JPH10302664A - Frame for color selecting mechanism of cathode-ray tube - Google Patents

Frame for color selecting mechanism of cathode-ray tube

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JPH10302664A
JPH10302664A JP10550597A JP10550597A JPH10302664A JP H10302664 A JPH10302664 A JP H10302664A JP 10550597 A JP10550597 A JP 10550597A JP 10550597 A JP10550597 A JP 10550597A JP H10302664 A JPH10302664 A JP H10302664A
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JP
Japan
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frame
mask
color selection
selection mechanism
frames
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Application number
JP10550597A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichiro Takayanagi
賢一郎 高柳
Yasuhiro Kuwana
泰弘 桑名
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a frame for a color selecting mechanism wherein mislanding of an electron beam caused by thermal expansion, earth magnetism, and the like can be suppressed and also dispersion in left/right endmost slits can be prevented, and moreover product costs and equipment costs can be lowered, even in the even that thinning of mask film and reducing of frame weight are conducted at the same time. SOLUTION: This frame 30 is structured so as to support a mask 32 of a color selecting mechanism and to give tension to this mask 32. In this event, this frame 30 comprises a pair of parallel A frames 31 to which the mask 32 is attached, and a pair of parallel B frames 33 which connect both ends of each of these A frames 31 to their counterparts while give tension to the mask 32 attached to the pair of A frames 31 by moving the pair of A frames 31 in the separating direction from each other by elastic restoring force arising after compression force is released, and these B frames 33 are formed so as to be easy in elastic deformation in the direction substantially parallel to the mask 32.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管における
色選別機構のマスクを支えるとともに、このマスクにテ
ンションを与えるフレームの改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a frame for supporting a mask of a color selection mechanism in a cathode ray tube and applying tension to the mask.

【0002】[0002]

【従来の技術】トリニトロン方式の陰極線管では、三つ
の電子ビームを同一水平面に並べ、縦方向に簾状にスリ
ットを形成した色選別機構であるアパーチャーグリルを
使用する。図9は陰極線管における色選別機構を示す斜
視図である。色選別機構1は、マスク3と、枠状のフレ
ーム5と、スプリングホルダ7等からなる。
2. Description of the Related Art In a trinitron type cathode ray tube, an aperture grill which is a color selection mechanism in which three electron beams are arranged on the same horizontal plane and slits are formed in a vertical direction like a blind. FIG. 9 is a perspective view showing a color selection mechanism in the cathode ray tube. The color selection mechanism 1 includes a mask 3, a frame-shaped frame 5, a spring holder 7, and the like.

【0003】金属薄板からなるマスク3には、電子ビー
ムを透過させるための縦方向の複数のスリット9を形成
してある。フレーム5は、マスク3を溶接する一対の平
行なAフレーム11と、Aフレーム11の両端同士を連
結するZ方向へU字状に曲げた一対の平行なBフレーム
13とからなる。フレーム5に取り付けたスプリングホ
ルダ7は、色選別機構1を陰極線管のパネルに支持する
ためのスプリングの座板となる。
A plurality of vertical slits 9 for transmitting an electron beam are formed in a mask 3 made of a thin metal plate. The frame 5 includes a pair of parallel A frames 11 to which the mask 3 is welded, and a pair of parallel B frames 13 bent in a U-shape in the Z direction connecting both ends of the A frame 11. The spring holder 7 attached to the frame 5 serves as a spring seat plate for supporting the color selection mechanism 1 on the panel of the cathode ray tube.

【0004】図10は色選別機構組み立て手順の説明図
である。マスク3は、枠状に溶接したフレーム5に架張
される。マスク3をフレーム5に架張するには、Bフレ
ーム13をY軸方向に加圧し、Aフレーム11同士が接
近するように弾性変形させ、この状態でマスク3をシー
ム溶接又はレーザ溶接によりAフレーム11に取り付け
る。その後、フレーム5に対する加圧を解除し、Bフレ
ーム13をY軸方向に弾性復帰させる。これにより、マ
スク3は、フレーム5にY軸方向の高い張力で架張され
る。色選別機構は、このようにマスク3を架張すること
で、陰極線管の動作時におけるマスク3の熱膨張による
色ズレを防止していた。
FIG. 10 is an explanatory view of a procedure for assembling a color selection mechanism. The mask 3 is stretched over a frame 5 welded in a frame shape. To stretch the mask 3 on the frame 5, the B frame 13 is pressurized in the Y-axis direction and elastically deformed so that the A frames 11 approach each other. In this state, the mask 3 is subjected to seam welding or laser welding. Attach to 11. Thereafter, the pressurization of the frame 5 is released, and the B frame 13 is elastically returned in the Y-axis direction. As a result, the mask 3 is stretched over the frame 5 with a high tension in the Y-axis direction. The color selection mechanism stretches the mask 3 in this manner to prevent color shift due to thermal expansion of the mask 3 during operation of the cathode ray tube.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、陰極線管の
軽量化と、コスト削減は、市場からの強い要求である。
通常、これらの市場要求には、マスクの薄膜化とフレー
ムの軽量化とを同時に行うことにより対応している。し
かしながら、図11に示す従来形状のBフレーム13を
軽量化した場合、軽量化前の剛性の高いフレームと同等
の張力をマスクに与えるには、組み立て時に大きなフレ
ーム変形量dZを必要とする。これが、陰極線管動作中
のマスクの熱膨張による電子ビームのミスランディング
の増大を引き起こす要因になっていた。即ち、図11に
示すZ方向に大きなフレーム変形量dZを与えたBフレ
ーム13は、陰極線管の動作中に、図12に示すように
マスクの熱膨張に伴って圧縮が開放されると、パネルか
らZ軸方向にZa だけ遠ざかることになる。これに伴い
マスクがパネルから遠ざかると、図13に示すようにス
リット9を通過して蛍光面に当たる電子ビームがずれ、
ミスランディングを発生させた。また、マスクの薄膜化
及びフレームの軽量化を行えば、色選別機構全体の持つ
磁気シールド特性が従来に比べて低下する。これに加
え、従来のBフレーム13は、図14に示すように、Z
軸方向へU字状に折り曲げているため、シールド部材1
7をマスクに近接できず、高い磁気シールド効果が得ら
れず、地磁気による電子ビームのミスランディングを十
分に抑制することが困難であった。更に、従来形状のB
フレーム13は、図15に示すようにX座標で直線方向
となるため、構造上、マスクに形成した左右最端のスリ
ット9aと同じ位置で重なり易く、フレームの製造精
度、或いは色選別機構の組み立て精度のばらつきによ
り、Bフレーム13とスリット9aの位置が相対的にず
れると、スリット9aに影響を及ぼすモーメントMの方
向が左右異なる方向で変化し、スリット9a幅のばらつ
きが大きくなって、陰極線管の品質を低下させる問題が
あった。また、色選別機構は、図16に示すようにBフ
レーム13に取り付けたスプリングホルダ7と、パネル
19に設けたメタルスタッド21とを、スプリング23
を介して係合することで、パネル19に取り付けるが、
Bフレーム13と、メタルスタッド21とがX軸方向に
変形の少ない剛構造となっているため、係合時のスプリ
ング23の弾性変形量に応じた段差部25をスプリング
ホルダ7にプレス加工しなければならず、部品コストを
増大させ、且つ組み立て精度を低下させる要因となって
いた。また、Z軸方向にU字状に曲げたBフレーム13
を使用すると、図16に示すように色選別機構のZ軸方
向の高さが大きくなるため、パネル19との結合時、色
選別機構がパネル19の容積中に収まらなくなる。この
結果、製造ラインでの搬送において、安価なベルトコン
ベアーが使用できず、高価なローラー式のコンベアーを
使用しなければならなくなり、設備コストを増大させる
要因となっていた。本発明は上記状況に鑑みてなされた
もので、マスクの薄膜化とフレームの軽量化とを同時に
行った場合においても、熱膨張、地磁気等による電子ビ
ームのミスランディングを抑制できるとともに、左右最
端スリットのばらつきも防止でき、しかも、製品コスト
及び設備コストも低減することのできる色選別機構用フ
レームの提供を目的とするものである。
By the way, weight reduction and cost reduction of the cathode ray tube are strong demands from the market.
Usually, these market requirements are met by simultaneously reducing the thickness of the mask and reducing the weight of the frame. However, when the conventional B frame 13 shown in FIG. 11 is reduced in weight, a large amount of frame deformation dZ is required at the time of assembly in order to apply the same tension to the mask as the rigid frame before the weight reduction. This has caused an increase in mislanding of the electron beam due to thermal expansion of the mask during operation of the cathode ray tube. That is, the B frame 13 provided with a large frame deformation dZ in the Z direction shown in FIG. 11 has a panel when the compression is released due to the thermal expansion of the mask during the operation of the cathode ray tube as shown in FIG. From the distance Z a in the Z-axis direction. When the mask moves away from the panel with this, the electron beam passing through the slit 9 and hitting the phosphor screen shifts as shown in FIG.
Mislanding occurred. Further, if the thickness of the mask is reduced and the weight of the frame is reduced, the magnetic shielding characteristics of the entire color selection mechanism are reduced as compared with the related art. In addition, as shown in FIG.
Since it is bent in a U-shape in the axial direction, the shield member 1
7 could not be brought close to the mask, a high magnetic shield effect could not be obtained, and it was difficult to sufficiently suppress the mislanding of the electron beam due to terrestrial magnetism. Furthermore, the conventional shape B
Since the frame 13 is linear in the X coordinate as shown in FIG. 15, it is structurally easy to overlap at the same position as the leftmost and rightmost slits 9a formed on the mask, so that the manufacturing accuracy of the frame or the assembly of the color selection mechanism When the positions of the B frame 13 and the slit 9a are relatively displaced due to variations in accuracy, the direction of the moment M affecting the slit 9a changes in different directions to the left and right, and the variation in the width of the slit 9a increases, and the cathode ray tube becomes larger. There was a problem that the quality of the product deteriorated. As shown in FIG. 16, the color selection mechanism connects the spring holder 7 attached to the B frame 13 and the metal stud 21 provided on the panel 19 to the spring 23.
Is attached to the panel 19 by engaging through
Since the B frame 13 and the metal stud 21 have a rigid structure with little deformation in the X-axis direction, a step 25 corresponding to the amount of elastic deformation of the spring 23 at the time of engagement must be pressed into the spring holder 7. This increases the cost of parts and lowers the assembly accuracy. Also, a B frame 13 bent in a U-shape in the Z-axis direction
When the color selection mechanism is used, the height of the color selection mechanism in the Z-axis direction is increased as shown in FIG. 16, so that the color selection mechanism does not fit in the volume of the panel 19 when being combined with the panel 19. As a result, an inexpensive belt conveyor cannot be used in the transportation on the production line, and an expensive roller-type conveyor must be used, which is a factor that increases equipment costs. The present invention has been made in view of the above circumstances. Even when the mask is thinned and the frame is lightened at the same time, thermal expansion, mislanding of the electron beam due to terrestrial magnetism, etc. can be suppressed. It is an object of the present invention to provide a frame for a color selection mechanism that can prevent variations in slits and can reduce product costs and equipment costs.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る色選別機構用フレームの構成は、色選別
機構のマスクを支え且つ該マスクにテンションを与える
陰極線管の色選別機構用フレームであって、前記マスク
を取り付ける一対の平行なAフレームと、該Aフレーム
の両端同士を連結するとともに圧縮力の開放後の弾性復
帰力により前記一対のAフレームを離反方向に移動させ
て該一対のAフレームに取り付けた前記マスクにテンシ
ョンを与える一対の平行なBフレームとからなり、該B
フレームは前記マスクと略平行な方向へ弾性変形容易に
形成してあることを特徴とするものである。また、色選
別機構用フレームは、前記マスクと略平行な方向へ折り
曲げた折曲部を前記Bフレームに形成することで該Bフ
レームを前記マスクと平行な方向へ弾性変形容易にした
ことを特徴とするものであってもよい。
According to the present invention, there is provided a frame for a color selection mechanism for supporting a mask of a color selection mechanism and applying tension to the mask. A pair of parallel A frames to which the mask is attached, and connecting the two ends of the A frames together and moving the pair of A frames in a separating direction by an elastic return force after the compression force is released. A pair of parallel B frames for applying tension to the mask attached to the pair of A frames;
The frame is formed so as to be easily elastically deformed in a direction substantially parallel to the mask. Further, the color selection mechanism frame is characterized in that a bent portion bent in a direction substantially parallel to the mask is formed in the B frame so that the B frame is easily elastically deformed in a direction parallel to the mask. May be used.

【0007】この色選別機構用フレームでは、Bフレー
ムがマスクと略平行な方向へ弾性変形容易となり、陰極
線管の動作直後にBフレームの圧縮が開放されたとき、
Bフレームの圧縮の開放される方向がマスクと平行な方
向となり、マスクの移動量が小さく抑えられ、ミスラン
ディングが小さく抑制される。フレームのマスク垂直方
向の高さが低くなり、内部磁気シールド部材がマスクに
近くなり、磁気シールド効果が大きくなって、地磁気に
よる電子ビームのミスランディングが小さく抑制され
る。同時に、パネルの中への色選別機構の収納が可能と
なる。マスクと略平行な方向への曲げ寸法が自由に設計
可能となり、スプリングの弾性変形量に応じた段差部を
スプリングホルダにプレス加工する必要がなくなり、段
差のないスプリングホルダの形成が可能となる。また、
マスクと略平行な方向へ折り曲げた折曲部をBフレーム
に形成することで、マスクと平行な方向へ弾性変形容易
なフレームが容易に形成可能になる。
In this color selection mechanism frame, the B frame is easily elastically deformed in a direction substantially parallel to the mask, and when the compression of the B frame is released immediately after the operation of the cathode ray tube,
The direction in which the compression of the B frame is released is a direction parallel to the mask, so that the amount of movement of the mask is kept small, and mislanding is kept small. The height of the frame in the direction perpendicular to the mask is reduced, the internal magnetic shield member is close to the mask, the magnetic shield effect is increased, and mislanding of the electron beam due to terrestrial magnetism is suppressed. At the same time, the color selection mechanism can be stored in the panel. The bending dimension in a direction substantially parallel to the mask can be freely designed, so that it is not necessary to press a step portion on the spring holder according to the amount of elastic deformation of the spring, and a spring holder without a step can be formed. Also,
By forming a bent portion bent in a direction substantially parallel to the mask on the B frame, a frame that is easily elastically deformable in a direction parallel to the mask can be easily formed.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る色選別機構用
フレームの好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説
明する。図1は本発明に係る色選別機構用フレームの形
状を示す部分斜視図である。色選別機構用フレーム(フ
レーム)30は、マスク32を溶接する一対の平行なA
フレーム31と、Aフレーム31の両端同士を連結する
一対の平行なBフレーム33とからなる。Aフレーム3
1は、従来と同様の形状で形成してある。一方、Bフレ
ーム33は、従来、Z軸方向にU字状に曲げることで形
成していたのに対し、本実施形態では、Z軸方向への曲
げ加工は行っていない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a frame for a color selection mechanism according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a partial perspective view showing the shape of a frame for a color selection mechanism according to the present invention. The frame (frame) 30 for the color selection mechanism includes a pair of parallel A to which the mask 32 is welded.
It comprises a frame 31 and a pair of parallel B frames 33 connecting both ends of the A frame 31. A frame 3
1 is formed in the same shape as the conventional one. On the other hand, the B frame 33 is conventionally formed by bending in the U-shape in the Z-axis direction, but in the present embodiment, the B-frame 33 is not bent in the Z-axis direction.

【0009】色選別機構は、組み立てる際に、Y軸方向
に加圧圧縮する。その時、Bフレーム33は変形するこ
ととなるが、その変形方向はBフレーム33の形状(構
造)に大きく依存する。即ち、Bフレーム33の形状を
特定することにより、Bフレーム33のZ軸方向の変形
量dZ、X軸方向の変形量dXのバランス制御が可能と
なる。従来のBフレームは、図11に示したように、Z
軸方向にU字状に曲げることで、BフレームのZ軸方向
の変形量dZが、X軸方向の変形量dXに対して大きく
なっていた。一方、本実施形態によるBフレーム33
は、図1に示すように、Z軸方向に比べてX軸方向への
弾性変形を容易に形成することで、Y軸方向への加圧圧
縮の際、X軸方向、即ち、マスクと平行な方向への変形
量dXが大きくなるようにしてある。
The color selection mechanism presses and compresses in the Y-axis direction when assembling. At that time, the B frame 33 is deformed, and the direction of the deformation largely depends on the shape (structure) of the B frame 33. That is, by specifying the shape of the B frame 33, the balance control of the deformation amount dZ in the Z axis direction and the deformation amount dX in the X axis direction of the B frame 33 becomes possible. A conventional B frame has a Z
By bending in a U-shape in the axial direction, the deformation dZ in the Z-axis direction of the B frame was larger than the deformation dX in the X-axis direction. On the other hand, the B frame 33 according to the present embodiment
As shown in FIG. 1, the elastic deformation in the X-axis direction is more easily formed than in the Z-axis direction, so that when pressed and compressed in the Y-axis direction, it is parallel to the X-axis direction, that is, parallel to the mask. The amount of deformation dX in any direction is increased.

【0010】Bフレーム33のX軸方向への弾性変形を
容易にするには、例えば、図1に示すように、マスクと
平行な方向で折り曲げた折曲部35を、Bフレーム33
に形成することで実現できる。図示の例では、二回曲げ
により折曲部35を二箇所に形成しているが、折り曲げ
形状は、これに限定されるものではなく、X軸方向への
弾性変形を容易にするような折り曲げ形状であれば、フ
レーム形状全体をX軸方向へU字状、V字状に折り曲げ
るもの、又はX軸方向の複数の折曲部を階段状に形成す
るもの等であってもよい。
To facilitate the elastic deformation of the B frame 33 in the X-axis direction, for example, as shown in FIG.
It can be realized by forming it. In the illustrated example, the bent portion 35 is formed at two places by bending twice, but the bent shape is not limited to this, and the bent portion is configured to facilitate elastic deformation in the X-axis direction. If it is a shape, the whole frame shape may be bent in a U-shape or V-shape in the X-axis direction, or a plurality of bent portions in the X-axis direction may be formed in a step shape.

【0011】また、Bフレーム33のX軸方向への弾性
変形を容易にするには、上述のようにBフレーム33を
曲げ形状で形成する他に、図2に示すように同一の断面
2次モーメントにおいて、Bフレーム33の断面形状に
おける縦横比を、X軸方向よりZ軸方向を大きく設定す
ることによっても実現することができる。即ち、X軸方
向とZ軸方向の縦横寸法BX 、BZ の等しい図2(a)
に示す従来のBフレームの場合に比べて、X軸方向の寸
法BX よりZ軸方向の寸法BZ を大きく形成した図2
(b)に示すBフレームの方がX軸方向の弾性変形を容
易にすることができる。なお、図2では、角材を例に図
示してあるが、Bフレーム33の素材としては、丸棒、
パイプ材、或いは平鋼を折り曲げたアングル材を使用し
ても同様の効果を得ることができる。
To facilitate the elastic deformation of the B frame 33 in the X-axis direction, in addition to forming the B frame 33 in a bent shape as described above, as shown in FIG. The moment can also be realized by setting the aspect ratio in the cross-sectional shape of the B frame 33 to be larger in the Z-axis direction than in the X-axis direction. That is, vertical and horizontal dimensions B X in the X-axis direction and the Z-axis direction, equal diagram B Z 2 (a)
As compared with the conventional B-frame shown in and larger dimension B Z dimension B X than Z-axis direction of the X-axis direction 2
The B frame shown in (b) can make elastic deformation in the X-axis direction easier. In FIG. 2, a square bar is shown as an example, but the material of the B frame 33 is a round bar,
The same effect can be obtained by using a pipe material or an angle material obtained by bending a flat steel.

【0012】次に、このように構成したフレーム30の
作用を説明する。図3は本発明に係る色選別機構用フレ
ームのマスク熱膨張によるフレームの変形を説明する図
である。熱膨張による電子ビームのミスランディング
(温度ドリフト)は、特に陰極線管の動作直後におい
て、図13に示したようにマスクの熱膨張に伴って、B
フレームの圧縮が開放され、マスクのZ座標がパネルか
ら遠ざかるために起こる。従って、これを抑制するため
には、Bフレームの圧縮が開放された際に、マスクのZ
座標が移動しない色選別機構の構造が必要となる。本実
施形態のフレーム30では、X軸方向への弾性変形を容
易にすることで、圧縮の開放される方向がX軸方向とな
り、図3に示すようにマスクのZ軸方向の移動量Zb
小さく抑えられ、その結果、ミスランディングが小さく
抑制されることになる。
Next, the operation of the frame 30 configured as described above will be described. FIG. 3 is a view for explaining the deformation of the frame for the color selection mechanism according to the present invention due to the thermal expansion of the mask. Mislanding (temperature drift) of the electron beam due to thermal expansion, especially immediately after the operation of the cathode ray tube, is accompanied by thermal expansion of the mask as shown in FIG.
This occurs because the compression of the frame is released and the Z coordinate of the mask moves away from the panel. Therefore, in order to suppress this, when the compression of the B frame is released, the Z
A structure of a color selection mechanism in which coordinates do not move is required. In the frame 30 of the present embodiment, the direction in which the compression is released becomes the X-axis direction by facilitating the elastic deformation in the X-axis direction, and the movement amount Z b of the mask in the Z-axis direction as shown in FIG. Is reduced, and as a result, mislanding is suppressed to a small value.

【0013】図4は本発明に係る色選別機構用フレーム
の磁気抵抗を説明する図である。地磁気による電子ビー
ムのミスランディング(地磁気ドリフト)は、陰極線管
の内部磁気シールドの位置が大きく影響する。本実施形
態のフレーム30を使用すると、フレームのZ方向の高
さが低くなり、29形の場合、図14に示した従来のフ
レームを使用した構造に比べて、内部磁気シールド部材
36が約20mmマスク32に近くなる。これによって
マスク周辺でより稠密な磁気回路が形成されやすくな
り、磁気シールド効果が大きくなって、地磁気による電
子ビームのミスランディングが小さく抑制されることに
なる。
FIG. 4 is a view for explaining the magnetic resistance of the frame for the color selection mechanism according to the present invention. The mislanding (geomagnetic drift) of the electron beam due to terrestrial magnetism is greatly affected by the position of the internal magnetic shield of the cathode ray tube. When the frame 30 of the present embodiment is used, the height of the frame in the Z direction is reduced. In the case of the shape 29, the internal magnetic shield member 36 is about 20 mm thick compared to the structure using the conventional frame shown in FIG. It becomes closer to the mask 32. This makes it easier to form a denser magnetic circuit around the mask, increases the magnetic shielding effect, and suppresses mislanding of the electron beam due to terrestrial magnetism.

【0014】次に、上述した耐熱特性(温度ドリフ
ト)、耐地磁気特性(地磁気ドリフト)、耐衝撃特性
(梱包落下ドリフト)について、従来のフレームと、本
実施形態のフレームとのミスランディング量を比較した
結果を図5、図6に基づき説明する。図5はミスランデ
ィング量の測定点を示す説明図、図6はフレームの違い
による各特性の差異を示した比較説明図である。ミスラ
ンディング量は、図5に示す1〜9の9箇所の測定ポイ
ントで測定し、その値をパネル形状に相似させた図6の
矩形枠内の相当位置で示した。なお、測定を行った色選
別機構のサイズ、マスク板厚、フレーム質量は、以下の
とおりであった。 従来の色選別機構 実施例の色選別機構 サイズ 29形 29形 マスクの板厚 0.15mm 0.10mm フレーム質量 4.0kg 2.8kg
Next, with respect to the above-mentioned heat resistance characteristics (temperature drift), geomagnetic resistance characteristics (geomagnetic drift), and shock resistance characteristics (packing drop drift), the mislanding amount between the conventional frame and the frame of the present embodiment is compared. The results obtained will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is an explanatory diagram showing the measurement points of the mislanding amount, and FIG. 6 is a comparative explanatory diagram showing the difference of each characteristic due to the difference of the frame. The mislanding amount was measured at nine measurement points 1 to 9 shown in FIG. 5, and the values were shown at corresponding positions in the rectangular frame in FIG. 6 which resembled the panel shape. In addition, the size of the color selection mechanism, the mask plate thickness, and the frame mass for which the measurement was performed were as follows. Conventional color selection mechanism Color selection mechanism of the embodiment Size 29 type 29 type Mask thickness 0.15 mm 0.10 mm Frame mass 4.0 kg 2.8 kg

【0015】図6からわかるように、軽量化を行い、X
軸方向への弾性変形を容易にし、且つフレームのZ方向
の高さを低くした実施例の色選別機構では、温度ドリフ
ト、地磁気ドリフトにおけるミスランディング量が従来
の色選別機構に比べて平均的に小さくなるのに加え、梱
包落下ドリフトにおけるミスランディング量も従来の色
選別機構に比べて小さくなった。このことから、軽量化
を行った場合においても、X軸方向への弾性変形を容易
にすることで、温度ドリフト、地磁気ドリフト、梱包落
下ドリフトの全ての特性の向上が知見できた。
As can be seen from FIG. 6, the weight is reduced and X
In the color selection mechanism of the embodiment in which the elastic deformation in the axial direction is facilitated and the height of the frame in the Z direction is reduced, the mislanding amount in the temperature drift and the geomagnetic drift is more average than that of the conventional color selection mechanism. In addition to being smaller, the amount of mislanding in the package drop drift was also smaller than that of the conventional color selection mechanism. From this, it was found that even when the weight was reduced, improvement of all the characteristics of the temperature drift, the geomagnetic drift, and the package falling drift was facilitated by facilitating the elastic deformation in the X-axis direction.

【0016】図7は本発明に係るフレームを用いた場合
の最端スリット上の応力分布を説明する図である。マス
クの左右最端スリットの幅は、色選別機構の組み立て後
における、フレームコーナー部の応力分布(特にY軸方
向成分)から最も影響を受ける。従来フレームを用いた
色選別機構では、図15に示すようにBフレームがX座
標で直線方向となるため、左右最端スリットと重なり易
く、フレームの製造精度(29形の場合、Bフレームの
X座標精度:±1.0mm)や、或いは色選別機構の組
み立て精度(29形の場合、マスクの位置とBフレーム
のX軸方向における位置関係の精度:±1.0mm)の
影響でBフレーム上のY軸方向の応力のピーク位置がば
らつく。このとき、図15に示す従来のBフレームでは
最端スリットがBフレーム上に位置するため、最端スリ
ット部のY軸方向の応力分布は、その勾配が正になった
り、負になったりして安定しない。この応力の勾配が最
端スリットに生じるモーメントMに影響を与え、最端ス
リットの幅をばらつかせていた。一方、本実施例のフレ
ーム30では、図7に示すようにAフレーム31とBフ
レーム33の接合点から最端スリット37aが離れるた
め、最端スリット37a上で常に同じ応力勾配が与えら
れ、モーメントMの方向が同じになり、最端スリット3
7aの幅のばらつきが抑制されることになる。
FIG. 7 is a view for explaining the stress distribution on the outermost slit when the frame according to the present invention is used. The width of the leftmost and rightmost slits of the mask is most affected by the stress distribution (particularly, the component in the Y-axis direction) at the corners of the frame after assembling the color selection mechanism. In a color selection mechanism using a conventional frame, as shown in FIG. 15, since the B frame is in a straight line direction in the X coordinate, it easily overlaps the leftmost and rightmost slits, and the manufacturing accuracy of the frame (in the case of the 29 type, the X Coordinate accuracy: ± 1.0 mm) or assembling accuracy of the color selection mechanism (accuracy of the positional relationship between the position of the mask and the B frame in the X-axis direction: ± 1.0 mm in the case of type 29) on the B frame. The peak position of the stress in the Y-axis direction varies. At this time, in the conventional B frame shown in FIG. 15, since the endmost slit is located on the B frame, the gradient of the stress distribution in the Y-axis direction of the endmost slit portion becomes positive or negative. Not stable. This gradient of the stress affects the moment M generated in the outermost slit, and the width of the outermost slit varies. On the other hand, in the frame 30 of the present embodiment, as shown in FIG. 7, since the endmost slit 37a is away from the junction of the A frame 31 and the B frame 33, the same stress gradient is always given on the endmost slit 37a, The direction of M becomes the same and the endmost slit 3
Variation in the width of 7a is suppressed.

【0017】図8は本発明に係るフレームを用いた場合
のパネルと色選別機構との位置関係を説明する図であ
る。従来のフレームでは、マスクの大きさによってBフ
レームのX座標が決定されていた。一方、本実施例のフ
レーム30では、X軸方向への曲げ寸法を自由に設計す
ることで、Bフレーム33のX座標が任意に設定可能と
なる。従って、従来のフレームのように、係合時のスプ
リングの弾性変形量に応じた段差部をスプリングホルダ
にプレス加工する必要がなくなり、図8に示すように段
差のないスプリングホルダ39の形成が可能となる。こ
れによって、部品コストの削減が可能となり、スプリン
グホルダ39とフレーム30との溶接信頼性が高まるこ
とになる。更には、スプリングホルダ39を使用せず
に、スプリング41を直接フレーム30に溶接した色選
別機構の実現も可能になる。
FIG. 8 is a diagram for explaining the positional relationship between the panel and the color selection mechanism when the frame according to the present invention is used. In a conventional frame, the X coordinate of the B frame is determined by the size of the mask. On the other hand, in the frame 30 of the present embodiment, the X coordinate of the B frame 33 can be arbitrarily set by freely designing the bending dimension in the X-axis direction. Therefore, unlike the conventional frame, it is not necessary to press the spring holder 39 with a stepped portion corresponding to the amount of elastic deformation of the spring at the time of engagement, and it is possible to form the stepless spring holder 39 as shown in FIG. Becomes As a result, the cost of parts can be reduced, and the welding reliability between the spring holder 39 and the frame 30 is improved. Furthermore, a color selection mechanism in which the spring 41 is directly welded to the frame 30 without using the spring holder 39 can be realized.

【0018】また、本実施例のフレーム30では、Z軸
方向への曲げを行わないことから、Z軸方向の高さが小
さくなり、図8に示すようにパネル43の中に色選別機
構の収納が可能となる。このことは、色選別機構をパネ
ル43の中に収納した状態での搬送を可能にする。この
結果、従来では、色選別機構がパネルの中に収まらない
(図16参照)ことから、高価なローラー式のコンベア
ーが必要となっていたが、本実施例のフレーム30を用
いれば、色選別機構がパネル43に収納可能となり、安
価なベルトコンベアーによる搬送が可能となる。
Further, in the frame 30 of the present embodiment, since the bending in the Z-axis direction is not performed, the height in the Z-axis direction is reduced, and as shown in FIG. Storage becomes possible. This enables transport in a state where the color selection mechanism is stored in the panel 43. As a result, conventionally, since the color selection mechanism does not fit in the panel (see FIG. 16), an expensive roller-type conveyor was required. However, if the frame 30 of the present embodiment is used, the color selection mechanism is used. The mechanism can be stored in the panel 43, and can be conveyed by an inexpensive belt conveyor.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る色選別機構用フレームによれば、Bフレームをマスク
と略平行な方向へ弾性変形容易に形成したので、マスク
の薄膜化とフレームの軽量化とを同時に行った場合にお
いても、熱膨張、地磁気及び落下衝撃による電子ビーム
のミスランディングを抑制でき、左右最端スリットのば
らつきも防止して陰極線管の品質特性を向上させること
ができ、しかも、製品コスト及び設備コストも低減する
ことができる。また、マスクと略平行な方向へ折り曲げ
た折曲部をBフレームに形成すれば、Bフレームをマス
クと平行な方向へ弾性変形容易に形成することができ
る。
As described above in detail, according to the frame for a color selection mechanism according to the present invention, the B frame is easily elastically deformed in a direction substantially parallel to the mask, so that the thickness of the mask can be reduced and the frame can be reduced. Even at the same time, the mislanding of the electron beam due to thermal expansion, terrestrial magnetism and drop impact can be suppressed, and the variation of the right and leftmost slits can be prevented, improving the quality characteristics of the cathode ray tube. In addition, product costs and equipment costs can be reduced. Further, if a bent portion bent in a direction substantially parallel to the mask is formed on the B frame, the B frame can be easily elastically deformed in a direction parallel to the mask.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る色選別機構用フレームの形状を示
す部分斜視図である。
FIG. 1 is a partial perspective view showing a shape of a frame for a color selection mechanism according to the present invention.

【図2】Bフレームの断面形状を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a B frame.

【図3】本発明に係る色選別機構用フレームのマスク熱
膨張によるフレームの変形を説明する図である。
FIG. 3 is a view for explaining a deformation of a frame for a color selection mechanism according to the present invention due to thermal expansion of a mask.

【図4】本発明に係る色選別機構用フレームの磁気抵抗
を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating the magnetic resistance of the frame for a color selection mechanism according to the present invention.

【図5】ミスランディング量の測定点を示す説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing measurement points of a mislanding amount.

【図6】フレームの違いによる各特性の差異を示した比
較説明図である。
FIG. 6 is a comparative explanatory diagram showing a difference in each characteristic due to a difference in a frame.

【図7】本発明に係るフレームを用いた場合の最端スリ
ット上の応力分布を説明する図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining a stress distribution on the outermost slit when the frame according to the present invention is used.

【図8】本発明に係るフレームを用いた場合のパネルと
色選別機構との位置関係を説明する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a positional relationship between a panel and a color selection mechanism when a frame according to the present invention is used.

【図9】陰極線管における色選別機構を示す斜視図であ
る。
FIG. 9 is a perspective view showing a color selection mechanism in the cathode ray tube.

【図10】色選別機構組み立て手順の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a procedure for assembling a color selection mechanism.

【図11】従来の色選別機構用フレームの形状を示す部
分斜視図である。
FIG. 11 is a partial perspective view showing the shape of a conventional color selection mechanism frame.

【図12】従来の色選別機構用フレームのマスク熱膨張
によるフレームの変形を説明する図である。
FIG. 12 is a view for explaining deformation of a conventional color selection mechanism frame due to thermal expansion of a mask.

【図13】色選別機構用フレームのミスランディング量
を説明する図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating a mislanding amount of a frame for a color selection mechanism.

【図14】従来の色選別機構用フレームの磁気抵抗を説
明する図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating the magnetoresistance of a conventional frame for a color selection mechanism.

【図15】従来の色選別機構用フレームを用いた場合の
最端スリット上の応力分布を説明する図である。
FIG. 15 is a view for explaining a stress distribution on the outermost slit when a conventional frame for a color selection mechanism is used.

【図16】従来の色選別機構用フレームを用いた場合の
パネルと色選別機構の位置関係を説明する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a positional relationship between a panel and a color selection mechanism when a conventional frame for a color selection mechanism is used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30 色選別機構用フレーム 31 Aフレーム
32 マスク 33 Bフレーム 35 折曲部
30 Frame for Color Sorting Mechanism 31 A Frame
32 Mask 33 B frame 35 Bend

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 色選別機構のマスクを支え且つ該マスク
にテンションを与える陰極線管の色選別機構用フレーム
であって、 前記マスクを取り付ける一対の平行なAフレームと、該
Aフレームの両端同士を連結するとともに圧縮力の開放
後の弾性復帰力により前記一対のAフレームを離反方向
に移動させて該一対のAフレームに取り付けた前記マス
クにテンションを与える一対の平行なBフレームとから
なり、該Bフレームは前記マスクと略平行な方向へ弾性
変形容易に形成してあることを特徴とする陰極線管の色
選別機構用フレーム。
1. A frame for a color selection mechanism of a cathode ray tube for supporting a mask of a color selection mechanism and applying tension to the mask, comprising: a pair of parallel A frames for mounting the mask; A pair of parallel B-frames that connect and move the pair of A-frames in the separating direction by an elastic return force after the release of the compressive force to apply tension to the mask attached to the pair of A-frames; A frame for a color selection mechanism of a cathode ray tube, wherein the B frame is formed so as to be easily elastically deformed in a direction substantially parallel to the mask.
【請求項2】 前記マスクと略平行な方向へ折り曲げた
折曲部を前記Bフレームに形成することで該Bフレーム
を前記マスクと平行な方向へ弾性変形容易にしたことを
特徴とする請求項1記載の陰極線管の色選別機構用フレ
ーム。
2. The apparatus according to claim 1, wherein a bent portion bent in a direction substantially parallel to the mask is formed in the B frame, so that the B frame is easily elastically deformed in a direction parallel to the mask. 2. A frame for a color selection mechanism of a cathode ray tube according to 1.
JP10550597A 1997-04-23 1997-04-23 Frame for color selecting mechanism of cathode-ray tube Withdrawn JPH10302664A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6825601B2 (en) 2001-03-19 2004-11-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Color cathode-ray tube

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US6825601B2 (en) 2001-03-19 2004-11-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Color cathode-ray tube

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