JPH10276981A - Method and device of optometry target projection and target board for optometry target projection - Google Patents

Method and device of optometry target projection and target board for optometry target projection

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JPH10276981A
JPH10276981A JP9087080A JP8708097A JPH10276981A JP H10276981 A JPH10276981 A JP H10276981A JP 9087080 A JP9087080 A JP 9087080A JP 8708097 A JP8708097 A JP 8708097A JP H10276981 A JPH10276981 A JP H10276981A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable to precisely present more various targets, by providing plural rows of target patterns on a target board to enable to select and project an arbitrary pattern row and an arbitrary target pattern. SOLUTION: First and second pattern rows 5a, 5b for projection comprising a number of target patterns with translucent patterns for unit projection on the circumference at distances of radii r1 , r2 from the center are formed on a target board 5. Accordingly, when a mirror unit 6 is selected so that a projection image of a target pattern for projection on the target board 5 is guided into an objective lens 7 and the target board 5 is controlled to rotate, a desired target pattern for projection can be projected on a screen. That is, an aimed target pattern can be freely selected from all the target patterns on the target board 5 and can be projected on a screen 8 by combining selecting operation of a setting position of the mirror unit 6 and rotation control of the target board 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、検眼に用いる視標
を投影する検眼視標投影方法及びその装置並びに検眼視
標投影用ターゲット板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for projecting an optotype for projecting an optotype used for optometry, and a target plate for projecting an optotype.

【0002】[0002]

【従来の技術】視力検査等の検眼を行う際には、視力表
が用いられる。この視力表は、検眼に必要な種々の視標
を有するものであり、被検者から適切な距離だけ離れた
位置に呈示される。この視力表としては、ロール状の紙
面上に必要な視標を配列し、紙面を照明しながら検眼す
るようにしたものや、半透明の部材に視標を配列して背
面から照明するようにしたものの外に、投影式視力表
(チャートプロジェクター)が知られている。
2. Description of the Related Art An eye chart is used when performing an eye examination such as an eye test. This eye chart has various optotypes necessary for optometry, and is presented at a position separated from the subject by an appropriate distance. As this eye chart, the required optotypes are arranged on a roll-shaped paper surface, the eye is examined while illuminating the paper surface, or the optotypes are arranged on a translucent member and illuminated from the back. In addition to the above, a projection type visual acuity chart (chart projector) is known.

【0003】投影式視力表(チャートプロジェクター)
は、必要な投影用視標パターンが形成された検眼視標投
影用ターゲット板の視標投影像をスクリーンに結像する
という方式の視力表である。この方式の視力表は比較的
小型コンパクトで扱いやすいという利点を有することか
ら最近用いられる機会が多くなってきた。
[0003] Projection visual acuity chart (chart projector)
Is a visual acuity table of a method of forming an optotype projection image of a target plate for optometry optotype projection on which a required optotype pattern for projection is formed on a screen. Optotype charts of this type have been used recently because of their advantages of being relatively small and compact and easy to handle.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、投影式視力
表は、投影方式であるために他の方式に比較すると輝度
や精密さにおいては難点があるといわれてきた。また、
この方式は他の方式に比較すると視標の数を多くしやす
いが、最近では視標の数をより増やしたいという要請も
高まっている。
Incidentally, it has been said that the projection type visual acuity table has a drawback in brightness and precision as compared with other types because it is a projection type. Also,
Although this method is easy to increase the number of optotypes as compared with other methods, recently, there is an increasing demand for increasing the number of optotypes.

【0005】本発明は、上述した背景のもとでなされた
ものであり、より多種類の視標をより精密に呈示するこ
とを可能にする検眼視標投影方法及びその装置並びに検
眼視標投影用ターゲット板を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned background, and has an optometric optotype projecting method and apparatus and an optometric optotype projecting apparatus capable of presenting more types of optotypes more precisely. It is intended to provide a target plate for use.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、請求項1の発明は、遮光性板状体に透光パターン
からなる投影用視標パターンが形成された検眼視標投影
用ターゲット板を用い、該ターゲット板の前記投影用視
標パターンを通して投影光を投射して投影スクリーンに
視標パターンの投影像を形成するようにした検眼視標投
影方法であって、前記検眼視標投影用ターゲット板に、
前記投影用視標パターンが前記ターゲット板上の特定の
直線又は曲線上に位置するように複数配列される投影用
視標パターン列を形成するとともに、前記検眼視標投影
用ターゲット板に対する投影光の投射位置を前記特定の
直線又は曲線上において任意に選択できるように前記投
影光とターゲット板との相対位置を変えることができる
ようにして、前記投影用視標パターン列の中から任意の
視標パターンを選択して投影できるようにした検眼視標
投影方法において、前記検眼視標投影用ターゲット板に
前記投影用視標パターン列を複数設け、該パターン列の
中から任意のパターン列を選択してその中の任意の視標
パターンを選択して投影できるようにしたことを特徴と
する検眼視標投影方法である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is directed to an optometric examination projecting method in which an optotype projecting pattern comprising a light-transmitting pattern is formed on a light-shielding plate. An optometric optotype projecting method using a target plate and projecting projection light through the projecting optotype pattern of the target plate to form a projection image of the optotype pattern on a projection screen, wherein the optometric optotype On the target plate for projection,
A plurality of projection optotype pattern arrays are arranged such that the projection optotype pattern is located on a specific straight line or curve on the target plate. The relative position between the projection light and the target plate can be changed so that the projection position can be arbitrarily selected on the specific straight line or curve, and any target from the target target pattern sequence can be selected. In the optometry optotype projection method that allows a pattern to be selected and projected, a plurality of the projection optotype pattern rows are provided on the optometry optotype projection target plate, and an arbitrary pattern row is selected from the pattern rows. An optometry optotype projection method, characterized in that an arbitrary optotype pattern is selected and projected.

【0007】請求項2の発明は、遮光性円板体の中心か
ら特定の半径位置の同一円周状に透光パターンからなる
投影用視標パターンが複数配列されてなる投影用視標パ
ターン列を有する検眼視標投影用ターゲット板を用い、
投影光が前記ターゲット板の前記投影用視標パターン列
が形成されている円周上に投射されるようにするととも
に、前記円板体を該円板体の中心を回転中心にして回転
することによって、投影スクリーンに前記投影用視標パ
ターン列の中から任意の視標パターンを選択して投影で
きるようにした検眼視標投影方法において、前記検眼視
標投影用ターゲット板に、該ターゲット板の中心からの
半径位置が異なる複数の円周上にそれぞれ異なる投影用
視標パターン列を設け、前記複数の投影用視標パターン
列の中から任意のパターン列を選択してその中の任意の
視標パターンを選択して投影できるようにしたことを特
徴とする検眼視標投影方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a projection optotype pattern array in which a plurality of projection optotype patterns each composed of a translucent pattern are arranged in the same circumference at a specific radial position from the center of the light-shielding disc. Using a target plate for optometry optotype projection with
The projection light is projected onto the circumference of the target plate on which the projection target pattern row is formed, and the disc is rotated around the center of the disc. Thus, in the optometric optotype projecting method in which an arbitrary optotype pattern can be selected and projected from the projecting optotype pattern sequence on a projection screen, the optometric optotype target target plate is A plurality of projection target pattern rows are respectively provided on a plurality of circles having different radial positions from the center, and an arbitrary pattern row is selected from the plurality of projection target pattern rows to select an arbitrary visual target among them. An optometric optotype projection method characterized in that a target pattern can be selected and projected.

【0008】請求項3の発明は、前記スクリーンに投影
すべき視標パターンの選択は、前記投影光の光源からス
クリーンに至るまでの投影光の光路上に前記投影用視標
パターン列のいずれかを位置させるパターン列選択操作
と、前記投影用視標パターン列の中のいずれかの投影用
視標パターンを前記投影光の光路上に選択して位置させ
る投影用視標パターン選択操作とを有する方法で行うこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載の検眼視標投影方
法である。
According to a third aspect of the present invention, the selection of the target pattern to be projected on the screen is performed by selecting any one of the projection target pattern arrays on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen. And a projecting target pattern selecting operation for selecting and positioning any one of the projecting target patterns in the projecting target pattern sequence on the optical path of the projection light. The optometry optotype projection method according to claim 1, wherein the method is performed by a method.

【0009】請求項4の発明は、前記投影用視標パター
ン列選択操作は、投影光を前記複数の投影用視標パター
ン列が位置するいずれか2以上の直線又は曲線上に位置
するように投射してそれぞれの投影用視標パターンを通
過した互いに光路の異なる2以上の光線束を形成し、こ
れら光線束のいずれか1を選択して投影用対物光学系に
導入する操作であることを特徴とする請求項3に記載の
検眼視標投影方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, in the projection target pattern row selecting operation, the projection light is positioned on any two or more straight lines or curves on which the plurality of projection target pattern rows are located. It is an operation of projecting and forming two or more light beams having different optical paths from each other and passing through each projection target pattern, and selecting any one of these light beams and introducing the selected light beam into the projection objective optical system. A method for projecting an optometric optotype according to claim 3.

【0010】請求項5野は発明は、前記投影用視標パタ
ーン列選択操作は、前記検眼視標投影用ターゲット板と
投影光との相対位置を移動させて、前記投影光の光源か
らスクリーンに至るまでの投影光の光路上に前記投影用
視標パターン列のいずれかを選択して位置させる操作で
あることを特徴とする請求項3に記載の検眼視標投影方
法である。
In a fifth aspect of the present invention, in the projecting target pattern array selecting operation, the relative position between the optometric target projecting target plate and the projection light is moved so that the light source of the projection light is transmitted to the screen. The optometry optotype projection method according to claim 3, wherein the operation is an operation of selecting and positioning any one of the projection target pattern arrays on the optical path of the projection light up to the point.

【0011】請求項6の発明は、投影光を出射する投影
用光源と、遮光性板状体に透光パターンからなる投影用
視標パターンが形成された検眼視標投影用ターゲット板
と、前記投影光を前記ターゲット板の投影用視標パター
ンに投射する光路手段と、前記投影用視標パターンを投
影光が通過して形成される投影像をスクリーンに結像さ
せる対物光学系とを有する検眼視標投影装置であって、
前記検眼視標投影用ターゲット板は、前記投影用視標パ
ターンが前記ターゲット板上の特定の直線又は曲線上に
複数配列されてなる投影用視標パターン列が複数列形成
されたものであり、前記投影光の光源からスクリーンに
至るまでの投影光の光路上に前記投影用視標パターン列
のいずれかを選択して位置させるパターン列選択手段
と、前記投影用視標パターン列の中のいずれかの投影用
視標パターンを前記投影光の光路上に選択して位置させ
る投影用視標パターン選択手段とを有することを特徴と
する検眼視標投影装置である。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a projection light source for emitting projection light, a target plate for optometric optotype projection in which a projection target pattern comprising a light-transmitting pattern is formed on a light-shielding plate-like body, Optometrist having an optical path means for projecting projection light onto a projection target pattern on the target plate, and an objective optical system for forming a projection image formed by passing the projection target pattern on the screen. An optotype projection device,
The target plate for optometry optotype projection is formed by forming a plurality of projection optotype pattern rows in which the projection optotype patterns are arranged on a specific straight line or curve on the target plate. A pattern sequence selecting means for selecting and positioning any of the projection target pattern arrays on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen; and any of the projection target pattern arrays And a projection target pattern selecting means for selecting and positioning the projection target pattern on the optical path of the projection light.

【0012】請求項7の発明は、投影光を出射する投影
用光源と、遮光性円板体の中心から特定の半径位置の同
一円周状に透光パターンからなる投影用視標パターンが
複数配列されてなる投影用視標パターン列を有する検眼
視標投影用ターゲット板と、該ターゲット板の前記投影
用視標パターン列が形成されている円周上に前記投影光
を投射する光路手段と、前記ターゲット板をその中心を
回転中心に回転駆動して前記投影光が投射される投影用
視標パターンを選択する回転駆動手段と、前記ターゲッ
ト板の投影用視標パターンを前記投影光が通過して形成
される投影像をスクリーンに結像させる対物光学系とを
有する検眼視標投影装置であって、前記検眼視標投影用
ターゲット板は、該ターゲット板の中心からの半径位置
が異なる複数の円周上にそれぞれ異なる投影用視標パタ
ーン列が設けられたものであり、前記投影光の光源から
スクリーンに至るまでの投影光の光路上に前記投影用視
標パターン列のいずれかを選択して位置させるパターン
列選択手段を有することを特徴とする検眼視標投影装置
である。
According to a seventh aspect of the present invention, there are provided a projection light source for emitting projection light, and a plurality of projection target patterns each composed of a light-transmitting pattern having the same circumference at a specific radial position from the center of the light-shielding disc. A target plate for optometric optotype projection having an array of projecting optotype patterns arranged in an array, and an optical path means for projecting the projection light onto a circumference of the target plate on which the projecting optotype pattern array is formed. Rotating drive means for rotating the target plate around its center to select the projection target pattern on which the projection light is projected, and the projection light passing through the projection target pattern on the target plate. And an objective optical system for forming a projection image formed on the screen, wherein the target plate for projecting the optometric target has a plurality of radial positions different from the center of the target plate. Circle of Different projection target pattern arrays are provided on the top, and any one of the projection target pattern arrays is selected and positioned on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen. An optometric optotype projection device comprising a pattern sequence selecting means for causing the optometry target.

【0013】請求項8のは発明は、前記パターン列選択
手段は、前記投影光を前記複数の投影用視標パターン列
が位置するいずれか2以上の直線又は曲線上に位置する
ように投射してそれぞれの投影用視標パターンを通過し
た互いに光路の異なる2以上の光線束を形成する投影光
線束形成手段と、これら光線束のいずれか1を選択して
投影用対物光学系に導入する投影光線束選択手段とを有
するものであることを特徴とする請求項6又は7に記載
の検眼視標投影装置である。
In a preferred embodiment of the present invention, the pattern sequence selecting means projects the projection light so as to be located on any two or more straight lines or curves on which the plurality of projection target pattern sequences are located. Projection light beam forming means for forming two or more light beams having different optical paths that have passed through the respective projection target patterns, and a projection for selecting one of these light beams and introducing the selected light beam to the projection objective optical system. The optometry optotype projection apparatus according to claim 6, further comprising a light beam selection unit.

【0014】請求項9の発明は、前記投影用視標パター
ン列選択手段は、前記検眼視標投影用ターゲット板と投
影光との相対位置を移動させて、前記投影光の光源から
スクリーンに至るまでの投影光の光路上に前記投影用視
標パターン列のいずれかを選択して位置させるパターン
列移動手段を有するものであることを特徴とする請求項
6又は7に記載の検眼視標投影装置である。
According to a ninth aspect of the present invention, the projection target pattern sequence selecting means moves a relative position between the optometry target target projection plate and the projection light to reach a screen from a light source of the projection light. 8. The optometry optotype projection according to claim 6, further comprising a pattern row moving unit that selects and positions any of the projection optotype pattern rows on the optical path of the projection light up to the target. Device.

【0015】請求項10の発明は、前記投影光線束選択
手段は、対物光学系の光路方向と異なる方向からの光線
束を反射して対物光学系に導入する第1の反射手段と、
前記投影用視標パターンを通過した光線束を反射して前
記第1の反射手段に送出する第2の反射手段と、前記対
物光学系と前記第1の反射手段との光軸を一致させて該
光軸を回転軸にして前記第1の反射手段と第2の反射手
段とを一体にして回転させる回転機構とを有し、前記第
1の反射手段と第2の反射手段とを一体にして回転させ
ることによって、前記投影用視標パターンを通過した互
いに光路の異なる2以上の光線束のうちの任意の光線束
を選択して前記対物光学系に導入できるようにしたもの
であることを特徴とする請求項8に記載の検眼視標投影
装置である。
According to a tenth aspect of the present invention, the projection light beam selecting means reflects the light beam from a direction different from the optical path direction of the objective optical system and introduces the light beam into the objective optical system;
The second reflecting means for reflecting the light beam that has passed through the projection target pattern and sending it to the first reflecting means, and the optical axes of the objective optical system and the first reflecting means are matched. A rotation mechanism for rotating the first reflection means and the second reflection means integrally with the optical axis as a rotation axis, and integrating the first reflection means and the second reflection means; By rotating the light beam, any one of two or more light beams having different optical paths passing through the projection target pattern can be selected and introduced into the objective optical system. An optometric optotype projection apparatus according to claim 8, wherein:

【0016】請求項11の発明は、遮光性板状体に透光
パターンからなる投影用視標パターンが形成された検眼
視標投影用ターゲット板であって、前記遮光性板状体が
ガラス基板にクロム膜が形成されたでものであり、前記
投影用視標パターンは前記クロム膜の一部を選択的に除
去してパターンを形成したものであることを特徴とする
検眼視標投影用ターゲット板である。
An eleventh aspect of the present invention is a target plate for optometric optotype projection in which a projection target pattern comprising a light-transmitting pattern is formed on a light-shielding plate-like body, wherein the light-shielding plate-like body is a glass substrate. Wherein the projection target pattern is formed by selectively removing a part of the chromium film to form a pattern. It is.

【0017】請求項12の発明は、遮光性円板体の中心
から特定の半径位置の同一円周状に透光パターンからな
る投影用視標パターンが複数配列されてなる投影用視標
パターン列を有する検眼視標投影用ターゲット板であっ
て、前記投影用視標パターン列が該ターゲット板の中心
からの半径位置が異なる複数の円周上にそれぞれ設けら
れていることを特徴とする検眼視標投影用ターゲット板
である。
A twelfth aspect of the present invention is a projection optotype pattern array in which a plurality of projection optotype patterns each composed of a translucent pattern are arranged in the same circumference at a specific radial position from the center of the light-shielding disc. A target plate for projecting an optotype having an eye, wherein the projecting optotype pattern sequence is provided on a plurality of circumferences having different radial positions from the center of the target plate. It is a target plate for target projection.

【0018】[0018]

【実施の形態】図1は本発明の実施例にかかる検眼視標
投影装置の概略構成を示す図であり、図2は実施例にか
かる検眼視標投影装置の外観斜視図、図3は実施例にか
かる検眼視標投影装置の部分断面図、図4ないし図6は
実施例にかかる検眼視標投影装置の分解図、図7及び図
8は実施例にかかる検眼視標投影装置の部分図、図9及
び図10は実施例にかかる検眼視標投影装置の部分説明
図、図11ないし図13は実施例にかかる検眼視標投影
装置に検眼視標投影用ターゲット板として用いられるタ
ーゲット板の説明図、図14は実施例にかかる検眼視標
投影装置に用いられるマスク板の説明図である。以下、
これらの図面を参照にしながら、実施例の検眼視標投影
装置を説明する。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an optometric optotype projecting apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an external perspective view of the optometric optotype projecting apparatus according to the embodiment, and FIG. 4 to 6 are exploded views of the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment, and FIGS. 7 and 8 are partial views of the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment. 9 and 10 are partial explanatory views of the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment. FIGS. 11 to 13 show target plates used as optometric optotype projection target plates in the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment. FIG. 14 is an explanatory view of a mask plate used in the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment. Less than,
An optometric optotype projection apparatus according to an embodiment will be described with reference to these drawings.

【0019】図1に示されるように、この実施例の検眼
視標投影装置は、投影用光源1から出射した光を2つの
ミラー2a,2bによって反射させ、コンデンサーレン
ズ3a,3bによって2つの投影光線束にしてマスク板
4及びターゲット板5の半径方向における異なる2つの
位置に投射し、それぞれの位置への投射によって各々1
群の視標投影像を形成できるようにし、その2群の視標
投影像群のうちのいずれかをミラーユニット6によって
選択して対物レンズ7に導入できるようにして、スクリ
ーン8に結像させるものである。そして、選択された投
影像群の中から特定の視標投影像を選択する操作を、マ
スク板4及びターゲット板5をそれぞれ回転制御するこ
とによって行うものである。
As shown in FIG. 1, in the optometry optotype projection apparatus of this embodiment, light emitted from a projection light source 1 is reflected by two mirrors 2a and 2b, and two projections are made by condenser lenses 3a and 3b. The light beam is projected onto two different positions in the radial direction of the mask plate 4 and the target plate 5, and the light beam is projected onto each of the two positions.
A group of optotype projected images can be formed, and one of the two groups of optotype projected image groups can be selected by the mirror unit 6 and introduced into the objective lens 7 to form an image on the screen 8. Things. Then, an operation of selecting a specific target projection image from the selected projection image group is performed by controlling the rotation of the mask plate 4 and the target plate 5, respectively.

【0020】図4に示されるように、光源1はハロゲン
ランプ等によって構成され、ランプハウス12の中心部
に配置される。ミラー2a,2bは上記光源1を囲むよ
うに互いに直交してランプハウス12内に配置される。
したがって、光源1から出射した光はミラー2a,2b
に反射されてこれらミラー反射領域で規制される発散光
線束となって図中左方に進行してコンデンサーレンズ3
a,3bに入射される。
As shown in FIG. 4, the light source 1 is constituted by a halogen lamp or the like, and is disposed at the center of the lamp house 12. The mirrors 2 a and 2 b are arranged orthogonally to each other in the lamp house 12 so as to surround the light source 1.
Therefore, the light emitted from the light source 1 is reflected by the mirrors 2a and 2b.
To the divergent light beam regulated by these mirror reflection areas, travels to the left in the figure, and travels to the condenser lens 3
a, 3b.

【0021】コンデンサーレンズ3a,3bは、ともに
上記発散光線束内にあって上記発散光線束をそれぞれ別
個の投影用光線束にして2つの投影光を形成するもので
ある。図5に示されるように、コンデンサーレンズ3
a,3bは、それぞれ複数のレンズ群で構成されてお
り、マスク板4及びターゲット板5を収納するターゲッ
トケース45のベースケース45aに形成されたレンズ
ケース30a,30bにそれぞれ収納されている。レン
ズケース30a,30bは、上記ターゲットケース45
に収納されたマスク板4及びターゲット板5に対してそ
の半径方向において異なる位置に上記コンデサーレンズ
3a,3bから出射される投影光が投射されるような配
置関係で形成されている。
The condenser lenses 3a and 3b are both in the divergent light beam bundle and convert the divergent light beam beam into separate projection light beam beams to form two projection lights. As shown in FIG. 5, the condenser lens 3
Reference numerals a and 3b each include a plurality of lens groups, and are accommodated in lens cases 30a and 30b formed on a base case 45a of a target case 45 accommodating the mask plate 4 and the target plate 5, respectively. The lens cases 30a and 30b are connected to the target case 45 described above.
The projection light emitted from the condenser lenses 3a and 3b is formed at different positions in the radial direction with respect to the mask plate 4 and the target plate 5 housed in the projector.

【0022】マスク板4及びターゲット板5はターゲッ
トケース45内に収納され、同軸的に配置されているが
互いに独立的に回転制御可能に支持されている円板体で
あり、ともに遮光性円板の同一円周上に多数の単位透光
パターンが形成されたものである。
The mask plate 4 and the target plate 5 are housed in a target case 45 and are coaxially arranged, but are disk members supported so as to be able to control rotation independently of each other. A large number of unit light-transmitting patterns are formed on the same circumference.

【0023】マスク板4は、ターゲット板5に形成され
た個々の視標投影用パターンの一部を遮蔽して必要な部
分のみを投影できるようにするマスクである。図14は
マスク板4の平面図であり、中心から半径r1 の位置の
円周上に透光パターンを有する多数の単位マスクパター
ンからなる第1のマスクパターン列4aが形成され、中
心から半径r2 の位置の円周上に同様に第2のマスクパ
ターン列4bが形成されたものである。このマスク板4
は直径150mm、厚さ0.25mmのアルミニウム板
にフォトエッチング法によって透光貫通パターンを形成
したものである。なお、第1のマスクパターン列4a及
び第2のマスクパターン列4bには、透光パターンのな
いパターン、いわば全遮光パターンともいうべき領域が
設けられている。これは、投影視標の切り替えの際にタ
ーゲット板5自身の慣性によって投影像が揺れる場合が
あり、被検者に不快感を与えるおそれがあるので、ター
ゲット板5が回転している間マスク板4によって遮光し
て揺れが見えないようにするためである。
The mask plate 4 is a mask that blocks a part of each target target projection pattern formed on the target plate 5 so that only a necessary part can be projected. Figure 14 is a plan view of a mask plate 4, a first mask pattern array 4a comprising a number of unit mask pattern having a light-transmitting pattern on a circumference of a position of a radius r 1 from the center are formed, the radius from the center Similarly on the circumference of the position of r 2 in which the second mask pattern array 4b is formed. This mask plate 4
Has a light transmitting through pattern formed on a 150 mm diameter, 0.25 mm thick aluminum plate by photoetching. Note that the first mask pattern row 4a and the second mask pattern row 4b are provided with a pattern having no light-transmitting pattern, that is, an area which can be called an all-light-shielding pattern. This is because the projection image may fluctuate due to the inertia of the target plate 5 itself when the projection target is switched, and may cause discomfort to the subject. Therefore, the mask plate is rotated while the target plate 5 is rotating. This is because the light is shielded by 4 so that no shaking can be seen.

【0024】ターゲット板5は、上記コンデンサレンズ
3a,3bからの投影光をうけて検眼視標の投影像を形
成するものである。
The target plate 5 receives the projection light from the condenser lenses 3a and 3b and forms a projection image of the optometric optotype.

【0025】図11はターゲット板5の平面図であり、
中心から半径r1 の位置の円周上に透光パターンを有す
る多数の単位投影用視標パターンからなる第1の投影用
視標パターン列5aが形成され、中心から半径r2 の位
置の円周上に同様に第2の投影用視標パターン列5bが
形成されている。このターゲット板5は半径148m
m、厚さ1.5mmのガラス板の表面に約0.15μm
厚の遮光性クロム膜を形成し、このクロム膜に、フォト
エッチング法等によってその一部をパターン状に除去し
て透光パターン(透光部と遮光部とで構成されるパター
ン)を形成したものである。図12及び図13は単位投
影用視標パターンの例を示す図であり、図12に示され
る視標はレッドグリーンテスト用であり、図13に示さ
れる視標はランドルト氏環である。
FIG. 11 is a plan view of the target plate 5.
Central first projection optotype pattern array 5a comprising a plurality of unit projection optotype pattern having a light-transmitting pattern on the circumference of the position of the radius r 1 is formed from a circular position of the radius r 2 from the center Similarly, a second projection target pattern row 5b is formed on the circumference. This target plate 5 has a radius of 148 m
m, about 0.15 μm on the surface of a 1.5 mm thick glass plate
A thick light-shielding chromium film was formed, and a part of the chromium film was removed in a pattern by a photoetching method or the like to form a light-transmitting pattern (a pattern including a light-transmitting portion and a light-shielding portion). Things. 12 and 13 are diagrams showing examples of the target projection target pattern. The target shown in FIG. 12 is for a red-green test, and the target shown in FIG. 13 is a Landolt's ring.

【0026】図5及び図8に示されるように、マスク板
4及びターゲット板5には、それぞれ軸部材401及び
501が固着され、これら軸部材の軸線にそって形成さ
れた中心軸孔にはそれぞれステッピングモータ41及び
51の回転軸411及び511が挿通固定されている。
そして、マスク板4及びターゲット板5は、コントロー
ル基板9(図1参照)の指令に基づいてステッピングモ
ータ41及び51によって回転制御がなされるようにな
っている。なお、上記マスク板4及びターゲット板5の
軸部材401及び501には基準位置検知板402及び
502がそれぞれ取り付けられており、上記ターゲット
ケース45には上記基準位置検知板402及び502の
位置を検知してその検知信号をコントロール基板9に送
出する検知器403及び503がそれぞれ設けられてい
る。
As shown in FIGS. 5 and 8, shaft members 401 and 501 are fixed to the mask plate 4 and the target plate 5, respectively, and a central shaft hole formed along the axis of these shaft members is provided in the center shaft hole. The rotating shafts 411 and 511 of the stepping motors 41 and 51 are inserted and fixed, respectively.
The rotation of the mask plate 4 and the target plate 5 is controlled by stepping motors 41 and 51 based on a command from the control board 9 (see FIG. 1). Reference position detection plates 402 and 502 are attached to the shaft members 401 and 501 of the mask plate 4 and the target plate 5, respectively, and the positions of the reference position detection plates 402 and 502 are detected in the target case 45. Then, detectors 403 and 503 for transmitting the detection signal to the control board 9 are provided.

【0027】ターゲット板5によって形成された視標投
影像(投影光線束)はミラーユニット6によって対物レ
ンズ7に導かれる。ミラーユニット6は、互いの反射面
が相対向して平行になるように2つのミラー6a及び6
bがミラーユニット本体60に固定されている。図6に
示されるように、このミラーユニット本体60の一方の
端部(上端部)は、対物レンズ7の光軸とその回転軸を
共通にする回転筒601に固定され、この回転筒601
は固定部に取り付けられた軸受部材602に軸受603
及び604を介して回転自在に支持されている。回転筒
601はその端部に歯部622が形成され、この歯部6
22にベルト62の一方の歯部62aが係合され、この
ベルト62の他方の歯部62bは歯付きプーリ621の
歯に係合され、さらに、プーリ621はステッピングモ
ータ61の回転軸611に嵌合固定されている。なお、
プーリ621には回転基準位置検知板623が固定され
ており、固定部に固定された回転基準位置検知器623
(図7参照)との協同作用によって回転基準位置が検知
されてその信号がコントロール基板9に送出されるよう
になっている。これにより、回転筒601にその上端が
固定されたミラーユニット6はコントロール基板9の指
令信号に基づいて対物レンズの光軸と共通する回転軸の
まわりに所定の回転制御がなされるようになっている。
An optotype projection image (projected light beam) formed by the target plate 5 is guided to an objective lens 7 by a mirror unit 6. The mirror unit 6 has two mirrors 6a and 6a so that the reflection surfaces are opposed to each other and parallel to each other.
b is fixed to the mirror unit main body 60. As shown in FIG. 6, one end (upper end) of the mirror unit main body 60 is fixed to a rotary cylinder 601 that shares the optical axis of the objective lens 7 and its rotation axis.
Is a bearing 603 attached to a bearing member 602 attached to the fixed portion.
And 604 are rotatably supported. The rotating cylinder 601 has a tooth 622 formed at an end thereof.
The other tooth portion 62a of the belt 62 is engaged with the tooth of the toothed pulley 621, and the pulley 621 is fitted on the rotating shaft 611 of the stepping motor 61. It is fixed. In addition,
A rotation reference position detection plate 623 is fixed to the pulley 621, and a rotation reference position detector 623 fixed to a fixing portion.
The rotation reference position is detected by the cooperative operation with (see FIG. 7), and the signal is sent to the control board 9. As a result, the mirror unit 6 whose upper end is fixed to the rotary cylinder 601 performs a predetermined rotation control around a rotation axis common to the optical axis of the objective lens based on a command signal from the control board 9. I have.

【0028】図5に示されるように、上記ミラーユニッ
ト本体6の下端部の開口部はターゲットケース45の蓋
ケース45bの窓部451b及びベースケース45aに
形成された切欠部451aを通してターゲット板5の第
1の投影用視標パターン列5a又は第2の投影用視標パ
ターン列5bと対向する位置に配置されるようになって
いる。すなわち、コントロール基板9からの指令信号に
よってステッピングモータ61を回転制御し、ベルト6
2を介して回転筒601を回転してミラーユニット本体
60を回転することによって、ミラーユニット本体60
の下端部の開口部がターゲット板5の第1の投影用視標
パターン列5a又は第2の投影用視標パターン列5bの
いずれかに対向する位置に配置されるかを選択できるよ
うになっている。
As shown in FIG. 5, the opening at the lower end of the mirror unit main body 6 passes through the window 451b of the lid case 45b of the target case 45 and the cutout 451a formed in the base case 45a. It is arranged at a position facing the first projection target pattern row 5a or the second projection target pattern row 5b. That is, the rotation of the stepping motor 61 is controlled by a command signal from the control board 9, and the belt 6 is controlled.
By rotating the rotary cylinder 601 through the second unit 2 to rotate the mirror unit main body 60, the mirror unit main body 60 is rotated.
It is possible to select whether the opening at the lower end portion of the target plate 5 is arranged at a position facing either the first projection target pattern row 5a or the second projection target pattern row 5b of the target plate 5. ing.

【0029】図9はこの選択操作の説明図であり、ミラ
ーユニット本体60を回転することによって、ミラーユ
ニット6の光軸がAで示される位置にある場合とBの位
置にある場合とに切り替えることができるようになって
いる。ミラーユニット6の光軸がAで示される位置にあ
る場合には、ミラーユニット6はターゲット板5の第1
の投影用視標パターン列5aにある投影用視標パターン
の投影像を対物レンズ7に導入し、ミラーユニット6の
光軸がBで示される位置にある場合には、第2の投影用
視標パターン列5bにある投影用視標パターンの投影像
を対物レンズ7に導入する。いずれの場合においても投
影用視標パターンの投影像の光路は図10に示されるよ
うになる。
FIG. 9 is an explanatory diagram of this selecting operation. By rotating the mirror unit main body 60, the optical axis of the mirror unit 6 is switched between the position indicated by A and the position indicated by B. You can do it. When the optical axis of the mirror unit 6 is at the position indicated by A, the mirror unit 6
The projection image of the projection target pattern in the projection target pattern array 5a is introduced into the objective lens 7, and when the optical axis of the mirror unit 6 is at the position indicated by B, the second projection target pattern is displayed. The projection image of the projection target pattern in the target pattern row 5 b is introduced into the objective lens 7. In either case, the optical path of the projected image of the projection target pattern is as shown in FIG.

【0030】ここで、両眼視検査の1つとして、第2視
標パターン列の中にある偏光視表を用いる検査がある。
この偏光視標は、視標パターンの一部に直線偏光板がは
られ、他の一部にこの直線偏光板の偏光軸と直交する偏
光軸を有する偏光板がはられたものである。この視標の
投影像はこのターゲット板を通して形成された偏光光の
像である。検眼は、被検眼者の左右の眼の前に偏光軸が
互いに直交する偏光板をそれぞれ配置してこれら偏光板
を通して投影像をみることによって行われる。もし、タ
ーゲット板5とスクリーン8との間の光路途中で偏光状
態が変化すると、この検査に支障をきたすことになる。
この実施例では、ミラーユニット6の光軸がBで示され
る位置の場合にその光軸の方向が偏光視標の偏光状態を
変化させない角度に設定されている。
Here, as one of the binocular visual inspections, there is an inspection using a polarization chart in the second index pattern sequence.
This polarized visual target has a linear target in a part of a target pattern and a polarizer having a polarization axis orthogonal to the polarization axis of the linear polarizer in another part. The projected image of the target is an image of polarized light formed through the target plate. The optometry is performed by arranging polarizing plates whose polarization axes are orthogonal to each other in front of the left and right eyes of the subject's eye, and viewing a projected image through these polarizing plates. If the polarization state changes in the middle of the optical path between the target plate 5 and the screen 8, this inspection will be hindered.
In this embodiment, when the optical axis of the mirror unit 6 is at the position indicated by B, the direction of the optical axis is set to an angle that does not change the polarization state of the polarization target.

【0031】図6に示されるように、対物レンズ7は複
数のレンズ群によって構成され、中間リング702及び
固定リング701によって対物レンズ収納筒71に収納
固定され、この対物レンズ収納筒71が固定部材72に
固定されている。この対物レンズ7は上記ミラーユニッ
トによって導入された投影用視標パターン像をスクリー
ン8に結像するものである。
As shown in FIG. 6, the objective lens 7 is composed of a plurality of lens groups and is stored and fixed in the objective lens storage tube 71 by an intermediate ring 702 and a fixed ring 701. 72. The objective lens 7 forms the projection target pattern image introduced by the mirror unit on the screen 8.

【0032】なお、上記ターゲットケース45、ミラー
ユニット6、対物レンズ7等の機構部は固定部材に固定
され、この固定部材は支柱100に支持されて基台11
0に固定されている。また、上記機構部は前面カバー1
11、側面カバー112及び113によって覆われるよ
うになっている。
The mechanical parts such as the target case 45, the mirror unit 6, and the objective lens 7 are fixed to a fixed member.
It is fixed to 0. Also, the above-mentioned mechanism is a front cover 1
11, are covered by side covers 112 and 113.

【0033】以上の構成において、ミラーユニット6を
ターゲット板5の第1の投影用視標パターン列5aにあ
る投影用視標パターンの投影像が対物レンズ7に導入さ
れるように選択しておいて、ターゲット板5を回転制御
すると、第1の投影用視標パターン列5aの中の所望の
投影用視標パターンをスクリーン投影することができ、
一方、ミラーユニット6をターゲット板5の第2の投影
用視標パターン列5bにある投影用視標パターンの投影
像を対物レンズ7に導入するように選択しておいて、タ
ーゲット板5を回転制御すると、第2の投影用視標パタ
ーン列5bの中の所望の投影用視標パターンをスクリー
ンに投影することができる。したがって、ミラーユニッ
ト6の設定位置の選択操作とターゲット板5の回転制御
とを組み合わせることによって、ターゲット板5の全て
の投影用視標パターンの中から目的の視標パターンを自
在に選択してスクリーンに投影することが可能となる。
しかも、この操作に加えてマスク板4の回転制御を行う
ことにより、1つの投影用視標パターンの一部のみを選
択して投影することもできる。
In the above configuration, the mirror unit 6 is selected so that the projection image of the projection target pattern in the first projection target pattern row 5a of the target plate 5 is introduced into the objective lens 7. When the rotation of the target plate 5 is controlled, a desired projection target pattern in the first projection target pattern sequence 5a can be projected on the screen.
On the other hand, the mirror unit 6 is selected so that the projection image of the projection target pattern in the second projection target pattern row 5b of the target plate 5 is introduced into the objective lens 7, and the target plate 5 is rotated. When controlled, a desired projection target pattern in the second projection target pattern sequence 5b can be projected on the screen. Therefore, by combining the operation of selecting the set position of the mirror unit 6 and the rotation control of the target plate 5, the target optotype pattern can be freely selected from all the target optotype patterns for projection on the target plate 5, and the screen is selected. Can be projected.
In addition, by controlling the rotation of the mask plate 4 in addition to this operation, it is also possible to select and project only a part of one projection target pattern.

【0034】上述の実施例によれば、以下の利点があ
る。
According to the above-described embodiment, there are the following advantages.

【0035】ターゲット板5に2列の投影用視標パター
ン列5a,5bを設け、これらのパターン列の中から任
意のパターン列を選択してその中の任意の視標パターン
を選択して投影できるようにしたことにより、1枚のタ
ーゲット板により多種類の視標を設けることができる。
これにより、従来は、測定によってはターゲット板を取
り替える必要のあったものでも取り替えずに測定できる
ようになった。
The target plate 5 is provided with two rows of projection target pattern rows 5a and 5b. An arbitrary pattern row is selected from these pattern rows, and an optional target pattern is selected from among them. With this configuration, it is possible to provide various types of targets with one target plate.
As a result, it has become possible to perform measurement without replacing the target plate which had to be replaced depending on the measurement in the past.

【0036】また、実施例においては2つのミラーを備
えたミラーユニットの一端部を対物レンズの光軸を中心
に回転することによって光路の切り替えを行うようにし
て切り替えによって光路長が変化しないようにしている
ので、切り替えによって光路長が変化する他の方式に比
較して光路長補正手段を設ける必要がない。
In the embodiment, the optical path is switched by rotating one end of a mirror unit having two mirrors around the optical axis of the objective lens so that the optical path length is not changed by the switching. Therefore, there is no need to provide an optical path length correcting means as compared with other methods in which the optical path length changes by switching.

【0037】さらに、ターゲット板5を、ガラス板にク
ロム遮光膜を形成し、これにフォトエッチング等によっ
て透光パターンを形成したもので構成したことにより、
極めて高精度のパターンを得ることができ、かつ、熱膨
張によるパターンの変動が著しく少なく、さらには、物
理的・機械的・化学的耐久性に著しく優れているので、
経年変化がなく、長期間安定して使用できる等の優れた
利点を得ている。
Further, by forming the target plate 5 by forming a chromium light-shielding film on a glass plate and forming a light-transmitting pattern thereon by photoetching or the like,
It is possible to obtain an extremely high-precision pattern, and the pattern variation due to thermal expansion is extremely small, and furthermore, it is extremely excellent in physical, mechanical and chemical durability,
It has excellent advantages such as no aging and stable use for a long time.

【0038】なお、上述の実施例では、本願発明のパタ
ーン列選択操作又は手段として、投影光を複数の投影用
視標パターン列が位置するいずれか2以上の直線又は曲
線上に位置するように投射してそれぞれの投影用視標パ
ターンを通過した互いに光路の異なる2以上の光線束を
形成する投影光線束形成手段と、これら光線束のいずれ
か1を選択して投影用対物光学系に導入する投影光線束
選択手段とを有するものの1例であり、ミラーユニット
6を回転することによって光線束を選択する例を示した
が、これは、図15に示すように、1つのミラー651
を平行移動するようにしてもよい。但し、この場合、切
り替えによって光路長が変化するので、その補正のため
に光路長補正用レンズ351を用いる必要がある。ま
た、図16に示すように、平行に配置されたミラー65
2及び653のうちの一方のミラー653を移動可能に
し、ミラー653を光路からはずすことによって切り替
えるようにしてもよい。すなわち、ミラー653が光路
に配置されている場合にはミラー653によってその背
面に至る投影像は遮断し、一方、ミラー652によって
反射された投影像がミラー653に反射されて対物レン
ズに導かれる。これに対して、ミラー653を光路から
はずすとターゲット板5を通過して直進する投影像のみ
が対物レンズに導かれ、切り替えが行われる。さらに
は、図17に示すように、対物レンズ7の光軸を対称軸
にして対称な直線上を進行する2つの投影光線束を作
り、それぞれを2つのミラー654及び655によって
対物レンズ7の光軸に直交する1つの直線上を進行する
光線束にした後、上記対物レンズ7の光軸と直交する軸
を回転軸にして回転するミラー656に導いてこのミラ
ー656を回転することによっていずれかを選択して対
物レンズ7に導くようにしてもよい。
In the above-described embodiment, as the pattern row selection operation or means of the present invention, the projection light is set so as to be positioned on any two or more straight lines or curves where a plurality of projection target pattern rows are located. Projection light beam forming means for projecting and forming two or more light beams having different optical paths from each other and passing through each projection target pattern, and selecting one of these light beams and introducing the selected light beam into the projection objective optical system. This is an example of an apparatus having a projection light beam selecting means for selecting a light beam by rotating the mirror unit 6. However, as shown in FIG.
May be translated. However, in this case, since the optical path length is changed by the switching, it is necessary to use the optical path length correcting lens 351 for the correction. In addition, as shown in FIG.
Alternatively, one of the mirrors 653 and 653 may be movable, and the mirror 653 may be switched by removing the mirror 653 from the optical path. That is, when the mirror 653 is arranged in the optical path, the projected image reaching the rear surface is blocked by the mirror 653, while the projected image reflected by the mirror 652 is reflected by the mirror 653 and guided to the objective lens. On the other hand, when the mirror 653 is removed from the optical path, only the projected image that passes through the target plate 5 and travels straight is guided to the objective lens, and switching is performed. Further, as shown in FIG. 17, two projection light beams which travel on a symmetrical straight line with the optical axis of the objective lens 7 as a symmetric axis are formed, and the two light beams of the objective lens 7 are respectively reflected by two mirrors 654 and 655. After making the light beam advancing on one straight line perpendicular to the axis, the light beam is guided to a rotating mirror 656 with the axis orthogonal to the optical axis of the objective lens 7 as the rotation axis, and this mirror 656 is rotated. May be selected and guided to the objective lens 7.

【0039】また、図18に示すように、投影用視標パ
ターン列選択手段として、検眼視標投影用ターゲット板
と投影光との相対位置を移動させて、投影光の光源から
スクリーンに至るまでの投影光の光路上に前記投影用視
標パターン列のいずれかを選択して位置させるようにし
てもよい。
Further, as shown in FIG. 18, as a projection target pattern sequence selecting means, the relative position between the optometry target projection target plate and the projection light is moved so as to reach from the light source of the projection light to the screen. Any of the projection target pattern arrays may be selected and positioned on the optical path of the projection light.

【0040】さらに、検眼視標投影用ターゲット板とし
ては必ずしも円板形状のものでなくてもよく、長方形状
の板体にその長手方向にそった直線上に複数の投影用視
標パターンを形成したパターン列を平行に複数列形成し
たものでもよい。
Further, the target plate for projecting the optometry optotype does not necessarily have to be a disk, but a plurality of optotype patterns for projection are formed on a rectangular plate along a straight line along the longitudinal direction. A plurality of pattern rows may be formed in parallel.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明は、検眼視
標投影用ターゲット板に投影用視標パターン列を複数設
け、該パターン列の中から任意のパターン列を選択して
その中の任意の視標パターンを選択して投影できるよう
にしたもので、これにより、より多種類の視標の投影を
可能とし、また、検眼視標投影用ターゲット板をガラス
基板にクロム膜が形成してこのクロム膜に透光パターン
を形成したもので構成することによってパターン精度が
高くまた温度依存性が低いので精度の高い投影像が得ら
れかつ耐久性に優れた検眼視標投影用ターゲット板を得
ることを可能にしたものである。
As described above in detail, according to the present invention, a plurality of projection target pattern rows are provided on a target plate for optometric projection target projection, and an arbitrary pattern row is selected from the pattern rows. Any of the optotype patterns can be selected and projected, which enables projection of more types of optotypes, and a chromium film is formed on a glass substrate as a target plate for optometry optotype projection The chromium film is formed with a light-transmitting pattern so that the pattern accuracy is high and the temperature dependence is low, so that a highly accurate projection image can be obtained and the optometry target plate has excellent durability. It is possible to obtain.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例にかかる検眼視標投影装置の概
略構成を示す図である
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an optometry optotype projection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】実施例にかかる検眼視標投影装置の外観斜視図
である。
FIG. 2 is an external perspective view of the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図3】実施例にかかる検眼視標投影装置の部分断面図
である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図4】実施例にかかる検眼視標投影装置の分解図であ
る。
FIG. 4 is an exploded view of the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図5】実施例にかかる検眼視標投影装置の分解図であ
る。
FIG. 5 is an exploded view of the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図6】実施例にかかる検眼視標投影装置の分解図であ
る。
FIG. 6 is an exploded view of the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図7】実施例にかかる検眼視標投影装置の部分図であ
る。
FIG. 7 is a partial view of the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment;

【図8】実施例にかかる検眼視標投影装置の部分図であ
る。
FIG. 8 is a partial view of the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図9】実施例にかかる検眼視標投影装置の部分説明図
である。
FIG. 9 is a partial explanatory diagram of the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment;

【図10】実施例にかかる検眼視標投影装置の部分説明
図である。
FIG. 10 is a partial explanatory diagram of the optometric optotype projection apparatus according to the embodiment;

【図11】実施例にかかる検眼視標投影装置に検眼視標
投影用ターゲット板として用いられるターゲット板の説
明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram of a target plate used as a target plate for optometry optotype projection in the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図12】実施例にかかる検眼視標投影装置に検眼視標
投影用ターゲット板として用いられるターゲット板の説
明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram of a target plate used as a target plate for optometry optotype projection in the optometry optotype projection apparatus according to the embodiment.

【図13】実施例にかかる検眼視標投影装置に検眼視標
投影用ターゲット板として用いられるターゲット板の説
明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram of a target plate used as a target plate for optometry target projection in the optometry target projection apparatus according to the embodiment.

【図14】実施例にかかる検眼視標投影装置に用いられ
るマスク板の説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram of a mask plate used in the optometry optotype projection apparatus according to the example.

【図15】本発明の実施例の変形例の実施例の説明図で
ある。
FIG. 15 is an explanatory diagram of an embodiment of a modification of the embodiment of the present invention.

【図16】本発明の実施例の変形例の実施例の説明図で
ある。
FIG. 16 is an explanatory diagram of an embodiment of a modification of the embodiment of the present invention.

【図17】本発明の実施例の変形例の実施例の説明図で
ある。
FIG. 17 is an explanatory diagram of an embodiment of a modification of the embodiment of the present invention.

【図18】本発明の実施例の変形例の実施例の説明図で
ある。
FIG. 18 is an explanatory diagram of an embodiment of a modification of the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…光源 2a,2b…ミラー 3a,3b…コンデンサーレンズ 4…マスク板 5…ターゲット板 6…ミラーユニット 7…対物レンズ 8…スクリーン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light source 2a, 2b ... Mirror 3a, 3b ... Condenser lens 4 ... Mask plate 5 ... Target plate 6 ... Mirror unit 7 ... Objective lens 8 ... Screen

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 依田 寿郎 東京都新宿区中落合2丁目7番5号ホーヤ 株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Toshiro Yoda 2-7-5 Nakaochiai Shinjuku-ku, Tokyo Hoya Co., Ltd.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 遮光性板状体に透光パターンからなる投
影用視標パターンが形成された検眼視標投影用ターゲッ
ト板を用い、該ターゲット板の前記投影用視標パターン
を通して投影光を投射して投影スクリーンに視標パター
ンの投影像を形成するようにした検眼視標投影方法であ
って、 前記検眼視標投影用ターゲット板に、前記投影用視標パ
ターンが前記ターゲット板上の特定の直線又は曲線上に
位置するように複数配列される投影用視標パターン列を
形成するとともに、前記検眼視標投影用ターゲット板に
対する投影光の投射位置を前記特定の直線又は曲線上に
おいて任意に選択できるように前記投影光とターゲット
板との相対位置を変えることができるようにして、前記
投影用視標パターン列の中から任意の視標パターンを選
択して投影できるようにした検眼視標投影方法におい
て、 前記検眼視標投影用ターゲット板に前記投影用視標パタ
ーン列を複数設け、該パターン列の中から任意のパター
ン列を選択してその中の任意の視標パターンを選択して
投影できるようにしたことを特徴とする検眼視標投影方
法。
1. An optometric test target projecting target plate in which a projecting target pattern composed of a light-transmitting pattern is formed on a light-shielding plate-like body, and projects projection light through the projecting target pattern of the target plate. An optometry optotype projection method for forming a projection image of an optotype pattern on a projection screen, wherein the optometry optotype projection target plate has a projection optotype pattern on the target plate, While forming a plurality of projection target pattern arrays arranged so as to be located on a straight line or a curve, arbitrarily select a projection position of projection light on the optometric target target projection plate on the specific straight line or the curve. In order to be able to change the relative position between the projection light and the target plate, an arbitrary optotype pattern is selected from the projection optotype pattern sequence and projected. In the optometry optotype projection method, a plurality of projection optotype pattern rows are provided on the optometry optotype projection target plate, an arbitrary pattern row is selected from the pattern rows, and an arbitrary one of them is selected. An optometric optotype projecting method, characterized in that an optotype pattern can be selected and projected.
【請求項2】 遮光性円板体の中心から特定の半径位置
の同一円周状に透光パターンからなる投影用視標パター
ンが複数配列されてなる投影用視標パターン列を有する
検眼視標投影用ターゲット板を用い、投影光が前記ター
ゲット板の前記投影用視標パターン列が形成されている
円周上に投射されるようにするとともに、前記円板体を
該円板体の中心を回転中心にして回転することによっ
て、投影スクリーンに前記投影用視標パターン列の中か
ら任意の視標パターンを選択して投影できるようにした
検眼視標投影方法において、 前記検眼視標投影用ターゲット板に、該ターゲット板の
中心からの半径位置が異なる複数の円周上にそれぞれ異
なる投影用視標パターン列を設け、前記複数の投影用視
標パターン列の中から任意のパターン列を選択してその
中の任意の視標パターンを選択して投影できるようにし
たことを特徴とする検眼視標投影方法。
2. An optometric optotype having a projection optotype pattern array in which a plurality of projection optotype patterns each composed of a translucent pattern are arranged in the same circumference at a specific radial position from the center of the light-shielding disc. Using a projection target plate, the projection light is projected onto the circumference of the target plate on which the projecting target pattern pattern row is formed, and the disc is positioned at the center of the disc. An optometric optotype projecting method wherein an arbitrary optotype pattern can be selected and projected from the projecting optotype pattern sequence on a projection screen by rotating about a rotation center. On the plate, different projection optotype pattern rows are provided on a plurality of circles having different radial positions from the center of the target plate, and an arbitrary pattern row is selected from the plurality of projection optotype pattern rows. Eye optotype projection method being characterized in that to allow selection to project any optotype patterns therein Te.
【請求項3】 前記スクリーンに投影すべき視標パター
ンの選択は、前記投影光の光源からスクリーンに至るま
での投影光の光路上に前記投影用視標パターン列のいず
れかを位置させるパターン列選択操作と、前記投影用視
標パターン列の中のいずれかの投影用視標パターンを前
記投影光の光路上に選択して位置させる投影用視標パタ
ーン選択操作とを有する方法で行うことを特徴とする請
求項1又は2に記載の検眼視標投影方法。
3. The selection of a target pattern to be projected on the screen is performed by selecting one of the target patterns on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen. A method including a selection operation and a projection target pattern selection operation for selecting and positioning any one of the projection target patterns in the projection target pattern sequence on the optical path of the projection light. The optometry optotype projection method according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項4】 前記投影用視標パターン列選択操作は、
投影光を前記複数の投影用視標パターン列が位置するい
ずれか2以上の直線又は曲線上に位置するように投射し
てそれぞれの投影用視標パターンを通過した互いに光路
の異なる2以上の光線束を形成し、これら光線束のいず
れか1を選択して投影用対物光学系に導入する操作であ
ることを特徴とする請求項3に記載の検眼視標投影方
法。
4. The operation of selecting an optotype pattern sequence for projection,
Two or more light beams having different optical paths from each other, projecting the projection light so as to be positioned on any two or more straight lines or curves on which the plurality of projection target pattern arrays are located. 4. The optometry optotype projection method according to claim 3, wherein the operation is to form a bundle, select one of these light bundles, and introduce the selected bundle into the objective optical system for projection.
【請求項5】 前記投影用視標パターン列選択操作は、
前記検眼視標投影用ターゲット板と投影光との相対位置
を移動させて、前記投影光の光源からスクリーンに至る
までの投影光の光路上に前記投影用視標パターン列のい
ずれかを選択して位置させる操作であることを特徴とす
る請求項3に記載の検眼視標投影方法。
5. The projecting target mark pattern sequence selecting operation includes:
By moving the relative position between the optometry optotype projection target plate and the projection light, one of the projection optotype pattern rows is selected on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen. The optometry optotype projection method according to claim 3, wherein the operation is an operation of positioning the eye.
【請求項6】 投影光を出射する投影用光源と、遮光性
板状体に透光パターンからなる投影用視標パターンが形
成された検眼視標投影用ターゲット板と、前記投影光を
前記ターゲット板の投影用視標パターンに投射する光路
手段と、前記投影用視標パターンを投影光が通過して形
成される投影像をスクリーンに結像させる対物光学系と
を有する検眼視標投影装置であって、 前記検眼視標投影用ターゲット板は、前記投影用視標パ
ターンが前記ターゲット板上の特定の直線又は曲線上に
複数配列されてなる投影用視標パターン列が複数列形成
されたものであり、 前記投影光の光源からスクリーンに至るまでの投影光の
光路上に前記投影用視標パターン列のいずれかを選択し
て位置させるパターン列選択手段と、 前記投影用視標パターン列の中のいずれかの投影用視標
パターンを前記投影光の光路上に選択して位置させる投
影用視標パターン選択手段とを有することを特徴とする
検眼視標投影装置。
6. A projection light source for emitting projection light, a target plate for optometry optotype projection in which a projection optotype pattern formed of a light-transmitting pattern is formed on a light-shielding plate-shaped body, An optometric optotype projecting apparatus comprising: an optical path means for projecting onto a projecting optotype pattern of a plate; and an objective optical system for forming a projection image formed by passing the projecting optotype pattern through projection light onto a screen. The target plate for projecting an optometry optotype is formed by forming a plurality of optotype pattern arrays for projection in which a plurality of the optotype patterns for projection are arranged on a specific straight line or curve on the target plate. Pattern row selecting means for selecting and positioning any of the projection target pattern rows on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen; and In An optotype optotype projecting apparatus, comprising: an optotype pattern selecting means for selecting and positioning any one of the optotype patterns for projection on the optical path of the projection light.
【請求項7】 投影光を出射する投影用光源と、遮光性
円板体の中心から特定の半径位置の同一円周状に透光パ
ターンからなる投影用視標パターンが複数配列されてな
る投影用視標パターン列を有する検眼視標投影用ターゲ
ット板と、該ターゲット板の前記投影用視標パターン列
が形成されている円周上に前記投影光を投射する光路手
段と、前記ターゲット板をその中心を回転中心に回転駆
動して前記投影光が投射される投影用視標パターンを選
択する回転駆動手段と、前記ターゲット板の投影用視標
パターンを前記投影光が通過して形成される投影像をス
クリーンに結像させる対物光学系とを有する検眼視標投
影装置であって、 前記検眼視標投影用ターゲット板は、該ターゲット板の
中心からの半径位置が異なる複数の円周上にそれぞれ異
なる投影用視標パターン列が設けられたものであり、前
記投影光の光源からスクリーンに至るまでの投影光の光
路上に前記投影用視標パターン列のいずれかを選択して
位置させるパターン列選択手段を有することを特徴とす
る検眼視標投影装置。
7. A projection in which a plurality of projection light sources for emitting projection light and a plurality of projection target patterns each composed of a light-transmitting pattern arranged in the same circumference at a specific radial position from the center of the light-shielding disc are arranged. A target plate for optometry optotype projection having a target optotype pattern array, an optical path means for projecting the projection light on a circumference of the target plate on which the projection optotype pattern array is formed, and the target plate. A rotation driving means for rotating the center of rotation to select a projection target pattern onto which the projection light is projected, and a projection driving pattern formed on the target plate by passing the projection light through the target target pattern; An optometry optotype projection device having an objective optical system that forms a projection image on a screen, wherein the optometry optotype projection target plate is located on a plurality of circumferences having different radial positions from the center of the target plate. Each different A pattern sequence for selecting and positioning any one of the projecting target pattern arrays on the optical path of the projecting light from the light source of the projecting light to the screen. An optometric optotype projection device comprising a selection unit.
【請求項8】 前記パターン列選択手段は、前記投影光
を前記複数の投影用視標パターン列が位置するいずれか
2以上の直線又は曲線上に位置するように投射してそれ
ぞれの投影用視標パターンを通過した互いに光路の異な
る2以上の光線束を形成する投影光線束形成手段と、こ
れら光線束のいずれか1を選択して投影用対物光学系に
導入する投影光線束選択手段とを有するものであること
を特徴とする請求項6又は7に記載の検眼視標投影装
置。
8. The pattern sequence selecting means projects the projection light so as to be positioned on any two or more straight lines or curves on which the plurality of projection target pattern sequences are positioned, and performs each projection visual process. Projection light beam forming means for forming two or more light beams having different optical paths passing through the target pattern, and projection light beam selecting means for selecting any one of these light beams and introducing the selected light beam into the objective optical system for projection. The optometry optotype projection apparatus according to claim 6, wherein the optometry target projection apparatus is provided.
【請求項9】 前記投影用視標パターン列選択手段は、
前記検眼視標投影用ターゲット板と投影光との相対位置
を移動させて、前記投影光の光源からスクリーンに至る
までの投影光の光路上に前記投影用視標パターン列のい
ずれかを選択して位置させるパターン列移動手段を有す
るものであることを特徴とする請求項6又は7に記載の
検眼視標投影装置。
9. The projecting target pattern sequence selecting means,
By moving the relative position between the optometry optotype projection target plate and the projection light, one of the projection optotype pattern rows is selected on the optical path of the projection light from the light source of the projection light to the screen. The optometry optotype projection device according to claim 6, further comprising a pattern line moving unit that moves the optometry target.
【請求項10】 前記投影光線束選択手段は、対物光学
系の光路方向と異なる方向からの光線束を反射して対物
光学系に導入する第1の反射手段と、前記投影用視標パ
ターンを通過した光線束を反射して前記第1の反射手段
に送出する第2の反射手段と、前記対物光学系と前記第
1の反射手段との光軸を一致させて該光軸を回転軸にし
て前記第1の反射手段と第2の反射手段とを一体にして
回転させる回転機構とを有し、前記第1の反射手段と第
2の反射手段とを一体にして回転させることによって、
前記投影用視標パターンを通過した互いに光路の異なる
2以上の光線束のうちの任意の光線束を選択して前記対
物光学系に導入できるようにしたものであることを特徴
とする請求項8に記載の検眼視標投影装置。
10. The projecting light beam selecting means includes: first reflecting means for reflecting a light beam from a direction different from the optical path direction of the objective optical system and introducing the reflected light beam into the objective optical system; The optical axis of the second reflecting means for reflecting the transmitted light beam and sending it out to the first reflecting means, and the optical axes of the objective optical system and the first reflecting means are made coincident with each other to make the optical axis a rotation axis. And a rotation mechanism for integrally rotating the first reflection means and the second reflection means, and by integrally rotating the first reflection means and the second reflection means,
9. An apparatus according to claim 8, wherein an arbitrary light beam among two or more light beams having different optical paths passing through said projection target pattern is selected and introduced into said objective optical system. An optometric optotype projection device according to item 1.
【請求項11】 遮光性板状体に透光パターンからなる
投影用視標パターンが形成された検眼視標投影用ターゲ
ット板であって、 前記遮光性板状体がガラス基板にクロム膜を形成したも
のであり、前記投影用視標パターンは前記クロム膜の一
部を選択的に除去してパターンを形成したものであるこ
とを特徴とする検眼視標投影用ターゲット板。
11. A target plate for optometric optotype projection in which a projection target pattern comprising a light-transmitting pattern is formed on a light-shielding plate-like body, wherein the light-shielding plate-like body forms a chromium film on a glass substrate. A target plate for optometric optotype projection, wherein the projection target pattern is formed by selectively removing a part of the chromium film to form a pattern.
【請求項12】 遮光性円板体の中心から特定の半径位
置の同一円周状に透光パターンからなる投影用視標パタ
ーンが複数配列されてなる投影用視標パターン列を有す
る検眼視標投影用ターゲット板であって、 前記投影用視標パターン列が該ターゲット板の中心から
の半径位置が異なる複数の円周上にそれぞれ設けられて
いることを特徴とする検眼視標投影用ターゲット板。
12. An optometry optotype having a projection optotype pattern array in which a plurality of projection optotype patterns each composed of a translucent pattern are arranged in the same circumference at a specific radial position from the center of the light-shielding disc. A projection target plate, wherein the projection target pattern array is provided on a plurality of circumferences having different radial positions from the center of the target plate, respectively. .
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