JPH1027948A - Semiconductor optical device - Google Patents

Semiconductor optical device

Info

Publication number
JPH1027948A
JPH1027948A JP8199861A JP19986196A JPH1027948A JP H1027948 A JPH1027948 A JP H1027948A JP 8199861 A JP8199861 A JP 8199861A JP 19986196 A JP19986196 A JP 19986196A JP H1027948 A JPH1027948 A JP H1027948A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
current
semiconductor
polarization
laser
optical device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8199861A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinobu Sekiguchi
芳信 関口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP8199861A priority Critical patent/JPH1027948A/en
Publication of JPH1027948A publication Critical patent/JPH1027948A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor optical device such as a polarization modulation laser whose polarization can be switched with a low modulation current and a light amplifier whose polarization independence can be improved. SOLUTION: In a semiconductor laser structure, an active laser 3 employs a multilayer structure which contains a quantum well structure which has a semiconductor of a lattice constant smaller than a substrate 2 as a well layer and a quantum well structure which has a semiconductor of a lattice constant equal to or above that of the substrate 2 as a well layer. A plurality of regions into which a current can be separately injected is constituted, and a loss part in which current injection is partially limited so as to caused loss is formed in one of the areas. By injecting the current into a plurality of region, a region in which the TE gain is dominant and a region in which the TM gain is dominant are formed, and polarization switching of laser oscillation is made possible with a small modulation current.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信において使
用される高速変調時でも波長チャーピングの小さい半導
体レーザ等の半導体光デバイス、それを用いた通信シス
テム等に関しており、特に、注入電流によりレーザ発振
のTE偏波とTM偏波がスイッチングする偏波変調レー
ザに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor optical device such as a semiconductor laser having a small wavelength chirping even at the time of high-speed modulation used in optical communication, and a communication system using the same. The present invention relates to a polarization-modulated laser in which oscillating TE polarization and TM polarization are switched.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、偏波変調レーザでは、TEモー
ドとTMモードの利得をほぼ等しくする必要がある。こ
れについて、TE利得が優位な圧縮歪量子井戸と、TM
利得が優位な引っ張り歪量子井戸の積層構造で偏波変調
レーザを構成した例が、特開平4−346485号明細
書に記載されている。
2. Description of the Related Art Generally, in a polarization modulation laser, it is necessary to make gains of a TE mode and a TM mode substantially equal. In this regard, a compression strained quantum well with a superior TE gain and a TM
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-346485 describes an example in which a polarization-modulated laser is constituted by a laminated structure of tensile strain quantum wells in which gain is superior.

【0003】また、TE利得が優位な圧縮歪量子井戸
と、TM利得が優位な引っ張り歪量子井戸の積層構造で
〜1.3μm帯の偏波無依存の半導体光増幅器を構成し
た例が、アプライド・フィジックス・レターズ(App
l.Phys.Lett.)Vol.62,826(1
993)に記載されている。
[0003] An example in which a polarization-independent semiconductor optical amplifier of the 1.3-µm band is constituted by a laminated structure of a compression strain quantum well in which TE gain is superior and a tensile strain quantum well in which TM gain is superior is disclosed in Applied.・ Physics Letters (App
l. Phys. Lett. ) Vol. 62,826 (1
993).

【0004】この例では、TE利得を圧縮歪1%、ウェ
ル幅4.5nmのInGaAsP層で確保し、TM利得
を引っ張り歪1%、ウェル幅11nmのInGaAsP
層で確保している。更に、TEとTMの利得を拮抗させ
るために、TE利得ウェルを4層、TM利得ウェルを3
層で偏波無依存の活性層を構成している。
In this example, a TE gain is secured by an InGaAsP layer having a compressive strain of 1% and a well width of 4.5 nm, and a TM gain is obtained by an InGaAsP layer having a tensile strain of 1% and a well width of 11 nm.
Secured by layers. Further, in order to antagonize the gain between TE and TM, the TE gain well has four layers and the TM gain well has three layers.
The layers constitute a polarization-independent active layer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記活
性層構造でレーザ発振光の偏波をスイッチングさせるた
めに注入電流を変調すると、小さな振幅の変調電流では
TE/TMの利得の大小関係を逆転させることができな
い。これは、同一活性層であるため電流の増減分が圧縮
歪量子井戸と、引っ張り歪量子井戸のどちらか一方に選
択的に注入されるのではなく、ほぼ同等に注入されるた
めである。したがって、利得の大小関係を逆転させるた
めには、それぞれの井戸に不均一に電流注入が生じる程
の大きな変調電流を必要とした。
However, when the injection current is modulated in order to switch the polarization of the laser oscillation light in the active layer structure, the magnitude relationship between the TE / TM gains is reversed with a small amplitude modulation current. Can not do. This is because, because of the same active layer, the amount of increase or decrease in current is not injected selectively into either the compressive strain quantum well or the tensile strain quantum well, but is injected substantially equally. Therefore, in order to reverse the magnitude relationship between the gains, a large modulation current is required to cause uneven current injection in each well.

【0006】従って、本発明の目的は、上記の課題に鑑
み、小さな変調電流で偏波スイッチング可能な偏波変調
レーザ、電流制御で偏波無依存性を向上できる光増幅器
等の半導体光デバイス、それを用いた通信システム等を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a polarization-modulated laser capable of polarization switching with a small modulation current, a semiconductor optical device such as an optical amplifier capable of improving polarization independence by current control, and the like. An object of the present invention is to provide a communication system and the like using the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】以下、各請求項に対応し
て本発明の構成を述べる。
The structure of the present invention will be described below according to each claim.

【0008】本発明の第1の構成は、活性層が、半導体
基板より小さい格子定数の半導体を井戸層とする量子井
戸構造と半導体基板の格子定数に等しいか或は大きい格
子定数の半導体を井戸層とする量子井戸構造の積層構造
であり、かつ、共振器方向は独立に電流注入が可能な複
数の領域で構成されており、前記複数領域の1つの領域
内に部分的に電流注入が制限されて損失が生ずる損失部
が形成されている(請求項1、2に対応)。この構成に
おいて、前記複数領域に電流注入することにより、TE
利得が優勢な領域とTM利得が優勢な領域が形成され、
小さな変調電流でレーザ発振の偏波スイッチングを可能
としたものである。
According to a first structure of the present invention, there is provided a quantum well structure in which an active layer has a well layer of a semiconductor having a lattice constant smaller than that of a semiconductor substrate, and a well having a lattice constant equal to or larger than the lattice constant of the semiconductor substrate. It has a multilayer structure of a quantum well structure as a layer, and is constituted by a plurality of regions in which current can be independently injected in the resonator direction, and current injection is partially limited in one of the plurality of regions. Thus, a loss portion where a loss occurs is formed (corresponding to claims 1 and 2). In this configuration, by injecting current into the plurality of regions, TE
A region where the gain is dominant and a region where the TM gain is dominant are formed,
This enables polarization switching of laser oscillation with a small modulation current.

【0009】本発明の第2の構成は、前記複数領域の1
つの領域内に電流が注入されない電流非注入部を設けて
損失部としたものである(請求項3に対応)。
[0009] In a second configuration of the present invention, one of the plurality of regions is provided.
A current non-injection portion in which no current is injected is provided in one of the two regions to serve as a loss portion (corresponding to claim 3).

【0010】本発明の第3の構成は、前記複数領域の1
つの領域内の電流が注入されない部分を、電極直下に配
置した絶縁層で形成したものである(請求項4に対
応)。
[0010] In a third aspect of the present invention, one of the plurality of regions is provided.
The portion in which the current is not injected in the two regions is formed by an insulating layer disposed immediately below the electrode (corresponding to claim 4).

【0011】本発明の第4の構成は、前記部分的な損失
部を形成している電流非注入部を、電極を分離する溝に
よって形成したものである(請求項5に対応)。
According to a fourth aspect of the present invention, the current non-injection portion forming the partial loss portion is formed by a groove separating the electrodes (corresponding to claim 5).

【0012】本発明の第5の構成は、前記損失部に独立
に電流注入できるように電極を設け、ここへの電流注入
制御により損失を制御可能としたものである(請求項6
に対応)。
According to a fifth aspect of the present invention, an electrode is provided so that current can be independently injected into the loss portion, and the loss can be controlled by controlling current injection to the electrode.
Corresponding to).

【0013】本発明の第6の構成は、前記損失部に設け
られた電極を、抵抗を介して、同一領域の他の電極と同
じ駆動電源に接続することにより、損失制御用の電源を
不要としたものである(請求項7に対応)。
According to a sixth aspect of the present invention, an electrode provided in the loss section is connected to the same drive power supply as another electrode in the same area via a resistor, so that a power supply for loss control is not required. (Corresponding to claim 7).

【0014】本発明の第7の構成は、前記活性層の近傍
に配置された光導波層に回折格子が形成されており、レ
ーザ発振光の直交する2つの偏波の少なくとも一方が単
一モードであることを特徴する(請求項8に対応)。
In a seventh configuration of the present invention, a diffraction grating is formed in the optical waveguide layer disposed near the active layer, and at least one of two orthogonal polarizations of the laser oscillation light is a single mode. (Corresponding to claim 8).

【0015】本発明の第8の構成は、前記活性層の障壁
層の少なくとも一部にp型不純物がドーピングされてい
ることを特徴する(請求項9に対応)。
An eighth structure of the present invention is characterized in that at least a part of the barrier layer of the active layer is doped with a p-type impurity (corresponding to claim 9).

【0016】本発明の第9の構成は、上記の偏波変調半
導体レーザとして構成された半導体デバイスと、該半導
体デバイスから出射する光の内、TEとTMの2つの偏
波モードの一方の光のみを取り出す偏光子などの偏光選
択手段とから成ることを特徴とする光源装置である(請
求項10に対応する)。これにより、高速変調時でもチ
ャーピングの少ない強度変調信号が得られる。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device configured as the above-mentioned polarization-modulated semiconductor laser, and one of two polarization modes, TE and TM, of light emitted from the semiconductor device. A light source device comprising a polarization selecting means such as a polarizer for taking out only a light source (corresponding to claim 10). As a result, an intensity-modulated signal with less chirping can be obtained even during high-speed modulation.

【0017】本発明の第10の構成は、上記の偏波変調
半導体レーザとして構成された半導体デバイスと、該半
導体レーザから出射する光の内、TEとTMの2つの偏
波モードの一方の光のみを取り出す偏光子などの偏光選
択手段とから成る光源装置を備えた光送信機、前記偏光
選択手段によって取り出された光を伝送する伝送手段、
及び前記伝送手段によって伝送された光を受信する光受
信機から成ることを特徴とする光通信システムである
(請求項11に対応する)。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device configured as the above-mentioned polarization-modulated semiconductor laser, and one of two polarization modes, TE and TM, of light emitted from the semiconductor laser. An optical transmitter including a light source device including a polarization selection unit such as a polarizer that extracts only a light, a transmission unit that transmits the light extracted by the polarization selection unit,
And an optical receiver for receiving the light transmitted by the transmission means.

【0018】本発明の第11の構成は、前記光受信機が
上記の偏波無依存光増幅器として構成された半導体デバ
イスを含むことを特徴とする(請求項12に対応す
る)。
According to an eleventh aspect of the present invention, the optical receiver includes a semiconductor device configured as the above-mentioned polarization independent optical amplifier (corresponding to claim 12).

【0019】本発明の第12の構成は、上記の偏波変調
半導体レーザとして構成された半導体デバイスと、該半
導体レーザから出射する光の内、TEとTMの2つの偏
波モードの一方の光のみを取り出す偏光子などの偏光選
択手段とから成る光源装置を用い、所定のバイアス電流
に送信信号に応じて変調された電流を重畳して前記半導
体レーザに供給することによって、前記偏光選択手段か
ら送信信号に応じて強度変調された信号光を取り出し、
この信号光を光受信機に向けて送信することを特徴とす
る光通信方法である(請求項13に対応する)。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device configured as the above-described polarization-modulated semiconductor laser, and one of two polarization modes, TE and TM, of light emitted from the semiconductor laser. By using a light source device including a polarization selector such as a polarizer that extracts only the light, by superimposing a current modulated in accordance with a transmission signal on a predetermined bias current and supplying the current to the semiconductor laser, Take out the signal light intensity-modulated according to the transmission signal,
An optical communication method characterized by transmitting the signal light to an optical receiver (corresponding to claim 13).

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

第1実施例 図1は本発明による2電極構成のリッジ構造DFB型偏
波変調レーザの第1実施例の部分断面を含む斜視図であ
る。同図において、1は下部共通電極、2はn−InP
基板及びn−InP下部クラッド層、3はTM利得量子
井戸とTE利得量子井戸から成る多重量子井戸活性層で
あり、その構成を図2に示す。
First Embodiment FIG. 1 is a perspective view including a partial cross section of a first embodiment of a DFB polarization modulation laser having a ridge structure of two electrodes according to the present invention. In the figure, 1 is a lower common electrode, 2 is n-InP
The substrate and the n-InP lower cladding layer 3 are a multiple quantum well active layer including a TM gain quantum well and a TE gain quantum well, and the configuration is shown in FIG.

【0021】図2において、TE利得量子井戸の構成
は、障壁層210はバンド端波長〜1.15μm、厚さ
10nmのInGaAsP層、井戸層211は厚さ4.
5nmのIn0.68Ga0.32Asで、およそ1%の圧縮歪
が導入されている(図3で示す様に、ホールがp側から
離れたTE利得井戸211にも十分満たされる様に障壁
層210が一部Beドープされている)。TE/TM分
離層213は、障壁層210と同じバンド端波長〜1.
15μm、厚さ50nmのInGaAsP層である(図
3で示す様に、ホールがp側から離れたTE利得井戸2
11にも十分満たされる様にBeドープされている)。
TM利得の量子井戸は、障壁層220は同じバンド端波
長〜1.15μm、厚さ50nmのInGaAsP層、
井戸層221は厚さ11nmのIn0.4Ga0.6Asで、
およそ1%の引っ張り歪が導入されている。
In FIG. 2, the configuration of the TE gain quantum well is as follows. The barrier layer 210 has a band edge wavelength of 1.15 μm, an InGaAsP layer having a thickness of 10 nm, and the well layer 211 has a thickness of 4.0 nm.
Approximately 1% compressive strain is introduced by 5 nm of In 0.68 Ga 0.32 As (as shown in FIG. 3, the barrier layer 210 is formed so that the hole is sufficiently filled also in the TE gain well 211 away from the p-side. (It is partially Be-doped.) The TE / TM separation layer 213 has the same band edge wavelength as that of the barrier layer 210, ie, 1.
It is an InGaAsP layer having a thickness of 15 μm and a thickness of 50 nm (as shown in FIG. 3, the TE gain well 2 where the hole is away from the p-side).
11 is Be-doped so as to be sufficiently satisfied.
The quantum well of the TM gain has a barrier layer 220 having the same band edge wavelength of 1.15 μm and an InGaAsP layer having a thickness of 50 nm.
The well layer 221 is made of In 0.4 Ga 0.6 As having a thickness of 11 nm.
About 1% tensile strain has been introduced.

【0022】図1に戻って、4は光導波層となるバンド
端波長〜1.15μmのp−InGaAsP層、5はポ
リイミド埋込み層、6はp−InP上部クラッド層、7
はp−InGaAsコンタクト層、8は第1の領域に電
流を注入するための電極、9は第1の領域に共振器方向
の長さ〜70μmの電流非注入部ないし電流注入制限部
を形成するためのSi34絶縁層、10は第2の領域に
電流を注入するための電極、11は光導波層に形成され
たピッチ〜240nmの回折格子である。なお、第1の
領域と第2の領域は分離溝12により電気的に分離され
ている。
Returning to FIG. 1, 4 is a p-InGaAsP layer having a band edge wavelength of 1.15 μm to be an optical waveguide layer, 5 is a polyimide buried layer, 6 is a p-InP upper cladding layer, 7
Is a p-InGaAs contact layer, 8 is an electrode for injecting current into the first region, 9 is a current non-injection portion or a current injection limiting portion having a length of up to 70 μm in the resonator direction in the first region. Si 3 N 4 insulating layer, electrodes for injecting current into the second region 10 for, 11 is the diffraction grating pitch ~240nm formed in the optical waveguide layer. Note that the first region and the second region are electrically separated by the separation groove 12.

【0023】上記構成におけるエネルギーバンド構造に
示される様に、まず第2領域へ電流を注入するとn側
(基板側)のTE利得井戸211へ電子が多く供給され
るので、TEの利得が増大し、更に電流注入を増加する
とTEモードでレーザ発振する(図3(a))。一方、
第1の領域へ電流注入すると、電流が注入される部分で
はTEの利得が増大するが、電流非注入領域が存在する
ので、レーザ発振に必要な利得が得られない。更に、電
流を増加すると電子が高エネルギーとなり、第1領域の
電流が注入される部分ではp側(電極8側)のTM利得
井戸221へ電子が多く供給されるようになり、TMの
利得が増大する(図3(b))。さらに、電流を増加す
ると周囲からの電流の周り込みにより、電流非注入領域
部の損失が減少し、TMモードでレーザ発振する。
As shown in the energy band structure in the above configuration, when a current is first injected into the second region, a large amount of electrons are supplied to the n-side (substrate side) TE gain well 211, so that the gain of TE increases. If the current injection is further increased, laser oscillation occurs in the TE mode (FIG. 3A). on the other hand,
When a current is injected into the first region, the gain of the TE increases in a portion where the current is injected. However, since a current non-injection region exists, a gain necessary for laser oscillation cannot be obtained. Further, when the current is increased, the electrons have high energy, and a large amount of electrons are supplied to the p-side (electrode 8 side) TM gain well 221 at the portion where the current is injected in the first region, and the gain of the TM is reduced. Increase (FIG. 3B). Further, when the current is increased, the current flows from the surroundings, so that the loss in the current non-injection region decreases, and the laser oscillates in the TM mode.

【0024】偏波変調動作を行わせる場合は、第1領
域、第2領域に同時に電流を注入し、TE/TM利得が
ほぼ拮抗する状態から、第1領域への電流I1を増加し
てTMモードの発振状態とする。次に、第2領域への注
入電流I2を増加すると、第2領域はTEモードでレー
ザ発振を開始し、一方、第1領域では第2領域から伝搬
するTEモード光でTEモード光が励振され、TEモー
ド発振が生じ、TM発振は停止する(第1領域ではTM
モード利得は引っ張り歪井戸221の基底電子準位・ラ
イトホール準位間の遷移に係るが、この遷移はTEモー
ド利得にも係るので、第2領域から伝搬するTEモード
光により第1領域でTEモード発振が起こりTMモード
の利得が不充分となる)。つまり、僅かな変調電流でレ
ーザ発振の偏波モードがTMからTEにスイッチングす
る。
When the polarization modulation operation is performed, current is simultaneously injected into the first region and the second region, and the current I 1 to the first region is increased from a state where the TE / TM gain is almost antagonized. The oscillation mode is set to the TM mode. Next, when the injection current I 2 to the second region is increased, the second region starts laser oscillation in the TE mode, while the first region is excited by the TE mode light propagating from the second region. Then, the TE mode oscillation occurs, and the TM oscillation stops (TM
The mode gain relates to the transition between the ground electron level and the light hole level of the tensile strain well 221. Since this transition also relates to the TE mode gain, the TE mode light propagated from the second region causes TE mode light in the first region. Mode oscillation occurs and the gain of the TM mode becomes insufficient). That is, the polarization mode of laser oscillation switches from TM to TE with a slight modulation current.

【0025】本実施例は、第1領域と第2領域がTEと
TMの両方に利得のある同一の活性層3を有しており、
偏波スイッチングに要する電流が小さい(キャリヤ変動
が小さい)ので、スイッチング時の波長変動が小さく
(いわゆるチャーピングが小さい)、高速動作に適して
いる。
In this embodiment, the first region and the second region have the same active layer 3 having gain in both TE and TM,
Since the current required for the polarization switching is small (the carrier fluctuation is small), the wavelength fluctuation at the time of the switching is small (so-called chirping is small), which is suitable for high-speed operation.

【0026】上述した様に、活性層3の障壁層にp型不
純物をドーピングし、井戸内を正孔で満たしておくこと
は、レーザのしきい電流値を低減する上で非常に効果が
大きい。
As described above, doping the barrier layer of the active layer 3 with the p-type impurity and filling the wells with holes is very effective in reducing the threshold current value of the laser. .

【0027】本実施例の上記の動作説明では、変調電流
を第2領域のみに注入したが、同時に第1領域に逆相の
変調電流を注入することで、スイッチング特性の向上が
可能である。
In the above description of the operation of this embodiment, the modulation current is injected only into the second region. However, by simultaneously injecting the opposite-phase modulation current into the first region, the switching characteristics can be improved.

【0028】第2実施例 図4は電流非注入部ないし電流注入制限部を別の形態で
実現したものであり、図1と同じ機能の部分には同じ番
号を付している。図1との違いは、第1領域の電流非注
入部をストライプ部分の電極分離部49で形成し、さら
に、分離部49にクラッド層6に達する溝が形成されて
いることである。この溝によりキャップ層7が除かれて
いるので、隣接する電極からの電流の回り込みが少な
く、比較的短い電流非注入領域でTMモードのレーザ発
振に必要な損失が得られる。その他、動作等は第1実施
例と実質的に同じである。
Second Embodiment FIG. 4 shows another embodiment of the current non-injection section or the current injection limiting section, and portions having the same functions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. The difference from FIG. 1 is that the current non-injection portion in the first region is formed by the electrode separation portion 49 in the stripe portion, and a groove reaching the cladding layer 6 is formed in the separation portion 49. Since the cap layer 7 is removed by this groove, current sneak from an adjacent electrode is small, and a loss necessary for TM mode laser oscillation can be obtained in a relatively short current non-injection region. Other operations and the like are substantially the same as those of the first embodiment.

【0029】第3実施例 図5は本発明の第3の実施例の部分斜視図である。図1
と同じ機能の部分には同じ番号を付している。図1との
違いは、第1領域に更に独立に電流注入可能な電極58
が形成されており、さらに、この電極58が抵抗59を
介して第1領域の他の電極8と同じ駆動電源に接続され
ていることである。電極58へ印加される電圧は抵抗5
9の電圧降下分だけ電極8の印加電圧より低くなる。し
たがって、駆動電圧の増大にともなって、電極8の下の
活性層3では低注入レベルで優勢なTEの利得が増大す
るが、電極58の下の部分は印加電圧が低いので吸収損
失部として機能し、レーザ発振に必要な利得が得られな
い。
Third Embodiment FIG. 5 is a partial perspective view of a third embodiment of the present invention. FIG.
Portions of the same function as in are given the same numbers. The difference from FIG. 1 is that an electrode 58 capable of injecting current into the first region more independently is provided.
Is formed, and the electrode 58 is connected to the same drive power supply as the other electrodes 8 in the first region via the resistor 59. The voltage applied to the electrode 58 is the resistance 5
The voltage is lower than the voltage applied to the electrode 8 by the voltage drop of 9. Therefore, as the driving voltage increases, the gain of the dominant TE at the low injection level in the active layer 3 under the electrode 8 increases, but the portion under the electrode 58 functions as an absorption loss section because the applied voltage is low. However, the gain required for laser oscillation cannot be obtained.

【0030】更に、印加電圧を増加すると電子が高エネ
ルギーとなり、電極8の下の活性層3では高注入レベル
で優勢なTMの利得が増大する。一方、電極58の下の
部分でも印加電圧が次第に高くなるにつれ吸収損失が減
少し、TMモードでレーザ発振する。
Further, when the applied voltage is increased, the electrons become high energy, and in the active layer 3 under the electrode 8, the gain of the dominant TM at the high injection level is increased. On the other hand, as the applied voltage gradually increases also in the portion below the electrode 58, the absorption loss decreases, and the laser oscillates in the TM mode.

【0031】したがって、損失制御用に新たな電源を必
要としないで、単に抵抗59の設定により、偏波スイッ
チングに最も適した値になるように電極58への電流注
入を制御できるので、変調特性の優れた偏波変調レーザ
が得られる。
Therefore, it is possible to control the current injection to the electrode 58 so as to obtain a value most suitable for polarization switching simply by setting the resistor 59 without requiring a new power supply for loss control. And a polarization-modulated laser excellent in the above.

【0032】本実施例の動作も第1実施例のものと実質
的に同じである。すなわち、偏波変調動作を行わせる場
合は、第1領域、第2領域に同時に電流を注入し、TE
/TM利得がほぼ拮抗する状態から、第1領域への印加
電圧を増加してTMモードの発振状態とする。次に、第
2領域への注入電流I2を増加すると、第2領域はTE
モードでレーザ発振を開始し、一方、第1領域では第2
領域から伝搬するTEモード光でTEモード光が励起さ
れTM発振は停止する。
The operation of this embodiment is substantially the same as that of the first embodiment. That is, when the polarization modulation operation is performed, current is simultaneously injected into the first region and the second region, and TE is injected.
From the state where the / TM gain is almost antagonized, the voltage applied to the first region is increased to set the oscillation state in the TM mode. Next, when the injection current I 2 to the second region is increased, the second region
Mode starts laser oscillation, while in the first region the second
The TE mode light propagating from the region excites the TE mode light and stops TM oscillation.

【0033】ところで、上記各実施例で、各電極に発振
しきい値以下の適当な電流を注入してTE/TM両方の
モードが拮抗した状態を作り出し、各実施例を波長フィ
ルタの機能を持つ偏波無依存光増幅器として機能させる
こともできる。
By the way, in each of the above embodiments, an appropriate current less than the oscillation threshold is injected into each electrode to create a state in which both the TE and TM modes are in opposition. It can also function as a polarization independent optical amplifier.

【0034】また、上記各実施例は分布帰還型(DF
B)の構造であるが、本発明は分布ブラッグ反射型(D
BR)の構造などにも適用できる。
In each of the above embodiments, a distributed feedback type (DF
B), the present invention relates to a distributed Bragg reflection type (D
BR) and the like.

【0035】第4実施例 図6は、上記第1実施例の偏波変調レーザ610を光通
信の電気/光変換部として使用する場合の説明図であ
り、偏波変調レーザ610の出力側に偏光子611を配
置し、一方の偏波成分のみを光信号として使用するもの
である。偏波変調レーザ610は、変調電流が小さく、
出力光の強度変化も少ない。従って、光通信の送信側ま
たは受信側で一方の偏波光のみを取り出す強度変調方式
で、FSK変調方式と同程度の高速変調動作が可能とな
り、FSK方式に比較して受信装置が大幅に簡略化され
る。また、高速変調時においても波長の広がりが小さい
ため、高密度波長多重にも適している。
Fourth Embodiment FIG. 6 is an explanatory view of the case where the polarization modulation laser 610 of the first embodiment is used as an electric / optical conversion unit for optical communication. A polarizer 611 is provided, and only one polarization component is used as an optical signal. The polarization modulation laser 610 has a small modulation current,
There is little change in the intensity of the output light. Therefore, with the intensity modulation method of extracting only one polarized light on the transmission side or the reception side of optical communication, a high-speed modulation operation comparable to the FSK modulation method becomes possible, and the receiving apparatus is greatly simplified as compared with the FSK method. Is done. Further, the wavelength spread is small even at the time of high-speed modulation, so that it is suitable for high-density wavelength multiplexing.

【0036】勿論、第2、第3の実施例を偏波変調レー
ザとして用いてもよい。
Of course, the second and third embodiments may be used as a polarization modulation laser.

【0037】第5実施例 図7に、本発明による半導体デバイスを波長多重光LA
Nシステムに応用する場合の各端末に接続される光−電
気変換部(ノード)の構成例を示し、図8、図9にその
ノード701を用いた光LANシステムの構成例を示
す。
Fifth Embodiment FIG. 7 shows a semiconductor device according to the present invention as a wavelength multiplexed light LA.
An example of the configuration of an optical-electrical conversion unit (node) connected to each terminal when applied to the N system is shown. FIGS. 8 and 9 show an example of the configuration of an optical LAN system using the node 701.

【0038】外部に接続された光ファイバ700を媒体
として光信号がノード701に取り込まれ、分岐部70
2によりその一部が波長可変光フィルタ等を備えた受信
装置703に入射する。この受信器703により所望の
波長の光信号だけ取り出して信号検波を行う。これを制
御回路で適当な方法で処理して端末に送る。この受信器
703に、上記実施例の偏波無依存光増幅器を用いても
よい。一方、ノード701から光信号を送信する場合に
は、上記実施例の偏波変調半導体レーザ704を信号に
従って制御回路で適当な方法で駆動し、偏波変調して、
偏光板707(これにより偏波変調信号が振幅強度変調
信号に変換される)を通して(更にアイソレータを入れ
てもよい)出力光を合流部706を介して光伝送路70
0に入射せしめる。また、半導体レーザ及び波長可変光
フィルタを2つ以上の複数設けて、波長可変範囲を広げ
ることもできる。
An optical signal is taken into the node 701 by using the optical fiber 700 connected to the outside as a medium,
A part of the light enters a receiving device 703 including a wavelength tunable optical filter and the like. The receiver 703 extracts only an optical signal having a desired wavelength and performs signal detection. This is processed by an appropriate method by the control circuit and sent to the terminal. The receiver 703 may use the polarization independent optical amplifier of the above embodiment. On the other hand, when an optical signal is transmitted from the node 701, the polarization-modulated semiconductor laser 704 of the above embodiment is driven by a control circuit in an appropriate method according to the signal, and polarization-modulated.
The output light is passed through a polarizing plate 707 (which converts the polarization modulation signal into an amplitude intensity modulation signal) (an isolator may be additionally provided) through a converging section 706 and the optical transmission path 70
0. Further, by providing a plurality of semiconductor lasers and two or more wavelength tunable optical filters, the wavelength tunable range can be expanded.

【0039】光LANシステムのネットワークとして、
図8に示すものはバス型であり、AおよびBの方向にノ
ード801〜805を接続しネットワーク化された多数
の端末及びセンタ811〜815を設置することができ
る。ただし、多数のノードを接続するためには、光の減
衰を補償するために光増幅器を伝送路800上に直列に
配することが必要となる。また、各端末811〜815
にノード801〜805を2つ接続し伝送路を2本にす
ることでDQDB方式による双方向の伝送が可能とな
る。また、ネットワークの方式として、図8のAとBを
つなげたループ型(図9に示す)やスター型あるいはそ
れらを複合した形態等のものでも良い。
As a network of the optical LAN system,
FIG. 8 shows a bus type in which nodes 801 to 805 are connected in directions A and B, and a large number of networked terminals and centers 811 to 815 can be installed. However, in order to connect a large number of nodes, it is necessary to arrange optical amplifiers in series on the transmission line 800 to compensate for optical attenuation. In addition, each terminal 811 to 815
By connecting two nodes 801 to 805 to each other and using two transmission paths, bidirectional transmission by the DQDB method becomes possible. Further, as a network system, a loop type (shown in FIG. 9) in which A and B in FIG. 8 are connected, a star type, or a combination thereof may be used.

【0040】図9において、900は光伝送路、901
〜906は光ノード、911〜914は端末である。
In FIG. 9, reference numeral 900 denotes an optical transmission line;
906 are optical nodes, and 911 to 914 are terminals.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の各構成に
より以下の様な効果が奏される。
As described above, the following effects can be obtained by each constitution of the present invention.

【0042】第1の構成によれば(請求項1、2に対
応)、活性層はTE利得が優位である量子井戸構造とT
M利得が優位な量子井戸構造の積層構造であり、かつ、
共振器方向は独立に電流注入が可能な複数領域で構成さ
れており、前記複数領域の1つの領域内に部分的に損失
部が存在し、電流注入により複数領域が、TE利得が優
勢な領域とTM利得が優勢な領域となり、小さな変調電
流で偏波スイッチング可能な偏波変調レーザを容易に実
現可能としたものである。小さな変調電流であるのでチ
ャーピングが抑えられる。
According to the first configuration (corresponding to claims 1 and 2), the active layer is formed of a quantum well structure having a superior TE gain and a T well.
A quantum well structure in which M gain is superior, and
The resonator direction is constituted by a plurality of regions into which current can be independently injected, and a loss portion exists partially in one of the plurality of regions. And a TM gain dominant region, and a polarization-modulated laser capable of polarization switching with a small modulation current can be easily realized. Since the modulation current is small, chirping can be suppressed.

【0043】第2の構成によれば(請求項3に対応)、
前記電流注入領域内に電流を注入しない部分を設けると
いう、非常に簡便且つ新たな制御を必要としない損失部
を構成し、偏波変調レーザ等を実現したものである。
According to the second configuration (corresponding to claim 3),
This is a very simple and lossless portion that does not require any new control by providing a portion into which no current is injected in the current injection region, thereby realizing a polarization-modulated laser or the like.

【0044】第3の構成によれば(請求項4に対応)、
前記電流注入領域内の電流を注入しない部分を、電極の
直下に絶縁層を配置するという簡単な構成により形成し
たものである。
According to the third configuration (corresponding to claim 4),
The portion in which the current is not injected in the current injection region is formed by a simple configuration in which an insulating layer is disposed immediately below the electrode.

【0045】第4の構成によれば(請求項5に対応)、
前記部分的な損失部を形成している電流非注入部を、分
離溝によって形成したもので、隣接する電極からの損失
部への電流の回り込みが少なく、短い溝で効果的な損失
部となる。
According to the fourth configuration (corresponding to claim 5),
The current non-injection portion forming the partial loss portion is formed by a separation groove, so that current sneak into the loss portion from an adjacent electrode is small, and the short groove becomes an effective loss portion. .

【0046】第5の構成によれば(請求項6に対応)、
前記損失部に独立に電流注入できるように電極を設ける
ことにより、損失を制御可能としている。よって、損失
部への注入電流を偏波変調に適した電流値に設定するこ
とを可能にしたものである。
According to the fifth configuration (corresponding to claim 6),
The loss can be controlled by providing an electrode so that current can be independently injected into the loss portion. Therefore, it is possible to set the injection current to the loss portion to a current value suitable for polarization modulation.

【0047】第6の構成によれば(請求項7に対応)、
前記損失部に設けられた独立に電流注入できる電極を、
抵抗を介して同一領域の他の電極と同じ駆動電源に接続
することにより、損失制御用の電源を不要にしたもので
ある。
According to the sixth configuration (corresponding to claim 7),
An electrode provided in the loss portion and capable of independently injecting current,
By connecting to the same drive power supply as the other electrodes in the same region via the resistor, a power supply for loss control is not required.

【0048】第7の構成によれば(請求項8に対応)、
活性層の近傍に配置された光導波層に回折格子を形成す
ることにより、レーザ発振する2つの偏波の少なくとも
一方の偏波を単一モード化するものである。
According to the seventh configuration (corresponding to claim 8),
By forming a diffraction grating in the optical waveguide layer disposed near the active layer, at least one of two polarized laser oscillations is converted into a single mode.

【0049】第8の構成によれば(請求項9に対応)、
前記活性層の障壁層の少なくとも一部にp型不純物をド
ーピングしている。これにより、しきい値電流等を、更
に低減できる。
According to the eighth configuration (corresponding to claim 9),
At least a part of the barrier layer of the active layer is doped with a p-type impurity. Thereby, the threshold current and the like can be further reduced.

【0050】第9、10、11、12の構成によれば
(請求項10、11、12、13に対応)、本発明の偏
波変調レーザを光通信の電気/光変換装置に利用するこ
とにより(更には本発明の偏波無依存光増幅器を受信器
として利用することにより)、強度変調方式でFSK変
調方式と同等の高速動作が可能となり、受信装置を大幅
に簡略化可能にし、光通信ネットワークを安価に実現可
能とするものである。
According to the ninth, tenth, eleventh, and twelfth configurations (corresponding to claims 10, 11, 12, and 13), the polarization-modulated laser of the present invention is used for an electric / optical converter for optical communication. (Moreover, by using the polarization-independent optical amplifier of the present invention as a receiver), a high-speed operation equivalent to that of the FSK modulation method can be performed by the intensity modulation method, and the receiving apparatus can be greatly simplified. A communication network can be realized at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の第1実施例に係わる偏波変調
レーザなどとして用いられる半導体光デバイスの断面斜
視図である。
FIG. 1 is a sectional perspective view of a semiconductor optical device used as a polarization modulation laser or the like according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2は、本発明の第1実施例の活性層構造図で
ある。
FIG. 2 is a diagram showing an active layer structure according to a first embodiment of the present invention.

【図3】図3(a)は、図2の活性層における低注入状
態におけるキャリヤ分配を説明するバンド構造図、図3
(b)は、図2の活性層における高注入状態におけるキ
ャリヤ分配を説明するバンド構造図である。
FIG. 3A is a band structure diagram for explaining carrier distribution in a low injection state in the active layer of FIG. 2;
FIG. 2B is a band structure diagram illustrating carrier distribution in the active layer of FIG. 2 in a high injection state.

【図4】図4は、本発明の第2実施例に係わる偏波変調
レーザなどとして用いられる半導体光デバイスの断面斜
視図である。
FIG. 4 is a sectional perspective view of a semiconductor optical device used as a polarization modulation laser or the like according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図5は、本発明の第3実施例に係わる偏波変調
レーザなどとして用いられる半導体光デバイスの部分断
面斜視図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional perspective view of a semiconductor optical device used as a polarization modulation laser or the like according to a third embodiment of the present invention.

【図6】図6は、本発明の偏波変調レーザを光通信に使
用する場合の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram in the case where the polarization modulation laser of the present invention is used for optical communication.

【図7】図7は図8、図9のシステムにおけるノードの
構成例を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a configuration example of a node in the systems of FIGS. 8 and 9;

【図8】図8は本発明の半導体光デバイスを用いたバス
型光LANシステムの構成例を示す模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a configuration example of a bus-type optical LAN system using the semiconductor optical device of the present invention.

【図9】図9は本発明の半導体光デバイスを用いたルー
プ型光LANシステムの構成例を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing a configuration example of a loop type optical LAN system using the semiconductor optical device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 下部共通電極 2 n−InP基板及びn−InP下部クラッド層 3 TM利得量子井戸とTE利得量子井戸から成る多重
量子井戸活性層 4 光導波層となるバンド端波長〜1.15μmのp
−InGaAsP層 5 ポリイミド埋込み層 6 p−InP上部クラッド層 7 p−InGaAsコンタクト層 8 第1の領域に電流を注入するための電極 9 電流非注入部を形成するためのSi34絶縁層 10 第2の領域に電流を注入するための電極 11 光導波層に形成された回折格子 12 分離溝 49 電極分離溝により形成された電流非注入部 58 第1領域の吸収損失制御用電極 59 抵抗 210、220 バリア層 211 TE利得量子井戸 213 TM/TE分離層 221 TM利得量子井戸 610、704 本発明の半導体レーザ 611、707 偏光子 703 受信器 706 合流部 811〜815、911〜916 端末 700、800、900 光伝送路 701、801〜805、901〜906 ノード 702 光分岐部
REFERENCE SIGNS LIST 1 Lower common electrode 2 n-InP substrate and n-InP lower cladding layer 3 Multiple quantum well active layer composed of TM gain quantum well and TE gain quantum well 4 Band edge wavelength to serve as optical waveguide layer p of 1.15 μm
-InGaAsP layer 5 Polyimide buried layer 6 p-InP upper cladding layer 7 p-InGaAs contact layer 8 Electrode for injecting current into first region 9 Si 3 N 4 insulating layer for forming current non-injection part 10 Electrode for injecting current into second region 11 Diffraction grating formed in optical waveguide layer 12 Separation groove 49 Non-current injection portion formed by electrode separation groove 58 Electrode for controlling absorption loss in first region 59 Resistance 210 , 220 Barrier layer 211 TE gain quantum well 213 TM / TE separation layer 221 TM gain quantum well 610, 704 Semiconductor laser 611, 707 Polarizer 703 Receiver 706 Junction sections 811 to 815, 911 to 916 Terminal 700, 800 , 900 Optical transmission line 701, 801-805, 901-906 Node 702 Optical branching unit

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体レーザ構造を有する半導体光デバイ
スにおいて、活性層は、半導体基板より小さい格子定数
の半導体を井戸層とする量子井戸構造と半導体基板の格
子定数に等しいか或は大きい格子定数の半導体を井戸層
とする量子井戸構造の積層構造であり、共振器方向は独
立に電流注入が可能な複数の領域で構成されており、か
つ、前記複数の領域の1つの領域内に部分的に電流注入
が制限されて損失が生ずる損失部が設けられていること
を特徴とする半導体光デバイス。
In a semiconductor optical device having a semiconductor laser structure, an active layer has a quantum well structure having a semiconductor having a lattice constant smaller than that of a semiconductor substrate as a well layer and a quantum well structure having a lattice constant equal to or larger than the lattice constant of the semiconductor substrate. The quantum well structure has a stacked structure of a quantum well structure in which a semiconductor is a well layer. The resonator direction is composed of a plurality of regions in which current can be independently injected, and is partially provided in one of the plurality of regions. A semiconductor optical device, comprising: a loss portion in which current injection is restricted and loss occurs.
【請求項2】注入電流の制御によってレーザ発振光の偏
光方向がTE、TM間でスイッチングする偏波変調レー
ザとして構成されていることを特徴とする請求項1記載
の半導体光デバイス。
2. The semiconductor optical device according to claim 1, wherein the polarization direction of the laser oscillation light is switched between TE and TM by controlling the injection current.
【請求項3】前記部分的な損失部が電流が注入できない
電流非注入部によって形成されていることを特徴とする
請求項1または2記載の半導体光デバイス。
3. The semiconductor optical device according to claim 1, wherein said partial loss portion is formed by a current non-injection portion into which no current can be injected.
【請求項4】前記部分的な損失部を形成している電流非
注入部は、電極直下に配置された絶縁層によって形成さ
れていることを特徴とする請求項3記載の半導体光デバ
イス。
4. The semiconductor optical device according to claim 3, wherein the current non-injection portion forming the partial loss portion is formed by an insulating layer disposed immediately below the electrode.
【請求項5】前記部分的な損失部を形成している電流非
注入部は、電極を分離する溝によって形成されているこ
とを特徴とする請求項3記載の半導体光デバイス。
5. The semiconductor optical device according to claim 3, wherein the current non-injection part forming the partial loss part is formed by a groove separating the electrodes.
【請求項6】前記部分的な損失部が独立に電流注入可能
な電極を有しており、損失部への電流注入制御により損
失が制御可能であることを特徴とする請求項3記載の半
導体光デバイス。
6. The semiconductor according to claim 3, wherein the partial loss portion has an electrode capable of independently injecting current, and the loss can be controlled by controlling current injection to the loss portion. Optical device.
【請求項7】前記部分的な損失部の独立に電流注入可能
な電極が、抵抗を介して同一領域の他の電極と同じ駆動
電源に接続されていることを特徴とする請求項6記載の
半導体光デバイス。
7. An electrode according to claim 6, wherein the electrode capable of injecting current independently of said partial loss portion is connected to the same drive power supply as another electrode in the same region via a resistor. Semiconductor optical device.
【請求項8】前記活性層の近傍に配置された光導波層に
回折格子が形成されており、2つの直交する偏波のレー
ザ発振光の少なくとも一方が単一モードであることを特
徴する請求項1乃至7の何れかに記載の半導体光レー
ザ。
8. A method according to claim 1, wherein a diffraction grating is formed in the optical waveguide layer disposed near the active layer, and at least one of the two orthogonally polarized laser oscillation lights has a single mode. Item 8. A semiconductor optical laser according to any one of Items 1 to 7.
【請求項9】前記活性層の障壁層の少なくとも一部にp
型不純物がドーピングされていることを特徴する請求項
1乃至8の何れかに記載の半導体光レーザ。
9. At least a part of the barrier layer of the active layer has p
9. The semiconductor optical laser according to claim 1, wherein a type impurity is doped.
【請求項10】請求項1乃至9の何れかに記載の偏波変
調半導体レーザとして構成された半導体光デバイスと、
該半導体デバイスから出射する光の内、TEとTMの2
つの偏波モードの一方の発振による光のみを取り出す偏
光子などの偏光選択手段とから成ることを特徴とする光
源装置。
10. A semiconductor optical device configured as the polarization-modulated semiconductor laser according to claim 1;
Of the light emitted from the semiconductor device, 2 of TE and TM
A light source device comprising: a polarization selecting unit such as a polarizer that extracts only light generated by one of two polarization modes.
【請求項11】請求項1乃至9の何れかに記載の偏波変
調半導体レーザとして構成された半導体光デバイスと、
該半導体レーザから出射する光の内、TEとTMの2つ
の偏波モードの一方の発振による光のみを取り出す偏光
子などの偏光選択手段とから成る光源装置を備えた光送
信機、前記偏光選択手段によって取り出された光を伝送
する伝送手段、及び前記伝送手段によって伝送された光
を受信する光受信機から成ることを特徴とする光通信シ
ステム。
11. A semiconductor optical device configured as the polarization-modulated semiconductor laser according to any one of claims 1 to 9,
An optical transmitter including a light source device including a polarization selection unit such as a polarizer that extracts only light generated by one of two polarization modes of TE and TM out of light emitted from the semiconductor laser; An optical communication system comprising: transmission means for transmitting the light extracted by the means; and an optical receiver for receiving the light transmitted by the transmission means.
【請求項12】前記光受信機が請求項1記載の偏波無依
存光増幅器として構成された半導体光デバイスを含むこ
とを特徴とする請求項11記載の光通信システム。
12. The optical communication system according to claim 11, wherein said optical receiver includes a semiconductor optical device configured as the polarization independent optical amplifier according to claim 1.
【請求項13】請求項1乃至9の何れかに記載の偏波変
調半導体レーザとして構成された半導体光デバイスと、
該半導体レーザから出射する光の内、TEとTMの2つ
の偏波モードの一方の発振による光のみを取り出す偏光
子などの偏光選択手段とから成る光源装置を用い、所定
のバイアス電流に送信信号に応じて変調された電流を重
畳して前記半導体レーザに供給することによって、前記
偏光選択手段から送信信号に応じて強度変調された信号
光を取り出し、この信号光を光受信機に向けて送信する
ことを特徴とする光通信方法。
13. A semiconductor optical device configured as the polarization-modulated semiconductor laser according to claim 1,
A light source device comprising a polarization selecting means such as a polarizer for extracting only light generated by one of two polarization modes of TE and TM out of light emitted from the semiconductor laser, and transmitting a transmission signal to a predetermined bias current. By superimposing a current modulated according to the above and supplying the superimposed current to the semiconductor laser, a signal light intensity-modulated according to the transmission signal is extracted from the polarization selecting unit, and the signal light is transmitted to the optical receiver. An optical communication method, comprising:
JP8199861A 1996-07-10 1996-07-10 Semiconductor optical device Pending JPH1027948A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8199861A JPH1027948A (en) 1996-07-10 1996-07-10 Semiconductor optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8199861A JPH1027948A (en) 1996-07-10 1996-07-10 Semiconductor optical device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1027948A true JPH1027948A (en) 1998-01-27

Family

ID=16414878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8199861A Pending JPH1027948A (en) 1996-07-10 1996-07-10 Semiconductor optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1027948A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015056515A (en) * 2013-09-12 2015-03-23 日本オクラロ株式会社 Semiconductor optical element and optical communication module

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015056515A (en) * 2013-09-12 2015-03-23 日本オクラロ株式会社 Semiconductor optical element and optical communication module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3210159B2 (en) Semiconductor laser, light source device, optical communication system and optical communication method
US5590145A (en) Light-emitting apparatus capable of selecting polarization direction, optical communication system, and polarization modulation control method
US6252895B1 (en) Distributed feedback semiconductor laser in which light intensity distributions differ in different polarization modes, and driving method therefor
JPH07264138A (en) Communication system and optical communication system using it
JP3244976B2 (en) Semiconductor laser driving method, semiconductor laser device, optical communication method, node, and optical communication system
JPH118442A (en) Optical semiconductor device, optical communication system provided therewith, and method therefor
EP0668642B1 (en) Oscillation polarization mode selective semiconductor laser, light transmitter and optical communication system using the laser
US6337868B1 (en) Distributed feedback semiconductor laser and a driving method therefor
US6195188B1 (en) Optical wavelength conversion apparatus and method
JPH1174599A (en) Driving method for signal transmission semiconductor light source, signal transmission light source, and optical communication method and system employing it
JPH10117047A (en) Semiconductor laser which can switch polarization of output beam, semiconductor laser apparatus and drive method thereof
JPH1027948A (en) Semiconductor optical device
JP3246703B2 (en) Semiconductor laser capable of polarization modulation and optical communication system using the same
JPH1022573A (en) Multiple quantum well semiconductor light device
JP3387722B2 (en) Semiconductor laser device and optical communication system using the same
JPH1041587A (en) Semiconductor optical device having a variety of active layers different in polarization mode where gain has priority
JPH11214801A (en) Light emitting device capable of generating a plurality of modulated lights
JPH1022571A (en) Polarized wave modulation semiconductor laser for te mode loss selection control
JP3303653B2 (en) Semiconductor laser device, driving method thereof, and optical communication system using the same
JPH1070341A (en) Semiconductor laser capable of polarization modulation and manufacture thereof
JPH053374A (en) Wavelength selective optical semiconductor element and method for amplifying or emitting light therewith
JP2596329B2 (en) Tunable semiconductor laser
JPH08172234A (en) Optical transmitter and modulation system thereof
JPH10117046A (en) Semiconductor laser and its drive method and optical transmitter using it and optical communication system using it
JPH11238943A (en) Distribution feedback-type semiconductor laser and its drive method