JPH10318576A - Air circulation facility and production system integrated therewith - Google Patents

Air circulation facility and production system integrated therewith

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JPH10318576A
JPH10318576A JP13127497A JP13127497A JPH10318576A JP H10318576 A JPH10318576 A JP H10318576A JP 13127497 A JP13127497 A JP 13127497A JP 13127497 A JP13127497 A JP 13127497A JP H10318576 A JPH10318576 A JP H10318576A
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JP
Japan
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clean room
chamber
air
return air
boundary wall
Prior art date
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Application number
JP13127497A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Kishino
豊 岸野
Naoki Mori
直樹 森
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Taisei Corp
Original Assignee
Taisei Corp
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Publication date
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Publication of JPH10318576A publication Critical patent/JPH10318576A/en
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  • Duct Arrangements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a clean room for producing a semiconductor device, or the like, in which the underfloor chamber or the ceiling chamber can be reduced and extension of the production system can be dealt with flexibly while reducing the cost. SOLUTION: The production system 1 is installed in a turbulence type clean room 3 adjacent to a layer flow type clean room 2 while directing the insertion/ take-out port 15 for parts or product toward the layer flow type clean room 2. One side of the housing 12 of the production system 1 is integrated with the boundary wall 11 of both clean rooms 2, 3. An air circulation duct 13 is secured to the surface of the boundary wall 11 on the layer flow type clean room 2 side.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム内
への還気設備およびクリーンルームで使用される製造装
置に関する。
The present invention relates to a facility for returning air into a clean room and a manufacturing apparatus used in the clean room.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近の半導体製造工場においては、例え
ば、図6および図7(図6のB−B線断面図)に示すよ
うに、清浄度の異なる乱流式クリーンルーム3と層流式
クリーンルーム2とを隣接させ、多数の製造装置10
を、より清浄度の低い乱流式クリーンルーム3内に設置
し、その前面(部品や製品の出し入れを行う出し入れ口
側の面)が、より清浄度の高い層流式クリーンルーム2
側に向くように配置している。
2. Description of the Related Art In recent semiconductor manufacturing plants, for example, as shown in FIGS. 6 and 7 (cross-sectional views taken along the line BB in FIG. 6), a turbulent clean room 3 and a laminar clean room having different cleanliness are used. 2 and a large number of manufacturing apparatuses 10
Is installed in a turbulent-type clean room 3 having a lower cleanliness, and the front surface thereof (the surface on the side of the entrance for taking in and out of parts and products) has a laminar flow-type clean room 2 having a higher cleanliness.
It is arranged to face the side.

【0003】そして、層流式クリーンルーム2の床下チ
ャンバ5と天井チャンバ4は、この層流式クリーンルー
ム2の奥行き方向一端に設けた還気ダクト130で連結
されている。なお、各クリーンルーム2,3の天井に
は、清浄度に応じたエアフィルタaとファンfとを備え
たファンフィルタユニットFが、それぞれ設置されてい
る。
[0003] The underfloor chamber 5 and the ceiling chamber 4 of the laminar flow type clean room 2 are connected by a return air duct 130 provided at one end in the depth direction of the laminar flow type clean room 2. Note that a fan filter unit F having an air filter a and a fan f according to cleanliness is installed on the ceilings of the clean rooms 2 and 3, respectively.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、奥行き
が30m程度と長いクリーンルームでは、前述のように
還気ダクト130が奥行き方向一端に設けてあると、天
井チャンバや床下チャンバ内で還気が他端側に到達する
までの圧力損失が大きいため、循環空気の利用効率が低
くなる。また、広いクリーンルームで必要な循環空気量
を確保するために、床下チャンバ5や天井チャンバ4を
大きくする必要がある。
However, in a clean room where the depth is as long as about 30 m, if the return air duct 130 is provided at one end in the depth direction as described above, the return air is generated at the other end in the ceiling chamber or the underfloor chamber. Since the pressure loss until reaching the side is large, the utilization efficiency of the circulating air is reduced. In addition, in order to secure a required amount of circulating air in a large clean room, it is necessary to enlarge the underfloor chamber 5 and the ceiling chamber 4.

【0005】さらに、還気ダクト130を層流式クリー
ンルーム2の奥行き方向一端に設けると、例えば図8に
示すように、製造装置10を増設する際に還気ダクト1
30を移動しなければならない場合もあり、その場合に
は、一時的に層流式クリーンルーム2の稼働を停止しな
ければならない。
Further, when the return air duct 130 is provided at one end in the depth direction of the laminar flow type clean room 2, for example, as shown in FIG.
In some cases, the operation of the laminar-flow-type clean room 2 must be temporarily stopped.

【0006】また、図9に示すように、層流式クリーン
ルーム2の3つの壁面に製造装置10を配置する場合に
は、還気ダクト130を層流式クリーンルーム2から離
れた位置に設置している。この場合に、乱流式クリーン
ルーム3の還気が層流式クリーンルーム2内に混入しな
いようにするためには、図10(図9のC−C線断面
図)に示すように、天井チャンバ4および床下チャンバ
5に仕切り板6を設けるとともに、水平ダクト7によ
り、層流式クリーンルーム2の還気ダクト130と層流
式クリーンルーム2の天井チャンバ4および床下チャン
バ5とを接続する必要があり、設備コストが高くなる。
[0009] As shown in FIG. 9, when the manufacturing apparatus 10 is arranged on three wall surfaces of the laminar flow type clean room 2, the return air duct 130 is installed at a position away from the laminar flow type clean room 2. I have. In this case, in order to prevent the return air of the turbulent flow type clean room 3 from being mixed into the laminar flow type clean room 2, as shown in FIG. It is necessary to provide a partition plate 6 in the underfloor chamber 5 and to connect the return air duct 130 of the laminar flow type clean room 2 to the ceiling chamber 4 and the underfloor chamber 5 of the laminar flow type clean room 2 by the horizontal duct 7. The cost is high.

【0007】本発明は、このような従来技術の問題点に
着目してなされたものであり、半導体製造用等のクリー
ンルームにおいて、床下チャンバや天井チャンバを小さ
くすることができ、製造装置の増設等にも柔軟に対応す
ることができ、設備コストが低減できるようにすること
を課題とする。
The present invention has been made in view of such problems of the prior art. In a clean room for manufacturing semiconductors or the like, the underfloor chamber and the ceiling chamber can be reduced, and the number of manufacturing apparatuses can be increased. It is an object of the present invention to be able to flexibly cope with the situation and to reduce equipment costs.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、異なる調和空気が導入され
る隣り合う二室の境界壁に、一方の室の床下チャンバか
らの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体
化したことを特徴とする還気設備を提供するものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 provides a method for returning one of the chambers from the underfloor chamber to a boundary wall between two adjacent chambers into which different conditioned air is introduced. It is an object of the present invention to provide a return air facility characterized by integrating a return air duct for directing air to a ceiling chamber.

【0009】請求項2に係る発明は、異なる清浄度の空
気が導入される隣り合う二室の境界壁の、より清浄度の
高い空気が導入される室側に、この室の床下チャンバか
らの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体
化したことを特徴とする還気設備を提供する。
[0009] The invention according to claim 2 is that the lower-floor chamber of this room is provided on the boundary side between two adjacent chambers into which air of different cleanliness is introduced, on the side of the room into which air with higher cleanliness is introduced. There is provided a return air facility characterized by integrating a return air duct for returning return air to a ceiling chamber.

【0010】請求項3に係る発明は、異なる清浄度の空
気が導入される隣り合う二室のより清浄度の低い室内に
配置され、より清浄度の高い室側から部品や製品の出し
入れを行う製造装置であって、ハウジングの一面を二室
の境界壁と一体化し、この境界壁に部品や製品の出し入
れ口を設け、境界壁のより清浄度の高い空気が導入され
る室側に、この室の床下チャンバからの還気を天井チャ
ンバへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを特徴と
する製造装置を提供する。
According to a third aspect of the present invention, two adjacent rooms into which air of different cleanliness is introduced are arranged in lower cleanliness rooms, and parts and products are taken in and out from the higher cleanroom side. In a manufacturing apparatus, one surface of a housing is integrated with a boundary wall of two chambers, and an entrance for parts and products is provided on the boundary wall. Provided is a manufacturing apparatus, wherein a return air duct for returning air from a lower floor chamber of a room to a ceiling chamber is integrated.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づき説明する。図1は、本発明の一実施形態に相当す
る製造装置を示す斜視図であり、図2は、この装置が設
置されたクリーンルームを示す概略平面図であり、図3
は、図2のA−A線断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a manufacturing apparatus corresponding to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic plan view showing a clean room in which the apparatus is installed.
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG. 2.

【0012】図2に示すように、製造装置1は、層流式
クリーンルーム2に隣接する乱流式クリーンルーム3内
に設置されている。層流式クリーンルーム2の清浄度は
乱流式クリーンルーム3より高く設定されている。な
お、層流式クリーンルーム2および乱流式クリーンルー
ム3の天井には、清浄度に応じたエアフィルタaとファ
ンfとを備えたファンフィルタユニットFが設置されて
いる。
As shown in FIG. 2, the manufacturing apparatus 1 is installed in a turbulent clean room 3 adjacent to a laminar clean room 2. The cleanliness of the laminar flow clean room 2 is set higher than that of the turbulent clean room 3. Note that a fan filter unit F having an air filter a and a fan f according to cleanliness is installed on the ceiling of the laminar flow type clean room 2 and the turbulence type clean room 3.

【0013】この製造装置1は、図1に示すように、層
流式クリーンルーム2と乱流式クリーンルーム3を分離
する境界壁11と、この境界壁11の乱流式クリーンル
ーム3側に固定されたハウジング12と、この境界壁1
1の層流式クリーンルーム2側に固定された還気ダクト
13とを備えている。
As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 1 is fixed to a boundary wall 11 separating a laminar flow type clean room 2 and a turbulent flow type clean room 3, and to the boundary wall 11 on the turbulent flow type clean room 3 side. The housing 12 and the boundary wall 1
1 and a return air duct 13 fixed to the laminar flow type clean room 2 side.

【0014】ハウジング12の高さは境界壁11より少
し低く、境界壁11の所定高さから下側がハウジング1
2の一面を構成している。そして、この面の所定高さ
に、製造装置1の操作盤14と、製造装置1内への部品
や製品の出し入れ口15が、境界壁11の幅方向に隣り
合わせて設けてある。
The height of the housing 12 is slightly lower than the boundary wall 11, and the lower side of the boundary wall 11 from a predetermined height is the housing 1.
2 constitute one aspect. An operation panel 14 of the manufacturing apparatus 1 and an inlet / outlet 15 for parts and products into the manufacturing apparatus 1 are provided adjacent to each other at a predetermined height of this surface in the width direction of the boundary wall 11.

【0015】還気ダクト13は、境界壁11の幅方向で
操作盤14の位置に、高さ方向全体に渡って(床面位置
から天井面位置まで)固定されている。還気ダクト13
は透明な板材で形成され、境界壁11に設けた操作盤1
4が層流式クリーンルーム2側から見えるようになって
いる。
The return air duct 13 is fixed to the operation panel 14 in the width direction of the boundary wall 11 over the entire height direction (from the floor surface position to the ceiling surface position). Return air duct 13
Is an operation panel 1 formed of a transparent plate and provided on a boundary wall 11.
4 is visible from the laminar flow type clean room 2 side.

【0016】還気ダクト13の正面板には扉16が設け
てあり、この扉16を開いて操作盤14を操作できるよ
うになっている。境界壁11の還気ダクト13が固定さ
れた横の位置には、操作盤14と同じ高さで、部品や製
品の出し入れ口15が設けてある。
A door 16 is provided on the front plate of the return air duct 13, and the operation panel 14 can be operated by opening the door 16. At the horizontal position of the boundary wall 11 to which the return air duct 13 is fixed, there is provided a component or product entrance 15 at the same height as the operation panel 14.

【0017】この製造装置1を複数個、図2に示すよう
に、還気ダクト13を層流式クリーンルーム2側に向け
て並べて、隣り合う境界壁11を連結し、還気ダクト1
3の上下を天井チャンバ4および床下チャンバ5の開口
部に連結すれば、室内が層流式クリーンルーム2と乱流
式クリーンルーム3とに区画されると同時に、製造装置
1が乱流式クリーンルーム3内に配置される。また、製
造装置1の出し入れ口15が、層流式クリーンルーム2
側に向く。
As shown in FIG. 2, a plurality of the manufacturing apparatuses 1 are arranged with return air ducts 13 facing the laminar flow type clean room 2 side, and adjacent boundary walls 11 are connected to each other.
3 is connected to the openings of the ceiling chamber 4 and the underfloor chamber 5, the room is divided into a laminar flow type clean room 2 and a turbulence type clean room 3, and at the same time, the manufacturing apparatus 1 Placed in In addition, the inlet / outlet 15 of the manufacturing apparatus 1 is connected to the laminar flow type
Turn to the side.

【0018】したがって、図3に示すように、層流式ク
リーンルーム2の還気は、床下チャンバ5から還気ダク
ト13を通って天井チャンバ4に入る。ここで、図2に
示すように、層流式チャンバ2の奥行き方向全体に渡っ
て幅方向両側で対向する位置に、製造装置1と同じ数の
還気ダクト13が配置されているため、床下チャンバ5
の空気はすぐ近くの還気ダクト13を通って天井チャン
バ4に導入される。これにより、循環空気の圧力損失が
小さく抑えられるため、循環空気の利用効率が高くな
る。また、広いクリーンルームであっても、小さな床下
チャンバ5および天井チャンバ4で、必要な循環空気量
を確保することができる。
Accordingly, as shown in FIG. 3, the return air of the laminar flow type clean room 2 enters the ceiling chamber 4 from the underfloor chamber 5 through the return air duct 13. Here, as shown in FIG. 2, the same number of return air ducts 13 as the number of manufacturing apparatuses 1 are arranged at positions opposing each other in the width direction over the entire depth direction of the laminar flow chamber 2, so Chamber 5
Is introduced into the ceiling chamber 4 through the nearby return air duct 13. As a result, the pressure loss of the circulating air is suppressed to a small value, and the utilization efficiency of the circulating air increases. Further, even in a large clean room, a necessary amount of circulating air can be secured in the small underfloor chamber 5 and the ceiling chamber 4.

【0019】なお、天井チャンバ4および床下チャンバ
5に仕切り板6を設ければ、層流式クリーンルーム2の
循環空気と乱流式クリーンルーム3の循環空気を分離し
て、清浄度の高い層流式クリーンルーム2に導入する空
気が汚染されないようにすることができる。
If a partition plate 6 is provided in the ceiling chamber 4 and the underfloor chamber 5, the circulating air of the laminar flow type clean room 2 and the circulating air of the turbulent flow type clean room 3 are separated, so that the laminar flow type with high cleanliness can be obtained. The air introduced into the clean room 2 can be prevented from being contaminated.

【0020】また、図4に示すように、製造装置1を増
設する際には、層流式クリーンルーム2と乱流式クリー
ンルーム3を仕切る仕切り壁8を移動して、増設する製
造装置1を既設の製造装置1および仕切り壁8と連結す
れば良く、既設の還気ダクト13を移動する必要はな
い。すなわち、製造装置10の増設に伴って、一時的に
層流式クリーンルーム2の稼働を停止する必要はない。
As shown in FIG. 4, when the manufacturing apparatus 1 is added, the partition wall 8 that separates the laminar flow type clean room 2 and the turbulent flow type clean room 3 is moved, and the additional manufacturing apparatus 1 is installed. It suffices to connect the manufacturing apparatus 1 and the partition wall 8, and it is not necessary to move the existing return air duct 13. That is, it is not necessary to temporarily stop the operation of the laminar flow type clean room 2 with the addition of the manufacturing apparatus 10.

【0021】また、図5に示すように、層流式クリーン
ルーム2の3つの壁面に製造装置1を配置する場合に
も、層流式クリーンルーム2側に還気ダクト13が設置
されるため、従来のような水平ダクト7(図10参照)
を必要としないで、乱流式クリーンルーム3の還気が層
流式クリーンルーム2内に混入しないようにすることが
できる。これにより、設備コストを低減することができ
る。
Also, as shown in FIG. 5, when the manufacturing apparatus 1 is arranged on three wall surfaces of the laminar flow type clean room 2, the return air duct 13 is installed on the laminar flow type clean room 2 side. Horizontal duct 7 (see FIG. 10)
, The return air from the turbulent clean room 3 can be prevented from entering the laminar flow clean room 2. Thereby, equipment cost can be reduced.

【0022】なお、前記実施形態では、クリーンルーム
2,3間の境界壁11に還気ダクト13が固定され、こ
の境界壁11の一部がハウジングの一面をなす製造装置
1について述べてあるが、還気設備として、還気ダクト
が境界壁の少なくともいずれか一方の面に一体化された
ものも本発明に含まれる。これにより、図10のような
水平ダクト7を設けなくても、境界壁によって分離され
た一方の室に、他方の室とは異なる調和空気を効率的に
循環させることが可能となる。
In the above embodiment, the manufacturing apparatus 1 is described in which the return air duct 13 is fixed to the boundary wall 11 between the clean rooms 2 and 3, and a part of the boundary wall 11 forms one surface of the housing. The present invention also includes, as the return air equipment, one in which a return air duct is integrated with at least one surface of the boundary wall. This makes it possible to efficiently circulate conditioned air different from that of the other chamber in one chamber separated by the boundary wall without providing the horizontal duct 7 as shown in FIG.

【0023】また、この還気設備において境界壁が分離
する二室は、導入される空気の清浄度が異なる二室に限
定されず、導入される空気の温度や湿度が異なるもので
あってもよい。
Further, the two chambers in which the boundary wall is separated in the return air facility are not limited to the two chambers having different cleanliness of the introduced air, and may have different temperature and humidity of the introduced air. Good.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の還気設
備によれば、境界壁によって分離された一方の室に、他
方の室とは異なる調和空気を効率的に循環させることが
可能となる。
As described above, according to the return air facility of the first aspect, it is possible to efficiently circulate conditioned air different from that of the other chamber in one chamber separated by the boundary wall. Becomes

【0025】請求項2の還気設備によれば、境界壁によ
って分離されたより清浄度の高い空気が導入される室に
おいて、空気の循環効率を高くすることができる。請求
項3の製造装置によれば、その境界壁を連結して二室を
形成することにより、より清浄度の高い室が広いクリー
ンルームであっても、小さな床下チャンバおよび天井チ
ャンバで必要な循環空気量を確保することができる。ま
た、製造装置の増設等にも柔軟に対応することができる
ため、設備コストが低減できる。
According to the second aspect of the present invention, it is possible to increase the air circulation efficiency in the chamber into which the air having a higher degree of cleanliness separated by the boundary wall is introduced. According to the manufacturing apparatus of claim 3, by forming the two chambers by connecting the boundary walls, the circulating air required in the small underfloor chamber and the ceiling chamber even if the room with higher cleanliness is a large clean room. Quantity can be secured. In addition, since it is possible to flexibly cope with an increase in the number of manufacturing apparatuses and the like, equipment costs can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に相当する製造装置を示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a manufacturing apparatus corresponding to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の製造装置が設置されたクリーンルームを
示す概略平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view showing a clean room in which the manufacturing apparatus of FIG. 1 is installed.

【図3】図2のA−A線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG. 2;

【図4】図1の製造装置の場合の、製造装置の増設によ
るクリーンルーム内の変化を示す概略平面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view showing a change in a clean room due to the addition of a manufacturing apparatus in the case of the manufacturing apparatus of FIG.

【図5】本発明の製造装置の配置の別の実施形態を示す
概略平面図である。
FIG. 5 is a schematic plan view showing another embodiment of the arrangement of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図6】従来の製造装置が設置されたクリーンルームを
示す概略平面図である。
FIG. 6 is a schematic plan view showing a clean room in which a conventional manufacturing apparatus is installed.

【図7】図6のB−B線断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 6;

【図8】従来例の場合の、製造装置の増設によるクリー
ンルーム内の変化を示す概略平面図である。
FIG. 8 is a schematic plan view showing a change in a clean room due to an additional manufacturing apparatus in the case of the conventional example.

【図9】製造装置の配置の別の従来例を示す概略平面図
である。
FIG. 9 is a schematic plan view showing another conventional example of the arrangement of the manufacturing apparatus.

【図10】図9のC−C線断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line CC of FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 製造装置 2 層流式クリーンルーム(より清浄度の高い空気が導
入される室) 3 乱流式クリーンルーム(より清浄度の低い空気が導
入される室) 4 天井チャンバ 5 床下チャンバ 6 仕切り板 7 水平ダクト 11 境界壁 12 ハウジング 13 還気ダクト 15 出し入れ口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Manufacturing apparatus 2 Laminar flow type clean room (room in which air with higher cleanliness is introduced) 3 Turbulence type clean room (room in which air with lower cleanliness is introduced) 4 Ceiling chamber 5 Underfloor chamber 6 Partition plate 7 Horizontal Duct 11 Boundary wall 12 Housing 13 Return air duct 15 Doorway

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 異なる調和空気が導入される隣り合う二
室の境界壁に、一方の室の床下チャンバからの還気を天
井チャンバへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを
特徴とする還気設備。
1. A return air duct which integrates return air from an underfloor chamber of one of the chambers to a ceiling chamber at a boundary wall between two adjacent chambers into which different conditioned air is introduced. Air equipment.
【請求項2】 異なる清浄度の空気が導入される隣り合
う二室の境界壁の、より清浄度の高い空気が導入される
室側に、この室の床下チャンバからの還気を天井チャン
バへ向かわせる還気ダクトを一体化したことを特徴とす
る還気設備。
2. The return air from the underfloor chamber of this chamber is supplied to the ceiling chamber on the side of the boundary wall between two adjacent chambers into which air of different cleanliness is introduced, where the higher cleanness air is introduced. Return air equipment characterized by the integration of a return air duct that faces the air.
【請求項3】 異なる清浄度の空気が導入される隣り合
う二室のより清浄度の低い室内に配置され、より清浄度
の高い室側から部品や製品の出し入れを行う製造装置で
あって、 ハウジングの一面を二室の境界壁と一体化し、この境界
壁に部品や製品の出し入れ口を設け、境界壁のより清浄
度の高い空気が導入される室側に、この室の床下チャン
バからの還気を天井チャンバへ向かわせる還気ダクトを
一体化したことを特徴とする製造装置。
3. A manufacturing apparatus which is disposed in two adjacent rooms with lower cleanliness into which air of different cleanliness is introduced, and which takes parts and products in and out of the room with higher cleanliness, One surface of the housing is integrated with the boundary wall of the two chambers, and the entrance wall for parts and products is provided on the boundary wall, and the lower floor chamber of this room is placed on the side of the boundary wall where more clean air is introduced. A manufacturing apparatus characterized by integrating a return air duct for returning air to a ceiling chamber.
JP13127497A 1997-05-21 1997-05-21 Air circulation facility and production system integrated therewith Pending JPH10318576A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030094438A (en) * 2002-06-04 2003-12-12 주식회사선양테크 movable type air purifying room
JP2019161120A (en) * 2018-03-15 2019-09-19 シンフォニアテクノロジー株式会社 Efem

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