JPH10339820A - Optical waveguide and production of optical waveguide type diffraction grating - Google Patents

Optical waveguide and production of optical waveguide type diffraction grating

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JPH10339820A
JPH10339820A JP10109454A JP10945498A JPH10339820A JP H10339820 A JPH10339820 A JP H10339820A JP 10109454 A JP10109454 A JP 10109454A JP 10945498 A JP10945498 A JP 10945498A JP H10339820 A JPH10339820 A JP H10339820A
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JP
Japan
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optical waveguide
light
diffraction grating
optical
type diffraction
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Application number
JP10109454A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Susumu Inoue
享 井上
Yasuji Hattori
保次 服部
Katsuya Yamashita
克也 山下
Fumio Otsuki
文男 大槻
Yutaka Katsuyama
豊 勝山
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily produce an optical waveguide type diffraction grating by reducing the optical waveguide type diffraction grating on an optical waveguide by irradiating the optical waveguide with the projected light of a mask pattern or transmitted light through a moving slit. SOLUTION: The optical waveguide type diffraction grating is produced on the optical waveguide by irradiating the optical waveguide with the projected light of the mask pattern of the transmitted light through the moving slit. For example, a slit image with UV light 83 is formed on a light beam path 50 by using the slit 81 and a lens 82, and a reflection part constituted of a stripe by a refractive index, than is. the optical waveguide type diffraction grating is formed by controlling the intensity of the UV light 83 and the movement of the slit image. In such a case, the reflection part is formed by moving the slit image in the longitudinal direction (direction shown by an arrow 84) of the path 50 with adjusting its speed while appropriately changing the intensity of the UV light 83.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光通信に用いられる
光線路をその端部において識別するための識別符号等に
用いられる光導波路および光導波路型回折格子の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical waveguide used as an identification code for identifying an optical line used for optical communication at an end thereof, and a method for manufacturing an optical waveguide type diffraction grating.

【0002】[0002]

【従来の技術】光線路の識別方法として、光線路のコア
の屈折率を部分的に変化させ、この変化位置をOTDR
測定法を用いて線路端部で検出する方法が知られている
(1991年電子情報通信学会秋季大会 文献B−59
1「光線路データベースのための遠隔ファイバ識別
法」)。
2. Description of the Related Art As a method for identifying an optical line, the refractive index of a core of the optical line is partially changed, and the position of this change is designated as OTDR.
A method of detecting at the end of a line using a measuring method is known (The 1991 Autumn Meeting of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, Document B-59).
1 "Remote fiber identification method for optical line database").

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法によ
れば、光線路に設ける識別符号部が数百メートルにわた
ってしまう。たとえば、上述した文献中の例では、8ビ
ットの識別符号を光線路に記録するのに1ビット当たり
50m、全体で400mの長さを要している。したがっ
て、もともと短い長さの光線路に対して識別符号を付け
ることは困難である。また、数百メートルにわたる識別
符号を光線路に記録するには、光線路の製造過程でこれ
を行う必要があり、実用的ではない。
However, according to this method, the identification code portion provided on the optical line extends over several hundred meters. For example, in the example in the above-mentioned document, recording an 8-bit identification code on an optical line requires 50 m per bit and a total length of 400 m. Therefore, it is difficult to attach an identification code to an optical line having a short length. Also, in order to record an identification code over several hundred meters on an optical line, this must be performed during the manufacturing process of the optical line, which is not practical.

【0004】このような問題点を解決するために、識別
符号として光導波路型回折格子を用いることが考えられ
る。光導波路型回折格子の製造方法としては、たとえ
ば、特許出願公表公報の昭62−500052号があ
る。この方法は、第1および第2のコヒーレントな紫外
線共面ビームを入射角を適当に設定して光導波路に照射
するものであり、実施例としてUV発生源からの紫外線
をビームスプリッタで2つのビームに分割した後、それ
ぞれのビームを鏡を用いて光導波路上で重ねる方法が開
示されている。光導波路上で重ね合わされることにより
縞模様がつくられ、この縞模様に対応して光導波路の屈
折率が変化し光導波路型回折格子が形成される。
In order to solve such a problem, it is conceivable to use an optical waveguide type diffraction grating as an identification code. As a method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating, there is, for example, Japanese Patent Application Publication No. Sho 62-500052. This method irradiates an optical waveguide with first and second coherent ultraviolet coplanar beams at an appropriate angle of incidence. As an example, two beams are irradiated from a UV source by a beam splitter. And splitting each beam on an optical waveguide using a mirror is disclosed. By superimposing on the optical waveguide, a stripe pattern is formed, and the refractive index of the optical waveguide changes corresponding to the stripe pattern to form an optical waveguide type diffraction grating.

【0005】しかし、この方法は、1枚のビームスプリ
ッタと2枚のミラーのそれぞれの角度調整が非常に微妙
であるため、所望の格子定数を得ることが困難であり、
実用的ではない。また、図5(a)に示すような、複雑
な反射特性を有する光導波路型回折格子を得るために
は、ビームスプリッタまたはミラーの表面形状を、所望
の反射特性に応じた曲面に加工し、紫外線ビームが光導
波路上で重ね合わされることによって生じる縞模様の間
隔を不等間隔に精密制御する必要がある。しかし、実際
にビームスプリッタまたはミラーに複雑な形状加工を施
すことは困難である。
However, in this method, it is difficult to obtain a desired lattice constant because the angle adjustment of each of one beam splitter and two mirrors is very delicate.
Not practical. Further, in order to obtain an optical waveguide type diffraction grating having complicated reflection characteristics as shown in FIG. 5A, the surface shape of a beam splitter or a mirror is processed into a curved surface according to a desired reflection characteristic. It is necessary to precisely control the intervals between the stripes generated by the superposition of the ultraviolet beams on the optical waveguide at irregular intervals. However, it is difficult to actually perform complicated shape processing on a beam splitter or a mirror.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の光導波路型回折
格子の製造方法はこのような問題を解決するために為さ
れたものであり、請求項1に記載の光導波路型回折格子
の製造方法の発明は、マスクパターンに光を照射し、そ
の透過光パターンを光学系を用いて倍率変換して光導波
路上に投影することにより、回折光の強度に応じた屈折
率変化部を光導波路上に形成して回折格子とすることを
特徴とするものである。さらに、請求項6に記載の光導
波路型回折格子の製造方法の発明は、スリットに光を照
射し、このスリットの像を光導波路上に投影し、この光
導波路の長手方向における前記スリット像の投影位置の
関数として照射する光の強度を変化させることにより、
光導波路に屈折率変化部を形成して回折格子とすること
を特徴とするものである。
The method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating of the present invention has been made to solve such a problem, and the method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to claim 1 has been made. The method invention irradiates a mask pattern with light, converts the transmitted light pattern using an optical system, and projects the magnification on an optical waveguide, thereby forming a refractive index change portion corresponding to the intensity of the diffracted light on the optical waveguide. A diffraction grating is formed on a road. Furthermore, the invention of the method for manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to claim 6 irradiates light to a slit, projects an image of the slit on the optical waveguide, and forms an image of the slit image in a longitudinal direction of the optical waveguide. By changing the intensity of the illuminating light as a function of the projection position,
It is characterized in that a refractive index changing portion is formed in the optical waveguide to form a diffraction grating.

【0007】また、本発明の光導波路は、このようにし
て作製された光導波路型回折格子を有することを特徴と
するものである。
Further, an optical waveguide according to the present invention is characterized by having an optical waveguide type diffraction grating manufactured in this manner.

【0008】[0008]

【作用】光導波路、たとえばコアにゲルマニウムがドー
プされた石英ガラス光ファイバに紫外線を照射すると屈
折率が上がることが確認されている。一方、ホログラム
パターンに光を照射すると、ホログラムパターンに応じ
た縞模様の回折光が得られる。そこで、ホログラムパタ
ーンからの回折光を光導波路上に投影することにより、
回折光の強度に応じた縞模様の屈折率変化部が光導波路
上に形成される。マスクパターンに光を照射し、その透
過光パターンを光学系を用いて倍率変換して光導波路上
に投影すると、透過光パターンと同じパターンの屈折率
変化部が光導波路上に形成される。スリットに光を照射
し、このスリットの像を光導波路上に投影し、この光導
波路の長手方向におけるスリット像の投影位置の関数と
して照射する光の強度を変化させると、その変化に応じ
たパターンの屈折率変化部が光導波路上に形成される。
光導波路としてはコアにゲルマニウムがドープされた石
英ガラス光ファイバに限定されるものではない。照射す
る光の波長や強度を光導波路の材質に応じて選択するこ
とにより、照射された部分の屈折率を変化させることが
できる。
It has been confirmed that the refractive index increases when an optical waveguide, for example, a silica glass optical fiber in which a core is doped with germanium is irradiated with ultraviolet rays. On the other hand, when the hologram pattern is irradiated with light, a diffraction light having a stripe pattern corresponding to the hologram pattern is obtained. Therefore, by projecting the diffracted light from the hologram pattern onto the optical waveguide,
A stripe-shaped refractive index change portion corresponding to the intensity of the diffracted light is formed on the optical waveguide. When the mask pattern is irradiated with light, and the transmitted light pattern is subjected to magnification conversion using an optical system and projected onto an optical waveguide, a refractive index change portion having the same pattern as the transmitted light pattern is formed on the optical waveguide. Irradiating the slit with light, projecting the image of this slit onto the optical waveguide, and changing the intensity of the irradiated light as a function of the projection position of the slit image in the longitudinal direction of the optical waveguide, the pattern according to the change Is formed on the optical waveguide.
The optical waveguide is not limited to a silica glass optical fiber having a core doped with germanium. By selecting the wavelength and intensity of the light to be irradiated according to the material of the optical waveguide, the refractive index of the irradiated portion can be changed.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の光導波路型回折格子の製
造方法の実施形態を説明する前に、光導波路型回折格子
の利用例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Before describing an embodiment of a method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to the present invention, an application example of an optical waveguide type diffraction grating will be described.

【0010】図1は、光導波路型回折格子を光線路の識
別符号として用いた光線路設備管理システムを示す構成
図である。局舎1と加入者宅3との間には、光線路の接
続切り換えを行うための端子函2が設けられている。局
舎1内の伝送装置4に一端が接続されている複数の光線
路は光導波路である光ファイバケーブル9として束ねら
れ、端子函2まで延びている。各光線路の他端は、端子
函2内において、各加入者宅3に延びている光線路の一
端と光コネクタ10を介して接続され、これにより、局
舎1内の伝送装置4と各加入者宅3とがそれぞれ1本の
光線路で接続されたことになる。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an optical line facility management system using an optical waveguide type diffraction grating as an identification code of an optical line. A terminal box 2 for switching connection of an optical line is provided between the station building 1 and the subscriber's house 3. A plurality of optical lines, one ends of which are connected to the transmission device 4 in the office 1, are bundled as an optical fiber cable 9 as an optical waveguide and extend to the terminal box 2. The other end of each optical line is connected to one end of the optical line extending to each subscriber's home 3 via an optical connector 10 in the terminal box 2, whereby the transmission device 4 in the office building 1 is connected to each end. This means that each of the subscriber homes 3 is connected by one optical line.

【0011】光コネクタ10では、接続の切り換えを手
動で任意に行うことができる。この切り換えを行う際に
は、まず、局舎1内に置かれた識別標識読取装置(コー
ド読取装置)5で、後述する識別方法により光線路のル
ート情報を調べ、そのルート情報を制御装置6から端子
函2内のローカルコントローラ11に伝達し、表示装置
12で現場の作業者にその情報を知らせる。作業者はそ
のルート情報に基づいて所望のコネクタ切り換えを行
う。切り換え作業終了後、再びコード読取装置5で光線
路の識別標識を読み取って局舎1側でルート情報を確認
し、このルート情報を制御装置6からローカルコントロ
ーラ11を介して表示装置12に表示することで、作業
者は切り換えの良否を確認する。
In the optical connector 10, the connection can be manually switched arbitrarily. When this switching is performed, first, the identification information reading device (code reading device) 5 placed in the station building 1 checks the route information of the optical line by an identification method described later, and the route information is checked by the control device 6. To the local controller 11 in the terminal box 2, and the display device 12 notifies the worker at the site of the information. The operator performs desired connector switching based on the route information. After the switching work is completed, the code reader 5 reads the identification mark of the optical path again, confirms the route information on the side of the station 1, and displays this route information on the display device 12 from the control device 6 via the local controller 11. Thus, the operator confirms whether or not the switching has been performed.

【0012】図2は、コード読取装置5の内部構成およ
びその周辺装置を示すブロック図である。コード読取装
置5は発光部20と受光部21を備え、これらは制御回
路6を構成するコンピュータ22およびタイミング制御
回路23によってその動作が制御される。
FIG. 2 is a block diagram showing the internal configuration of the code reading device 5 and its peripheral devices. The code reading device 5 includes a light emitting unit 20 and a light receiving unit 21. The operation of these units is controlled by a computer 22 and a timing control circuit 23 that constitute the control circuit 6.

【0013】発光部20は、白色光などの適当なスペク
トル幅を持つ光を発する光源24と、光源24から放射
される光をオンオフ制御する音響光学素子25と、この
音響光学素子25の入出力部にそれぞれ設けられたレン
ズ系26、27とで構成されており、光源24から放射
された光はレンズ26、音響光学素子25、レンズ27
を経て、光ファイバ40の一端に検査光として入射され
る。光ファイバ40は接続手段38を介して被測定光線
路50と接続されている。接続手段38は、光ファイバ
40を多数の被測定光線路50の中のいずれかに選択的
に接続するものである。
The light emitting section 20 includes a light source 24 that emits light having an appropriate spectral width such as white light, an acousto-optic device 25 that controls on / off of light emitted from the light source 24, and an input / output of the acousto-optic device 25. The light emitted from the light source 24 is transmitted through the lens 26, the acousto-optic device 25, and the lens 27.
, And is incident on one end of the optical fiber 40 as inspection light. The optical fiber 40 is connected to the measured optical line 50 via the connecting means 38. The connection means 38 is for selectively connecting the optical fiber 40 to any one of a number of optical paths 50 to be measured.

【0014】受光部21は、干渉分光器であるファブリ
ペローエタロン32と、エタロン32内の共振用の2枚
の平面板の間隔を制御するエタロンコントローラ33
と、エタロン32の入出力部に設けられたレンズ系3
0、31と、エタロン32の出力光の光強度を電気信号
に変換する受光素子34と、受光素子34の出力信号を
タイミング制御回路23からの信号によって時間的に切
り出しを行うボックスカー積分器35と、ボックスカー
積分器35の出力信号をデジタル信号に変換するA/D
変換回路36とを備えている。エタロン32は、光ファ
イバ40に光ファイバカップラ37で接続されている光
ファイバ41からの光を入力し、その光の分光を行う。
その際に、エタロンコントローラ33は、コンピュータ
22からの指令に基づいてエタロン32内の共振面の間
隔を制御して分光波長を変化させる。コンピュータ22
は、エタロン32を制御しながらA/D変換回路36か
らのデータを取り込むことで、反射光スペクトルの解析
を行う。
The light receiving section 21 includes a Fabry-Perot etalon 32, which is an interference spectroscope, and an etalon controller 33 for controlling the distance between two resonance flat plates in the etalon 32.
And a lens system 3 provided in the input / output unit of the etalon 32
0, 31, a light receiving element 34 for converting the light intensity of the output light of the etalon 32 into an electric signal, and a box car integrator 35 for temporally cutting out the output signal of the light receiving element 34 by a signal from the timing control circuit 23. A / D for converting the output signal of the boxcar integrator 35 into a digital signal
And a conversion circuit 36. The etalon 32 inputs the light from the optical fiber 41 connected to the optical fiber 40 by the optical fiber coupler 37, and disperses the light.
At that time, the etalon controller 33 controls the interval between the resonance surfaces in the etalon 32 based on a command from the computer 22 to change the spectral wavelength. Computer 22
Analyzes the reflected light spectrum by taking in data from the A / D conversion circuit 36 while controlling the etalon 32.

【0015】各光線路50には、それぞれ固有の識別標
識(コード)39が線路中に書き込まれている。識別標
識39は反射率が波長に依存する反射部であり、この反
射部は、光線路50の屈折率を局所的に変化させた縞、
すなわち、光導波路型回折格子で構成され、屈折率の大
小やその屈折率変化の空間周波数を適当に設定すること
で、その反射部固有の反射光スペクトルを得ることがで
きる。この反射光スペクトルが識別標識39の内容とな
る。識別標識39は、図1における局舎1と端子函2と
の間の光線路、端子函2と加入者宅3との間の光線路の
それぞれに設けられている。局舎1と加入者宅3との間
に端子函が複数個介在する場合は、端子函間の光線路に
も識別標識が設けられる。
Each optical line 50 has a unique identification mark (code) 39 written in the line. The identification mark 39 is a reflection part whose reflectance depends on the wavelength. This reflection part is a stripe in which the refractive index of the optical line 50 is locally changed,
That is, it is constituted by an optical waveguide type diffraction grating, and by appropriately setting the magnitude of the refractive index and the spatial frequency of the change in the refractive index, it is possible to obtain a reflected light spectrum unique to the reflecting portion. This reflected light spectrum becomes the content of the identification mark 39. The identification mark 39 is provided on each of the optical line between the station building 1 and the terminal box 2 and the optical line between the terminal box 2 and the subscriber's house 3 in FIG. When a plurality of terminal boxes are interposed between the office building 1 and the subscriber's house 3, an identification mark is also provided on the optical line between the terminal boxes.

【0016】図3および図4は、それぞれ本発明の光導
波路型回折格子の製造方法の一実施形態を示すものであ
り、識別標識39として用いられる光導波路型回折格子
である反射部の形成方法を示す図である。いずれもUV
光(紫外線)を光線路50に局所的に照射することによ
り照射部の屈折率を変化させ、所望の反射光スペクトル
をもつ反射部を形成するものである。
FIGS. 3 and 4 show one embodiment of a method for manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to the present invention, respectively, and show a method for forming a reflection portion which is an optical waveguide type diffraction grating used as an identification mark 39. FIG. All are UV
By irradiating light (ultraviolet light) locally to the optical line 50, the refractive index of the irradiated part is changed, and a reflecting part having a desired reflected light spectrum is formed.

【0017】図3は、レンズ73を用いてUV光72を
集光し、縞間隔と透過率を変化させたマスクパターン7
1を縮小投影することにより、屈折率変化による縞すな
わち光導波路型回折格子で構成された反射部74を形成
する方法を示している。図4は、スリット81とレンズ
82を用いてUV光83によるスリット像を光線路50
上に作り、UV光の強度制御とスリット像の移動制御に
より屈折率変化による縞すなわち光導波路型回折格子で
構成された反射部を形成する方法を示している。UV光
の強度を適当に変化させながら、スリット像を光線路5
0の長手方向(矢印84の方向)にその速度を調整しな
がら移動させることにより、反射部を形成することがで
きる。
FIG. 3 shows a mask pattern 7 obtained by condensing UV light 72 using a lens 73 and changing the fringe interval and transmittance.
1 shows a method of forming a reflection portion 74 made of an optical waveguide type diffraction grating, that is, a stripe due to a change in refractive index, by projecting 1 in a reduced manner. FIG. 4 shows a slit image formed by UV light 83 using a slit 81 and a lens 82 on an optical path 50.
It shows a method of forming a stripe formed by a refractive index change, that is, a reflection portion constituted by an optical waveguide type diffraction grating, by controlling the intensity of UV light and the movement of a slit image. While appropriately changing the intensity of the UV light, the slit image is
By moving while adjusting the speed in the longitudinal direction of 0 (the direction of arrow 84), a reflecting portion can be formed.

【0018】つぎに、識別標識39の読取方法を説明す
る。図5(a)は、発光部20から光線路50に対して
検査光を与えたときの識別標識39での反射光スペクト
ルの一例を示す特性図である。この特性図は横軸に波
長、縦軸に光強度を採っている。反射光スペクトル91
に対して、適当なスレッショルドレベル92を設定し、
λ1〜λnまでの各波長における光強度がスレッショル
ドレベル92より大きいか小さいかによって、各波長に
対して2値符号を対応させる。同図(b)は、その対応
表を示すものであり、光強度がスレッショルドレベル9
2より大きい時には「1」、小さいときには「0」を対
応させている。このようにして、反射光スペクトルを2
値符号に容易にコード化することができる。スレッショ
ルドレベル92の設定方法としては、予め適当なレベル
を決めておく方法の他に、反射光中の特定波長の光強度
をスレッショルドレベルとする方法などが考えられる。
Next, a method of reading the identification mark 39 will be described. FIG. 5A is a characteristic diagram illustrating an example of a reflected light spectrum at the identification marker 39 when the inspection light is applied from the light emitting unit 20 to the optical line 50. In this characteristic diagram, the horizontal axis represents wavelength, and the vertical axis represents light intensity. Reflected light spectrum 91
, Set an appropriate threshold level 92,
A binary code is assigned to each wavelength depending on whether the light intensity at each wavelength from λ1 to λn is larger or smaller than the threshold level 92. FIG. 9B shows a correspondence table, in which the light intensity is set to the threshold level 9.
When the value is larger than 2, "1" is set. When the value is smaller than 2, "0" is set. Thus, the reflected light spectrum is 2
It can be easily coded into a value code. As a method of setting the threshold level 92, in addition to a method of determining an appropriate level in advance, a method of setting the light intensity of a specific wavelength in the reflected light to the threshold level can be considered.

【0019】この適用例では、局舎1と加入者宅3とを
繋ぐ光線路が、端子函2で接続された2本の区分光線路
で構成されている。識別標識は各区分光線路にそれぞれ
設けられているため、これらを区別して認識する必要が
ある。ボックスカー積分器35は、そのために用いられ
ているものである。すなわち、タイミング制御回路23
によって、パルス状の検査光を被測定光線路に入射し、
検査光の入射タイミングを基準にして、識別標識ごとの
反射光を時間的に切り出す。これにより、同一光線路上
の異なる点の識別標識からの反射光をそれぞれ区別する
ことができる。コンピュータ22は、この識別標識ごと
の反射光を区別しながら、波長別の光強度データを取り
込むことにより、識別標識ごとの反射光スペクトルを測
定することができる。なお、反射光の切り出しは、ボッ
クスカー積分器35に代えて、光ゲート(光偏向器)を
用いることでも達成できる。
In this application example, the optical line connecting the station building 1 and the subscriber's house 3 is composed of two sectioned optical lines connected by a terminal box 2. Since the identification signs are provided on each of the divided optical lines, it is necessary to distinguish and recognize these. The boxcar integrator 35 is used for that purpose. That is, the timing control circuit 23
As a result, the pulse-like inspection light is incident on the measured optical line,
The reflected light for each identification marker is temporally cut out based on the incident timing of the inspection light. As a result, it is possible to distinguish reflected light from identification marks at different points on the same optical path. The computer 22 can measure the reflected light spectrum for each identification mark by taking in the light intensity data for each wavelength while distinguishing the reflected light for each identification mark. The cut-out of the reflected light can also be achieved by using an optical gate (optical deflector) instead of the boxcar integrator 35.

【0020】なお、図6に示すように、識別標識である
光導波路型回折格子を光線路中に直接書き込む代わり
に、識別標識100を有する分岐光線路101をファイ
バカプラ102などを用いて付加してもよい。
As shown in FIG. 6, instead of directly writing an optical waveguide type diffraction grating as an identification marker in the optical line, a branch optical line 101 having an identification marker 100 is added using a fiber coupler 102 or the like. You may.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように本発明の光導波路型
回折格子の製造方法は、光ファイバのような光導波路
に、マスクパターンの投影光または移動するスリットの
透過光を照射することにより光導波路型回折格子を光導
波路上に作製するものであり、いずれの方法も、所望の
格子定数をもつ光導波路型回折格子、特に図5(a)に
示されるような複雑な反射特性を有する光導波路型回折
格子を、従来方法と比較すると容易に製造することがで
きる。
As described above, the method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to the present invention provides a light guide by irradiating an optical waveguide such as an optical fiber with projection light of a mask pattern or transmitted light of a moving slit. A waveguide type diffraction grating is formed on an optical waveguide. In either method, an optical waveguide type diffraction grating having a desired grating constant, particularly an optical waveguide having a complicated reflection characteristic as shown in FIG. The waveguide grating can be easily manufactured as compared with the conventional method.

【0022】このようにして製造された光導波路型回折
格子は、光線路の識別符号として用いることができる。
すなわち、反射部の反射光波長特性を光線路ごとに異な
るものとしておき、反射光のスペクトルを測定すれば、
その測定結果から容易にかつ正確に光線路を識別でき
る。したがって、端子函における切り換え作業の際の接
続の確認に極めて有効である。
The optical waveguide type diffraction grating manufactured as described above can be used as an identification code of an optical line.
That is, if the reflected light wavelength characteristic of the reflecting section is set to be different for each optical line and the spectrum of the reflected light is measured,
The optical path can be easily and accurately identified from the measurement result. Therefore, it is very effective for confirming the connection at the time of the switching operation in the terminal box.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】光導波路型回折格子を光線路の識別符号として
用いた光線路設備管理システムを示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing an optical line facility management system using an optical waveguide type diffraction grating as an identification code of an optical line.

【図2】そのコード読取装置の内部構成およびその周辺
装置を示すブロック図。
FIG. 2 is a block diagram showing the internal configuration of the code reading device and its peripheral devices.

【図3】本発明の光導波路型回折格子の製造方法の一実
施形態を示す斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing one embodiment of a method for manufacturing an optical waveguide type diffraction grating of the present invention.

【図4】本発明の光導波路型回折格子の製造方法の一実
施形態を示す斜視図。
FIG. 4 is a perspective view showing one embodiment of a method for manufacturing an optical waveguide type diffraction grating of the present invention.

【図5】反射光スペクトルを2値のコード情報に変換す
る方法についての説明図。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for converting a reflected light spectrum into binary code information.

【図6】識別標識用の分岐光線路を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a branch optical line for identification signs.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…局舎、2…端子函、3…加入者宅、4…伝送装置、
5…コード読取装置、6…制御装置、20…発光部、2
1…受光部、39…識別標識、50…光線路。
1 ... office building, 2 ... terminal box, 3 ... subscriber home, 4 ... transmission device,
5 code reader, 6 controller, 20 light emitting unit, 2
1 ... light receiving section, 39 ... identification mark, 50 ... optical line.

フロントページの続き (72)発明者 山下 克也 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 大槻 文男 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 勝山 豊 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内Continuing on the front page (72) Inventor Katsuya Yamashita Nippon Telegraph and Telephone 3-chome, 192-1 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Japan (72) Inventor Fumio Otsuki 3-192-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Telephone Co., Ltd. (72) Inventor Yutaka Katsuyama Nippon Telegraph and Telephone Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 マスクパターンに光を照射し、その透過
光パターンを光学系を用いて倍率変換して光導波路上に
投影することにより、前記回折光の強度に応じた屈折率
変化部を光導波路上に形成して回折格子とすることを特
徴とする光導波路型回折格子の製造方法。
1. A mask pattern is irradiated with light, the transmitted light pattern is subjected to magnification conversion using an optical system, and is projected onto an optical waveguide, so that a refractive index changing portion corresponding to the intensity of the diffracted light is guided by a light guide. A method for manufacturing an optical waveguide type diffraction grating, wherein the diffraction grating is formed on a wave path.
【請求項2】 前記倍率変換用の光学系がレンズで構成
されていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路
型回折格子の製造方法。
2. The method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to claim 1, wherein said magnification conversion optical system comprises a lens.
【請求項3】 前記マスクパターンに照射される光が紫
外光であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路
型回折格子の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the light applied to the mask pattern is ultraviolet light.
【請求項4】 前記光導波路が光ファイバであることを
特徴とする請求項1に記載の光導波路型回折格子の製造
方法。
4. The method according to claim 1, wherein the optical waveguide is an optical fiber.
【請求項5】 マスクパターンに光を照射し、その透過
光パターンを光学系を用いて倍率変換して光導波路上に
投影することにより形成された前記回折光の強度に応じ
た屈折率変化部を光導波路型回折格子として有すること
を特徴とする光導波路。
5. A refractive index changing portion corresponding to the intensity of the diffracted light formed by irradiating the mask pattern with light, transforming the transmitted light pattern using an optical system, and projecting the magnification on the optical waveguide. As an optical waveguide type diffraction grating.
【請求項6】 スリットに光を照射し、このスリットの
像を光導波路上に投影し、この光導波路の長手方向にお
ける前記スリット像の投影位置の関数として前記照射す
る光の強度を変化させることにより、前記光導波路に屈
折率変化部を形成して回折格子とすることを特徴とする
光導波路型回折格子の製造方法。
6. A method of irradiating a light to a slit, projecting an image of the slit on an optical waveguide, and changing an intensity of the irradiated light as a function of a projection position of the slit image in a longitudinal direction of the optical waveguide. Forming a refractive index changing portion in the optical waveguide to form a diffraction grating.
【請求項7】 前記スリットに照射される光が紫外光で
あることを特徴とする請求項6に記載の光導波路型回折
格子の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the light applied to the slit is ultraviolet light.
【請求項8】 前記光導波路が光ファイバであることを
特徴とする請求項6に記載の光導波路型回折格子の製造
方法。
8. The method of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating according to claim 6, wherein said optical waveguide is an optical fiber.
【請求項9】 スリットに光を照射し、このスリットの
像を光導波路上に投影し、この光導波路の長手方向にお
ける前記スリット像の投影位置の関数として前記照射す
る光の強度を変化させることにより形成された屈折率変
化部を光導波路型回折格子として有することを特徴とす
る光導波路。
9. A method of irradiating light to a slit, projecting an image of the slit on an optical waveguide, and changing an intensity of the irradiated light as a function of a projection position of the slit image in a longitudinal direction of the optical waveguide. An optical waveguide comprising a refractive index changing portion formed by the above as an optical waveguide type diffraction grating.
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