JPH10251941A - Weft detector for air jet loom - Google Patents

Weft detector for air jet loom

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JPH10251941A
JPH10251941A JP7053297A JP7053297A JPH10251941A JP H10251941 A JPH10251941 A JP H10251941A JP 7053297 A JP7053297 A JP 7053297A JP 7053297 A JP7053297 A JP 7053297A JP H10251941 A JPH10251941 A JP H10251941A
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slit
weft
holder
light
air jet
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Shigeo Yamada
茂生 山田
Masato Yonebayashi
正登 米林
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Tsudakoma Corp
Hokuryo Denko Co Ltd
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Tsudakoma Corp
Hokuryo Denko Co Ltd
Tsudakoma Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a weft detector which is improved in stability by controlling deterioration in S/N ratio resulting from differences between wefts in passing position and also by controlling unnecessary disturbing light from entering the detector to secure a high S/N ratio. SOLUTION: This weft detector is equipped with a projector 32 and light receiver 34 facing each other across a weft passage, which are respectively supported by a first holder 24 and second holder 26, wherein the first holder 24 is equipped on the weft passage side with a slit 62 extending to intersect with the weft passage, and the second holder 26 is equipped with a slit 64 on the weft passage side extending in parallel to the slit 62. This design allows a luminous flux of a virtually constant width in the slit width direction to be received, controlling S/N ratio from being deteriorated even when the wefts pass at different positions, and also minimizing the luminous flux with which the light receiver 34 is not irradiated so as to control reflection-caused disturbing light, with the result that the wefts can be detected more stably.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エアジェットルー
ムの緯糸検出装置に関し、特に緯入れされた緯糸の検出
に好適な光学式の緯糸検出装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a weft detecting device for an air jet loom, and more particularly to an optical weft detecting device suitable for detecting a weft inserted.

【0002】[0002]

【従来の技術】光学式の緯糸検出装置の1つとして、特
公昭63−19619号公報に記載されたものがある。
この従来の緯糸検出装置は、エアジェットルームにおい
て変形羽に隣接して設けられており、変形筬羽によって
形成された緯糸飛走路を飛走する緯糸を検出するもので
ある。そして、公報中に参照文献として記載されている
ドイツ公開特許第2517471号公報には、緯糸検出
装置が対向配置された投、受光器と投、受光器のホルダ
とを備え、ホルダは投光器の前方にドーム型のレンズを
有し、受光器の前方にドーム型の窓を有しているとの記
載がある。
2. Description of the Related Art One of optical type weft detecting devices is disclosed in Japanese Patent Publication No. 63-19196.
This conventional weft detection device is provided adjacent to a deformed wing in an air jet loom, and detects a weft flying on a weft flight path formed by a deformed reed wing. Japanese Patent Publication No. 2517471, which is described as a reference in the gazette, includes a projecting device, a light receiving device, a projecting device, and a holder for the light receiving device, in which a weft detecting device is arranged to face each other. Has a dome-shaped lens and a dome-shaped window in front of the light receiver.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】かかる従来技術による
ときは、投光器からの拡散光束はドーム型のレンズによ
って絞られた後、緯糸飛走路を経て受光器に照射され
る。このとき、絞られた光束は少なくとも緯糸の飛走領
域85を含むように照射され(図13)、受光器は少な
くとも緯糸の飛走領域に相当する直径を有する円形状の
光束80を受ける(図12一点鎖線)。
In such a conventional technique, a diffused light beam from a light projector is focused by a dome-shaped lens and then radiated to a light receiver via a weft flight path. At this time, the squeezed light beam is irradiated so as to include at least the weft flight region 85 (FIG. 13), and the light receiver receives at least a circular light beam 80 having a diameter corresponding to the weft flight region (FIG. 13). 12 dash-dot line).

【0004】このため、飛走領域における緯糸の通過位
置の違いによって、緯糸に遮られる光束の範囲長さ(緯
糸の飛走方向に関する長さ)が異なり、これによって受
光器からの検出信号のS/N比が劣化し、検出範囲の全
領域において安定な緯糸検出を行うことができないとい
う問題があった。
For this reason, the range length (length in the flight direction of the weft) of the light beam blocked by the weft differs depending on the difference in the passing position of the weft in the flight area. The / N ratio deteriorates, and there is a problem that stable weft detection cannot be performed in the entire detection range.

【0005】具体的に説明すると、図12に示すよう
に、ある緯入れにおいて緯糸が円形状の光束の中心付近
を通過するときは最も長い範囲にわたって光束を遮断す
るが(番号83参照)、前記中心より離れた位置を通過
するときはその長さが短くなり(番号82参照)、良好
なS/N比を得ることができないことになる。
More specifically, as shown in FIG. 12, when a weft passes near the center of a circular light beam in a certain weft insertion, the light beam is blocked over the longest range (see reference numeral 83). When passing through a position distant from the center, the length becomes short (see reference numeral 82), and a good S / N ratio cannot be obtained.

【0006】しかも、投光器からの光束はレンズによっ
て絞られているものの、拡散しながら緯糸飛走路に向か
うので、直接受光器に照射されない光束が存在しそれら
が筬羽や風綿等に反射し、外乱光となって受光器に照射
される。これによって、緯糸が存在しても高いS/N比
が得られず、結果的に緯糸検出が不安定となるという問
題を生じていた。
Further, although the light beam from the light projector is converged by the lens, the light beam is directed toward the weft flight path while diffusing, so that there are light beams that are not directly radiated to the light receiver, and they are reflected by reeds, fluff, etc. The light is emitted to the light receiver as disturbance light. As a result, a high S / N ratio cannot be obtained even when weft yarns are present, resulting in a problem that the detection of weft yarns becomes unstable.

【0007】本発明は、緯糸の通過位置の違いによるS
/N比の劣化を抑え、しかも、不要な外乱光の侵入を抑
えて高いS/N比を得ることによって、緯糸検出を安定
化させることを目的とする。
[0007] The present invention is based on the difference in S
It is an object of the present invention to stabilize the weft detection by suppressing deterioration of the / N ratio and suppressing a penetration of unnecessary disturbance light to obtain a high S / N ratio.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段、作用】本発明の緯糸検出
装置は、緯糸飛走路を挟んで対向配置された投光器およ
び受光器と、前記投光器のホルダであって、前記投光器
の緯糸飛走路側に緯糸の飛走方向と交差する方向に延在
するスリットを有する第1のホルダと、前記受光器のホ
ルダであって、前記受光器の緯糸飛走路側に前記スリッ
トと同一方向に延在するスリットを有する第2のホルダ
とを備えてなる。
A weft detecting device according to the present invention comprises a light emitter and a light receiver which are opposed to each other with a weft flight path interposed therebetween, and a holder for the light projector, which is on the side of the weft flight path of the light projector. A first holder having a slit extending in a direction intersecting with the flight direction of the weft, and a holder of the light receiver, wherein the holder extends in the same direction as the slit on the weft flight path side of the light receiver. A second holder having a slit.

【0009】本発明の構成によれば、スリットを介して
受光器が受ける光束は、その緯入れ方向の幅が緯入れ方
向と直交する方向についてほぼ一定であるから、緯糸の
通過位置が異なっても光束を遮断する緯糸の長さはほぼ
一定となり、S/N比が劣化しにくい。また、投光器は
スリットを介して緯糸飛走路へ照射するから、直接受光
器に照射されない光束が少なくなりそれだけ反射による
外乱光が抑えられ、結果的に高いS/N比を得ることが
できる。
According to the structure of the present invention, the light beam received by the light receiver via the slit has a substantially constant width in the weft insertion direction in a direction orthogonal to the weft insertion direction. Also, the length of the weft blocking the light beam is almost constant, and the S / N ratio is hardly deteriorated. Further, since the light projector irradiates the weft flight path through the slit, the light flux not directly irradiating the light receiver is reduced, and disturbance light due to reflection is suppressed accordingly, so that a high S / N ratio can be obtained.

【0010】前記第1のホルダおよび前記第2のホルダ
の各スリットを緯糸の飛走方向と直交する方向に延在さ
せれば、必要なスリットの長さは最小となる。
[0010] If the slits of the first holder and the second holder are extended in a direction perpendicular to the flight direction of the weft, the required length of the slit is minimized.

【0011】少なくとも第2のホルダのスリットは、連
続した開口部から形成され、かつ、スリットの延在方向
の中央部における幅よりも両端部における幅が大きくな
るように形成されることが好ましい。このような構成に
より、受光される光束の光度は、スリットの延在方向に
ついてほぼ均一になり、緯糸の通過位置の相違によるS
/N比のばらつきを抑えることができる。
It is preferable that the slit of at least the second holder is formed from a continuous opening and that the width at both ends is larger than the width at the center in the extending direction of the slit. With such a configuration, the luminous intensity of the received light beam becomes substantially uniform in the extending direction of the slit, and the luminous intensity of the light beam due to the difference in the passing position of the weft is increased.
/ N ratio variation can be suppressed.

【0012】また、第2のホルダのスリットは、多数の
孔により形成され、かつ、スリットの延在方向の中央部
における孔の形成密度より両端部における孔の形成密度
が大きくなるように形成することもできる。このような
構成によっても、前記と同様の理由でS/N比のばらつ
きを抑えることができる。
Further, the slit of the second holder is formed by a large number of holes, and is formed such that the formation density of the holes at both ends is higher than the formation density of the holes at the center in the extending direction of the slit. You can also. Even with such a configuration, the variation in the S / N ratio can be suppressed for the same reason as described above.

【0013】前記第1のホルダは、スリットと投光器と
の間に、平坦面およびほぼ半円形の両端面を有するかま
ぼこ型レンズを前記両端面がスリットの延在方向に間隔
をおくように配設することができる。このような構成に
よれば、投光器からの光束はスリットの幅方向について
絞られ、高い光度の光を照射できるから一層高いS/N
比を得ることができる。
[0013] The first holder is provided between the slit and the projector, and has a semi-circular lens having a flat surface and substantially semicircular both end surfaces so that the both end surfaces are spaced from each other in the extending direction of the slit. can do. According to such a configuration, the luminous flux from the light projector is narrowed in the width direction of the slit, and light with a high luminous intensity can be irradiated, so that a higher S / N ratio is achieved.
Ratio can be obtained.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図1から図8を以て発明の
実施の形態を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0015】透過式の緯糸検出装置20は、エアジェッ
トルームのリードホルダ22に装着される第1の支持体
24と、該第1の支持体の一端部に嵌合された板状およ
び不透明の第2の支持体26と、緯糸が飛走する切欠部
28を形成するように第2の支持体26を覆う透明のカ
バー30と、切欠部28に関して一方の側に配置された
投光器32と、切欠部28に関して他方の側に配置され
た受光器34とを含む。
The transmission type weft detecting device 20 comprises a first support 24 mounted on a lead holder 22 of an air jet loom, and a plate-shaped and opaque fitting fitted to one end of the first support. A second support 26, a transparent cover 30 that covers the second support 26 so as to form a cutout 28 where the wefts fly, and a light projector 32 arranged on one side of the cutout 28. And a light receiver 34 arranged on the other side with respect to the cutout 28.

【0016】リードホルダ22には、緯糸飛走路を画定
する緯糸案内溝を有した変形筬羽からなる図示しない筬
が取付けられている。緯糸検出装置20の切欠部28
は、変形筬羽の緯糸案内溝と同一形状を有している。そ
して、緯糸検出装置20は、切欠部28が筬の緯糸案内
溝と一致するように設けられている。
A reed (not shown) made of a modified reed wing having a weft guide groove defining a weft flight path is attached to the lead holder 22. Notch 28 of weft detecting device 20
Has the same shape as the weft guide groove of the modified reed dent. The weft detection device 20 is provided such that the notch 28 matches the weft guide groove of the reed.

【0017】第1の支持体24の一端部は板状部38と
され、筬羽間隔より十分大きい幅(例えば10mm)を
有し、また織り前側に向く凹所40を有する。これに対
し、第1の支持体24の他端部は、リードホルダ22に
装着される装着部42であり、また、凸部44をリード
ホルダ22の凹所に嵌合させ、傾斜凸部46をリードホ
ルダ22の側面に当接させ、傾斜面48をリードホルダ
22の傾斜面に当接させた状態で、リードホルダ22に
組み付けられる。第1の支持体24の一端部は凹所40
の上部内側に突出する突起50を有し、他端部は装着用
のボルトを通す穴52を有する。
One end of the first support 24 is formed as a plate-shaped portion 38, has a width (for example, 10 mm) sufficiently larger than the interval between the reeds, and has a recess 40 facing the front side of the weaving. On the other hand, the other end of the first support 24 is a mounting part 42 mounted on the lead holder 22, and the convex part 44 is fitted into the concave part of the lead holder 22, and the inclined convex part 46 is formed. Is brought into contact with the side surface of the lead holder 22, and the inclined surface 48 is brought into contact with the inclined surface of the lead holder 22, and is assembled to the lead holder 22. One end of the first support 24 has a recess 40
Has a projection 50 protruding inwardly at the top, and a hole 52 at the other end through which a mounting bolt passes.

【0018】第2の支持体26は、凹所40の奥底面お
よび上下面とほぼ同じ後面および上下面を有する。第2
の支持体26は、図5に示すように前側部分を切り欠い
た凹所54を有するとともに、第1の支持体24の突起
50と嵌合された凹所56とを有している。そして、凹
所54が織り前側に開口するように、第1の支持体24
の凹所40に装着されている。
The second support 26 has rear and upper and lower surfaces substantially the same as the inner bottom and upper and lower surfaces of the recess 40. Second
As shown in FIG. 5, the support 26 has a recess 54 with a front portion cut out, and a recess 56 fitted with the projection 50 of the first support 24. Then, the first support 24 is opened so that the recess 54 opens to the weave front side.
Is mounted in the recess 40.

【0019】さらに第2の支持体26は、投光器32お
よび受光器34を収容すべく上下方向に延びる1対の穴
58および60と、穴58および60をそれぞれ凹所5
4に連通させる1対のスリット62および64とを有し
ている。したがって、本実施の形態では、第2の支持体
26が本発明における第1のホルダおよび第2のホルダ
を構成する。第2の支持体26は、図3から図5に示す
ように凹所54に突出する突起66を凹所54の奥底部
の中央に有する。なお、前記スリット62,64につい
ては後に詳しく述べる。
Further, the second support 26 has a pair of vertically extending holes 58 and 60 for accommodating the light projector 32 and the light receiver 34 and a pair of holes 58 and 60 respectively.
4 has a pair of slits 62 and 64 communicating with the slit 4. Therefore, in the present embodiment, the second support 26 constitutes the first holder and the second holder in the present invention. As shown in FIGS. 3 to 5, the second support 26 has a projection 66 projecting into the recess 54 at the center of the deep bottom of the recess 54. The slits 62 and 64 will be described later in detail.

【0020】カバー30は、切欠部28の投光器32側
の面を形成する第1のカバー部30aと、切欠部28の
受光器34側の面を形成する第2のカバー部30bと、
切欠部28の奥底面を形成する第3のカバー部30c
と、第2の支持体26について緯糸の飛走方向における
後方側の面を覆う第4のカバー部30dと、緯糸の飛走
方向における前方側の面を覆う第5のカバー部30e
と、第2の支持体26の上部前面を覆う第6のカバー部
30fと、第2の支持体26の下部前面を覆う第7のカ
バー部30gと、第7のカバー部30gの前面下端部に
形成された係合段部30hと、第3のカバー部30cの
中央に形成された貫通孔68とを有する。第2のカバー
部30bと第3のカバー部30cとが形成する角度は直
角となっている。
The cover 30 includes a first cover portion 30a that forms the surface of the notch 28 on the light emitter 32 side, a second cover portion 30b that forms the surface of the notch 28 on the light receiver 34 side,
Third cover portion 30c forming the inner bottom surface of cutout portion 28
A fourth cover 30d covering the rear surface of the second support 26 in the weft flight direction, and a fifth cover portion 30e covering the front surface of the weft in the flight direction.
A sixth cover 30f covering the upper front surface of the second support 26, a seventh cover 30g covering the lower front of the second support 26, and a lower front end of the seventh cover 30g. And a through hole 68 formed at the center of the third cover 30c. The angle formed by the second cover 30b and the third cover 30c is a right angle.

【0021】カバー30は、第2の支持体26に接着さ
れている。第2の支持体26とカバー30との組立体
は、カバー30の係合段部30hが第1の支持体24の
係合部に係合し、カバーの貫通孔68が第2の支持体2
6の突起66と嵌合した状態に、第1の支持体24の凹
所に嵌合されており、また第1の支持体24に接着され
ている。突起66は、照射光が第3のカバー部30c内
を通って受光器34の側に達することを防止する。
The cover 30 is adhered to the second support 26. In the assembly of the second support 26 and the cover 30, the engaging step 30h of the cover 30 is engaged with the engaging portion of the first support 24, and the through hole 68 of the cover 30 is provided in the second support. 2
6 are fitted in the recesses of the first support 24 and fitted to the first support 24 in a state of fitting with the protrusions 66 of the sixth support. The protrusion 66 prevents the irradiation light from reaching the light receiver 34 through the inside of the third cover 30c.

【0022】投光器32および受光器34は、それぞれ
穴58および60に配置されており、また第1の支持体
24の下端に設けられたコネクタ部70に電線72およ
び74により接続されている。図9に示すようにスリッ
ト62の延在方向、言い換えればスリット62の長手方
向へ延びる長いかまぼこ型レンズ81をスリット62と
投光器32との間に配置してもよい。詳細には、かまぼ
こ型レンズ81は、円弧状の弦方向がスリット62の長
手方向と直交し、レンズ凸面がスリット62側に向かう
ように配置されている。また、かまぼこ型レンズ81
は、投光器32の発光面全体を覆っている。このように
かまぼこ型レンズ81を配置すれば、投光器32からの
照射光をスリット62へ集光させることができる。
The light projector 32 and the light receiver 34 are arranged in holes 58 and 60, respectively, and are connected to a connector 70 provided at the lower end of the first support 24 by electric wires 72 and 74. As shown in FIG. 9, a long semi-cylindrical lens 81 extending in the extending direction of the slit 62, in other words, extending in the longitudinal direction of the slit 62, may be arranged between the slit 62 and the projector 32. More specifically, the semi-cylindrical lens 81 is arranged such that the arc-shaped chord direction is orthogonal to the longitudinal direction of the slit 62 and the convex surface of the lens faces the slit 62 side. In addition, the kamaboko lens 81
Covers the entire light emitting surface of the light projector 32. By arranging the semi-cylindrical lens 81 in this way, the irradiation light from the light projector 32 can be focused on the slit 62.

【0023】図1に示すように、凹所28の奥底面28
aは平坦面であり、カバー30の第1のカバー部30a
は同じ厚さ寸法を有する板状に形成されている。第1の
カバー部30aは、奥底面28a側ほど高くなるよう
に、奥底面28aに対し所定の角度傾斜している。投光
器32は、投光器32から第1のカバー部30aに向か
う照射光の光軸が奥底面28aと平行になるように、穴
58に配置されている。
As shown in FIG.
a is a flat surface, and the first cover portion 30a of the cover 30
Are formed in a plate shape having the same thickness dimension. The first cover portion 30a is inclined at a predetermined angle with respect to the inner bottom surface 28a so as to be higher toward the inner bottom surface 28a. The light projector 32 is disposed in the hole 58 such that the optical axis of the irradiation light from the light projector 32 toward the first cover 30a is parallel to the rear bottom surface 28a.

【0024】スリット62,64は、緯糸の飛走方向と
交差する方向(例えば90°をなす方向)に延在し、図
1および図8に示すように対向配置されている。スリッ
ト62,64は、図3、図4および図6に示すように長
方形状の開口部から形成され、それぞれ幅0.5mm、
長さ4mmの寸法を有している。また、スリット62
は、その中心(長方形の対角線の交点)が投光器32の
発光点と一致する位置に形成されている。
The slits 62 and 64 extend in a direction intersecting with the weft flight direction (for example, a direction forming 90 °), and are arranged to face each other as shown in FIGS. The slits 62, 64 are formed from rectangular openings as shown in FIGS. 3, 4, and 6, each having a width of 0.5 mm,
It has a length of 4 mm. Also, the slit 62
Is formed at a position where the center (the intersection of the diagonal lines of the rectangle) coincides with the light emitting point of the light projector 32.

【0025】投光器32からの光束は、スリット62の
存在によって照射角θ1(例えば18°)の光束に制限
されて切欠部28へ照射される(図8)。そして、スリ
ット64の存在により照射光のうちスリットの幅方向に
ついて平行光に近いもののみが受光器34に達する。し
たがって、図12に示すように定常状態においては受光
器34にはスリット64の形状をなす光束84が受光さ
れる。なお、このとき、スリット62を通過した光束の
照射角θ2は、投光器32を構成する発光ダイオードの
半値角に等しい値(例えば106°)となっている。
The light beam from the light projector 32 is limited to a light beam having an irradiation angle θ1 (for example, 18 °) due to the presence of the slit 62 and is irradiated to the notch 28 (FIG. 8). Then, due to the presence of the slit 64, only the part of the irradiation light that is close to parallel light in the width direction of the slit reaches the light receiver 34. Therefore, as shown in FIG. 12, in the steady state, the light beam 84 having the shape of the slit 64 is received by the light receiver 34. At this time, the irradiation angle θ2 of the light beam that has passed through the slit 62 has a value (for example, 106 °) equal to the half-value angle of the light-emitting diode constituting the light projector 32.

【0026】したがって、緯糸の通過位置がピック毎に
異なっても、緯糸によって遮断される長さはほぼ同じで
あるから、緯糸飛走路を飛走する緯糸の通過位置が異な
ることによってS/N比が大きくばらつくことはない。
Therefore, even if the passing position of the weft is different for each pick, the length of the cut off by the weft is almost the same. Does not vary greatly.

【0027】なお、投光器32の前面からスリット62
までの距離Lが大きい程、スリット62を通過した光束
の照射角θ1、θ2を小さくできる。例えば、前記距離
Lを3mmに設定すると、スリット62を通過した光束
の照射角θ1は9°となるから、切欠部28へ向かう照
射光がスリットの幅方向についてより平行光に近いもの
となる。また、照射角θ2ついても62°と小さくな
り、それだけスリット62を通過する不要な照射光を制
限できるから、反射による外乱光の発生を減少させるこ
とができる。
It should be noted that a slit 62 is provided from the front of the projector 32.
The longer the distance L to the distance, the smaller the irradiation angles θ1 and θ2 of the light beam passing through the slit 62 can be. For example, when the distance L is set to 3 mm, the irradiation angle θ1 of the light beam that has passed through the slit 62 is 9 °, so that the irradiation light traveling toward the notch 28 is closer to parallel light in the width direction of the slit. In addition, the irradiation angle θ2 becomes as small as 62 °, and unnecessary irradiation light passing through the slit 62 can be limited accordingly, so that the occurrence of disturbance light due to reflection can be reduced.

【0028】スリット62,64は、単に長方形状の開
口部とすることに代えて、図10に示すようにスリット
の長手方向の中央部における幅(0.5mm)よりも両
端部における幅が大きくなるように、例えば0.8mm
に形成してもよい。照射光は、発光点位置86からスリ
ットの長手方向に距離をおく程光度が減少し、端部にお
いて最も低くなるから、スリットの両端部の幅を中央部
より大きくすれば、スリットを通過した光束のスリット
の長手方向における光度のばらつきを少なくすることが
できる。したがって、一層S/N比の低下を抑えること
ができる。
Each of the slits 62 and 64 has a larger width at both ends than the width (0.5 mm) at the center in the longitudinal direction of the slit as shown in FIG. So that, for example, 0.8 mm
May be formed. The irradiation light decreases in luminous intensity as the distance from the light emitting point position 86 in the longitudinal direction of the slit decreases and becomes lowest at the end. Therefore, if the width of both ends of the slit is made larger than the center, the luminous flux passing through the slit is increased. Of the luminous intensity in the longitudinal direction of the slit can be reduced. Therefore, a decrease in the S / N ratio can be further suppressed.

【0029】また、スリット62,64の長手方向の辺
は曲線状を成し、幅が中央部から端部に向けて徐々に拡
大しているから、スリットの長手方向における光度は均
一になっている。なお、このような形状は、受光器34
側のスリット64に優先的に適用し、このときの投光器
32側のスリット62は幅0.8mmの長方形状として
もよい。
Further, since the longitudinal sides of the slits 62 and 64 are curved and the width gradually increases from the center to the end, the luminous intensity in the longitudinal direction of the slit becomes uniform. I have. Note that such a shape is
This is preferentially applied to the slit 64 on the side, and the slit 62 on the side of the projector 32 at this time may have a rectangular shape with a width of 0.8 mm.

【0030】スリット62,64は、長方形状の開口部
といった連続した開口部から形成することに代えて、多
数の孔の集合体で構成してもよい。このとき、図11に
示すように形成密度がスリットの中央部についても密度
よりも両端部についての密度が大きくなるようにすれ
ば、また好ましくは、形成密度が中央部から端部に向か
うにすれて徐々に大きくなるようにすれば、図10に示
す実施の態様と同様の効果を得ることができる。
The slits 62 and 64 may be formed of a group of a large number of holes instead of being formed from a continuous opening such as a rectangular opening. At this time, as shown in FIG. 11, if the formation density is set to be higher at both ends than at the center of the slit, it is more preferable that the formation density is gradually increased from the center to the end. If the height is gradually increased, the same effect as in the embodiment shown in FIG. 10 can be obtained.

【0031】以上説明した実施例では、スリット62,
64の長手方向の寸法は同一にしていたが、受光器34
側のスリット64の長手方向の寸法を例えば6mmと長
くしてもよい。このとき、スリット64は、スリット6
2(長手方向寸法4mm)よりも両側でそれぞれ1mm
ずつ長くなるように配置される。
In the embodiment described above, the slits 62,
Although the longitudinal dimensions of the optical receivers 64 are the same,
The length in the longitudinal direction of the slit 64 on the side may be increased to, for example, 6 mm. At this time, the slit 64 is
2mm (longitudinal dimension 4mm) on both sides 1mm
Are arranged so as to be longer each time.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明によれば、スリットの存在によ
り、定常状態においてスリットの幅方向についてほぼ均
一な幅を有する光束が受光できるから、緯糸の通過位置
が異なってもS/N比が劣化しにくくなり、また、直接
受光器に照射されない光束が少なくなり反射による外乱
光が抑えられるから、結果的に安定した緯糸検出を行う
ことができる。
According to the present invention, a light beam having a substantially uniform width in the width direction of the slit can be received in a steady state due to the presence of the slit, so that the S / N ratio is deteriorated even when the weft passing position is different. In addition, since the amount of light that is not directly applied to the light receiver is reduced and disturbance light due to reflection is suppressed, stable weft detection can be performed as a result.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の緯糸検出装置の一実施例を示す正面図
である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a weft detecting device according to the present invention.

【図2】図1の2−2線に沿って得た端面図である。FIG. 2 is an end view taken along line 2-2 of FIG. 1;

【図3】図1の3−3線に沿って得た拡大断面図であ
る。
FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along line 3-3 in FIG. 1;

【図4】図1の4−4線に沿って得た拡大断面図であ
る。
FIG. 4 is an enlarged sectional view taken along line 4-4 in FIG. 1;

【図5】図3の5−5線に沿って得た断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along the line 5-5 in FIG. 3;

【図6】図1の緯糸検出装置の部分拡大図である。FIG. 6 is a partially enlarged view of the weft detecting device of FIG. 1;

【図7】図1の2−2線に沿って得た拡大断面図であ
る。
FIG. 7 is an enlarged sectional view taken along line 2-2 of FIG. 1;

【図8】図5の6−6線に沿って得た部分断面図であ
る。
FIG. 8 is a partial sectional view taken along line 6-6 in FIG. 5;

【図9】かまぼこ型レンズを装着した状態を示す図であ
る。
FIG. 9 is a view showing a state in which a kamaboko lens is mounted.

【図10】スリットの形状に関する他の実施例を示す図
である。
FIG. 10 is a diagram showing another embodiment relating to the shape of the slit.

【図11】スリットの形状に関する他の実施例を示す図
である。
FIG. 11 is a view showing another embodiment relating to the shape of the slit.

【図12】従来の受光状態と本発明の受光状態とを示す
図である。
FIG. 12 is a diagram showing a conventional light receiving state and a light receiving state of the present invention.

【符号の説明】 20 緯糸検出装置 24 第1の支持体 26 第2の支持体 32 投光器 34 受光器 62、64 スリット[Description of Signs] 20 Weft detector 24 First support 26 Second support 32 Projector 34 Receiver 62, 64 Slit

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年6月3日[Submission date] June 3, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Correction target item name] Brief description of drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の緯糸検出装置の一実施例を示す正面図
である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a weft detecting device according to the present invention.

【図2】図1の2−2線に沿って得た断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 in FIG.

【図3】図1の3−3線に沿って得た拡大断面図であ
る。
FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along line 3-3 in FIG. 1;

【図4】図1の4−4線に沿って得た拡大断面図であ
る。
FIG. 4 is an enlarged sectional view taken along line 4-4 in FIG. 1;

【図5】図3の5−5線に沿って得た断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along the line 5-5 in FIG. 3;

【図6】図1の緯糸検出装置の部分拡大図である。FIG. 6 is a partially enlarged view of the weft detecting device of FIG. 1;

【図7】図1の2−2線に沿って得た拡大断面図であ
る。
FIG. 7 is an enlarged sectional view taken along line 2-2 of FIG. 1;

【図8】図5の6−6線に沿って得た部分断面図であ
る。
FIG. 8 is a partial sectional view taken along line 6-6 in FIG. 5;

【図9】かまぼこ型レンズを装着した状態を示す図であ
る。
FIG. 9 is a view showing a state in which a kamaboko lens is mounted.

【図10】スリットの形状に関する他の実施例を示す図
である。
FIG. 10 is a diagram showing another embodiment relating to the shape of the slit.

【図11】スリットの形状に関する他の実施例を示す図
である。
FIG. 11 is a view showing another embodiment relating to the shape of the slit.

【図12】従来の受光状態と本発明の受光状態とを示す
図である。
FIG. 12 is a diagram showing a conventional light receiving state and a light receiving state of the present invention.

【図13】照射状態を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing an irradiation state.

【符号の説明】 20 緯糸検出装置 24 第1の支持体 26 第2の支持体 32 投光器 34 受光器 62、64 スリット[Description of Signs] 20 Weft detector 24 First support 26 Second support 32 Projector 34 Receiver 62, 64 Slit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 緯糸飛走路を挟んで対向配置された投光
器および受光器と、前記投光器のホルダであって、前記
投光器の緯糸飛走路側に緯糸の飛走方向と交差する方向
に延在するスリットを有する第1のホルダと、前記受光
器のホルダであって、前記受光器の緯糸飛走路側に前記
スリットと同一方向に延在するスリットを有する第2の
ホルダとを備えてなるエアジェットルームの緯糸検出装
置。
1. A light projecting device and a light receiving device arranged opposite to each other with a weft running path interposed therebetween, and a holder of the light projecting device, wherein the light projecting device extends on a side of the light projecting device in a direction intersecting a weft flight direction. An air jet comprising: a first holder having a slit; and a second holder having a slit extending in the same direction as the slit on a side of the weft running path of the light receiver, the first holder having the slit. Room weft detector.
【請求項2】 前記第1のホルダおよび前記第2のホル
ダの各スリットは、緯糸の飛走方向と直交する方向に延
在する請求項1記載のエアジェットルームの緯糸検出装
置。
2. The weft detecting device for an air jet loom according to claim 1, wherein each slit of said first holder and said second holder extends in a direction orthogonal to a flight direction of the weft.
【請求項3】 少なくとも前記第2のホルダのスリット
は、連続した開口部から形成され、かつ、スリットの延
在方向の中央部における幅よりも両端部における幅が大
きく形成されている請求項1または2記載のエアジェッ
トルームの緯糸検出装置。
3. The slit of at least the second holder is formed of a continuous opening, and the width at both ends is larger than the width at the center in the extending direction of the slit. Or the weft detection device for an air jet loom according to 2.
【請求項4】 少なくとも前記第2のホルダのスリット
は、多数の孔により形成され、かつ、スリットの延在方
向の中央部における孔の形成密度より両端部における孔
の形成密度が大きい請求項1または2記載のエアジェッ
トルームの緯糸検出装置。
4. The slit of at least the second holder is formed by a large number of holes, and the density of holes formed at both ends is greater than the density of holes formed at the center in the extending direction of the slit. Or the weft detection device for an air jet loom according to 2.
【請求項5】 前記第1のホルダは、スリットと投光器
との間に、平坦面およびほぼ半円形の両端面を有するか
まぼこ型レンズを前記両端面がスリットの延在方向に間
隔をおくように配設する請求項1〜4のいずれか1項に
記載のエアジェットルームの緯糸検出装置。
5. The first holder is provided with a semi-circular lens having a flat surface and substantially semicircular both end surfaces between a slit and a projector so that the both end surfaces are spaced from each other in a direction in which the slit extends. The weft detecting device for an air jet loom according to any one of claims 1 to 4, which is disposed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020200560A (en) * 2019-06-13 2020-12-17 株式会社豊田自動織機 Weft detection device of loom

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