは、青色光
B,緑色光G,赤色光Rが、干渉型カラーフィルター3
1〜33を透過して裏面側に出てくることを意味する。
したがって、図9に示すように、干渉型カラーフィルタ
ー31〜33の一方側から白色光wを照射すると、青色
光B,緑色光G,赤色光Rを他方側で取り出せることと
なり、干渉型カラーフィルター31〜33を透過型カラ
ーフィルターとして使用することができる。すなわち、
本実施形態の製造方法は、干渉型カラーフィルター31
〜33だけでなく、透過型カラーフィルター31〜33
をも製造することができる。このように製造された透過
型カラーフィルター31〜33は、反射,干渉を利用し
て光を取り出すものではなく、カラーフィルターを透過
した青色光B,緑色光G,赤色光Rを取り出すので、視
角依存性がほとんど無い。その他の構成,作用効果は上
記第1の実施形態と同様であるので、その記載は省略す
る。
As shown in FIG. 7, when white light w is irradiated, the interference type color filters 31 to 33 cause red light R and green light G, red light R and blue light B, green light G
Reflecting the blue light B toward the surface side means that the blue light B, the green light G, and the red light R are reflected by the interference type color filter 3.
It means that the light passes through 1-33 and comes out on the back side.
Therefore, as shown in FIG. 9, when white light w is irradiated from one side of the interference type color filters 31 to 33, blue light B, green light G, and red light R can be extracted on the other side, and the interference type color filters 31 to 33 can be extracted. 31 to 33 can be used as transmission color filters. That is,
The manufacturing method of the present embodiment employs the interference type color filter 31.
-33 as well as transmission color filters 31-33
Can also be manufactured. The transmission color filters 31 to 33 manufactured in this manner do not take out light using reflection and interference, but take out blue light B, green light G, and red light R transmitted through the color filters. Almost no dependencies. The other configuration, operation, and effect are the same as those of the first embodiment, and the description thereof is omitted.

【0027】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の変
形や変更が可能である。例えば、上記実施形態では、レ
ーザー光をフィルター剤1内で干渉させるホログラム光
学系として、図2のホログラム装置2を適用したが、図
10に示すようなホログラム光学系を適用しても良い。
このホログラム光学系は、一般的に使用されているもの
で、カラーフィルターの使用方法(視認方向など)に対
応させて、レーザー光の干渉させ方を調整することがで
きるようになっている。すなわち、レーザー光源40か
らのレーザー光Lをシャッタ41を介してハーフミラー
42に送出し、ハーフミラー42で反射したレーザー光
Lを参照光Lとし、ハーフミラー42を透過したレーザ
ー光Lを物体光Lとする。そして、参照光Lをスペーシ
ャルフィルター43で広げ、コリメーションレンズ44
で平行光にして、ミラー45に入射させる。一方、物体
光Lは、ミラー46で反射させて、スペーシャルフィル
ター47,コリメーションレンズ48,投影レンズ49
を介して、集光レンズ50に送出する。これにより、物
体光Lが集光レンズ50を介してフィルター剤1の一方
側に照射し、参照光Lがミラー45の角度でフィルター
剤1の他方側に照射する。したがって、物体光Lと参照
光Lとがフィルター剤1内で干渉するが、ミラー45の
角度を変化させることで、干渉のさせ方を調整すること
ができる。また、上記第1の実施形態では、R露光工程
C,G露光工程D,B露光工程Eの順序で露光を行った
が、これらの工程の順序は任意である。同様に、上記第
2の実施形態における2つのレーザー光の照射順序も任
意である。さらに、上記実施形態では、感光性高分子材
料として、デュポン社製の「OMNI−DEX」を用い
たが、これに限るものではなく、光の干渉部分の屈折率
が変化し、材料内の屈折率の差を固定,定着することが
できる材料であるならば良い。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the invention. For example, in the above embodiment, the hologram optical system shown in FIG. 2 is applied as the hologram optical system for causing the laser light to interfere in the filter agent 1, but a hologram optical system as shown in FIG. 10 may be applied.
This hologram optical system is a commonly used hologram optical system, and it is possible to adjust the way of interfering with the laser light in accordance with the method of using the color filter (such as the viewing direction). That is, the laser light L from the laser light source 40 is transmitted to the half mirror 42 via the shutter 41, the laser light L reflected by the half mirror 42 is used as the reference light L, and the laser light L transmitted through the half mirror 42 is used as the object light. L. Then, the reference light L is expanded by the spatial filter 43 and the collimation lens 44
And collimates the light into the mirror 45. On the other hand, the object light L is reflected by the mirror 46, and is divided into a spatial filter 47, a collimation lens 48, and a projection lens 49.
Through the condenser lens 50. As a result, the object light L irradiates one side of the filter agent 1 via the condenser lens 50 and the reference light L irradiates the other side of the filter agent 1 at an angle of the mirror 45. Therefore, the object light L and the reference light L interfere with each other in the filter agent 1. By changing the angle of the mirror 45, it is possible to adjust the manner of causing the interference. In the first embodiment, the exposure is performed in the order of the R exposure step C, the G exposure step D, and the B exposure step E, but the order of these steps is arbitrary. Similarly, the irradiation order of the two laser beams in the second embodiment is arbitrary. Further, in the above-described embodiment, “OMNI-DEX” manufactured by DuPont was used as the photosensitive polymer material. However, the present invention is not limited to this. Any material can be used as long as it can fix and fix the difference in rate.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上詳しく説明したように、請求項1の
発明によれば、感光性高分子材料に特定波長の光を照射
して、固定するだけで、干渉部分に屈折率が異なる層を
一度に形成することができるので、カラーフィルター製
造工程の削減を図ることができ、この結果、製造コスト
の低廉化を図ることができるという優れた効果がある。
また、カラーフィルターの表面にオーバーコート剤など
を塗布しないので、このカラーフィルターを使用すれ
ば、高速応答性など、LCDの高性能化が可能となる。
As described above in detail, according to the first aspect of the present invention, a layer having a different refractive index is formed in an interference portion only by irradiating a photosensitive polymer material with light of a specific wavelength and fixing the same. Since they can be formed at one time, the number of color filter manufacturing steps can be reduced, and as a result, there is an excellent effect that the manufacturing cost can be reduced.
In addition, since an overcoat agent or the like is not applied to the surface of the color filter, the use of this color filter makes it possible to improve the performance of the LCD such as high-speed response.

【0029】請求項2の発明によれば、従来の干渉型カ
ラーフィルターの製造方法では、困難とされていた複数
光の同時フィルタリングが可能な干渉型カラーフィルタ
ーを容易に製造することができるという効果がある。ま
た、視角依存性がほとんど無い透過型カラーフィルター
をも製造することができる。
According to the second aspect of the present invention, it is possible to easily manufacture an interference type color filter capable of simultaneously filtering a plurality of lights, which has been difficult in the conventional method of manufacturing an interference type color filter. There is. Further, a transmission type color filter having almost no viewing angle dependence can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る液晶ディスプレ
イ用カラーフィルターの製造方法の工程図である。
FIG. 1 is a process chart of a method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の露光工程で適用されるホログラム装置の
概略図である。
FIG. 2 is a schematic view of a hologram device applied in the exposure step of FIG.

【図3】露光時におけるレーザー光の干渉を示す断面図
である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating interference of laser light during exposure.

【図4】フィルター剤の重合状態を示す説明図であり、
図4の(a)は初期状態を示し、図4の(b)は露光時
の状態を示し、図4の(c)は固定,定着時の状態を示
す。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a polymerization state of a filter agent;
4A shows an initial state, FIG. 4B shows a state at the time of exposure, and FIG. 4C shows a state at the time of fixing and fixing.

【図5】製造された干渉型カラーフィルターのフィルタ
リング作用を示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a filtering action of the manufactured interference type color filter.

【図6】干渉型カラーフィルターの分光特性図である。FIG. 6 is a spectral characteristic diagram of an interference type color filter.

【図7】本発明の第2の実施形態に係る液晶ディスプレ
イ用カラーフィルターの製造方法で製造された干渉型カ
ラーフィルターのフィルタリング作用を示す概略断面図
であり、図7の(a)は赤色光及び緑色光のフィルタリ
ングを示し、図7の(b)は赤色光及び青色光のフィル
タリングを示し、図7の(c)は緑色光及び青色光のフ
ィルタリングを示す。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view illustrating a filtering action of an interference type color filter manufactured by a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7B shows filtering of red light and blue light, and FIG. 7C shows filtering of green light and blue light.

【図8】赤色光及び緑色光用の干渉型カラーフィルター
が示す分光特性図である。
FIG. 8 is a spectral characteristic diagram of an interference type color filter for red light and green light.

【図9】透過型カラーフィルターのフィルタリング作用
を示す概略断面図であり、図9の(a)は青色光のフィ
ルタリングを示し、図9の(b)は緑色光のフィルタリ
ングを示し、図9の(c)は赤色光のフィルタリングを
示す。
9A and 9B are schematic cross-sectional views illustrating a filtering operation of a transmission type color filter, wherein FIG. 9A illustrates filtering of blue light, FIG. 9B illustrates filtering of green light, and FIG. (C) shows filtering of red light.

【図10】ホログラム光学系の他の例を示す概略図であ
る。
FIG. 10 is a schematic view showing another example of the hologram optical system.

【図11】従来の干渉型カラーフィルターを示す概略図
である。
FIG. 11 is a schematic view showing a conventional interference type color filter.

【図12】図11の干渉型カラーフィルターの分光特性
図である。
12 is a spectral characteristic diagram of the interference type color filter of FIG.

【図13】従来の干渉型カラーフィルターの製造方法を
示す工程図である。
FIG. 13 is a process chart showing a conventional method for producing an interference type color filter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・フィルター剤、 1a・・・モノマー、 1a
´・・・重合済みモノマー、 10・・・基盤、 30
・・・干渉型カラーフィルター、 A・・・フィルター
剤塗布工程、 C・・・R露光工程、 D・・・G露光
工程、 E・・・B露光工程、 F・・・定着,固定工
程、 L1,L2,L3・・・レーザー。
1 ... Filter agent, 1a ... Monomer, 1a
': Polymerized monomer, 10: base, 30
... interference type color filter, A ... filter agent application step, C ... R exposure step, D ... G exposure step, E ... B exposure step, F ... fixing and fixing step, L1, L2, L3 ... Laser.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性高分子材料に特定波長の光を照射
して、この光を上記感光性高分子材料内で干渉させるこ
とにより、非干渉部分の屈折率と異なる屈折率を有した
層を光が強められる干渉部分に形成する露光工程と、 上記露光工程で形成した上記層を固定する固定工程と、 を具備することを特徴とする液晶ディスプレイ用カラー
フィルターの製造方法。
1. A layer having a refractive index different from the refractive index of a non-interfering portion by irradiating light of a specific wavelength to a photosensitive polymer material and causing the light to interfere in the photosensitive polymer material. A method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display, comprising: an exposing step of forming a layer on an interference portion where light is intensified; and a fixing step of fixing the layer formed in the exposing step.
【請求項2】 請求項1に記載の液晶ディスプレイ用カ
ラーフィルターの製造方法において、 上記露光工程は、 異なる波長の複数の光を順次照射して、各光を上記感光
性高分子材料内で各々干渉させることにより、屈折率が
異なる複数の層を各光の干渉部分に形成するものであ
る、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルター
の製造方法。
2. The method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display according to claim 1, wherein the exposing step includes sequentially irradiating a plurality of lights of different wavelengths, and each light is irradiated within the photosensitive polymer material. A method for producing a color filter for a liquid crystal display, wherein a plurality of layers having different refractive indexes are formed in an interference portion of each light by causing interference.
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WO2014019309A1 (en) * 2012-07-30 2014-02-06 京东方科技集团股份有限公司 Mask plate and method for manufacturing color filter
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