JPH10320997A - Programming circuit provided in semiconductor memory device - Google Patents

Programming circuit provided in semiconductor memory device

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Publication number
JPH10320997A
JPH10320997A JP9129236A JP12923697A JPH10320997A JP H10320997 A JPH10320997 A JP H10320997A JP 9129236 A JP9129236 A JP 9129236A JP 12923697 A JP12923697 A JP 12923697A JP H10320997 A JPH10320997 A JP H10320997A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
level
power supply
redundant
memory cell
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9129236A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyoshi Kawamura
栄喜 川村
Masayuki Yamashita
正之 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP9129236A priority Critical patent/JPH10320997A/en
Publication of JPH10320997A publication Critical patent/JPH10320997A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a programming circuit by which malfunctioning such as reading/writing data from/in a defective memory cell, etc., can be avoided regardless of the rising speed of a power supply voltage when a power supply is closed and which is provided in a semiconductor memory device. SOLUTION: A PMOS transistor 7 is connected between a power supply 9 and one of the electrodes of a capacitor 1. When a redundancy circuit is used, a fuse 3 is cut off. When the voltage of the power supply rises gradually, if the voltage reaches the threshold voltage |Vpth| of the PMOS transistor 7, the PMOS transistor 7 is turned on and the voltage of the power supply 9 is applied to the one terminal of the connector of the capacitor 1 which produces a capacitance coupling. Therefore, the voltage level of the other electrode of the capacitor 1 is lifted to a voltage level equal to the voltage level of the one electrode and the level of a node N1 is fixed to an H level.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に備
えられるプログラム回路に関し、特に、不良メモリセル
を冗長メモリセルに置換することの能能な半導体記憶装
置に備えられるプログラム回路に関する。
The present invention relates to a program circuit provided in a semiconductor memory device, and more particularly to a program circuit provided in a semiconductor memory device capable of replacing a defective memory cell with a redundant memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】SRAMやDRAMなどのような半導体
記憶装置には、一般に、歩留り改善を目的として、不良
メモリセルと置換えるために複数列および複数行に配置
された冗長メモリセルが備えられている。このような従
来の半導体記憶装置において、まず、行方向に配置され
た冗長メモリセル(以下、冗長メモリセル行と称す)を
使用する場合について動作を説明する。
2. Description of the Related Art Semiconductor memory devices such as SRAMs and DRAMs are generally provided with redundant memory cells arranged in a plurality of columns and a plurality of rows to replace defective memory cells for the purpose of improving yield. I have. First, the operation of such a conventional semiconductor memory device in which redundant memory cells arranged in the row direction (hereinafter, referred to as redundant memory cell rows) are used will be described.

【0003】この場合、不良メモリセルの行アドレスに
対して冗長メモリセルが予め設定されており、外部から
入力された行アドレス信号がその不良メモリセルに対応
する行アドレス信号であればプログラム回路から冗長行
アドレスデコード回路に所定のレベルの信号が出力され
る。冗長行アドレスデコード回路は上記行アドレス信号
に対応して所定の冗長ワード線を活性化する。その結
果、その冗長ワード線に接続された冗長メモリセル行が
選択可能となる。そして列アドレス信号によりビット線
対が活性化されると、上記冗長メモリセル行のうち、活
性化されたビット線対に接続された1つの冗長メモリセ
ルが選択される。よって、不良メモリセルの代わりにこ
の冗長メモリセルにおいてデータの読出/書込が行なわ
れる。
In this case, a redundant memory cell is set in advance for a row address of a defective memory cell, and if a row address signal input from the outside is a row address signal corresponding to the defective memory cell, the program circuit is activated. A signal of a predetermined level is output to the redundant row address decode circuit. The redundant row address decode circuit activates a predetermined redundant word line in response to the row address signal. As a result, a redundant memory cell row connected to the redundant word line can be selected. When the bit line pair is activated by the column address signal, one redundant memory cell connected to the activated bit line pair is selected from the redundant memory cell rows. Therefore, data reading / writing is performed in this redundant memory cell instead of the defective memory cell.

【0004】次に、列方向に配置された冗長メモリセル
(以下、冗長メモリセル列と称す)を使用する場合につ
いて動作を説明する。
Next, the operation in the case where a redundant memory cell arranged in the column direction (hereinafter, referred to as a redundant memory cell column) is used will be described.

【0005】冗長メモリセル行を使用する場合と全く同
様に、外部から入力された列アドレス信号に応答してプ
ログラム回路から冗長列アドレスデコード回路に所定の
レベルの信号が出力される。その出力信号に基づいて対
応する冗長ビット線対が活性化され、冗長メモリセル列
が選択される。そして、選択された冗長メモリセル列の
うち行アドレス信号で活性化されたワード線に接続され
た1つの冗長メモリルにおいてデータの読出/書込が行
なわれる。
Just as in the case of using a redundant memory cell row, a signal of a predetermined level is output from a program circuit to a redundant column address decode circuit in response to an externally input column address signal. A corresponding redundant bit line pair is activated based on the output signal, and a redundant memory cell column is selected. Then, data is read / written in one redundant memory connected to the word line activated by the row address signal in the selected redundant memory cell column.

【0006】つまり、SRAMやDRAMなどの半導体
記憶装置においては、プログラム回路からの出力信号の
レベルに基づいて冗長行アドレスデコード回路や冗長列
アドレスデコード回路を介して冗長メモリセルの選択が
制御されている。
That is, in a semiconductor memory device such as an SRAM or a DRAM, selection of a redundant memory cell is controlled via a redundant row address decode circuit and a redundant column address decode circuit based on the level of an output signal from a program circuit. I have.

【0007】図10は、従来のSRAMにおけるプログ
ラム回路1000を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a program circuit 1000 in a conventional SRAM.

【0008】図11は、図10に示したプログラム回路
1000における電源9の電圧に対するノードN1の電
圧のレベルの変化を示す図であり、(a)は電源9の電
圧が急峻に立上がったときの電圧のレベルの変化を示す
図であり、(b)は電源9の電圧が緩やかに立上がった
ときの電圧のレベルの変化を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a change in the voltage level of the node N1 with respect to the voltage of the power supply 9 in the program circuit 1000 shown in FIG. 10, and FIG. 11 (a) shows a case where the voltage of the power supply 9 rises sharply. FIG. 7B is a diagram illustrating a change in the voltage level when the voltage of the power supply 9 gradually rises.

【0009】まず、プログラム回路1000が冗長行ア
ドレスデコード回路に接続されている場合の動作につい
て説明する。図10を参照して、プログラム回路100
0において、まず、対応する冗長メモリセル行を使用し
ないときヒューズ3は切断されない。したがって、ノー
ドN1には接地電圧が与えられ、ノードN1は常にLレ
ベルに固定される。ノードN1がLレベルに固定される
と、ハーフラッチ回路4の出力、すなわち、プログラム
回路1000の出力は常にHレベルとなる。よって、プ
ログラム回路1000からはHレベルの信号が出力され
る。このHレベルの出力信号に応答して、冗長行アドレ
スデコード回路はLレベルの不活性化信号を出力し、対
応する冗長ワード線を不活性化する。したがって、この
プログラム回路1000に対応する冗長メモリセル行は
非選択となる。
First, the operation when the program circuit 1000 is connected to the redundant row address decode circuit will be described. Referring to FIG. 10, program circuit 100
At 0, first, the fuse 3 is not blown when the corresponding redundant memory cell row is not used. Therefore, the ground voltage is applied to node N1, and node N1 is always fixed at L level. When the node N1 is fixed at the L level, the output of the half latch circuit 4, that is, the output of the program circuit 1000 is always at the H level. Therefore, an H-level signal is output from the program circuit 1000. In response to the H-level output signal, the redundant row address decode circuit outputs an L-level inactivation signal to inactivate a corresponding redundant word line. Therefore, the redundant memory cell row corresponding to this program circuit 1000 is not selected.

【0010】次に、冗長メモリセル行を使用するときは
ヒューズ3が切断される。図10および図11(a)を
参照して、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急
峻に立ち上がった場合、キャパシタ1により容量結合が
起こる。よって、ノードN1はHレベルにつり上げられ
る。しかし、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が
ゆっくりと上昇した場合は前述の容量結合が起こらな
い。そのため、高抵抗2が設けられており、図10およ
び図11(b)に示したように、高抵抗2によってノー
ドN1が徐々に、しかし確実にHレベルに引き上げられ
るようになっている。ノードN1の電位がHレベルにな
ると、ハーフラッチ回路4の出力信号、すなわちプログ
ラム回路1000の出力信号はLレベルとなる。このL
レベルの出力信号に応答して冗長行アドレスデコード回
路はHレベルの活性化信号を出力し、対応する冗長ビッ
ト線対を活性化する。したがって、活性化された冗長ビ
ット線対に接続された冗長メモリセル行が選択可能とな
る。
Next, when using the redundant memory cell row, the fuse 3 is cut. Referring to FIG. 10 and FIG. 11A, when the voltage of power supply 9 sharply rises at the time of power-on (time t1), capacitive coupling occurs by capacitor 1. Therefore, node N1 is raised to H level. However, when the power is turned on (time t1) and the voltage of the power supply 9 rises slowly, the above-described capacitive coupling does not occur. Therefore, the high resistance 2 is provided, and as shown in FIGS. 10 and 11B, the node N1 is gradually but surely raised to the H level by the high resistance 2. When the potential of the node N1 becomes H level, the output signal of the half latch circuit 4, that is, the output signal of the program circuit 1000 becomes L level. This L
In response to the output signal at the level, the redundant row address decode circuit outputs an activation signal at the H level to activate the corresponding redundant bit line pair. Therefore, a redundant memory cell row connected to the activated redundant bit line pair can be selected.

【0011】プログラム回路1000が冗長列アドレス
デコード回路に接続されている場合は、先の冗長行アド
レスデコード回路に接続されている場合の説明におい
て、行を列に置換えた動作となる。図10を参照して、
プログラム回路1000において、対応する冗長メモリ
セル列を使用しないときは、上記冗長行アドレスデコー
ド回路に接続されている場合と同様にヒューズ3は切断
されない。したがって、プログラム回路1000はHレ
ベルの信号を出力する。このHレベルの出力信号に応答
して冗長列アドレスデコード回路はLレベルの不活性化
信号を出力し、対応する冗長ビット線対を不活性化す
る。したがって、このプログラム回路に対応する冗長メ
モリセル列は非選択となる。
When the program circuit 1000 is connected to the redundant column address decode circuit, the operation is the same as that in the case where the program circuit 1000 is connected to the redundant row address decode circuit, except that the rows are replaced with the columns. Referring to FIG.
When the corresponding redundant memory cell column is not used in program circuit 1000, fuse 3 is not blown, as in the case where it is connected to the redundant row address decode circuit. Therefore, program circuit 1000 outputs an H-level signal. In response to the H level output signal, the redundant column address decode circuit outputs an L level inactivation signal to inactivate a corresponding redundant bit line pair. Therefore, the redundant memory cell column corresponding to this program circuit is not selected.

【0012】冗長メモリセル列を使用するときは、上記
冗長行アドレスデコード回路に接続されている場合と同
様にヒューズ3が切断される。このときの電源9の電圧
に対するノードN1の電圧のレベルの変化は前述の図1
1(a),(b)に示したものと同様である。すなわ
ち、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急峻に立
ち上がった場合、キャパシタ1により容量結合が起こ
り、ノードN1はHレベルに吊り上げられる。しかし、
電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧がゆっくりと上
昇した場合は前述のキャパシタ1による容量結合が起こ
らないので、高抵抗2によってノードN1が徐々に、し
かし確実にHレベルに引き上げられるようになってい
る。よって、ノードN1がHレベルになるとプログラム
回路1000はLレベルの活性化信号を出力する。この
Lレベルの活性化信号に応答して冗長行アドレスデコー
ド回路はHレベルの活性化信号を出力し、対応する冗長
ビット線対を活性化する。したがって、活性化された冗
長ビット線対に接続された冗長メモリセル列が選択可能
となる。
When a redundant memory cell column is used, the fuse 3 is blown in the same manner as when connected to the redundant row address decode circuit. At this time, the change in the voltage level of the node N1 with respect to the voltage of the power supply 9 is the same as that in FIG.
1 (a) and 1 (b). That is, when the voltage of the power supply 9 rises sharply at the time of power-on (time t1), capacitive coupling occurs by the capacitor 1, and the node N1 is raised to the H level. But,
At power-on (time t1), if the voltage of the power supply 9 rises slowly, the above-described capacitive coupling by the capacitor 1 does not occur, so that the node N1 is gradually but surely raised to the H level by the high resistance 2. It has become. Therefore, when node N1 goes high, program circuit 1000 outputs an activation signal at low level. In response to the L-level activation signal, the redundant row address decode circuit outputs an H-level activation signal to activate a corresponding redundant bit line pair. Therefore, a redundant memory cell column connected to the activated redundant bit line pair can be selected.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プログ
ラム回路1000において、冗長メモリセル行や冗長メ
モリセル列などの冗長回路を使用する場合であっても、
前述のように電源9の電圧がゆっくりと上昇した場合は
キャパシタ1による容量結合が起こらないため、電源電
圧がある程度上昇するまで入力ノードN1のレベルがな
かなかHレベルに固定されない。そのため、プログラム
回路1000からLレベルの活性化信号が安定して出力
されず、不良メモリセルが誤って選択されてしまう可能
性があった。その結果、不良メモリセルであるにもかか
わらず、データの読出や書込が行なわれるなどの誤動作
を引き起こすという問題点があった。
However, even when a redundant circuit such as a redundant memory cell row or a redundant memory cell column is used in the program circuit 1000,
As described above, when the voltage of the power supply 9 rises slowly, since the capacitive coupling by the capacitor 1 does not occur, the level of the input node N1 is not easily fixed at the H level until the power supply voltage rises to some extent. Therefore, the activation signal of the L level is not stably output from the program circuit 1000, and there is a possibility that a defective memory cell is erroneously selected. As a result, there is a problem that a malfunction such as reading or writing of data is caused despite the defective memory cell.

【0014】本発明は以上のような問題点を解決するた
めになされたもので、電源投入時の電源電圧の上昇速度
にかかわらず、不良メモリセルにデータの読出や書込が
行なわれるなどの誤動作を防止することが可能な半導体
半導体記憶装置に備えられるプログラム回路を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems. For example, data can be read from or written to a defective memory cell regardless of the rate of rise of power supply voltage when power is turned on. It is an object of the present invention to provide a program circuit provided in a semiconductor memory device capable of preventing a malfunction.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置に備えられるプログラム回路は、所定のノードと
接地との間に接続され、冗長回路が使用されるとき切断
され、冗長回路が使用されないとき接続される切断/接
続手段と、所定のノードの電圧に応答して前記活性化信
号を生成する活性化信号生成手段と、一方端が電源に接
続され、電源の電圧が所定のレベルに達するとオンにな
るスイッチング手段と、一方電極がスイッチング手段の
他方端に接続され、他方電極が所定のノードに接続され
た第1のキャパシタとを設けたものである。
A program circuit provided in a semiconductor memory device according to the present invention is connected between a predetermined node and ground, is disconnected when a redundant circuit is used, and uses the redundant circuit. Disconnection / connection means that is connected when not in operation, activation signal generation means for generating the activation signal in response to a voltage of a predetermined node, one end of which is connected to a power supply, and the voltage of the power supply is set to a predetermined level. A switching means that is turned on when it reaches, and a first capacitor having one electrode connected to the other end of the switching means and the other electrode connected to a predetermined node are provided.

【0016】請求項2に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路は、請求項1の半導体記憶装置に備え
られるプログラム回路において、一方電極が電源に接続
され、他方電極が所定のノードに接続された第2のキャ
パシタをさらに設けたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a program circuit provided in the semiconductor memory device, wherein one electrode is connected to a power supply and the other electrode is connected to a predetermined node. A second capacitor is further provided.

【0017】請求項3に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路は、請求項1または2の半導体記憶装
置に備えられるプログラム回路において、一方端が電源
に接続され、他方端が所定のノードに接続された抵抗を
さらに設けたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a program circuit provided in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, wherein one end is connected to a power supply and the other end is connected to a predetermined node. This is further provided with a set resistor.

【0018】請求項4に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路は、請求項1から3のいずれかの半導
体記憶装置に備えられるプログラム回路において、スイ
ッチング手段はMOSトランジスタである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the program circuit provided in the semiconductor memory device according to any one of the first to third aspects, the switching means is a MOS transistor.

【0019】請求項5に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路は、請求項1から4のいずれかの半導
体記憶装置に備えられるプログラム回路において、切断
/接続手段はヒューズである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the program circuit provided in the semiconductor memory device according to any one of the first to fourth aspects, the disconnection / connection means is a fuse.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。また、図中、同一符号は同一
または相当部分を示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0021】(1)実施の形態1 図1は、本発明の実施の形態1によるプログラム回路を
備えるSRAM100の構成を示すブロック図である。
図1を参照して、SRAM100は、メモリセルアレイ
101と、行冗長メモリセル群102Aと、列冗長メモ
リセル群102Bと、行アドレスバッファ103と、列
アドレスバッファ104と、行デコーダ105と、列デ
コーダ106と、ワード線ドライバ107と、マルチプ
レクサ108と、データ入出力バッファ109と、読出
/書込制御回路110と、プログラム回路群111A,
111Bと、冗長行アドレスデコード回路112と、冗
長列アドレスデコード回路113と、ビット線負荷群1
14と、データ入出力線(以下、I/O線と称す)11
5とを備える。メモリセルアレイ101には複数のワー
ド線と、それらワード線に交差する複数のビット線対と
に接続された複数のメモリセルが備えられているが、こ
こでは図示を省略する。さらに、行冗長メモリセル群1
02Aには複数の冗長ワード線が備えられ、また、列冗
長メモリセル群102Bには複数の冗長ビット線対が備
えられているが、これについても図示を省略する。上記
複数のビット線対にはビット線負荷群114が接続され
ている。
(1) First Embodiment FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an SRAM 100 including a program circuit according to a first embodiment of the present invention.
Referring to FIG. 1, SRAM 100 includes a memory cell array 101, a row redundancy memory cell group 102A, a column redundancy memory cell group 102B, a row address buffer 103, a column address buffer 104, a row decoder 105, and a column decoder. 106, a word line driver 107, a multiplexer 108, a data input / output buffer 109, a read / write control circuit 110, a program circuit group 111A,
111B, redundant row address decode circuit 112, redundant column address decode circuit 113, and bit line load group 1
14 and data input / output lines (hereinafter referred to as I / O lines) 11
5 is provided. The memory cell array 101 is provided with a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs crossing the word lines, but is not shown here. Further, a row redundant memory cell group 1
02A is provided with a plurality of redundant word lines, and the column redundant memory cell group 102B is provided with a plurality of redundant bit line pairs, which are also not shown. A bit line load group 114 is connected to the plurality of bit line pairs.

【0022】行冗長メモリセル群102Aは行方向に配
置された複数の冗長メモリセル行から成る。冗長メモリ
セル行の各々は、共通の冗長ワード線に接続された複数
の冗長メモリセルから成る。そして、これら冗長メモリ
セルの各々は互いに異なるビット線対に接続されてい
る。一方、上記列冗長メモリセル群102Bは列方向に
配置された複数の冗長メモリセル列から成る。冗長メモ
リセル列の各々は共通のビット線対に接続された複数の
冗長メモリセル列から成る。そして、これら冗長メモリ
セル列の各々は互いに異なるワード線に接続されてい
る。
The row redundant memory cell group 102A includes a plurality of redundant memory cell rows arranged in the row direction. Each of the redundant memory cell rows includes a plurality of redundant memory cells connected to a common redundant word line. Each of these redundant memory cells is connected to a different bit line pair. On the other hand, the column redundant memory cell group 102B includes a plurality of redundant memory cell columns arranged in the column direction. Each of the redundant memory cell columns includes a plurality of redundant memory cell columns connected to a common bit line pair. Each of these redundant memory cell columns is connected to a different word line.

【0023】SRAM100において、行アドレスバッ
ファ103には外部から行アドレス信号が入力されてい
る。行アドレス信号は行アドレスバッファ103を介し
て行デコーダ105に入力され、行デコーダ105から
は行アドレスデコード信号が出力される。行アドレスデ
コード信号はワード線ドライバ107と冗長行アドレス
デコード回路112とに入力される。冗長行アドレスデ
コード回路112はプログラム回路群111Aと冗長ワ
ード線群とに接続されている。列アドレスバッファ10
4には外部から列アドレス信号が入力されている。列ア
ドレス信号は列アドレスバッファ104を介して列デコ
ーダ106に入力され、列デコーダ106からは列アド
レスデコード信号が出力される。列アドレスデコード信
号はワード線ドライバ107と冗長列アドレスデコード
回路113とに入力される。冗長列アドレスデコード回
路113はプログラム回路群111Bと冗長ビット線対
とに接続されている。
In the SRAM 100, a row address signal is input to the row address buffer 103 from outside. The row address signal is input to the row decoder 105 via the row address buffer 103, and the row decoder 105 outputs a row address decode signal. The row address decode signal is input to the word line driver 107 and the redundant row address decode circuit 112. The redundant row address decode circuit 112 is connected to the program circuit group 111A and the redundant word line group. Column address buffer 10
4 receives a column address signal from outside. The column address signal is input to the column decoder 106 via the column address buffer 104, and the column decoder 106 outputs a column address decode signal. The column address decode signal is input to the word line driver 107 and the redundant column address decode circuit 113. The redundant column address decode circuit 113 is connected to the program circuit group 111B and the redundant bit line pair.

【0024】外部からデータ入出力バッファ109に入
力された入力データは、I/O線115およびマルチプ
レクサ108を介してビット線または冗長ビット線に伝
送される。そして、選択されたメモリセルアレイ101
内のメモリセル、または行冗長メモリセル群102Aや
列冗長メモリセル群102B内の冗長メモリセルに書込
まれる。メモリセルアレイ101内のメモリセル、また
は行冗長メモリセル群102Aや列冗長メモリセル群1
02B内の冗長メモリセルから読出されたデータは、ビ
ット線または冗長ビット線、マルチプレクサ108、お
よびI/O線115を介してデータ入出力バッファ10
9へ伝送される。そしてデータ入出力バッファ109か
ら外部へ出力データとして出力される。読出/書込制御
回路110は外部から入力された読出/書込制御入力信
号R/Wに基づいてデータ入出力バッファ109を活性
化し動作させる。また、読出/書込制御回路110は、
外部から入力されたチップ選択制御入力信号CSに基づ
いてチップを選択する。
Input data externally input to the data input / output buffer 109 is transmitted to a bit line or a redundant bit line via the I / O line 115 and the multiplexer 108. Then, the selected memory cell array 101
, Or the redundant memory cells in the row redundant memory cell group 102A and the column redundant memory cell group 102B. A memory cell in the memory cell array 101, or a row redundant memory cell group 102A or a column redundant memory cell group 1
Data read from a redundant memory cell in the data input / output buffer 10B via a bit line or a redundant bit line, a multiplexer 108, and an I / O line 115
9 is transmitted. The data is then output from the data input / output buffer 109 to the outside as output data. Read / write control circuit 110 activates and operates data input / output buffer 109 based on a read / write control input signal R / W input from outside. Further, the read / write control circuit 110
A chip is selected based on a chip selection control input signal CS input from outside.

【0025】さて、冗長メモリセルを使用する場合、プ
ログラム回路群111A内のプログラム回路は冗長行ア
ドレスデコード回路112を介して冗長ワード線を活性
化するための活性化信号を出力する。また、プログラム
回路群111B内のプログラム回路は冗長列アドレスデ
コード回路113を介して冗長ビット線対を活性化する
ための活性化信号を出力する。冗長メモリセルを使用し
ない場合には、プログラム回路群111A内のプログラ
ム回路は冗長ワード線の活性化信号を取消すための取消
信号を出力する。また、プログラム回路群111B内の
プログラム回路が冗長ビット線対とI/O出力線115
とを非導通にするための制御信号をマルチプレクサ10
8に出力する。以下にその動作を詳細に説明する。な
お、以下の例では、冗長ワード線は、このプログラム回
路からの出力信号がLレベルであるとき活性化され、H
レベルであるとき不活性化されるものとする。
When a redundant memory cell is used, a program circuit in program circuit group 111A outputs an activation signal for activating a redundant word line via redundant row address decode circuit 112. A program circuit in program circuit group 111B outputs an activation signal for activating a redundant bit line pair via redundant column address decode circuit 113. When the redundant memory cells are not used, the program circuits in the program circuit group 111A output a cancel signal for canceling the activation signal of the redundant word line. Also, the program circuits in the program circuit group 111B are composed of redundant bit line pairs and I / O output lines 115.
And a control signal for turning off the
8 is output. The operation will be described below in detail. In the following example, the redundant word line is activated when the output signal from this program circuit is at the L level,
Inactive when at level.

【0026】まず、行冗長メモリセル群102Aに対応
して設けられたプログラム回路群111A内のプログラ
ム回路について説明する。
First, the program circuits in the program circuit group 111A provided corresponding to the row redundancy memory cell group 102A will be described.

【0027】図2は、図1に示したプログラム回路群1
11A内のプログラム回路200を示す回路図である。
図2を参照して、プログラム回路200は、PMOSト
ランジスタ7と、キャパシタ1と、ヒューズ3と、ハー
フラッチ回路4とを備える。ハーフラッチ回路4は、P
MOSトランジスタ5とインバータ6とキャパシタ11
とを備える。PMOSトランジスタ7の一方のソース・
ドレイン電極は電源9に接続され、他方のソース・ドレ
イン電極はキャパシタ1の一方電極に接続されている。
キャパシタ1の他方電極はノードN1に接続されてい
る。ヒューズ3の一方端はノードN1に接続され、他方
端は接地されている。
FIG. 2 shows the program circuit group 1 shown in FIG.
FIG. 11 is a circuit diagram showing a program circuit 200 in 11A.
Referring to FIG. 2, a program circuit 200 includes a PMOS transistor 7, a capacitor 1, a fuse 3, and a half latch circuit 4. Half latch circuit 4
MOS transistor 5, inverter 6, and capacitor 11
And One source of the PMOS transistor 7
The drain electrode is connected to the power supply 9, and the other source / drain electrode is connected to one electrode of the capacitor 1.
The other electrode of capacitor 1 is connected to node N1. One end of fuse 3 is connected to node N1, and the other end is grounded.

【0028】ハーフラッチ回路4において、インバータ
6の入力ノードはノードN1が接続され、出力ノードは
プログラム回路200の出力ノードN2に接続されてい
る。PMOSトランジスタ5の一方のソース・ドレイン
電極は電源9に接続され、他方のソース・ドレイン電極
はインバータ6の入力ノードに接続されている。キャパ
シタ11の一方電極はインバータ6の出力ノードに接続
され、他方電極は接地されている。
In the half latch circuit 4, the input node of the inverter 6 is connected to the node N1, and the output node is connected to the output node N2 of the program circuit 200. One source / drain electrode of the PMOS transistor 5 is connected to the power supply 9, and the other source / drain electrode is connected to the input node of the inverter 6. One electrode of capacitor 11 is connected to the output node of inverter 6, and the other electrode is grounded.

【0029】図1および図2を参照して、不良メモリセ
ルの行アドレスに対応して所定の冗長メモリセル行が選
択されるようにプログラム回路200を設定するには、
その冗長メモリセル行が接続された冗長ワード線に対応
するプログラム回路200のヒューズ3を予め切断して
おく。
Referring to FIGS. 1 and 2, to set program circuit 200 such that a predetermined redundant memory cell row is selected corresponding to the row address of a defective memory cell,
Fuse 3 of program circuit 200 corresponding to the redundant word line to which the redundant memory cell row is connected is cut in advance.

【0030】図3は、図1に示したプログラム回路20
0の電源9の電圧に対するノードN1の電圧のレベルの
変化を示す図であり、(a)は電源9の電圧が急峻に立
上がったときの電圧のレベルの変化を示す図であり、
(b)は電源9の電圧が緩やかに立上がったときの電圧
のレベルの変化を示す図である。
FIG. 3 shows the program circuit 20 shown in FIG.
FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level of the node N1 with respect to the voltage of the power supply 9 of 0, and FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level when the voltage of the power supply 9 rises sharply;
(B) is a diagram showing a change in voltage level when the voltage of the power supply 9 rises slowly.

【0031】まず図2および図3(a)を参照して、電
源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急峻に立上がっ
た場合、電源9の電圧がPMOSトランジスタ7のしき
い値電圧の絶対値|Vthp|に達すると(時刻t
2)、PMOSトランジスタ7を介してキャパシタ1の
一方電極に電荷が供給される。よって、キャパシタ1の
一方電極は電源9の電圧と等しいレベルになる。さら
に、電源9の電圧は急峻に立上がっているのでキャパシ
タ1により容量結合が起こり、キャパシタ1の他方電極
(ノードN1側)の電圧のレベルも電源9の電圧と等し
いレベルにつり上げられる。したがって、ノードN1の
電圧のレベルは電源9の電圧と等しいレベルになりHレ
ベルとなる。よって、インバータ6からの出力信号はL
レベルとなる。
First, referring to FIGS. 2 and 3A, when the voltage of power supply 9 rises sharply at power-on (time t1), the voltage of power supply 9 becomes the threshold voltage of PMOS transistor 7. Reaches the absolute value | Vthp |
2) Charge is supplied to one electrode of the capacitor 1 via the PMOS transistor 7. Therefore, one electrode of the capacitor 1 has a level equal to the voltage of the power supply 9. Further, since the voltage of the power supply 9 rises steeply, capacitive coupling occurs by the capacitor 1, and the voltage level of the other electrode (on the node N1 side) of the capacitor 1 is also raised to a level equal to the voltage of the power supply 9. Therefore, the voltage level of node N1 becomes equal to the voltage of power supply 9 and becomes H level. Therefore, the output signal from inverter 6 is L
Level.

【0032】次に図2および図3(b)を参照して、電
源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が緩やかに立ち上
がった場合は、電源9の電圧がPMOSトランジスタ7
のしきい値電圧|Vthp|以上になるとPMOSトラ
ンジスタ7がオンし、キャパシタ1の一方電極にしきい
値電圧|Vthp|以上の電源9の電圧が一気に供給さ
れる。よって、キャパシタ1による容量結合が起こり、
その他方電極(ノードN1側)も電源9の電圧と等しい
レベルに昇圧され、ノードN1はHレベルとなる。した
がって、インバータ6からの出力信号はLレベルとな
る。
Referring to FIGS. 2 and 3B, when the voltage of power supply 9 rises slowly at power-on (time t1), the voltage of power supply 9 is increased
When the threshold voltage | Vthp | becomes equal to or higher than the threshold voltage | Vthp |, the voltage of the power supply 9 equal to or higher than the threshold voltage | Vthp | is supplied to one electrode of the capacitor 1 at a stretch. Therefore, capacitive coupling by the capacitor 1 occurs,
The other electrode (node N1 side) is also boosted to a level equal to the voltage of the power supply 9, and the node N1 goes high. Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level.

【0033】よって、外部から行アドレスバッファ10
3に入力された行アドレス信号が不良メモリセルの行ア
ドレス信号であれば、電源9の電圧の上昇速度にかかわ
らず、その行アドレス信号に対応するプログラム回路2
00から冗長行アドレスデコード回路112にLレベル
の出力信号が出力される。このLレベルの出力信号に基
づいて冗長行アドレスデコード回路112からHレベル
の活性化信号が出力される。よって、冗長ワード線群の
うち上記行アドレス信号に対応した所定の冗長ワード線
が活性化される。したがって、行冗長メモリセル群10
2Aのうち活性化された冗長ワード線に接続されている
冗長メモリセル行が選択可能となる。そして、列アドレ
スデコード信号によりビット線対が活性化されると、上
記冗長メモリセル行のうち活性化されたビット線対に接
続されている冗長メモリセルが選択される。したがっ
て、上記不良メモリセルの代わりに、この選択された冗
長メモリセルにおいてデータの読出/書込が行なわれ
る。
Therefore, the row address buffer 10
3 is a row address signal of a defective memory cell, the program circuit 2 corresponding to the row address signal regardless of the rising speed of the voltage of the power supply 9.
From 00, an L-level output signal is output to the redundant row address decode circuit 112. An activation signal of H level is output from redundant row address decode circuit 112 based on the output signal of L level. Therefore, a predetermined redundant word line corresponding to the row address signal in the redundant word line group is activated. Therefore, row redundancy memory cell group 10
The redundant memory cell row connected to the activated redundant word line in 2A can be selected. When the bit line pair is activated by the column address decode signal, a redundant memory cell connected to the activated bit line pair is selected from the redundant memory cell row. Therefore, data is read / written in the selected redundant memory cell instead of the defective memory cell.

【0034】さらに、このとき同時に、不良メモリセル
に接続されたワード線を活性化するためのHレベルの行
アドレスデコード信号を取消すための取消信号が冗長行
アドレスデコード回路112からワード線ドライバ10
7に入力される。この取消信号により不良メモリセルに
接続されたワード線は活性化されず、不良メモリセルは
非選択となる。
Further, at the same time, a cancel signal for canceling an H-level row address decode signal for activating a word line connected to a defective memory cell is sent from redundant row address decode circuit 112 to word line driver 10.
7 is input. The word line connected to the defective memory cell is not activated by the cancel signal, and the defective memory cell is not selected.

【0035】続いて、行冗長メモリセル群102Aを使
用しない場合は、プログラム回路200内のヒューズ3
を切断しないでおく。このときノードN1の電圧のレベ
ルは常に接地電位(すなわちLレベル)に固定される。
よって、インバータ6から出力される出力信号はHレベ
ルとなる。このHレベルの出力信号は冗長行アドレスデ
コード回路112によりLレベルの不活性化信号とな
る。その結果、冗長ワード線は活性されず冗長メモリセ
ル行は非選択となる。したがって、冗長メモリセルにお
いて読出/書込動作は行なわれない。
Subsequently, when the row redundancy memory cell group 102A is not used, the fuse 3 in the program circuit 200
Do not cut off. At this time, the voltage level of node N1 is always fixed to the ground potential (that is, L level).
Therefore, the output signal output from inverter 6 is at H level. This H level output signal is turned into an L level inactivation signal by the redundant row address decode circuit 112. As a result, the redundant word line is not activated, and the redundant memory cell row is not selected. Therefore, no read / write operation is performed in the redundant memory cell.

【0036】以上、行冗長メモリセル群102Aに対応
して設けられたプログラム回路群111A内のプログラ
ム回路について説明してきたが、列冗長メモリセル群1
02Bに対応して設けられたプログラム回路群111B
内のプログラム回路も前述のプログラム回路200と同
様の構成を有し、列冗長メモリセル群102Bについて
同様の動作を行なう。冗長メモリセル列を使用する場合
もまた、その冗長メモリセル列が接続された冗長ビット
線対に対応して設けられたプログラム回路200のヒュ
ーズ3が予め切断される。
The program circuits in the program circuit group 111A provided corresponding to the row redundant memory cell group 102A have been described above.
Program circuit group 111B provided corresponding to 02B
Program circuit 200 has the same configuration as the above-described program circuit 200, and performs the same operation for column redundant memory cell group 102B. When a redundant memory cell column is used, the fuse 3 of the program circuit 200 provided corresponding to the redundant bit line pair to which the redundant memory cell column is connected is cut in advance.

【0037】列冗長メモリセル群102Bが使用される
場合で、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急峻
に立上がった場合、前述の行についての場合と同様に、
電源9の電圧がPMOSトランジスタ7のしきい値電圧
の絶対値|Vthp|に達すると(時刻t2)PMOS
トランジスタ7がオンし、キャパシタ1による容量結合
が起こって、ノードN1の電圧のレベルは電源9の電圧
と等しいレベル、つまりHレベルに昇圧される。よっ
て、インバータ6からの出力信号はLレベルとなる。
When the column redundant memory cell group 102B is used, and when the power is turned on (time t1), the voltage of the power supply 9 rises sharply, as in the case of the row described above,
When the voltage of the power supply 9 reaches the absolute value | Vthp | of the threshold voltage of the PMOS transistor 7 (time t2), the PMOS
The transistor 7 is turned on, capacitive coupling by the capacitor 1 occurs, and the voltage level of the node N1 is boosted to a level equal to the voltage of the power supply 9, that is, the H level. Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level.

【0038】電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が
緩やかに立ち上がった場合もまた前述の行についての場
合と同様に、電源9の電圧がPMOSトランジスタ7の
しきい値電圧|Vthp|に達すると(時刻t3)PM
OSトランジスタ7がオンし、キャパシタ1による容量
結合が起こって、ノードN1の電圧のレベルはHレベル
となる。よって、インバータ6からの出力信号はLレベ
ルとなる。
When the power supply is turned on (time t1), the voltage of the power supply 9 gradually rises to the threshold voltage | Vthp | of the PMOS transistor 7 in the same manner as in the above-described row. When it reaches (time t3) PM
The OS transistor 7 is turned on, capacitive coupling by the capacitor 1 occurs, and the voltage level of the node N1 becomes H level. Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level.

【0039】したがって、プログラム回路200から出
力されたLレベルの出力信号に基づいて、行冗長アドレ
スデコード回路112がワード線ドライバ107にHレ
ベルの活性化信号を出力するように、冗長列アドレスデ
コード回路113はマルチプレクサ108にHレベルの
活性化信号を出力する。よって、冗長ビット線群のうち
上記列アドレス信号に対応した所定の冗長ビット線対が
活性化され、列冗長メモリセル群102Bのうち活性化
された冗長ビット線対に接続されている冗長メモリセル
列が選択可能となる。そして、行アドレスデコード信号
によりワード線が活性化されると、上記冗長メモリセル
列のうち活性化されたワード線に接続されている冗長メ
モリセルが選択され、上記不良メモリセルの代わりに、
この選択された冗長メモリセルにおいてデータの読出/
書込が行なわれる。
Therefore, based on the L-level output signal output from program circuit 200, redundant column address decode circuit 112 causes row redundant address decode circuit 112 to output an H-level activation signal to word line driver 107. 113 outputs an activation signal of H level to the multiplexer 108. Therefore, a predetermined redundant bit line pair corresponding to the column address signal in the redundant bit line group is activated, and redundant memory cells connected to the activated redundant bit line pair in column redundant memory cell group 102B. The column becomes selectable. When the word line is activated by the row address decode signal, a redundant memory cell connected to the activated word line is selected from among the redundant memory cell columns, and instead of the defective memory cell,
Data reading / reading in the selected redundant memory cell
Writing is performed.

【0040】さらにこのとき、不良メモリセルに接続さ
れたビット線対とI/O線115とを非導通にするため
の制御信号が冗長列アドレスデコード回路113からマ
ルチプレクサ108に入力される。この制御信号はビッ
ト線対を活性化するための列アドレスデコード信号を取
消す。よって、不良メモリセルは非選択となり、不良メ
モリセルにおけるデータの読出/書込は行なわれなくな
る。
At this time, a control signal for turning off the bit line pair connected to the defective memory cell and the I / O line 115 is input from the redundant column address decode circuit 113 to the multiplexer 108. This control signal cancels the column address decode signal for activating the bit line pair. Therefore, the defective memory cell is not selected, and data reading / writing in the defective memory cell is not performed.

【0041】列冗長メモリセル群102Bが使用されな
い場合は、ヒューズ3が切断されず、前述の行について
の場合と同様に、ノードN1の電圧のレベルは常に接地
電位(すなわちLレベル)に固定され、インバータ6か
ら出力される出力信号はHレベルとなる。そして、この
Hレベルの出力信号により冗長列アドレスデコード回路
113は冗長ビット線対を活性化しないので、冗長メモ
リセル列における読出/書込動作は行なわれない。
When column redundancy memory cell group 102B is not used, fuse 3 is not blown, and the voltage level of node N1 is always fixed to the ground potential (that is, L level), as in the case of the row described above. , The output signal output from inverter 6 attains an H level. Since the redundant column address decode circuit 113 does not activate the redundant bit line pair by this H level output signal, the read / write operation in the redundant memory cell column is not performed.

【0042】以上のように本発明の半導体記憶装置の実
施の形態1によるSRAM100によれば、電源9の電
圧の立上がりが緩やかであっても、ヒューズ3の切断さ
れたプログラム回路200においてノードN1の電圧の
レベルがHレベルで安定する。これにより、不良メモリ
セルの代わりに冗長メモリセルが選択可能となり、選択
された冗長メモリセルにおいて読出/書込動作が行なう
ことができる。
As described above, according to the SRAM 100 of the first embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, even if the voltage of the power supply 9 rises slowly, the program circuit 200 in which the fuse 3 has been cut has the node N1 connected to the node N1. The voltage level stabilizes at the H level. Thereby, a redundant memory cell can be selected instead of a defective memory cell, and a read / write operation can be performed in the selected redundant memory cell.

【0043】以上のように、本発明の実施の形態1によ
るSRAM100に備えられるプログラム回路200に
よれば、行冗長メモリセル群102Aや列冗長メモリセ
ル群102Bなどの冗長回路を使用する場合、電源投入
時の電圧の上昇速度にかかわらず、不良メモリセルにデ
ータの読出や書込が行なわれるなどの誤動作を防止する
ことが可能となる。
As described above, according to the program circuit 200 provided in the SRAM 100 according to the first embodiment of the present invention, when a redundant circuit such as the row redundant memory cell group 102A or the column redundant memory cell group 102B is used, Irrespective of the rising speed of the voltage at the time of turning on, it is possible to prevent a malfunction such as reading or writing of data to a defective memory cell.

【0044】(2)実施の形態2 実施の形態2によるSRAMは、図1に示したSRAM
100と同様の基本構成を有する。
(2) Second Embodiment The SRAM according to the second embodiment is the same as the SRAM shown in FIG.
It has the same basic configuration as 100.

【0045】図4は、本発明の実施の形態2によるSR
AMに備えられるプログラム回路群111A(111
B)内のプログラム回路400を示す回路図である。図
4を参照して、プログラム回路400は、図2の実施の
形態1によるプログラム回路200にさらにキャパシタ
8を設けたものである。キャパシタ1の一方電極は電源
9に接続され、他方電極はノードN1に接続されてい
る。
FIG. 4 shows an SR according to the second embodiment of the present invention.
The program circuit group 111A (111
FIG. 4B is a circuit diagram showing a program circuit 400 in B). Referring to FIG. 4, a program circuit 400 is obtained by further adding a capacitor 8 to the program circuit 200 according to the first embodiment of FIG. One electrode of the capacitor 1 is connected to the power supply 9 and the other electrode is connected to the node N1.

【0046】ここで、実施の形態1の場合と同様に、こ
の例では、プログラム回路400の出力信号がLレベル
であるとき冗長ワード線(冗長ビット線対)が活性化さ
れ、Hレベルであるとき不活性化されるものとする。
Here, as in the first embodiment, in this example, when the output signal of program circuit 400 is at L level, the redundant word line (redundant bit line pair) is activated and at H level. At that time.

【0047】図5は、図4に示したプログラム回路40
0の電源9の電圧に対するノードN1の電圧のレベルの
変化を示す図であり、(a)は電源9の電圧が急峻に立
上がったときの電圧のレベルの変化を示す図であり、
(b)は電源9の電圧が緩やかに立上がったときの電圧
のレベルの変化を示す図である。
FIG. 5 shows the program circuit 40 shown in FIG.
FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level of the node N1 with respect to the voltage of the power supply 9 of 0, and FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level when the voltage of the power supply 9 rises sharply;
(B) is a diagram showing a change in voltage level when the voltage of the power supply 9 rises slowly.

【0048】図4を参照して、前述の実施の形態1によ
るプログラム回路100の場合と同様に、冗長メモリセ
ルが使用されない場合はヒューズ3は切断されず、ノー
ドN1の電圧のレベルは常に接地電位(すなわちLレベ
ル)に固定される。よって、インバータ6からの出力信
号はHレベルとなる。このHレベルの出力信号に基づい
て冗長メモリセルが非選択となることは実施の形態1で
説明した通りであるので、ここでは説明を省略する。
Referring to FIG. 4, similarly to the case of program circuit 100 according to the first embodiment, when a redundant memory cell is not used, fuse 3 is not blown, and the voltage level of node N1 is always grounded. It is fixed to the potential (ie, L level). Therefore, the output signal from inverter 6 becomes H level. The fact that the redundant memory cell is not selected based on the H-level output signal is the same as described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0049】続いて、冗長メモリセルが使用される場合
について説明する。まず、図4および5(a)を参照し
て、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急峻に立
上がった場合、キャパシタ8において容量結合が起こ
り、直ちにキャパシタ8の他方電極(ノードN1側)が
電源9の電圧のレベルにつり上げられる。したがって、
図4の実施の形態2によるプログラム回路400では、
電源9の電圧がPMOSトランジスタ7のしきい値電圧
|Vthp|以上に達するとキャパシタ8において容量
結合が起こり、実施の形態1によるプログラム回路30
0でノードN1の電圧がHレベルになるまでにかかる時
間(時刻t2)よりも早くノードN1の電圧のレベルを
Hレベルにすることができる。よって、インバータ6か
らの出力信号はLレベルとなる。このLレベルの出力信
号に基づいて冗長メモリセルが選択されることは実施の
形態1で説明した通りであるので、ここでは説明を省略
する。
Next, a case where a redundant memory cell is used will be described. First, referring to FIGS. 4 and 5 (a), when the voltage of power supply 9 sharply rises at the time of power-on (time t1), capacitive coupling occurs in capacitor 8 and immediately the other electrode (node N1) is raised to the level of the voltage of the power supply 9. Therefore,
In the program circuit 400 according to the second embodiment shown in FIG.
When the voltage of the power supply 9 reaches or exceeds the threshold voltage | Vthp | of the PMOS transistor 7, capacitive coupling occurs in the capacitor 8, and the program circuit 30 according to the first embodiment.
At 0, the voltage level of the node N1 can be set to the H level earlier than the time required until the voltage of the node N1 changes to the H level (time t2). Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level. Since the selection of the redundant memory cell based on the L-level output signal is as described in the first embodiment, the description is omitted here.

【0050】次に図4および図5(b)を参照して、電
源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が緩やかに立ち上
がった場合、キャパシタ8による容量結合は起きない。
したがって、図2の実施の形態1によるプログラム回路
200の場合と同様に、電源9の電圧がPMOSトラン
ジスタ7のしきい値電圧|Vthp|に達すると(時刻
t3)PMOSトランジスタ7がオンし、キャパシタ1
による容量結合が起こって、ノードN1はHレベルとな
る。したがって、インバータ6からの出力信号はLレベ
ルとなる。このLレベルの出力信号に基づいて冗長メモ
リセルが選択されることは実施の形態1で説明した通り
であるので、ここでは説明を省略する。
Referring to FIG. 4 and FIG. 5B, when the voltage of power supply 9 rises slowly at power-on (time t1), capacitive coupling by capacitor 8 does not occur.
Therefore, as in the case of the program circuit 200 according to the first embodiment in FIG. 2, when the voltage of the power supply 9 reaches the threshold voltage | Vthp | of the PMOS transistor 7 (time t3), the PMOS transistor 7 is turned on and the capacitor is turned on. 1
Causes the node N1 to go to the H level. Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level. Since the selection of the redundant memory cell based on the L-level output signal is as described in the first embodiment, the description is omitted here.

【0051】以上のように、本発明の実施の形態2によ
るSRAMに備えられるプログラム回路400によれ
ば、実施の形態1によるプログラム回路200の効果に
加えて、冗長メモリセル使用時(ヒューズ3切断時)に
電源9の電圧が急峻に立上がった場合にはキャパシタ8
による容量結合が起こるので、ノードN1の電圧をより
急速に電源9の電圧まで上昇させることが可能となる。
As described above, according to the program circuit 400 provided in the SRAM according to the second embodiment of the present invention, in addition to the effect of the program circuit 200 according to the first embodiment, when the redundant memory cell is used (the fuse 3 is cut). When the voltage of the power supply 9 rises sharply at
, The voltage of the node N1 can be more rapidly increased to the voltage of the power supply 9.

【0052】(3)実施の形態3 本発明の実施の形態3のSRAMは、図1に示したSR
AM100と同様の構成を有する。
(3) Third Embodiment An SRAM according to a third embodiment of the present invention is the SRAM shown in FIG.
It has the same configuration as AM100.

【0053】図6は、本発明の実施の形態3によるSR
AMに備えられるプログラム回路群111A(111
B)内のプログラム回路600を示す回路図である。図
6を参照して、プログラム回路600は、図2の実施の
形態1によるプログラム回路200にさらに高抵抗2を
設けたものである。高抵抗2の一方端は電源9に接続さ
れ、他方端はノードN1に接続されている。
FIG. 6 shows an SR according to the third embodiment of the present invention.
The program circuit group 111A (111
FIG. 3B is a circuit diagram showing a program circuit 600 in B). Referring to FIG. 6, a program circuit 600 is obtained by further providing high resistance 2 to program circuit 200 according to the first embodiment of FIG. One end of the high resistance 2 is connected to the power supply 9 and the other end is connected to the node N1.

【0054】なお、実施の形態1の場合と同様に、この
例では、冗長ワード線(冗長ビット線対)は、このプロ
グラム回路600の出力信号がHレベルであるとき活性
化され、Lレベルであるとき不活性化されるものとす
る。
As in the case of the first embodiment, in this example, the redundant word line (redundant bit line pair) is activated when the output signal of program circuit 600 is at H level, and is at L level. It shall be deactivated at some point.

【0055】図7は、図6に示したプログラム回路60
0の電源9の電圧に対するノードN1の電圧のレベルの
変化を示す図であり、(a)は電源9の電圧が急峻に立
上がったときの電圧のレベルの変化を示す図であり、
(b)は電源9の電圧が緩やかに立上がったときの電圧
のレベルの変化を示す図である。
FIG. 7 shows the program circuit 60 shown in FIG.
FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level of the node N1 with respect to the voltage of the power supply 9 of 0, and FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level when the voltage of the power supply 9 rises sharply;
(B) is a diagram showing a change in voltage level when the voltage of the power supply 9 rises slowly.

【0056】図6を参照して、図2の実施の形態1によ
るプログラム回路200の場合と同様に、冗長メモリセ
ルが使用されない場合はヒューズ3は切断されず、ノー
ドN1の電圧のレベルは常に接地電位(すなわちLレベ
ル)に固定される。よって、インバータ6からの出力信
号はHレベルとなる。このHレベルの出力信号に基づい
て冗長メモリセルが非選択となることは実施の形態1で
説明した通りであるので、ここでは説明を省略する。
Referring to FIG. 6, similarly to the case of program circuit 200 according to the first embodiment of FIG. 2, when a redundant memory cell is not used, fuse 3 is not blown, and the voltage level of node N1 is always maintained. It is fixed to the ground potential (that is, L level). Therefore, the output signal from inverter 6 becomes H level. The fact that the redundant memory cell is not selected based on the H-level output signal is the same as described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0057】続いて、冗長メモリセルが使用される場合
について説明する。まず、図6および7(a)を参照し
て、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急峻に立
上がった場合、電源9の電圧がPMOSトランジスタ7
のしきい値電圧|Vthp|を越えるまで高抵抗2を介
してノードN1に電源電圧が供給され、ノードN1は若
干昇圧される(時刻t1〜t2)。続いてキャパシタ8
による容量結合が起こり、ノードN1は電源9の電圧に
等しい電圧まで一気に昇圧される。よって、インバータ
6からの出力信号はLレベルとなる。このLレベルの出
力信号に基づいて冗長メモリセルが選択されることは実
施の形態1で説明した通りであるので、ここでは説明を
省略する。
Next, a case where a redundant memory cell is used will be described. First, referring to FIGS. 6 and 7 (a), when the voltage of power supply 9 rises sharply at the time of power-on (time t1), the voltage of power supply 9 is reduced to PMOS transistor 7
The power supply voltage is supplied to the node N1 through the high resistance 2 until the voltage exceeds the threshold voltage | Vthp | of the node N1, and the node N1 is slightly boosted (time t1 to t2). Then the capacitor 8
And the node N1 is boosted at once to a voltage equal to the voltage of the power supply 9. Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level. Since the selection of the redundant memory cell based on the L-level output signal is as described in the first embodiment, the description is omitted here.

【0058】次に図6および図7(b)を参照して、電
源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が緩やかに立ち上
がった場合、電源9の電圧がPMOSトランジスタ7の
しきい値電圧|Vthp|未満であるとき高抵抗2によ
りノードN1の電圧は徐々に上昇する。これは、高抵抗
2を介して電源9からインバータ6のゲート容量などの
寄生容量に電荷が供給されることによる。電源9の電圧
がPMOSトランジスタ7のしきい値電圧|Vthp|
に達すると(時刻t3)PMOSトランジスタ7がオン
し、キャパシタ1の一方電極にしきい値電圧|Vthp
|以上の電源9の電圧が一気に供給される。よって、キ
ャパシタ1による容量結合が起こり、その他方電極(ノ
ードN1側)も電源9の電圧と等しいレベルとなり、ノ
ードN1はHレベルとなる。したがって、インバータ6
からの出力信号はLレベルとなる。このLレベルの出力
信号に基づいて冗長メモリセルが選択されることは実施
の形態1で説明した通りであるので、ここでは説明を省
略する。
Referring to FIGS. 6 and 7B, when the voltage of power supply 9 rises slowly at power-on (time t1), the voltage of power supply 9 becomes the threshold voltage of PMOS transistor 7. When it is less than | Vthp |, the voltage of the node N1 gradually increases due to the high resistance 2. This is because electric charges are supplied from the power supply 9 to the parasitic capacitance such as the gate capacitance of the inverter 6 via the high resistance 2. The voltage of the power supply 9 is equal to the threshold voltage of the PMOS transistor 7 | Vthp |
(Time t3), the PMOS transistor 7 is turned on, and the threshold voltage | Vthp is applied to one electrode of the capacitor 1.
| The voltage of the power supply 9 is supplied at a stretch. Therefore, capacitive coupling by the capacitor 1 occurs, the other electrode (node N1 side) also has a level equal to the voltage of the power supply 9, and the node N1 has an H level. Therefore, the inverter 6
Is at L level. Since the selection of the redundant memory cell based on the L-level output signal is as described in the first embodiment, the description is omitted here.

【0059】したがって、ノードN1の電圧のレベルは
電源9の電圧がしきい値電圧|Vthp|に達するまで
徐々に、しかし確実に上昇しているので、高抵抗2が設
けられていない実施の形態1によるプログラム回路20
0の場合と比較して、ノードN1の電圧がHレベルにな
るまでの時間を短縮することができる。
Therefore, the voltage level of node N1 gradually but surely rises until the voltage of power supply 9 reaches threshold voltage | Vthp |, so that the embodiment in which high resistance 2 is not provided is provided. 1 by the programming circuit 20
Compared with the case of 0, the time until the voltage of the node N1 becomes H level can be reduced.

【0060】以上のように、本発明の実施の形態3によ
るSRAMに備えられたプログラム回路700によれ
ば、実施の形態1によるプログラム回路200の効果に
加えて、冗長メモリセル使用時(ヒューズ3切断時)、
電源9の電圧が緩やかに立上がった場合、電源9の電圧
がしきい値電圧|Vthp|に達してから、より短時間
でノードN1をHレベルに固定すること可能となる。
As described above, according to the program circuit 700 provided in the SRAM according to the third embodiment of the present invention, in addition to the effect of the program circuit 200 according to the first embodiment, when the redundant memory cell is used (the fuse 3 When cutting),
When the voltage of power supply 9 gradually rises, it becomes possible to fix node N1 to the H level in a shorter time after the voltage of power supply 9 reaches threshold voltage | Vthp |.

【0061】(4)実施の形態4 本発明の実施の形態4のSRAMは、図1に示したSR
AM100と同様の構成を有する。
(4) Fourth Embodiment An SRAM according to a fourth embodiment of the present invention is the same as the SRAM shown in FIG.
It has the same configuration as AM100.

【0062】図8は、本発明の実施の形態4によるSR
AMに備えられるプログラム回路群111A(111
B)内のプログラム回路800を示す回路図である。図
8を参照して、プログラム回路111Aは、図4の実施
の形態2によるプログラム回路400にさらに高抵抗2
を設けたものである。すなわち、実施の形態2によるプ
ログラム回路400と実施の形態3によるプログラム回
路600とを併せたものであり、高抵抗2の一方端は電
源9に接続され、他方端はノードN1に接続されてい
る。
FIG. 8 shows an SR according to the fourth embodiment of the present invention.
The program circuit group 111A (111
FIG. 3B is a circuit diagram showing a program circuit 800 in B). Referring to FIG. 8, a program circuit 111A is different from program circuit 400 according to the second embodiment in FIG.
Is provided. That is, it is a combination of the program circuit 400 according to the second embodiment and the program circuit 600 according to the third embodiment. One end of the high resistance 2 is connected to the power supply 9 and the other end is connected to the node N1. .

【0063】なお、実施の形態1の場合と同様に、この
例では、冗長ワード線(冗長ビット線対)は、このプロ
グラム回路800の出力信号がLレベルであるとき活性
化され、Hレベルであるとき不活性化されるものとす
る。
As in the case of the first embodiment, in this example, the redundant word line (redundant bit line pair) is activated when the output signal of program circuit 800 is at L level, and is at H level. It shall be deactivated at some point.

【0064】図9は、図8に示したプログラム回路80
0の電源9の電圧に対するノードN1の電圧のレベルの
変化を示す図であり、(a)は電源9の電圧が急峻に立
上がったときの電圧のレベルの変化を示す図であり、
(b)は電源9の電圧が緩やかに立上がったときの電圧
のレベルの変化を示す図である。
FIG. 9 shows the program circuit 80 shown in FIG.
FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level of the node N1 with respect to the voltage of the power supply 9 of 0, and FIG. 7A is a diagram showing a change in the voltage level when the voltage of the power supply 9 rises sharply;
(B) is a diagram showing a change in voltage level when the voltage of the power supply 9 rises slowly.

【0065】図8を参照して、図2の実施の形態1によ
るプログラム回路200の場合と同様に、冗長メモリセ
ルが使用されない場合はヒューズ3が切断されず、ノー
ドN1の電圧のレベルは常に接地電位(すなわちLレベ
ル)に固定される。よって、インバータ6からの出力信
号はHレベルとなる。このHレベルの出力信号に基づい
て冗長メモリセルが非選択になることは実施の形態1で
説明した通りであるので、ここでは説明を省略する。
Referring to FIG. 8, similarly to the case of program circuit 200 according to the first embodiment of FIG. 2, when a redundant memory cell is not used, fuse 3 is not blown and the voltage level of node N1 is always maintained. It is fixed to the ground potential (that is, L level). Therefore, the output signal from inverter 6 becomes H level. The fact that the redundant memory cell is deselected based on the H-level output signal is the same as described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0066】続いて、冗長メモリセルが使用される場合
について説明する。まず、図8および9(a)を参照し
て、電源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が急峻に立
上がった場合、実施の形態2で説明したように、キャパ
シタ8の容量結合により、ノードN1は電圧のレベルが
つり上げられる。したがって、電源9が昇圧するのとほ
ぼ同時にノードN1が昇圧される。ノードN1が昇圧さ
れHレベルになると、インバータ6からの出力信号はL
レベルとなる。このLレベルの出力信号に基づいて冗長
メモリセルが選択されることは実施の形態1で説明した
通りであるので、ここでは説明を省略する。
Next, a case where a redundant memory cell is used will be described. First, referring to FIGS. 8 and 9 (a), when the voltage of power supply 9 sharply rises at the time of power-on (time t1), as described in the second embodiment, due to the capacitive coupling of capacitor 8, , Node N1 is raised in voltage level. Therefore, the node N1 is boosted almost at the same time as the power supply 9 is boosted. When the voltage at the node N1 is raised to H level, the output signal from the inverter 6 becomes L level.
Level. Since the selection of the redundant memory cell based on the L-level output signal is as described in the first embodiment, the description is omitted here.

【0067】次に図8および図9(b)を参照して、電
源投入時(時刻t1)、電源9の電圧が緩やかに立ち上
がった場合、実施の形態3で説明したように、電源9の
電圧がPMOSトランジスタ7のしきい値電圧|Vth
p|未満であるとき高抵抗2によりノードN1の電圧は
徐々に上昇しているので、高抵抗2が設けられていない
実施の形態1のプログラム回路100または実施の形態
2のプログラム回路600の場合と比較すると、ノード
N1の電圧がHレベルになるまでの時間を短縮すること
ができる。
Next, referring to FIGS. 8 and 9B, when the voltage of power supply 9 gradually rises at the time of power-on (time t1), as described in the third embodiment, power supply 9 The voltage is the threshold voltage of the PMOS transistor 7 | Vth
When the value is less than p |, the voltage of the node N1 is gradually increased due to the high resistance 2, so that the program circuit 100 of the first embodiment or the program circuit 600 of the second embodiment in which the high resistance 2 is not provided. As compared with, the time until the voltage of the node N1 becomes H level can be reduced.

【0068】電源9の電圧がPMOSトランジスタ7の
しきい値電圧|Vthp|以上になると(時刻t3)P
MOSトランジスタ7がオンし、キャパシタ1による容
量結合が起こり、ノードN1はHレベルとなる。よっ
て、インバータ6からの出力信号はLレベルとなる。こ
のLレベルの出力信号に基づいて冗長メモリセルが選択
されることは実施の形態3で説明した通りであるので、
ここでは説明を省略する。
When the voltage of power supply 9 becomes equal to or higher than threshold voltage | Vthp | of PMOS transistor 7 (time t3), P
MOS transistor 7 is turned on, capacitive coupling by capacitor 1 occurs, and node N1 attains H level. Therefore, the output signal from inverter 6 is at L level. Since the redundant memory cell is selected based on the L-level output signal as described in the third embodiment,
Here, the description is omitted.

【0069】以上のように、本発明の実施の形態4によ
るSRAMに備えられるプログラム回路800は、実施
の形態1から3によるプログラム回路200,400,
600の効果を併せ持つ。すなわち、プログラム回路8
00によれば、実施の形態1のプログラム回路200の
効果に加えて、冗長メモリセル使用時(ヒューズ3切断
時)、電源9の電圧が緩やかに立ち上がった場合、より
短時間でノードN1をHレベルに固定すること可能とな
る。
As described above, the program circuit 800 provided in the SRAM according to the fourth embodiment of the present invention includes the program circuits 200, 400, and 400 according to the first to third embodiments.
It has 600 effects. That is, the program circuit 8
According to 00, in addition to the effect of the program circuit 200 of the first embodiment, when a redundant memory cell is used (when the fuse 3 is cut), when the voltage of the power supply 9 rises slowly, the node N1 is set to H in a shorter time. It becomes possible to fix to the level.

【0070】上記実施の形態1から4のすべての実施の
形態において、HレベルとLレベルとのしきい値電圧
は、しきい値電圧|Vthp|に等しいものとする。ま
た、SRAMにおけるプログラム回路について述べた
が、例えばDRAMなどのような冗長回路を備えた半導
体記憶装置に適用可能である。さらに、上記の例とは逆
に、プログラム回路200からの出力信号のレベルがH
レベルのとき冗長メモリセルが選択され、Lレベルのと
き冗長メモリセルが非選択となるように設定することも
可能である。
In all of the first to fourth embodiments, the threshold voltages at H level and L level are assumed to be equal to threshold voltage | Vthp |. Further, although the program circuit in the SRAM has been described, the present invention can be applied to a semiconductor memory device having a redundant circuit such as a DRAM. Further, contrary to the above example, the level of the output signal from the program circuit 200 is H
It is also possible to set so that the redundant memory cell is selected when the level is at the level and unselected when the level is at the L level.

【0071】[0071]

【発明の効果】請求項1に係るプログラム回路に備えら
れるプログラム回路によれば、冗長回路使用時、切断/
接続手段が切断され、電源の電圧が所定のレベルに達す
るとスイッチング手段がオンになる。よって、第1のキ
ャパシタの一方電極には電源からの電圧が一気に印加さ
れる。その結果、第1のキャパシタによる容量結合が起
こり、第1のキャパシタの他方電極の電圧レベルは一気
につり上げられ、上記所定のノードは上記所定のレベル
に固定される。したがって、電源投入時の電源電圧の上
昇速度にかかわらず、活性化信号生成手段は適切に冗長
回路を活性化する活性化信号を出力するので、不良メモ
リセルにデータの読出や書込が行なわれるなどの誤動作
を防止することが可能となる。
According to the program circuit provided in the program circuit according to the first aspect, when the redundant circuit is used, disconnection /
When the connection means is disconnected and the voltage of the power supply reaches a predetermined level, the switching means is turned on. Therefore, the voltage from the power supply is applied to the one electrode of the first capacitor at a stretch. As a result, capacitive coupling by the first capacitor occurs, the voltage level of the other electrode of the first capacitor is raised at a stretch, and the predetermined node is fixed at the predetermined level. Therefore, irrespective of the rising speed of the power supply voltage at power-on, the activation signal generation means appropriately outputs an activation signal for activating the redundant circuit, so that data is read or written to the defective memory cell. It is possible to prevent malfunctions such as the above.

【0072】請求項2に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路によれば、請求項1の効果に加えて、
冗長回路使用時、電源の供給電圧が急峻に立上がったと
き、供給される電圧レベルが上記所定のレベルに達して
いなくても第2のキャパシタによる容量結合が起こり上
記所定のノードは昇圧されるので、第1のキャパシタだ
けが接続されている場合と比較して、上記所定のノード
の電圧をより急速に上記所定のレベルすることが可能と
なる。
According to the program circuit provided in the semiconductor memory device according to the second aspect, in addition to the effect of the first aspect,
When using a redundant circuit, when the supply voltage of the power supply rises sharply, capacitive coupling by the second capacitor occurs and the predetermined node is boosted even if the supplied voltage level does not reach the predetermined level. Therefore, the voltage of the predetermined node can be set to the predetermined level more rapidly as compared with the case where only the first capacitor is connected.

【0073】請求項3に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路によれば、請求項1または2の効果に
加えて、冗長回路使用時、電源の供給電圧が緩やかに立
上がった場合、供給される電圧レベルが上記所定のレベ
ルに達するまで、電源から高抵抗を介して上記所定のノ
ードに徐々に電圧が供給される。よって、上記所定のノ
ードは活性化手段の出力が不安定とならない程度に徐々
に昇圧されていくので、上記所定のノードの電圧のレベ
ルが上記所定のレベルに達するまでの時間を短縮するこ
とが可能となる。
According to the program circuit provided in the semiconductor memory device according to the third aspect, in addition to the effect of the first or second aspect, when the supply voltage of the power supply rises slowly when the redundant circuit is used, the power is supplied. Until the voltage level reaches the predetermined level, the voltage is gradually supplied from the power supply to the predetermined node via the high resistance. Therefore, the predetermined node is gradually boosted to such an extent that the output of the activating means does not become unstable, so that the time required for the voltage level of the predetermined node to reach the predetermined level can be reduced. It becomes possible.

【0074】請求項4に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路によれば、請求項1から3のいずれか
の効果に加えて、MOSトランジスタを介して電源から
第1のキャパシタの上記一方電極に電圧を供給すること
が可能である。
According to the program circuit provided in the semiconductor memory device of the fourth aspect, in addition to the effect of any one of the first to third aspects, in addition to the effect of the first aspect, the power supply is supplied from the power supply to the one electrode of the first capacitor via the MOS transistor. It is possible to supply a voltage.

【0075】請求項5に係る半導体記憶装置に備えられ
るプログラム回路によれば、請求項1から4のいずれか
の効果に加えて、ヒューズにより、冗長回路を使用する
とき所定のノードと接地電位とを切断し、冗長回路が使
用されないとき所定のノードと接地電位とを接続するこ
とが可能である。
According to the program circuit provided in the semiconductor memory device according to the fifth aspect, in addition to the effect of any one of the first to fourth aspects, when a redundant circuit is used by using a fuse, a predetermined node and a ground potential are used. And a predetermined node can be connected to the ground potential when the redundant circuit is not used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1によるプログラム回路
を備えるSRAMの構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an SRAM including a program circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示したプログラム回路群内のプログラ
ム回路を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a program circuit in a program circuit group shown in FIG. 1;

【図3】 図1に示したプログラム回路の電源電圧に対
するインバータの入力ノードの電圧のレベルの変化を示
す図であり、(a)は電源電圧が急峻に立上がったとき
の電圧のレベルの変化を示す図であり、(b)は電源電
圧が緩やかに立上がったときの電圧のレベルの変化を示
す図である。
3A and 3B are diagrams illustrating a change in a voltage level of an input node of an inverter with respect to a power supply voltage of the program circuit illustrated in FIG. 1; FIG. 3A illustrates a change in a voltage level when the power supply voltage rises steeply; FIG. 3B is a diagram showing a change in voltage level when the power supply voltage rises slowly.

【図4】 本発明の実施の形態2によるSRAMに備え
られるプログラム回路群内のプログラム回路を示す回路
図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a program circuit in a program circuit group provided in an SRAM according to a second embodiment of the present invention;

【図5】 図4に示したプログラム回路の電源電圧に対
するインバータの入力ノードの電圧のレベルの変化を示
す図であり、(a)は電源電圧が急峻に立上がったとき
の電圧のレベルの変化を示す図であり、(b)は電源電
圧が緩やかに立上がったときの電圧のレベルの変化を示
す図である。
5A and 5B are diagrams illustrating a change in a voltage level of an input node of an inverter with respect to a power supply voltage of the program circuit illustrated in FIG. 4, wherein FIG. 5A illustrates a change in a voltage level when the power supply voltage sharply rises; FIG. 3B is a diagram showing a change in voltage level when the power supply voltage rises slowly.

【図6】 本発明の実施の形態3によるSRAMにおけ
るプログラム回路群内のプログラム回路を示す回路図で
ある。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a program circuit in a program circuit group in an SRAM according to a third embodiment of the present invention;

【図7】 図6に示したプログラム回路の電源電圧に対
するインバータの入力ノードの電圧のレベルの変化を示
す図であり、(a)は電源電圧が急峻に立上がったとき
の電圧のレベルの変化を示す図であり、(b)は電源電
圧が緩やかに立上がったときの電圧のレベルの変化を示
す図である。
7A and 7B are diagrams illustrating a change in the voltage level of the input node of the inverter with respect to the power supply voltage of the program circuit illustrated in FIG. 6; FIG. 7A illustrates a change in the voltage level when the power supply voltage sharply rises; FIG. 3B is a diagram showing a change in voltage level when the power supply voltage rises slowly.

【図8】 本発明の実施の形態4によるSRAMにおけ
るプログラム回路群内のプログラム回路を示す回路図で
ある。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a program circuit in a program circuit group in an SRAM according to a fourth embodiment of the present invention;

【図9】 図8に示したプログラム回路の電源電圧に対
するインバータの入力ノードの電圧のレベルの変化を示
す図であり、(a)は電源電圧が急峻に立上がったとき
の電圧のレベルの変化を示す図であり、(b)は電源電
圧が緩やかに立上がったときの電圧のレベルの変化を示
す図である。
9A and 9B are diagrams illustrating a change in the voltage level of the input node of the inverter with respect to the power supply voltage of the program circuit illustrated in FIG. 8; FIG. 9A illustrates a change in the voltage level when the power supply voltage rises steeply; FIG. 3B is a diagram showing a change in voltage level when the power supply voltage rises slowly.

【図10】 従来のプログラム回路を示す回路図であ
る。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a conventional program circuit.

【図11】 図10に示したプログラム回路の電源電圧
に対するノードN1の電圧のレベルの変化を示す図であ
り、(a)は電源電圧が急峻に立上がったときの電圧の
レベルの変化を示す図であり、(b)は電源電圧が緩や
かに立上がったときの電圧のレベルの変化を示す図であ
る。
11A and 11B are diagrams showing a change in the voltage level of a node N1 with respect to the power supply voltage of the program circuit shown in FIG. 10, and FIG. 11A shows a change in the voltage level when the power supply voltage rises steeply; FIG. 7B is a diagram showing a change in voltage level when the power supply voltage rises slowly.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11 キャパシタ、3 ヒューズ、4 ハーフラッ
チ回路、5,7 PMOSトランジスタ、6 インバー
タ、9 電源、100 SRAM、101 メモリセル
アレイ、102A 行冗長メモリセル群、102B 列
冗長メモリセル群、103 行アドレスバッファ、10
4 列アドレスバッファ、105 行デコーダ、106
列デコーダ、107 ワード線ドライバ、108 マ
ルチプレクサ、111A プログラム回路群、111B
プログラム回路群、112 冗長行アドレスデコード
回路、113 冗長列アドレスデコード回路、200,
400,600,800 プログラム回路。
1,11 capacitor, 3 fuse, 4 half latch circuit, 5,7 PMOS transistor, 6 inverter, 9 power supply, 100 SRAM, 101 memory cell array, 102A row redundant memory cell group, 102B column redundant memory cell group, 103 row address buffer , 10
4 column address buffer, 105 row decoder, 106
Column decoder, 107 word line driver, 108 multiplexer, 111A program circuit group, 111B
Program circuit group, 112 redundant row address decode circuit, 113 redundant column address decode circuit, 200,
400, 600, 800 program circuits.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 冗長回路を使用するための活性化信号を
出力するプログラム回路であって、 所定のノードと接地との間に接続され、前記冗長回路が
使用されるとき切断され、前記冗長回路が使用されない
とき接続される切断/接続手段と、 前記所定のノードの電位に応答して前記活性化信号を生
成する活性化信号生成手段と、 一方端が電源に接続され、前記電源の電圧が所定のレベ
ルに達するとオンになるスイッチング手段と、 一方電極が前記スイッチング手段の他方端に接続され、
他方電極が前記所定のノードに接続された第1のキャパ
シタとを備える、半導体記憶装置に備えられるプログラ
ム回路。
1. A program circuit for outputting an activation signal for using a redundant circuit, the program circuit being connected between a predetermined node and a ground, being disconnected when the redundant circuit is used, Disconnection / connection means connected when not used; activation signal generation means for generating the activation signal in response to the potential of the predetermined node; one end connected to a power supply; A switching unit that is turned on when a predetermined level is reached; one electrode is connected to the other end of the switching unit;
A program circuit provided in the semiconductor memory device, comprising: a first capacitor having the other electrode connected to the predetermined node.
【請求項2】 一方電極が前記電源に接続され、他方電
極が前記所定のノードに接続された第2のキャパシタを
さらに備える、請求項1に記載の半導体記憶装置に備え
られるプログラム回路。
2. The program circuit provided in the semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a second capacitor having one electrode connected to said power supply and another electrode connected to said predetermined node.
【請求項3】 一方端が前記電源に接続され、他方端が
前記所定のノードに接続された抵抗をさらに備える、請
求項1または2に記載の半導体記憶装置に備えられるプ
ログラム回路。
3. The program circuit provided in the semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a resistor having one end connected to said power supply and the other end connected to said predetermined node.
【請求項4】 前記スイッチング手段はMOSトランジ
スタである、請求項1から3のいずれかに記載の半導体
記憶装置に備えられるプログラム回路。
4. The program circuit provided in the semiconductor memory device according to claim 1, wherein said switching means is a MOS transistor.
【請求項5】 前記切断/接続手段はヒューズである、
請求項1から4のいずれかに記載の半導体記憶装置に備
えられるプログラム回路。
5. The disconnection / connection means is a fuse.
A program circuit provided in the semiconductor memory device according to claim 1.
JP9129236A 1997-05-20 1997-05-20 Programming circuit provided in semiconductor memory device Withdrawn JPH10320997A (en)

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