JPH10242A - Hyperthermia apparatus - Google Patents
Hyperthermia apparatusInfo
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- JPH10242A JPH10242A JP6522997A JP6522997A JPH10242A JP H10242 A JPH10242 A JP H10242A JP 6522997 A JP6522997 A JP 6522997A JP 6522997 A JP6522997 A JP 6522997A JP H10242 A JPH10242 A JP H10242A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、癌細胞に対し、
加温して死滅させる温熱治療装置に関する。TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method for treating cancer cells.
The present invention relates to a thermotherapy device that is heated and killed.
【０００２】[0002]
【従来の技術】癌治療に使用される温熱治療装置には、
例えば患部を冷却器及び電極で構成されるアプリケータ
で挟み、両電力間に高周波電圧を印加するものがある。
この温熱治療装置では、癌細胞を熱により死滅させるに
は、４３°Ｃ以上の加温が必要とされる。これに対し、
癌細胞周辺の正常細胞は４３°Ｃには耐えられるもの
の、余り温度を上げると正常細胞まで死滅させることに
なるので、従来は、癌細胞部乃至、その周辺には温度セ
ンサを刺入れて、その温度を測定し、この温度が４３°
Ｃになるように、電力を通して癌細胞を含む組織に加え
る加温出力を制御するようにしている。2. Description of the Related Art Thermal treatment devices used for cancer treatment include:
For example, there is an apparatus in which an affected part is sandwiched between an applicator including a cooler and an electrode, and a high-frequency voltage is applied between both the electric powers.
In this thermotherapy apparatus, heating at 43 ° C. or higher is required to kill cancer cells by heat. In contrast,
Normal cells around the cancer cells can withstand 43 ° C., but if the temperature is raised too much, they will die even to normal cells. Measure the temperature, this temperature is 43 °
The heating output applied to the tissue containing the cancer cells through the electric power is controlled so as to be C.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の温熱治療装
置において、加温中に患者の身動きなどにより、制御用
の温度センサが刺入れ部分から抜けたり、位置がずれる
ことがある。この場合、温度センサは加温部の温度を十
分に検出しないので、加温部の温度が上昇しているにも
かかわらず、さらに加温する必要があるかのような制御
となり、さらに加温出力が増大する方向の制御となる。
そのため、患者が火傷を負うおそれがあり、大変危険で
あるという問題があった。In the above-mentioned conventional thermal treatment apparatus, the temperature sensor for control may come off from the insertion part or may be displaced due to the movement of the patient during heating. In this case, since the temperature sensor does not sufficiently detect the temperature of the heating unit, the control is performed as if it is necessary to further heat the heating unit even though the temperature of the heating unit is rising. Control is performed in the direction in which the output increases.
Therefore, there is a problem that the patient may be burned, which is very dangerous.
【０００４】この発明は上記問題点に着目してなされた
ものであって、温度センサが抜けたり、位置がずれた場
合には、これを検知し、それ以後の加温を禁止し、患者
を保護し、安全を確保し得る温熱治療装置を提供するこ
とを目的としている。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. When the temperature sensor comes off or the position of the temperature sensor shifts, it is detected and the subsequent heating is prohibited, and the patient is prevented from heating. It is an object of the present invention to provide a thermotherapy device capable of protecting and ensuring safety.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段及び作用】この発明の温熱
治療装置は、加温手段と、被加温部の温度を測定する少
なくとも１個以上の温度センサと、これらの温度センサ
の少なくとも１つの測定値を受け、その測定値が所定値
となるように前記加温手段を制御する手段を含むものに
おいて、前記温度センサが取付け部位から外れたか否か
を検知する検知手段と、この検知手段により温度センサ
が外れたと検知した時に、前記加温手段による加温を禁
止する手段とを特徴的に備えて構成されている。The thermal treatment apparatus according to the present invention comprises a heating means, at least one or more temperature sensors for measuring the temperature of a portion to be heated, and at least one of these temperature sensors. A detecting means for receiving the measured value and controlling the heating means so that the measured value becomes a predetermined value, wherein the detecting means detects whether or not the temperature sensor has deviated from the mounting portion; Means for prohibiting heating by the heating means when detecting that the temperature sensor has come off.
【０００６】この温熱治療装置において、温度センサが
正常に装着されている場合は、正常な温度測定をなし、
正常な制御がなされ、被加温部も所定の温度に保持され
る。そのため、測定温度が基準値よりも大きく加温動作
に禁止がかからない。しかし、制御用の温度センサが、
装着場所（取付け部位）から外れると、この取付け部位
から外れたことを検知手段により検知し、加温動作に禁
止をかける。つまり、温度センサが取付け部位から外れ
ると、制御がきかない状態で加温が暴走し、被加温部の
温度が上昇するのを避けるため、取付け部位よりの外れ
を検知して加温を停止する。[0006] In this thermotherapy apparatus, when the temperature sensor is normally mounted, normal temperature measurement is performed.
Normal control is performed, and the portion to be heated is also maintained at a predetermined temperature. Therefore, the measurement temperature is higher than the reference value, and the heating operation is not prohibited. However, the temperature sensor for control is
When it deviates from the mounting location (attachment site), it is detected by the detection means that it has deviated from the installation site, and the heating operation is prohibited. In other words, when the temperature sensor comes off the mounting portion, the heating goes out of control without control, and in order to prevent the temperature of the heated portion from increasing, the heating is stopped by detecting the removal from the mounting portion. .
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】以下、実施の形態により、この発
明をさらに詳細に説明する。図１は、この発明の一実施
形態を示す温熱治療装置のブロック図である。同図にお
いて、一対のアプリケータ１２ａ、１２ｂは、電圧印加
用の電極と冷却袋から構成され、電極には高周波発生部
１０より、高周波電圧が印加されるようになっており、
冷却袋には冷却部１１より冷却用の水が循環されるよう
になっている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments. FIG. 1 is a block diagram of a thermal treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, a pair of applicators 12a and 12b are configured by a voltage application electrode and a cooling bag, and a high frequency voltage is applied to the electrodes from the high frequency generator 10.
Cooling water is circulated from the cooling unit 11 to the cooling bag.
【０００８】治療時には、図示のようにアプリケータ１
２ａ、１２ｂで、患者１の患部２を挟むようにし、また
アプリケータ１２側の皮膚表面と、アプリケータ１２ｂ
側の皮膚表面に、それぞれ温度センサ１３ｃ、１３ｄが
設置され、患部２に温度センサ１３ａ、１３ｂが刺入れ
られる。これら、温度センサ１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、
１３ｄの各検出信号は、測温回路１５を経て、制御部１
４に取り込まれる。また、この温熱治療装置は、動作ス
タートスイッチ等を有する通常の操作部１６の他に、セ
ンサ温度の温度下限値Ｔk を設定する設定部１７を備え
ている。温度下限値設定値１７で設定される温度下限値
Ｔk は制御部１４に取り込まれる。During treatment, the applicator 1 is
The affected area 2 of the patient 1 is sandwiched between the skins 2a and 12b, and the skin surface on the applicator 12 side and the applicator 12b
Temperature sensors 13c and 13d are respectively installed on the skin surface on the side, and temperature sensors 13a and 13b are inserted into the affected part 2. These temperature sensors 13a, 13b, 13c,
Each detection signal of 13d passes through the temperature measurement circuit 15 and is sent to the control unit 1
4 Further, the thermal treatment device, in addition to the normal operating portion 16 having operation start switch, etc., and a setting unit 17 for setting a lower limit temperature T k of the sensor temperature. Lower limit temperature T k is set at a lower limit temperature set point 17 is received by the control unit 14.
【０００９】制御部１４は、マイクロコンピュータ等で
構成され、高周波発生部１０や冷却部１１を制御する機
能のほか、例えば、温度センサ１３ｃの測定温度が４３
°Ｃ以上となったか否かを判別する機能、温度センサ１
３ｃの測定温度を抽出する機能、この抽出した測定温度
Ｔi が基準値である下限値Ｔk 以下となったか否かを判
別する機能、測定温度Ｔi がＴk 以下となると高周波発
生部１０よりの高周波電圧の印加を禁止する機能等を備
えている。制御部１４で得られる各部の温度等の加温制
御状態は、表示装置１８に表示される。また、温度セン
サ１３ｃが外れると、これを検知するためのブザー１９
が設けられている。The control unit 14 is constituted by a microcomputer or the like, and has a function of controlling the high-frequency generation unit 10 and the cooling unit 11.
Temperature sensor 1 for determining whether or not the temperature has reached
3c, a function of extracting the measured temperature T i, which is equal to or lower than a lower limit value T k , which is a reference value, and a function of extracting the high-frequency generator 10 when the measured temperature T i is lower than T k. And a function for inhibiting the application of a high-frequency voltage. The heating control state such as the temperature of each unit obtained by the control unit 14 is displayed on the display device 18. When the temperature sensor 13c comes off, a buzzer 19 for detecting the temperature sensor 13c comes off.
Is provided.
【００１０】次に、図２に示すフロー図を参照して、こ
の温熱治療装置の動作について説明する。先ず、電源が
ＯＮされ、操作部１６のスタートスイッチがＯＮされる
と動作がスタートし、制御部１４のフラグやレジスタ類
等がクリアされ、イニシャライズされる（ステップＳＴ
１）。次に、サンプルタイムが到来したか否かが判定さ
れ（ステップＳＴ２）、例えば１秒のサンプリング期間
が経過する毎に、ステップＳＴ２の判定がＹＥＳとな
り、それ以降の処理が実行される。ステップＳＴ３で
は、“フラグＦ＝１か”判定される。このフラグＦは、
このサイクルで高周波電圧の印加による加温を行うか否
かを示すものであり、“０”の場合は加温、“１”の場
合は非加温を示している。当初、このフラグＦは“０”
であり、したがって、ステップＳＴ３の判定ＮＯで、次
に高周波発生部１０より所定期間、高周波電圧をアプリ
ケータ１２ａ、１２ｂの電極に印加して、患部２を加温
する（ステップＳＴ４）。次に、温度センサ１３ｃの今
回の測定温度Ｔi を測定する（ステップＳＴ５）。続い
て測定温度Ｔi と設定部１７に設定されている下限温度
Ｔkとを比較し、測定温度Ｔi が基準の下限温度Ｔk よ
りも小さいか否か判定する（ステップＳＴ６）。小さく
ない場合は、ステップＳＴ７に移り、今回の測定温度Ｔ
i が４３°Ｃ以上か判定する。４３°Ｃ以上でなけれ
ば、そのままステップＳＴ２に戻るが、４３°Ｃ以上で
あると、ステップＳＴ８でフラグＦを１にして、ステッ
プＳＴ２に戻る。そして、次のサンプルタイムが再び到
来すると、ステップＳＴ３で、フラグＦ＝１か否か判定
される。まだ測定温度Ｔi が４３°Ｃ以上になっていな
い場合は、フラグＦ＝０なので、さらに高周波電圧印加
が実行され（ステップＳＴ４）、加温が継続されるが、
測定温度Ｔi が４３°Ｃ以上になっていると、フラグＦ
＝１であり、この場合は、このサイクルにおける加温を
中止するため、ステップＳＴ４をスキップし、ステップ
ＳＴ５に移り、以上の処理を繰り返し、皮膚温度が４３
°Ｃに保持されるように制御される。Next, the operation of the thermotherapy apparatus will be described with reference to the flowchart shown in FIG. First, when the power is turned on and the start switch of the operation unit 16 is turned on, the operation starts, and the flags and registers of the control unit 14 are cleared and initialized (step ST).
1). Next, it is determined whether or not the sample time has arrived (step ST2). For example, every time a sampling period of one second elapses, the determination in step ST2 becomes YES, and the subsequent processing is executed. In step ST3, it is determined whether "the flag F = 1". This flag F
This cycle indicates whether or not to perform heating by applying a high-frequency voltage. “0” indicates heating, and “1” indicates non-heating. Initially, this flag F is "0"
Therefore, with the determination NO in step ST3, the high frequency voltage is applied to the electrodes of the applicators 12a and 12b by the high frequency generator 10 for a predetermined period to heat the diseased part 2 (step ST4). Next, to measure the current measured temperature T i of the temperature sensor 13c (step ST5). Subsequently, the measured temperature T i is compared with the lower limit temperature T k set in the setting unit 17 to determine whether the measured temperature T i is lower than the reference lower limit temperature T k (step ST6). If not, the process proceeds to step ST7, where the current measured temperature T
It is determined whether i is 43 ° C or more. If it is not 43 ° C. or more, the process returns to step ST2. If it is 43 ° C. or more, the flag F is set to 1 in step ST8 and the process returns to step ST2. Then, when the next sample time comes again, it is determined in step ST3 whether the flag F = 1. If the measured temperature T i has not reached 43 ° C. or more, the flag F = 0, so that a high-frequency voltage is further applied (step ST4), and the heating is continued.
If the measured temperature T i is 43 ° C. or higher, the flag F
= 1, in this case, to stop the heating in this cycle, skip step ST4 and proceed to step ST5 to repeat the above processing, and the skin temperature becomes 43
° C.
【００１１】今、温度センサ１３ｃが外れると、この温
度センサ１３ｃの測定温度Ｔi は、周囲温度の影響で下
降を開始する。そのため、今回の測定温度Ｔi は、基準
下限値Ｔk （例“Ｔk ＝３５°Ｃ”）より小さくなり、
ステップＳＴ６の判定がＹＥＳとなる。これは温度セン
サ１３ｃが完全に外れたものであることを意味し、ここ
で高周波電圧の印加を停止する（ステップＳＴ９）とと
もに、報知用ブザー１９をＯＮする（ステップＳＴ１
０）。この報知により、医者等は直ちに温度センサ１３
ｃが外れたことを知ることが出来、この温度センサ１３
ｃを正しく再装着した上で、再び温熱治療を開始するこ
とができる。When the temperature sensor 13c comes off, the temperature T i measured by the temperature sensor 13c starts to decrease under the influence of the ambient temperature. Therefore, the current measurement temperature T i becomes smaller than the reference lower limit value T k (eg, “T k = 35 ° C.”),
The determination in step ST6 is YES. This means that the temperature sensor 13c is completely removed, and here, the application of the high-frequency voltage is stopped (step ST9), and the notification buzzer 19 is turned on (step ST1).
0). With this notification, the doctor or the like immediately
c has come off, and the temperature sensor 13
After correctly re-attaching c, the thermal treatment can be started again.
【００１２】図３に、他の実施形態温熱治療装置のブロ
ック図を示している。この温熱治療装置は、図１のセン
サ温度下限設定部１７の代わりに、温度差限度値設定部
２０及び室内温度を測定する室温センサ２１を備えてい
る。その他は図１のものと同様である。図４に図３の実
施形態温熱治療装置の動作フロー図が示されている。こ
の温熱治療装置は、測定温度Ｔi と室温ＴRiの差値ＳR
が基準値Ｋよりも小さくなると温度センサ１３ｃが外れ
たものとして、やはり高周波電圧印加を中止すると共
に、ブザー１９をＯＮして警報を発するものである。し
たがって、この温熱治療装置における動作は、図４にも
示すようにＳＴ２１からＳＴ２４までは、図２の実施形
態のＳＴ１からＳＴ４に相当し、ＳＴ２５では温度セン
サ１３ｃにより、その時点の温度測定Ｔi を測定すると
共に、室温センサ２１で室温ＴRiを測定し、さらにステ
ップＳＴ２６でＴi とＴRiの差値を求め、これをＳR と
し、このＳRが基準設定部２０より設定される差値基準
値Ｋよりも小さいか否かを判定し、小さくない場合は正
常な装着がなされているものとし、ステップＳＴ２８で
測定温度Ｔi が４３°Ｃに達しているか否か測定し、達
していない場合は、フラグＦを１とし（ステップＳＴ２
９）、達している場合には、ステップＳＴ２２に戻り、
図２の場合と同様の温度制御処理を繰り返すことにな
る。ステップＳＴ２７で差値ＳR が基準値Ｋより小さい
場合に、これは測定温度Ｔi が温度センサ１３ｃが外れ
たために、より室内温度ＴRiに接近したことを意味し、
この場合には、やはり高周波電圧印加を中止すると（ス
テップＳＴ３０）共に、ブザー１９をＯＮして警報を発
する。この実施形態では、例え室温が変化しても室温と
測定温度との関係で判断することができるので、室温に
合わせて精度良く温度センサの外れを報知することがで
きる。FIG. 3 is a block diagram showing another embodiment of the thermal treatment apparatus. This thermotherapy device is provided with a temperature difference limit value setting unit 20 and a room temperature sensor 21 for measuring a room temperature, instead of the sensor temperature lower limit setting unit 17 of FIG. Others are the same as those of FIG. FIG. 4 is an operation flowchart of the embodiment of the thermal treatment apparatus of FIG. This thermotherapy device has a difference value S R between the measured temperature T i and the room temperature T Ri.
Is smaller than the reference value K, it is determined that the temperature sensor 13c has come off, the application of the high-frequency voltage is also stopped, and the buzzer 19 is turned on to issue an alarm. Therefore, as shown in FIG. 4, the operation of this thermotherapy apparatus corresponds to ST1 to ST4 in the embodiment of FIG. 2 from ST21 to ST24, and in ST25, the temperature measurement T i at that time is performed by the temperature sensor 13c in ST25. while measuring, measuring the room temperature T Ri at room temperature sensor 21, further calculates the difference value of T i and T Ri in step ST26, which was a S R, the S R is set from the reference setting unit 20 the difference It determines whether less than the value the reference value K, if not smaller is assumed to have been made normal mounting, whether measured measured temperature T i at step ST28 has reached 43 ° C, have reached If not, the flag F is set to 1 (step ST2).
9) If it has reached, return to step ST22,
The same temperature control process as in FIG. 2 is repeated. When the difference value S R in step ST27 is less than the reference value K, which is for measuring the temperature T i is the temperature sensor 13c is off, means that closer to the indoor temperature T Ri,
In this case, the application of the high-frequency voltage is also stopped (step ST30), and the buzzer 19 is turned on to issue an alarm. In this embodiment, even if the room temperature changes, the determination can be made based on the relationship between the room temperature and the measured temperature. Therefore, it is possible to accurately report the detachment of the temperature sensor in accordance with the room temperature.
【００１３】なお、上記実施形態では、温度センサ１３
ｃを制御用に用いているが、もちろん他の温度センサを
用いてもよい。In the above embodiment, the temperature sensor 13
Although c is used for control, other temperature sensors may of course be used.
【００１４】[0014]
【発明の効果】この発明によれば、加温手段制御用の温
度センサの測定温度の基準値以下になったか否かを判別
し、測定温度が基準値以下になると、加温手段による加
温を禁止するようにしているので、何らかの原因で温度
センサが外れても、必要以上に被加温部が温度上昇し
て、火傷等が生じる危険を防止できる。According to the present invention, it is determined whether or not the measured temperature of the temperature sensor for controlling the heating means has fallen below the reference value. Is prohibited, even if the temperature sensor comes off for some reason, it is possible to prevent the temperature of the heated portion from rising more than necessary and to cause the danger of burns or the like.
【図１】この発明の一実施形態を示す温熱治療装置のブ
ロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a thermal treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】同実施形態温熱治療装置の動作を説明するため
のフロー図である。FIG. 2 is a flowchart for explaining the operation of the thermal treatment apparatus of the embodiment.
【図３】この発明の他の実施形態を示す温熱治療装置の
ブロック図である。FIG. 3 is a block diagram of a thermal treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.
【図４】同実施形態温熱治療装置の動作を説明するため
のフロー図である。FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation of the thermal treatment apparatus of the embodiment.
１ 患者 ２ 患部 １０ 高周波発生部 １２ａ、１２ｂ アプリケータ １３ｃ 制御用の温度センサ ２０ 制御部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Patient 2 Affected part 10 High frequency generation part 12a, 12b Applicator 13c Temperature sensor for control 20 Control part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 則幸 京都市右京区山ノ内山ノ下町24番地 株式 会社オムロンライフサイエンス研究所内 (72)発明者 笠井 英治 京都市右京区山ノ内山ノ下町24番地 株式 会社オムロンライフサイエンス研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Noriyuki Takahashi, Inventor 24, Yamanouchi Yamanoshitamachi, Ukyo-ku, Kyoto-shi Inside Omron Life Science Laboratory Co., Ltd. Science Institute
Claims (3)
なくとも１個以上の温度センサと、これらの温度センサ
の少なくとも１つの測定値を受け、その測定値が所定値
となるように前記加温手段を制御する手段を含む温熱治
療装置において、 前記温度センサが取付け部位から外れたか否かを検知す
る検知手段と、この検知手段により温度センサが外れた
と検知した時に、前記加温手段による加温を禁止する手
段とを備えたことを特徴とする温熱治療装置。1. A heating means, at least one or more temperature sensors for measuring the temperature of a portion to be heated, and at least one measured value of these temperature sensors, the measured value being a predetermined value. A thermotherapy device including a means for controlling the heating means, wherein a detecting means for detecting whether or not the temperature sensor has come off the mounting portion; and when the detecting means detects that the temperature sensor has come off, the heating is performed. Means for inhibiting heating by the means.
度が所定の基準温度以下に低下したか否かを判別する手
段であり、前記加温を禁止する手段は測定温度が基準温
度以下に低下したことに応答して加温を禁止するもので
ある請求項１記載の温熱治療装置。A detecting means for determining whether a temperature measured by the temperature sensor has dropped below a predetermined reference temperature; and a means for prohibiting the heating comprising: The thermal treatment apparatus according to claim 1, wherein heating is prohibited in response to the decrease.
れるものである請求項２記載の温熱治療装置。3. The thermotherapy apparatus according to claim 2, wherein the reference temperature is set in advance by a setting device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6522997A JPH10242A (en) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | Hyperthermia apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6522997A JPH10242A (en) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | Hyperthermia apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10242A true JPH10242A (en) | 1998-01-06 |
Family
ID=13280889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6522997A Pending JPH10242A (en) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | Hyperthermia apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10242A (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60212145A (en) * | 1984-04-05 | 1985-10-24 | 松下電器産業株式会社 | Electronic clinical thermometer |
| JPS6158670A (en) * | 1984-08-30 | 1986-03-25 | オムロン株式会社 | High frequency heat treating apparatus |
| JPS61149167A (en) * | 1984-12-25 | 1986-07-07 | 株式会社東芝 | Living body heating treatment apparatus |
-
1997
- 1997-03-19 JP JP6522997A patent/JPH10242A/en active Pending
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