JPH10333105A - Wavelength variable filter with polymer optical waveguide - Google Patents

Wavelength variable filter with polymer optical waveguide

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JPH10333105A
JPH10333105A JP14657297A JP14657297A JPH10333105A JP H10333105 A JPH10333105 A JP H10333105A JP 14657297 A JP14657297 A JP 14657297A JP 14657297 A JP14657297 A JP 14657297A JP H10333105 A JPH10333105 A JP H10333105A
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JP
Japan
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wavelength
optical waveguide
filter
polymer
polymer optical
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Application number
JP14657297A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Oba
直樹 大庭
Toshio Watanabe
俊夫 渡辺
Takashi Kurihara
栗原  隆
Toshiaki Tamamura
敏昭 玉村
Tetsuyoshi Ishii
哲好 石井
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Publication of JPH10333105A publication Critical patent/JPH10333105A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a small-sized wavelength variable filter having a sufficiently broad wavelength selection range, capable of varying branching and joining channels, having a simple structure and ensuring low power consumption work. SOLUTION: This wavelength variable filter comprises a wavelength filter with polymer optical waveguides having a grating structure, an input-output optical circuit and a temp. regulator. Optical signals of specified wavelengths are separated and mixed by varying the set temp. of the temp. regulator. The embedded polymer optical waveguides 33 are formed on a metallic substrate with two deuterated and fluorinated polymethacrylates different from each other in refractive index by a prescribed value and different from each other in copolymn. ratio as a cladding material and a core material. The waveguide pattern has a directional coupler 32 having a prescribed coupling ratio connected to the linear waveguides. A refractive index alteration type grating 31 is written in a linear waveguide part with an electron beam lithography system to obtain the wavelength filter.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、波長多重光通信
(WDM)システムにおいて、波長多重光信号に任意の
波長信号を追加したり、あるいは波長多重光信号から任
意の波長信号を取り出すアドドロップマルチプレクサ
(ADM)機能を有する高分子光導波路波長可変フィル
ターに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an add / drop multiplexer for adding an arbitrary wavelength signal to a wavelength multiplexed optical signal or extracting an arbitrary wavelength signal from the wavelength multiplexed optical signal in a wavelength multiplexed optical communication (WDM) system. The present invention relates to a polymer optical waveguide tunable filter having an (ADM) function.

【0002】[0002]

【従来の技術】WDMシステムは、光伝送路の伝送可能
な波長帯域内に波長の異なる複数の光信号を多重させる
ことで、伝送容量の増大を図った光通信システムであ
る。このシステムにおいては、波長多重信号から特定の
波長の信号(チャンネル)を分離(分波)する、あるい
は、特定のチャンネルを多重化(合波)する光回路すな
わちADMが必要となる。ADMの機能は、波長フィル
タリングであり、目的のチャンネルと残りのチャンネル
の信号を別のポートに出力できる。この目的の波長フィ
ルターには、隣接するチャンネルからのクロストークを
十分に低くするために、狭帯域の波長選択性が要求され
る。たとえば、波長1.55μm帯のWDMシステムに
おいては、伝送波長帯域1.543〜1.556μm内
に、周波数間隔100GHzの16チャンネル多重や、
2000GHzの8チャンネル多重のシステムが盛んに
研究されている。これらは、それぞれ波長間隔0.8n
m、1.6nmに相当し、波長フィルターはこの間隔よ
り十分狭い透過帯域を持つことが必要である。
2. Description of the Related Art A WDM system is an optical communication system in which a plurality of optical signals having different wavelengths are multiplexed in a wavelength band that can be transmitted through an optical transmission line, thereby increasing a transmission capacity. In this system, an optical circuit, that is, an ADM that separates (demultiplexes) a signal (channel) of a specific wavelength from a wavelength multiplexed signal or multiplexes (combines) a specific channel is required. The function of the ADM is wavelength filtering, and the signals of the target channel and the remaining channels can be output to different ports. A wavelength filter for this purpose is required to have narrow-band wavelength selectivity in order to sufficiently reduce crosstalk from an adjacent channel. For example, in a WDM system with a wavelength band of 1.55 μm, 16 channels multiplexed at a frequency interval of 100 GHz within a transmission wavelength band of 1.543 to 1.556 μm,
A 2000 GHz 8-channel multiplex system has been actively studied. These have a wavelength interval of 0.8 n each.
m, which is 1.6 nm, and the wavelength filter needs to have a transmission band sufficiently narrower than this interval.

【0003】このような、狭帯域の波長フィルターの候
補として石英平板光波回路(PLC)によるアレイ導波
路格子(AWG)フィルターやファイバグレーティング
(FG)フィルター、誘電体多層膜フィルターが研究さ
れている。AWGは、光路長差をもたせたアレイ導波路
からの光の多重干渉により波長分離を行うもので、複数
チャンネルを同時に分波および合波できる特徴を持つ。
FGフィルターは、光ファイバー中に、紫外光照射によ
る屈折率変調型グレーティングを形成したもので、目的
のチャンネル信号はグレーティングにより反射され、外
部に設けた光カップラーや光サーキュレーターと組み合
わせて分離される。誘電体多層膜フィルターは、基板上
に堆積した膜状のフィルターであり、光導波路のコアを
横切るように埋め込む、若しくは、レンズを用いて平行
光にした光路に設置して使用する。
As candidates for such a narrow-band wavelength filter, an arrayed waveguide grating (AWG) filter, a fiber grating (FG) filter, and a dielectric multilayer filter using a quartz plate lightwave circuit (PLC) have been studied. The AWG performs wavelength separation by multiplex interference of light from an array waveguide having an optical path length difference, and has a feature that a plurality of channels can be simultaneously demultiplexed and multiplexed.
The FG filter is formed by forming a refractive index modulation type grating by irradiating ultraviolet light in an optical fiber, and a target channel signal is reflected by the grating and separated in combination with an optical coupler or an optical circulator provided outside. The dielectric multilayer filter is a film-like filter deposited on a substrate, and is used by being embedded so as to traverse the core of the optical waveguide or installed in a parallel optical path using a lens.

【0004】WDMシステム設計の自由度を挙げるため
には、分波合波するチャンネルが可変できるADMの使
用が必要となる。PLC−AWGでは、分離した各チャ
ンネル毎に光スイッチを挿入することで可変チャンネル
の選択が実現されている。しかし、この構成ではチャン
ネル数だけの光スイッチが必要となり、光回路が大規模
になる欠点がある。また、光スイッチとして、PLCの
熱光学(TO)スイッチを用いた場合は、AWGと同一
基板上に比較的小型に作製できるメリットがあるが、そ
れでも、チップサイズ9cm×7cm程度の大規模PL
Cであることには変わらず(K. Okamoto et al., Electr
onics Letters, Vol.32, pp.1471-1472参照)、さら
に、TOスイッチの消費電力が大きいという問題も生じ
ている。一方、FGフィルターを用いたADMでは、応
力や温度変化による屈折率変化をグレーティング部に与
えることで、中心波長を変化させることができるが、そ
の可変波長範囲は高々2nmであり、チャンネル選択に
使用できるだけの十分な波長可変範囲は得られていな
い。誘電体多層膜フィルターで可変波長を実現するに
は、フィルターを回転させるなど機械動作が必要とな
り、小型化、高速応答が難しい。
[0004] In order to increase the degree of freedom in WDM system design, it is necessary to use an ADM that can change the channels to be combined. In the PLC-AWG, selection of a variable channel is realized by inserting an optical switch for each separated channel. However, this configuration requires optical switches of the same number as the number of channels, and has a disadvantage that the optical circuit becomes large-scale. Further, when a thermo-optic (TO) switch of a PLC is used as an optical switch, there is an advantage that it can be manufactured relatively small on the same substrate as the AWG. However, a large-scale PL with a chip size of about 9 cm × 7 cm is still used.
C. (K. Okamoto et al., Electr
onics Letters, Vol. 32, pp. 1471-1472), and there is also a problem that the power consumption of the TO switch is large. On the other hand, in an ADM using an FG filter, the center wavelength can be changed by giving a refractive index change due to stress or temperature change to the grating portion, but the variable wavelength range is at most 2 nm, which is used for channel selection. A sufficient wavelength tunable range has not been obtained. In order to realize a variable wavelength with a dielectric multilayer filter, mechanical operations such as rotating the filter are required, and miniaturization and high-speed response are difficult.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】実用的なADMを実現
するためには、十分な波長選択範囲を持ち分波合波する
チャンネルが可変できる波長フィルターで、単純な構成
で小型の低消費電力動作するものが必要である。本発明
の課題は、これらの条件を満たす可変チャンネルADM
(波長可変フィルター)を実現することにある。
In order to realize a practical ADM, a wavelength filter having a sufficient wavelength selection range and a variable channel for multiplexing and demultiplexing is used. You need something to do. An object of the present invention is to provide a variable channel ADM satisfying these conditions.
(Wavelength tunable filter).

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、高分子材料の
大きなTO定数を利用することで、前述の条件を満たし
た可変チャンネルADMを実現する。
The present invention realizes a variable channel ADM that satisfies the above-mentioned conditions by utilizing a large TO constant of a polymer material.

【0007】高分子材料による光導波路は、石英に代表
される無機ガラス材料の光導波路と比べて、その作製プ
ロセスが、簡便で、低温であることや、光非線形性など
機能性が付与しやすいことが注目され、研究されてい
る。さらに、高分子材料の熱光学(TO)定数は、無機
ガラスのそれより約1桁大きいため、高分子導波路のT
Oスイッチは、少ない温度変化、すなわち少ない加熱電
力で動作することも注目されている。
An optical waveguide made of a polymer material has a simpler manufacturing process than a light waveguide made of an inorganic glass material typified by quartz, and is easily provided with functionality such as low temperature and optical nonlinearity. It has been noted and studied. Further, since the thermo-optic (TO) constant of the polymer material is about one order of magnitude larger than that of the inorganic glass, the T
It is also noted that the O-switch operates with small temperature changes, that is, with small heating power.

【0008】しかし、波長フィルターなど光導波路の屈
折率の絶対値が直接特性を決める光回路では、大きいT
O定数は、環境温度変化に対して特性が不安定になるた
め、一般には欠点と考えられていた。これに対して、本
発明では、大きなTO定数をもつ高分子光導波路による
波長フィルターが、温度変化によって中心波長が大きく
変化することを利用した。本発明は、高分子光導波路グ
レーティングによる小型の波長フィルターに波長選択を
可能とするための温度制御装置を具備することで、WD
Mシステムのチャンネル選択に十分な大きさの可変範囲
を持つ波長可変フィルターを実現したものである。
However, in an optical circuit such as a wavelength filter where the absolute value of the refractive index of the optical waveguide directly determines the characteristics, a large T
The O constant is generally considered to be a drawback because its characteristics become unstable with respect to a change in environmental temperature. On the other hand, in the present invention, the fact that the center wavelength of a wavelength filter using a polymer optical waveguide having a large TO constant greatly changes due to a temperature change is used. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a WD by providing a small wavelength filter using a polymer optical waveguide grating with a temperature control device for enabling wavelength selection.
This realizes a wavelength tunable filter having a variable range large enough for channel selection of the M system.

【0009】WDMシステムの全チャンネルを選択可能
とするために、フィルターの可変波長範囲は13nm程
度、すなわち使用する波長(1550nm)の約0.8
%が必要である。何れの波長フィルター回路を使用して
も、石英材料のTO効果をもってこの波長範囲を実現す
るためには1000℃程度の温度変化が必要であり、実
現不可能である。一方、本発明の高分子光導波路におい
ては、高分子材料のTO定数が大きいため、60℃程度
で十分な波長変化を得ることができた。
In order to select all the channels of the WDM system, the variable wavelength range of the filter is about 13 nm, that is, about 0.8 nm of the used wavelength (1550 nm).
%is required. No matter which wavelength filter circuit is used, a temperature change of about 1000 ° C. is necessary to realize this wavelength range with the TO effect of the quartz material, which is impossible. On the other hand, in the polymer optical waveguide of the present invention, since the TO constant of the polymer material was large, a sufficient wavelength change could be obtained at about 60 ° C.

【0010】石英PLCのAWGとTOスイッチの組み
合わせによるADMにおいては、必要な波長安定性を得
るための定温の温度制御の電力消費と、TOスイッチの
動作電力との両方が必要となる。本発明の高分子光導波
路波長フィルターも波長可変のための温度制御に必要と
なる電力消費については同様であるが、その他の電力消
費は無い。波長可変のための温度制御装置として薄膜ヒ
ーターを用いた場合でも、その消費電力は後述するよう
に100mW程度であり、石英PCLのTOスイッチに
動作電力(1W以上)よりははるかに少ない。
In an ADM using a combination of a quartz PLC AWG and a TO switch, both power consumption of constant temperature control for obtaining required wavelength stability and operating power of the TO switch are required. The polymer optical waveguide wavelength filter of the present invention has the same power consumption required for temperature control for tunable wavelength, but does not consume any other power. Even when a thin film heater is used as a temperature controller for tunable wavelength, its power consumption is about 100 mW, as will be described later, which is far less than the operating power (1 W or more) of a quartz PCL TO switch.

【0011】本発明で波長可変のための温度制御装置と
して薄膜ヒーターを用いる場合は、高速でチャンネルを
選択することが可能となる。薄膜ヒーターに必要な加熱
電力、応答速度は、熱拡散数値シミュレーションで求め
られる。一般的な高分子材料の熱電動率(0.2Wm-1
-1)、比熱(2×106 JK-1-3)、TO定数(1
×10-4-1)を仮定して、加熱が必要となる波長フィ
ルター部の面積を30μm×3mmとして計算を行っ
た。十分な波長範囲を得るための60℃の温度変化を与
えるヒーター電力は110mWであり、温度変化が90
%まで達するまでの所要時間は10msであった。
In the case where a thin film heater is used as a temperature controller for changing the wavelength in the present invention, it is possible to select a channel at high speed. The heating power and response speed required for the thin-film heater can be obtained by thermal diffusion numerical simulation. Thermal power ratio of general polymer material (0.2 Wm -1
K -1 ), specific heat (2 × 10 6 JK -1 m -3 ), TO constant (1
× 10 -4 ° C -1 ), and the calculation was performed assuming that the area of the wavelength filter portion requiring heating was 30 µm x 3 mm. The heater power for providing a temperature change of 60 ° C. for obtaining a sufficient wavelength range is 110 mW, and the temperature change is 90 mW.
% Was 10 ms.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の高分子光導波路波長可変
フィルターは、高分子光導波路グレーティング、入出力
光回路、温度調節装置からなる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A polymer optical waveguide wavelength variable filter according to the present invention comprises a polymer optical waveguide grating, an input / output optical circuit, and a temperature controller.

【0013】高分子光導波路グレーティングとしては、
レリーフ型と屈折率変調型の両方が使用可能である。
As a polymer optical waveguide grating,
Both relief and refractive index modulation types can be used.

【0014】レリーフ型光導波路グレーティングの構造
の透視平面図およびコア長手方向に沿った断面図を、図
1(a)および(b)に示す。図中、符号11はレリー
フ型グレーティング、12はコア、13はクラッド、1
4は基板を示す。作製法は、スピンコート法による薄膜
堆積、フォトリソグラフィー、エッチングなどによるコ
アリッジ加工による通常の埋め込み型チャネル導波路を
作製するプロセスに、準ずる。レリーフ型グレーティン
グ11は、コア12の堆積後、またはコアリッジ作製後
に、レジストを塗布し、2光束干渉露光または位相マス
ク露光または電子ビーム描画でグレーティングパターン
を書き込み、現像、エッチングの工程を経ることで作製
できる。また、コア12の材料としてフォトポリマーを
使用した場合は、レジストを使用せずに直接コア層に書
き込むことができる。高分子材料としては、薄膜作製が
可能であり、制御温度範囲において安定なものであれ
ば、使用可能である。さらに、本発明では、光導波路材
料として重水素化または重水素フッ素化アクリルポリマ
ーまたはシリコーン樹脂またはUV硬化樹脂が、上記条
件を満足するとともに、1.31μmおよび1.55μ
mの通信波長帯において低導波損失であること、加工性
に優れることから、低損失で波長選択特性に優れたAD
M作製に適することを見いだした。
FIGS. 1A and 1B are a perspective plan view and a sectional view taken along the longitudinal direction of the core of the structure of the relief type optical waveguide grating. In the figure, reference numeral 11 denotes a relief grating, 12 denotes a core, 13 denotes a clad, 1
Reference numeral 4 denotes a substrate. The fabrication method conforms to the process of fabricating a normal buried channel waveguide by core ridge processing by thin film deposition by spin coating, photolithography, etching, or the like. The relief type grating 11 is manufactured by applying a resist after depositing the core 12 or forming the core ridge, writing a grating pattern by two-beam interference exposure or phase mask exposure or electron beam drawing, and developing and etching. it can. When a photopolymer is used as the material of the core 12, the core layer can be directly written without using a resist. As the polymer material, any material can be used as long as it can produce a thin film and is stable in a controlled temperature range. Furthermore, in the present invention, a deuterated or deuterated fluorinated acrylic polymer, a silicone resin, or a UV curable resin as the optical waveguide material satisfies the above-mentioned conditions, and has 1.31 μm and 1.55 μm.
m, which has low waveguide loss and excellent workability in the communication wavelength band of m.
It was found to be suitable for M production.

【0015】屈折率変調型光導波路グレーティングの構
造の透視平面図およびコア長手方向に沿った断面図を、
図2(a)および(b)に示す。図中、符号21は屈折
率変調型グレーティング、22はコア、23はクラッ
ド、24は基板、25はコアの内の屈折率変化を与えた
部分を示す。コア22には、光または電子線照射で屈折
率が変化する材料を用い、2光束干渉露光または位相マ
スク露光または電子ビーム描画でグレーティングパター
ンを屈折率変化として書き込むことで作製できる。たと
えば、アクリルポリマーは電子ビーム照射で屈折率が増
大し、また、ベンゼン環含有シリコーンポリマーはUV
光照射で屈折率が低下することから、屈折率変調型光導
波路グレーティング作製が可能である。
A perspective plan view and a sectional view taken along the longitudinal direction of the core of the structure of the refractive index modulation type optical waveguide grating are shown in FIG.
These are shown in FIGS. In the figure, reference numeral 21 denotes a refractive index modulation type grating, 22 denotes a core, 23 denotes a clad, 24 denotes a substrate, and 25 denotes a portion of the core to which a change in the refractive index is given. The core 22 can be manufactured by writing a grating pattern as a refractive index change by two-beam interference exposure, phase mask exposure, or electron beam drawing using a material whose refractive index changes by light or electron beam irradiation. For example, an acrylic polymer has an increased refractive index upon irradiation with an electron beam, and a benzene ring-containing silicone polymer has a UV index.
Since the refractive index is reduced by light irradiation, it is possible to manufacture a refractive index modulation type optical waveguide grating.

【0016】光導波路グレーティング21は、所定の波
長の光を反射するため、ADMの機能を実現するために
は、反射した光を分離する光回路が必要となる。
Since the optical waveguide grating 21 reflects light having a predetermined wavelength, an optical circuit for separating the reflected light is required to realize the function of the ADM.

【0017】図3には、グレーティングと同時に作製し
た高分子光導波路の方向性結合器によるADMを示し
た。図中、符号30は波長可変フィルター、31はグレ
ーティング(波長フィルター)、32は方向性結合器、
33は入出力光導波路を示す。また、Aは入力ポート、
Bはドロップポート、Cはアドポートを示す。これらポ
ートの符号は、以下の図においても同様のポートを示
す。なお、以下の図において、Dは出力ポートを示す。
FIG. 3 shows an ADM using a directional coupler of a polymer optical waveguide manufactured simultaneously with the grating. In the figure, reference numeral 30 denotes a tunable filter, 31 denotes a grating (wavelength filter), 32 denotes a directional coupler,
Reference numeral 33 denotes an input / output optical waveguide. A is an input port,
B indicates a drop port, and C indicates an add port. The symbols of these ports indicate the same ports in the following drawings. In the following figures, D indicates an output port.

【0018】一方、図4(a)および(b)には、高分
子導波路グレーティング外部に接続した光サーキュレー
ターを用いたADMを示した。図中、符号41はグレー
ティング(波長フィルター)、42はクラッド、43は
薄膜ヒーター、44は基板、45は断熱層、46は光サ
ーキュレーターを示す。
On the other hand, FIGS. 4A and 4B show an ADM using an optical circulator connected outside the polymer waveguide grating. In the drawing, reference numeral 41 denotes a grating (wavelength filter), 42 denotes a clad, 43 denotes a thin film heater, 44 denotes a substrate, 45 denotes a heat insulating layer, and 46 denotes an optical circulator.

【0019】さらに、図5には、選択したチャンネル
(波長λi )の合波と分波を同時に行うADMの構造を
示した。図中、符号51はグレーティング(波長フィル
ター)、52は方向性結合器、53は入出力光導波路、
54は波長可変用薄膜ヒーター、55はトリミング用薄
膜ヒーターを示す。この図5の構造のADMでは、マッ
ハツェンダー干渉計(MZI)の2つのアーム中にグレ
ーティング波長フィルター54を作製し、全体を対称構
造としている。分波の場合、方向性結合器52で分けら
れた2つの波長多重信号光のうち波長λi のみが2つの
グレーティング51で反射され、方向性結合器52を通
してドロップポートBに出力される。同じ原理で合波も
アドポートCに波長λi の光信号を入力することで、同
時に行える。ここでは、MZIに2つのアームの光路長
とグレーティング51の位置が正確に対照的であること
が必要なため、トリミング用薄膜ヒーター55を設置し
てTO効果で光路長の対称性を補正している。
FIG. 5 shows the structure of an ADM for simultaneously multiplexing and demultiplexing a selected channel (wavelength λ i ). In the figure, reference numeral 51 denotes a grating (wavelength filter), 52 denotes a directional coupler, 53 denotes an input / output optical waveguide,
Reference numeral 54 denotes a wavelength variable thin film heater, and 55 denotes a trimming thin film heater. In the ADM having the structure shown in FIG. 5, a grating wavelength filter 54 is formed in two arms of a Mach-Zehnder interferometer (MZI), and the entire structure has a symmetric structure. For demultiplexing, only the wavelength lambda i of the two wavelength-multiplexed signal light separated by the directional coupler 52 is reflected by the two gratings 51, are output to the drop port B through the directional coupler 52. By inputting the optical signal of the wavelength lambda i to the multiplexing also add port C on the same principle, performed at the same time. Here, it is necessary that the optical path length of the two arms and the position of the grating 51 be exactly symmetrical in the MZI. Therefore, the thin-film heater 55 for trimming is installed to correct the symmetry of the optical path length by the TO effect. I have.

【0020】温度調節装置には、チャンネル選択に必要
な60℃程度の可変範囲と、波長安定性を得るための温
度安定性が要求される。選択波長の安定性をチャンネル
間隔の5%以内とするためには、16チャンネルのAD
Mで±0.1℃の温度制御が必要となる。高分子光導波
路全体の温度を制御するときは、光導波路を適当な断熱
剤で囲んだ上で、基板に接するヒーターまたはピエゾ素
子と、温度測定素子によるフィードバック制御で±0.
1℃の精度は実現できる。また、薄膜ヒーターを用いて
グレーティング部のみの温度制御を行うときは、以下の
2つの方法どちらでも波長の安定性を実現できる。すな
わち、第1の方法は、上記と同じ基板温度制御系で基板
温度を一定に保った上で、薄膜ヒーターに選択チャンネ
ルに依存する一定の加熱電力を与える方法である。第2
の方法は、基板に熱電対などの温度測定素子を組み込ん
でおき、予め目的の中心波長を得るために必要な薄膜ヒ
ーター加熱電力を基板温度の関数として測定しておく。
動作させるときは、基板温度と波長設定の2値から算出
される加熱電力を薄膜ヒーターに与える。
The temperature control device is required to have a variable range of about 60 ° C. necessary for channel selection and temperature stability for obtaining wavelength stability. In order to keep the stability of the selected wavelength within 5% of the channel interval, the AD of 16 channels is required.
Temperature control of ± 0.1 ° C. at M is required. When controlling the temperature of the entire polymer optical waveguide, the optical waveguide is surrounded by a suitable heat insulating agent, and a heater or a piezo element in contact with the substrate and a feedback control by a temperature measuring element are used to control the temperature of ± 0.0.
Accuracy of 1 ° C can be realized. When the temperature of only the grating portion is controlled using a thin film heater, the stability of the wavelength can be realized by either of the following two methods. That is, the first method is a method in which the substrate temperature is kept constant by the same substrate temperature control system as described above, and a constant heating power depending on the selected channel is applied to the thin film heater. Second
In the method (1), a temperature measuring element such as a thermocouple is incorporated in a substrate, and a thin-film heater heating power required to obtain a target center wavelength is measured in advance as a function of the substrate temperature.
When operating, the heating power calculated from the two values of the substrate temperature and the wavelength setting is applied to the thin film heater.

【0021】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。以下の実施例は、本発明を説明する好適な例
にすぎず、本発明を限定するものではない。
Now, the present invention will be described in further detail with reference to Examples. The following examples are only preferred examples illustrating the present invention and do not limit the present invention.

【0022】[0022]

【実施例】【Example】

(実施例1)図3に示す構造の波長可変フィルターを作
製した。屈折率差0.3%になるように調製した共重合
比の異なる2種類の重水素化・フッ素化ポリメタクリレ
ート(特開平2−257865号、「平板型プラスチッ
ク導波路」参照)を、クラッド材料、コア材料として、
金属基板上に埋め込み型のポリマー光導波路33を作製
した。コアの断面サイズは8μm×8μmで、導波路パ
ターンは結合比50%の方向性結合器32と直線導波路
が接続したものとした。直線導波路部分に、電子線描画
装置を用いて、屈折率差2×10-4、周期0.43μ
m、長さ2mmの屈折率変調型グレーティング31を書
き込み、波長フィルターを得た。熱電対とピエゾ素子を
用いて温度を電子的に制御したアルミブロックに、光導
波路基板を固定した。
Example 1 A tunable filter having the structure shown in FIG. 3 was manufactured. Two kinds of deuterated and fluorinated polymethacrylates having different copolymerization ratios prepared so as to have a refractive index difference of 0.3% (see JP-A-2-257865, "Plate-type plastic waveguide") are used as cladding materials. , As core material,
A buried polymer optical waveguide 33 was fabricated on a metal substrate. The cross-sectional size of the core was 8 μm × 8 μm, and the waveguide pattern was formed by connecting a directional coupler 32 having a coupling ratio of 50% and a straight waveguide. Using an electron beam lithography system, a refractive index difference of 2 × 10 −4 and a period of 0.43 μm were formed on the straight waveguide portion.
A refractive index modulation type grating 31 having a length of 2 mm and a length of 2 mm was written to obtain a wavelength filter. The optical waveguide substrate was fixed to an aluminum block whose temperature was electronically controlled using a thermocouple and a piezo element.

【0023】1.31μm帯のLED光源の出力を光フ
ァイバーを通して図3に示す可変波長フィルターの入力
ポートAに入射し、ドロップポートB出力の波長特性を
光スペクトルアナライザを用いて測定した。基板を25
℃に制御したときのポートBへの透過特性は、中心波長
1320nm、バンド幅0.5nm、挿入損失9dB、
消光比18dBであった。基板温度を80℃とすると、
中心波長は1310nmとなり、本装置が波長可変フィ
ルターとして動作し、可変波長範囲がADM用途として
十分大きいことが確かめられた。
The output of the LED light source in the 1.31 μm band was made incident on the input port A of the variable wavelength filter shown in FIG. 3 through an optical fiber, and the wavelength characteristic of the output of the drop port B was measured using an optical spectrum analyzer. 25 substrates
The transmission characteristics to the port B when controlled at 0 ° C. were as follows: center wavelength 1320 nm, bandwidth 0.5 nm, insertion loss 9 dB,
The extinction ratio was 18 dB. If the substrate temperature is 80 ° C,
The center wavelength was 1310 nm, and it was confirmed that this device operated as a wavelength tunable filter, and that the variable wavelength range was sufficiently large for ADM applications.

【0024】(実施例2)図4に示すADM構造の波長
可変フィルターを調製した。屈折率差0.3%になるよ
うに調製した。シリコーンポリマー(特願平7−859
79号、「高分子光学材料およびこれを用いた光導波
路」参照)を、クラッド42の材料、コア材料として、
金属基板44上に埋め込み型のポリマー光導波路を作製
した。コアの断面サイズは8μm×8μmで、導波路パ
ターンは直線とした。この光導波路に、位相マスクを通
したUV光を照射して、屈折率差5×10-4、周期0.
51μm、長さ2mmの屈折率変調型グレーティング4
1を書き込んだ。金属薄膜を堆積し、フォトリソグラフ
ィー法およびドライエッチング法を用いてグレーティン
グ41の上に薄膜ヒーター43を形成した。ここで、ヒ
ーター43の幅は30μm、長さ3mmとした。さら
に、クラッド42と同じ材料をさらに堆積して、断熱層
45とした。熱電対とピエゾ素子を用いて温度を電子的
に制御したアルミブロックに、波長フィルター光回路基
板を固定した。この波長可変フィルターを光サーキュレ
ータ46と接続した。
Example 2 A tunable filter having an ADM structure shown in FIG. 4 was prepared. It was adjusted so as to have a refractive index difference of 0.3%. Silicone polymer (Japanese Patent Application No. 7-859)
No. 79, "Polymer optical material and optical waveguide using the same") as a material of the clad 42 and a core material,
An embedded polymer optical waveguide was formed on the metal substrate 44. The cross-sectional size of the core was 8 μm × 8 μm, and the waveguide pattern was a straight line. This optical waveguide is irradiated with UV light having passed through a phase mask to obtain a refractive index difference of 5 × 10 -4 and a period of 0.1.
51 μm, 2 mm long refractive index modulated grating 4
I wrote 1. A metal thin film was deposited, and a thin film heater 43 was formed on the grating 41 by using photolithography and dry etching. Here, the width of the heater 43 was 30 μm and the length was 3 mm. Further, the same material as that of the clad 42 was further deposited to form a heat insulating layer 45. The wavelength filter optical circuit board was fixed to an aluminum block whose temperature was electronically controlled using a thermocouple and a piezo element. This wavelength tunable filter was connected to the optical circulator 46.

【0025】1.55μm帯の可変波長レーザーダイオ
ード光源の出力を光ファイバーを通して図4に示す入力
ポートAに入射し、ドロップポートB出力の波長依存を
測定した。基板を25℃に制御し、薄膜ヒーター43を
加熱しないときのポートBへの透過特性は、中心波長1
560nm、バンド幅0.4nm、挿入損失4dB、消
光比20dBであった。薄膜ヒーター43を加熱する
と、透過中心波長は短波長へシフトした。この時の加熱
電力と中心波長の関係を図6のグラフに示した。さら
に、加熱電力をステップ上に変化させてから、特定の波
長の光を透過して光出力が安定するまでの応答時間を測
定したところ、10msであった。本装置が波長可変フ
ィルターとして動作し、可変波長範囲がADMとして十
分大きく、応答速度も十分速いことが確かめられた。
The output of the variable wavelength laser diode light source in the 1.55 μm band was incident on the input port A shown in FIG. 4 through an optical fiber, and the wavelength dependence of the output of the drop port B was measured. When the substrate is controlled at 25 ° C. and the thin-film heater 43 is not heated, the transmission characteristic to the port B has a center wavelength of 1
The wavelength was 560 nm, the bandwidth was 0.4 nm, the insertion loss was 4 dB, and the extinction ratio was 20 dB. When the thin film heater 43 was heated, the transmission center wavelength shifted to a shorter wavelength. The relationship between the heating power and the center wavelength at this time is shown in the graph of FIG. Further, the response time from when the heating power was changed on the step to when the light of a specific wavelength was transmitted and the light output was stabilized was measured and found to be 10 ms. It was confirmed that this device operated as a tunable filter, the tunable wavelength range was sufficiently large as an ADM, and the response speed was sufficiently fast.

【0026】(実施例3)図5に示すADM構造の波長
可変フィルターを調製した。
Example 3 A wavelength variable filter having an ADM structure shown in FIG. 5 was prepared.

【0027】実施例2と同じ材料を用いて下部クラッド
層、コア層を金属基板に堆積後、レジストを塗布し、電
子線描画装置を用いて周期0.51μm、長さ1mmの
グレーティングパターンを2カ所に書き込んだ。レジス
ト現像後、ドライエッチングで、コア層に深さ0.8μ
mのレリーフ型グレーティング51を作製した。レジス
ト除去後、実施例2と同様な方法で、コアパターンがM
ZIの埋め込み型光導波路を作製した。2つのグレーテ
ィング51の位置は、MZIの2つのアームの中央とな
るようにした。金属薄膜を堆積し、フォトリソグラフィ
ー法およびドライエッチング法を用いて図5中に示すパ
ターンの薄膜ヒーター54を形成した。ここで、波長選
択用薄膜ヒーター54の幅は30μm、長さ2mmとし
た。さらに、クラッドと同じ材料をさらに堆積して、断
熱層とした。熱電対とピエゾ素子を用いて温度を電子的
に制御したアルミブロックに、波長フィルター光回路基
板を固定した。
After depositing a lower cladding layer and a core layer on a metal substrate using the same materials as in Example 2, a resist is applied, and a grating pattern having a period of 0.51 μm and a length of 1 mm is formed using an electron beam lithography apparatus. Written in several places. After resist development, dry etching, core layer 0.8μ depth
m, a relief type grating 51 was prepared. After removing the resist, the core pattern is changed to M
A buried optical waveguide of ZI was manufactured. The position of the two gratings 51 was set at the center of the two arms of the MZI. A metal thin film was deposited, and a thin film heater 54 having the pattern shown in FIG. 5 was formed by using photolithography and dry etching. Here, the width of the wavelength selecting thin film heater 54 was 30 μm and the length was 2 mm. Further, the same material as the clad was further deposited to form a heat insulating layer. The wavelength filter optical circuit board was fixed to an aluminum block whose temperature was electronically controlled using a thermocouple and a piezo element.

【0028】1543nmから1555nmに間隔0.
8nmで波長多重した16チャンネルの光信号を図5に
示した入力ポートAに入射した。各チャンネル信号がド
ロップポートBに出力された時の薄膜ヒーター54の加
熱電力および挿入損失、非選択チャンネルからのクロス
トークを測定した。この時、基板は25℃に、トリミン
グ用薄膜ヒーター55は選択したチャンネルの出力が最
大になるように、それぞれ制御していた。図7に、薄膜
ヒーター54の加熱電力および挿入損失を示す。クロス
トークは何れの場合も−20dB以下であった。また、
アドポートCに選択した波長の信号を入力して、出力ポ
ートDに、上記のドロップ特性と同様な挿入損失が出力
されることを確かめた。
The interval between 1543 nm and 1555 nm is 0.
An optical signal of 16 channels multiplexed at 8 nm was input to the input port A shown in FIG. The heating power and insertion loss of the thin film heater 54 when each channel signal was output to the drop port B, and the crosstalk from the non-selected channel were measured. At this time, the substrate was controlled at 25 ° C., and the thin-film heater for trimming 55 was controlled so that the output of the selected channel was maximized. FIG. 7 shows the heating power and insertion loss of the thin-film heater 54. The crosstalk was -20 dB or less in each case. Also,
A signal of the selected wavelength was input to the add port C, and it was confirmed that an insertion loss similar to the above-described drop characteristic was output to the output port D.

【0029】以上より、本装置が16CHのADMとし
て実用的な特性を持つことが確かめられた。
From the above, it was confirmed that the present device has practical characteristics as a 16-channel ADM.

【0030】(実施例4)図5に示したフィルター部構
造を有し、図8に示す全体構成の波長可変フィルターを
作製した。図8において、符号81はMZI型波長可変
フィルター、82はヒーター制御マイクロコンピュータ
ー、83はDAコンバーター、84はADコンバーター
を示す。
Example 4 A wavelength tunable filter having the filter structure shown in FIG. 5 and having the overall structure shown in FIG. 8 was produced. 8, reference numeral 81 denotes an MZI type tunable filter, 82 denotes a heater control microcomputer, 83 denotes a DA converter, and 84 denotes an AD converter.

【0031】屈折率差0.3%になるように調整した2
種のフッ素化UV樹脂(特開平2−688号、「接着性
組成物」参照)を用い、下部クラッド層、コア層を金属
基板に堆積後、レジストを塗布し、電子線描画装置を用
いて周期0.51μm、長さ1mmのグレーティングパ
ターンを2カ所に書き込んだ。レジスト現像後ドライエ
ッチングで、コア層に深さ0.8μmのレリーフ型グレ
ーティング51を作製した。レジスト除去後、実施例2
と同様な方法で、コアパターンがMZIの埋め込み型光
導波路を作製した。2つのグレーティング51の位置
は、MZIの2つのアームの中央となるようにした。実
施例3と同様の薄膜ヒーター54を形成した。さらに、
クラッドと同じ材料をさらに堆積して、断熱層とした。
熱電対を組み込んだアルミブロックに、波長フィルター
光回路基板を固定し、熱電対出力と波長設定信号から加
熱電力を制御する装置を作製した。1543nmから1
555nmに間隔0.8nmで波長多重した16チャン
ネルの光信号がドロップポートBに出力された時の薄膜
ヒーター54の加熱電力と基板温度の関係を測定し、制
御用マイクロコンピューターのプログラムに組み込ん
だ。
Adjusted so that the refractive index difference becomes 0.3% 2
After depositing a lower cladding layer and a core layer on a metal substrate using a kind of fluorinated UV resin (see JP-A-2-688, "Adhesive composition"), a resist is applied, and an electron beam lithography apparatus is used. A grating pattern having a period of 0.51 μm and a length of 1 mm was written in two places. After development of the resist, a relief type grating 51 having a depth of 0.8 μm was formed on the core layer by dry etching. Example 2 after removing the resist
A buried optical waveguide having a core pattern of MZI was manufactured in the same manner as in the above. The position of the two gratings 51 was set at the center of the two arms of the MZI. A thin film heater 54 similar to that of Example 3 was formed. further,
The same material as the clad was further deposited to form a heat insulating layer.
A wavelength filter optical circuit board was fixed to an aluminum block incorporating a thermocouple, and a device for controlling the heating power from the thermocouple output and the wavelength setting signal was fabricated. 1543nm to 1
The relationship between the heating power of the thin-film heater 54 and the substrate temperature when a 16-channel optical signal wavelength-division multiplexed to 555 nm at an interval of 0.8 nm was output to the drop port B was incorporated into a control microcomputer program.

【0032】1543nmから1555nmに間隔0.
8nmで波長多重した16チャンネルの光信号を入力
し、波長設定信号をチャンネル1〜16とした時に、対
応する波長の信号のみがドロップポートに出力すること
を確かめた。この時の最大の損失は6dB、クロストー
クは−20dB以下であった。
The interval from 1543 nm to 1555 nm is 0.
When an optical signal of 16 channels wavelength-multiplexed at 8 nm was input and the wavelength setting signals were set to channels 1 to 16, it was confirmed that only the signal of the corresponding wavelength was output to the drop port. At this time, the maximum loss was 6 dB, and the crosstalk was -20 dB or less.

【0033】以上より、本装置が16CHのADMとし
て実用的な特性を持つことが確かめられた。
From the above, it has been confirmed that the present apparatus has practical characteristics as a 16CH ADM.

【0034】(実施例5)図9(a)および(b)に示
す構造の高分子光ファイバーグレーティングを用いた波
長可変フィルターを作製した。図中、符号91は高分子
光ファイバーグレーティング、92は屈折率変調型ファ
イバーグレーティング、93は薄膜ヒーター、94はヒ
ーター配線用パッド、95はV溝付き金属基板、96は
薄膜ヒーター付き押さえ板、97は固定用接着剤を示
す。
Example 5 A tunable filter using a polymer optical fiber grating having the structure shown in FIGS. 9A and 9B was manufactured. In the figure, reference numeral 91 is a polymer optical fiber grating, 92 is a refractive index modulation type fiber grating, 93 is a thin film heater, 94 is a pad for heater wiring, 95 is a metal substrate with a V groove, 96 is a holding plate with a thin film heater, and 97 is 3 shows a fixing adhesive.

【0035】高分子光ファイバーグレーティング91
は、アクリル樹脂製光ファイバー(屈折率差0.3%、
外径200μm、コア系9μm)の一部分に、位相マス
クを通したUV光を照射して、周期0.60μm、長さ
2mmの屈折率変調型グレーティング92を書き込んで
作製した。アクリル基板(厚さ1mm)上に金属薄膜を
堆積し、フォトリソグラフィー法およびドライエッチン
グ法を用いて長さ2.5mm、幅50μmの薄膜ヒータ
ー93および配線用パッド94を形成し、押え板96と
した。図9(b)に示すように、V溝付きの金属基板9
5上に前記の高分子光ファイバーグレーティング91を
のせ、押え板96ではさみ、接着剤97で固定した。
Polymer optical fiber grating 91
Is an optical fiber made of acrylic resin (refractive index difference 0.3%,
A part of an outer diameter of 200 μm and a core system of 9 μm) was irradiated with UV light through a phase mask to write a refractive index modulation type grating 92 having a period of 0.60 μm and a length of 2 mm. A metal thin film is deposited on an acrylic substrate (1 mm thick), a thin film heater 93 having a length of 2.5 mm and a width of 50 μm and a wiring pad 94 are formed by photolithography and dry etching, and a pressing plate 96 is formed. did. As shown in FIG. 9B, a metal substrate 9 having a V-shaped groove
The above-mentioned polymer optical fiber grating 91 was placed on 5, sandwiched between holding plates 96, and fixed with an adhesive 97.

【0036】1.55μm帯の可変波長レーザーダイオ
ード光源の出力をこの高分子光ファイバーに入射し、反
射損失特性を測定した。金属基板を25℃に制御し、薄
膜ヒーターを加熱しないときの反射特性は、中心波長1
560nm、バンド幅0.4nm、挿入損失1.9dB
であった。薄膜ヒーターを加熱すると、反射中心波長は
短波長へシフトした。最大250mW印加時に反射中心
波長は1540nmであった。さらに、加熱電力をステ
ップ状に変化させてから、特定の波長の光を透過して光
出力が安定するまでの応答時間を測定したところ、40
0msであった。本装置が波長可変フィルターとして動
作し、可変波長範囲がADMとして十分大きく低損失で
あることが確かめられた。
The output of the 1.55 μm band variable wavelength laser diode light source was incident on this polymer optical fiber, and the reflection loss characteristics were measured. When the metal substrate is controlled at 25 ° C. and the thin-film heater is not heated, the reflection characteristic has a center wavelength of 1
560 nm, bandwidth 0.4 nm, insertion loss 1.9 dB
Met. When the thin film heater was heated, the central reflection wavelength shifted to a shorter wavelength. When a maximum of 250 mW was applied, the reflection center wavelength was 1540 nm. Furthermore, the response time from when the heating power was changed stepwise until light of a specific wavelength was transmitted and the light output was stabilized was measured.
It was 0 ms. It was confirmed that this device operated as a tunable filter, and the tunable wavelength range was sufficiently large as ADM and low loss.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明により、単純な構成で小型、低消
費電力動作、高速応答するADMが作製できる。このA
DMを使用することで、WDMシステムの小型化で低コ
ストが可能となる。
According to the present invention, it is possible to manufacture an ADM having a simple structure, small size, low power consumption operation, and high speed response. This A
The use of DM enables the WDM system to be reduced in size and cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】レリーフ型グレーティング構造を有する本発明
の波長可変フィルターを示すもので、(a)は平面図、
(b)はコアの長手方向に沿った断面図である。
FIG. 1 shows a wavelength tunable filter of the present invention having a relief type grating structure, wherein (a) is a plan view,
(B) is a cross-sectional view along the longitudinal direction of the core.

【図2】屈折率変調型グレーティング構造を有する本発
明の波長可変フィルターを示すもので、(a)は平面
図、(b)はコアの長手方向に沿った断面図である。
FIGS. 2A and 2B show a wavelength tunable filter of the present invention having a refractive index modulation type grating structure, wherein FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is a cross-sectional view along a longitudinal direction of a core.

【図3】光導波路グレーティングと方向性結合器を有し
てなる本発明の波長可変フィルターの平面構成図であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing the configuration of a wavelength tunable filter of the present invention having an optical waveguide grating and a directional coupler.

【図4】光導波路グレーティングと光サーキュレーター
を有してなる本発明の波長可変フィルターを示すもの
で、(a)は平面図、(b)は光グレーティングに沿っ
た断面図である。
4A and 4B show a wavelength tunable filter of the present invention having an optical waveguide grating and an optical circulator, wherein FIG. 4A is a plan view and FIG. 4B is a cross-sectional view along the optical grating.

【図5】光導波路グレーティングとマッハツェンダー干
渉計を有してなる本発明の波長可変フィルターの平面構
成図である。
FIG. 5 is a plan view of a tunable filter of the present invention having an optical waveguide grating and a Mach-Zehnder interferometer.

【図6】波長可変フィルターにおける薄膜ヒーターの加
熱電力と分波中心波長の関係を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the heating power of a thin film heater and the center wavelength of demultiplexing in a tunable filter.

【図7】波長可変フィルターにおいて、各チャンネルが
分波されたときのチャンネル番号と薄膜ヒーターの加熱
電力、および、挿入損失の関係を示すグラフである。こ
のグラフには、同時に各チャンネルの波長も示した。
FIG. 7 is a graph showing a relationship between a channel number, a heating power of a thin film heater, and an insertion loss when each channel is demultiplexed in a wavelength tunable filter. This graph also shows the wavelength of each channel.

【図8】波長設定装置を含む本発明の波長可変フィルタ
ーの全体構成を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing an overall configuration of a wavelength tunable filter of the present invention including a wavelength setting device.

【図9】光ファイバーグレーティングと加熱装置を有し
てなる本発明の波長可変フィルターを示すもので、
(a)は光ファイバグレーティングに沿った側断面図で
あり、(b)は(a)図に垂直な縦断面図である。
FIG. 9 shows a wavelength tunable filter of the present invention having an optical fiber grating and a heating device.
(A) is a side sectional view along an optical fiber grating, and (b) is a longitudinal sectional view perpendicular to (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 レリーフ型グレーティング 12 コア 13 クラッド 14 基板 21 屈折率変調型グレーティング 22 コア 23 クラッド 24 基板 25 コアの内の屈折率変化を与えた部分 30 波長可変フィルター 31 グレーティング(波長フィルター) 32 方向性結合器 33 入出力光導波路 41 グレーティング(波長フィルター) 42 クラッド 43 薄膜ヒーター 44 基板 45 断熱層 46 光サーキュレーター 51 グレーティング(波長フィルター) 52 方向性結合器 53 入出力光導波路 54 波長可変用薄膜ヒーター 55 トリミング用薄膜ヒーター 81 MZI型波長可変フィルター 82 ヒーター制御マイクロコンピューター 83 DAコンバーター 84 ADコンバーター 91 高分子光ファイバーグレーティング 92 屈折率変調型ファイバーグレーティング 93 薄膜ヒーター 94 ヒーター配線用パッド 95 V溝付き金属基板 96 薄膜ヒーター付き押え板 97 固定用接着剤 A 入力ポート B ドロップポート C アドポート D 出力ポート DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Relief type grating 12 Core 13 Cladding 14 Substrate 21 Refractive index modulation type grating 22 Core 23 Cladding 24 Substrate 25 Portion of core which gave refractive index change 30 Wavelength variable filter 31 Grating (wavelength filter) 32 Directional coupler 33 Input / output optical waveguide 41 Grating (wavelength filter) 42 Cladding 43 Thin film heater 44 Substrate 45 Heat insulation layer 46 Optical circulator 51 Grating (wavelength filter) 52 Directional coupler 53 Input / output optical waveguide 54 Wavelength variable thin film heater 55 Trimming thin film heater 81 MZI type tunable filter 82 Heater control microcomputer 83 DA converter 84 A / D converter 91 Polymer optical fiber grating 92 Refractive index change Type fiber grating 93 thin film heaters 94 Heater wiring pads 95 V grooved metal substrate 96 with a thin film heater pressing plate 97 fixing adhesive A input port B drop port C add port D output port

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉村 敏昭 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 石井 哲好 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Toshiaki Tamamura 3-19-2 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Japan Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Tetsuyoshi Ishii 3-19, Nishishinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo No. 2 Nippon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 グレーティング構造を有する高分子光導
波路または高分子光ファイバーからなる波長フィルター
と、該波長フィルターに接続して光信号の入出力または
合波または分離を行う光回路と、前記波長フィルターの
温度を任意に制御する温度調節装置からなる波長可変フ
ィルターにおいて、 前記温度調節装置の設定温度を変化させることで、特定
の波長の光信号を分離、または混合することを特徴とす
る高分子光導波路波長可変フィルター。
1. A wavelength filter comprising a polymer optical waveguide or a polymer optical fiber having a grating structure, an optical circuit connected to the wavelength filter for inputting / outputting, multiplexing, or separating an optical signal; In a wavelength tunable filter including a temperature control device for arbitrarily controlling a temperature, a polymer optical waveguide characterized in that an optical signal of a specific wavelength is separated or mixed by changing a set temperature of the temperature control device. Tunable filter.
【請求項2】 前記温度調節装置が、前記グレーティン
グ構造を有する高分子光導波路または高分子光ファイバ
ーに近接しており、該グレーティング構造を有する高分
子光導波路または高分子光ファイバーの近傍のみを加熱
する局所加熱ヒーターであることを特徴とする請求項1
に記載の高分子光導波路波長可変フィルター。
2. A local temperature control device which is close to a polymer optical waveguide or a polymer optical fiber having the grating structure, and which heats only the vicinity of the polymer optical waveguide or the polymer optical fiber having the grating structure. 2. The heater according to claim 1, wherein the heater is a heater.
4. The tunable polymer optical waveguide filter according to item 1.
【請求項3】 前記グレーティング構造を有する高分子
光導波路が、重水素化または重水素フッ素化アクリルポ
リマーまたはシリコーン樹脂またはUV硬化樹脂を用い
た光導波路であることを特徴とする請求項1に記載の高
分子光導波路波長可変フィルター。
3. The optical waveguide according to claim 1, wherein the polymer optical waveguide having the grating structure is an optical waveguide using a deuterated or deuterated fluorinated acrylic polymer, a silicone resin, or a UV-curable resin. Polymer optical waveguide wavelength tunable filter.
【請求項4】 前記グレーティング構造を有する高分子
光導波路が、重水素化または重水素フッ素化アクリルポ
リマーまたはシリコーン樹脂またはUV硬化樹脂を用い
た光導波路であることを特徴とする請求項2記載の高分
子光導波路波長可変フィルター。
4. The optical waveguide according to claim 2, wherein the polymer optical waveguide having the grating structure is an optical waveguide using a deuterated or deuterated fluorinated acrylic polymer, a silicone resin, or a UV-curable resin. Polymer optical waveguide tunable filter.
JP14657297A 1997-01-09 1997-06-04 Wavelength variable filter with polymer optical waveguide Pending JPH10333105A (en)

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