JPH10302237A - Manufacture of magnetic head slider - Google Patents

Manufacture of magnetic head slider

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JPH10302237A
JPH10302237A JP10476597A JP10476597A JPH10302237A JP H10302237 A JPH10302237 A JP H10302237A JP 10476597 A JP10476597 A JP 10476597A JP 10476597 A JP10476597 A JP 10476597A JP H10302237 A JPH10302237 A JP H10302237A
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slider
magnetic head
row
base
head slider
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信人 福島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method to adequately bond, to a jig, a slider to be processed at the time of forming, with the dry etching process, a slider of the floating type magnetic head used for hard disk drive. SOLUTION: In this manufacturing method, after a slider or a row 1 in which the slider is provided in the form of array are adhered to a metal or ceramic base 2 at the time of processing the slider sections of a plurality of magnetic heads by one operation, an air bearing is formed by the dry etching method. A dry film resist 7 is used for bonding between the slider or row 1 and base 2 and the dry film resist 8 is diffused to the surface other than the surfaces to be etched of the row 1 by forming a groove previously to the base 2. Thereby, the magnetic head element provided at the side surface of row 1 can be protected from plasma damage at the time of etching process. As the dry etching method, ion milling and reactive ion etching(RIE) may be used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
や磁気テープ装置などに用いる磁気ヘッド、特に高密度
記録に適した低浮上量の薄膜磁気ヘッドおよびその製造
方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used for a magnetic disk drive or a magnetic tape drive, and more particularly to a low flying height thin film magnetic head suitable for high density recording and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク装置に用いられる浮上型磁
気ヘッドは、記録密度の増大にともなって、いわゆるス
ペーシングロスを最小限に抑えるため、ディスクと磁気
ヘッドの間隔、すなわち浮上量は低下の一途をたどり、
かつディスクの外周から内周まで一定であることが求め
られている。このような要求に応えうる磁気ヘッドスラ
イダーとして、空気の流体力学に基づいて設計された異
形スライダーが提案され、実用化している。この異形ス
ライダーは、キャビティとよばれる凹部を備え、大気圧
より低い圧力を生じるようにしたことが特徴で、負圧ス
ライダーとも呼ばれている。このようなキャビティは従
来の機械研削では製作が困難であり、フォトリソグラフ
ィとドライエッチングプロセスにより作られるのが一般
的である。
2. Description of the Related Art In a flying magnetic head used in a magnetic disk drive, the spacing between the disk and the magnetic head, that is, the flying height, is constantly decreasing in order to minimize the so-called spacing loss as the recording density increases. Follow
In addition, it is required that the disk be constant from the outer circumference to the inner circumference. As a magnetic head slider that can meet such demands, a modified slider designed based on the fluid dynamics of air has been proposed and put into practical use. The odd-shaped slider is characterized by having a concave portion called a cavity so as to generate a pressure lower than the atmospheric pressure, and is also called a negative pressure slider. Such cavities are difficult to manufacture by conventional mechanical grinding and are generally made by photolithography and dry etching processes.

【0003】ここで、従来の異形スライダ形成法を図3
によって説明する。まず磁気ヘッドは図4(a)のよう
にロー1と呼ばれるバー状態で加工される。これは薄膜
ヘッドのウェハーから切り出されのち、エアベアリング
面が研磨され磁極の深さが適切になるよう加工の済んだ
ものである。これを一本づつ加工するのでは生産性が劣
るので、十数本から二十数本をまとめてベース2とよば
れる支持板に整列し接着し、加工するのが一般的であ
る。ベース2はここに示した板状の他、ブロック状のも
のもあり、アルミやステンレス、セラミクスなどが用い
られる。とくにブロック状の場合は後の切断工程などを
考慮して場合が多い。ロー1とベース2の接着剤は仮止
め用のワックス3が用いられる。この接着剤はあらかじ
め軟化点以上に加熱したベース2に固形ワックス3を擦
り付けて塗布したり、適当な溶媒に溶解したワックス3
をスピンコートなどでベース2上に塗布されたもので、
さらに軟化点以上に加熱したうえでロー1を圧着し徐冷
することにより接着するものである。接着された様子を
図4(b)に示す。
Here, a conventional method of forming a deformed slider is shown in FIG.
It will be explained by. First, the magnetic head is processed in a bar state called row 1 as shown in FIG. In this method, after being cut from the wafer of the thin film head, the air bearing surface is polished and processed so that the depth of the magnetic pole becomes appropriate. Since the productivity is inferior if this is processed one by one, it is general that ten or more to twenty and more are aligned, adhered to a support plate called the base 2 and processed. The base 2 also has a block shape other than the plate shape shown here, and is made of aluminum, stainless steel, ceramics, or the like. In particular, in the case of a block shape, it is often the case that a later cutting step is taken into consideration. As an adhesive between the row 1 and the base 2, a wax 3 for temporary fixing is used. The adhesive may be applied by rubbing the solid wax 3 on the base 2 which has been heated to a temperature higher than the softening point in advance, or by applying the wax 3 dissolved in an appropriate solvent.
Is applied on the base 2 by spin coating or the like,
Further, after heating to a temperature higher than the softening point, the row 1 is pressure-bonded and gradually cooled to bond. FIG. 4B shows the state of the bonding.

【0004】つぎにロー1上に適切なレジスト4をコー
トしこれを露光現像して図4(c)のようにキャビティ
のパターンを反映したレジストマスク5を得る。これを
イオンミリング法等のドライエッチングプロセスでマス
ク以外のロー1をエッチングすることにより、所定のキ
ャビティ形状を得る。最後に個々のヘッドに切断するこ
とにより異形スライダを持った磁気ヘッド6が完成す
る。
Next, a suitable resist 4 is coated on the row 1 and exposed and developed to obtain a resist mask 5 reflecting a cavity pattern as shown in FIG. The row 1 other than the mask is etched by a dry etching process such as an ion milling method to obtain a predetermined cavity shape. Finally, the head is cut into individual heads to complete the magnetic head 6 having the odd-shaped slider.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ように仮止め用のワックスを用いてローを固定すると、
エッチング過程で発生する熱により、しばしばワックス
が軟化し、加工中のエアベアリング面にワックスがしみ
上がるために、正確なキャビティ形状とならなかった
り、極端な場合にはローが剥がれ落ちてしまうことがあ
った。またワックスが気化してできるガスによりエッチ
ング速度が低下し、バラツキの原因となっていた。ワッ
クスの軟化点は、貼付時の薄膜ヘッドへの熱的影響を考
慮すると、むやみに高めることはできず、通常の薄膜ヘ
ッドの耐熱温度100℃〜120℃以下に抑えなければ
ならない。しかしながら、ドライエッチング工程におい
て実用的なエッチング速度を得ようとすると、やはり基
板温度は100℃近くに上昇するのが一般的であり、前
述したワックスの「ゆるみ」は避けて通れない課題であ
った。
However, when the row is fixed using the wax for temporary fixing as described above,
The heat generated during the etching process often softens the wax, causing the wax to soak up on the air bearing surface during processing, resulting in an incorrect cavity shape or, in extreme cases, the peeling of the row. there were. Further, the gas formed by vaporizing the wax reduces the etching rate, causing a variation. The softening point of the wax cannot be increased unnecessarily in consideration of the thermal effect on the thin film head at the time of sticking, and must be suppressed to a heat-resistant temperature of 100 ° C. to 120 ° C. or less of a normal thin film head. However, in order to obtain a practical etching rate in the dry etching step, the substrate temperature generally rises to nearly 100 ° C., and the above-mentioned “looseness” of the wax is an unavoidable problem. .

【0006】さらに図4では省略したが、実際のロー・
バーのエアベアリング側面には磁気ヘッド素子への接続
用のパッド9が作り込まれており、ロー同士を密着させ
て貼り付けることはできない構造となっている。このた
め、ロー間の隙間から流入したプラズマによりパッド9
が破損したり、対向するローからスパッタされた物質、
すなわちリ・スパッタ層10が堆積することが問題視さ
れた。これを図5に図示する。これらの現象はパッドの
接続性を損ねたり、外観品質上問題となり、解決が求め
られていた。
Further, although omitted in FIG.
Pads 9 for connection to the magnetic head element are formed on the side surface of the air bearing of the bar, and have a structure in which the rows cannot be closely adhered to each other. For this reason, the plasma flowing from the gap between the rows causes the pad 9
Is damaged or spattered from the opposite row,
That is, there was a problem that the re-sputtered layer 10 was deposited. This is illustrated in FIG. These phenomena impair the connectivity of the pads and cause problems in appearance quality, and solutions have been required.

【0007】本発明は、こうした課題を解決し、高精度
な異形スライダを安定に製造しうる方法を提供するもの
であり、ひいては高記録密度磁気ディスクドライブの実
現に貢献するものである。
The present invention solves these problems and provides a method for stably manufacturing a high-precision odd-shaped slider, and contributes to the realization of a high-density magnetic disk drive.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明では、ローとベー
スの接着において従来一般的に用いられているワックス
にかえ、本来、パターニングマスクとして用いられべき
ドライフィルムレジストを接着剤として使用する。ドラ
イフィルムレジストは、それ自体に粘着性があり製造者
より供給される場合には両面に保護シートが張られてい
る。したがって一方の保護フィルムを剥がし100℃程
度の熱を加えながらラミネートすると、任意の基板に貼
ることができる。通常このあと露光するわけであるが、
本発明では接着層として用いるため露光は行わず、ドラ
イフィルムレジストの上面に残った保護フィルムをはが
し、この上にローを整列、圧着させることにより、ベー
スとローの接着を行う。このとき、ベースとして、ロー
の幅よりやや広い幅の溝を備えたものを用いると、溝の
側面に回り込んだドライフィルムレジストが、溝に落と
し込まれたローの側面を保護するように作用する。この
ようにしてベースに貼り付けられたローは非常に強固に
密着し、その後に行われるレジストの塗布、露光、現像
と行ったフォトリソグラフィ工程はもちろんのこと、ド
ライエッチング工程においてもなんら支障をきたすこと
なく接着層としての役割をはたすばかりか、薄膜ヘッド
の耐熱温度ぎりぎりまで温度上昇が許容されるため、高
出力による高速エッチングが可能となり、かつ歩留まり
が向上する。また、ローの側面をもドライフィルムレジ
ストで保護するため、素子面にある導通用のパッドがプ
ラズマにより破損するのを防止したり、対向するローか
らスパッタされた物質が素子面に堆積するのを防ぐこと
ができる。その一方でエッチング工程が終了した後は、
アセトンやNMPに浸せきすることにより、速やかにに
ローをベースから剥離できる。
In the present invention, a dry film resist, which is originally used as a patterning mask, is used as an adhesive instead of wax conventionally used in bonding a row and a base. The dry film resist itself has tackiness and, when supplied by a manufacturer, has a protective sheet on both sides. Therefore, if one of the protective films is peeled off and laminated while applying heat of about 100 ° C., it can be attached to an arbitrary substrate. Usually, after this exposure,
In the present invention, exposure is not performed because the protective film is used as an adhesive layer. The protective film remaining on the upper surface of the dry film resist is peeled off, and rows are aligned and pressed thereon, thereby bonding the base and the rows. At this time, if a base with a groove slightly wider than the width of the row is used, the dry film resist that wraps around the side of the groove acts to protect the side of the row dropped into the groove. I do. The row affixed to the base in this manner adheres very firmly, causing no problem in the dry etching process as well as in the subsequent resist lithography, exposure, and development performed photolithography processes. In addition to not only functioning as an adhesive layer but also allowing the temperature to rise to just below the heat resistant temperature of the thin film head, high-speed etching with high output is possible and the yield is improved. In addition, since the side surfaces of the row are also protected by the dry film resist, the conduction pads on the element surface are prevented from being damaged by plasma, and substances sputtered from the opposing row are deposited on the element surface. Can be prevented. On the other hand, after the etching process is completed,
By dipping in acetone or NMP, the row can be quickly peeled from the base.

【0009】本発明によれば、異形スライダ用のキャビ
ティをエッチングする際、被加工スライダ、一般的には
ローとベースの接着をドライフィルムレジストを用いて
行い、かつベースに備えた溝により、ローの素子面をエ
ッチングのダメージから保護する。これにより、磁気ヘ
ッドの素子のダメージを防止しつつ、安定した異形スラ
イダ加工が可能となる。
According to the present invention, when a cavity for a deformed slider is etched, a slider to be processed, generally, a row and a base are bonded using a dry film resist, and a groove provided in the base is used to form a row. Is protected from the etching damage. This makes it possible to stably process the deformed slider while preventing damage to the elements of the magnetic head.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】磁気ヘッドスライダのメディア対
向面をドライエッチング法により所定のエアーベアリン
グ形状に加工する磁気ヘッドスライダの製造方法であっ
て被加工スライダを、あらかじめ、所定のベースにドラ
イフィルムレジストを介して貼り付けた後にドライエッ
チング装置に設置し、エッチングを行うことを特徴とす
る磁気ヘッドスライダの製造方法。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method of manufacturing a magnetic head slider in which a medium facing surface of a magnetic head slider is processed into a predetermined air bearing shape by a dry etching method. A method of manufacturing a magnetic head slider, wherein the magnetic head slider is installed in a dry etching apparatus after being pasted through the substrate, and is etched.

【0011】[0011]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明による磁気ヘッドスライダの製造方
法の一例を図1を用いて説明する。まず図1(a)のよ
うにベース2にドライフィルムレジスト7を貼り付け
る。このベース2にはローの幅よりドライフィルム7の
厚みの二倍だけ幅広の溝が設けてある。ドライフィルム
レジストはここではデュポンMRC社のFRA305−
38(38μm厚)を用いたが、ネガ型のドライフィル
ムレジストであれば同様に用いることができる。また膜
厚のここに挙げた38μmに限るものではない。貼付は
ラミネータを用いて裏面の保護フィルムを剥離しながら
100゜Cに加熱したローラーにより行った。冷却後、ド
ライフィルムレジスト7の上面にある保護フィルムを剥
離し、図1(b)のようにベース2全体を80゜Cに加温
しながらロー1を配置し、さらに圧力を加えて密着、ベ
ースに設けた溝にローを落とし込む。このときロー側面
にある素子面12はベース2に設けた溝に回り込んだド
ライフィルムレジスト7の一部によって被われる。な
お、ベース2が冷えた状態で複数のロー1を載せ、整列
させた後、ベース2を加熱して密着させることも可能で
あり、治具の工夫により変更できる。
(Embodiment 1) An example of a method of manufacturing a magnetic head slider according to the present invention will be described with reference to FIG. First, a dry film resist 7 is attached to the base 2 as shown in FIG. The base 2 has a groove which is wider than the width of the row by twice the thickness of the dry film 7. The dry film resist here is FRA305- from DuPont MRC.
Although 38 (38 μm thickness) was used, a negative dry film resist can be used in the same manner. Further, the film thickness is not limited to 38 μm mentioned here. Attachment was performed with a roller heated to 100 ° C. while peeling off the protective film on the back surface using a laminator. After cooling, the protective film on the upper surface of the dry film resist 7 is peeled off, and the row 1 is placed while the entire base 2 is heated to 80 ° C. as shown in FIG. Drop the row into the groove provided in the base. At this time, the element surface 12 on the low side surface is covered by a part of the dry film resist 7 that has wrapped around the groove provided in the base 2. In addition, after a plurality of rows 1 are placed and aligned in a state where the base 2 is cooled, the base 2 can be heated and brought into close contact, and can be changed by devising a jig.

【0012】次に図1(c)のようにロー1を貼付した
ベース2の全面に紫外光を照射し、ドライフィルムレジ
スト7のうち、ロー1が貼付されていない部分を架橋さ
せる。架橋したドライフィルムレジストは架橋する前と
比較し強度が増すため、後のイオンミリング工程でベー
スを保護する効果が高まる。またドライフィルムレジス
ト7の粘着性も失われるため、取り扱いも容易になる。
Next, as shown in FIG. 1 (c), the entire surface of the base 2 to which the row 1 is attached is irradiated with ultraviolet light to cross-link the portion of the dry film resist 7 where the row 1 is not attached. Since the crosslinked dry film resist has a higher strength than before crosslinkage, the effect of protecting the base in the subsequent ion milling step is enhanced. Further, since the adhesiveness of the dry film resist 7 is also lost, the handling becomes easy.

【0013】次に、図1(d)のように再度ラミネータ
によりドライフィルムレジスト8を貼付する。このドラ
イフィルムレジスト8はABS面にキャビティを形成す
るためのマスク材となるもので、ロー1とベース2の接
着に用いたドライフィルムレジスト7と共通化すること
も可能である。むしろ、精度などの要求からドライフィ
ルムレジスト8が先に選定され、それを接着用にも用い
ることが妥当である。
Next, as shown in FIG. 1D, a dry film resist 8 is again adhered by a laminator. The dry film resist 8 serves as a mask material for forming a cavity on the ABS surface, and can be shared with the dry film resist 7 used for bonding the row 1 and the base 2. Rather, it is appropriate to select the dry film resist 8 first from the requirements of accuracy and the like, and to use it for bonding.

【0014】次に、所定のレチクルマスクを介してドラ
イフィルムレジスト8を露光し、さらに現像することに
より、図1(e)のようにパターニングする。
Next, the dry film resist 8 is exposed through a predetermined reticle mask, and is further developed to be patterned as shown in FIG.

【0015】次に、これをイオンミリング装置にセット
し、アルゴンイオンビームによりエッチングした後、ド
ライフィルム8を剥離すると、図1(f)のようにロー
1にキャビティが形成される。
Next, this is set in an ion milling apparatus, etched by an argon ion beam, and then the dry film 8 is peeled off, so that a cavity is formed in the row 1 as shown in FIG.

【0016】最後に、ローを個々のヘッドに切断するこ
とにより磁気ヘッド6が完成する(図1(g))。この
ようにして製造した磁気ヘッドスライダは、素子面のダ
メージが全く観察されなかった。
Finally, the magnetic head 6 is completed by cutting the row into individual heads (FIG. 1 (g)). In the magnetic head slider manufactured as described above, no damage on the element surface was observed.

【0017】(実施例2)続いて本発明による磁気ヘッ
ドスライダの別の製造方法の実施例として図2(a)に
示す断面を持つベースを用いた例について説明する。こ
れは保護すべき素子面が通常ローの一面のみであること
から、溝の一方の側面はローの素子面を保護するように
垂直に切り立たせ、他方は斜面として整列しやすいよう
に工夫をしたものである。ロー貼付後の様子を図2
(b)に示す。このようなベースを用いて実施例1で示
した製造方法と同様の工程により磁気ヘッドスライダー
を製造したところ、実施例1となんら変わらない、良好
な結果を得た。
(Embodiment 2) Next, as another embodiment of a method of manufacturing a magnetic head slider according to the present invention, an example using a base having a cross section shown in FIG. 2A will be described. This is because the element surface to be protected is usually only one surface of the row, so one side of the groove is vertically cut to protect the element surface of the row, and the other is devised so that it can be easily aligned as a slope. Things. Figure 2
(B). Using such a base, a magnetic head slider was manufactured by the same process as the manufacturing method shown in Example 1, and good results were obtained, which were not different from those of Example 1.

【0018】(実施例3)続いて本発明による磁気ヘッ
ドスライダの別の製造方法の実施例として図3(a)に
示す断面を持つベースを用いた例について説明する。こ
れも保護すべき素子面が通常ローの一面のみであること
から、溝の一方の側面はローの素子面を保護するように
垂直に切り立たせ、他方は斜面として整列しやすいよう
に工夫をしたものである。ロー貼付後の様子を図3
(b)に示す。このようなベースを用いて実施例1で示
した製造方法と同様の工程により磁気ヘッドスライダー
を製造したところ、実施例1となんら変わらない、良好
な結果を得た。ただしキャビティを形成するためのマス
クとするドライフィルムレジスト(図1の8に相当)を
露光する際には、エアベアリング面が水平になるよう工
夫し、さらにロー一本毎に焦点を合わせる必要があっ
た。またここではステッパなどの非接触式露光装置のみ
使うことができる。
(Embodiment 3) Next, as another embodiment of a method of manufacturing a magnetic head slider according to the present invention, an example using a base having a cross section shown in FIG. 3A will be described. Since the element surface to be protected is usually only one surface of the row, one side of the groove is vertically cut so as to protect the element surface of the row, and the other side is devised so as to be easily aligned as a slope. Things. Figure 3
(B). Using such a base, a magnetic head slider was manufactured by the same process as the manufacturing method shown in Example 1, and good results were obtained, which were not different from those of Example 1. However, when exposing a dry film resist (corresponding to 8 in FIG. 1) used as a mask for forming a cavity, it is necessary to devise an air bearing surface so that it is horizontal, and further focus on each row. there were. Here, only a non-contact type exposure apparatus such as a stepper can be used.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、異形
スライダのABS面をドライエッチング法で加工する工
程において、従来の方法でベースへローを接着した場合
と比較して、高速かつ不良発生率の少ないエッチングが
可能となり、安価で信頼性の優れた磁気ヘッドが得られ
る。
As described above, according to the present invention, in the step of processing the ABS surface of the odd-shaped slider by the dry etching method, it is faster and more defective than the case where the base is bonded to the base by the conventional method. Etching with a low incidence rate becomes possible, and a magnetic head with low cost and excellent reliability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による磁気ヘッドスライダーの製造工程
の一例を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a manufacturing process of a magnetic head slider according to the present invention.

【図2】本発明による磁気ヘッドスライダーの別の例を
示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic view showing another example of the magnetic head slider according to the present invention.

【図3】本発明による磁気ヘッドスライダーの別の例を
示す概略図である。
FIG. 3 is a schematic view showing another example of the magnetic head slider according to the present invention.

【図4】従来の方法による磁気ヘッドスライダの製造方
法を示す概略図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a method for manufacturing a magnetic head slider according to a conventional method.

【図5】従来の方法による素子面ダメージを説明する概
略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating element surface damage by a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロー 2 ベース 3 ワックス 4 レジスト 5 レジストマスク 6 磁気ヘッド 7、8 ドライフィルムレジスト 9 パッド 10 リ・スパッタ層 11 素子面 Reference Signs List 1 row 2 base 3 wax 4 resist 5 resist mask 6 magnetic head 7, 8 dry film resist 9 pad 10 re-sputtering layer 11 element surface

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ヘッドスライダのメディア対向面
を、ドライエッチング法により所定のエアーベアリング
形状に加工する磁気ヘッドスライダの製造方法であっ
て、被加工スライダをあらかじめ所定のベースにドライ
フィルムレジストを介して貼り付けた後にドライエッチ
ング装置に設置し、エッチングを行うことを特徴とする
磁気ヘッドスライダの製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic head slider in which a medium facing surface of a magnetic head slider is processed into a predetermined air bearing shape by dry etching, wherein a slider to be processed is previously mounted on a predetermined base via a dry film resist. A method for manufacturing a magnetic head slider, wherein the magnetic head slider is installed in a dry etching apparatus after performing the etching.
【請求項2】 前記ベースが被加工スライダが装填でき
る溝を備え、当該溝の側壁に回り込んだドライフィルム
レジストで前記被加工スライダのエアーベアリング面以
外の少なくとも一つの側面を被うことが可能な構造を具
備していることを特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッ
ドスライダの製造方法。
2. The base has a groove into which a slider to be processed can be loaded, and at least one side surface other than the air bearing surface of the slider to be processed can be covered with a dry film resist wrapped around a side wall of the groove. 2. The method for manufacturing a magnetic head slider according to claim 1, wherein the magnetic head slider has a simple structure.
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CN100382146C (en) * 2005-01-25 2008-04-16 日立环球储存科技荷兰有限公司 Method of manufacturing a magnetoresistive head
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