JPH10282008A - レチクル検査装置 - Google Patents
レチクル検査装置Info
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- JPH10282008A JPH10282008A JP9387697A JP9387697A JPH10282008A JP H10282008 A JPH10282008 A JP H10282008A JP 9387697 A JP9387697 A JP 9387697A JP 9387697 A JP9387697 A JP 9387697A JP H10282008 A JPH10282008 A JP H10282008A
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Abstract
て短時間にレチクルのパターン欠陥を検出できるレチク
ル検査装置を提供する。 【解決手段】 各フレームを順次スキャンしてレチクル
を撮像するスキャン光学系10と、スキャンしたフレー
ムを複数の分配先に順次分配するフレーム分配部30
と、第1のダイのフレームを一時的に記憶するフレーム
バッファを備え、第1のダイの各フレームとこれに対応
する第2のダイの各フレームとを並行的に画像比較して
第2のダイでのパターン欠陥を検出する複数の分配先と
しての複数の画像比較部50-1、50-2、50-3、50
-4とを有している。所定のフレーム長と所定のパターン
長との関係を算出し、算出された関係を利用してフレー
ム間の重なり長を調整するフレーム重なり調整手段をフ
レーム分配器30内に有している。
Description
パターンを形成するのに用いられるレチクルのパターン
欠陥を検査するレチクル検査装置に関する。
工程において、シリコン等から成る半導体ウエハ上に所
定のパターンを形成するのに用いられる。レチクル自体
にパターン欠陥があると、多数の半導体集積回路装置に
レチクルの欠陥が転写されるため、レチクルの検査を行
い、パターン欠陥がある場合にそれの修正等を行うこと
は重要である。
る方式として、ダイ・トゥ・ダイ方式とも呼ばれるダイ
比較検査方式と、ダイ・トゥ・データベース方式とも呼
ばれるデータベース比較検査方式との二方式が広く採用
されている。
に同じパターンおよび所定のパターン長を持つ第1およ
び第2のダイ同士を撮像しながら比較する検査方式であ
る。他方、データベース比較検査方式は、レチクル上の
ダイを撮像しながら予めデータベース化した正規パター
ンのダイと比較する検査方式である。通常、どちらの検
査方式であっても、レチクルのダイを撮像するのに必要
な時間に比べ、ダイ同士またはダイとデータとを比較処
理するのに要する時間の方が格段に長いのが実情であ
る。この実情に因り、撮像系に待ち時間が生じ、ひいて
は全体の検査時間が長くなるという問題点がある。
短縮する手法が本発明者により提案されている。この手
法は、連続する第1および第2のダイを所定のフレーム
長を持ちかつ重なり合う複数のフレームに分割した形態
でもって各フレームを順次スキャン光学系によってスキ
ャンすると共に、スキャンしたフレームを複数用意した
画像比較部に順次分配し、第1のダイの各フレームとこ
れに対応する第2のダイの各フレームとを複数の画像比
較部にて並行的に画像比較するものである。
ン光学系を使用したダイ比較検査方式に適用することが
考慮されている。単一のスキャン光学系を用いた並行処
理タイプのダイ比較検査方式は、高価なスキャン光学系
を複数用意することなく並行処理を行えるため、経済性
の面で有利である。
を用いた並行処理タイプのダイ比較検査方式では、互い
に比較すべき第1および第2のダイの両フレームを、複
数用意した画像比較部のうちの同一の画像比較部に分配
することが難しいという問題点がある。
る。この従来の方式では、互いに同じパターンおよびパ
ターン長を持つ第1および第2のダイがパターン長方向
に並列に配列されたレチクルについて、単一のスキャン
光学系は、第1および第2のダイを連続的にスキャンし
て一連の画像信号を出力する。フレーム分配部は、スキ
ャン光学系からの一連の画像信号を各々所定のフレーム
長を持ちかつ一定のフレーム重なり(スキャン本数)a
をもって連続する15個のフレーム(フレーム番号=1
〜15)に分割する形態で、これら連続する15個のフ
レームを順次4つの分配先に出力する。4つの分配先と
しての4つの画像比較部(ハードウエア番号=1〜4)
は、並行的に、フレーム分配部からのフレームについて
第1のダイのフレームとこれに対応する第2のダイのフ
レームとを画像比較して第2のダイでのパターン欠陥を
検出する。
1のダイの後端ならびに第2のダイの先端にわたってお
り、第2のダイの先端とフレーム番号9のフレーム先端
とが不一致量(スキャン本数)Nだけずれている。しか
も、第1のダイの開始フレーム(フレーム番号1)がハ
ードウエア番号1の画像比較部に入力されるのに対し、
第1のダイの開始フレームと比較されるべき第2のダイ
の開始フレーム(フレーム番号8)はハードウエア番号
4の画像比較部に入力され、後続の各フレーム同士も異
なる画像比較部に入力されることになり、画像比較が不
可能である。
る第1および第2のダイの全長に対応する一連の画像信
号全体を一旦記憶するバッファメモリをスキャン光学系
とフレーム分配部との間に設け、複数のフレームに分割
する際にバッファメモリから適宜データを抽出する手法
が考えられる。しかし、この手法は、大容量のバッファ
メモリが必要であるし、メモリアクセスに長時間を要す
るため、合理的ではない。
を並行に画像比較して短時間にレチクルのパターン欠陥
を検出できるレチクル検査装置を提供することである。
同じパターンおよび所定のパターン長を持つ第1および
第2のダイがパターン長方向に連続的に配列されたレチ
クルについて、連続する該第1および第2のダイを所定
のフレーム長を持ちかつ重なり合う複数のフレームに分
割した形態でもって各フレームを順次スキャンすると共
に、スキャンしたフレームを複数の分配先に順次分配
し、該第1のダイの各フレームとこれに対応する該第2
のダイの各フレームとを該複数の分配先にて並行的に画
像比較して該第2のダイでのパターン欠陥を検出するレ
チクル検査装置において、前記所定のフレーム長と前記
所定のパターン長との関係を算出し、算出された該関係
を利用して前記フレーム間の重なり長を調整するフレー
ム重なり調整手段を有することを特徴とするレチクル検
査装置が得られる。
調整手段は、前記第2のダイの先端とフレーム先端とが
一致するように、前記重なり長を調整する前記レチクル
検査装置が得られる。
り調整手段は、前記第1および第2のダイの各フレーム
数が前記複数の分配先の自然数倍の数になるように、前
記重なり長を調整する前記レチクル検査装置が得られ
る。
よび第2のダイを所定のフレーム長を持ちかつ重なり合
う複数のフレームに分割した形態でもって各フレームを
順次スキャンしてレチクルを撮像するスキャン光学系
と、スキャンしたフレームを複数の分配先に順次分配す
るフレーム分配部と、前記第1のダイのフレームを一時
的に記憶するフレームバッファを備え、該第1のダイの
各フレームとこれに対応する該第2のダイの各フレーム
とを並行的に画像比較して該第2のダイでのパターン欠
陥を検出する前記複数の分配先としての複数の画像比較
部とを有する前記レチクル検査装置が得られる。
実施の一形態によるレチクル検査装置を説明する。
クル検査装置の構成を示すブロック図である。図1にお
いて、本レチクル検査装置は、互いに同じパターンおよ
び所定のパターン長を持つ第1および第2のダイがパタ
ーン長方向に連続的に配列されたレチクルについて、連
続する第1および第2のダイを所定のフレーム長を持ち
かつ重なり合う複数のフレームに分割した形態でもって
各フレームを順次スキャンしてレチクルを撮像する例え
ばレーザビームを用いたスキャン光学系10と、スキャ
ン光学系10からの一連の画像信号をアナログ/デジタ
ル変換するA/D変換部20と、スキャンしたフレーム
を複数の分配先に順次分配するフレーム分配部30と、
それぞれ第1のダイのフレームを一時的に記憶するフレ
ームバッファを備え、第1のダイの各フレームとこれに
対応する第2のダイの各フレームとを複数の分配先にて
並行的に画像比較して第2のダイでのパターン欠陥を検
出する複数の分配先としての複数(本例では、4つ)の
画像比較部50-1〜50-4と、本装置の動作全般を制御
する制御部60とを有している。
レーム長と所定のパターン長との関係を算出し、算出さ
れた関係を利用してフレーム間の重なり長を調整するフ
レーム重なり調整手段を有している。フレーム重なり調
整手段は、本例では、フレーム分配部内に含まれてい
る。フレーム重なり調整手段は、第2のダイの先端とフ
レーム先端とが一致し、かつ第1および第2のダイの各
フレーム数が複数の画像比較部50-1〜50-4の自然数
倍の数(4の自然数倍)になるように、重なり長を調整
するものである。
めのレチクルの概念図である。
ーム間の重なり長aが一定であり、フレーム番号8のフ
レームは第1のダイの後端ならびに第2のダイの先端に
わたっており、第2のダイの先端とフレーム番号9のフ
レーム先端とが不一致量(スキャン本数)Nだけずれて
いる。しかも、第1のダイの開始フレーム(フレーム番
号1)がハードウエア番号1の画像比較部に入力される
のに対し、第1のダイの開始フレームと比較されるべき
第2のダイの開始フレーム(フレーム番号8)はハード
ウエア番号4の画像比較部に入力され、後続の各フレー
ム同士も異なる画像比較部に入力されることになり、画
像比較が不可能である。
すように、第2のダイの先端とフレーム先端とが一致
し、かつ第1および第2のダイの各フレーム数Fが複数
の画像比較部50-1〜50-4の数(繰り返しサイクルK
=4)の自然数倍になるように、重なり長を調整するも
のである。これにより、比較すべき第1のダイの各フレ
ームと第2のダイの各フレームとが、同じ画像比較部に
分配(入力)される。
るフレームは、以下の数式に基づいている。尚、以下の
数式中、bはダイ前半の重なり長、cはダイ後半の重な
り長、dは重なり長cのときの後半のフレーム数、Sお
よびMはNをFで割ったときの商および余である。
1 N>Fの場合:b=a+S、c=b+1、d=M…数式
2 図2は、フレーム分配部30の詳細な構成を示すブロッ
ク図である。
ジスタ制御部31と、変更フレーム設定レジスタ32
と、前半重複位置レジスタ33と、後半重複位置レジス
タ34と、フレームコンパレータ35と、セレクタ36
と、フレームカウンタ37と、OR回路43と、スキャ
ンカウンタ38と、OR回路39と、スキャン数コンパ
レータ40と、フレームスタートコントロール部41
と、フレーム制御部42-1、42-2、42-3、42-4と
を備えている。
作を説明する。
を、レチクルの検査前に、各レジスタに記憶させてお
く。詳しくは、変更フレーム設定レジスタ32には
((第1および第2のダイの各フレーム数F)−(ダイ
後半の重なり長cのときの後半のフレーム数d))を、
前半重複位置レジスタ33には((1フレーム当たりの
全スキャン数P)−(ダイ前半の重なり長b))を、さ
らに、後半重複位置レジスタ34には((1フレーム当
たりの全スキャン数P)−(ダイ後半の重なり長c))
を設定しておく。
重なり長a=1、不一致量N=13、画像比較部50-1
〜50-4の数(繰り返しサイクル)K=4、第1および
第2のダイの各フレーム数F=8とすると、前述したN
>Fの場合(数式2)に相当する。また、N/F=13
/8=1…5であって、S=1、M=5である。よっ
て、数式2により、b=2、c=3、d=5が得られ
る。
設定値は“3”(F−d)、前半重複位置レジスタ33
の設定値は“18”(P−b)、さらに、後半重複位置
レジスタ34の設定値は“17”(P−c)となる。
ンスタートパルスが、フレームスタートコントロール部
41、フレームカウンタ37、およびスキャンカウンタ
38に入力され、フレームカウンタ37およびスキャン
カウンタ38はそれぞれリセットされて値が“0”にな
る。
ウンタ37のカウント値と変更フレーム設定レジスタ3
2の設定値とを比較し、フレームカウンタ37のカウン
ト値が変更フレーム設定レジスタ32の設定値よりも大
きいかまたは等しいとき(A≧B)に、セレクト信号を
highにしてセレクタ36へ出力する。一方、A<B
のときのセレクト信号はlowである。ここで、スキャ
ンスタートパルス入力時のフレームカウンタ37のカウ
ント値が“0”、また、変更フレーム設定レジスタ32
の設定値は“3”であるので、セレクト信号はlowで
ある。
5からのセレクト信号がlowのときは前半重複位置レ
ジスタ33の設定値を選択する一方、セレクト信号がh
ighのときは後半重複位置レジスタ34の設定値を選
択し、スキャン数コンパレータ40に出力する。スキャ
ンスタートパルス入力時はセレクト信号がlowである
ので、前半重複位置レジスタ33の設定値“18”がス
キャン数コンパレータ40に出力される。
スキャンスタートパルスが入力されると、フレーム制御
部42-1に対してスタート信号を送出する。第1のダイ
をスキャンするために、1スキャンパルスが連続して入
力され始めると、フレーム制御部42-1は、フレームス
タートコントロール部41からのスタート信号が来た時
点からA/Dデータの取り込みを開始する。そして、1
フレーム分(P=20スキャン)の画像を取得して画像
比較部50-1へ画像信号を転送する。
ンパルスをカウントしてスキャン数コンパレータ40に
カウント数を出力する。スキャン数コンパレータ40
は、スキャン数と重複位置とを逐次比較し、一致のとき
にはその旨の一致パルス(A=B)をフレームスタート
コントロール部41に出力する。この一致パルスは、フ
レームスタートコントロール部41、フレームカウンタ
37、およびOR回路39を経て、スキャンカウンタ3
8に入力される。ここで、初期は、前半の重複位置18
なので、スキャンカウント数が“18”になるとスキャ
ン数コンパレータ40から一致パルスが出力される。
一致パルスが入力されると、次のフレーム制御部42-2
にスタート信号を送出する。フレーム制御部42-2は、
スタート信号が来た時点からA/Dデータの取り込みを
開始する。そして、1フレーム分の画像を取得して画像
比較部50-2へ画像信号を転送する。即ち、フレーム番
号1のフレームとフレーム番号2のフレームとは、2ス
キャン分の重なり長を持つことになる。
1は、一致パルスが入力される度に、フレーム制御部を
切り替えてスタート信号を送出する。フレーム制御部4
2-4にまで送出が終わると、再びフレーム制御部42-1
に戻ってスタート信号の送出を繰り返す。各フレーム制
御部は、スタート信号が来た時点からA/Dデータの取
り込みを開始し、1フレーム分の画像を取得して各画像
比較部へ画像信号を転送する。この動作は、スタート信
号が入力される度に繰り返し行われる。
パレータ40からの一致パルスを1フレーム数としてカ
ウントし、取り込んだフレーム数をフレームコンパレー
タ35へ送出する。
ンタ37のカウント値が変更フレーム設定レジスタ32
の設定値“3”になると、フレームコンパレータ35
は、セレクト信号(A≧B)をhighにする。セレク
タ36は、セレクト信号がhighになると、今度は後
半重複位置レジスタ34の設定値“17”を選択してス
キャン数コンパレータ40に出力する。よって、これ以
降のフレーム間の重なり長は、3スキャン分になる。
のダイについてのスタートパルスがOR回路43を経て
フレームカウンタ37に入力され、フレームカウンタ3
7のカウント値は、“0”にリセットされる。フレーム
カウンタ37のカウント値は、“0”になると、フレー
ムコンパレータ35のセレクト信号は再びlowにな
り、セレクタ36は前半重複位置レジスタ33の値を選
択してこれをスキャン数コンパレータ40に送出する。
よって、フレーム間の重なり長は、2スキャン分に戻
る。
同様のシーケンスでフレームが取り込まれ、第2のダイ
の画像信号も第1のダイの画像信号と同様にフレーム分
割で各画像比較部に分配される。
長を適宜切り替えることにより、第2のダイの先端とフ
レーム先端とを一致させ、互いに比較されるべき第1お
よび第2のダイの各フレームを同一の画像比較部に分配
することができる。
のフレーム長と所定のパターン長との関係を算出し、算
出された関係を利用してフレーム間の重なり長を調整す
るフレーム重なり調整手段を有しているため、簡素な構
成で、ダイ同士を並行に画像比較して短時間にレチクル
のパターン欠陥を検出できる。
の構成を示すブロック図である。
ブロック図である。
るレチクル検査装置の動作を説明するための概念図であ
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 互いに同じパターンおよび所定のパター
ン長を持つ第1および第2のダイがパターン長方向に連
続的に配列されたレチクルについて、連続する該第1お
よび第2のダイを所定のフレーム長を持ちかつ重なり合
う複数のフレームに分割した形態でもって各フレームを
順次スキャンすると共に、スキャンしたフレームを複数
の分配先に順次分配し、該第1のダイの各フレームとこ
れに対応する該第2のダイの各フレームとを該複数の分
配先にて並行的に画像比較して該第2のダイでのパター
ン欠陥を検出するレチクル検査装置において、前記所定
のフレーム長と前記所定のパターン長との関係を算出
し、算出された該関係を利用して前記フレーム間の重な
り長を調整するフレーム重なり調整手段を有することを
特徴とするレチクル検査装置。 - 【請求項2】 前記フレーム重なり調整手段は、前記第
2のダイの先端とフレーム先端とが一致するように、前
記重なり長を調整する請求項1に記載のレチクル検査装
置。 - 【請求項3】 前記フレーム重なり調整手段は、前記第
1および第2のダイの各フレーム数が前記複数の分配先
の自然数倍の数になるように、前記重なり長を調整する
請求項2に記載のレチクル検査装置。 - 【請求項4】 連続する前記第1および第2のダイを所
定のフレーム長を持ちかつ重なり合う複数のフレームに
分割した形態でもって各フレームを順次スキャンしてレ
チクルを撮像するスキャン光学系と、スキャンしたフレ
ームを複数の分配先に順次分配するフレーム分配部と、
前記第1のダイのフレームを一時的に記憶するフレーム
バッファを備え、該第1のダイの各フレームとこれに対
応する該第2のダイの各フレームとを並行的に画像比較
して該第2のダイでのパターン欠陥を検出する前記複数
の分配先としての複数の画像比較部とを有する請求項1
乃至3のいずれかに記載のレチクル検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9387697A JP2950372B2 (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | レチクル検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9387697A JP2950372B2 (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | レチクル検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10282008A true JPH10282008A (ja) | 1998-10-23 |
JP2950372B2 JP2950372B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=14094682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9387697A Expired - Lifetime JP2950372B2 (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | レチクル検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2950372B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002544602A (ja) * | 1999-05-05 | 2002-12-24 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 並列処理でのレチクル検査のための方法および装置 |
JP2007536629A (ja) * | 2004-05-04 | 2007-12-13 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 検査画像を処理するための高スループット画像 |
US7359043B2 (en) | 2002-12-27 | 2008-04-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern inspecting method and pattern inspecting apparatus |
JP2009031006A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 外観検査装置及び方法 |
US8488866B2 (en) | 2009-02-18 | 2013-07-16 | Renesas Electronics Corporation | Method of inspecting mask pattern and mask pattern inspection apparatus |
-
1997
- 1997-04-11 JP JP9387697A patent/JP2950372B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
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JP2002544602A (ja) * | 1999-05-05 | 2002-12-24 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 並列処理でのレチクル検査のための方法および装置 |
US7724939B2 (en) | 1999-05-05 | 2010-05-25 | Kla-Tencor | Method and apparatus for inspecting reticles implementing parallel processing |
US7359043B2 (en) | 2002-12-27 | 2008-04-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern inspecting method and pattern inspecting apparatus |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2950372B2 (ja) | 1999-09-20 |
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