JPH10287742A - ポリフェニレンオキシドおよびその製造方法 - Google Patents
ポリフェニレンオキシドおよびその製造方法Info
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- JPH10287742A JPH10287742A JP9540097A JP9540097A JPH10287742A JP H10287742 A JPH10287742 A JP H10287742A JP 9540097 A JP9540097 A JP 9540097A JP 9540097 A JP9540097 A JP 9540097A JP H10287742 A JPH10287742 A JP H10287742A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ポリフェニレンオキシドおよびその製造方法
【解決手段】下記一般式（１）で表されるポリフェニレ
ンオキシド。 一般式（１） 【化１】 （Ｒは水酸基，低級アルコキシ基、低級アルキル基を表
し、Ｑは水酸基を表し、ｎは０〜９９９の整数、ｍは１
〜１０００の整数を表し、ただしｎ＋ｍ＝５〜１０００
である。Ａは末端基を表す。）
ンオキシド。 一般式（１） 【化１】 （Ｒは水酸基，低級アルコキシ基、低級アルキル基を表
し、Ｑは水酸基を表し、ｎは０〜９９９の整数、ｍは１
〜１０００の整数を表し、ただしｎ＋ｍ＝５〜１０００
である。Ａは末端基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はポリフェニレンオキ
シドに関し、反応性ポリマー、塗膜形成材料、記録材料
用化合物、酸化防止剤、感光性ポリマー材料、インキ塗
料材料として有用なポリフェニレンオキシドに関するも
のである。
シドに関し、反応性ポリマー、塗膜形成材料、記録材料
用化合物、酸化防止剤、感光性ポリマー材料、インキ塗
料材料として有用なポリフェニレンオキシドに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ポリフェニレンオキシドの合成は、1957
年A.S.Hay により２、６−ジメチルフェノールを銅アミ
ン錯体を用いて酸化カップリングすることによってはじ
めて合成され（J.Polymer Sci.,58,581 ）、1965年にGe
neral Electric社により実用化された。しかしながら、
置換基に水酸基を有するポリフェニレンオキシドを合成
した報告例はない。
年A.S.Hay により２、６−ジメチルフェノールを銅アミ
ン錯体を用いて酸化カップリングすることによってはじ
めて合成され（J.Polymer Sci.,58,581 ）、1965年にGe
neral Electric社により実用化された。しかしながら、
置換基に水酸基を有するポリフェニレンオキシドを合成
した報告例はない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、反応性ポリ
マー、塗膜形成材料、記録材料用化合物、酸化防止剤、
感光性ポリマー材料、インキ塗料材料として有用なポリ
フェニレンオキシドに関するものである。
マー、塗膜形成材料、記録材料用化合物、酸化防止剤、
感光性ポリマー材料、インキ塗料材料として有用なポリ
フェニレンオキシドに関するものである。
【０００４】
【０００５】本発明は、下記一般式（１）で表されるポ
リフェニレンオキシドを提供する。 一般式（１）
リフェニレンオキシドを提供する。 一般式（１）
【化２】
【０００６】（式中、Ｒは水酸基，低級アルキル基、低
級アルコキシ基を表し、Ｑは水酸基を表し、ｎは０〜９
９９の整数を表し、ｍは１〜１０００の整数を表し、た
だしｎ＋ｍ＝５〜１０００である。Ａは末端基を表
す。）
級アルコキシ基を表し、Ｑは水酸基を表し、ｎは０〜９
９９の整数を表し、ｍは１〜１０００の整数を表し、た
だしｎ＋ｍ＝５〜１０００である。Ａは末端基を表
す。）
【０００７】更に本発明は、ポリフェニレンオキシドの
分子量が６２０〜１２４、０００の範囲である上記ポリ
フェニレンオキシドを提供する。
分子量が６２０〜１２４、０００の範囲である上記ポリ
フェニレンオキシドを提供する。
【０００８】更に本発明は、上記一般式（１）で表され
るポリフェニレンオキシドのＲが水酸基、又はメチル
基、あるいはメトキシ基である上記ポリフェニレンオキ
シドを提供する。
るポリフェニレンオキシドのＲが水酸基、又はメチル
基、あるいはメトキシ基である上記ポリフェニレンオキ
シドを提供する。
【０００９】更に本発明は、上記一般式（１）で表され
るポリフェニレンオキシドのＡが水素、カルボキシ基か
ら選ばれる上記ポリフェニレンオキシドを提供する。
るポリフェニレンオキシドのＡが水素、カルボキシ基か
ら選ばれる上記ポリフェニレンオキシドを提供する。
【００１０】更に本発明は、ポリフェニレンエーテルを
酸分解する上記ポリフェニレンオキシドの製造方法を提
供する。
酸分解する上記ポリフェニレンオキシドの製造方法を提
供する。
【００１１】本発明で使用されるポリフェニレンエーテ
ルは、下記の一般式（２）で表されるものが使用でき
る。 一般式（２）
ルは、下記の一般式（２）で表されるものが使用でき
る。 一般式（２）
【化３】
【００１２】（式中Ｒ1 は、低級アルキル基、又は低級
アルコキシ基を表し、ただしＲ1 のすくなくとも一個は
低級アルコキシ基である。Ｂは末端基を表し、ｋは５〜
１００００の整数を表す。）
アルコキシ基を表し、ただしＲ1 のすくなくとも一個は
低級アルコキシ基である。Ｂは末端基を表し、ｋは５〜
１００００の整数を表す。）
【００１３】一般式（２）のＲ1 で表される低級アルキ
ル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、メチルブチル基、エチルブ
チル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等がある。低級アルコキシ基
としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ
−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
ル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、メチルブチル基、エチルブ
チル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等がある。低級アルコキシ基
としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ
−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００１４】一般式（２）中、Ｂの末端基の具体例とし
ては、水素、カルボキシ基等が挙げられる。また、単量
体として使用しているフェノール類の残基であっても良
く、例えばジアルキルフェノール、ジアルコキシフェノ
ール等の残基が挙げられ、具体例としてはジメチルフェ
ノール、ジメトキシフェノール等の残基が挙げられる。
ては、水素、カルボキシ基等が挙げられる。また、単量
体として使用しているフェノール類の残基であっても良
く、例えばジアルキルフェノール、ジアルコキシフェノ
ール等の残基が挙げられ、具体例としてはジメチルフェ
ノール、ジメトキシフェノール等の残基が挙げられる。
【００１５】上記一般式（２）で表されるポリフェニレ
ンエーテルの具体例としては、ポリ（２，６−ジメトキ
シ−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジエ
トキシ−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−
ジプロポキシ−１，４−オキシフェニレン）、ポリ
（２，６−ジブトキシ−１，４−オキシフェニレン）、
ポリ（２，６−ジイソプロポキシ−１，４−オキシフェ
ニレン）、ポリ（２，６−ジイソブトキシ−１，４−オ
キシフェニレン）、ポリ（２，６−ジｓｅｃ−ブトキシ
−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジｔｅ
ｒｔ−ブトキシ−１，４−オキシフェニレン）等が挙げ
られる。
ンエーテルの具体例としては、ポリ（２，６−ジメトキ
シ−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジエ
トキシ−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−
ジプロポキシ−１，４−オキシフェニレン）、ポリ
（２，６−ジブトキシ−１，４−オキシフェニレン）、
ポリ（２，６−ジイソプロポキシ−１，４−オキシフェ
ニレン）、ポリ（２，６−ジイソブトキシ−１，４−オ
キシフェニレン）、ポリ（２，６−ジｓｅｃ−ブトキシ
−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジｔｅ
ｒｔ−ブトキシ−１，４−オキシフェニレン）等が挙げ
られる。
【００１６】また、本発明で使用されるポリフェニレン
エーテルは上記記載のポリフェニレンエーテルを含む共
重合体でも良く、具体例としては、上記ポリフェニレン
エーテルとポリ（２，６−ジメチル−１，４−オキシフ
ェニレン）、ポリ（２，６−ジエチル−１，４−オキシ
フェニレン）、ポリ（２，６−ジプロピル−１，４−オ
キシフェニレン）、ポリ（２，６−ジブチル−１，４−
オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジペンチル−１，
４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジメチルブチ
ル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジエ
チルブチル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，
６−ジイソプロピル−１，４−オキシフェニレン）、ポ
リ（２，６−ジｓｅｃ−ブチル−１，４−オキシフェニ
レン）、ポリ（２，６−ジｔｅｒｔ−ブチル−１，４−
オキシフェニレン）との共重合体が挙げられる。共重合
体はランダム共重合体であってもブロック共重合体であ
ってもよい。
エーテルは上記記載のポリフェニレンエーテルを含む共
重合体でも良く、具体例としては、上記ポリフェニレン
エーテルとポリ（２，６−ジメチル−１，４−オキシフ
ェニレン）、ポリ（２，６−ジエチル−１，４−オキシ
フェニレン）、ポリ（２，６−ジプロピル−１，４−オ
キシフェニレン）、ポリ（２，６−ジブチル−１，４−
オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジペンチル−１，
４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジメチルブチ
ル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジエ
チルブチル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，
６−ジイソプロピル−１，４−オキシフェニレン）、ポ
リ（２，６−ジｓｅｃ−ブチル−１，４−オキシフェニ
レン）、ポリ（２，６−ジｔｅｒｔ−ブチル−１，４−
オキシフェニレン）との共重合体が挙げられる。共重合
体はランダム共重合体であってもブロック共重合体であ
ってもよい。
【００１７】本発明で使用されるポリフェニレンエーテ
ルは、たとえば酵素触媒を用いてシリンガ酸や４−ヒド
ロキシ−３、５−ジメチル安息香酸より合成することが
できる（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２９，３０５
３，１９９６）。あるいは、２、６ジメトキシフェノー
ルより銅−アミン触媒を用いて低温下あるいは電解重合
により合成することができる（Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓ
ｃｉ．，４，４９６、１９７７）。
ルは、たとえば酵素触媒を用いてシリンガ酸や４−ヒド
ロキシ−３、５−ジメチル安息香酸より合成することが
できる（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２９，３０５
３，１９９６）。あるいは、２、６ジメトキシフェノー
ルより銅−アミン触媒を用いて低温下あるいは電解重合
により合成することができる（Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓ
ｃｉ．，４，４９６、１９７７）。
【００１８】本発明で使用されるポリフェニレンエーテ
ルの分子量は特に制限はなく、分子量６２０〜１２４、
０００のものを用いることができるが、分子量５００〜
５０、０００のものを使用することが好ましい。
ルの分子量は特に制限はなく、分子量６２０〜１２４、
０００のものを用いることができるが、分子量５００〜
５０、０００のものを使用することが好ましい。
【００１９】本発明におけるポリフェニレンエーテルを
酸分解するポリフェニレンオキシドの製造において使用
する溶媒は、水系や、アプロチックな極性溶媒としては
アセトン、アセトニトリル、ニトロメタン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、、ニトロベンゼ
ン、クロロベンゼン、ジメチルアセトアミド、スルホラ
ンなどがあり、非極性溶媒としてはトルエン、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、ベンゼンなどがある。また、
場合によってはメタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール性溶媒や酢酸等の酸性溶媒を用いる
こともできる。また、ジオキサンやテトラヒドロフラ
ン、イソプロピルエーテル、エーテルなどのエーテル系
溶媒を用いることもできる。また、コリジンやエタンチ
オールを用いることもでき、さらにはこれらの混合溶剤
として使用することもできる。
酸分解するポリフェニレンオキシドの製造において使用
する溶媒は、水系や、アプロチックな極性溶媒としては
アセトン、アセトニトリル、ニトロメタン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、、ニトロベンゼ
ン、クロロベンゼン、ジメチルアセトアミド、スルホラ
ンなどがあり、非極性溶媒としてはトルエン、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、ベンゼンなどがある。また、
場合によってはメタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール性溶媒や酢酸等の酸性溶媒を用いる
こともできる。また、ジオキサンやテトラヒドロフラ
ン、イソプロピルエーテル、エーテルなどのエーテル系
溶媒を用いることもできる。また、コリジンやエタンチ
オールを用いることもでき、さらにはこれらの混合溶剤
として使用することもできる。
【００２０】本発明におけるポリフェニレンエーテルを
酸分解するポリフェニレンオキシドの製造において使用
する触媒としては臭化水素、ヨウ化水素等のプロトン酸
系触媒、ルイス酸系触媒としてはアルミニウムやホウ素
のハロゲン化物があるが臭化物を用いるのが好ましい。
無機系触媒としては、水酸化ナトリウム等のアルカリ金
属化合物を、また、液体アンモニウムやピリジン中ナト
リウム金属を用いることもできる。例えばジフェニルリ
ン化リチウム、ＮａＳＴｅ、ＮａＣＮ、ヨウ化リチウ
ム、ジメチル臭化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化ホウ
素、塩化アルミ、クロロトリメチルシランを用いるのが
好ましく、比較的穏和に収率良くアルコキシ基を水酸基
に変換するには三臭化ホウ素の使用がとくに好ましい。
酸分解するポリフェニレンオキシドの製造において使用
する触媒としては臭化水素、ヨウ化水素等のプロトン酸
系触媒、ルイス酸系触媒としてはアルミニウムやホウ素
のハロゲン化物があるが臭化物を用いるのが好ましい。
無機系触媒としては、水酸化ナトリウム等のアルカリ金
属化合物を、また、液体アンモニウムやピリジン中ナト
リウム金属を用いることもできる。例えばジフェニルリ
ン化リチウム、ＮａＳＴｅ、ＮａＣＮ、ヨウ化リチウ
ム、ジメチル臭化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化ホウ
素、塩化アルミ、クロロトリメチルシランを用いるのが
好ましく、比較的穏和に収率良くアルコキシ基を水酸基
に変換するには三臭化ホウ素の使用がとくに好ましい。
【００２１】本発明のポリフェニレンオキシドの具体例
としては、ポリ（２、６−ジヒドロキシ−１，４−オキ
シフェニレン）を挙げることが出来る。また、本発明の
ポリフェニレンエーテルは上記記載のポリフェニレンオ
キシドを含む共重合体でも良く、具体例としては、上記
ポリフェニレンエーテルとポリ（２，６−ジメチル−
１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジエチル
−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジプロ
ピル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジ
ブチル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−
ジイソプロピル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ
（２，６−ジｓｅｃ−ブチル−１，４−オキシフェニレ
ン）、ポリ（２，６−ジｔｅｒｔ−ブチル−１，４−オ
キシフェニレン）との共重合体が挙げられる。
としては、ポリ（２、６−ジヒドロキシ−１，４−オキ
シフェニレン）を挙げることが出来る。また、本発明の
ポリフェニレンエーテルは上記記載のポリフェニレンオ
キシドを含む共重合体でも良く、具体例としては、上記
ポリフェニレンエーテルとポリ（２，６−ジメチル−
１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジエチル
−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジプロ
ピル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−ジ
ブチル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ（２，６−
ジイソプロピル−１，４−オキシフェニレン）、ポリ
（２，６−ジｓｅｃ−ブチル−１，４−オキシフェニレ
ン）、ポリ（２，６−ジｔｅｒｔ−ブチル−１，４−オ
キシフェニレン）との共重合体が挙げられる。
【００２２】本発明におけるポリフェニレンエーテルを
酸分解するポリフェニレンオキシドの製造において、ポ
リフェニレンエーテルを含む溶液に三臭化ホウ素あるい
は三臭化ホウ素を含む溶液を混合する際は、反応に伴っ
て生じる発熱を抑制する目的でポリフェニレンエーテル
を含む溶液を例えば−７８度に冷却して用いても良い。
酸分解するポリフェニレンオキシドの製造において、ポ
リフェニレンエーテルを含む溶液に三臭化ホウ素あるい
は三臭化ホウ素を含む溶液を混合する際は、反応に伴っ
て生じる発熱を抑制する目的でポリフェニレンエーテル
を含む溶液を例えば−７８度に冷却して用いても良い。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例−１）ポリ（２、６−ジメトキシ−１、４−オ
キシフェニレン）（１）２ｇ（ポリマーユニットに対し
て１３．４ｍｍｏｌ）を８０ｍｌのジクロロメタンに溶
解し、−７８度に冷却した。これに１．０モル濃度とし
た三臭化ホウ素のジクロロエタン溶液３８ｍｌ（３８ｍ
ｍｏｌ）をかきまぜながら滴下し、一夜室温でかきまぜ
た。反応液を多量の氷水に注入して生成する沈殿物を回
収し乾燥した。このものをアセトンに溶解し、多量のク
ロロホルムに注入して生成する沈殿物を回収し乾燥して
目的物１．６６ｇ（収率１００％）を得た。出発物質で
あるポリ（２、６−ジメトキシ−１、４−オキシフェニ
レン）（１）のプロトンＮＭＲスペクトルを図１に示
す。生成物であるポリ（２、６−ジヒドロキシ−１、４
−オキシフェニレン）（２）のプロトンＮＭＲスペクト
ルを図２に示す。出発物質のプロトンＮＭＲスペクトル
では、６．２ｐｐｍ（フェニルプロトン）と３．６ｐｐ
ｍ（メチルプロトン）の２つのピークが観察された（図
１：ピークＡ，Ｂ）。生成物のプロトンＮＭＲスペクト
ルでは、９．２ｐｐｍ（ヒドロキシプロトン）と５．９
ｐｐｍ（フェニルプロトン）に新たにピークが観測され
た（図２：ピークＣ，Ｄ）。ピークＡとＤの積分比よ
り、メトキシ基の水酸基への転化率は９３％と計算され
た。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例−１）ポリ（２、６−ジメトキシ−１、４−オ
キシフェニレン）（１）２ｇ（ポリマーユニットに対し
て１３．４ｍｍｏｌ）を８０ｍｌのジクロロメタンに溶
解し、−７８度に冷却した。これに１．０モル濃度とし
た三臭化ホウ素のジクロロエタン溶液３８ｍｌ（３８ｍ
ｍｏｌ）をかきまぜながら滴下し、一夜室温でかきまぜ
た。反応液を多量の氷水に注入して生成する沈殿物を回
収し乾燥した。このものをアセトンに溶解し、多量のク
ロロホルムに注入して生成する沈殿物を回収し乾燥して
目的物１．６６ｇ（収率１００％）を得た。出発物質で
あるポリ（２、６−ジメトキシ−１、４−オキシフェニ
レン）（１）のプロトンＮＭＲスペクトルを図１に示
す。生成物であるポリ（２、６−ジヒドロキシ−１、４
−オキシフェニレン）（２）のプロトンＮＭＲスペクト
ルを図２に示す。出発物質のプロトンＮＭＲスペクトル
では、６．２ｐｐｍ（フェニルプロトン）と３．６ｐｐ
ｍ（メチルプロトン）の２つのピークが観察された（図
１：ピークＡ，Ｂ）。生成物のプロトンＮＭＲスペクト
ルでは、９．２ｐｐｍ（ヒドロキシプロトン）と５．９
ｐｐｍ（フェニルプロトン）に新たにピークが観測され
た（図２：ピークＣ，Ｄ）。ピークＡとＤの積分比よ
り、メトキシ基の水酸基への転化率は９３％と計算され
た。
【００２４】出発物質であるポリ（２、６−ジメトキシ
−１、４−オキシフェニレン）（１）のＩＲスペクトル
では、Ｃ−Ｈ振動に由来する２９４０ｃｍ−１の吸収、
メトキシ基のＣ−Ｏ振動に由来する１２１８ｃｍ−１の
吸収が観測されたが、生成物であるポリ（２、６−ジヒ
ドロキシ−１、４−オキシフェニレン）（２）では、こ
れらのピークはほとんど消失し、新たにフェノール性水
酸基に由来する３４００ｃｍ−１の吸収が出現した。
−１、４−オキシフェニレン）（１）のＩＲスペクトル
では、Ｃ−Ｈ振動に由来する２９４０ｃｍ−１の吸収、
メトキシ基のＣ−Ｏ振動に由来する１２１８ｃｍ−１の
吸収が観測されたが、生成物であるポリ（２、６−ジヒ
ドロキシ−１、４−オキシフェニレン）（２）では、こ
れらのピークはほとんど消失し、新たにフェノール性水
酸基に由来する３４００ｃｍ−１の吸収が出現した。
【００２５】ポリ（２、６−ジメトキシ−１、４−オキ
シフェニレン）（１）とポリ（２、６−ジヒドロキシ−
１、４−オキシフェニレン）（２）の分子量をＭＡＬＤ
Ｉ−飛行時間型質量分析計（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦマス）
を用いて測定した。 ポリ（２、６−ジメトキシ−１、
４−オキシフェニレン）（１）の分子量は、１０、００
０、 ポリ（２、６−ジヒドロキシ−１、４−オキシフェ
ニレン）（２）の分子量は、８、２００（計算値８、３
００）であった。これらの結果は、メトキシ基の酸分解
反応においてポリ（１、４−オキシフェニレン）ユニッ
トのエーテル結合が開裂していないことを示している。 元素分析 Ｃ6.14Ｈ4.28Ｏ3 ・１. １Ｈ２O （Ｃ、５０．４７％；
Ｈ、４．３０％ 計算値Ｃ、５０．５４％；Ｈ. ４．４
５％） プロトンＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ６）を図２に示した。 赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ；３４００（νＯ−Ｈ）、
１６２０、１５１５、１４５０（νＣ＝Ｃ）芳香族、１
１７５（νＣ（芳香族）−Ｏ−Ｃ（芳香族））、１０５
４ｃｍ−１( νＣ−ＯＨ））。 13Ｃ ＮＭＲ（アセトンｄ６） １５６．７ｐｐｍ（ポリマー１のＣ４）、１５６．５ｐ
ｐｍ（ポリマー２のＣ４）、１５２．６ｐｐｍ（ポリマ
ー１のＣ２）、１５１．３ｐｐｍ（ポリマー２のＣ
２）、１２５．６ｐｐｍ（ポリマー１のＣ１）、１２
４．８ｐｐｍ（ポリマー２のＣ１）、９５．２ｐｐｍ
（ポリマー２のＣ３）、９２．８ｐｐｍ（ポリマー２の
Ｃ３）、５５．６ｐｐｍ（ポリマー１のメトキシ炭
素）。 これらの分析結果から、生成物がポリ（２、６−ジヒド
ロキシ−１、４−オキシフェニレン）（２）の化学構造
を持つものであることを確証した。
シフェニレン）（１）とポリ（２、６−ジヒドロキシ−
１、４−オキシフェニレン）（２）の分子量をＭＡＬＤ
Ｉ−飛行時間型質量分析計（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦマス）
を用いて測定した。 ポリ（２、６−ジメトキシ−１、
４−オキシフェニレン）（１）の分子量は、１０、００
０、 ポリ（２、６−ジヒドロキシ−１、４−オキシフェ
ニレン）（２）の分子量は、８、２００（計算値８、３
００）であった。これらの結果は、メトキシ基の酸分解
反応においてポリ（１、４−オキシフェニレン）ユニッ
トのエーテル結合が開裂していないことを示している。 元素分析 Ｃ6.14Ｈ4.28Ｏ3 ・１. １Ｈ２O （Ｃ、５０．４７％；
Ｈ、４．３０％ 計算値Ｃ、５０．５４％；Ｈ. ４．４
５％） プロトンＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ６）を図２に示した。 赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ；３４００（νＯ−Ｈ）、
１６２０、１５１５、１４５０（νＣ＝Ｃ）芳香族、１
１７５（νＣ（芳香族）−Ｏ−Ｃ（芳香族））、１０５
４ｃｍ−１( νＣ−ＯＨ））。 13Ｃ ＮＭＲ（アセトンｄ６） １５６．７ｐｐｍ（ポリマー１のＣ４）、１５６．５ｐ
ｐｍ（ポリマー２のＣ４）、１５２．６ｐｐｍ（ポリマ
ー１のＣ２）、１５１．３ｐｐｍ（ポリマー２のＣ
２）、１２５．６ｐｐｍ（ポリマー１のＣ１）、１２
４．８ｐｐｍ（ポリマー２のＣ１）、９５．２ｐｐｍ
（ポリマー２のＣ３）、９２．８ｐｐｍ（ポリマー２の
Ｃ３）、５５．６ｐｐｍ（ポリマー１のメトキシ炭
素）。 これらの分析結果から、生成物がポリ（２、６−ジヒド
ロキシ−１、４−オキシフェニレン）（２）の化学構造
を持つものであることを確証した。
【００２６】（実施例−２）実施例１と同様の方法によ
り下記化学構造式で示される共重合体中のメトキシ基の
酸分解をおこなった。共重合体は、ジメトキシオキシフ
ェニレンユニットが４６％、ジメチルオキシフェニレン
ユニットが５４％のものを用いた。共重合体の平均分子
量は２６００のものを用いた。生成物は９０％以上の収
率で得られた。生成物のプロトンＮＭＲを測定したとこ
ろ６. １〜６. ２ｐｐｍに観測されるジメトキシオキシ
フェニレンユニットの芳香族プロトンおよび３. ７ｐｐ
ｍのメトキシプロトンのピークがほとんど減少した。こ
のことは、メトキシ基が減少し水酸基へ変換されている
ことを証明している。プロトンＮＭＲより計算したメト
キシ基の水酸基への転化率は９７％であった。 プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：６. ４ｐｐｍ（ジメチ
ルオキシフェニレンユニットの芳香族プロトン）、６.
１ｐｐｍ（ジメトキシオキシフェニレンユニットの芳香
族プロトン）、３. ７ｐｐｍ（メトキシ）、２. １ｐｐ
ｍ（メチル）
り下記化学構造式で示される共重合体中のメトキシ基の
酸分解をおこなった。共重合体は、ジメトキシオキシフ
ェニレンユニットが４６％、ジメチルオキシフェニレン
ユニットが５４％のものを用いた。共重合体の平均分子
量は２６００のものを用いた。生成物は９０％以上の収
率で得られた。生成物のプロトンＮＭＲを測定したとこ
ろ６. １〜６. ２ｐｐｍに観測されるジメトキシオキシ
フェニレンユニットの芳香族プロトンおよび３. ７ｐｐ
ｍのメトキシプロトンのピークがほとんど減少した。こ
のことは、メトキシ基が減少し水酸基へ変換されている
ことを証明している。プロトンＮＭＲより計算したメト
キシ基の水酸基への転化率は９７％であった。 プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：６. ４ｐｐｍ（ジメチ
ルオキシフェニレンユニットの芳香族プロトン）、６.
１ｐｐｍ（ジメトキシオキシフェニレンユニットの芳香
族プロトン）、３. ７ｐｐｍ（メトキシ）、２. １ｐｐ
ｍ（メチル）
【００２７】
【化４】
【発明の効果】本発明によれば、ポリフェニレンエーテ
ルの酸分解により水酸基を側鎖に有する新規ポリフェニ
レンオキシドが容易にかつ高収率で得られる。このと
き、ポリマー中の全側鎖に占める水酸基の割合は１〜１
００％の間で自由に設定でき、材料設計が容易である利
点がある。ポリフェニレンオキシドは、主鎖構造がオキ
シフェニレン骨格であるために耐熱性や機械的強度など
に優れておりエンジニアリングプラスチックとして有用
である。また、水酸基の反応性を利用して架橋反応や修
飾などが容易に行えるため、塗膜形成材料、記録材料用
化合物、酸化防止剤、感光性ポリマー材料、インキ塗料
材料に有用である。
ルの酸分解により水酸基を側鎖に有する新規ポリフェニ
レンオキシドが容易にかつ高収率で得られる。このと
き、ポリマー中の全側鎖に占める水酸基の割合は１〜１
００％の間で自由に設定でき、材料設計が容易である利
点がある。ポリフェニレンオキシドは、主鎖構造がオキ
シフェニレン骨格であるために耐熱性や機械的強度など
に優れておりエンジニアリングプラスチックとして有用
である。また、水酸基の反応性を利用して架橋反応や修
飾などが容易に行えるため、塗膜形成材料、記録材料用
化合物、酸化防止剤、感光性ポリマー材料、インキ塗料
材料に有用である。
【図１】ポリ（２、６−ジメトキシ−１、４−オキシフ
ェニレン）のプロトンＮＭＲスペクトルチャート
ェニレン）のプロトンＮＭＲスペクトルチャート
【図２】ポリ（２、６−ジヒドロキシ−１、４−オキシ
フェニレン）のプロトンＮＭＲスペクトルチャート
フェニレン）のプロトンＮＭＲスペクトルチャート
Claims (5)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるポリフェニ
レンオキシド。 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒは水酸基，低級アルキル基、低級アルコキシ
基を表し、Ｑは水酸基を表し、ｎは０〜９９９の整数を
表し、ｍは１〜１０００の整数を表し、ただしｎ＋ｍ＝
５〜１０００である。Ａは末端基を表す。） - 【請求項２】 ポリフェニレンオキシドの分子量が６２
０〜１２４、０００の範囲である請求項１記載のポリフ
ェニレンオキシド。 - 【請求項３】 一般式（１）のＲが水酸基、メチル基、
メトキシ基である請求項１記載のポリフェニレンオキシ
ド。 - 【請求項４】 一般式（１）のＡが水素、カルボキシ基
である請求項１記載のポリフェニレンオキシド。 - 【請求項５】 ポリフェニレンエーテルを酸分解する請
求項１記載のポリフェニレンオキシドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9540097A JPH10287742A (ja) | 1997-04-14 | 1997-04-14 | ポリフェニレンオキシドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9540097A JPH10287742A (ja) | 1997-04-14 | 1997-04-14 | ポリフェニレンオキシドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10287742A true JPH10287742A (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=14136621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9540097A Pending JPH10287742A (ja) | 1997-04-14 | 1997-04-14 | ポリフェニレンオキシドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10287742A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006290989A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂硬化剤及びエポキシ樹脂硬化物、並びにポリフェノールの製造方法 |
| WO2011084176A1 (en) * | 2009-12-17 | 2011-07-14 | 3M Innovative Properties Company | Plastic pressure vessel for biopharmaceutical applications and methods thereof |
-
1997
- 1997-04-14 JP JP9540097A patent/JPH10287742A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006290989A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂硬化剤及びエポキシ樹脂硬化物、並びにポリフェノールの製造方法 |
| WO2011084176A1 (en) * | 2009-12-17 | 2011-07-14 | 3M Innovative Properties Company | Plastic pressure vessel for biopharmaceutical applications and methods thereof |
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