JPH10251836A - Pt-coated sheet and its production - Google Patents

Pt-coated sheet and its production

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JPH10251836A
JPH10251836A JP9058841A JP5884197A JPH10251836A JP H10251836 A JPH10251836 A JP H10251836A JP 9058841 A JP9058841 A JP 9058841A JP 5884197 A JP5884197 A JP 5884197A JP H10251836 A JPH10251836 A JP H10251836A
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JP
Japan
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sheet
coated
sputtering
coated sheet
plated
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Application number
JP9058841A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiji Sakuma
栄治 佐久間
Miki Furukawa
幹 古川
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Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Publication date
Application filed by Tanaka Kikinzoku Kogyo KK filed Critical Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a Pt-coated sheet in a short process which has high adhesion property between Pt and the base material and high reliability as a sample base for a scanning tunnel analysis microscope and which can be cut into a desired shape by forming a Pt sputtering film on the base sheet in such a manner that the surface contains specified proportion of a specified crystalline face. SOLUTION: After the surface of the base sheet is cleaned, a Pt film is applied by sputtering on the surface to 100 to 10000Åthickness. The obtd. Pt-coated sheet has Pt (111) plane by >=70% of the film surface. As for the base sheet, an org. polymer sheet or a Ni-plated Al sheet can be used. As for the org. polymer, especially polyester, polymethylmethacrylate, polycarbonate and polyimide can be used. The surface roughness of the Pt-coated sheet as the final product is required to <=20nm. If the base sheet is a Ni-plated Al sheet, the sheet is processed to have V-shaped grooves according to the shape for the final use.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は走査型トンネル分析
顕微鏡(ASTM)、原子間力顕微鏡(AFM)、原子
間磁気用顕微鏡(ASR)、電界イオン顕微鏡(FI
M)、透過型電子顕微鏡(TEM)等の高倍率顕微鏡を
使用するとき、試料台や試料電極として用いられるAu
被覆シートに関する。
The present invention relates to a scanning tunneling microscope (ASTM), an atomic force microscope (AFM), an atomic force microscope (ASR), and a field ion microscope (FI).
M), when a high magnification microscope such as a transmission electron microscope (TEM) is used, Au used as a sample stage or sample electrode
It relates to a covering sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、走査型トンネル分析顕微鏡(AS
TM)、原子間力顕微鏡(AFM)、原子間磁気用顕微
鏡(ASR)、透過型電子顕微鏡(TEM)、電界イオ
ン顕微鏡(FIM)等の高倍率顕微鏡が一般的に用いら
れるようになり、表面分析技術の発展に大きく貢献して
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, scanning tunneling analysis microscopes (AS)
TM), atomic force microscope (AFM), microscope for atomic magnetism (ASR), transmission electron microscope (TEM), high-power microscope such as field ion microscope (FIM), etc. It has greatly contributed to the development of analytical techniques.

【0003】ところでこのような高倍率顕微鏡を用いて
観察を行う場合、観察試料を載せる試料台、試料電極に
もきびしい条件が要求される。すなわち、上記のような
顕微鏡では試料より戻ってくる情報を感知しそれにより
試料を観察するが、このとき試料よりの情報とともに試
料台より戻ってくる情報も同時に存在するため、この試
料台よりの情報を判別し、区別する必要がある。このよ
うな要求にこたえるための条件として試料台面に高い割
合で(111)面が存在すること、試料台面の粗さ(高
低差)が20nm以下であること等が必要とされている。こ
のような条件を満たすことにより試料台面からの情報を
特定することができ、試料からの情報のみを識別するこ
とが可能となる。
When observing using such a high-magnification microscope, severe conditions are required for a sample stage on which an observation sample is mounted and a sample electrode. That is, in the above-described microscope, information returned from the sample is sensed and the sample is observed accordingly. At this time, since information returned from the sample table is present together with information from the sample, the information from the sample table is also present. Information needs to be determined and distinguished. In order to meet such requirements, it is required that the (111) plane be present at a high rate on the sample table surface, and that the roughness (height difference) of the sample table surface be 20 nm or less. By satisfying such conditions, information from the sample stage can be specified, and only information from the sample can be identified.

【0004】従来このような条件を満たす試料台として
は、雲母のシート上にAuを蒸着させたシートが用いら
れた。雲母のシートを一定条件でアニールした後、 600
℃近辺でAuの蒸着を行い、その後 100℃近辺で2〜3
時間冷却、さらに大気中 500℃〜 600℃で5時間程アニ
ールを行い純水にて急冷してエピタキシャル成長したA
u(111)面を得るという方法がとられている。
Conventionally, as a sample stage satisfying such conditions, a sheet in which Au is deposited on a mica sheet has been used. After annealing the mica sheet under certain conditions,
Au is deposited at around 100 ° C, and then 2-3 at around 100 ° C.
A cooled for 5 hours, further annealed in air at 500 ° C. to 600 ° C. for about 5 hours, quenched with pure water and epitaxially grown A
A method of obtaining a u (111) plane has been adopted.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このようなAu被覆し
た雲母シートが試料台として用いられているのは、従来
雲母上でないとAu(111)面が出ないといわれてい
たためであるが、Auの蒸着膜はそのままではAu(1
11)面とはならず、上記のような工程を経て初めてA
u(111)面となるため、工程が煩雑であった。また
得られる試料台は素材である雲母の性質から硬くてもろ
く、使用時に希望する形状に加工するのが非常に困難で
あった。さらに雲母上の蒸着膜は密着性が悪く信頼性に
欠けるものであった。
The reason why such a mica sheet coated with Au is used as a sample stage is that Au (111) surface does not appear unless it is on mica. Au (1)
11) It does not become a surface, and A
The step was complicated because of the u (111) plane. Further, the obtained sample stage was hard and brittle due to the nature of the mica material, and it was very difficult to process it into a desired shape at the time of use. Furthermore, the deposited film on mica had poor adhesion and lacked reliability.

【0006】また試料台表面の金属が酸化したり反応し
たりして酸化物や化合物となってしまった場合、金属そ
のものから戻ってくる情報とは違った情報が金属酸化物
や化合物より戻ってくるため、観察結果に悪影響を与え
てしまう。このような悪影響をさけるため、従来は表面
金属に酸化や反応しにくい金属としてAuを用いていた
が、Auよりもさらに酸化や反応をしにくい金属で被覆
された試料台の出現も望まれていた。
When a metal on the surface of a sample table is oxidized or reacted to form an oxide or a compound, information different from information returned from the metal itself is returned from the metal oxide or the compound. Therefore, the observation result is adversely affected. In order to avoid such adverse effects, Au has conventionally been used as a metal that is less likely to oxidize or react with the surface metal. However, the emergence of a sample stage coated with a metal that is less susceptible to oxidation and reaction than Au is also desired. Was.

【0007】本発明はこのような従来の試料台に置き替
えることができ、さらに使用時に希望する形状に容易に
加工でき、また被覆の密着力が強く信頼性に富んだ試料
台となる金属被覆シートを提供することを目的とする。
さらにこのような金属の被覆シートを短い工程で歩留ま
りよく、容易に製造することのできる製造方法を提供す
る。
[0007] The present invention can be replaced with such a conventional sample stage, and can be easily processed into a desired shape at the time of use. The purpose is to provide a sheet.
Further, the present invention provides a manufacturing method capable of easily manufacturing such a metal-coated sheet in a short process with high yield.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のPt被覆シート
は素材シート表面上にPtのスパッタリング膜が施さ
れ、かつ該スパッタリング膜面の70%以上がPt(11
1)面であることを特徴とするものである。上記の素材
シートとしては有機高分子シート、Al上にNiメッキ
されたシート等が用いられ、有機高分子シートとしては
特にポリエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド等が用いられる。Ptのスパ
ッタリング膜の膜厚は 100Å乃至10,000Åであることが
望ましく、さらに最終的な製品であるAu被覆シートの
表面粗さ(高低差)は20nm以下であることが必要とされ
る。
In the Pt-coated sheet of the present invention, a Pt sputtering film is formed on the surface of the material sheet, and 70% or more of the sputtering film surface is Pt (11).
1) It is characterized in that it is a plane. As the material sheet, an organic polymer sheet, a sheet plated with Ni on Al, or the like is used. As the organic polymer sheet, polyester, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyimide, or the like is particularly used. It is desirable that the thickness of the Pt sputtering film is 100 ° to 10,000 °, and the surface roughness (difference in height) of the Au-coated sheet as a final product must be 20 nm or less.

【0009】さらに本発明のPt被覆シートは、素材シ
ートがAl上にNiメッキされたものの場合、最終的に
使用する形状に応じたV溝が加工されているものであ
る。
Further, in the case of the Pt-coated sheet of the present invention, in the case where the material sheet is plated with Ni on Al, a V-groove according to the shape to be finally used is processed.

【0010】また本発明のPt被覆シートの製造方法は
上記のような素材を洗浄後スパッタリングによりPt被
覆を 100Å乃至10,000Å施すものである。さらに本発明
のPt被覆シートの製造方法は、素材シートがAl上に
Niメッキされたものの場合、予め素材シートに、最終
的に使用する形状に応じたV溝を加工しておくことを特
徴とするものである。
In the method for producing a Pt-coated sheet of the present invention, the above-mentioned material is washed and then coated with Pt by sputtering at 100 to 10,000 °. Further, the method for producing a Pt-coated sheet according to the present invention is characterized in that, in the case where the material sheet is plated with Ni on Al, a V-groove according to the shape to be finally used is previously formed in the material sheet. Is what you do.

【0011】上記のように本発明のPt被覆シートは素
材シート上にPtスパッタリング被覆が施されており、
該スパッタリング膜面の70%以上がPt(111)面と
なっているため高倍率顕微鏡の試料台等として用いた場
合、試料台よりの反射情報を特定でき、試料よりの反射
情報と識別することが可能となる。特にPtはAuより
さらに酸化やその他の反応を起こしにくく、さらに高精
度な観察が可能となる。特にハロゲン化合物の水溶液中
で用いる場合、Ptは非常に安定性があり有効である。
配向性はPt(111)面が70%以上あれば一応実用と
なるが、望ましくは80%以上、さらに望ましくは85%以
上ある方が良く、配向性が高くなればなるほど、より高
精度の観察結果が得られる。
As described above, the Pt-coated sheet of the present invention has a Pt sputtering coating on a material sheet,
Since 70% or more of the sputtering film surface is a Pt (111) surface, when used as a sample stage or the like of a high magnification microscope, it is possible to specify the reflection information from the sample stage and distinguish it from the reflection information from the sample. Becomes possible. In particular, Pt is less susceptible to oxidation and other reactions than Au, and more precise observation is possible. Particularly when used in an aqueous solution of a halogen compound, Pt is very stable and effective.
The orientation is practicable if the Pt (111) plane is 70% or more. However, it is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more. The higher the orientation, the higher the accuracy of observation. The result is obtained.

【0012】本発明のPt被覆シートの素材シートとし
ては有機高分子シート、Al上にNiメッキされたシー
ト等が用いられるが、有機高分子シートが素材の場合、
製品を大きなシートとして供給し、使用者が使用の都度
任意の形状に鋏等で切断することが出来便利である。有
機高分子シートとしては、得られる表面の平坦度、シー
トの強度、耐熱性などにより選択すれば良いが、一般的
に得られるものとしてはポリエステル、ポリメチルメタ
アクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド等が使い
易い。
As a material sheet of the Pt-coated sheet of the present invention, an organic polymer sheet, a sheet plated with Ni on Al, or the like is used.
The product is supplied as a large sheet, and the user can cut the product into an arbitrary shape with scissors or the like each time the product is used, which is convenient. The organic polymer sheet may be selected depending on the flatness of the obtained surface, the strength of the sheet, heat resistance, etc., but polyester, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyimide, and the like are generally obtained as those easily obtained. .

【0013】また素材シートが有機高分子シートの場
合、耐薬品性も高くなり、さらに応用用途が広がる。
When the material sheet is an organic polymer sheet, chemical resistance is increased, and its application is further expanded.

【0014】スパッタリング膜の膜厚が 100Å未満の場
合希望する配向性が得られず好ましくない。また10,000
Åを越えて膜厚を増やしていっても得られる効果に変わ
りはなく、高価なPtがムダとなってしまう。
If the thickness of the sputtering film is less than 100 °, the desired orientation cannot be obtained, which is not preferable. Also 10,000
Even if the film thickness is increased beyond Å, the effect obtained is not changed, and expensive Pt is wasted.

【0015】製品表面の粗さ(高低差)は前述の通り反
射情報に一定の方向性を持たせるため20nm以下であるこ
とが必要であるが、さらには13nm以下であることが望ま
しい。
As described above, the roughness (height difference) of the product surface is required to be 20 nm or less in order to give a certain direction to the reflection information, and more preferably 13 nm or less.

【0016】本発明のPt被覆シートで素材シートがA
l上にNiメッキされたものの場合、Pt被覆シート自
体が導電性を持つため、ASTMの場合などのように電
気を流す必要があるものでも試料台がそのまま電極とな
り、試料への電気的接続用のリードの設置が不要とな
る。また前述のように試料台は高度な平坦性が必要とさ
れるが、金属の中でもAl上にNiメッキされたシート
は研磨することにより容易に平坦面が得られ、13nm以下
の表面粗さが可能となる。Al上のNiメッキの厚みは
2μmから 100μm程度が好ましい。Niメッキにより
表面硬度と研磨時の鏡面が得られるが、2μm未満では
Niメッキの効果が少なく、 100μmを超えると時間ば
かりかかり、効果の向上が期待できない。そのような点
からさらに好ましい範囲は5μmから20μm程度であ
る。さらに用いるAl−Niシートに予め使用時の形状
に応じたV溝を加工しておくことにより、使用時に折っ
て希望する形状にすることが可能となる。
In the Pt-coated sheet of the present invention, the material sheet is A
In the case of Ni-plated, since the Pt-coated sheet itself has conductivity, the sample stage can be used as an electrode even for those that need to flow electricity as in the case of ASTM, for electrical connection to the sample. The installation of the lead is unnecessary. Also, as described above, the sample stage requires a high degree of flatness, but among metals, a sheet plated with Ni on Al can easily obtain a flat surface by polishing, and a surface roughness of 13 nm or less can be obtained. It becomes possible. The thickness of Ni plating on Al is preferably about 2 μm to 100 μm. The surface hardness and the mirror surface during polishing can be obtained by Ni plating, but if it is less than 2 μm, the effect of Ni plating is small, and if it exceeds 100 μm, it takes a long time, and improvement of the effect cannot be expected. From such a point, a more preferable range is about 5 μm to 20 μm. Further, by forming a V-groove according to the shape at the time of use in advance on the Al-Ni sheet to be used, it becomes possible to fold it at the time of use to obtain a desired shape.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の素材シートとしては有機
高分子シート、Al上にNiメッキされたシートが用い
られる。表面の平坦性が望まれるため、有機高分子シー
トの場合はシート作成時に表面が平坦になるように特に
注意を払って製造したものを用いる。またAl上にNi
メッキされたシートの場合、Al上にNiメッキをした
後さらに研磨して用いる。研磨の方法としてはバフ研
磨、電解研磨、などの方法がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As a material sheet of the present invention, an organic polymer sheet and a sheet plated with Ni on Al are used. Since flatness of the surface is desired, in the case of an organic polymer sheet, a sheet manufactured with particular care so that the surface becomes flat when the sheet is formed is used. Also, Ni on Al
In the case of a plated sheet, Ni is plated on Al and then further polished and used. Polishing methods include buff polishing, electrolytic polishing, and the like.

【0018】上記のシートはPtのスパッタリング前に
スパッタリング被覆の密着性を確保するため、洗浄が施
される。洗浄方法は素材を侵さないものなら何でも良い
が、一般的なものとして超音波アルカリ洗浄などがあ
る。
The above-mentioned sheet is cleaned before the sputtering of Pt to ensure the adhesion of the sputtering coating. The cleaning method is not particularly limited as long as it does not damage the material, but a general method includes ultrasonic alkali cleaning.

【0019】上記洗浄した素材シートにPtのスパッタ
リングが施される。出力とスパッタリング時間は希望す
る膜厚などにより適宜調節すれば良いが、概ね出力 100
W〜1500W、時間1分〜3分程度が用いられる。
The cleaned material sheet is subjected to Pt sputtering. The output and sputtering time can be adjusted appropriately depending on the desired film thickness, etc.
W to 1500 W and a time of about 1 to 3 minutes are used.

【0020】[0020]

【実施例1】ポリエステルシート上にPtのスパッタリ
ングを行った。素材シートとしては100mm× 100mm× 0.
1mmt の大きさのポリエステルシートで特に表面が平坦
なものを用いた。アルカリ洗浄液を用いて卓上超音波洗
浄器により60℃にて超音波洗浄を行った。その後よく水
洗し乾燥させた後、マグネトロンスパッタリング及びア
ルゴンスパッタリングの2種の方法によりPtをスパッ
タリングした。このときの真空度は5×10-3Torr以上で
あった。膜厚は 200Åと1000Åとし、それぞれの条件は
DC出力 200W、時間1分17秒及びDC出力1KW時間
1分17秒であった。
Example 1 Pt was sputtered on a polyester sheet. 100mm x 100mm x 0 as a material sheet.
A 1 mmt size polyester sheet having a particularly flat surface was used. Ultrasonic cleaning was performed at 60 ° C. using a desktop ultrasonic cleaner using an alkaline cleaning solution. Then, after thoroughly washing with water and drying, Pt was sputtered by two methods, magnetron sputtering and argon sputtering. The degree of vacuum at this time was 5 × 10 −3 Torr or more. The film thickness was 200 ° and 1000 °, and the conditions were DC output of 200 W, time of 1 minute and 17 seconds, and DC output of 1 KW and time of 1 minute and 17 seconds.

【0021】このようにして得られたPt被覆シートの
各種特性等は表1の比較表のようになった。特に得られ
たPt被覆シートは切断加工性が良いこと、すなわち鋏
で任意の形状に加工できる点で優れていた。
The various properties and the like of the Pt-coated sheet thus obtained are as shown in the comparison table of Table 1. In particular, the obtained Pt-coated sheet was excellent in that it had good cutting workability, that is, that it could be processed into any shape with scissors.

【0022】[0022]

【実施例2】100mm× 100mm× 0.8mmt のAlシート上
に通常の方法によりNiメッキを11μm施した。その後
シートをバフ研磨により研磨し、10mmの間隔の格子状に
深さ0.7mmのV溝を加工した。その後実施例1と同様に
洗浄、Ptスパッタリングを行い、Pt被覆シートを得
た。
Embodiment 2 Ni plating was applied to a thickness of 11 μm on a 100 mm × 100 mm × 0.8 mmt Al sheet by an ordinary method. Thereafter, the sheet was polished by buffing, and a V-groove having a depth of 0.7 mm was machined in a lattice pattern at intervals of 10 mm. Thereafter, cleaning and Pt sputtering were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a Pt-coated sheet.

【0023】このようにして得られたPt被覆シートの
各種特性は表1の比較表のようになった。切断加工性の
点では、V溝を加工しておいたため、溝に沿って折れる
事より10mm角の試料台が得られた。
The various properties of the Pt-coated sheet thus obtained are as shown in the comparison table of Table 1. In terms of cutting workability, since the V-groove was machined, a sample table of 10 mm square was obtained by breaking along the groove.

【0024】[0024]

【従来例】10mm×10mm×0.15mmt の雲母シートを実施例
と同様に洗浄し 580℃にて40分間アニールした後、Au
の真空蒸着を行った。真空度1×10-6Torrにて 580℃で
5分間蒸着をおこない1000Åの蒸着膜をつけた。その後
100℃にて3時間冷却し、550℃の大気電気炉にて5時
間アニールした後純水で急冷してAu(111)面をエ
ピタキシャル成長させた。
[Prior art] A mica sheet of 10 mm × 10 mm × 0.15 mmt was washed and annealed at 580 ° C. for 40 minutes in the same manner as in the embodiment, and then Au
Was vacuum deposited. Vacuum deposition was performed at 580 ° C. for 5 minutes at a degree of vacuum of 1 × 10 −6 Torr to form a deposited film of 1000 °. afterwards
After cooling at 100 ° C. for 3 hours, annealing in an air electric furnace at 550 ° C. for 5 hours, and quenching with pure water, an Au (111) plane was epitaxially grown.

【0025】このようにして得られた、Auを蒸着した
雲母シートの各種特性は表1の比較表のようになった。
Various characteristics of the thus obtained mica sheet on which Au was deposited were as shown in the comparison table of Table 1.

【0026】なお表1の各種特性の調査において、配向
性はX線回折により、密着度は粘着テープによるピール
テスト、曲げ加工性は90°曲げたときの変化、平坦度は
AFMによる測定、耐薬品性は30%の硫酸に浸漬したと
きの変化によりそれぞれ調査した。
In the investigation of the various characteristics shown in Table 1, the orientation was measured by X-ray diffraction, the adhesion was measured by a peel test using an adhesive tape, the bending property was changed by bending at 90 °, the flatness was measured by AFM, and the resistance was measured by AFM. The chemical properties were investigated by the change when immersed in 30% sulfuric acid.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように本発明のPt被覆シートは
ASTM、AFM等の試料台として用いたとき、Pt
(111)面への配向性が高く、またPt被覆の密着性
が高いため高信頼性の試料台となる。また特に素材シー
トとして有機高分子シートを用いたとき鋏などで任意の
形状に切断でき、耐薬品性も大きく使いかっての良いも
のとなる。さらに本発明のPt被覆シートの製造方法に
よれば、上記のようなPt被覆シートが短時間で効率良
く製造でき、生産性の向上に大きく寄与するものであ
る。
As described above, when the Pt-coated sheet of the present invention is used as a sample base for ASTM, AFM, etc.
The sample has high orientation to the (111) plane and high adhesion of the Pt coating, thus providing a highly reliable sample stage. In particular, when an organic polymer sheet is used as the material sheet, the sheet can be cut into an arbitrary shape with scissors or the like, and the chemical resistance is greatly improved, so that it can be easily used. Further, according to the method for producing a Pt-coated sheet of the present invention, the above-described Pt-coated sheet can be efficiently produced in a short time, and greatly contributes to improvement in productivity.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 素材シート表面上にPtのスパッタリン
グ膜が施され、かつ該Ptスパッタリング膜面の70%以
上がPt(111)面であることを特徴とするPt被覆
シート。
1. A Pt-coated sheet, wherein a Pt sputtering film is formed on the surface of a material sheet, and 70% or more of the Pt sputtering film surface is a Pt (111) plane.
【請求項2】 上記素材シートが有機高分子シート又は
Al上にNiメッキされたシートのいずれかであること
を特徴とする請求項1記載のPt被覆シート。
2. The Pt-coated sheet according to claim 1, wherein the material sheet is one of an organic polymer sheet and a sheet plated with Ni on Al.
【請求項3】 上記素材シートの有機高分子シートがポ
リエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボ
ネート又はポリイミドのいずれかのシートであることを
特徴とする請求項2記載のPt被覆シート。
3. The Pt-coated sheet according to claim 2, wherein the organic polymer sheet of the material sheet is any one of polyester, polymethyl methacrylate, polycarbonate and polyimide.
【請求項4】 上記素材シートがAl上にNiメッキさ
れたシートであり、該シート上には使用する形状に応じ
たV溝が加工されていることを特徴とする請求項2記載
のPt被覆シート。
4. The Pt coating according to claim 2, wherein the material sheet is a sheet in which Ni is plated on Al, and a V groove is formed on the sheet according to a shape to be used. Sheet.
【請求項5】 上記Ptのスパッタリング膜の膜厚が 1
00Å乃至10,000Åであることを特徴とする請求項1、
2、3又は4のいずれかに記載のAu被覆シート。
5. The Pt sputtering film having a thickness of 1
Claim 1 wherein the angle is from 00 to 10,000
The Au-coated sheet according to any one of 2, 3, and 4.
【請求項6】 上記Pt被覆シートの表面粗さが20nm以
下であることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5
のいずれかに記載のPt被覆シート。
6. The Pt-coated sheet according to claim 1, wherein the surface roughness is 20 nm or less.
The Pt-coated sheet according to any one of the above.
【請求項7】 有機高分子シートの表面を洗浄した後、
スパッタリングにより該シートの表面にPt被覆を 100
Å乃至10,000Å施すことを特徴とするPt被覆シートの
製造方法。
7. After washing the surface of the organic polymer sheet,
Pt coating on the surface of the sheet by sputtering
A method for producing a Pt-coated sheet, characterized in that the method is carried out in the range of {1 to 10,000}.
【請求項8】 上記有機高分子シートがポリエステル、
ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネート又はポ
リイミドのいずれかのシートであることを特徴とする請
求項7記載のPt被覆シートの製造方法。
8. The method according to claim 8, wherein the organic polymer sheet is a polyester,
The method for producing a Pt-coated sheet according to claim 7, wherein the sheet is any one of polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyimide.
【請求項9】 Al上にNiメッキをしたシートの表面
を研磨した後使用時の形状に応じたV溝を加工し、洗浄
後スパッタリングによりPt被覆を 100Å乃至10,000Å
施すことを特徴とするPt被覆シートの製造方法。
9. Polishing the surface of a Ni-plated sheet on Al, processing a V-groove according to the shape at the time of use, washing, and applying a Pt coating of 100 ° to 10,000 ° by sputtering.
A method for producing a Pt-coated sheet, wherein the method is performed.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007291529A (en) * 2001-03-13 2007-11-08 Kiyousera Opt Kk Metal film-coated member and method for producing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04218761A (en) * 1990-10-12 1992-08-10 Osaka Prefecture Working electrode for electrochemical type hydrogen fluorite detector
JPH06108242A (en) * 1992-09-25 1994-04-19 Minolta Camera Co Ltd Thin film electrode and apparatus for production of thin film
JPH0797296A (en) * 1993-09-27 1995-04-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Substrate for forming oriented thin film and its production
JPH09270322A (en) * 1996-01-29 1997-10-14 Sony Corp Laminated magnetic film, manufacturing method thereof and magnetic head using it

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04218761A (en) * 1990-10-12 1992-08-10 Osaka Prefecture Working electrode for electrochemical type hydrogen fluorite detector
JPH06108242A (en) * 1992-09-25 1994-04-19 Minolta Camera Co Ltd Thin film electrode and apparatus for production of thin film
JPH0797296A (en) * 1993-09-27 1995-04-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Substrate for forming oriented thin film and its production
JPH09270322A (en) * 1996-01-29 1997-10-14 Sony Corp Laminated magnetic film, manufacturing method thereof and magnetic head using it

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007291529A (en) * 2001-03-13 2007-11-08 Kiyousera Opt Kk Metal film-coated member and method for producing the same

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