JPH10274484A - Burning apparatus for ceramic and burning method thereof - Google Patents
Burning apparatus for ceramic and burning method thereofInfo
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- JPH10274484A JPH10274484A JP9080058A JP8005897A JPH10274484A JP H10274484 A JPH10274484 A JP H10274484A JP 9080058 A JP9080058 A JP 9080058A JP 8005897 A JP8005897 A JP 8005897A JP H10274484 A JPH10274484 A JP H10274484A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、各種のセラミックス、
特に酸素含有量が特性に影響を及ぼす機能性セラミック
スの焼成装置および方法に関するものである。The present invention relates to various ceramics,
More particularly, the present invention relates to an apparatus and a method for firing functional ceramics in which the oxygen content affects properties.
【０００２】[0002]
【従来の技術】現在、各種のセラミックスを焼成するた
めの焼成炉としては、水素炉、窒素炉、アルゴン炉、ア
ンモニア／窒素炉、水素／水蒸気炉が知られている。例
えば、「熱測定」１７（１）１９９０年、第４１頁〜５
４頁においては、超伝導体の一つであるＹＢａ2 Ｃｕ3
Ｏ7-x やＭｎ−Ｚｎフェライトにおいて、雰囲気中の酸
素分圧を測定するために酸素センサーを使用している。
また、常圧下で、雰囲気中の酸素分圧を制御する方法と
して、いわゆる単純気体混合法と緩衝気体混合法とが記
載されている。2. Description of the Related Art At present, as a firing furnace for firing various ceramics, a hydrogen furnace, a nitrogen furnace, an argon furnace, an ammonia / nitrogen furnace, and a hydrogen / steam furnace are known. For example, "Heat measurement" 17 (1) 1990, pp. 41-5
On page 4, one of the superconductors, YBa 2 Cu 3
For O 7-x and Mn—Zn ferrite, an oxygen sensor is used to measure the oxygen partial pressure in the atmosphere.
Further, as a method of controlling the oxygen partial pressure in the atmosphere under normal pressure, a so-called simple gas mixing method and a buffer gas mixing method are described.
【０００３】単純気体混合法においては、１０2 〜１０
5 Ｐａという比較的高い雰囲気圧力の下で純酸素とアル
ゴン、ヘリウム等の不活性ガスとを機械的に混合する。
また、安定化ジルコニア酸素ポンプを使用することによ
って、不活性ガス中の酸素を除去したり、あるいは不活
性ガスに酸素を添加したりすることも記載されている。
緩衝気体混合法においては、ＣＯ−ＣＯ2 、Ｈ2 −Ｈ2
Ｏ、Ｈ2 −ＣＯ2 などの緩衝混合気体の高温における気
体平衡を利用し、一定の酸素分圧を得る。この際、安定
化ジルコニア酸素ポンプを使用して、精製水素ガス中に
酸素を供給することによって、極低圧での酸素分圧の制
御を試みている。In the simple gas mixing method, 10 2 to 10
Pure oxygen and an inert gas such as argon or helium are mechanically mixed under a relatively high atmospheric pressure of 5 Pa.
It also describes that a stabilized zirconia oxygen pump is used to remove oxygen from an inert gas or to add oxygen to an inert gas.
In the buffer gas mixing method, CO-CO 2, H 2 -H 2
A constant oxygen partial pressure is obtained by utilizing the gas equilibrium of a buffered gas mixture such as O, H 2 -CO 2 at a high temperature. At this time, an attempt has been made to control the oxygen partial pressure at an extremely low pressure by supplying oxygen to the purified hydrogen gas using a stabilized zirconia oxygen pump.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した単純
気体混合法、緩衝気体混合法のいずれの方法において
も、酸素分圧を制御可能な範囲は狭いために、常圧近辺
から１０- 1 8 ａｔｍ以下といった広い範囲内で酸素分
圧を制御することはできなかった。[SUMMARY OF THE INVENTION] However, a simple gas mixing method described above, the buffer in any of the methods of the gas mixing method, for narrow controllable range of oxygen partial pressure, 10 from atmospheric圧近sides - 1 8 The oxygen partial pressure could not be controlled within a wide range such as atm or less.
【０００５】本発明の課題は、セラミックスの被焼成体
を収容し、焼成するための焼成炉を備えている焼成装置
であって、常圧近辺から１０- 1 8 ａｔｍ以下といった
広い範囲内で、酸素分圧を自由かつ精密に制御できるよ
うな焼成装置を提供することである。An object of the present invention is to store an object to be fired ceramics, a and are firing device comprises a firing furnace for firing, 10 from atmospheric圧近sides - within a wide range such as 1 8 atm or less, An object of the present invention is to provide a firing apparatus capable of controlling the oxygen partial pressure freely and precisely.
【０００６】また、本発明の課題は、セラミックスの被
焼成体を収容し、焼成するための焼成炉を備えている焼
成装置であって、特に１０- 1 8 ａｔｍ以下といった非
常に低い圧力の範囲内で焼成炉内の酸素分圧を正確に制
御できるようにすることである。Another object of the present invention is to provide a sintering apparatus provided with a sintering furnace for accommodating and sintering a ceramic object to be sintered, particularly in a range of a very low pressure of 10 to 18 atm or less. To accurately control the oxygen partial pressure in the firing furnace.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明に係るセラミック
スの焼成装置は、セラミックスの被焼成体を収容し、焼
成するための焼成炉を備えており、常温で不活性な不活
性ガスを供給するための不活性ガス供給源、所定の酸素
分圧を有する酸素含有ガスを供給するための酸素含有ガ
ス供給源、所定の水素分圧を有する水素含有ガスを供給
するための水素含有ガス供給源、不活性ガス、酸素含有
ガスおよび水素含有ガスの中から選択された一種以上の
ガスを焼成炉中に供給するための供給路、この供給路に
設けられている酸素ポンプおよび酸素分圧測定装置を備
えていることを特徴とする。A ceramic firing apparatus according to the present invention includes a firing furnace for accommodating and firing a ceramic body to be fired, and supplies an inert gas which is inert at room temperature. An inert gas supply source, an oxygen-containing gas supply source for supplying an oxygen-containing gas having a predetermined oxygen partial pressure, a hydrogen-containing gas supply source for supplying a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure, A supply path for supplying one or more gases selected from an inert gas, an oxygen-containing gas and a hydrogen-containing gas into the firing furnace, an oxygen pump and an oxygen partial pressure measuring device provided in the supply path. It is characterized by having.
【０００８】また、本発明に係るセラミックスの焼成方
法は、前記の焼成装置を使用して焼成炉中の被焼成体を
焼成するのに際して、焼成炉中で被焼成体を焼成すると
きの酸素分圧を制御するために、下記のいずれかの雰囲
気を前記焼成炉中に供給することを特徴とする。 （ｉ）純酸素、または不活性ガスと酸素含有ガスとの混
合ガスからなる雰囲気 （ｉｉ）不活性ガス中の酸素分圧を酸素ポンプによって
変更して得られた雰囲気 （ｉｉｉ）水素含有ガスに所定量の水分を添加して得ら
れた雰囲気 （ｉｖ）水素含有ガス中の酸素分圧を酸素ポンプによっ
て変更して得られた雰囲気[0008] In the method for firing ceramics according to the present invention, when the object to be fired in the firing furnace is fired using the above-described firing apparatus, the oxygen content when firing the object to be fired in the firing furnace is reduced. In order to control the pressure, any one of the following atmospheres is supplied into the firing furnace. (I) Atmosphere consisting of pure oxygen or a mixed gas of inert gas and oxygen-containing gas (ii) Atmosphere obtained by changing the oxygen partial pressure in the inert gas by an oxygen pump (iii) Hydrogen-containing gas Atmosphere obtained by adding a predetermined amount of water (iv) Atmosphere obtained by changing the oxygen partial pressure in the hydrogen-containing gas by an oxygen pump
【０００９】また、本発明に係るセラミックスの焼成装
置は、セラミックスの被焼成体を収容し、焼成するため
の焼成炉を備えており、所定の水素分圧を有する水素含
有ガスを供給するための水素含有ガス供給源、水素含有
ガスを焼成炉中に供給するための供給路、水素含有ガス
が焼成炉内に供給される前に水素含有ガスから酸素を除
去するための酸素ポンプおよび酸素分圧測定装置を備え
ていることを特徴とする。The ceramic firing apparatus according to the present invention includes a firing furnace for accommodating and firing a ceramic body to be fired, and for supplying a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure. A hydrogen-containing gas supply source, a supply path for supplying the hydrogen-containing gas into the firing furnace, an oxygen pump and an oxygen partial pressure for removing oxygen from the hydrogen-containing gas before the hydrogen-containing gas is supplied into the firing furnace It is characterized by having a measuring device.
【００１０】また、本発明は、セラミックスの被焼成体
を焼成炉中で焼成する方法であって、所定の水素分圧を
有する水素含有ガスから酸素ポンプによって酸素を除去
し、次いで水素含有ガスを焼成炉中に供給しつつ、この
焼成炉中の被焼成体を焼成することを特徴とする、セラ
ミックスの焼成方法に係るものである。The present invention also relates to a method of firing a ceramic body to be fired in a firing furnace, wherein oxygen is removed from a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure by an oxygen pump, and then the hydrogen-containing gas is removed. The present invention relates to a method for firing ceramics, comprising firing an object to be fired in the firing furnace while supplying the material into the firing furnace.
【００１１】また、本発明に係るセラミックスの焼成装
置は、セラミックスの被焼成体を収容し、焼成するため
の焼成炉を備えており、所定の水素分圧を有する水素含
有ガスを供給するための水素含有ガス供給源、水素含有
ガスを焼成炉中に供給するための供給路、水素含有ガス
が焼成炉内に供給される前に水素含有ガス中に水分を添
加するための水分添加装置および酸素分圧測定装置を備
えていることを特徴とする。The ceramic firing apparatus according to the present invention includes a firing furnace for accommodating and firing a ceramic body to be fired, and for supplying a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure. A hydrogen-containing gas supply source, a supply path for supplying the hydrogen-containing gas into the firing furnace, a water addition device for adding water to the hydrogen-containing gas before the hydrogen-containing gas is supplied into the firing furnace, and oxygen It is characterized by having a partial pressure measuring device.
【００１２】また、本発明は、セラミックスの被焼成体
を焼成炉中で焼成する方法であって、所定の水素分圧を
有する水素含有ガス中に水分添加装置によって所定量の
水分を添加し、次いでこの水素含有ガスを焼成炉中に供
給しつつ、焼成炉中の被焼成体を焼成することを特徴と
する、セラミックスの焼成方法に係るものである。The present invention also relates to a method of firing a ceramic body to be fired in a firing furnace, wherein a predetermined amount of water is added to a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure by a water adding device. Next, the present invention relates to a method for firing ceramics, which comprises firing an object to be fired in the firing furnace while supplying the hydrogen-containing gas into the firing furnace.
【００１３】本発明によれば、セラミックスの被焼成体
を焼成炉中に収容し、焼成するのに際して、常圧近辺か
ら１０- 1 8 ａｔｍ以下といった広い範囲内で、酸素分
圧を自由かつ精密に制御できるようになった。また、特
に１０- 1 8 ａｔｍ以下といった非常に低い圧力の範囲
内で焼成炉内の酸素分圧を正確に制御できるようになっ
た。この理由については、下記に述べる。According to the present invention, an object to be fired ceramics accommodated in a baking furnace, when the firing, 10 from atmospheric圧近sides - within a wide range such as 1 8 atm or less, free and accurate oxygen partial pressure You can now control. In particular 10 - you can now precisely control the oxygen partial pressure in the sintering furnace at 1 8 atm in a very low range of pressures, such as below. The reason for this will be described below.
【００１４】セラミックスの被焼成体としては、セラミ
ックスの原料粉末、セラミックスの原料粉末の成形体、
この成形体の脱脂体、この成形体の仮焼体がある。The ceramic body to be fired includes ceramic raw material powder, a molded body of ceramic raw material powder,
There are a degreased body of this molded body and a calcined body of this molded body.
【００１５】常温で不活性な不活性ガスとしては、アル
ゴン、ヘリウム等の希ガスや窒素ガスが好ましい。所定
の酸素分圧を有する酸素含有ガスとしては、純酸素や、
空気、窒素または希ガスと酸素との混合ガスであって、
所定の酸素分圧を有する混合ガスが好ましい。水素含有
ガスとしては、純水素や、窒素または希ガスと水素との
混合ガスであって、所定の水素分圧を有する混合ガスが
好ましい。これらの各ガスの供給源としては、ボンベま
たはコンプレッサーが好ましい。As the inert gas which is inert at room temperature, a rare gas such as argon or helium or a nitrogen gas is preferable. As the oxygen-containing gas having a predetermined oxygen partial pressure, pure oxygen,
Air, a mixed gas of nitrogen or a rare gas and oxygen,
A mixed gas having a predetermined oxygen partial pressure is preferred. As the hydrogen-containing gas, pure hydrogen, a mixed gas of nitrogen or a rare gas and hydrogen, and a mixed gas having a predetermined hydrogen partial pressure are preferable. A supply source of each of these gases is preferably a cylinder or a compressor.
【００１６】セラミックスの被焼成体を収容し、焼成す
るための焼成炉は、特に外部に対して気密性が保たれた
炉心管を備えている焼成炉が好ましく、電気炉が特に好
ましい。The firing furnace for accommodating and firing the ceramic body to be fired is preferably a firing furnace having a furnace tube which is kept airtight to the outside, and an electric furnace is particularly preferable.
【００１７】酸素分圧測定装置としては、固体電解質酸
素センサーや酸化物半導体酸素センサーを使用できる
が、ジルコニア酸素センサーが特に好ましい。As the oxygen partial pressure measuring device, a solid electrolyte oxygen sensor or an oxide semiconductor oxygen sensor can be used, but a zirconia oxygen sensor is particularly preferable.
【００１８】焼成されるべきセラミックスは特に限定さ
れないが、酸素含有量が特性に影響を及ぼす機能性セラ
ミックスが特に好ましい。また、アルミナ、マグネシ
ア、ムライト、シリカ、スピネル、チタニア、ジルコニ
ア、イットリア安定化ジルコニア等の安定化ジルコニ
ア、イットリア部分安定化ジルコニア等の部分安定化ジ
ルコニアが好ましい。また、窒化珪素、窒化アルミニウ
ム等の窒化物や炭化珪素、炭化ホウ素等の炭化物が好ま
しい。また、ペロブスカイト型複合酸化物が特に好まし
く、この中でも、ランタンを含有するペロブスカイト型
複合酸化物が好ましく、ランタンマンガナイト、ランタ
ンコバルタイト、ランタンクロマイトが特に好ましい。
ランタンを含有するペロブスカイト型複合酸化物は、ア
ルカリ土類金属、希土類金属、例えばマグネシウム、ス
トロンチウム、カルシウム、クロム、コバルト、鉄、ニ
ッケル、アルミニウム等をドープしたものであってよ
い。The ceramics to be fired are not particularly limited, but functional ceramics whose oxygen content affects the properties are particularly preferred. Also, stabilized zirconia such as alumina, magnesia, mullite, silica, spinel, titania, zirconia, yttria-stabilized zirconia, and partially stabilized zirconia such as yttria partially stabilized zirconia are preferred. Further, nitrides such as silicon nitride and aluminum nitride, and carbides such as silicon carbide and boron carbide are preferable. Further, a perovskite-type composite oxide is particularly preferable, and among them, a lanthanum-containing perovskite-type composite oxide is preferable, and lanthanum manganite, lanthanum cobaltite, and lanthanum chromite are particularly preferable.
The perovskite-type composite oxide containing lanthanum may be doped with an alkaline earth metal, a rare earth metal such as magnesium, strontium, calcium, chromium, cobalt, iron, nickel, aluminum, and the like.
【００１９】以下、適宜図面を参照しつつ、本発明によ
るセラミックスの焼成装置および焼成方法を具体的に説
明する。図１、図３、図４は、それぞれ本発明の一実施
形態に係る焼成装置を示す模式図であり、図２は、焼成
炉中に供給される各雰囲気によって制御できる酸素分圧
の範囲を例示するグラフである。Hereinafter, an apparatus and method for firing ceramics according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIGS. 1, 3 and 4 are schematic views each showing a firing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a range of an oxygen partial pressure which can be controlled by each atmosphere supplied into a firing furnace. It is a graph illustrated.
【００２０】図１においては、焼成炉１０の上流側に雰
囲気供給装置８が設置されており、これらの間で供給路
に酸素分圧測定装置９が設置されている。雰囲気供給装
置８中には、常温で不活性なガスを供給するための不活
性ガス供給源１、所定の酸素分圧を有する酸素含有ガス
を供給するための酸素含有ガス供給源２、および所定の
水素分圧を有する水素含有ガスを供給するための水素含
有ガス供給源３が設置されている。各供給源１、２、３
は、それぞれ各供給路１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃに連結さ
れている。各供給路１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃには、それ
ぞれ気体の流通と遮断とを選択するための弁６Ａ、６
Ｂ、６Ｃが設けられている。In FIG. 1, an atmosphere supply device 8 is provided upstream of a firing furnace 10, and an oxygen partial pressure measurement device 9 is provided in a supply path between them. An inert gas supply source 1 for supplying an inert gas at normal temperature, an oxygen-containing gas supply source 2 for supplying an oxygen-containing gas having a predetermined oxygen partial pressure, and a predetermined A hydrogen-containing gas supply source 3 for supplying a hydrogen-containing gas having a partial pressure of hydrogen is provided. Each source 1, 2, 3
Are connected to the supply paths 15A, 15B, and 15C, respectively. Valves 6A, 6B for selecting gas flow and shutoff are provided in the respective supply paths 15A, 15B, 15C.
B and 6C are provided.
【００２１】各供給路１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃは、下流
側で一つの供給路１５Ｄにまとまっており、供給路１５
Ｄに酸素ポンプ７が設けられている。４はガス精製器で
あり、５は水分添加装置である。Each of the supply paths 15A, 15B, and 15C is integrated into one supply path 15D on the downstream side.
D is provided with an oxygen pump 7. 4 is a gas purifier and 5 is a water addition device.
【００２２】焼成路１０中では、ヒーター１１の内側に
炉心管１２が固定されている。供給路１５Ｄの下流側の
末端が炉心管１２の供給口（図示せず）に接続されてお
り、炉心管１２の排出口（図示せず）が排出路１６に接
続されている。In the firing path 10, a furnace tube 12 is fixed inside a heater 11. The downstream end of the supply path 15 </ b> D is connected to a supply port (not shown) of the furnace tube 12, and an outlet (not shown) of the furnace tube 12 is connected to a discharge path 16.
【００２３】こうした焼成装置を使用することによっ
て、次のような焼成炉内の雰囲気の制御が、初めて可能
となった。The use of such a sintering apparatus makes it possible for the first time to control the atmosphere in the sintering furnace as follows.
【００２４】即ち、（ｉ）不活性ガス供給源１からの不
活性ガスと酸素含有ガス供給源２からの酸素含有ガスと
を混合して混合ガスを得、この混合ガス中の酸素分圧を
酸素分圧測定装置９によって測定し、雰囲気として焼成
炉１０内に連続的に供給する。これによって、常圧炉の
場合には１〜１０- 6 ａｔｍの範囲内で酸素分圧を自由
に制御できる。焼成炉内では、通常は室温から２０００
℃、特には室温〜１７００℃の温度範囲で温度を制御
し、被焼成体の乾燥、脱脂、焼成を行う。That is, (i) the inert gas from the inert gas supply source 1 is mixed with the oxygen-containing gas from the oxygen-containing gas supply source 2 to obtain a mixed gas, and the partial pressure of oxygen in the mixed gas is reduced. It is measured by the oxygen partial pressure measuring device 9 and continuously supplied as an atmosphere into the firing furnace 10. Thus, in the case of normal pressure furnace 1 to 10 - 6 oxygen partial pressure can be freely controlled within the range of atm. In the firing furnace, the temperature is usually from room temperature to 2000.
The temperature is controlled in a temperature range from room temperature to 1700 ° C., and the object to be fired is dried, degreased, and fired.
【００２５】この方法で精密に制御できる下限が１０
- 6 ａｔｍであるのは、精度良く製造できる混合ガス中
の酸素分圧の下限が、通常は１ｐｐｍ程度であるからで
ある。また、常圧焼成炉においては上限が１ａｔｍであ
るが、加圧炉の場合には一層高い酸素分圧を適用でき
る。The lower limit that can be precisely controlled by this method is 10
The reason why the pressure is −6 atm is that the lower limit of the oxygen partial pressure in the mixed gas that can be produced with high accuracy is usually about 1 ppm. Further, the upper limit is 1 atm in a normal pressure firing furnace, but a higher oxygen partial pressure can be applied in a pressure furnace.
【００２６】酸素分圧測定装置９によって、供給路１５
Ｄ内を流れてくる混合ガス中の酸素分圧を測定する。雰
囲気供給装置８および供給路の配管の気密性が劣化した
場合には、予め設定された混合ガスの酸素分圧よりも高
い酸素分圧が検出されるので、これによって雰囲気供給
装置８および供給路の配管の気密性の劣化を検出でき
る。ガス供給源１とガス供給源２からのガスを混合する
に際し、流量を制御する。好ましくは、バルブ付きのフ
ロート流量計、マスフローコントローラーを使用して流
量を制御する。The supply path 15 is controlled by the oxygen partial pressure measuring device 9.
The oxygen partial pressure in the mixed gas flowing in D is measured. When the airtightness of the atmosphere supply device 8 and the piping of the supply path is deteriorated, an oxygen partial pressure higher than the preset oxygen partial pressure of the mixed gas is detected. The deterioration of the airtightness of the pipe can be detected. When mixing the gas from the gas supply source 1 and the gas from the gas supply source 2, the flow rate is controlled. Preferably, the flow rate is controlled using a float flow meter with a valve or a mass flow controller.
【００２７】混合ガスによる酸素分圧の制御は、図２の
領域Ａに該当している。このように室温から焼成時の最
高温度に至る全温度範囲で利用できる。The control of the oxygen partial pressure by the mixed gas corresponds to the region A in FIG. Thus, it can be used in the entire temperature range from room temperature to the maximum temperature during firing.
【００２８】また、焼成炉の下流側の排出炉において、
雰囲気中の酸素分圧を測定することができる。この態様
について図３、図４に示す。ただし図３、図４におい
て、図１に示した各構成部分と同じ構成部分には同じ符
号を付け、その説明を省略する。図３においては、炉心
管１２の下流側の排出路１６に酸素分圧測定装置１３が
設けられており、図４においては炉心管１２の上流側と
下流側との双方に酸素分圧測定装置９、１３が設けられ
ている。In the discharge furnace on the downstream side of the firing furnace,
The oxygen partial pressure in the atmosphere can be measured. This aspect is shown in FIGS. 3 and 4, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In FIG. 3, an oxygen partial pressure measuring device 13 is provided in a discharge path 16 on the downstream side of the furnace tube 12, and in FIG. 4, an oxygen partial pressure measuring device is provided on both the upstream side and the downstream side of the furnace tube 12. 9 and 13 are provided.
【００２９】焼成炉１０中で被焼成体から酸素が排出さ
れると、この酸素によって酸素分圧測定装置１３におけ
る酸素分圧が上昇し、焼成炉１０中で被焼成体に酸素が
取り込まれると、酸素分圧測定装置１３における酸素分
圧が低下する。このように、酸素分圧測定装置１３によ
る測定値は、被焼成体と雰囲気との間の酸素の授受を反
映する。この観点では、特に図４におけるように、焼成
炉の上流側の測定装置９と下流側の測定装置１３との各
測定値を対比することが最も有利である。When oxygen is discharged from the object to be fired in the firing furnace 10, the oxygen causes the oxygen partial pressure in the oxygen partial pressure measuring device 13 to rise. Then, the oxygen partial pressure in the oxygen partial pressure measuring device 13 decreases. As described above, the value measured by the oxygen partial pressure measuring device 13 reflects the transfer of oxygen between the object to be fired and the atmosphere. From this viewpoint, it is most advantageous to compare the respective measured values of the measuring device 9 on the upstream side of the firing furnace with the measuring device 13 on the downstream side, as shown in FIG.
【００３０】図２に示すように、領域Ａよりも低い酸素
分圧の領域Ｂ内で酸素分圧を精密に制御するためには、
（ｉｉ）不活性ガス中の酸素分圧を酸素ポンプによって
変更して得られた雰囲気を焼成炉内に供給する。As shown in FIG. 2, in order to precisely control the oxygen partial pressure in the region B having a lower oxygen partial pressure than the region A,
(Ii) The atmosphere obtained by changing the partial pressure of oxygen in the inert gas by an oxygen pump is supplied into the firing furnace.
【００３１】具体的には、弁６Ｂと６Ｃとを閉じ、弁６
Ａを開き、不活性ガス供給源１から供給路１５Ａを通し
て不活性ガスを供給路１５Ｄに供給する。この際、好ま
しくは、ガス精製器４に不活性ガスを通過させることに
よって、不活性ガス中に存在する微量の不純物、特に酸
素および水を除去する。More specifically, the valves 6B and 6C are closed, and the valve 6B is closed.
A is opened, and the inert gas is supplied from the inert gas supply source 1 to the supply path 15D through the supply path 15A. At this time, preferably, a trace amount of impurities, particularly oxygen and water, present in the inert gas are removed by passing the inert gas through the gas purifier 4.
【００３２】ガス精製器４としては、白金触媒や銅触媒
を用い、酸素をこれらの触媒に吸着させるタイプの装置
や、ニッケル触媒やチタン触媒を使用し、これらの触媒
の酸化反応によって酸素を除去するタイプがある。As the gas purifier 4, a platinum catalyst or a copper catalyst is used, and a device that adsorbs oxygen to these catalysts or a nickel catalyst or a titanium catalyst is used, and oxygen is removed by an oxidation reaction of these catalysts. There is a type to do.
【００３３】この精製された不活性ガスを酸素ポンプ７
に通過させ、酸素ポンプ７によって一定量の酸素を不活
性ガス中に添加するか、あるいは一定量の酸素を除去す
る。The purified inert gas is supplied to an oxygen pump 7
And a certain amount of oxygen is added to the inert gas by the oxygen pump 7 or a certain amount of oxygen is removed.
【００３４】ジルコニア酸素ポンプの場合には、セル１
個当たり０〜２ボルトの直流電圧を印加して電流を流
し、電流値に比例した量の酸素を投入し、あるいは除去
できる。特にガス精製器４によって除去しきれなかった
微量の酸素を、酸素ポンプで除去することによって、１
０- 1 8 ａｔｍ程度の低い圧力まで、酸素分圧を制御で
きる。In the case of a zirconia oxygen pump, the cell 1
A current is applied by applying a DC voltage of 0 to 2 volts per unit, and oxygen can be injected or removed in an amount proportional to the current value. In particular, by removing a trace amount of oxygen that could not be completely removed by the gas purifier 4 with an oxygen pump,
0 - 1 to 8 atm as low pressure, can control the oxygen partial pressure.
【００３５】この方法によって、図２の領域Ｂに示すよ
うに、１０- 1 8 ａｔｍ〜１０- 2 ａｔｍの範囲で酸素
分圧を制御することが好ましい。なお、本方法は全温度
範囲に適用できる。この方法によって雰囲気中の酸素分
圧を１０- 2 ａｔｍ以上とするためには、大きな電流が
必要であり、かつセルの本数も非常に多くする必要があ
るために、実用的ではない。また、１０- 1 8 ａｔｍ未
満の圧力の範囲内で酸素分圧を制御することは、ジルコ
ニア酸素ポンプ等の能力から見て困難であった。[0035] By this method, as shown in region B of FIG. 2, 10 - 1 8 atm~10 - it is preferable to control the oxygen partial pressure at 2 atm range. This method can be applied to the entire temperature range. 10 the oxygen partial pressure in the atmosphere by this method - to the 2 atm or more, it is necessary a large current, and because it is necessary to number of cells is also very often not practical. Further, 10 - controlling the oxygen partial pressure is 1 8 within the pressure below atm, it is difficult when viewed from the ability of such zirconia oxygen pump.
【００３６】また、雰囲気中の酸素分圧を一層精密に制
御するためには、例えば図１、図４に示すように、焼成
炉の上流側に設置された酸素分圧測定装置９の出力信号
を、矢印Ａのように、酸素ポンプ７の制御信号として使
用し、これによって雰囲気中に添加する酸素量を決定
し、これによって焼成炉内に流入する雰囲気の酸素分圧
を一定にできる。このためには所定のフィードバック回
路機構が必要である。In order to control the oxygen partial pressure in the atmosphere more precisely, for example, as shown in FIGS. 1 and 4, the output signal of the oxygen partial pressure measuring device 9 installed on the upstream side of the firing furnace is required. Is used as a control signal of the oxygen pump 7 as shown by the arrow A, whereby the amount of oxygen to be added to the atmosphere is determined, whereby the oxygen partial pressure of the atmosphere flowing into the firing furnace can be made constant. For this purpose, a predetermined feedback circuit mechanism is required.
【００３７】また、図３、図４に示すように、焼成炉１
０の下流側の排出路１６に設置された酸素分圧測定装置
１３によって排気ガス中の酸素分圧を測定し、測定装置
１３の出力信号を、矢印Ｃのように、酸素ポンプ７の制
御信号として使用し、これによって雰囲気中に添加する
酸素量を決定し、これによって焼成炉から排出される排
気ガス中の酸素分圧を一定にできる。このためにも所定
のフィードバック回路機構が必要である。As shown in FIG. 3 and FIG.
The oxygen partial pressure in the exhaust gas is measured by an oxygen partial pressure measuring device 13 installed in the exhaust passage 16 on the downstream side of 0, and the output signal of the measuring device 13 is indicated by a control signal of the oxygen pump 7 as shown by an arrow C. The amount of oxygen to be added to the atmosphere is thereby determined, whereby the oxygen partial pressure in the exhaust gas discharged from the firing furnace can be kept constant. For this purpose, a predetermined feedback circuit mechanism is required.
【００３８】更に、測定装置１３の出力信号を、矢印Ｂ
のように、焼成炉１０内の温度の制御信号として使用
し、これによって、被焼成体から雰囲気中に発散する酸
素量、または雰囲気中から被焼成体へ吸収される酸素量
を制御することができる。Further, the output signal of the measuring device 13 is indicated by an arrow B
As described above, it is used as a control signal for the temperature in the firing furnace 10, whereby it is possible to control the amount of oxygen diverging from the fired body into the atmosphere or the amount of oxygen absorbed from the atmosphere into the fired body. it can.
【００３９】更に、（ｉｉｉ）例えば図２に示す領域Ｃ
のように、９００℃以上の高温領域において、焼成炉内
の酸素分圧を精密に制御するために、水素含有ガスに所
定量の水分を添加して得られた雰囲気を焼成炉内に供給
できる。これによって、１０- 1 9 〜１０- 2 ａｔｍの
範囲内で、焼成炉内の雰囲気の酸素分圧を精密に制御で
きる。(Iii) For example, the region C shown in FIG.
As described above, in a high-temperature region of 900 ° C. or more, an atmosphere obtained by adding a predetermined amount of moisture to a hydrogen-containing gas can be supplied to the firing furnace in order to precisely control the oxygen partial pressure in the firing furnace. . Thus, 10 - 1 9-10 - 2 within the range of atm, it can be precisely controlled partial pressure of oxygen in the atmosphere in the firing furnace.
【００４０】具体的には、水素や、水素と希ガスまたは
窒素との混合ガスを、水素含有ガス供給源３から供給路
１５Ｃに通し、加湿器５を通過させ、弁６Ｃを開放して
供給路１５Ｄへと流す。加湿器５においては、好ましく
は、温度を一定値に制御した水中に水素含有ガスを通し
てバブリングし、飽和させる。次いで、この水素含有ガ
スを炉心管１２へと連続的に供給し、被焼成体を例えば
室温〜１７００℃の範囲で脱脂し、焼成する。Specifically, hydrogen or a mixed gas of hydrogen and a rare gas or nitrogen is supplied from the hydrogen-containing gas supply source 3 to the supply path 15C, passes through the humidifier 5, and is supplied by opening the valve 6C. Flow to Road 15D. In the humidifier 5, the hydrogen-containing gas is preferably bubbled into water whose temperature is controlled to a constant value to saturate the water. Next, the hydrogen-containing gas is continuously supplied to the furnace tube 12, and the object to be fired is degreased and fired in the range of room temperature to 1700 ° C, for example.
【００４１】この方法では化学平衡を利用しており、水
素濃度、加湿水温、炉心管の温度によって酸素分圧が決
定される。例えば、０．０１％水素を、５０℃の水に通
して加湿した場合、炉心管の温度が１０００℃であると
１０- 9 ａｔｍであり、１６００℃では１０- 2 ａｔｍ
になる。また、１％水素を５０℃の水に通して加湿した
場合、炉心管の温度が１０００℃であると酸素分圧は１
０- 1 3 ａｔｍであり、炉心管の温度が１６００℃であ
ると酸素分圧は１０- 8 ａｔｍである。また、１００％
水素を０℃の水に通して加湿した場合は、炉心管の温度
が１０００℃であると酸素分圧は１０- 1 9 ａｔｍとな
り、１６００℃であると１０ - 1 3 ａｔｍとなる。In this method, chemical equilibrium is used, and water is used.
Oxygen partial pressure is determined by element concentration, humidification water temperature, and core tube temperature.
Is determined. For example, pass 0.01% hydrogen through water at 50 ° C.
When the temperature of the furnace tube is 1000 ° C
10-9atm and 10 at 1600 ° C.-2atm
become. In addition, 1% hydrogen was passed through water at 50 ° C. and humidified.
In this case, if the temperature of the core tube is 1000 ° C., the oxygen partial pressure becomes 1
0- 13atm and the core tube temperature is 1600 ° C.
Then the oxygen partial pressure is 10-8atm. Also, 100%
If hydrogen is passed through water at 0 ° C and humidified, the temperature of the furnace tube
Is 1000 ° C., the oxygen partial pressure is 10-1 9atm
At 1600 ° C - 13atm.
【００４２】このように、加湿器５中の水の温度を正確
に制御するだけで、焼成炉中の酸素分圧を広範囲で正確
に制御できるという点で、極めて有効である。As described above, it is extremely effective that the oxygen partial pressure in the firing furnace can be accurately controlled over a wide range only by accurately controlling the temperature of the water in the humidifier 5.
【００４３】また、焼成炉の昇温時や降温時のように、
焼成炉中の温度が変化するときには、温度変化と共に焼
成炉中の酸素分圧が変化する。この場合には、焼成炉中
の温度変化に応じて加湿器中の水の温度を変化させるこ
とによって、酸素分圧を一定に制御することが、ある程
度可能である。Further, when the temperature of the firing furnace is raised or lowered,
When the temperature in the firing furnace changes, the oxygen partial pressure in the firing furnace changes with the temperature change. In this case, the oxygen partial pressure can be controlled to a certain degree by changing the temperature of the water in the humidifier according to the temperature change in the firing furnace.
【００４４】なお、加湿器５中で一定量の酸素を添加す
ることによって、水素含有ガス中に一定量の水を添加す
ることができる。By adding a certain amount of oxygen in the humidifier 5, a certain amount of water can be added to the hydrogen-containing gas.
【００４５】加湿器は、温度を制御した水中へガスを吹
き込み、バブリングさせる方法の他、Ｏ2 を微量添加
し、このＯ2 をＨ2 含有ガス中のＨ2 と反応させてＨ2
Ｏを生成させ、このＨ2 Ｏによって加湿する方法があ
る。この場合、加湿量は、Ｏ2 の添加量によって決定す
ることができる。また、ガス流路中に設けられた蒸発器
へ液体状の水を微量輸送し、蒸発器によって気体状の水
を生成させ、これを添加して加湿する方法もある。この
場合には、加湿量は、水の輸送量によって決定できる。
加湿器から炉心管に至る配管は、好ましくは、リボンヒ
ーターによって加熱しておく。これによって、加湿した
ガスから液体状の水が露結し、加湿量が変化してしまう
ことを防止できる。The humidifier, blowing gas into the water at a controlled temperature, other methods of bubbling, the O 2 was added in a small amount, the O 2 is reacted with H 2 in the containing H 2 gas H 2
There is a method of generating O and humidifying with this H 2 O. In this case, humidification amount can be determined by adding the amount of O 2. There is also a method in which a small amount of liquid water is transported to an evaporator provided in a gas flow path, gaseous water is generated by the evaporator, and this is added and humidified. In this case, the amount of humidification can be determined by the amount of water transported.
The piping from the humidifier to the furnace tube is preferably heated by a ribbon heater. Thus, it is possible to prevent the liquid water from dewing from the humidified gas and prevent the humidification amount from changing.
【００４６】一層酸素分圧が低い領域Ｄにおいては、
（ｉｖ）水素含有ガス中の酸素分圧を酸素ポンプによっ
て変更して得られた雰囲気を焼成炉中に供給することに
よって、酸素分圧を制御できる。制御可能な温度範囲は
例えば９００℃〜１７００℃であり、制御可能な酸素分
圧は例えば１０- 2 2 〜１０- 1 8 ａｔｍである。In the region D having a lower oxygen partial pressure,
(Iv) The oxygen partial pressure can be controlled by supplying the atmosphere obtained by changing the oxygen partial pressure in the hydrogen-containing gas with an oxygen pump into a firing furnace. Controllable temperature range is, for example, 900 ° C. to 1700 ° C., controllable oxygen partial pressure, for example 10 - 2 2-10 - 1 8 is atm.
【００４７】この場合には、水素含有ガスを加湿しない
で供給路１５Ｃ、１５Ｄへと流し、酸素ポンプ７におい
て水素含有ガス中に微量の酸素を添加することができ
る。しかし、本発明者は、酸素ポンプ７において水素含
有ガス中から更に微量の酸素を除去し、従来よりも一層
低い圧力の範囲内で酸素分圧を制御できることを見いだ
した。例えば炉心管の温度が１２００℃であるときに、
雰囲気中の酸素分圧を、１０- 2 2 ａｔｍに精密に制御
することができた。In this case, a small amount of oxygen can be added to the hydrogen-containing gas by the oxygen pump 7 by flowing the hydrogen-containing gas to the supply paths 15C and 15D without humidification. However, the present inventor has found that a further small amount of oxygen can be removed from the hydrogen-containing gas by the oxygen pump 7 and the oxygen partial pressure can be controlled within a lower pressure range than before. For example, when the temperature of the furnace tube is 1200 ° C,
The oxygen partial pressure in the atmosphere, 10 - could be precisely controlled to 2 2 atm.
【００４８】[0048]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、常
圧近辺から１０- 1 8 ａｔｍ以下といった広い範囲内
で、酸素分圧を自由かつ精密に制御できるような焼成装
置を提供できる。また、セラミックスの被焼成体を収容
し、焼成するための焼成炉を備えている焼成装置におい
て、特に１０- 1 8 ａｔｍ以下といった非常に低い圧力
の範囲内で焼成炉内の酸素分圧を正確に制御できる。As described above, according to the present invention, according to the present invention, 10 from atmospheric圧近sides - within a wide range such as 1 8 atm or less, it is possible to provide a firing device, such as the oxygen partial pressure can be freely and precisely controlled . Further, accommodating the object to be fired in the ceramic, firing apparatus comprising a firing furnace for firing, in particular 10 - 1 accurate oxygen partial pressure in the sintering furnace at 8 atm in a very low range of pressures, such as below Can be controlled.
【図１】本発明の一実施形態に係る焼成装置の模式的ブ
ロック図である。FIG. 1 is a schematic block diagram of a firing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図２】（ｉ）〜（ｉｖ）の各方法によって制御可能な
酸素分圧の範囲と温度範囲との領域を示すグラフであ
る。FIG. 2 is a graph showing a range of an oxygen partial pressure range and a temperature range that can be controlled by the methods (i) to (iv).
【図３】本発明の他の実施形態に係る焼成装置の模式的
ブロック図である。FIG. 3 is a schematic block diagram of a firing apparatus according to another embodiment of the present invention.
【図４】本発明の更に他の実施形態に係る焼成装置の模
式的ブロック図である、FIG. 4 is a schematic block diagram of a firing apparatus according to still another embodiment of the present invention.
１ 不活性ガス供給源 ２ 酸素含有ガス供給源
３ 水素含有ガス供給源 ４ ガス精製器 ５ 加
湿器 ６Ａ、６Ｂ、６Ｃ 弁 ７ 酸素ポンプ ８ 不活性ガス供給装置 ９ 焼
成炉の上流側の酸素分圧測定装置 １０ 焼成炉
１１ ヒーター １２ 炉心管 １３ 焼成炉の下
流側の酸素分圧測定装置 １５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃ、
１５Ｄ 供給路 １６ 排出路1 inert gas supply source 2 oxygen-containing gas supply source
Reference Signs List 3 Hydrogen-containing gas supply source 4 Gas purifier 5 Humidifier 6A, 6B, 6C Valve 7 Oxygen pump 8 Inert gas supply device 9 Oxygen partial pressure measuring device upstream of firing furnace 10 Firing furnace
Reference Signs List 11 heater 12 furnace tube 13 oxygen partial pressure measurement device 15A, 15B, 15C on the downstream side of firing furnace
15D supply path 16 discharge path
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 重則 愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 日 本碍子株式会社内 (72)発明者 村井 真 愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 日 本碍子株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Shigenori Ito 2-56, Sudacho, Mizuho-ku, Nagoya, Aichi Prefecture Inside Nihon Insulators Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Murai 2-56, Sudacho, Mizuho-ku, Nagoya, Aichi Prefecture No. Japan Insulators Co., Ltd.
Claims (9)
るための焼成炉を備えている焼成装置であって、常温で
不活性な不活性ガスを供給するための不活性ガス供給
源、所定の酸素分圧を有する酸素含有ガスを供給するた
めの酸素含有ガス供給源、所定の水素分圧を有する水素
含有ガスを供給するための水素含有ガス供給源、前記不
活性ガス、前記酸素含有ガスおよび前記水素含有ガスの
中から選択された一種以上のガスを前記焼成炉中に供給
するための供給路、この供給路に設けられている酸素ポ
ンプおよび酸素分圧測定装置を備えていることを特徴と
する、セラミックスの焼成装置。1. A baking apparatus provided with a baking furnace for containing and baking a ceramic body to be fired, comprising: an inert gas supply source for supplying an inert gas which is inert at room temperature; An oxygen-containing gas supply source for supplying an oxygen-containing gas having a partial pressure of oxygen, a hydrogen-containing gas supply source for supplying a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure, the inert gas, and the oxygen-containing gas And a supply path for supplying at least one gas selected from the hydrogen-containing gas into the firing furnace, an oxygen pump and an oxygen partial pressure measurement device provided in the supply path. Characterized by ceramic firing equipment.
れる前に前記水素含有ガス中に水分を添加するための水
分添加装置を備えていることを特徴とする、請求項１記
載のセラミックスの焼成装置。2. The apparatus according to claim 1, further comprising a water addition device for adding water to the hydrogen-containing gas before the hydrogen-containing gas is supplied into the firing furnace. Ceramic firing equipment.
られており、この酸素分圧測定装置によって前記焼成炉
中に供給される前の雰囲気中の酸素分圧を測定し、この
測定値に基づいて前記酸素ポンプを制御する制御機構を
備えていることを特徴とする、請求項１または２記載の
セラミックスの焼成装置。3. The oxygen partial pressure measurement device is provided in the supply path, and measures the oxygen partial pressure in the atmosphere before being supplied into the firing furnace by the oxygen partial pressure measurement device. The ceramic firing apparatus according to claim 1, further comprising a control mechanism that controls the oxygen pump based on a value.
側に設けられており、この酸素分圧測定装置によって前
記焼成炉から排出される雰囲気中の酸素分圧を測定し、
この測定値に基づいて前記酸素ポンプを制御する制御機
構を備えていることを特徴とする、請求項１〜３のいず
れか一つの請求項に記載のセラミックスの焼成装置。4. The oxygen partial pressure measuring device is provided downstream of the firing furnace, and measures the oxygen partial pressure in the atmosphere discharged from the firing furnace by the oxygen partial pressure measuring device.
The ceramic firing apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a control mechanism for controlling the oxygen pump based on the measured value.
使用して焼成炉中の被焼成体を焼成するのに際して、前
記焼成炉中で前記被焼成体を焼成するときの雰囲気中の
酸素分圧を制御するために、下記のいずれかの雰囲気を
選択的に前記焼成炉中に供給することを特徴とする、セ
ラミックスの焼成方法。 （ｉ）純酸素、または前記不活性ガスと前記酸素含有ガ
スとの混合ガスからなる雰囲気 （ｉｉ）前記不活性ガス中の酸素分圧を前記酸素ポンプ
によって変更して得られた雰囲気 （ｉｉｉ）前記水素含有ガスに所定量の水分を添加して
得られた雰囲気 （ｉｖ）前記水素含有ガス中の酸素分圧を前記酸素ポン
プによって変更して得られた雰囲気5. A method for firing an object to be fired in a firing furnace using the apparatus for firing ceramics according to claim 1, wherein the oxygen content in an atmosphere when firing the object to be fired in the firing furnace is determined. A method for firing ceramics, comprising selectively supplying one of the following atmospheres to the firing furnace in order to control the pressure. (I) Atmosphere composed of pure oxygen or a mixed gas of the inert gas and the oxygen-containing gas. (Ii) Atmosphere obtained by changing the oxygen partial pressure in the inert gas by the oxygen pump. (Iii) Atmosphere obtained by adding a predetermined amount of water to the hydrogen-containing gas. (Iv) Atmosphere obtained by changing the oxygen partial pressure in the hydrogen-containing gas by the oxygen pump.
るための焼成炉を備えている焼成装置であって、所定の
水素分圧を有する水素含有ガスを供給するための水素含
有ガス供給源、前記水素含有ガスを焼成炉中に供給する
ための供給路、前記水素含有ガスが前記焼成炉内に供給
される前に前記水素含有ガスから酸素を除去するための
酸素ポンプおよび酸素分圧測定装置を備えていることを
特徴とする、セラミックスの焼成装置。6. A hydrogen-containing gas supply source for supplying a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure, comprising a firing furnace for housing and firing a ceramic body to be fired. A supply path for supplying the hydrogen-containing gas into the firing furnace, an oxygen pump and an oxygen partial pressure measurement for removing oxygen from the hydrogen-containing gas before the hydrogen-containing gas is supplied into the firing furnace. An apparatus for firing ceramics, comprising: an apparatus.
るための焼成炉を備えている焼成装置であって、所定の
水素分圧を有する水素含有ガスを供給するための水素含
有ガス供給源、前記水素含有ガスを焼成炉中に供給する
ための供給路、前記水素含有ガスが前記焼成炉内に供給
される前に前記水素含有ガス中に水分を添加するための
水分添加装置および酸素分圧測定装置を備えていること
を特徴とする、セラミックスの焼成装置。7. A hydrogen-containing gas supply source for supplying a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure, comprising a firing furnace for housing and firing a ceramic body to be fired. A supply path for supplying the hydrogen-containing gas into the firing furnace, a water addition device for adding water to the hydrogen-containing gas before the hydrogen-containing gas is supplied into the firing furnace, and an oxygen component. An apparatus for firing ceramics, comprising a pressure measuring device.
する方法であって、所定の水素分圧を有する水素含有ガ
スから酸素ポンプによって酸素を除去し、次いでこの水
素含有ガスを前記焼成炉中に供給しつつ、この焼成炉中
の前記被焼成体を焼成することを特徴とする、セラミッ
クスの焼成方法。8. A method for firing an object to be fired in a firing furnace, wherein oxygen is removed from a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure by an oxygen pump. A method for firing ceramics, wherein the object to be fired in the firing furnace is fired while being supplied into the furnace.
する方法であって、所定の水素分圧を有する水素含有ガ
ス中に水分添加装置によって所定量の水分を添加し、次
いでこの水素含有ガスを前記焼成炉中に供給しつつ、こ
の焼成炉中の前記被焼成体を焼成することを特徴とす
る、セラミックスの焼成方法。9. A method of firing a ceramic body to be fired in a firing furnace, wherein a predetermined amount of water is added to a hydrogen-containing gas having a predetermined hydrogen partial pressure by a water adding device, and then the hydrogen-containing gas is added. A method for firing ceramics, comprising firing the object to be fired in the firing furnace while supplying gas into the firing furnace.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9080058A JPH10274484A (en) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | Burning apparatus for ceramic and burning method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9080058A JPH10274484A (en) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | Burning apparatus for ceramic and burning method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10274484A true JPH10274484A (en) | 1998-10-13 |
Family
ID=13707646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9080058A Withdrawn JPH10274484A (en) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | Burning apparatus for ceramic and burning method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10274484A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048199A (en) * | 1997-12-02 | 2000-04-11 | Corning Incorporated | Tunnel kiln for firing ceramic honeycomb bodies |
| US6089860A (en) * | 1997-12-22 | 2000-07-18 | Corning Incorporated | Method for firing ceramic honeycomb bodies and a tunnel kiln used therefor |
| US6099793A (en) * | 1997-12-02 | 2000-08-08 | Corning Incorporated | Method for firing ceramic honeycomb bodies |
| US6325963B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-12-04 | Corning Incorporated | Method for firing ceramic honeycomb bodies |
| JP2007262530A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Chubu Electric Power Co Inc | Oxidation-resistant coating member and its manufacturing method |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP9080058A patent/JPH10274484A/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048199A (en) * | 1997-12-02 | 2000-04-11 | Corning Incorporated | Tunnel kiln for firing ceramic honeycomb bodies |
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| JP2007262530A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Chubu Electric Power Co Inc | Oxidation-resistant coating member and its manufacturing method |
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