JPH10300420A - Multipoint simultaneous displacement measuring method using microlens array - Google Patents

Multipoint simultaneous displacement measuring method using microlens array

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JPH10300420A
JPH10300420A JP11203397A JP11203397A JPH10300420A JP H10300420 A JPH10300420 A JP H10300420A JP 11203397 A JP11203397 A JP 11203397A JP 11203397 A JP11203397 A JP 11203397A JP H10300420 A JPH10300420 A JP H10300420A
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microlens array
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simultaneous displacement
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理江 曽
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multipoint simultaneous displacement measuring method using a microlens array, whereby the relative positions of a multiple of points on a sample and its dynamic deformations can be measured in almost real time at the very high scanning speed of an acoustooptical deflector. SOLUTION: A laser beam passed through an acoustooptical detector 2 is converted into a parallel beam by a lens Lc 3 after being deflected by θ. Further, after the beam has transmitted through a microlens array 4, it converges on the surface of a subject 5 for measurement. Then, by controlling the input voltage Vi to the acoustooptical deflector 2, the beam can be scanned over the surface of the subject 5 for measurement. The reflected beam is guided to a focus sensor (photodetector) 7 by a beam splitter 6.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロレンズア
レーを用いた多点同時変位測定方法に関するものであ
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a multi-point simultaneous displacement measuring method using a micro lens array.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、研究、開発、製造において、変位
または変形を非接触で測定しモニタする必要のある場合
が数多く存在している。例えば、磁気記憶装置、光学的
組み立て、張力測定のような様々な分野においてその例
を見出すことができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in research, development, and manufacturing, there are many cases in which displacement or deformation needs to be measured and monitored in a non-contact manner. Examples can be found in various fields such as, for example, magnetic storage, optical assembly, tension measurement.

【0003】商業的に最も利用されている光センサーで
は、変位をオートフォーカスの原理を用いて測定してい
る。コリメートされた光ビームは表面上に収束し、顕微
鏡の対物レンズで測定される。後方散乱光は同じ対物レ
ンズで集められ、光検出器により検出される。その光検
出器からの信号は、自動フォーカス制御システムに入力
され、焦点が常に測定対象物(試料)表面にあるように
対物レンズの位置を補正する。
In the most commercially used optical sensors, displacement is measured using the principle of autofocus. The collimated light beam converges on the surface and is measured with a microscope objective. Backscattered light is collected by the same objective lens and detected by a photodetector. The signal from the photodetector is input to the automatic focus control system, and corrects the position of the objective lens so that the focus is always on the surface of the measurement object (sample).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の方法によれば、焦点の感度は非常に高いが、シ
ステムが表面の輪郭を辿って点ごとに測定するという欠
点がある。結局、表面上の3次元的情報を得るために
は、試料をxとyの平行ステージにより移動させる必要
があり、結果的に時間がかかる測定となってしまう。こ
のことにより、動的変形測定は不可能となる。
However, according to the above-mentioned conventional method, although the focus sensitivity is very high, there is a disadvantage that the system follows the contour of the surface and measures point by point. Eventually, in order to obtain three-dimensional information on the surface, the sample must be moved by the x and y parallel stages, resulting in a time-consuming measurement. This makes dynamic deformation measurements impossible.

【0005】本発明は、上記問題点を除去し、リアルタ
イムで多点位置を測定し、または変形を測定するため
に、顕微鏡の対物レンズの代わりにマイクロレンズアレ
ー(MLA)を用い、音響光学偏向器(AOD)をスキ
ャナーとして用いて、コリメートされたレーザービーム
にMLAを走査させることにより、AODの持つ非常に
速い走査速度によって、試料の多点の相対位置や変形
が、ほぼリアルタイムで測定できるマイクロレンズアレ
ーを用いた多点同時変位測定方法を提供することを目的
とする。
The present invention uses a micro-lens array (MLA) instead of an objective lens of a microscope to eliminate the above-mentioned problems, measure a multi-point position in real time, or measure deformation. By using an AOD (AOD) as a scanner and scanning the MLA with a collimated laser beam, the relative position and deformation of multiple points of the sample can be measured in almost real time by the extremely fast scanning speed of the AOD. It is an object of the present invention to provide a method for measuring multiple simultaneous displacements using a lens array.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔1〕マイクロレンズアレーを用いた多点同時変位測定
方法において、測定対象物に対向してマイクロレンズア
レーを配置し、音響光学偏向器をスキャナーとして用
い、コリメートされたレーザービームによりマイクロレ
ンズアレーを走査するようにしたものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides: [1] a multi-point simultaneous displacement measuring method using a micro-lens array, wherein a micro-lens array is arranged to face an object to be measured; Further, an acousto-optic deflector is used as a scanner, and a microlens array is scanned by a collimated laser beam.

【0007】〔2〕上記〔1〕記載のマイクロレンズア
レーを用いた多点同時変位測定方法において、前記マイ
クロレンズアレーを圧電素子によって駆動することによ
り、変位量の拡大を行うようにしたものである。 〔3〕上記〔1〕記載のマイクロレンズアレーを用いた
多点同時変位測定方法において、前記音響光学偏向器へ
の制御電圧により変移させるようにしたものである。
[2] In the method for measuring multiple displacements simultaneously using a microlens array according to the above [1], the displacement amount is enlarged by driving the microlens array by a piezoelectric element. is there. [3] The method for measuring multiple simultaneous displacements using a microlens array according to the above [1], wherein the displacement is made by a control voltage to the acousto-optic deflector.

【0008】〔4〕上記〔1〕記載のマイクロレンズア
レーを用いた多点同時変位測定方法において、前記マイ
クロレンズアレーを駆動する制御電圧と、前記音響光学
偏向器への制御電圧とを同期させて印加することによ
り、前記音響光学偏向器の速い走査速度によって、測定
対象物の多点の相対位置や変形を、リアルタイムで測定
するようにしたものである。
[4] In the multipoint simultaneous displacement measuring method using the microlens array according to [1], the control voltage for driving the microlens array and the control voltage for the acousto-optic deflector are synchronized. In this case, the relative positions and deformations of the measurement object at multiple points are measured in real time at a high scanning speed of the acousto-optic deflector.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の実施例
を示すマイクロレンズアレーを用いた多点同時変位測定
システム構成図、図2はマイクロレンズアレーの焦点位
置を測定するためのシステムのフォーカスセンサーの動
作説明図、図3はそのフォーカスセンサーにおけるフォ
ーカス状態を示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram of a multi-point simultaneous displacement measurement system using a microlens array showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of a focus sensor of a system for measuring the focal position of the microlens array. FIG. 4 is a diagram showing a focus state in the focus sensor.

【0010】これらの図に示すように、このシステム
は、He−Neレーザー光源(25mW)1、AOD
(音響光学偏向器)2、2分割光検出器11,12、圧
電素子PZT13、MLA(マイクロレンズアレー)4
から構成される。AOD2を通過したレーザー光は、θ
だけ偏向された後、レンズLC 3により平行光となる。
さらに、MLA4を透過後、測定対象物5表面上に収束
する。ここで、AOD2への入力電圧Vi を制御するこ
とにより、測定対象物5表面上を走査させることができ
るようになっている。反射光はビームスプリッター6に
よりフォーカスセンサー(光検出器)7へと導かれる。
このフォーカスセンサー7は、図2に示すように、鏡8
と二組のレンズL1 9,L2 10、2分割光検出器S1
(A,B)11,S2 (C,D)12の組み合わせから
なる。
As shown in these figures, this system comprises a He-Ne laser light source (25 mW) 1, an AOD
(Acousto-optic deflector) 2, split photodetectors 11, 12, piezoelectric element PZT13, MLA (micro lens array) 4
Consists of The laser beam that has passed through AOD2 is θ
After being deflected by only Lc 3, the light becomes parallel light by the lens L C 3.
Further, after passing through the MLA 4, it converges on the surface of the measurement object 5. Here, by controlling the input voltage V i to the AOD 2, it is possible to scan on the surface of the measurement object 5. The reflected light is guided to a focus sensor (photodetector) 7 by a beam splitter 6.
The focus sensor 7 includes a mirror 8 as shown in FIG.
When two sets of the lens L 1 9, L 2 10,2 split photodetector S 1
It consists of a combination of (A, B) 11 and S 2 (C, D) 12.

【0011】なお、光検出器7からの出力電圧Vo は、
マイクロコンピュータ20に入力されるとともに、関数
発生器21からの出力信号もマイクロコンピュータ20
に入力される。また、関数発生器21からの制御電圧V
i は、VCO(電圧制御発振器)22に入力され、AO
D2が制御される。また、関数発生器21からの制御電
圧Vpは増幅器23で増幅されて、圧電素子PZT13
が駆動される。更に、フォーカスセンサー7からの出力
信号は、マイクロコンピュータ20に入力される。
[0011] It should be noted that the output voltage V o from the optical detector 7,
While being input to the microcomputer 20, the output signal from the function generator 21 is also output to the microcomputer 20.
Is input to Also, the control voltage V from the function generator 21
i is input to a VCO (voltage controlled oscillator) 22 and AO
D2 is controlled. The control voltage V p from the function generator 21 is amplified by the amplifier 23, the piezoelectric element PZT13
Is driven. Further, an output signal from the focus sensor 7 is input to the microcomputer 20.

【0012】そして、AOD2と圧電素子PZT13と
は関数発生器21により同期をとって制御されることに
なる。図2において、フォーカスセンサー7へと導かれ
た反射光は、鏡8により一部偏向され、レンズL1 9に
より2分割光検出器S1 11上に集光させる。鏡8によ
る反射を免れた残りの光は直進し、レンズL2 10によ
り2分割光検出器S212上に集光させる。
The AOD 2 and the piezoelectric element PZT 13 are controlled by the function generator 21 in a synchronized manner. 2, reflected light is guided to the focus sensor 7 is deflected partially by a mirror 8, a lens L 1 9 is focused on the two-split photo detector S 1 11. The remaining light that has escaped the reflection by the mirror 8 travels straight, and is condensed by the lens L 2 10 on the split photodetector S 2 12.

【0013】測定対象物5が、図1に示すように、P1
の位置にあったとし、マイクロレンズの焦点をA1 とす
る。焦点がP1 上にある時、図3に示すように、光線1
は2分割光検出器S1 11,2分割光検出器S2 12上
において、図3の『オン・フォーカス』のように、2分
割光検出器S1 ,S2 の中心位置にあり、その出力差
(光量差)は0とする。いま、測定対象物5が移動し、
図1に示すP2 又はP3の位置に来たものとする。する
と、反射光はそれぞれ、図3に示すように、光線2、あ
るいは光線3のように拡散または発散する。
As shown in FIG. 1, the object 5 to be measured is P 1
And it was in position, the focal point of the microlens and A 1. When the focus is on P 1, as shown in FIG. 3, beam 1
In two-division photodetector S 1 11,2 photodetector S 2 12 on, as "on-focus" in FIG. 3, in the center position of the two-division photodetector S 1, S 2, that The output difference (light quantity difference) is set to 0. Now, the measuring object 5 moves,
And having come to the position of P 2 or P 3 shown in FIG. Then, as shown in FIG. 3, the reflected light is diffused or diverged like a light ray 2 or a light ray 3, respectively.

【0014】結果として、2分割光検出器上の光量は、
図3の『インサイド・オブ・フォーカス』又は『アウト
・オブ・フォーカス』のようになり、その光量差を用い
て、次式により焦点のずれを検知することができる。 Vo =〔(IA −IB )+(IC −ID )〕/〔IA
B +IC +ID 〕 ここで、IA ,IB ,IC ,ID は、それぞれ光検出器
A,B,C,Dに入射する光量である。
As a result, the amount of light on the two-segment photodetector is
It becomes "inside of focus" or "out of focus" in FIG. 3, and the focus shift can be detected by the following equation using the light amount difference. V o = [(I A -I B) + ( I C -I D) ] / [I A +
I B + I C + I D] Here, I A, I B, I C, I D is the amount of light respectively incident light detectors A, B, C, and D.

【0015】2点での測定を考えてみる。測定点は、図
1中A1 、A2 点の測定を考える。AOD2の制御電圧
i 、MLA4の移動を行うPZT13の制御電圧
p 、光検出器の出力電圧Vo の関係の一例を図4に示
す。AOD2の制御電圧Vi の駆動周波数をPZT13
の制御電圧Vp の駆動周波数よりも高くすることによ
り、線形補間により、光検出器7の出力電圧Vo の変化
を得ることができる。
Consider the measurement at two points. The measurement points are assumed to be measured at points A 1 and A 2 in FIG. FIG. 4 shows an example of the relationship between the control voltage V i of the AOD 2, the control voltage V p of the PZT 13 for moving the MLA 4, and the output voltage V o of the photodetector. The driving frequency of the control voltage V i of AOD2 PZT13
By higher than the driving frequency of the control voltage V p of the linear interpolation, it is possible to obtain a change in the output voltage V o of the photodetector 7.

【0016】すなわち、Vo の包絡線はそれぞれA1
2 点に対応する。焦点が測定対象物上にある時、Vp
=0になる(その時のVp をVp0とする)。A1 (ある
いはA2 )の移動がない時、Vp0の時間的変化はない。
p0の変化からマイクロレンズアレーの制御を行ってい
る圧電素子の移動量が計算でき、従って、A1 の移動量
(変位量)が測定できることになる。
That is, the envelopes of V o are A 1 ,
A corresponds to 2 points. When the focus is on the object, V p
= 0 (V p at that time is V p0 ). When there is no movement of A 1 (or A 2 ), there is no temporal change in V p0 .
The amount of movement of the piezoelectric element that controls the microlens array can be calculated from the change in V p0 , and therefore, the amount of movement (displacement) of A 1 can be measured.

【0017】ここで、部品についてその実施例を説明す
ると、AODとしては、EFLD 250(松下電気産
業株式会社製)は、2.7°の最大回折角度、75MH
zの音響中心周波数、3.5×3.5mm2 の開口径を
もつ。回折効率は90%以上である。ほぼ30mmまで
の走査領域を得るために、AODを、焦点距離700m
m、半径100mmであるレンズLの焦点に配置した。
Here, the embodiment of the component will be described. As the AOD, EFLD 250 (manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) has a maximum diffraction angle of 2.7 °, 75 MH
It has an acoustic center frequency of z and an aperture diameter of 3.5 × 3.5 mm 2 . The diffraction efficiency is 90% or more. To obtain a scan area of up to approximately 30 mm, the AOD is adjusted to a focal length of 700 m.
m, located at the focal point of a lens L having a radius of 100 mm.

【0018】MLAについて説明すると、例えば、SL
A−20(日本板硝子株製)は、イオン−交換の技術で
作製した。図5はMLAを示す図である。各マイクロレ
ンズは、0.6mm径、軸上の屈折率は、波長λ=0.
633μmに対して1.6073であり、屈折率勾配係
数A1/2 は0.8637mm-1、更に各マイクロレンズ
のロッドの長さD1 は4.3mmである。
To explain MLA, for example, SL
A-20 (manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) was produced by an ion-exchange technique. FIG. 5 is a diagram illustrating the MLA. Each microlens has a diameter of 0.6 mm and an on-axis refractive index of wavelength λ = 0.
It is 1.6073 for 633 μm, the refractive index gradient coefficient A 1/2 is 0.8637 mm −1 , and the length D 1 of each microlens rod is 4.3 mm.

【0019】以下、測定例について述べる。本発明を適
用した測定例を図6、7、8に示す。図6は測定対象物
の表面の状態(反射、乱反射)による測定結果を示す図
であり、図6(a)は反射する表面の場合、図6(b)
は乱反射する表面の場合を示しており、横軸はリニアゲ
ージにより測定された変位量(μm)、縦軸は本発明の
方法により測定された変位量(μm)を示している。
Hereinafter, measurement examples will be described. 6, 7, and 8 show measurement examples to which the present invention is applied. 6A and 6B are diagrams showing measurement results based on the state (reflection and irregular reflection) of the surface of the measurement object. FIG. 6A shows the case of a reflecting surface, and FIG.
Indicates the case of a diffusely reflecting surface, the horizontal axis indicates the displacement (μm) measured by a linear gauge, and the vertical axis indicates the displacement (μm) measured by the method of the present invention.

【0020】これらの図から明らかなように、図6
(a)と図6(b)の両者とも相関係数は0.999以
上である。リニアゲージに対するばらつきの標準偏差
は、図6(a)で、0.23μm、図6(b)で0.8
1μmである。図7は本発明の方法の再現性を示す図で
あり、図7(a)はPZT1 へ取り付けられるサンプル
(ゲージブロック)を示す図、図7(b)は各点の変位
を示す図である。図7(a)において、PZT31へゲ
ージブロック32が取り付けられている。
As is apparent from these figures, FIG.
Both (a) and FIG. 6 (b) have a correlation coefficient of 0.999 or more. The standard deviation of the variation with respect to the linear gauge is 0.23 μm in FIG. 6A and 0.8 in FIG. 6B.
1 μm. FIG. 7 is a diagram showing the reproducibility of the method of the present invention, FIG. 7 (a) is a diagram showing a sample (gauge block) attached to PZT 1 , and FIG. 7 (b) is a diagram showing displacement of each point. is there. In FIG. 7A, a gauge block 32 is attached to a PZT 31.

【0021】ここでは、測定対象物を、周波数10H
z、振幅1μmで矩形波状に加振させ、その測定を行っ
た。測定対象物上約10mm離れた2点(A1 ,A2
で測定した。MLA4の移動を行う圧電素子13の制御
電圧Vp は20Hz、AOD2の制御電圧Vi は500
Hzである。1秒間測定(A1 ,A2 それぞれにつき時
間方向20点の測定)を行っても、十分再現性が保たれ
ている。
Here, the object to be measured is set to a frequency of 10H.
The sample was vibrated in the form of a rectangular wave at z and an amplitude of 1 μm, and the measurement was performed. Two points (A 1 , A 2 ) about 10 mm apart from the object to be measured
Was measured. Control voltage V i of the control voltage V p is 20Hz, AOD2 the piezoelectric element 13 for moving the MLA4 500
Hz. Even when measurement is performed for 1 second (measurement at 20 points in the time direction for each of A 1 and A 2 ), sufficient reproducibility is maintained.

【0022】なお、A1 については、1秒間で、最下点
(0μmの位置)の標準偏差は0.1μm、最上点(1
μmの位置)のそれは0.09μmである。A2 に関し
ては、最上点、最下点ともに0.1μmである。図8は
本発明の方法による多点同時測定方法の説明図であり、
図8(a)はPZT及び固定支持体に取り付けられるサ
ンプル(ゲージブロック)を示す図、図8(b)は10
点の傾き角を示す図である。
For A 1 , the standard deviation of the lowest point (0 μm position) is 0.1 μm and the highest point (1
It is 0.09 μm. With respect to A 2, which is 0.1μm in both the uppermost point, the lowest point. FIG. 8 is an explanatory diagram of a multipoint simultaneous measurement method according to the method of the present invention.
FIG. 8A shows a sample (gauge block) attached to PZT and a fixed support, and FIG.
It is a figure showing the inclination angle of a point.

【0023】図8(a)において、41は固定支持体、
42はPZT、43はゲージブロックであり、例えば、
固定支持体41とPZT42の中心間長さL1 は、25
mm、ゲージブロック43の長さL2 は、30mmであ
る。図8(a)に示すように、30mm長さのゲージブ
ロック43の片方の端点を固定し、他の端点を10μm
の移動幅で移動させた。測定は10点で行っており、A
OD入力電圧の周波数は500Hz(1周期内10ステ
ップ)、マイクロレンズアレーの移動電圧は20Hzで
ある。従って、1点につき25点平均の測定となる。
In FIG. 8A, reference numeral 41 denotes a fixed support,
42 is a PZT, 43 is a gauge block, for example,
The length L 1 between the centers of the fixed support 41 and the PZT 42 is 25
mm, the length L 2 of the gauge block 43 is 30 mm. As shown in FIG. 8A, one end point of the gauge block 43 having a length of 30 mm is fixed, and the other end point is set to 10 μm.
Was moved with the movement width of. The measurement is performed at 10 points.
The frequency of the OD input voltage is 500 Hz (10 steps in one cycle), and the moving voltage of the microlens array is 20 Hz. Therefore, the measurement is an average of 25 points per point.

【0024】図8(b)に示すように、PZT42の最
下点と最上点における測定結果を示す。傾き角は、理論
値の0.023°に対し、0.022°が得られた。本
発明にかかるマイクロレンズアレーを用いた多点同時変
位測定方法は、レーザーディスクの製作誤差管理(検
査)などに利用できる。レーザーディスクは高速で回転
して使用されるため、その製作誤差は厳しく管理されて
おり、現在、その測定には、本発明の測定方法の基本と
なっている合焦点検出式で製品検査されている。しかし
ながら、従来、1点測定であったため、多点同時検査は
行われておらず、本発明の多点同時変位測定方法を利用
すれば多点で同時に検査が可能となる。
FIG. 8B shows the measurement results at the lowest point and the highest point of PZT42. The tilt angle was 0.022 °, compared to the theoretical value of 0.023 °. The multi-point simultaneous displacement measurement method using the microlens array according to the present invention can be used for management (inspection) of manufacturing error of a laser disk and the like. Laser discs are rotated at high speeds, so the manufacturing errors are strictly controlled.Currently, the measurement is performed by a product inspection using the focus detection method, which is the basis of the measurement method of the present invention. I have. However, conventionally, since the measurement was performed at one point, the simultaneous inspection at multiple points has not been performed. If the simultaneous displacement measurement method of multiple points of the present invention is used, the inspection can be performed at multiple points at the same time.

【0025】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible based on the spirit of the present invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、以下のような効果を奏することができる。 (A)音響光学偏向器のもつ非常に速い走査速度によっ
て、試料の多点の相対位置や動的・静的変形が、ほぼリ
アルタイムで測定できる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) Due to the extremely high scanning speed of the acousto-optic deflector, the relative positions of the sample and the dynamic and static deformation can be measured almost in real time.

【0027】(B)リアルタイムで多点位置を測定し、
または変形を測定するために、顕微鏡の対物レンズの代
わりにマイクロレンズアレー(MLA)を用い、音響光
学偏向器をスキャナーとして用いて、コリメートされた
レーザービームにMLAを走査させることができる。
(B) Measuring multipoint positions in real time,
Alternatively, to measure the deformation, a collimated laser beam can be scanned by a microlens array (MLA) instead of a microscope objective lens, using an acousto-optic deflector as a scanner.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例を示すマイクロレンズアレーを
用いた多点同時変位測定システム構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a multipoint simultaneous displacement measurement system using a microlens array showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例を示すマイクロレンズアレーの
焦点位置を測定するためのシステムにおけるフォーカス
センサー(光検出器)の動作説明図である。
FIG. 2 is an operation explanatory diagram of a focus sensor (photodetector) in a system for measuring a focal position of a microlens array according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例を示す多点同時変位測定システ
ムにおけるフォーカス状態を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a focus state in the multi-point simultaneous displacement measurement system according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例を示すAODの制御電圧Vi
MLAの移動を行うPZTの制御電圧Vp 、光検出器の
出力電圧Vo の関係の一例を示す図である。
FIG. 4 shows an AOD control voltage V i ,
Control voltage V p of PZT for moving the MLA, is a diagram showing an example of the relationship between the output voltage V o of the photodetector.

【図5】本発明の実施例を示すマイクロレンズアレーを
示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a microlens array according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例を示す測定対象物の表面の状態
(反射、乱反射)による測定結果を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a measurement result based on a surface state (reflection, irregular reflection) of a measurement object according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の方法の再現性を示す図である。FIG. 7 shows the reproducibility of the method of the present invention.

【図8】本発明の方法による多点同時測定方法の説明図
である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of a multi-point simultaneous measurement method according to the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 He−Neレーザー光源(25mW) 2 AOD(音響光学偏向器) 3 レンズLC 4 MLA(マイクロレンズアレー) 5 測定対象物 6 ビームスプリッター 7 フォーカスセンサー(光検出器) 8 鏡 9 レンズL1 10 レンズL2 11 2分割光検出器S1 12 2分割光検出器S2 13,31,42 PZT(圧電素子) 20 マイクロコンピュータ 21 関数発生器 22 VCO(電圧制御発振器) 23 増幅器 32,43 ゲージブロック 41 固定支持体1 the He-Ne laser light source (25 mW) 2 AOD (acoustooptic deflector) 3 lens L C 4 MLA (micro lens array) 5 measurement object 6 beamsplitter 7 focus sensor (photodetector) 8 mirror 9 lens L 1 10 Lens L 2 11 2-split photodetector S 1 12 2-split photodetector S 2 13,31,42 PZT (piezoelectric element) 20 Microcomputer 21 Function generator 22 VCO (Voltage-controlled oscillator) 23 Amplifier 32,43 Gauge block 41 Fixed support

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 測定対象物に対向してマイクロレンズア
レーを配置し、音響光学偏向器をスキャナーとして用い
て、コリメートされたレーザービームにより前記マイク
ロレンズアレーを走査することを特徴とするマイクロレ
ンズアレーを用いた多点同時変位測定方法。
1. A microlens array, wherein a microlens array is arranged to face an object to be measured, and the microlens array is scanned by a collimated laser beam using an acousto-optic deflector as a scanner. Multi-point simultaneous displacement measurement method using
【請求項2】 請求項1記載のマイクロレンズアレーを
用いた多点同時変位測定方法において、前記マイクロレ
ンズアレーを圧電素子によって駆動することにより、変
位量の拡大を可能にするようにしたことを特徴とするマ
イクロレンズアレーを用いた多点同時変位測定方法。
2. A multi-point simultaneous displacement measuring method using a micro-lens array according to claim 1, wherein the micro-lens array is driven by a piezoelectric element so that the displacement can be increased. A multi-point simultaneous displacement measurement method using a characteristic microlens array.
【請求項3】 請求項1記載のマイクロレンズアレーを
用いた多点同時変位測定方法において、前記音響光学偏
向器への制御電圧により変移させることを特徴とするマ
イクロレンズアレーを用いた多点同時変位測定方法。
3. A multi-point simultaneous displacement measuring method using a micro-lens array according to claim 1, wherein the displacement is performed by a control voltage to the acousto-optic deflector. Displacement measurement method.
【請求項4】 請求項1記載のマイクロレンズアレーを
用いた多点同時変位測定方法において、前記マイクロレ
ンズアレーを駆動する制御電圧と、前記音響光学偏向器
への制御電圧とを同期させて印加することにより、前記
音響光学偏向器の速い走査速度によって、測定対象物の
多点の相対位置や変形を、リアルタイムで測定すること
を特徴とするマイクロレンズアレーを用いた多点同時変
位測定方法。
4. A multi-point simultaneous displacement measuring method using a micro lens array according to claim 1, wherein a control voltage for driving said micro lens array and a control voltage for said acousto-optic deflector are applied in synchronization. A multi-point simultaneous displacement measuring method using a micro-lens array, wherein a relative position and a deformation of the multi-point of the object to be measured are measured in real time at a high scanning speed of the acousto-optic deflector.
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