JPH10282424A - Light irradiating device - Google Patents

Light irradiating device

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Publication number
JPH10282424A
JPH10282424A JP9423397A JP9423397A JPH10282424A JP H10282424 A JPH10282424 A JP H10282424A JP 9423397 A JP9423397 A JP 9423397A JP 9423397 A JP9423397 A JP 9423397A JP H10282424 A JPH10282424 A JP H10282424A
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JP
Japan
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light
entrance
optical system
mirror
light beam
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9423397A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Ogose
満 生越
Yasuyuki Miyauchi
康行 宮内
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate to irradiate many objects with a light rays of the same wavelength, to lower the cost of a device and to make a whole system compact by efficiently irradiating plural objects with one light beam. SOLUTION: This device comprises an entrance port 2 having an entrance optical axis 2A in the fixed direction and an entrance optical axis 3A intersecting the entrance optical axis 2A and orienting to an irradiating object 21, is provided with an exit optical system 3 arranged in the direction of the entrance optical axis 2A and an mirror 5 arranged on the entrance optical axis 2A and reflecting/introducing the incident light rays being made incident from the entrance port 2 to the respective exit optical systems 3 and composed of a partial mirror, reflecting/introducing a part of light rays from the entrance port 2 to the relevant exit optical system 3 and transmitting a remaining light rays through it toward a mirror 5 in the next stage, as all mirrors 5 except a mirror 5E in the final stage located farthest from the entrance port 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光照射装置に関
し、特に、1本の光線を複数の照射対象に対して効率よ
く照射させるようにした光照射装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light irradiating apparatus, and more particularly to a light irradiating apparatus that efficiently irradiates a single light beam to a plurality of irradiation objects.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、研究試料(照射対象)にレーザ
光などを照射する場合、同一波長のレーザ光を複数の試
料に同時に照射することを必要とするときがあるが、従
来では、これに適した光照射装置は見当たらず、各試料
ごとにレーザ発生装置等の光照射装置を配置させること
で対応しているにすぎない。
2. Description of the Related Art For example, when a research sample (irradiation target) is irradiated with laser light or the like, it is sometimes necessary to simultaneously irradiate a plurality of samples with laser light of the same wavelength. No suitable light irradiating device is found, and only a light irradiating device such as a laser generator is arranged for each sample.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、各試料ごとに
レーザ発生装置等を配置させたのでは、試料が多数とな
る場合に、その試料数に対応したレーザ発生装置が必要
となるため、各レーザ発生装置等からの光線を同一波長
にし、さらに照射に適した強度分布にする調整が面倒で
あり、しかも多数のレーザ発生装置等を必要とすること
からコストの点で不利であり、またシステム全体が大型
化するためスペース効率の点で好ましくない。
However, arranging a laser generator or the like for each sample requires a laser generator corresponding to the number of samples when the number of samples is large. It is troublesome to adjust the light beams from laser generators to have the same wavelength and further to make the intensity distribution suitable for irradiation, and it is disadvantageous in terms of cost because many laser generators are required. Since the whole becomes large, it is not preferable in terms of space efficiency.

【0004】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、1本の光線を複数の照射対象に効率よく照射させる
ことにより、多数の照射対象への同一波長光線の照射を
容易とし、コストの低減及びシステム全体のコンパクト
化を図り、例えば生物学的研究試料にレーザ光を照射す
るシステムに適用するのに好適な光照射装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and irradiates a single light beam to a plurality of irradiation targets efficiently, thereby facilitating irradiation of a large number of irradiation targets with light beams of the same wavelength, thereby reducing costs. It is an object of the present invention to provide a light irradiation device suitable for applying to a system for irradiating a biological research sample with laser light, for example, by reducing the number of components and making the whole system compact.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決して、か
かる目的を達成するために、請求項1に係る光照射装置
では、一定方向の入射光軸を持つ入射口と、前記入射光
軸と交差しかつ照射対象群のそれぞれに向いた出射光軸
を持ち、入射光軸方向にわたり配列された複数の出射光
学系と、前記入射光軸上に位置させて各出射光学系毎に
配列され、入射口より入射された光線を各出射光学系に
反射導入するミラーとを備え、前記入射口から最遠の位
置にある最終段のミラーを除く全ミラーとして、入射口
からの光線の一部を、該当する出射光学系に向けて反射
導入させ、かつ残りの光線を次段のミラーに向けて透過
するパーシャルミラーが用いられる構成が採用される。
請求項2に係る光照射装置では、前記パーシャルミラー
の透過率を、全出射光学系に光線を均等に分割するよう
に、入射口に近い側から遠い側に向けて段階的に変化さ
せる技術が適用される。請求項3記載の光照射装置で
は、前記出射光学系に、通過する光線の強さを通過面内
で均一化する均一化光学系が含まれている技術が適用さ
れる。請求項4記載の光照射装置では、前記出射光学系
に、照射対象に対する光線の照射領域の大きさを調整す
る照射領域調整レンズ系が含まれている技術が適用され
る。請求項5記載の光照射装置では、前記入射口より入
射される光線がレーザ光である技術が適用される。請求
項6記載の光照射装置では、一つの照射対象群に対応さ
せて、前記入射口を複数設けるとともにこれら入射口ご
とに出射光学系列を形成させ、該照射対象群の中の1個
の照射対象に対し、各入射口からの光線をそれぞれの各
出射光学系列から照射させる技術が適用される。
In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the above object, a light irradiation apparatus according to the first aspect comprises an entrance having an incident optical axis in a certain direction; A plurality of emission optical systems having an emission optical axis crossing and directed to each of the irradiation target groups, arranged in the direction of the incident optical axis, and arranged for each emission optical system positioned on the incident optical axis. A mirror that reflects and introduces a light beam incident from the entrance to each of the exit optical systems, and a part of the light beam from the entrance as the entire mirror except for the last mirror located farthest from the entrance. Is reflected and introduced toward the corresponding output optical system, and a partial mirror that transmits the remaining light toward the next mirror is used.
In the light irradiation device according to claim 2, a technique of changing the transmittance of the partial mirror stepwise from the side closer to the entrance to the side farther from the side closer to the entrance so as to evenly divide the light beam into the entire exit optical system. Applied. According to a third aspect of the present invention, in the light irradiation apparatus, a technique is used in which the emission optical system includes a uniformizing optical system that equalizes the intensity of a passing light beam in a passing plane. According to a fourth aspect of the present invention, in the light irradiation apparatus, a technique is employed in which the emission optical system includes an irradiation area adjustment lens system that adjusts a size of an irradiation area of a light beam with respect to an irradiation target. In the light irradiation device according to the fifth aspect, a technique is employed in which a light beam incident from the entrance is a laser beam. 7. The light irradiation device according to claim 6, wherein a plurality of said entrances are provided in correspondence with one irradiation target group, and an emission optical system is formed for each of said entrances. A technique of irradiating a target with a light beam from each entrance from each output optical system is applied.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光照射装置の
実施形態について、図1及び図2を参照して説明する。
この光照射装置は、研究試料(照射対象)にレーザ光を
照射するシステムにおいて、レーザ発生装置から伝送さ
れたレーザ光を試料に照射する末端部分に設置された装
置である。このシステムは、多数の研究試料に対して、
レーザ光をそれぞれ照射する機能を有する。そして、一
つの光照射装置には、標準波長のレーザ光が固定的に導
入されると共に、標準波長以外の波長のレーザ光が2種
類まで選択的に導入可能となっており、これらのレーザ
光を試料に同時に照射させるようにしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a light irradiation device according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
This light irradiation device is a device that is installed at a terminal portion that irradiates a laser beam transmitted from a laser generator to a sample in a system that irradiates a laser beam to a research sample (irradiation target). This system is used for many research samples.
It has a function of irradiating laser light. In addition, laser light having a standard wavelength is fixedly introduced into one light irradiation device, and up to two types of laser light having a wavelength other than the standard wavelength can be selectively introduced. Are simultaneously irradiated on the sample.

【0007】ただし、本発明に係る光照射装置は、研究
試料への光照射用として用いることに限定されず、多数
の照射対象に対して同一波長の光線を照射する他の装置
にも利用可能であり、さらには、導入される光線として
レーザ光に限定するものではなく、例えばキセノンラン
プを分光した後の一光線が導入されるものであってもよ
い。
However, the light irradiating apparatus according to the present invention is not limited to use for irradiating a research sample with light, but can be applied to other apparatuses for irradiating a large number of irradiation targets with a light beam of the same wavelength. Further, the light beam to be introduced is not limited to a laser beam, but may be a beam to be introduced after, for example, splitting a xenon lamp.

【0008】図1は、実施形態の光照射装置Mのうちの
標準波長用のレーザ光が導入される一つの出射光学系列
M1を示す正面図であり、図2は、同光照射装置Mの側
面図である。この光照射装置Mは、試料ホルダ20内の
10個の試料(照射対象)21に向かって対向配置され
ており、図2に示すように、標準波長用の出射光学系列
M1と、他の選択波長用の2つの出射光学系列M2、M
3とからなる。全部の出射光学系列M1、M2、M3
は、入射されるレーザ光の波長が異なるだけで、略同じ
構成のものである。なお、選択波長用の出射光学系列
は、より多数(3列以上)設置することも可能である。
FIG. 1 is a front view showing one emission optical system M1 into which a laser beam for a standard wavelength is introduced, of the light irradiation device M of the embodiment, and FIG. It is a side view. The light irradiation device M is disposed facing ten samples (irradiation targets) 21 in the sample holder 20, and as shown in FIG. 2, an emission optical system M1 for a standard wavelength and another selection light. Two output optical series M2, M for wavelength
3 All outgoing optical systems M1, M2, M3
Have substantially the same configuration except that the wavelength of the incident laser beam is different. It should be noted that a larger number (three or more rows) of output optical systems for the selected wavelengths can be provided.

【0009】代表して標準波長用の出射光学系列M1に
基づく光照射装置Mについて図1を参照しながら説明す
る。この光照射装置Mは、長辺方向をX方向、短辺方向
をY方向とする長方形状のベース1を有する。ベース1
のX方向の一端面の上部には、入射側の光伝送路端より
なる入射口2が、入射光軸2AをX方向に向けて設けら
れている。この入射口2からはレーザ光が入射される。
A light irradiation apparatus M based on the emission optical system M1 for the standard wavelength will be described with reference to FIG. The light irradiation device M has a rectangular base 1 with the long side direction being the X direction and the short side direction being the Y direction. Base 1
Above one end surface in the X direction, an entrance 2 formed by an optical transmission path end on the incident side is provided with the incident optical axis 2A directed in the X direction. Laser light is incident from the entrance 2.

【0010】また、ベース1のX方向には、入射口2に
近い側から遠い側に向けて、入射光軸2A方向にわたり
出射光学系3が一定間隔で10個配列され、出射光学系
列M1を構成している。各出射光学系3は、入射光軸2
Aと交差するY方向の出射光軸3Aをそれぞれに持って
いる。
In the X direction of the base 1, ten outgoing optical systems 3 are arranged at regular intervals in the direction of the incident optical axis 2A from the side closer to the entrance 2 to the side farther from the entrance 2, and the outgoing optical system M1 is arranged. Make up. Each of the exit optical systems 3 includes an incident optical axis 2
Each has an output optical axis 3A in the Y direction that intersects A.

【0011】また、入射光軸2A上には、各出射光学系
3毎にミラー5が一列に配列されている。これらミラー
5は、入射口2より入射されたレーザ光を各出射光学系
3に反射導入するためのもので、X方向及びY方向に対
して45度の角度をもって配されている。
On the incident optical axis 2A, mirrors 5 are arranged in a line for each output optical system 3. These mirrors 5 are for reflecting and introducing the laser beam incident from the entrance 2 to the respective exit optical systems 3, and are arranged at an angle of 45 degrees with respect to the X and Y directions.

【0012】前記ミラー5のうち、入射口2から最遠の
位置にある最終段のミラー5Eを除く全ミラー5は、パ
ーシャルミラーにより構成されており、入射口2からの
光線の一部を、該当する出射光学系3に向けて反射導入
し、かつ残りの光線を次段のミラー5に向けて透過する
ようになっている。
All of the mirrors 5 except the last-stage mirror 5E located farthest from the entrance 2 are constituted by partial mirrors. The light is reflected and introduced toward the corresponding output optical system 3, and the remaining light is transmitted toward the mirror 5 at the next stage.

【0013】この場合、パーシャルミラーの透過率は、
全出射光学系3に光線を均等に分割するように、入射口
2に近い側から遠い側に向けて段階的に変化している。
即ち、パーシャルミラーによって入射したレーザ光を1
0分割する必要があるので、透過率が入射口2に近いミ
ラー5から順に、9/10、8/9、7/8、6/7、
5/6、4/5、3/4、2/3、1/2、0/1(全
反射ミラー)に設定されている。ただし、全出射光学系
3に光線を均等に分割するか否かは任意であり、各ミラ
ー5の透過率は任意に設定可能である。また、ミラー5
で光線が反射導入されることにより出射光軸3Aが形成
され、この出射光軸3A方向に試料21がセットされる
ようにしている。
In this case, the transmittance of the partial mirror is
The light beam changes stepwise from a side closer to the entrance 2 to a side farther from the entrance 2 so as to evenly divide the light beam into the entire exit optical system 3.
That is, the laser light incident by the partial mirror is
Since it is necessary to divide by 0, the transmittance is 9/10, 8/9, 7/8, 6/7,
They are set to 5/6, 4/5, 3/4, 2/3, 1/2, and 0/1 (total reflection mirror). However, it is optional whether or not the light rays are equally divided into all the emission optical systems 3, and the transmittance of each mirror 5 can be set arbitrarily. Also, mirror 5
The light beam is reflected and introduced by the light source 3 to form the output optical axis 3A, and the sample 21 is set in the direction of the output optical axis 3A.

【0014】このように、ミラー5と出射光学系3とが
一体となって光照射装置Mが構成されるものであり、各
ミラー5とそれに対応する出射光学系3とで、導入され
た一つの同一波長のレーザ光から複数の試料21ごとに
該レーザ光を照射する分割照射が可能となる。
As described above, the mirror 5 and the emission optical system 3 are integrated to constitute the light irradiation device M, and each mirror 5 and the emission optical system 3 corresponding to the mirror 5 introduce one light. It is possible to perform divided irradiation of irradiating the laser light for each of a plurality of samples 21 from two laser lights having the same wavelength.

【0015】また、各出射光学系3には、通過する光線
の強度分布を通過面内で均一化する均一化光学系7と、
試料21に対する光線の照射領域の大きさを調整する照
射領域調整レンズ系6が含まれている。均一化光学系7
は、フライアイレンズと二枚レンズとで構成される。た
だし、この構成に限定するものではなく、通過する光線
の強度分布を均一化できるものであれば、均一化光学系
7の構成は任意である。
Each of the exit optical systems 3 includes a homogenizing optical system 7 for homogenizing the intensity distribution of the passing light beam in the passing plane.
An irradiation area adjusting lens system 6 for adjusting the size of the irradiation area of the light beam to the sample 21 is included. Uniform optical system 7
Is composed of a fly-eye lens and two lenses. However, the configuration is not limited to this configuration, and the configuration of the homogenizing optical system 7 is arbitrary as long as the intensity distribution of the passing light beam can be uniformed.

【0016】照射領域調整レンズ系6は、出射光軸3A
に対して進退可能な複数段(図示では4段)の組レンズ
で構成されている。この照射領域調整レンズ系6は、組
レンズのいずれかを適当に出射光軸3A上(光路)に介
在させることにより、試料21に対する照射領域の大き
さを増減するものである。ただし、照射領域調整レンズ
系6として図示のものに限定するものではなく、例えば
組レンズの数の増減や、各組レンズの進退手段は任意に
設定可能である。また、入射口2の初段のミラー5との
間にはコリメータ8が介在されている。
The irradiation area adjusting lens system 6 has an output optical axis 3A.
And a plurality of stages (four stages in the figure) that can move forward and backward. The irradiation area adjusting lens system 6 increases or decreases the size of the irradiation area with respect to the sample 21 by appropriately interposing one of the grouped lenses on the output optical axis 3A (optical path). However, the irradiation area adjusting lens system 6 is not limited to the illustrated one. For example, it is possible to arbitrarily set the number of grouped lenses, and the means for moving each grouped lens forward and backward. A collimator 8 is interposed between the entrance 2 and the first-stage mirror 5.

【0017】光照射装置Mは、図2に示すように、この
標準波長用の出射光学系列M1を試料21の真上に垂直
状態に配置し、他の2台の選択波長用の出射光学系列M
2、M3を出射光学系列M1の両側に斜めに傾けて配置
したものであり、試料21群(照射対象群)の中の1個
の試料21に対し、各出射光学系列M1、M2、M3の
各1個の出射光学系3から同時に光を照射できるように
している。
As shown in FIG. 2, the light irradiation device M arranges the emission optical system M1 for the standard wavelength vertically above the sample 21, and emits the other two optical systems for the selected wavelength. M
2, M3 are arranged obliquely on both sides of the output optical system M1. One sample 21 in the sample 21 group (irradiation target group) is provided with each of the output optical systems M1, M2, M3. Light can be emitted simultaneously from each one output optical system 3.

【0018】ここでは、選択波長用の出射光学系列M
2、M3の入射口に、異なる波長のレーザ光が入射され
るので、3種の波長のレーザ光が1個の試料21に同時
に照射されることになる。例えば、出射光学系列M1か
らは波長500nmのレーザ光が、出射光学系列M2か
らは波長200nmのレーザ光が、出射光学系列M3か
らは波長1000nmのレーザ光が、1個の試料21に
同時に照射される。
Here, the output optical system M for the selected wavelength is used.
2. Since laser beams of different wavelengths are incident on the entrance of M3, one sample 21 is irradiated with laser beams of three different wavelengths at the same time. For example, a laser beam having a wavelength of 500 nm is emitted from the emission optical system M1, a laser beam having a wavelength of 200 nm is emitted from the emission optical system M2, and a laser beam having a wavelength of 1000 nm is emitted from the emission optical system M3 to one sample 21 simultaneously. You.

【0019】なお、各出射光学系列M1、M2、M3か
ら照射されるレーザ光の波長は任意に設定可能であり、
さらには各出射光学系列M1、M2、M3から同一波長
のレーザ光を照射させるようにしてもよい。
The wavelength of the laser light emitted from each of the emission optical systems M1, M2, M3 can be set arbitrarily.
Furthermore, laser beams of the same wavelength may be emitted from each of the emission optical systems M1, M2, and M3.

【0020】このように構成された光照射装置Mにあっ
ては、入射口2より入射したレーザ光が、ミラー5によ
って構成されたパーシャルミラーを順次通過しながら、
各ミラー5によって各出射光学系3に反射導入され、各
試料21に向けて照射される。このとき、パーシャルミ
ラー5の透過率を順次変化させているので、全出射光学
系3に均等にレーザ光が振り分け導入され、同時に10
個の各試料21に対して同じ強さのレーザ光が照射され
る。
In the light irradiation device M configured as described above, while the laser light incident from the entrance 2 sequentially passes through the partial mirror formed by the mirror 5,
Each mirror 5 reflects and introduces the light into the emission optical system 3 and irradiates each sample 21. At this time, since the transmittance of the partial mirror 5 is sequentially changed, the laser light is uniformly distributed and introduced to all the emission optical systems 3 and at the same time, 10
Each sample 21 is irradiated with laser light of the same intensity.

【0021】また、照射領域を調整する場合には、照射
領域調整レンズ系6を構成する組レンズのいずれかを進
退させることにより簡単に調整を行うことができる。す
なわち、4個の中の任意のレンズを出射光軸3A上に位
置させることにより照射領域を変更させることが可能と
なる。さらに、この光照射装置Mによれば、出射光学系
列M1、M2、M3を3個備えているので、一つの試料
21に対して、3種の波長のレーザ光を同時に照射する
ことができ、条件を多種類に異ならせながらの研究が可
能となる。
When the irradiation area is adjusted, the adjustment can be easily performed by moving one of the lens groups constituting the irradiation area adjusting lens system 6 forward or backward. That is, it is possible to change the irradiation area by positioning any one of the four lenses on the output optical axis 3A. Further, according to the light irradiation device M, since three outgoing optical systems M1, M2, and M3 are provided, one sample 21 can be simultaneously irradiated with laser beams of three wavelengths. It is possible to conduct research under various conditions.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る光
照射装置によれば、入射光軸上にパーシャルミラーを配
列し、各パーシャルミラーの反射光を順次入射光軸方向
にわたり配列した出射光学系に導入するようにしたの
で、簡単な構造で1本の光線を複数の照射対象に効率よ
く照射できる。従って、多数の照射対象への同一波長光
線の照射を容易とし、コストの低減及びシステム全体の
コンパクト化を図ることができ、例えば生物学的研究試
料にレーザ光を照射するシステムに採用するのに好適で
ある。請求項2に係る光照射装置によれば、パーシャル
ミラーの透過率を、全出射光学系に光線を均等に分割す
るように、入射口に近い側から遠い側に向けて段階的に
変化させることにより、各照射対象のいずれに対しても
同等の条件で容易かつ確実に光線を照射できる。請求項
3に係る光照射装置によれば、出射光学系に均一化光学
系を含めているため、1個の照射対象に対してムラなく
均一に照射できる。請求項4に係る光照射装置によれ
ば、出射光学系に照射領域調整レンズ系を含めているた
め、照射対象に対する照射領域を自由に調整できる。請
求項5に係る光照射装置によれば、入射口より導入され
る光線がレーザ光であり、特に有効性が発揮できる。請
求項6に係る光照射装置によれば、一つの照射対象群に
対応させて、複数の出射光学系列が形成されるため、波
長の異なる光線を各出射光学系の入射口に導入すること
により、複数種類の波長の光線を1個の照射対象に対し
て同時に照射できる。
As described above, according to the light irradiation apparatus of the first aspect, the partial mirror is arranged on the incident optical axis, and the reflected light of each partial mirror is sequentially arranged in the direction of the incident optical axis. Since the light is introduced into the optical system, a single light beam can be efficiently irradiated to a plurality of irradiation targets with a simple structure. Therefore, it is possible to easily irradiate a large number of irradiation targets with the same wavelength light, to reduce the cost and downsize the entire system. For example, the present invention is applicable to a system for irradiating a biological research sample with laser light. It is suitable. According to the light irradiation device of the second aspect, the transmittance of the partial mirror is changed stepwise from a side closer to the entrance to a side farther from the side so as to evenly divide the light into the entire exit optical system. Accordingly, a light beam can be easily and reliably irradiated to each of the irradiation targets under the same conditions. According to the light irradiation device of the third aspect, since the uniforming optical system is included in the emission optical system, it is possible to uniformly irradiate one irradiation target without unevenness. According to the light irradiation device of the fourth aspect, since the irradiation optical system includes the irradiation region adjusting lens system, the irradiation region with respect to the irradiation target can be freely adjusted. According to the light irradiation device of the fifth aspect, the light beam introduced from the entrance is a laser beam, and the effectiveness can be particularly exhibited. According to the light irradiation device according to claim 6, since a plurality of output optical systems are formed corresponding to one irradiation target group, light beams having different wavelengths are introduced into the entrances of the respective output optical systems. In addition, it is possible to simultaneously irradiate a single irradiation target with light beams of a plurality of wavelengths.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る光照射装置の実施形態を示す正
面図である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a light irradiation device according to the present invention.

【図2】 図1に示す光照射装置の側面図である。FIG. 2 is a side view of the light irradiation device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

M 光照射装置 M1、M2、M3 出射光学系列 2 入射口 2A 入射光軸 3 出射光学系 3A 出射光軸 5 ミラー 5E 最終段のミラー 6 照射領域調整レンズ系 7 均一化光学系 21 試料(照射対象) M Light irradiation device M1, M2, M3 Outgoing optical system 2 Inlet 2A Incident optical axis 3 Outgoing optical system 3A Outgoing optical axis 5 Mirror 5E Last stage mirror 6 Irradiation area adjusting lens system 7 Uniform optical system 21 Sample (irradiation target) )

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一定方向の入射光軸を持つ入射口と、 前記入射光軸と交差しかつ照射対象群のそれぞれに向い
た出射光軸を持ち、入射光軸方向にわたり配列された複
数の出射光学系と、 前記入射光軸上に位置させて各出射光学系毎に配列さ
れ、入射口より入射された光線を各出射光学系に反射導
入するミラーとを備え、 前記入射口から最遠の位置にある最終段のミラーを除く
全ミラーとして、入射口からの光線の一部を、該当する
出射光学系に向けて反射導入させ、かつ残りの光線を次
段のミラーに向けて透過するパーシャルミラーが用いら
れることを特徴とする光照射装置。
1. A plurality of exits having an entrance having an incident optical axis in a fixed direction, and exiting optical axes intersecting the incident optical axis and directed to each of the irradiation target groups, and arranged in the incident optical axis direction. An optical system, and a mirror positioned on the incident optical axis and arranged for each output optical system, and a mirror that reflects and introduces a light beam incident from the input port to each output optical system, A partial mirror that reflects and introduces a part of the light beam from the entrance toward the corresponding output optical system and transmits the remaining light beam to the next mirror as all mirrors except the last mirror at the position. A light irradiation device, wherein a mirror is used.
【請求項2】 前記パーシャルミラーの透過率を、全出
射光学系に光線を均等に分割するように、入射口に近い
側から遠い側に向けて段階的に変化させることを特徴と
する請求項1記載の光照射装置。
2. The method according to claim 1, wherein the transmittance of the partial mirror is changed stepwise from a side closer to the entrance to a side farther from the entrance so as to evenly divide the light beam into the entire exit optical system. The light irradiation device according to claim 1.
【請求項3】 前記出射光学系には、通過する光線の強
さを通過面内で均一化する均一化光学系が含まれている
ことを特徴とする請求項1または2記載の光照射装置。
3. The light irradiating apparatus according to claim 1, wherein the emission optical system includes a uniforming optical system for equalizing the intensity of a passing light beam in a passing plane. .
【請求項4】 前記出射光学系には、照射対象に対する
光線の照射領域の大きさを調整する照射領域調整レンズ
系が含まれていることを特徴とする請求項1、2または
3記載の光照射装置。
4. The light according to claim 1, wherein said emission optical system includes an irradiation area adjusting lens system for adjusting a size of an irradiation area of a light beam to an irradiation object. Irradiation device.
【請求項5】 前記入射口より入射される光線がレーザ
光であることを特徴とする請求項1、2、3または4記
載の光照射装置。
5. The light irradiation device according to claim 1, wherein the light beam incident from the entrance is a laser beam.
【請求項6】 一つの照射対象群に対応させて、前記入
射口を複数設けるとともにこれら入射口ごとに出射光学
系列を形成させ、該照射対象群の中の1個の照射対象に
対し、各入射口からの光線をそれぞれの各出射光学系列
から照射させることを特徴とする請求項1、2、3、4
または5記載の光照射装置。
6. A plurality of said entrances are provided in correspondence with one irradiation target group, and an emission optical system is formed for each of said entrances. The light beam from the entrance is emitted from each of the output optical systems.
Or the light irradiation device according to 5.
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