JPH10321701A - Device for manufacturing semiconductor - Google Patents

Device for manufacturing semiconductor

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Publication number
JPH10321701A
JPH10321701A JP14339997A JP14339997A JPH10321701A JP H10321701 A JPH10321701 A JP H10321701A JP 14339997 A JP14339997 A JP 14339997A JP 14339997 A JP14339997 A JP 14339997A JP H10321701 A JPH10321701 A JP H10321701A
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JP
Japan
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substrate
transfer machine
suction
position data
tweezer
Prior art date
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Pending
Application number
JP14339997A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Nakagawa
均 中川
Mitsuhiro Oshima
光洋 尾島
Satoshi Kakizaki
智 柿崎
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for manufacturing a semiconductor which does nor require a highly skilled operator and can reduce teaching man-hours by automatically compensate the hanging of a transfer unit when it is protruded and can always ensure constant compensation accuracy for the hanging. SOLUTION: After tweezers 5 have been protruded, they are lifted to a position where a substrate is sucked, and the suction of the substrate is detected by suction detection means 52. The height of the tweezers 5 where a suction detection signal is issued is detected by second detection means 53, and control means 11 determines the amount of hanging from the difference in the height of the tweezers 5 before the protrusion of the tweezers and the time of the suction of the substrate. Then, the control means 11 compensates the position data of a transfer unit 4 in a storing means 14, based, on the determined amount of hanging and performs an actual process based on the compensated position data.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体製造装置に
関し、特に基板を基板収納体の基板挿填位置へ搬送処理
する移載機の動作をティーチング可能な半導体製造装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a semiconductor manufacturing apparatus capable of teaching the operation of a transfer machine for carrying a substrate to a substrate insertion position of a substrate storage.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造装置では、カセット(基板収
納体)に収納された多数枚のウェーハを、移載機により
ボート(基板収納体)に装填し、その後、これを反応炉
内に装填して、これらウェーハに成膜やアニール等の所
定の処理を施している。なお、処理後の各ウェーハは、
炉外排出されたボートから、移載機によってカセットへ
戻される。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing apparatus, a large number of wafers stored in a cassette (substrate storage unit) are loaded into a boat (substrate storage unit) by a transfer machine, and then loaded into a reaction furnace. Thus, these wafers are subjected to predetermined processing such as film formation and annealing. In addition, each wafer after processing,
From the boat discharged from the furnace, it is returned to the cassette by the transfer machine.

【0003】ところで、このような移載機による搬送処
理においては、ウェーハをカセットやボートのウェーハ
挿填用溝へ正確に挿填する必要がある。すなわち、移載
機のウェーハ吸着部であるツィーザによって、このウェ
ーハを前後方向(X軸方向)、左右方向(Y軸方向)、
上下方向(Z軸方向)で正確に位置決めして挿填する必
要がある。このため、実際の搬送処理(実プロセス)に
先立ち、移載機の動作をティーチングしている。このよ
うな移載機のティーチングは、従来では例えば作業者が
移載機を手動操作してウェーハを搬送し、このときの移
動距離を移載機の駆動モータが発生するパルス数でカウ
ントするという、作業者の感覚に依存した作業によって
行われていた。
In the transfer processing by such a transfer machine, it is necessary to accurately insert a wafer into a wafer insertion groove of a cassette or a boat. That is, the tweezers, which are the wafer suction units of the transfer machine, move the wafer in the front-rear direction (X-axis direction), the left-right direction (Y-axis direction),
It is necessary to accurately position and insert in the vertical direction (Z-axis direction). Therefore, prior to the actual transport process (actual process), the operation of the transfer machine is taught. In the teaching of such a transfer machine, conventionally, for example, an operator manually operates the transfer machine to transfer a wafer, and counts a moving distance at this time by the number of pulses generated by a drive motor of the transfer machine. , The work was performed depending on the sense of the worker.

【0004】ところで、図9(a)、(b)に示すよう
に、基台4a上でX方向へ往復走行する移載機4を、例
えばボート2側へストロークして、ボート2の基板挿填
溝に挿填されたウェーハ1をツィーザ5により吸着する
際には、重量のある移載機4が基台4aの片側へ移動す
ることになる。これにより、図6に示すように、移載機
4の重さで基台4aがそのストローク方向へ下方傾斜
し、この結果、ストローク前におけるツィーザ5の先端
の高さ位置h1と、ストローク後におけるツィーザ先端
の高さ位置h2と間にずれΔZが生じている。このずれ
を、移載機4のストローク時におけるたれ(ΔZはたれ
量)という。
As shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b), the transfer machine 4 reciprocating in the X direction on the base 4a is stroked, for example, toward the boat 2 to insert the board into the boat 2. When the wafer 1 inserted into the filling groove is sucked by the tweezers 5, the heavy transfer machine 4 moves to one side of the base 4a. Thereby, as shown in FIG. 6, the base 4a is inclined downward in the stroke direction by the weight of the transfer machine 4, and as a result, the height position h1 of the tip of the tweezer 5 before the stroke and the height position h1 after the stroke There is a shift ΔZ between the height position h2 of the tweezer tip. This shift is referred to as the sag (ΔZ is the sag amount) during the stroke of the transfer machine 4.

【0005】このたれ発生により、ボート2内へ差し込
まれたツィーザ5と、吸着されるウェーハ1との間にZ
軸方向のずれが生じている。これに起因して、実プロセ
スにおける各挿填用溝へのウェーハ出し入れ時に、ウェ
ーハ1やツィーザ5を傷つけるなどの不都合が起き易
い。そこで、前述したティーチング時には、作業者が移
載機4を手動操作する際に、目視による感覚で、このた
れ量を補正していた。
[0005] Due to the occurrence of the sag, the Z between the tweezers 5 inserted into the boat 2 and the wafer 1 to be sucked.
An axial displacement has occurred. Due to this, problems such as damage to the wafer 1 and the tweezers 5 are likely to occur when the wafer is taken in and out of each insertion groove in the actual process. Therefore, at the time of the above-described teaching, when the operator manually operates the transfer machine 4, the dripping amount is corrected with a visual sense.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにストローク時における移載機4のたれ量の補正が、
ティーチング作業者の目視に基づく感覚的な補正であっ
たために、作業者に高度な熟練が要求されたり、ティー
チング作業の工程数が増加するなどの問題点があった。
しかも、この補正作業は手動で行われていたので、常に
一定した精度のたれ補正を確保できないという問題点が
あった。
However, the correction of the amount of sagging of the transfer machine 4 during a stroke as described above is
Since the correction is sensuous based on the visual observation of the teaching operator, there is a problem that the operator requires a high level of skill and the number of steps of the teaching operation increases.
In addition, since this correction operation is performed manually, there is a problem in that it is not always possible to secure a constant precision sag correction.

【0007】この発明は上記従来の事情に鑑みなされた
もので、作業者の高度な熟練を必要とせず、ストローク
時における移載機のたれ補正の自動化によるティーチン
グの工数低減が図れ、しかも常に一定のたれ補正精度を
確保できる半導体製造装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, does not require a high level of skill of an operator, can reduce man-hours for teaching by automating sagging correction of a transfer machine at the time of a stroke, and is always constant. It is an object of the present invention to provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of securing sag correction accuracy.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、基板吸着用のツィーザを有して、旋回お
よび昇降する基台上を往復走行する移載機により、処理
対象の基板を基板収納体の基板挿填位置へ搬送処理する
半導体製造装置において、上記基板収納体への上記移載
機のストローク前における基板の高さ位置を検知する第
1の検知手段と、上記ツィーザに基板が吸着されたこと
を検知する吸着検知手段と、基板吸着時の上記ツィーザ
の高さ位置を検知する第2の検知手段と、上記基板収納
体の基板挿填位置に対する移載機のポジションデータ、
上記第1の検知手段により検知処理されたストローク前
の基板の高さ位置データ、および、上記吸着検知手段か
らの基板吸着信号に基づいて上記第2の検知手段により
検知処理された基板吸着時のツィーザの高さ位置データ
が格納される記憶手段と、この記憶手段に格納された基
板の高さ位置データからストローク前における上記ツィ
ーザの高さ位置を求め、得られたこのストローク前のツ
ィーザの高さ位置データと、上記記憶手段に格納された
基板吸着時のツィーザの高さ位置データとの差から上記
移載機のストロークによるたれ量を求め、このたれ量に
基づいて上記記憶手段に格納された移載機のポジション
データを補正した後、実プロセスで処理対象の基板を上
記移載機によって搬送処理させる制御手段とを備えたこ
とを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention relates to a transfer apparatus having a tweezer for sucking a substrate and reciprocating on a base that rotates and moves up and down. A first detecting means for detecting a height position of a substrate before a stroke of the transfer machine to the substrate storage body, wherein the tweezers include: Suction detecting means for detecting that the substrate has been sucked, second detecting means for detecting the height position of the tweezer when the substrate is sucked, and position data of the transfer machine with respect to the substrate insertion position of the substrate storage body. ,
Based on the height position data of the substrate before the stroke detected by the first detection means and the substrate suction signal from the suction detection means at the time of substrate suction detected by the second detection means. Storage means for storing the tweezer height position data, and obtaining the tweezer height position before the stroke from the substrate height position data stored in the storage means, and obtaining the obtained tweezer height before the stroke. The amount of sag due to the stroke of the transfer machine is determined from the difference between the position data and the height position data of the tweezer at the time of substrate suction stored in the storage means, and stored in the storage means based on the amount of sag. And control means for correcting the position data of the transfer machine and carrying out the transfer processing of the substrate to be processed in the actual process by the transfer machine. .

【0009】ここでいう基板収納体とは、基板が収納さ
れるボートやカセットなどをいう。また、検知手段とし
ては、例えばレーザ光、赤外線などを送受する光学的な
センサ、超音波を対象物に発射してその反射波が戻って
くるまでの時間から距離を検出する超音波センサ、その
他、X線を送受するX線センサなどが挙げられる。
[0009] The term "substrate storage body" as used herein refers to a boat, cassette, or the like in which substrates are stored. As the detection means, for example, an optical sensor that transmits and receives laser light, infrared light, and the like, an ultrasonic sensor that emits an ultrasonic wave to an object, and detects a distance from a time until the reflected wave returns, and the like. , X-ray sensors for transmitting and receiving X-rays, and the like.

【0010】この発明の半導体製造装置によれば、移載
機による基板の搬送処理動作のティーチング時(再ティ
ーチング時を含む)において、まず、移載機の初期位置
において第1の検知手段により基板の高さ位置を検出処
理する。そして、この得られた基板の高さ位置データに
基づき、ストローク前のツィーザの高さ位置を算出す
る。次いで、移載機を基台上で基板収納体側へストロー
クさせる(一定距離だけ走行させる)。この結果、基台
などが傾いて、ストローク時における移載機でのたれが
起きる。このたれ量は、次のようにして求められる。す
なわち、ストローク後、ツィーザを基板を吸着するまで
上昇させる。この基板吸着状態は吸着検知手段により検
知する。この吸着検知手段から吸着検知信号が発信され
た時点のツィーザの高さ位置を、第2の検出手段により
検知する。その後、制御手段において、これらストロー
ク前のツィーザの高さ位置と基板吸着時のツィーザの高
さ位置との差から、このたれ量を算出する。
According to the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention, at the time of teaching (including re-teaching) of the substrate transfer processing operation by the transfer machine, the substrate is first detected by the first detecting means at the initial position of the transfer machine. Processing for detecting the height position of. Then, the height position of the tweezer before the stroke is calculated based on the obtained height position data of the substrate. Next, the transfer machine is stroked on the base toward the substrate storage body (runs by a fixed distance). As a result, the base and the like are inclined, and the transfer machine at the time of the stroke may drop. This sagging amount is obtained as follows. That is, after the stroke, the tweezer is raised until the substrate is sucked. This substrate suction state is detected by the suction detection means. The height position of the tweezer at the time when the suction detection signal is transmitted from the suction detection means is detected by the second detection means. Thereafter, the controller calculates the amount of sag from the difference between the height position of the tweezer before the stroke and the height position of the tweezer at the time of substrate suction.

【0011】次に、このたれ量に基づいて、記憶手段に
格納された移載機のポジションデータを補正する。その
後、補正されたポジションデータに基づいて、制御手段
により、移載機は実プロセスを行う。よって、この補正
作業には作業者の高度な熟練を必要としない。また、た
れ補正を自動化することができ、その結果、ティーチン
グの工数低減が図れる。しかも、常に一定のたれ補正精
度を確保できる。
Next, the position data of the transfer machine stored in the storage means is corrected based on the sag amount. Thereafter, the transfer device performs an actual process by the control means based on the corrected position data. Therefore, this correction operation does not require a high skill of the operator. Further, the sag correction can be automated, and as a result, the number of teaching steps can be reduced. In addition, a constant sag correction accuracy can always be ensured.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】まず、この発明の一実施例に係る
半導体製造装置を図面を参照して説明する。なお、ここ
ではウェーハと同じ寸法、形状を有する円板部の中心位
置に円柱ピンが立設された冶具を用いて、自動ティーチ
ングする場合を例にとる。また、従来手段と同一部品に
は同一符号を付す。図1、図2に示すように、この半導
体製造装置は、反応室内で所定の処理を施すために多数
枚のウェーハ1の挿填用溝を有するボート2と、多数段
の挿填用溝を有して、処理済あるいは未処理のウェーハ
1を複数枚収容するカセット3と、ボート2とカセット
3との間でウェーハ1を5枚ずつ搬送する移載機4と、
移載機4によるウェーハ1の搬送処理を制御するコント
ローラ7とを備えている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, an example is described in which automatic teaching is performed using a jig in which a cylindrical pin is provided upright at the center position of a disk portion having the same size and shape as the wafer. The same parts as those of the conventional means are denoted by the same reference numerals. As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor manufacturing apparatus includes a boat 2 having a plurality of grooves 1 for inserting a plurality of wafers 1 for performing a predetermined process in a reaction chamber, and a multi-stage insertion groove. A cassette 3 for accommodating a plurality of processed or unprocessed wafers 1, a transfer machine 4 for transporting five wafers 1 between the boat 2 and the cassette 3,
A controller 7 for controlling a transfer process of the wafer 1 by the transfer machine 4.

【0013】ウェーハ1を収納したカセット3は、半導
体製造装置に備えられたカセット棚6に載置されてい
る。移載機4にはウェーハ1を吸着するための5本のツ
ィーザ5が備えられている。また、ボート2とカセット
3との間に、基台昇降旋回装置50によって旋回および
昇降可能な基台4aが配置されている。この基台4a上
に、X方向へ延びるLMガイドを介して、移載機4が搭
載されている。基台昇降旋回装置50の回転シャフト5
1を突出させたり、引き込ませたりして基台4aを昇降
させる一方、回転シャフト51を回転させることで、基
台4aを水平旋回させる。
The cassette 3 containing the wafers 1 is mounted on a cassette shelf 6 provided in a semiconductor manufacturing apparatus. The transfer machine 4 is provided with five tweezers 5 for sucking the wafer 1. A base 4a that can be turned and moved up and down by a base elevating and turning device 50 is disposed between the boat 2 and the cassette 3. The transfer machine 4 is mounted on the base 4a via an LM guide extending in the X direction. Rotary shaft 5 of base elevating and rotating device 50
While the base 4a is raised and lowered by protruding and retracting the base 1, the base 4a is horizontally turned by rotating the rotating shaft 51.

【0014】この半導体製造装置では、移載機4の前面
部(ツィーザ5の真下)に第1の検知手段10が設けら
れており、第1の検知手段10により検出された位置デ
ータは、アナログ/デジタル変換器11を介して外部端
末(PC)12へ入力される。第1の検知手段10は後
述するようにウェーハ1の位置を光学的に検知するセン
サで構成されており、この検知情報が位置データとして
外部端末12へ出力される。また、移載機4の後面部に
は、それぞれのツィーザ5にウェーハ1の吸着状態を検
知する吸着検知手段52が設けられている。
In this semiconductor manufacturing apparatus, the first detecting means 10 is provided on the front part of the transfer machine 4 (immediately below the tweezers 5), and the position data detected by the first detecting means 10 is analog data. Is input to an external terminal (PC) 12 via a digital / digital converter 11. The first detection means 10 is constituted by a sensor for optically detecting the position of the wafer 1 as described later, and this detection information is output to the external terminal 12 as position data. Further, on the rear surface portion of the transfer machine 4, suction detecting means 52 for detecting the suction state of the wafer 1 on each tweezer 5 is provided.

【0015】この吸着検知手段52はツィーザ5がウェ
ーハ1を吸着したことを検知するセンサであり、ウェー
ハ1を吸着したことを示す吸着検知信号は外部端末12
へ出力される。さらに、基台昇降旋回装置50には第2
の検知手段53が設けられており、この第2の検知手段
53は回転シャフト51の昇降長さから冶具(ウェー
ハ)吸着時のツィーザ5の高さ位置を検知する。第2の
検知手段53は、回転シャフト51の突出量を検知する
センサであり、その検知情報が位置データとして外部端
末12へ出力される。なお、これらコントローラ7と外
部端末12により、半導体製造装置の制御手段が構成さ
れる。
The suction detecting means 52 is a sensor for detecting that the tweezers 5 has suctioned the wafer 1, and outputs a suction detection signal indicating that the wafer 1 has been suctioned to the external terminal 12.
Output to Further, the base elevating and rotating device 50 has a second
The second detecting means 53 detects the height position of the tweezer 5 when the jig (wafer) is sucked from the vertical length of the rotating shaft 51. The second detecting means 53 is a sensor for detecting the amount of protrusion of the rotating shaft 51, and the detection information is output to the external terminal 12 as position data. The controller 7 and the external terminal 12 constitute control means of the semiconductor manufacturing apparatus.

【0016】また、この半導体製造装置には、外部端末
12とコントローラ7との間の通信を司る通信制御手段
13が備えられている。この通信制御手段13を介し
て、外部端末12からの動作命令がコントローラ7に入
力されるとともに、コントローラ7で得られたステータ
ス信号やエンコーダ値が外部端末12に入力される。こ
のエンコーダ値は移載機4の駆動モータが発生するパル
ス数であり、これによって移載機4の移動距離(すなわ
ち、ツィーザ5の移動距離)を検出しつつ動作制御を行
うことができる。
The semiconductor manufacturing apparatus is provided with communication control means 13 for controlling communication between the external terminal 12 and the controller 7. An operation command from the external terminal 12 is input to the controller 7 via the communication control means 13, and a status signal and an encoder value obtained by the controller 7 are input to the external terminal 12. The encoder value is the number of pulses generated by the drive motor of the transfer machine 4, and the operation can be controlled while detecting the movement distance of the transfer machine 4 (ie, the movement distance of the tweezers 5).

【0017】外部端末12にはメモリ14が備えられて
おり、第1、第2の検知手段10、53、吸着検知手段
52から入力された位置データ、検知信号およびコント
ローラ7から入力されたエンコーダ値がこのメモリ14
(記憶手段)に格納される。また、移載機のポジション
データがメモリ14に格納されている。これら位置デー
タ、ポジションデータおよびエンコーダ値は後述するよ
うに移載機4の動作を制御するためのデータであり、実
プロセスにおけるウェーハ1の搬送処理においては、外
部端末12およびコントローラ7はメモリ14に格納さ
れたデータに基づいて移載機4を動作させる。このポジ
ションデータを得るために、実プロセスに先立って行わ
れるティーチング操作では、処理対象のウェーハ1に代
えて、図3に示す冶具21が用いられる。この冶具21
は、ウェーハ1と同一の形状でかつ同一の大きさの石英
からなる円板部21aと、円板部21aの中心位置に溶
着された石英製の円柱状のピン21bとから構成されて
いる。
The external terminal 12 is provided with a memory 14 for storing position data and detection signals input from the first and second detection means 10 and 53 and the suction detection means 52 and encoder values input from the controller 7. This memory 14
(Storage means). Further, the position data of the transfer machine is stored in the memory 14. The position data, the position data, and the encoder value are data for controlling the operation of the transfer machine 4 as described later. In the transfer process of the wafer 1 in the actual process, the external terminal 12 and the controller 7 The transfer machine 4 is operated based on the stored data. In order to obtain this position data, in a teaching operation performed prior to the actual process, a jig 21 shown in FIG. 3 is used instead of the wafer 1 to be processed. This jig 21
Is composed of a disk portion 21a made of quartz having the same shape and the same size as the wafer 1, and a cylindrical pin 21b made of quartz welded to the center position of the disk portion 21a.

【0018】上記構成の半導体製造装置では下記のよう
にして自動ティーチング操作がなされ、その後に実プロ
セスの搬送処理がなされる。まず、図2に示すように、
ティーチング操作において、作業者が冶具21を例えば
ボート2に挿填し(カセット3の場合も同様)、冶具2
1の左右の挿填用溝に対するスキ間(クリアランス)、
冶具21の挿填用溝に対する上下方向でのスキ間(クリ
アランス)、冶具21の奥の挿填用溝に対するスキ間
(クリアランス)を所定の間隔となるように調整する。
そして、移載機4を動作の基準位置となるホームポジシ
ョンに固定した状態で、所定のクリアランスをもってボ
ート2に填された冶具21の位置を第1の検知手段10
で検知し、この検知処理において得られるポジションデ
ータをメモリ14に格納する。
In the semiconductor manufacturing apparatus having the above structure, an automatic teaching operation is performed as described below, and thereafter, a transport process of an actual process is performed. First, as shown in FIG.
In the teaching operation, an operator inserts the jig 21 into, for example, the boat 2 (the same applies to the case of the cassette 3), and
1, clearance between the left and right insertion grooves (clearance),
The clearance (clearance) in the vertical direction with respect to the insertion groove of the jig 21 and the clearance (clearance) with respect to the insertion groove in the back of the jig 21 are adjusted to be a predetermined interval.
Then, with the transfer machine 4 fixed at the home position serving as a reference position for operation, the position of the jig 21 loaded into the boat 2 with a predetermined clearance is determined by the first detecting means 10.
And the position data obtained in this detection processing is stored in the memory 14.

【0019】すなわち、図3(a)に示すように、第1
の検知手段10からレーザ光RをY軸方向(左右方向)
へ旋回照射して、反射光の有無からピン21bの左右両
端を検知し、その二等分位置(すなわち、冶具21のセ
ンタ)を冶具21のY軸方向の位置として検出する。ま
た、図3(b)に示すように、第1の検知手段10から
レーザ光RをZ軸方向(上下方向)へ上下動照射して反
射光の有無から円板部21aのエッジを検知し、その位
置を冶具21のZ軸方向の位置として検出する。さら
に、図3(c)に示すように、第1の検知手段10がピ
ン21bからの反射光に基づいてピン21b(すなわ
ち、冶具21のセンタ)のX軸方向(前後方向)の位置
(すなわち、冶具21のセンタと移載機4との距離)を
検出する。
That is, as shown in FIG.
The laser beam R from the detecting means 10 in the Y-axis direction (left-right direction)
Then, the left and right ends of the pin 21b are detected from the presence or absence of the reflected light, and the bisected position (that is, the center of the jig 21) is detected as the position of the jig 21 in the Y-axis direction. Further, as shown in FIG. 3B, the first detector 10 irradiates the laser beam R up and down in the Z-axis direction (vertical direction) to detect the edge of the disk portion 21a from the presence or absence of reflected light. The position is detected as the position of the jig 21 in the Z-axis direction. Further, as shown in FIG. 3C, the first detecting means 10 determines the position of the pin 21b (that is, the center of the jig 21) in the X-axis direction (front-back direction) based on the reflected light from the pin 21b (that is, , The distance between the center of the jig 21 and the transfer machine 4).

【0020】上記の検知処理において、第1の検知手段
10としては光学式変位センサを用いており、この光学
式変位センサは発光素子と光位置検出素子(PSD)と
を組み合わせて構成している。特に上記のX軸方向の距
離は三角測量法を応用した方法で検出している。このセ
ンサによる検知処理をさらに詳しく説明する。発光ダイ
オードや半導体レーザ等から成る発光素子の光を投光レ
ンズで集光して冶具21へ照射する。冶具21から拡散
反射された光の一部を受光レンズを通して光位置検出素
子上に集光させる。この集光された光の有無によりY軸
方向位置およびZ軸方向位置を検知する。とともに、集
光された光のスポット位置に基づいてX軸方向の距離を
検知する。
In the above detection processing, an optical displacement sensor is used as the first detecting means 10, and this optical displacement sensor is constituted by combining a light emitting element and a light position detecting element (PSD). . In particular, the distance in the X-axis direction is detected by a method using triangulation. The detection processing by this sensor will be described in more detail. Light from a light emitting element such as a light emitting diode or a semiconductor laser is condensed by a light projecting lens and irradiated to a jig 21. A part of the light diffusely reflected from the jig 21 is condensed on the light position detecting element through the light receiving lens. The Y-axis position and the Z-axis position are detected based on the presence or absence of the collected light. At the same time, the distance in the X-axis direction is detected based on the spot position of the collected light.

【0021】すなわち、光位置検出素子が、センサ10
と冶具21との距離に応じて、または、形成されたスポ
ットの位置に応じた電圧を出力し、この出力電圧値に基
づいてX軸方向の距離が検知される。このように、セン
サ10全体としては、Y軸方向位置、Z軸方向位置、お
よび、X軸方向の距離を検知する3つの機能を備えてい
る。なお、上記の検知処理は移載機4およびツィーザ5
をホームポジションに設置した状態で行われる。また、
センサ10とツィーザ5の先端とは予め位置関係が検
知、測定され、センサ10で得たポジションデータによ
って動作制御しても、ツィーザ5の位置を実プロセスに
おいて正確に制御することができる。
That is, the light position detecting element is the sensor 10
A voltage corresponding to the distance between the tool and the jig 21 or the position of the formed spot is output, and the distance in the X-axis direction is detected based on the output voltage value. Thus, the sensor 10 as a whole has three functions of detecting the position in the Y-axis direction, the position in the Z-axis direction, and the distance in the X-axis direction. The above detection processing is performed by the transfer machine 4 and the tweezers 5.
In the home position. Also,
Even if the positional relationship between the sensor 10 and the tip of the tweezer 5 is detected and measured in advance and the operation is controlled based on the position data obtained by the sensor 10, the position of the tweezer 5 can be accurately controlled in an actual process.

【0022】このようにして、所定のクリアランスをも
った適切な状態で冶具21(すなわち、ウェーハ1)を
ボート2に挿填できるポジションデータが、メモリ14
に格納される。この後、実プロセスでは、メモリ14に
記憶させたポジションデータをコントローラ7に出力
し、移載機4を動作させると、ウェーハ1は前後方向、
左右方向、上下方向で適切なクリアランスをもった状態
でボート2の挿填用溝2bに挿填される。なお、この実
施例では移載機4の5本のツィーザ5によってウェーハ
1が5枚ずつ搬送処理されて、ボート2に所定のクリア
ランスをもって挿填される。
In this way, the position data that allows the jig 21 (ie, the wafer 1) to be inserted into the boat 2 in an appropriate state with a predetermined clearance is stored in the memory 14
Is stored in Thereafter, in the actual process, the position data stored in the memory 14 is output to the controller 7 and the transfer device 4 is operated.
The boat 2 is inserted into the insertion groove 2b of the boat 2 with an appropriate clearance in the horizontal direction and the vertical direction. In this embodiment, the five tweezers 5 of the transfer machine 4 transport the wafers one by one and insert them into the boat 2 with a predetermined clearance.

【0023】ところで、前述したように、移載機4を基
台4a上でボート2側へストロークしたような場合、比
較的重い移載機4が基台4aの片側へ移動することで、
基台4aがこのストローク方向へ下方傾斜し、移載機4
のストローク時におけるたれが生じる。このたれ現象に
より、実プロセスにおける各挿填用溝へのウェーハ出し
入れ時に、ウェーハ1やツィーザ5を傷つけるなどの不
都合が起きるおそれがある。そこで、以下の操作を行う
ことで、移載機4のたれを自動補正する。
As described above, when the transfer machine 4 is stroked on the base 4a toward the boat 2, the relatively heavy transfer machine 4 moves to one side of the base 4a.
The base 4a is inclined downward in this stroke direction, and the transfer machine 4
At the time of the stroke. This dripping phenomenon may cause inconveniences such as damaging the wafer 1 and the tweezers 5 when the wafer is taken in and out of each of the insertion grooves in the actual process. Therefore, by performing the following operation, the sagging of the transfer machine 4 is automatically corrected.

【0024】すなわち、移載機4の動作のティーチング
時において、まず基台昇降旋回装置50の回転シャフト
51を突出させながら、センサ10により冶具21の高
さ位置を検出処理する(図4(a)参照)。次いで、得
られた冶具高さ位置データをメモリ14へ格納し、この
格納された冶具高さ位置データに基づき、外部端末12
において、ストローク前のツィーザ5の高さ位置を算出
する。その後、基台昇降旋回装置50の回転シャフト5
1を所定長さだけ下降させて、冶具21の円板部21a
の高さ位置に、所定のツィーザ5を配置する(図4
(b)参照)。それから、移載機4を基台4a上でボー
ト2側へストロークすると、ストローク時における移載
機4のたれを起こしながら、円板部21aの下方へ斜め
にツィーザ5が差し込まれる(図5、図6参照)。
That is, at the time of teaching the operation of the transfer machine 4, first, the height position of the jig 21 is detected by the sensor 10 while the rotating shaft 51 of the base lifting / lowering device 50 is projected (FIG. 4A). )reference). Next, the obtained jig height position data is stored in the memory 14, and based on the stored jig height position data, the external terminal 12
In, the height position of the tweezers 5 before the stroke is calculated. After that, the rotating shaft 5 of the
1 is lowered by a predetermined length, and the disc portion 21a of the jig 21 is lowered.
A predetermined tweezer 5 is arranged at the height position of FIG.
(B)). Then, when the transfer machine 4 is stroked toward the boat 2 on the base 4a, the tweezers 5 are inserted obliquely below the disk portion 21a while causing the transfer machine 4 to sag during the stroke (FIG. 5, See FIG. 6).

【0025】このときのたれ量は、次のようにして求め
られる。すなわち、ストローク後、ツィーザ5を冶具2
1の円板部21aが吸着されるまで上昇させる。この冶
具21の吸着状態は吸着検知手段52により検知され
る。この時点における基台昇降旋回装置50の回転シャ
フト51の突出長さを、第2の検出手段53が検出す
る。そして、この突出長さに基づいて、外部端末12が
ツィーザ5の高さ位置を算出する。その後、外部端末1
2において、これらストローク前のツィーザの高さ位置
と冶具吸着時のツィーザ5の高さ位置との差から、この
たれ量ΔZを算出する。なお、図7(a)、(b)に示
すように、たれ量ΔZは、水平下降成分ΔZ1 と、ツィ
ーザ5が角度θだけ下方回動したことによる垂直下方回
動成分ΔZ2とに二分される。したがって、ΔZ1 とΔ
Z2 とを加算すれば、たれ量ΔZが求められる。
The sagging amount at this time is obtained as follows. That is, after the stroke, the tweezers 5 are connected to the jig 2
The first disk portion 21a is raised until it is sucked. The suction state of the jig 21 is detected by the suction detection means 52. At this time, the second detecting means 53 detects the protruding length of the rotating shaft 51 of the base lifting / lowering / turning device 50. Then, based on the protrusion length, the external terminal 12 calculates the height position of the tweezers 5. Then, external terminal 1
In step 2, the sag amount ΔZ is calculated from the difference between the height position of the tweezers before the stroke and the height position of the tweezers 5 at the time of chucking the jig. As shown in FIGS. 7A and 7B, the sag amount ΔZ is divided into a horizontal descending component ΔZ1 and a vertical downward rotating component ΔZ2 due to the downward rotation of the tweezer 5 by the angle θ. . Therefore, ΔZ1 and ΔZ1
By adding Z2, the sag amount ΔZ is obtained.

【0026】次に、このたれ量ΔZに基づいてメモリ1
4に格納された移載機4のポジションデータを補正す
る。その後、補正されたポジションデータに基づいて、
外部端末12およびコントローラ7により実プロセスを
行うので、作業者の高度な熟練を必要とせず、たれ補正
の自動化によってティーチングの工数低減が図れ、しか
も常に一定のたれ補正精度を確保できる。
Next, based on the sag amount ΔZ, the memory 1
4 to correct the position data of the transfer machine 4. Then, based on the corrected position data,
Since the actual process is performed by the external terminal 12 and the controller 7, a high level of skill of the operator is not required, the man-hour for teaching can be reduced by automating sag correction, and a constant sag correction accuracy can always be ensured.

【0027】なお、本発明はこの実施例に限定されるも
のではなく、要旨を逸脱しない範囲での設計変更などが
あっても本発明に含まれる。例えば、実施例では、ウェ
ーハと同じ寸法、形状を有する円板部の中心位置に円柱
ピンが立設された冶具を用いて、自動ティーチングする
場合を例にとったが、これに限定しなくても、例えば作
業者の手動ティーチングの場合にも適用できる。この場
合には、ツィーザに吸着されるのは、冶具ではなくてウ
ェーハ(基板)となる。
It should be noted that the present invention is not limited to this embodiment, and any changes in design without departing from the gist of the present invention are included in the present invention. For example, in the embodiment, the case where the automatic teaching is performed using a jig in which a cylindrical pin is erected at the center position of the disk portion having the same size and shape as the wafer is taken as an example, but is not limited thereto. This can be applied to, for example, manual teaching by an operator. In this case, what is absorbed by the tweezers is not a jig but a wafer (substrate).

【0028】また、実施例では、冶具の素材として石英
を採用したが、これに限定しなくても、例えばアルミナ
などの不透明素材(好ましくは光の反射率が良い素材)
を採用してもよい。このようにすれば、第1の検知手段
から照射されたレーザ光(他品種のセンサ光を含む)
は、目標である冶具の例えばピンを透過することなく、
良好に反射する。これにより、第1の検知手段による冶
具の誤検知を減少でき、検知精度の向上が図れる。
In the embodiment, quartz is used as the material of the jig. However, the present invention is not limited to this. For example, an opaque material such as alumina (preferably a material having a high light reflectance) is used.
May be adopted. According to this configuration, the laser light (including the sensor light of another type) emitted from the first detection unit
Without penetrating the target jig, for example, a pin,
Good reflection. Thereby, erroneous detection of the jig by the first detection means can be reduced, and the detection accuracy can be improved.

【0029】さらに、このように冶具素材を不透明素材
とし、しかもピンを円板部にねじ止めすれば、冶具洗浄
時におけるこの接合部の腐食や汚染発生の問題を解消で
きる。すなわち、冶具の洗浄は、通常、半導体製造ライ
ンの洗浄工程を使用しているので、使用する薬液によっ
ては、接合部の腐食や汚染のおそれが懸念されていた。
しかしながら、このようにピンと円板部との連結をねじ
止めにすれば、それらの問題を解消することができる。
Further, if the jig material is made of an opaque material and the pins are screwed to the disk portion, the problem of corrosion and contamination of the joint portion during cleaning of the jig can be solved. That is, since the cleaning of the jig usually uses a cleaning process of a semiconductor manufacturing line, there is a concern that there is a possibility of corrosion or contamination of the joint depending on the chemical used.
However, if the connection between the pin and the disk portion is screwed in this way, those problems can be solved.

【0030】そして、実施例では、第1の検知手段の移
載機における設置箇所が移載機の前面部でツィーザの真
下となっているが、これに限定しなくても、例えば図8
に示す掬い上げ移載機4Aのようなツィーザ5を昇降さ
せるタイプの場合には、第1の検知手段10Aを移載機
4Aの一側部に設けてもよい。このように、センサ10
Aを移載機4Aの側部に設けることにより、移載機4A
を水平旋回させることで、ツィーザ5の昇降に拘りな
く、常時、例えば冶具21のピン21bを斜めから正確
に検知できる。なお、図8において、2aはボート柱で
ある。
In the embodiment, the installation position of the first detecting means in the transfer machine is directly below the tweezers in the front of the transfer machine. However, the present invention is not limited to this.
In the case of a type in which the tweezers 5 are lifted and lowered, such as the scooping and transferring machine 4A shown in FIG. 1, the first detecting means 10A may be provided on one side of the transferring machine 4A. Thus, the sensor 10
A is provided on the side of the transfer machine 4A so that the transfer machine 4A
Is horizontally rotated, the pin 21b of the jig 21 can always be accurately detected obliquely regardless of whether the tweezers 5 are raised or lowered. In addition, in FIG. 8, 2a is a boat pillar.

【0031】また、この実施例では、移載機の動作のテ
ィーチング時におけるたれ補正の自動化を図ったもので
ある。しかしながら、例えば半導体製造装置の運転途中
において、何らかの原因により、基板収納体であるボー
トやカセットを変更する場合も生じる(以下、ボートの
場合を例に説明する)。このような場合には、通常、ボ
ートにセット位置ずれがあると考えるのが一般的であ
る。そこで、移載機の動作の再ティーチング行う必要が
ある。この際、旧いボードのポジションデータと、新し
いボードのポジションデータとを対比して、その位置ず
れ分だけを補正しなければならない。これを実施するた
めに、半導体製造装置の制御手段に、これら交換された
新旧の基板収納体のポジションデータを格納するメモリ
を設けるようにしてもよい。これにより、移載機の動作
の再ティーチング作業の工程数や、この作業のばらつき
を低減できる再ティーチングの自動化が図れる。
In this embodiment, the sag correction at the time of teaching the operation of the transfer machine is automated. However, for example, during operation of the semiconductor manufacturing apparatus, a boat or a cassette serving as a substrate storage body may be changed for some reason (hereinafter, the case of a boat will be described as an example). In such a case, it is generally considered that the boat has a set position deviation. Therefore, it is necessary to re-teaching of the operation of the transfer machine. At this time, the position data of the old board must be compared with the position data of the new board, and only the positional deviation must be corrected. In order to implement this, the control means of the semiconductor manufacturing apparatus may be provided with a memory for storing the position data of the exchanged new and old substrate storage bodies. This makes it possible to automate the re-teaching that can reduce the number of steps of the re-teaching operation of the operation of the transfer machine and the variation in the operation.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、移載機の動作のティーチング時において、移載機の
ストローク後に基板が吸着されるまでツィーザを上昇さ
せ、この時点のツィーザの高さ位置を検知し、その後、
ストローク前および基板吸着時の各ツィーザの高さ位置
の差から移載機のたれ量を算出する。そして、このたれ
量に基づき、記憶手段に格納された移載機のポジション
データを補正し、この補正後のポジションデータに基づ
き、実プロセスを行うようにしたので、作業者の高度な
熟練を必要としないたれ補正の自動化が図れ、これによ
りティーチングの工数低減が図れ、しかも常に一定のた
れ補正精度を確保できる。
As described above, according to the present invention, at the time of teaching the operation of the transfer machine, the tweezer is raised until the substrate is sucked after the stroke of the transfer machine, and the height of the tweezer at this time is raised. Position, and then
The sagging amount of the transfer machine is calculated from the difference between the height positions of the respective tweezers before the stroke and during the suction of the substrate. Then, the position data of the transfer machine stored in the storage means is corrected based on the amount of dripping, and the actual process is performed based on the corrected position data. This makes it possible to automate the sag correction, thereby reducing the number of teaching steps and also ensuring a constant sag correction accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例に係る半導体製造装置の全
体斜視図である。
FIG. 1 is an overall perspective view of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例に係る半導体製造装置の構
成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図3】この発明の一実施例に係る検知手段による冶具
位置の検知方法を説明する概念図である。
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a method of detecting a jig position by a detecting unit according to one embodiment of the present invention.

【図4】この発明の一実施例に係る半導体製造装置によ
るストローク時の移載機のたれ量の検知方法を説明する
概念図である。
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a method for detecting the amount of sag of a transfer machine during a stroke by a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】この発明の一実施例に係る半導体製造装置によ
るストローク時の移載機のたれ量の検知方法を説明する
概念図である。
FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating a method of detecting the amount of sag of the transfer machine during a stroke by the semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図6】ストローク前後における移載機のたれ量を説明
する概念図である。
FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating the amount of sagging of a transfer machine before and after a stroke.

【図7】たれ量の各種成分を説明する概念図である。FIG. 7 is a conceptual diagram illustrating various components of a sagging amount.

【図8】この発明の他の態様に係る半導体製造装置によ
る冶具位置の検知方法を説明する概念図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating a method for detecting a jig position by a semiconductor manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図9】従来例に係る半導体製造装置によるストローク
時の移載機のたれ量の検知方法を説明する概念図であ
る。
FIG. 9 is a conceptual diagram illustrating a method of detecting the amount of sag of a transfer machine during a stroke by a semiconductor manufacturing apparatus according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウェーハ、 2 ボート(基板収納体)、 3 カセット(基板収納体)、 4 移載機、 4a 基台、 5 ツィーザ、 7 コントローラ(制御手段)、 10 センサ(第1の検知手段)、 12 外部端末(制御手段)、 14 メモリ(記憶手段)、 52 吸着検知手段、 53 第2の検知手段、 ΔZたれ量。 Reference Signs List 1 wafer, 2 boat (substrate storage body), 3 cassette (substrate storage body), 4 transfer machine, 4a base, 5 tweezer, 7 controller (control means), 10 sensor (first detection means), 12 external Terminal (control means), 14 memory (storage means), 52 suction detection means, 53 second detection means, ΔZ sag amount.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板吸着用のツィーザを有して、旋回お
よび昇降する基台上を往復走行する移載機により、処理
対象の基板を基板収納体の基板挿填位置へ搬送処理する
半導体製造装置において、 上記基板収納体への上記移載機のストローク前における
基板の高さ位置を検知する第1の検知手段と、 上記ツィーザに基板が吸着されたことを検知する吸着検
知手段と、 基板吸着時の上記ツィーザの高さ位置を検知する第2の
検知手段と、 上記基板収納体の基板挿填位置に対する移載機のポジシ
ョンデータ、上記第1の検知手段により検知処理された
ストローク前の基板の高さ位置データ、および、上記吸
着検知手段からの基板吸着信号に基づいて上記第2の検
知手段により検知処理された基板吸着時のツィーザの高
さ位置データが格納される記憶手段と、この記憶手段に
格納された基板の高さ位置データからストローク前にお
ける上記ツィーザの高さ位置を求め、得られたこのスト
ローク前のツィーザの高さ位置データと、上記記憶手段
に格納された基板吸着時のツィーザの高さ位置データと
の差から上記移載機のストロークによるたれ量を求め、
このたれ量に基づいて上記記憶手段に格納された移載機
のポジションデータを補正した後、実プロセスで処理対
象の基板を上記移載機によって搬送処理させる制御手段
とを備えたことを特徴とする半導体製造装置。
1. A semiconductor manufacturing apparatus comprising: a transfer device that has a tweezer for sucking a substrate and reciprocates on a base that rotates and moves up and down to transfer a substrate to be processed to a substrate insertion position of a substrate storage body. In the apparatus, first detecting means for detecting a height position of the substrate before a stroke of the transfer machine to the substrate storage body; suction detecting means for detecting that the substrate is sucked by the tweezers; Second detecting means for detecting the height position of the tweezer at the time of suction, position data of the transfer machine with respect to the substrate insertion position of the substrate storage body, before the stroke detected by the first detecting means, The substrate height position data and the tweezer height position data at the time of substrate suction detected by the second detection means based on the substrate suction signal from the suction detection means are stored. Means and the height position of the tweezer before the stroke is obtained from the height position data of the substrate stored in the storage means, and the obtained height position data of the tweezer before the obtained stroke is stored in the storage means. The amount of sag due to the stroke of the transfer machine is obtained from the difference from the height position data of the tweezer at the time of substrate suction,
After correcting the position data of the transfer machine stored in the storage means based on the sagging amount, the transfer means transports the substrate to be processed in the actual process by the transfer machine. Semiconductor manufacturing equipment.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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