JPH10326919A - Magneto resistive device - Google Patents

Magneto resistive device

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Publication number
JPH10326919A
JPH10326919A JP9199353A JP19935397A JPH10326919A JP H10326919 A JPH10326919 A JP H10326919A JP 9199353 A JP9199353 A JP 9199353A JP 19935397 A JP19935397 A JP 19935397A JP H10326919 A JPH10326919 A JP H10326919A
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JP
Japan
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magnetic
film
magnetoresistive
magnetic field
magnetic film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9199353A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Shinoura
治 篠浦
Yuichi Sato
雄一 佐藤
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to US09/013,638 priority patent/US6184680B1/en
Publication of JPH10326919A publication Critical patent/JPH10326919A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily optimize magnetic characteristics for product specifications by utilizing a magnetic elastic effect, by arranging and forming a magnetic film with the magnetic resistance effect for detecting a magnetic field on a flexible substrate. SOLUTION: In an element 1, a magnetic film 15 with a magnetic resistance effect for detecting a magnetic field, and conductor electrode films 21 and 25 that are connected to the magnetic film 15 and feed current to it, are arranged and formed on the surface of a flexible substrate 10. Then, the magnetic film 15 is formed in a specific pattern shape to detect the magnetic field and both edge parts 15a and 15a are connected to one portion of the conductor electrode films 21 and 25. Then, for example, the flexible substrate 10 is curved by a flat-plate-shaped auxiliary member 9 with curved parts 9a and 9a, and is kept flat at a location where the magnetic film 15 is formed and a curved part 11 is formed, thus preventing a projecting part that interferes with the detection of the magnetic field from being generated on a surface where the magnetic film 15 is formed, and hence extremely reducing a distance to an object to be detected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気抵抗効果素
子、特に、回転検出や位置検出に用いられる磁界センサ
等の磁界検出素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistance effect element, and more particularly to a magnetic field detection element such as a magnetic field sensor used for rotation detection and position detection.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気抵抗効果素子は、強磁性体金属の電
気抵抗が外部の磁界の変化により変化する現象(磁気抵
抗効果、MR効果)を利用して磁界強度を測定する素子
である。単層磁性膜としては、古くから知られている磁
気異方性磁気抵抗効果が利用されていたが、最近では、
例えば特開平5−259530号公報や、特開平7−7
7531号公報に開示されているように、多層構造から
なる磁性膜による巨大磁気抵抗効果(GMR効果)を用
いた素子も開発されている。
2. Description of the Related Art A magnetoresistive element is an element for measuring the intensity of a magnetic field using a phenomenon in which the electric resistance of a ferromagnetic metal changes due to a change in an external magnetic field (magnetoresistive effect, MR effect). As the single-layer magnetic film, a long-known magnetic anisotropic magnetoresistance effect was used, but recently,
For example, JP-A-5-259530 and JP-A-7-7
As disclosed in Japanese Patent No. 7531, an element using a giant magnetoresistance effect (GMR effect) using a magnetic film having a multilayer structure has been developed.

【0003】また、ナショナルテクニカルレポート,4
2巻,4号,465〜472ページには、(NiFeC
o/Cu)多層膜を巨大磁気抵抗効果素子として用いた
VTRキャプスタンモータ回転検出センサが紹介されて
いる。この磁界センサは、多極着磁された回転体からの
磁界の変化を検出することで、結果として非接触で回転
速度を検出している。従って、このような磁界センサに
おいては、検出部である磁気抵抗効果膜と着磁された回
転体からの距離(ギャップ)を小さくすることが非常に
重要である。このため、当該テクニカルレポートでは、
アルミナ基体に、貫通孔を設け、この貫通孔内部にAg
Pdをスルホール印刷・焼成して、基板の裏面側に電極
引き出し部を形成する構造が開示されている。また、ナ
ショナルテクニカルレポート,42巻,4号,480〜
488ページに紹介されているホール素子を用いた磁界
センサでは、表面実装厚さ200μm以下を実現するた
めに、磁界検出素子が形成されている基板にTAB(テ
ープ自動ボンディング)実装を行い、Cu箔リードを用
いた電極引き出しを行っている。しかしながら、このよ
うな従来の方法では、工程が複雑化し、コスト高の原因
となっていた。
[0003] Also, National Technical Report, 4
Vol. 2, No. 4, pp. 465-472, (NiFeC
o / Cu) A VTR capstan motor rotation detection sensor using a multilayer film as a giant magnetoresistive element is introduced. This magnetic field sensor detects the change in the magnetic field from the multipolar magnetized rotating body, and as a result, detects the rotation speed in a non-contact manner. Therefore, in such a magnetic field sensor, it is very important to reduce the distance (gap) between the magnetoresistive film serving as the detection unit and the magnetized rotating body. Therefore, in this technical report,
A through hole is provided in an alumina substrate, and Ag is provided inside the through hole.
A structure is disclosed in which Pd is through-hole printed and fired to form an electrode lead-out portion on the back surface side of the substrate. Also, National Technical Report, Vol. 42, No. 4, 480-
With a magnetic field sensor using a Hall element introduced on page 488, in order to realize a surface mounting thickness of 200 μm or less, TAB (tape automatic bonding) mounting is performed on a substrate on which a magnetic field detecting element is formed, and Cu foil is used. Electrodes are drawn using leads. However, in such a conventional method, the process becomes complicated and causes a high cost.

【0004】また、日本応用磁気学会誌,1992年,
Vol.16,643〜648ページには、硬い基板の
上に磁性薄膜を形成してなる従来の磁界検出素子では、
基板や保護膜からの不可避の応力による磁気弾性効果に
より磁性膜の磁気特性が変化するために、これを考慮し
た様々な工夫が必要となる旨の記載がなされている。特
に、熱応力は磁気特性を左右する重要な要因であり、成
膜温度や使用温度を十分に考慮し磁気素子の設計を行う
必要がある。また、磁気抵抗効果膜の磁気特性は、様々
な製品仕様に応じて細かく最適化する必要が有ることが
多く、結果として多品種化を招き、工程管理の複雑化を
招いていた。
Further, Journal of the Japan Society of Applied Magnetics, 1992,
Vol. On pages 16, 643 to 648, a conventional magnetic field detecting element in which a magnetic thin film is formed on a hard substrate,
It is described that since the magnetic characteristics of the magnetic film change due to the magnetoelastic effect due to unavoidable stress from the substrate and the protective film, various measures in consideration of the change are required. In particular, thermal stress is an important factor influencing the magnetic properties, and it is necessary to design a magnetic element with due consideration of the film forming temperature and the operating temperature. In addition, the magnetic characteristics of the magnetoresistive film often need to be finely optimized in accordance with various product specifications, resulting in a variety of products and complicated process management.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このような実状のもと
に、本発明は創案されたものであって、その目的は、安
価な基板を用い、かつ磁界検出部である磁性膜の形成さ
れている表面に磁界検出の妨げとなる突出部分(凸部
分)が一切生じることがない構造を可能ならしめ、、さ
らに耐候性に優れた磁気抵抗効果素子を簡単な工程によ
り作製できる磁気抵抗効果素子を提供することにある。
さらに可撓性基体の上に形成された磁性膜に対して、基
体変形とともに、適宜応力を加え、磁気弾性効果を利用
して各々の製品仕様にあわせた磁気特性の最適化を容易
に実現できる磁気抵抗効果素子を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Under such circumstances, the present invention was devised, and an object of the present invention is to use an inexpensive substrate and form a magnetic film as a magnetic field detecting unit. A structure that does not have any protruding portion (protruding portion) that hinders magnetic field detection on the surface where it is made possible, and that a magnetoresistive element with excellent weather resistance can be manufactured by a simple process. Is to provide.
Further, the magnetic film formed on the flexible substrate is appropriately deformed and stress is applied to the magnetic film, and the magnetic characteristics can be easily optimized according to each product specification by utilizing the magnetoelastic effect. It is intended to provide a magnetoresistive element.

【0006】さらには、少なくとも2つ以上の磁性膜を
所定間隔に配置させた、いわゆる、差動動作型検出の磁
気抵抗効果素子であって、上記の磁性膜間隔を任意に変
化させて最適な種々の測定仕様を設定できる磁気抵抗効
果素子を提供するものである。
Furthermore, a so-called differential operation type magnetoresistive element in which at least two or more magnetic films are arranged at a predetermined interval, wherein the above-mentioned magnetic film interval is arbitrarily changed to obtain an optimum. An object of the present invention is to provide a magnetoresistive element capable of setting various measurement specifications.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明の磁気抵抗効果素子は、磁界検出のた
めの磁気抵抗効果を有する磁性膜と、該磁性膜に電流を
流すための導電体電極膜とが、それぞれ、可撓性基体の
上に、配置形成されてなるように構成される。
In order to solve such a problem, a magnetoresistive element according to the present invention comprises a magnetic film having a magnetoresistive effect for detecting a magnetic field, and a current flowing through the magnetic film. Are formed and arranged on a flexible substrate, respectively.

【0008】また、本発明のより好ましい態様として、
前記可撓性基体は、ポリイミドフィルムから構成され
る。
[0008] In a more preferred embodiment of the present invention,
The flexible substrate is composed of a polyimide film.

【0009】また、本発明の変形態様として、前記磁性
膜および前記導電体電極膜は、同一材質から一体的に形
成されているように構成される。
As a modification of the present invention, the magnetic film and the conductor electrode film are formed integrally from the same material.

【0010】また、本発明のより好ましい態様として、
前記磁気抵抗効果を有する磁性膜は、巨大磁気抵抗効果
を示す磁性膜から構成される。
[0010] In a more preferred embodiment of the present invention,
The magnetic film having the magnetoresistive effect is composed of a magnetic film exhibiting a giant magnetoresistive effect.

【0011】また、本発明のより好ましい態様として、
前記磁気抵抗効果を有する磁性膜は、アンチフェロ(結
合)型の巨大磁気抵抗効果を示す磁性膜であるように構
成される。
[0011] In a more preferred embodiment of the present invention,
The magnetic film having the magnetoresistance effect is configured to be a magnetic film exhibiting an antiferro (coupling) type giant magnetoresistance effect.

【0012】また、本発明のより好ましい態様として、
前記可撓性基体は、磁界検出のための磁性膜と導電体電
極膜に形成された外部接続部とが、互いに同一平面内に
存在しないように曲げ加工により形成された湾曲部を備
えてなるように構成される。
[0012] In a more preferred embodiment of the present invention,
The flexible base includes a curved portion formed by a bending process so that a magnetic film for detecting a magnetic field and an external connection portion formed on the conductor electrode film do not exist on the same plane. It is configured as follows.

【0013】また、本発明のより好ましい態様として、
前記可撓性基体は、磁性膜に外部から応力を加えて、磁
気特性を任意に変化させるための曲げ加工により形成さ
れた湾曲部を備えてなるように構成される。
[0013] In a more preferred embodiment of the present invention,
The flexible base is configured to include a curved portion formed by a bending process for arbitrarily changing magnetic properties by applying an external stress to the magnetic film.

【0014】また、本発明の磁気抵抗効果素子は、磁界
検出のための磁気抵抗効果を有する少なくとも2つ以上
の磁性膜と、該磁性膜に電流を流すための導電体電極膜
とが、それぞれ、可撓性基体の上に、配置形成されてな
るように構成される。
Further, in the magnetoresistive element of the present invention, at least two or more magnetic films having a magnetoresistive effect for detecting a magnetic field, and a conductor electrode film for flowing a current through the magnetic film, respectively. , Formed on a flexible substrate.

【0015】また、本発明のより好ましい態様として、
前記少なくとも2つ以上の磁性膜は、所定間隔に配置さ
れており、前記可撓性基体を湾曲または折り曲げするこ
とにより、前記磁性膜間隔を任意に変化させてなるよう
に構成される。
[0015] In a more preferred embodiment of the present invention,
The at least two or more magnetic films are arranged at a predetermined interval, and are configured such that the magnetic substrate interval is arbitrarily changed by bending or bending the flexible base.

【0016】また、本発明のより好ましい態様として、
前記磁性膜の上には、ポリイミド樹脂またはノボラック
樹脂を熱処理した保護膜が形成される。
In a more preferred embodiment of the present invention,
A protective film formed by heat-treating a polyimide resin or a novolak resin is formed on the magnetic film.

【0017】また、本発明の磁気抵抗効果素子は、より
好ましい態様として、回転検出用の素子として用いられ
るように構成される。
Further, the magnetoresistive element of the present invention is configured to be used as a rotation detecting element in a more preferred embodiment.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図面を参照しつつ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1には、本発明の磁気抵抗効果素子1の
好適な実施の一形態としての斜視図が示されている。
FIG. 1 is a perspective view showing a magnetoresistive element 1 according to a preferred embodiment of the present invention.

【0020】図1に示されるように本発明の磁気抵抗効
果素子1は、同一の可撓性基体10の面上に、磁界検出
のための磁気抵抗効果を有する磁性膜15と、該磁性膜
15に接続されこれに電流を流すための導電体電極膜2
1,25とが、それぞれ、配置形成されて構成されてい
る。ここで、配置形成とは、磁性膜15、導電体電極膜
21,25の各々の少なくとも一部が可撓性基体10の
上に形成されている状態を示す。
As shown in FIG. 1, the magnetoresistive element 1 of the present invention comprises a magnetic film 15 having a magnetoresistive effect for detecting a magnetic field, and a magnetic film 15 on the surface of the same flexible substrate 10. And a conductor electrode film 2 for passing a current through the conductor electrode film 15
1 and 25 are arranged and formed, respectively. Here, the arrangement formation means a state where at least a part of each of the magnetic film 15 and the conductor electrode films 21 and 25 is formed on the flexible base 10.

【0021】磁性膜15は、通常、磁界検出のために所
定のパターン形状で形成されており(図1の例では線状
パターン形状)、その両端部15a,15aは、導電体
電極膜21,25の一部とそれぞれ接続されている。導
電体電極膜21,25もまた、所定の電極パターン形状
を備え、通常、導電体電極膜21,25の一端には、図
示のごとく外部接続部(電極パッド部)21a,25a
が形成される。この外部接続部21a,25aを介し
て、ハンダ付け、ワイヤーボンディング等により導電体
電極膜21,25と外部回路との接合が行われる。図1
にはハンダ付けによる接合の例が示されており、ハンダ
31,35により接続線32,36がそれぞれ、外部接
続部21a,25aに接合されている。
The magnetic film 15 is usually formed in a predetermined pattern shape for detecting a magnetic field (in the example of FIG. 1, a linear pattern shape). 25, respectively. The conductor electrode films 21 and 25 also have a predetermined electrode pattern shape. Usually, one end of each of the conductor electrode films 21 and 25 has external connection portions (electrode pad portions) 21a and 25a as illustrated.
Is formed. Via the external connection portions 21a, 25a, the conductor electrode films 21, 25 and the external circuit are joined by soldering, wire bonding, or the like. FIG.
Shows an example of joining by soldering, and connection lines 32 and 36 are joined to external connection portions 21a and 25a by solders 31 and 35, respectively.

【0022】本発明の磁気抵抗効果素子は、そのベース
をなす可撓性基体10を強制的に曲げることなく用いる
ことももちろんできるが、ベースをなす基体が可撓性基
体10である特徴を生かし、適宜、可撓性基体10を強
制的に曲げて使用することにより、素子の用途範囲およ
び発現する効果は多大なものとなる。
The magnetoresistive element of the present invention can of course be used without forcibly bending the flexible base 10 which forms the base thereof, but takes advantage of the characteristic that the base forming the base is the flexible base 10. By appropriately bending and using the flexible substrate 10, the range of application of the element and the effect to be exhibited become great.

【0023】図1に示される例では、可撓性基体10を
湾曲部9a,9aを備える平板形状の補助部材9を用い
て湾曲させたものであり、磁性膜15が形成されている
場所はフラットなままの状態にある。なお、図3には、
図1のごとく可撓性基体10を湾曲させる前の状態を模
式的に示す平面図が示されている。図3に示される平板
状の磁気抵抗効果素子をX−X’線で湾曲させることに
より、図1に示される状態の磁気抵抗効果素子が得られ
る。
In the example shown in FIG. 1, the flexible substrate 10 is curved using the flat auxiliary member 9 having the curved portions 9a, 9a, and the place where the magnetic film 15 is formed is It remains flat. In FIG. 3,
FIG. 2 is a plan view schematically showing a state before the flexible base 10 is bent as shown in FIG. By bending the flat magnetoresistive element shown in FIG. 3 along the line XX ′, the magnetoresistive element in the state shown in FIG. 1 is obtained.

【0024】図2は、図1に示される磁気抵抗効果素子
の具体的使用状況を示す断面図であり、磁界検出部であ
る磁性膜15は、例えば、外部からの磁界発生部40ま
たは磁界変化を引き起こす強磁性体40から距離dの位
置に設置され使用される。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a specific use situation of the magnetoresistive element shown in FIG. 1. The magnetic film 15 serving as a magnetic field detecting unit is, for example, a magnetic field generating unit 40 from the outside or a magnetic field change. And is used at a distance d from the ferromagnetic material 40 that causes

【0025】距離dが大きくなると、磁界強度や検出分
解能の低下を引き起こすことから、磁界検出部である磁
性膜15のパターンが形成されている平面上には、磁界
検出の妨げとなる突出部分(凸部分)が無いことが重要
である。本発明の磁気抵抗効果素子1は、図1および図
2に示されるように、磁性膜15が形成されていない箇
所を曲げて湾曲部11を形成するという好適な態様を採
択することによって、磁性膜15が形成されている表面
に磁界検出の妨げとなる突出部分(凸部分)が一切生じ
ないので、距離dを極めて小さくすることができる。
When the distance d increases, the magnetic field strength and the detection resolution decrease. Therefore, a projecting portion (hindering the detection of the magnetic field) is placed on the plane on which the pattern of the magnetic film 15 serving as the magnetic field detecting portion is formed. It is important that there is no convex part). As shown in FIGS. 1 and 2, the magnetoresistive effect element 1 of the present invention adopts a preferable mode in which a curved portion 11 is formed by bending a portion where the magnetic film 15 is not formed. Since no projecting portion (projecting portion) that hinders magnetic field detection is formed on the surface on which the film 15 is formed, the distance d can be extremely reduced.

【0026】本発明に用いられる可撓性基体10は、い
わゆる可撓性に優れ、薄くて軽いものを用いることが好
ましく、例えば、印刷配線板等として広く使用されてい
るプラスチックフィルムと同様の基板が使用可能であ
る。より具体的には、プラスチックフィルム材質として
公知の各種の材料、例えば、ポリイミド、ポリエチレン
テレフタレート(PET)、ポリポロピレン(PP)、
テフロン等が利用可能である。なかでも特に、導電体電
極膜の端部でのハンダによる接合を考慮して、耐熱性の
高いポリイミドフィルムを用いるのが好ましい。
As the flexible substrate 10 used in the present invention, it is preferable to use a thin and light one having excellent so-called flexibility, for example, a substrate similar to a plastic film widely used as a printed wiring board or the like. Can be used. More specifically, various materials known as plastic film materials, for example, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP),
Teflon or the like is available. In particular, it is preferable to use a polyimide film having high heat resistance in consideration of bonding by solder at the end of the conductor electrode film.

【0027】可撓性基体10の厚さは、特に限定される
ものではないが、通常、1〜200μmの厚さのものが
好ましく、特に好ましくは、10〜150μmである。
この厚さが1μm未満となり、薄くなり過ぎると、基板
(基体)としての強度が不足してしまうことがある。ま
た、この厚さが200μmを超えて、厚くなり過ぎる
と、可撓性が悪くなり所望の曲げ作業を行うのが困難と
なることがある。
The thickness of the flexible substrate 10 is not particularly limited, but is usually preferably from 1 to 200 μm, and particularly preferably from 10 to 150 μm.
If the thickness is less than 1 μm and the thickness is too thin, the strength as a substrate (substrate) may be insufficient. On the other hand, if the thickness exceeds 200 μm and becomes too thick, the flexibility becomes poor, and it may be difficult to perform a desired bending operation.

【0028】本発明で用いられる上記可撓性基体10
は、薄い板厚であったとしても破損する危険がない。こ
のため、表面側に感磁素子(磁気抵抗効果素子)を形成
し、裏面側に外部からの磁界発生部40または磁界の変
化を引き起こす強磁性体40を配置する構造(以下、単
に『基体10介在配置構造』と称す)を採択することが
できる。この場合、可撓性基体10の厚み分が、上記の
距離dに加わることになるが、可撓性基体10の厚みは
薄いので、基体10が感磁作用に及ぼす悪影響はほとん
どない。例えば、上記距離d=1mmの場合であって、
可撓性基体10の厚さが50μmの場合、それらの合計
値はたかだか1.05mmになるにすぎない。特に、磁
気抵抗効果素子に耐食性が要求される場合、『基体10
介在配置構造』は、基体10が実質的な保護膜となり好
ましい。また、感磁素子面から大きく凸となる外部電極
を設けることも可能になる。このような『基体10介在
配置構造』を有効なものとするためには、可撓性基体1
0の厚さは200μm以下、特に75μm以下とするこ
とが好ましい。『基体10介在配置構造』は、本発明の
可撓性基体10を用いてこそ実現できるのであって、従
来より用いられているガラス、シリコン、セラミック等
の可撓性のない基板では製造工程において破損する可能
性が高く、実現困難であった。
The flexible substrate 10 used in the present invention
Has no danger of being damaged even if it is thin. For this reason, a structure in which a magneto-sensitive element (magnetoresistive element) is formed on the front side and a magnetic field generating unit 40 or a ferromagnetic body 40 that causes a change in the magnetic field is arranged on the back side (hereinafter simply referred to as a “base 10”). Interposed arrangement structure ”). In this case, the thickness of the flexible base 10 is added to the distance d. However, since the thickness of the flexible base 10 is small, the base 10 has almost no adverse effect on the magnetic sensing effect. For example, when the distance d is 1 mm,
When the thickness of the flexible substrate 10 is 50 μm, their total value is only 1.05 mm at most. In particular, when corrosion resistance is required for the magnetoresistive effect element, the "base 10
The intervening arrangement structure "is preferable because the base 10 substantially serves as a protective film. In addition, it becomes possible to provide an external electrode that is greatly convex from the surface of the magneto-sensitive element. In order to make such a “base 10 interposed arrangement structure” effective, the flexible base 1
The thickness of 0 is preferably 200 μm or less, particularly preferably 75 μm or less. The “substrate 10 interposed arrangement structure” can be realized only by using the flexible substrate 10 of the present invention. In the case of a conventionally used non-flexible substrate such as glass, silicon, and ceramic, the manufacturing process is difficult. The possibility of breakage was high and it was difficult to realize.

【0029】また、可撓性基体10として用いられるプ
ラスチックフィルムは、アルミナ基板やガラス基板に比
べて安価であり、かつ素子形態を形成するに際し、切断
ないし分離加工が容易であり、製品の低価格化に大きく
貢献するというメリットもある。
Further, the plastic film used as the flexible substrate 10 is inexpensive as compared with an alumina substrate or a glass substrate, and is easy to cut or separate when forming an element form. There is also a merit of greatly contributing to the development.

【0030】本発明で用いられる磁界検出用の磁性膜1
5は、磁気抵抗効果を有する膜であり、単層膜構造、多
層膜構造のいずれであってもよい。磁気抵抗効果とは、
磁場の変化によって電気抵抗が変化する現象をいう。磁
性膜15は、異方性磁気抵抗効果を示す強磁性体膜(異
方性磁気抵抗効果膜)であっても問題は無いが、特に検
出感度が高くて検出する磁界強度を大きく変化させるこ
とが可能な巨大磁気抵抗効果膜(GMR膜)を用いるこ
とが好ましい。巨大磁気抵抗効果膜は、金属人工格子
(藤森啓安、アグネ技術センター、1995年発行)3
47ページに紹介されているように、強磁性体膜と非磁
性体膜との多層膜であり、その多層膜の界面散乱変化に
より抵抗が変化することが知られている。
The magnetic film 1 for detecting a magnetic field used in the present invention
Reference numeral 5 denotes a film having a magnetoresistive effect, which may have a single-layer structure or a multilayer structure. What is the magnetoresistance effect?
A phenomenon in which the electric resistance changes due to a change in the magnetic field. There is no problem even if the magnetic film 15 is a ferromagnetic film exhibiting an anisotropic magnetoresistive effect (anisotropic magnetoresistive film). It is preferable to use a giant magnetoresistive film (GMR film) capable of performing the following. The giant magnetoresistive film is a metal artificial lattice (Hiroshi Fujimori, Agne Technical Center, published in 1995) 3
As introduced on page 47, it is a multilayer film of a ferromagnetic film and a non-magnetic film, and it is known that the resistance changes due to a change in interface scattering of the multilayer film.

【0031】巨大磁気抵抗効果膜としては、(強磁性
体/非磁性導電体)構造のアンチフェロ(結合)型、
(高保磁力強磁性体/非磁性導電体/低保磁力強磁性
体)構造の誘導フェリ(非結合)型、(半強磁性体/
強磁性体/非磁性導電体/強磁性体)構造のスピンバル
ブ型、Co/Ag系統の非固溶系グラニュラー型に大
別される。
As the giant magnetoresistive film, an antiferro (coupling) type having a (ferromagnetic / non-magnetic conductor) structure,
(High coercivity ferromagnetic / non-magnetic conductor / low coercivity ferromagnetic) Inductive ferri (non-coupling) type, (semi-ferromagnetic /
It is roughly classified into a spin valve type having a (ferromagnetic material / non-magnetic conductor / ferromagnetic material) structure and a non-solid solution type granular type of Co / Ag system.

【0032】これらの各巨大磁気抵抗効果膜は、その構
造や組成により、検出可能な磁界強度、すなわち、磁気
抵抗効果の飽和磁界強度が大きく異なる。例えば、(F
e/Cr)系アンチフェロ型では10KOe以上、(C
oNiFe/Cu)系アンチフェロ型では、0.1Oe
から1KOe、(NiFe/Cu/Co/Cu)系誘導
フェリ型では、5Oeから20Oe程度、(FeMn/
NiFe/Cu/NiFe)系スピンバルブ型では、数
Oe、そして、グラニュラー型では100Oeから5K
Oe程度までの磁界検出が可能である。磁界感度は、最
大磁気抵抗変化率を飽和磁界強度で割り算したものであ
り、最大磁気抵抗変化率が大きくても、飽和磁界が大き
い場合には磁界感度は悪い。反対に、最大磁気抵抗変化
率が小さくても、飽和磁界が非常に小さい場合には磁界
感度は良い。このため、検出すべき磁界強度により最高
の磁界感度が得られるように、上記の各種の巨大磁気抵
抗効果膜から、基本系を選択し、さらに組成系の変更や
細かな構造を最適化して用いる。
Each of these giant magnetoresistive films has a detectable magnetic field strength, that is, a saturation magnetic field strength of the magnetoresistive effect greatly differs depending on its structure and composition. For example, (F
e / Cr) type antiferro type, 10KOe or more, (C
oNiFe / Cu) antiferro type is 0.1 Oe
To 1 KOe, (NiFe / Cu / Co / Cu) -based ferrielectric ferritypes have about 5 to 20 Oe, (FeMn /
NiFe / Cu / NiFe) spin valve type, several Oe, and granular type from 100 Oe to 5K
Magnetic field detection up to about Oe is possible. The magnetic field sensitivity is obtained by dividing the maximum magnetoresistance change rate by the saturation magnetic field strength. Even if the maximum magnetoresistance change rate is large, the magnetic field sensitivity is poor when the saturation magnetic field is large. Conversely, even when the maximum magnetoresistance ratio is small, the magnetic field sensitivity is good when the saturation magnetic field is very small. For this reason, a basic system is selected from the various giant magnetoresistive films described above so that the highest magnetic field sensitivity is obtained depending on the magnetic field strength to be detected, and further, a composition system is changed and a fine structure is optimized and used. .

【0033】なお、上記の巨大磁気抵抗効果膜は、面内
平行方向磁界により、抵抗が変化する。そして、従来の
異方性磁気抵抗効果膜が面内の特定方向の磁界のみを検
出するのに対して、巨大磁気抵抗効果膜は、基本的に面
内磁界であれば方向に依らない。しかしながら、巨大磁
気抵抗効果膜の中でスピンバルブ型のみ従来の異方性磁
気抵抗効果膜と同様に特定方向の磁界しか検出できな
い。本発明では可撓性基体上に形成することから、容易
に曲げ加工が可能である。しかし曲げ加工を行った場合
には平面では直線であった感磁組成部分が曲線に変形す
る場合がある。このため、等方に面内磁界を検出する構
造が好ましい。また、一般に回転検出のための磁気抵抗
効果素子においては、50Oeから500Oe程度の磁
界を検出することから、アンチフェロ(結合)型巨大磁
気抵抗効果膜を可撓性基体と組み合わせて形成させたも
のが特に好適である。
The resistance of the giant magnetoresistive film changes due to an in-plane parallel magnetic field. While the conventional anisotropic magnetoresistive film detects only the magnetic field in a specific direction in the plane, the giant magnetoresistive film basically does not depend on the direction as long as it is an in-plane magnetic field. However, among the giant magnetoresistive films, only the spin-valve type can detect a magnetic field in a specific direction as in the conventional anisotropic magnetoresistive film. In the present invention, since it is formed on a flexible substrate, it can be easily bent. However, when the bending process is performed, the magneto-sensitive composition portion which is a straight line in a plane may be deformed into a curve. For this reason, a structure that detects an in-plane magnetic field isotropically is preferable. In general, a magnetoresistive element for detecting rotation detects a magnetic field of about 50 Oe to 500 Oe, and thus is formed by combining an antiferro (coupling) type giant magnetoresistive film with a flexible substrate. Is particularly preferred.

【0034】このような磁気抵抗効果膜(磁性膜15)
は、真空成膜法、例えば、蒸着法、スパッタ法などによ
り成膜される。より具体的には、可撓性基体10の全面
に磁気抵抗効果膜を成膜した後、所望のパターン形状に
パターニングして磁界検出用の磁性膜15とし、さら
に、この磁性膜15に接合され電流を流すための導電体
電極膜21,25(電極)を所定のパターンに形成す
る。導電体電極膜21,25は、磁気抵抗効果膜である
磁性膜15部分に比べて小さな抵抗を有することが重要
である。このため導電体電極膜21,25は、導電性の
高い金属、例えば銅、金、アルミニウム等を用いて比較
的厚い仕様、例えば、0.3から5.0μm厚に成膜さ
れる。導電体電極膜21,25の形成には、真空成膜法
に加えて湿式成膜法も利用可能である。また、最初に、
導電体電極膜21,25導電層を形成してから磁性膜1
5(磁気抵抗効果膜)を形成しても差し支えない。ま
た、このように磁性膜15および導電体電極膜21,2
5を個別に異種の材料から構成するのではなくて、磁性
膜15および導電体電極膜21,25をすべて同一材質
から一体的に形成(成膜)させてもよい。ただし、この
場合には磁性膜15および導電体電極膜21,25の各
々の機能が発揮できる範囲内での同一材質とすることが
必要である。磁性膜の部分は感磁パターン部であり、導
電体電極膜の部分は、感磁パターン部である必要はな
い。そこで、感磁パターン部と電極部の電流密度を変化
させるために、電極部の幅は感磁パターン部の幅よりも
広く設計される。すなわち、同一材質で構成されたパタ
ーンの両端部分の幅を広くすることで導電体電極膜とし
ての機能を付与できる。同一材質から構成することによ
り、1回のパターニング工程で感磁部分である磁性膜1
5と電極部である導電体電極膜21,25が同時に形成
でき、極めて高い生産性を実現することができる。この
ことは後述するすべての実施の態様においても同様に適
用される。
Such a magnetoresistive film (magnetic film 15)
Is formed by a vacuum film forming method, for example, a vapor deposition method, a sputtering method, or the like. More specifically, after a magnetoresistive effect film is formed on the entire surface of the flexible substrate 10, it is patterned into a desired pattern shape to form a magnetic film 15 for detecting a magnetic field, and further joined to the magnetic film 15. Conductor electrode films 21 and 25 (electrodes) for passing a current are formed in a predetermined pattern. It is important that the conductor electrode films 21 and 25 have a smaller resistance than the magnetic film 15 which is a magnetoresistive film. For this reason, the conductor electrode films 21 and 25 are formed using a metal having high conductivity, for example, copper, gold, aluminum, or the like, to have a relatively thick specification, for example, a thickness of 0.3 to 5.0 μm. For forming the conductor electrode films 21 and 25, a wet film forming method can be used in addition to the vacuum film forming method. Also, first,
After forming the conductor electrode films 21 and 25, the magnetic film 1
5 (magnetoresistive film) may be formed. Further, as described above, the magnetic film 15 and the conductor electrode films 21 and
The magnetic film 15 and the conductor electrode films 21 and 25 may be integrally formed (formed) from the same material, instead of being composed of different materials individually. However, in this case, it is necessary to use the same material as long as the functions of the magnetic film 15 and the conductor electrode films 21 and 25 can be exhibited. The portion of the magnetic film is the magneto-sensitive pattern portion, and the portion of the conductor electrode film does not need to be the magneto-sensitive pattern portion. Therefore, in order to change the current density between the magneto-sensitive pattern portion and the electrode portion, the width of the electrode portion is designed to be wider than the width of the magneto-sensitive pattern portion. That is, by increasing the width of both ends of the pattern made of the same material, a function as a conductor electrode film can be provided. By using the same material, the magnetic film 1 which is a magnetically sensitive portion can be formed in one patterning process.
5 and the conductor electrode films 21 and 25 as electrode portions can be simultaneously formed, and extremely high productivity can be realized. This is similarly applied to all embodiments described later.

【0035】磁性膜15(磁気抵抗効果膜)は、一般
に、200nm以下の薄膜として形成されるために、使
用環境における耐食性が問題となることが多い。このた
め、少なくとも磁性膜15の上層に保護膜を設け、周囲
の雰囲気から磁性層15を保護することが好ましい。保
護膜の材質としては、特にポリイミド樹脂またはノボラ
ック樹脂を用いることが好ましい。特に、可撓性基体1
0としてポリイミドフィルムを用いた場合には、保護膜
としてポリイミド樹脂を用いることが好ましい。また、
保護膜として形成する樹脂層の厚さを変化させること
で、磁性膜15(磁気抵抗効果膜)に加わる応力を変化
させることも可能である。さらに保護膜として形成する
樹脂層の下に、SiO2 やAl23 等の薄膜を設けて
磁性膜15(磁気抵抗効果膜)を2重に保護することも
可能である。これにより保護膜としての機能はさらに強
固なものとなる。なお、前記ポリイミド樹脂やノボラッ
ク樹脂は、磁性膜15の表面に(例えば、スピンコート
法を用いて)コーティングされた後に熱硬化される。ノ
ボラック樹脂は、熱処理によりベークライトに近い構造
となり高い耐食性を保証する。
Since the magnetic film 15 (magnetoresistive film) is generally formed as a thin film having a thickness of 200 nm or less, corrosion resistance in a use environment often poses a problem. Therefore, it is preferable to provide a protective film at least above the magnetic film 15 to protect the magnetic layer 15 from the surrounding atmosphere. As the material of the protective film, it is particularly preferable to use a polyimide resin or a novolak resin. In particular, the flexible substrate 1
When a polyimide film is used as 0, it is preferable to use a polyimide resin as the protective film. Also,
The stress applied to the magnetic film 15 (magnetoresistive film) can be changed by changing the thickness of the resin layer formed as the protective film. Further, a thin film such as SiO 2 or Al 2 O 3 can be provided under the resin layer formed as a protective film to protect the magnetic film 15 (magnetoresistive film) twice. Thereby, the function as the protective film is further strengthened. The polyimide resin or the novolak resin is thermally cured after being coated on the surface of the magnetic film 15 (for example, by using a spin coating method). The novolak resin has a structure close to bakelite by heat treatment and guarantees high corrosion resistance.

【0036】すでに上述したように、本発明の磁気抵抗
効果素子1は、可撓性基体10の上に、磁気抵抗効果を
有する磁性膜15と、磁性膜15に電流を流すための導
電体電極膜21,25とが、配置形成されてなる構成を
採択しているために、可撓性基体10に外部から力を加
えることで容易に曲げ変形が可能である。すなわち、図
1および図2に示されるように磁界検出のための磁性膜
15が形成されている部分(A)が、導電体電極膜2
1,25の少なくとも一部分(例えば、外部接続部21
a,25aが形成される部分)(B)と同じ平面に無い
構造が容易に形成できる。このため、従来行われていた
複雑な基板のスルホール工程やTAB工程等を行うこと
なく外部との電気的接続が可能となり大幅なコストの低
減が達成される。
As described above, the magnetoresistive element 1 of the present invention comprises a magnetic film 15 having a magnetoresistive effect and a conductive electrode for flowing a current through the magnetic film 15 on a flexible substrate 10. Since the structure in which the films 21 and 25 are arranged and formed is adopted, bending deformation can be easily performed by applying an external force to the flexible base 10. That is, as shown in FIGS. 1 and 2, the portion (A) where the magnetic film 15 for detecting the magnetic field is formed is the conductor electrode film 2.
1 and 25 (for example, the external connection 21
a, 25a) The structure which is not on the same plane as (B) can be easily formed. Therefore, electrical connection with the outside can be made without performing a complicated through-hole process or TAB process of a substrate, which is conventionally performed, thereby achieving a significant cost reduction.

【0037】上述してきた本発明の磁気抵抗効果素子1
の変形例が図4および図5に示される。図4は、可撓性
基体10を湾曲させる前の状態を模式的に示す平面図で
あり、図5は、図4に示される平板状の磁気抵抗効果素
子をX−X’線およびY−Y’線の2箇所でそれぞれ湾
曲させることにより形成した磁気抵抗効果素子の斜視図
である。図5において、磁性膜15の成膜部分は平坦部
を構成している。図5に示される2つの湾曲部を備える
磁気抵抗効果素子においても、前記図1に示される磁気
抵抗効果素子と同様な効果が得られる。なお、本発明の
図面中において、同一符号は実質的に同一な部材を示し
ている。
The magnetoresistance effect element 1 of the present invention described above.
Modifications are shown in FIG. 4 and FIG. FIG. 4 is a plan view schematically showing a state before the flexible base 10 is bent. FIG. 5 is a plan view of the flat magnetoresistive element shown in FIG. It is a perspective view of the magnetoresistive effect element formed by making each bend in two places of a Y 'line. In FIG. 5, the portion where the magnetic film 15 is formed constitutes a flat portion. The same effect as the magnetoresistive element shown in FIG. 1 can be obtained also in the magnetoresistive element having the two curved portions shown in FIG. In the drawings of the present invention, the same reference numerals indicate substantially the same members.

【0038】上述してきた実施の態様では、磁性膜15
が1つの場合のみを例にとって説明したきたが、検出し
たい外部磁界の種類によっては図6に示されるように磁
界検出用の磁性膜15(強磁性体膜パターン部)を2個
以上設け(図示の例では2個)、それらの抵抗の差を検
出するいわゆる差動動作型とすることも可能である。な
お、図6において、符号26は導電体電極膜を、符号2
6aは外部接続部(電極パッド部)を示している。
In the embodiment described above, the magnetic film 15
Has been described as an example, but depending on the type of external magnetic field to be detected, two or more magnetic films 15 (ferromagnetic film pattern portions) for magnetic field detection are provided as shown in FIG. In the example of the present invention, it is possible to use a so-called differential operation type for detecting a difference between the resistances. In FIG. 6, reference numeral 26 denotes a conductor electrode film, and reference numeral 2 denotes a conductive electrode film.
6a indicates an external connection portion (electrode pad portion).

【0039】ところで、磁性膜15としての磁気抵抗効
果膜あるいは巨大磁気抵抗効果多層膜は、前述したよう
に強磁性体薄膜から構成されている。強磁性体は、磁気
弾性効果により、その磁気異方性が変化する。磁性体の
磁歪と加わる応力の積による磁気弾性効果異方性は他の
異方性、例えば、誘導磁気異方性や形状異方性と同様に
磁性膜の磁気異方性を大きく変化させる。この磁気異方
性の程度は、磁気抵抗効果膜において、飽和磁界を決定
する重要な要因の1つとなる。単純には、磁性膜の異方
性磁界が磁気抵抗効果における飽和磁歪となる。
Incidentally, the magnetoresistive film or the giant magnetoresistive multilayer film as the magnetic film 15 is composed of a ferromagnetic thin film as described above. The ferromagnetic material changes its magnetic anisotropy due to the magnetoelastic effect. The magnetoelastic effect anisotropy due to the product of the magnetostriction and the applied stress of the magnetic material greatly changes the magnetic anisotropy of the magnetic film, like other anisotropy, such as induced magnetic anisotropy and shape anisotropy. The degree of the magnetic anisotropy is one of important factors for determining the saturation magnetic field in the magnetoresistive film. Simply, the anisotropic magnetic field of the magnetic film becomes saturation magnetostriction in the magnetoresistance effect.

【0040】このため、本発明の磁気抵抗効果素子にお
ける磁性膜15の設計を行う際、低磁場の磁界測定を行
う場合には小さな異方性磁界の膜を用い、比較的大きな
磁場の磁界測定を要する場合には、大きな異方性磁界の
膜を用いることが好ましい。従来の磁気抵抗効果素子で
は、磁気抵抗効果膜(磁性膜)の成膜の誘導磁気異方性
や形状異方性による異方性磁界の管理を行っていた。こ
のため、磁性膜の成膜後ないしはパターニング後には、
磁性膜の異方性磁界を変化させることが困難であった。
For this reason, when designing the magnetic film 15 in the magnetoresistive element of the present invention, when measuring a low magnetic field, a film with a small anisotropic magnetic field is used, and a magnetic field with a relatively large magnetic field is measured. Is required, it is preferable to use a film having a large anisotropic magnetic field. In a conventional magnetoresistive effect element, an anisotropic magnetic field is controlled by induced magnetic anisotropy and shape anisotropy in forming a magnetoresistive effect film (magnetic film). For this reason, after the formation or patterning of the magnetic film,
It was difficult to change the anisotropic magnetic field of the magnetic film.

【0041】これに対して、本発明の磁気抵抗効果素子
は、前述したように可撓性のある基体上に成膜された薄
膜素子の構造を採択しているがゆえに、容易に基体(基
板)を変形させることができ、その結果として基体上の
磁性膜に外部から任意に応力を加えることが出来る。し
かも、変形の程度の大きさ、変形の方向(基板を凸状態
にするか、あるいは凹状態にするか)をかえることで、
応力の大きさや、圧縮、引張の応力の方向も任意に変化
させることができる。これらの具体的な構成例が、図7
〜図9に、それぞれ示される。
On the other hand, the magnetoresistive effect element of the present invention easily adopts the structure of the thin film element formed on the flexible base as described above, so that the base (substrate) can be easily formed. ) Can be deformed, and as a result, an arbitrary stress can be externally applied to the magnetic film on the base. Moreover, by changing the size of the degree of deformation and the direction of the deformation (whether the substrate is in a convex state or a concave state),
The magnitude of the stress and the directions of the compressive and tensile stresses can also be arbitrarily changed. These specific configuration examples are shown in FIG.
To FIG. 9, respectively.

【0042】図7は、図3に示される平板状の磁気抵抗
効果素子を、Z−Z’線が湾曲部の頂部となるように曲
率半径Rの湾曲部(凸形状)を形成させた斜視図であ
る。図7に示される状態から明確に分かるように、磁性
膜15も曲率半径Rの湾曲部に沿って湾曲されており、
その結果、磁性膜15内に応力が加えられている。この
応力の程度、すなわち、曲率半径Rの大きさの程度を任
意に変えることにより、磁性膜15の磁気特性を任意に
選定することが可能になる。このことは、同一の素子で
あっても曲げによる外部からの磁性膜15に付与する応
力を変えることにより、検出飽和磁界を変化させること
が可能であることを意味する。磁性体の磁界による抵抗
変化率(Δρ)は構造、材料等によりほぼ決定されるた
めに、検出したい磁界強度(H)に合わせて飽和磁界を
設定することで、より大きな磁界感度(Δρ/H)を得
ることが出来る。また、外部磁界に対して小さな飽和磁
界を有する磁気抵抗効果素子では、外部磁界変化(特に
減少)が小さな位置変化で急激にかつパルス的に短時間
のみ起こる場合には磁気抵抗効果膜のパターン面積が点
ではなく、有限な面積を持っているために、そのパルス
的な最小磁界部分のみを検出できないことが多く、素子
としての出力も低下する。
FIG. 7 is a perspective view of the plate-shaped magnetoresistive element shown in FIG. 3 in which a curved portion (convex shape) having a radius of curvature R is formed such that the ZZ 'line is the top of the curved portion. FIG. As can be clearly seen from the state shown in FIG. 7, the magnetic film 15 is also curved along a curved portion having a radius of curvature R,
As a result, stress is applied in the magnetic film 15. By arbitrarily changing the degree of the stress, that is, the degree of the radius of curvature R, the magnetic characteristics of the magnetic film 15 can be arbitrarily selected. This means that, even in the same element, the detected saturation magnetic field can be changed by changing the stress applied to the magnetic film 15 from the outside due to bending. Since the resistance change rate (Δρ) of the magnetic material due to the magnetic field is substantially determined by the structure, the material, and the like, setting the saturation magnetic field in accordance with the magnetic field strength (H) to be detected increases the magnetic field sensitivity (Δρ / H). ) Can be obtained. In the case of a magnetoresistive effect element having a small saturation magnetic field with respect to an external magnetic field, when the external magnetic field change (especially, decrease) occurs only for a short time in a short time in a small positional change, the pattern area of the magnetoresistive effect film is reduced. However, since it has a finite area instead of a point, it is often impossible to detect only the minimum pulse-like magnetic field portion, and the output as an element also decreases.

【0043】本発明の磁気抵抗効果素子は、上記のよう
な湾曲部の形成が可能であるので、製品仕様に合わせて
製造の最終段階の変更のみで(例えば、湾曲部の大きさ
の変更)、検出したい磁界強度に合わせた素子が容易に
製造可能になる。
In the magnetoresistive element according to the present invention, since the above-mentioned curved portion can be formed, only the final stage of the production is changed in accordance with the product specifications (for example, the size of the curved portion is changed). In addition, it is possible to easily manufacture an element corresponding to a magnetic field intensity to be detected.

【0044】なお、図8は、図4に示される平板状の磁
気抵抗効果素子を、Z−Z’線が湾曲部の頂部となるよ
うに曲率半径Rの湾曲部(凸形状)を形成させた斜視図
である。磁性膜15も曲率半径Rの湾曲部に沿って湾曲
されており、その結果、磁性膜15内に応力が加えられ
ている。図9は、図6に示される平板状の磁気抵抗効果
素子を、Z−Z’線が湾曲部の底部となるように曲率半
径Rの湾曲部(凹形状)を形成させた断面図である。磁
性膜15も曲率半径Rの湾曲部に沿って湾曲されてお
り、その結果、磁性膜15,15内にそれぞれ応力が加
えられている。図9に示される例は、磁性膜15を2個
備えたいわゆる差動動作型の磁気抵抗効果素子であっ
て、回転体5の回転数を検出する回転検出センサとして
の実施態様を示したものである。
FIG. 8 shows that the flat magnetoresistive element shown in FIG. 4 is formed with a curved portion (convex shape) having a radius of curvature R such that the ZZ ′ line is the top of the curved portion. FIG. The magnetic film 15 is also curved along the curved portion having the radius of curvature R, and as a result, stress is applied to the inside of the magnetic film 15. FIG. 9 is a cross-sectional view in which a curved portion (concave shape) having a radius of curvature R is formed on the plate-shaped magnetoresistive effect element shown in FIG. 6 such that the line ZZ ′ is the bottom of the curved portion. . The magnetic film 15 is also curved along the curved portion having the radius of curvature R, and as a result, stress is applied to the magnetic films 15 and 15, respectively. The example shown in FIG. 9 is a so-called differential operation type magnetoresistive element provided with two magnetic films 15 and shows an embodiment as a rotation detection sensor for detecting the rotation speed of the rotating body 5. It is.

【0045】ところで、前記磁性膜15を2個以上備え
る差動動作型の磁気抵抗効果素子では、複数の磁界検出
部間のピッチを最適化する必要がある。例えば、着磁さ
れた歯車構造の被検出物の磁界発生のピッチをPとする
と、検出素子の磁界検出部間のピッチは、P/2やP/
4となる。そのため、検出すべき磁界発生部のピッチが
異なると、それに合わせて種々の仕様の素子をそれぞれ
作製する必要がある。例えば、同じ48極着磁のギヤを
磁界発生部とした回転センサでもギヤの径(mm)は、
50、67、70、89、96と何種類もあるのが通常
である。これに対して、本発明の磁気抵抗効果素子で
は、素子そのものを容易に曲げることができるために、
磁界検出部間のピッチを変更させることのみで対応をと
ることが可能である。この状況を図10(a)〜(d)
を参照しつつ説明する。
In a differential operation type magnetoresistive element having two or more magnetic films 15, it is necessary to optimize the pitch between a plurality of magnetic field detection units. For example, assuming that the pitch of the magnetic field generation of the object to be detected in the magnetized gear structure is P, the pitch between the magnetic field detection units of the detection element is P / 2 or P /
It becomes 4. Therefore, if the pitch of the magnetic field generating portions to be detected is different, it is necessary to manufacture elements of various specifications in accordance with the different pitches. For example, even with a rotation sensor using the same 48-pole magnetized gear as a magnetic field generating unit, the gear diameter (mm) is
Usually, there are 50, 67, 70, 89, and 96 types. On the other hand, in the magnetoresistance effect element of the present invention, the element itself can be easily bent,
It is possible to take measures only by changing the pitch between the magnetic field detection units. This situation is shown in FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0046】図10(a)は、本発明の磁気抵抗効果素
子(差動動作型)の平面図であり、前記図6に相当する
図である。図10(b)は、図10(a)の断面図であ
るが、発明の理解を容易にするために導電体電極膜は省
略して記載されている。図10(a)および図10
(b)に示されるように、素子に変形が加えられてない
時は、2つの磁性膜15,15のピッチは(P1)であ
る。そして、このピッチは(P1)は容易に変更可能で
ある。すなわち、図10(c)および図10(d)に記
載されているように、2つの磁界検出部である磁性膜1
5,15の間で可撓性の基体10を湾曲または折り曲げ
することにより、磁界検出部間のピッチを(P2),
(P3)といった具合に変更させることができる。この
場合の曲げ方向は、折りしろ部分が凹または凸のいずれ
の場合でも可能である。また、さらに折りしろを増やす
ことで、中央部分の折りしろが凹であっても、さらに中
央部分と磁界検出部(磁性膜15)の中間を凸折りする
ことで、磁界検出部が磁界発生部に近接可能となる。ま
た、磁界検出部以外の部分を折り畳んでしまうことで、
磁界検出部のピッチを小さくすることも可能である。
FIG. 10A is a plan view of a magnetoresistive element (differential operation type) according to the present invention, and is a view corresponding to FIG. FIG. 10B is a cross-sectional view of FIG. 10A, in which the conductor electrode film is omitted for easy understanding of the invention. FIG. 10A and FIG.
As shown in (b), when the element is not deformed, the pitch between the two magnetic films 15, 15 is (P1). This pitch (P1) can be easily changed. That is, as shown in FIGS. 10C and 10D, the magnetic film 1 serving as two magnetic field detection units
By bending or bending the flexible base 10 between 5 and 15, the pitch between the magnetic field detection units is set to (P2),
(P3) can be changed. In this case, the bending direction is possible regardless of whether the folded portion is concave or convex. Further, by further increasing the folding margin, even if the folding margin at the center portion is concave, the magnetic field detecting unit is further bent at the center between the central portion and the magnetic field detecting unit (magnetic film 15), so that the magnetic field generating unit Can be approached. Also, by folding the parts other than the magnetic field detection unit,
It is also possible to reduce the pitch of the magnetic field detector.

【0047】このように本発明の磁気抵抗効果素子で
は、素子そのものを容易に曲げることができるために、
磁界検出部間のピッチを変更させることが可能となり、
製品仕様に合わせて製造の最終段階の変更のみで(例え
ば、曲げや、折り畳みの程度の変更)、検出対象に合わ
せた素子が容易に製造可能になる。
As described above, in the magnetoresistive element of the present invention, the element itself can be easily bent.
It is possible to change the pitch between the magnetic field detection units,
Only by changing the final stage of manufacturing (for example, changing the degree of bending or folding) in accordance with the product specifications, it is possible to easily manufacture an element that matches the detection target.

【0048】[0048]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing specific examples of the present invention.

【0049】宇部興産株式会社製のポリイミドフィルム
であるユーピレックス(厚さ12.5μm、75μm、
および125μmの3種類)を準備し、これらのフィル
ムを本発明の可撓性基体(基板)として用いた。また、
比較例として、3インチ径,厚さ0.7mmのガラス基
板も比較用の基体として用いた。これらの各基体(基
板)上に、イオンビームスパッタ装置にて、下記表1に
示すような巨大磁気抵抗効果膜(磁性膜15)をそれぞ
れ成膜した。表1における多層膜構造の表記は、成膜の
順に厚さ−組成を、それぞれ示している。表1に表示さ
れているものではないが、例えば、『50Å−Ta/
(10Å−NiFe/5Å−Cu)×10』とは、最初
に50ÅのTaを、次に10ÅのNiFe合金と5Åの
Cuを順に各々10層づつ積層した全厚200Åの21
層からなる磁性多層膜を示す。
A polyimide film manufactured by Ube Industries, Ltd., Upilex (12.5 μm, 75 μm,
And 125 μm) were prepared, and these films were used as the flexible substrate (substrate) of the present invention. Also,
As a comparative example, a glass substrate having a diameter of 3 inches and a thickness of 0.7 mm was also used as a base for comparison. On each of these substrates (substrates), giant magnetoresistive films (magnetic films 15) as shown in Table 1 below were formed using an ion beam sputtering apparatus. The notation of the multilayer structure in Table 1 indicates thickness-composition in the order of film formation. Although not shown in Table 1, for example, “50 ° −Ta /
(10 ° -NiFe / 5 ° -Cu) × 10 ”means that 50 ° Ta is firstly stacked, and then 10 ° NiFe alloy and 5% Cu are stacked in order of 10 layers, each having a total thickness of 200 ° and 21 °.
1 shows a magnetic multilayer film composed of layers.

【0050】[0050]

【表1】 巨大磁気抵抗効果膜の成膜に際して用いたターゲット
は、いずれも純度99.9%以上のターゲット組成と
し、到達圧力として4×10-7Torrまで真空引きし
た後にアルゴンガスを導入し、成膜中の真空度は1.4
×10-4Torrとした。なお、表1に示される膜構造
C(表1:膜C)の誘導フェリ型多層膜のみ、超高真空
蒸着装置にて成膜した。いずれの膜の成膜も基板の水冷
を行った。基板全面に多層膜巨大磁気抵抗効果膜を成膜
した後に、フォトレジストをマスクを通じて露光、現像
して所望の磁性膜パターンを形成した後、さらにイオン
ミリング装置にて不要部分を除去した。その後、導電体
電極膜以外の部分(磁界検出部となる磁性膜パターンを
含む)をポリイミドレジストでカバーし、電気めっき法
にて導電体電極膜としての銅膜を3μm厚さに形成し
た。この銅膜の上に無電解ニッケルめっきを0.2μm
厚さに、さらにこの上に無電解金めっきを0.5μm厚
さに成膜した。これらのめっき後に、真空中、300℃
で1時間の熱処理を行い、ポリイミドレジストを硬化処
理した後、個々の磁気抵抗効果素子に分離した。
[Table 1] The targets used in forming the giant magnetoresistive film were each a target composition having a purity of 99.9% or more. After evacuation was performed to a final pressure of 4 × 10 −7 Torr, argon gas was introduced, and the film was formed. Vacuum degree is 1.4
× 10 -4 Torr. In addition, only the induction ferri-type multilayer film having the film structure C shown in Table 1 (Table 1: Film C) was formed by an ultra-high vacuum deposition apparatus. Each film was formed by water cooling of the substrate. After a multilayer giant magnetoresistive film was formed on the entire surface of the substrate, the photoresist was exposed to light through a mask and developed to form a desired magnetic film pattern, and then unnecessary portions were removed by an ion milling device. Thereafter, a portion other than the conductor electrode film (including a magnetic film pattern serving as a magnetic field detecting portion) was covered with a polyimide resist, and a copper film as a conductor electrode film was formed to a thickness of 3 μm by electroplating. Electroless nickel plating of 0.2 μm on this copper film
Electroless gold plating was formed thereon to a thickness of 0.5 μm. After these plating, 300 ° C in vacuum
For one hour to cure the polyimide resist, and then separated into individual magnetoresistive elements.

【0051】この磁気抵抗効果素子の導電体電極膜の端
部にある外部接続部(電極パッド部)に、ハンダ付けに
て錫めっき銅線を接合した。この接合部は基体表面より
約1mm盛り上がった。さらに、錫めっき銅線の引き回
しでは、最大約3mm基体表面より離れた位置まで銅線
が離れることがあった。
A tin-plated copper wire was joined to an external connection portion (electrode pad portion) at the end of the conductor electrode film of the magnetoresistive element by soldering. This joint was raised about 1 mm from the surface of the substrate. Further, when the tin-plated copper wire is routed, the copper wire may be separated up to a position distant from the surface of the substrate by a maximum of about 3 mm.

【0052】このような導電体電極膜付き磁気抵抗効果
素子を、各種の補助部材(テフロン)に張り付けて、下
記表2に示すような種々の変形形態を有する素子サンプ
ルを作製した。
Such a magnetoresistive element with a conductor electrode film was attached to various auxiliary members (Teflon) to produce element samples having various modifications as shown in Table 2 below.

【0053】[0053]

【表2】 これらの各変形形態を備える素子サンプルを、48極着
磁した直径96mmのギヤから1mm、3mmおよび4
mmの位置で、5〜50mAの電流を加えながら、その
電圧変化を測定した。測定結果を表3に示す。
[Table 2] An element sample having each of these modifications was mounted on a 48 mm-polarized 96 mm diameter gear by 1 mm, 3 mm and 4 mm.
The voltage change was measured at a position of mm while applying a current of 5 to 50 mA. Table 3 shows the measurement results.

【0054】[0054]

【表3】 [Table 3]

【0055】[0055]

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明の磁気抵抗効果素子は、磁界検
出のための磁気抵抗効果を有する磁性膜と、該磁性膜に
電流を流すための導電体電極膜とが、それぞれ、可撓性
基体の上に、配置形成されてなるように構成されている
ので、素子そのものを変形させることが可能になる。そ
のため、磁界検出部である磁性膜の形成されている表面
に磁界検出の妨げとなる突出部分(凸部分)が一切生じ
ることがない構造が可能になる。さらに耐候性に優れた
磁気抵抗効果素子を簡単な工程により作製できる。さら
に可撓性基体の上に形成された磁性膜に対して、基体変
形とともに、適宜応力を加え、磁気弾性効果を利用して
各々の製品仕様にあわせた磁気特性の最適化を容易に実
現できる。さらには、少なくとも2つ以上の磁性膜を所
定間隔に配置させた、いわゆる、差動動作型検出の磁気
抵抗効果素子において、磁性膜間隔を任意に変化させて
最適な測定仕様を設定できる。
The effects of the present invention are clear from the above results. That is, in the magnetoresistive element of the present invention, a magnetic film having a magnetoresistive effect for detecting a magnetic field, and a conductor electrode film for flowing a current through the magnetic film are each provided on a flexible base. , It is possible to deform the element itself. Therefore, a structure is possible in which no projecting portion (projecting portion) that hinders the detection of the magnetic field is formed on the surface of the magnetic film serving as the magnetic field detecting portion on which the magnetic film is formed. Furthermore, a magnetoresistive element having excellent weather resistance can be manufactured by a simple process. Further, the magnetic film formed on the flexible substrate is appropriately deformed and stress is applied to the magnetic film, and the magnetic characteristics can be easily optimized according to each product specification by utilizing the magnetoelastic effect. . Furthermore, in a so-called differential-operation-type detection magnetoresistive element in which at least two or more magnetic films are arranged at predetermined intervals, the optimum measurement specification can be set by arbitrarily changing the magnetic film interval.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気抵抗効果素子の好適な実施の一形
態としての斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a magnetoresistive element according to a preferred embodiment of the present invention.

【図2】磁気抵抗効果素子の具体的使用状況を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a specific usage state of the magnetoresistance effect element.

【図3】可撓性基体を湾曲させる前の状態を模式的に示
す平面図である。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a state before bending a flexible base.

【図4】可撓性基体を湾曲させる前の状態を模式的に示
す平面図である。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a state before bending a flexible base.

【図5】図4に示される平板状の磁気抵抗効果素子をX
−X’線およびY−Y’線の2箇所でそれぞれ湾曲させ
ることにより形成した磁気抵抗効果素子の斜視図であ
る。
5 is a plan view of the magnetoresistive effect element shown in FIG.
It is a perspective view of the magnetoresistive effect element formed by making it curve at each of two places of -X 'line and YY' line.

【図6】磁界検出用の磁性膜(強磁性体膜パターン部)
を2個以上設け、それらの抵抗の差を検出するいわゆる
差動動作型の磁気抵抗効果素子の平面図である。
FIG. 6 is a magnetic film for detecting a magnetic field (a ferromagnetic film pattern portion).
Is a plan view of a so-called differential operation type magnetoresistive element for detecting two or more resistors and detecting a difference between their resistances.

【図7】図3に示される平板状の磁気抵抗効果素子を、
Z−Z’線が湾曲部の頂部となるように曲率半径Rの湾
曲部(凸形状)を形成させた斜視図である。
FIG. 7 is a plan view of the magnetoresistive element shown in FIG.
It is the perspective view which formed the curved part (convex shape) of curvature radius R so that the ZZ 'line might become the top part of a curved part.

【図8】図4に示される平板状の磁気抵抗効果素子を、
Z−Z’線が湾曲部の頂部となるように曲率半径Rの湾
曲部(凸形状)を形成させた斜視図である。
FIG. 8 is a plan view of the magnetoresistive element shown in FIG.
It is the perspective view which formed the curved part (convex shape) of curvature radius R so that the ZZ 'line might become the top part of a curved part.

【図9】図6に示される平板状の磁気抵抗効果素子を、
Z−Z’線が湾曲部の底部となるように曲率半径Rの湾
曲部(凹形状)を形成させた断面図である。
9 is a plan view of the magnetoresistive element shown in FIG.
It is sectional drawing which formed the curved part (concave shape) of curvature radius R so that ZZ 'line might become the bottom part of a curved part.

【図10】(a)は本発明の磁気抵抗効果素子(差動動
作型)の平面図であり、(b)は(a)の断面図、
(c)および(d)はそれぞれ素子に変形が加えられた
後の断面図である。
10A is a plan view of a magnetoresistive effect element (differential operation type) of the present invention, FIG. 10B is a cross-sectional view of FIG.
(C) and (d) are cross-sectional views after the element is deformed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…可撓性基体 15…磁性膜 21,25,26…導電体電極膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Flexible base material 15 ... Magnetic film 21, 25, 26 ... Conductor electrode film

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁界検出のための磁気抵抗効果を有する
磁性膜と、該磁性膜に電流を流すための導電体電極膜と
が、それぞれ、可撓性基体の上に、配置形成されてなる
ことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
1. A magnetic film having a magnetoresistive effect for detecting a magnetic field and a conductor electrode film for flowing a current through the magnetic film are respectively formed on a flexible substrate. A magnetoresistive effect element characterized in that:
【請求項2】 前記可撓性基体が、ポリイミドフィルム
である請求項1記載の磁気抵抗効果素子。
2. The magnetoresistive element according to claim 1, wherein said flexible substrate is a polyimide film.
【請求項3】 前記磁性膜および前記導電体電極膜は、
同一材質から一体的に形成されている請求項1または請
求項2に記載の磁気抵抗効果素子。
3. The magnetic film and the conductor electrode film,
3. The magnetoresistance effect element according to claim 1, wherein the magnetoresistance effect element is formed integrally from the same material.
【請求項4】 前記磁気抵抗効果を有する磁性膜が、巨
大磁気抵抗効果を示す磁性膜である請求項1ないし請求
項3のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
4. The magnetoresistance effect element according to claim 1, wherein said magnetic film having a magnetoresistance effect is a magnetic film exhibiting a giant magnetoresistance effect.
【請求項5】 前記磁気抵抗効果を有する磁性膜が、ア
ンチフェロ(結合)型の巨大磁気抵抗効果を示す磁性膜
である請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の磁気
抵抗効果素子。
5. The magnetoresistive element according to claim 1, wherein the magnetic film having a magnetoresistive effect is a magnetic film exhibiting an antiferro (coupling) type giant magnetoresistive effect.
【請求項6】 前記可撓性基体は、磁界検出のための磁
性膜と導電体電極膜に形成された外部接続部とが、互い
に同一平面内に存在しないように曲げ加工により形成さ
れた湾曲部を備えてなる請求項1ないし請求項5のいず
れかに記載の磁気抵抗効果素子。
6. The flexible substrate is formed by a bending process such that a magnetic film for detecting a magnetic field and an external connection portion formed on a conductor electrode film do not exist on the same plane. The magnetoresistive element according to any one of claims 1 to 5, comprising a portion.
【請求項7】 前記可撓性基体は、磁性膜に外部から応
力を加えて、磁気特性を任意に変化させるための曲げ加
工により形成された湾曲部を備えてなる請求項1ないし
請求項5のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
7. The flexible substrate according to claim 1, further comprising a curved portion formed by a bending process for arbitrarily changing magnetic properties by applying an external stress to the magnetic film. The magnetoresistance effect element according to any one of the above.
【請求項8】 磁界検出のための磁気抵抗効果を有する
少なくとも2つ以上の磁性膜と、該磁性膜に電流を流す
ための導電体電極膜とが、それぞれ、可撓性基体の上
に、配置形成されてなることを特徴とする磁気抵抗効果
素子。
8. At least two or more magnetic films having a magnetoresistive effect for detecting a magnetic field, and a conductor electrode film for flowing a current through the magnetic films, respectively, on a flexible base, A magnetoresistive element, which is arranged and formed.
【請求項9】 前記少なくとも2つ以上の磁性膜は、所
定間隔に配置されており、前記可撓性基体を湾曲または
折り曲げすることにより、前記磁性膜間隔を任意に変化
させてなる請求項8に記載の磁気抵抗効果素子。
9. The magnetic film according to claim 8, wherein the at least two or more magnetic films are arranged at a predetermined interval, and the interval between the magnetic films is arbitrarily changed by bending or bending the flexible base. 3. The magnetoresistive effect element according to 1.
【請求項10】 前記磁性膜および前記導電体電極膜
は、同一材質から一体的に形成されている請求項8また
は請求項9に記載の磁気抵抗効果素子。
10. The magnetoresistive element according to claim 8, wherein the magnetic film and the conductor electrode film are integrally formed from the same material.
【請求項11】 前記磁性膜の上には、ポリイミド樹脂
またはノボラック樹脂を熱処理した保護膜が形成されて
いる請求項1ないし請求項10のいずれかに記載の磁気
抵抗効果素子。
11. The magnetoresistive element according to claim 1, wherein a protective film formed by heat-treating a polyimide resin or a novolak resin is formed on the magnetic film.
【請求項12】 回転検出用の素子として用いられる請
求項1ないし請求項11のいずれかに記載の磁気抵抗効
果素子。
12. The magnetoresistive element according to claim 1, which is used as an element for detecting rotation.
JP9199353A 1997-03-28 1997-07-09 Magneto resistive device Withdrawn JPH10326919A (en)

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JP9521397 1997-03-28
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007123839A (en) * 2005-10-26 2007-05-17 Crf Soc Consortile Per Azioni Thin-film device for detecting physical quantity, especially magnetic field, and detection method corresponding thereto
JP2009517666A (en) * 2005-12-02 2009-04-30 エー. デニッシュ,リー Shape / acceleration measuring instrument and apparatus
JP2015505957A (en) * 2011-11-29 2015-02-26 ライプニッツ−インスティトゥートフュア フェストケルパー− ウント ヴェルクシュトフフォルシュング ドレスデン エー ファオLeibniz−Institut fuer Festkoerper− und Werkstoffforschung Dresden e.V. Usage of flexible thin film magnetic sensor element

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