JPH10242644A - Green sheet printed with conductor circuit, and its manufacture, and multilayer wiring ceramic board using this - Google Patents

Green sheet printed with conductor circuit, and its manufacture, and multilayer wiring ceramic board using this

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JPH10242644A
JPH10242644A JP9041872A JP4187297A JPH10242644A JP H10242644 A JPH10242644 A JP H10242644A JP 9041872 A JP9041872 A JP 9041872A JP 4187297 A JP4187297 A JP 4187297A JP H10242644 A JPH10242644 A JP H10242644A
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JP
Japan
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green sheet
conductor circuit
heat
metal conductor
circuit pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP9041872A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fusaji Shoji
房次 庄子
Nobuhito Katsumura
宣仁 勝村
Hideo Togawa
英男 外川
Masahide Okamoto
正英 岡本
Yoichi Abe
洋一 阿部
Hideaki Tanaka
秀明 田中
Norio Sengoku
則夫 千石
Kunihiro Yagi
邦博 矢木
Fumiyuki Kobayashi
二三幸 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP9041872A priority Critical patent/JPH10242644A/en
Publication of JPH10242644A publication Critical patent/JPH10242644A/en
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to peel a conductor circuit pattern off a base material and to bond this pattern accurately to a ceramic green sheet at the same time, by using a thermoexfoliative adhesive sheet for base material for transfer where a conductor circuit pattern is manufactured. SOLUTION: A thermoexfoliative adhesive layer is made on a base material, and a metallic conductor circuit pattern is made on the side of the thermoexfoliative adhesive layer. A ceramic green sheet is welded by heating to the metallic conductor circuit pattern, with its tip of the projection positioned to connect with the circuit pattern, and the conductor pattern is transferred, and then, the green sheet printed with the conductor circuit is peeled off the thermoexfoliative adhesive layer on the base material. Wired green sheets units fitted obtained this way are laid on top of one another in such a way as to match one another, and are pressure-welded by heating and are sintered. Hereby, a multilayer ceramic board which is of high strength and excellent in electric property can be manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体チップを搭載
して機能モジュールを構成するための導体配線が低抵抗
導体回路を有する高性能多層配線セラミック基板に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high performance multilayer wiring ceramic substrate having a low-resistance conductor circuit in which a conductor wiring for mounting a semiconductor chip to form a functional module is provided.

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミックの多層化技術は、積層セラミ
ックコンデンサ、圧電素子等の電子セラミックデバイス
の小型化、高性能化や、半導体素子等の高密度実装に必
須の多層配線セラミック基板等への技術があげられる。
2. Description of the Related Art The multilayer technology of ceramics is a technology for multilayer wiring ceramic substrates and the like which are indispensable for miniaturization and high performance of electronic ceramic devices such as multilayer ceramic capacitors and piezoelectric elements, and high-density mounting of semiconductor elements and the like. Is raised.

【0003】従来の多層セラミック基板は、選択された
位置で層体を貫通するバイアホール中の焼結導体によっ
て相互接続された個々のの層体上の焼結金属パターンを
利用していた。これらの導体パターン製法は、1)層体
を貫通するバイアホール中の導体を有するセラミックグ
リーンシート上に導体ペーストをスクリーン印刷法で印
刷して成膜される。これらの手法によって得られた導体
パターンは焼結される。2)複数の裏打ちシートの各々
に金属導体パターンを付着し、その各々のパターンを個
々の未焼入セラミックグリーンシートに転写し、それら
のグリーンシートを互いに整合するように重ね合わせ、
その重ね合わせグリーンシートを金属導体の融点よりも
低い温度で焼結するように重ね合わせセラミックのX及
びY方向の収縮を制限することによって、電子デバイス
の搭置及び相互接続に使用される多層セラミック基板が
製造されることが知られている(特開昭63−9959
6号公報)。
[0003] Conventional multilayer ceramic substrates have utilized sintered metal patterns on individual layers interconnected by sintered conductors in via holes that penetrate the layers at selected locations. In these conductor pattern production methods, 1) a conductor paste is printed by a screen printing method on a ceramic green sheet having a conductor in a via hole penetrating the layered body to form a film. The conductor pattern obtained by these methods is sintered. 2) attaching a metal conductor pattern to each of the plurality of backing sheets, transferring each pattern to individual unquenched ceramic green sheets, and superimposing the green sheets so that they are aligned with each other;
Multilayer ceramics used for mounting and interconnecting electronic devices by limiting the shrinkage of the superimposed ceramic in the X and Y directions so that the superimposed green sheets are sintered at a temperature below the melting point of the metal conductor It is known that a substrate is manufactured (JP-A-63-9959).
No. 6).

【0004】多層セラミック基板の高密度化、高性能化
と高信頼性を図るためには、導体配線の微細パターン化
及び導体配線の低抵抗化と信頼性のある個々の相互接続
が必要である。しかしながら、1)従来の導体ペースト
や感光性導体ペーストを用いて形成した多層配線セラミ
ック基板では比抵抗が3.0〜4.0μΩ・cmでバル
ク銅1.7μΩ・cmよりも大きくなり、低抵抗化が図
れない。又スクリーン印刷による導体形成では、幅60
μm以上の配線パターンしか得られず、きわめて微細な
配線をパターン化しにくい。仮に出来たとしてもスクリ
ーンのコストが高くつく。約60〜100μmより狭い
配線微細化が困難である。またこれに対して、2)複数
の離型材(例えば、ポリビニルブチラール、アルファー
メチルスチレン、ポリイソブチレン、又はポリメチルメ
タクリレート)でコーテイングされた裏打ちシート(ポ
リエチレンテレフタレート、ポリイミド等)の各々に金
属導体パターンを離型材に直接付着しているためにその
各々のパターンを個々の未焼入セラミックグリーンシー
トに均一に転写されにくい。離型材と金属導体の接着性
にばらつきがあるからである。又グリーンシート面と金
属導体パターンのスタッド面が同一面であるため、層体
接続間の信頼性が十分ではない。
In order to achieve high density, high performance and high reliability of a multilayer ceramic substrate, it is necessary to form fine patterns of conductor wiring, to reduce the resistance of the conductor wiring and to provide reliable individual interconnections. . However, 1) In the case of a multilayer wiring ceramic substrate formed using a conventional conductive paste or photosensitive conductive paste, the specific resistance is 3.0 to 4.0 μΩ · cm, which is larger than that of bulk copper 1.7 μΩ · cm, and the resistance is low. Can not be achieved. Also, in the conductor formation by screen printing, the width 60
Only a wiring pattern of μm or more can be obtained, and it is difficult to pattern extremely fine wiring. Even if done, the cost of the screen is high. It is difficult to make the wiring finer than about 60 to 100 μm. On the other hand, 2) a metal conductor pattern is applied to each of the backing sheets (polyethylene terephthalate, polyimide, etc.) coated with a plurality of release materials (for example, polyvinyl butyral, alpha-methyl styrene, polyisobutylene, or polymethyl methacrylate). Since they are directly attached to the release material, it is difficult to transfer their respective patterns uniformly to individual unquenched ceramic green sheets. This is because the adhesiveness between the release material and the metal conductor varies. Further, since the green sheet surface and the stud surface of the metal conductor pattern are the same surface, the reliability between the layered connections is not sufficient.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解決するためになされたものである。すなわち、高密
度配線、低抵抗化、高信頼性を可能にするには、導体回
路パターンを作製した転写用基板に熱剥離性接着シート
を用いることにより、セラミッ・グリーンシートに歩留
まりよく転写できるようにし、選択された位置でバイア
ホールに突起したパット状導体を設けることによって層
間の接続信頼性を向上した。又同時にセラミッ・グリー
ンシートのパット状導体と金属導体パターンに接続する
ように位置あわせして加熱圧着して導体パターンを転写
し、得られた導体回路付グリーンシートを互いに整合す
るように重ね合わせて加熱圧着し、重ね合わせセラミッ
クのX及びY方向の収縮を制限し、Z(厚さ)方向に荷
重を加えながら焼結することにより、高強度で、電気的
特性の優れた高信頼性の多層配線セラミック基板を提供
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks. In other words, in order to enable high-density wiring, low resistance, and high reliability, by using a heat-peelable adhesive sheet for the transfer substrate on which the conductive circuit pattern has been formed, transfer to the ceramic green sheet can be performed with good yield. By providing a pad-shaped conductor protruding from a via hole at a selected position, the connection reliability between layers was improved. At the same time, it is positioned so as to be connected to the pad-shaped conductor and metal conductor pattern of the ceramic green sheet, heat-pressed to transfer the conductor pattern, and the obtained green sheets with conductor circuits are overlapped so as to match each other. By applying heat and pressure, limiting the shrinkage of the superposed ceramics in the X and Y directions, and sintering while applying a load in the Z (thickness) direction, it is a high-strength, highly reliable multilayer with excellent electrical characteristics. Provided is a wiring ceramic substrate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討を
重ねた結果、基材上に加熱剥離性接着層を形成し、その
加熱剥離性接着層面側に金属導体回路パターンを形成す
る工程、層間接続用バイアホールに導体回路パターンよ
り融点10℃から100℃低い導体ペースト又は金属導
体合金の突起したパット状導体部を設ける工程、セラミ
ックグリーンシートの突起部先端が上記金属導体回路パ
ターンに接続するように位置あわせして加熱圧着して導
体パターンを転写し、基材上の加熱剥離性接着層から導
体回路付グリーンシートに剥離する工程、得られた配線
付グリーンシートユニットを互いに整合するように重ね
合わせて加熱圧着し、重ね合わせセラミックのX及びY
方向の収縮を制限し、Z(厚さ)方向に荷重を加えなが
ら焼結することによって、高強度で、電気的特性の優れ
た高信頼性の多層セラミック基板が製造出来ることを見
出した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventor has formed a step of forming a heat-peelable adhesive layer on a substrate and forming a metal conductor circuit pattern on the heat-peelable adhesive layer surface side. Providing a pad-shaped conductor portion made of a conductor paste or a metal conductor alloy having a melting point of 10 ° C. to 100 ° C. lower than the conductor circuit pattern in the via hole for interlayer connection, and connecting the tip of the protrusion of the ceramic green sheet to the metal conductor circuit pattern. Transferring the conductive pattern by heating and pressing to transfer the conductive pattern and peeling the conductive sheet from the heat-peelable adhesive layer on the base material to the green sheet with conductive circuit, so that the obtained green sheet units with wiring are aligned with each other. X and Y of superimposed ceramics
It has been found that a multilayer ceramic substrate having high strength and excellent electrical characteristics can be manufactured by limiting shrinkage in the direction and sintering while applying a load in the Z (thickness) direction.

【0007】以下に、本発明の詳細を説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0008】基材上に熱剥離接着シート(セパレータ/
熱剥離接着剤/基材(ポリエチレンテレフタレート)/
接着剤/セパレータ)の接着剤面でラミネートし、更に
熱剥離接着剤面側に銅箔をラミネートする。つぎに感光
性ドライフイルムで銅箔のパターニングを行なう。この
ようにして導体回路転写用基板が製造される。
A heat-peelable adhesive sheet (separator /
Thermal release adhesive / base material (polyethylene terephthalate) /
(Adhesive / separator) and a copper foil on the side of the heat-peelable adhesive. Next, a copper foil is patterned by a photosensitive dry film. Thus, the substrate for conductor circuit transfer is manufactured.

【0009】一方、上記転写用基板から導体パターンが
転写されるグリーンシートは常法により以下の方法で形
成される。例えば、平均粒径20μm以下であるセラミ
ック粉末100重量部、分散助剤及び有機溶剤(又は水
系溶剤)とからなるセラミックスラリをボールミルで1
〜5時間湿式混合し、次に、有機バインダ、可塑剤、又
は可塑剤含有有機バインダを2から30重量部を添加
し、更に湿式混合を少なくとも5時間以上行ない、セラ
ミックスラリを製造する。これを脱泡・脱水/脱溶剤し
たのち、室温から120℃のキャスト温度でドクターフ
レード法等によってグリーンシートを形成する。製法は
特に制限されるものではない。
On the other hand, a green sheet to which a conductor pattern is transferred from the transfer substrate is formed by a conventional method by the following method. For example, a ceramic slurry composed of 100 parts by weight of a ceramic powder having an average particle diameter of 20 μm or less, a dispersing aid, and an organic solvent (or an aqueous solvent) is mixed with a ball mill by a ball mill.
The mixture is wet-mixed for up to 5 hours, and then 2 to 30 parts by weight of an organic binder, a plasticizer, or a plasticizer-containing organic binder is added, and the wet-mixing is further performed for at least 5 hours to produce a ceramic slurry. After defoaming, dewatering and removing the solvent, a green sheet is formed by a doctor flade method or the like at a casting temperature from room temperature to 120 ° C. The production method is not particularly limited.

【0010】得られた厚さ0.05〜2mmのグリーン
シートを所定の大きさ、例えば、10〜200mm×1
0〜200mm角に切断し、必要な層、所定の位置にバ
イアホールを打ち抜く。この打ち抜かれたバイアホール
にCu(融点1083.4℃)、銅−銀合金(融点10
83.4〜961.9℃)、Au(融点1064℃)等
の導体を主成分とした導体ペースト又は銅合金ボールを
埋め込む。このようにして導体穴埋めグリーンシートが
製造される。
The obtained green sheet having a thickness of 0.05 to 2 mm is sized to a predetermined size, for example, 10 to 200 mm × 1.
The substrate is cut into 0 to 200 mm squares, and via holes are punched in necessary layers at predetermined positions. Cu (melting point 1083.4 ° C.), copper-silver alloy (melting point 10
A conductor paste or a copper alloy ball mainly containing a conductor such as 83.4 to 961.9 ° C. and Au (melting point 1064 ° C.) is embedded. In this way, a conductor-filled green sheet is manufactured.

【0011】次に、導体回路転写用基板と導体穴埋めグ
リーンシートを位置あわせの後、所定の温度、圧力で圧
着すると、導体回路パターンがグリーンシートに転写さ
れ、150℃以上すると接着剤の中に含まれる発砲剤が
発砲し、熱剥離性接着剤と導体回路パターンとが剥が
れ、導体回路付グリーンシートが製造される。
Next, after aligning the conductive circuit transfer substrate and the conductive-filled green sheet with a predetermined temperature and pressure, the conductive circuit pattern is transferred to the green sheet. The foaming agent contained therein is fired, and the heat-peelable adhesive and the conductor circuit pattern are peeled off, whereby a green sheet with a conductor circuit is manufactured.

【0012】次に導体回路付グリーンシート数層から数
十層を積層し、温度80から150℃、圧力0.98M
Pa〜29.4MPa(10〜300kgf/cm2
で熱プレス圧着する。得られた積層体を所定の形状、大
きさになるように切断する。これを、面方向の拘束力を
加えながら、即ち厚さ方向に荷重を加えながら焼成す
る。上記導体の種類によって焼成温度がことなるが、空
気中、あるいは非還元性雰囲気中で焼成することによっ
て多層配線セラミック基板が製造される。
Next, several to several tens of green sheets with a conductor circuit are laminated, and the temperature is 80 to 150 ° C. and the pressure is 0.98M.
Pa~29.4MPa (10~300kgf / cm 2)
Hot press bonding. The obtained laminate is cut into a predetermined shape and size. This is fired while applying a restraining force in the plane direction, that is, while applying a load in the thickness direction. Although the firing temperature varies depending on the type of the conductor, the multilayer wiring ceramic substrate is manufactured by firing in air or in a non-reducing atmosphere.

【0013】本発明の多層配線セラミック基板の製造に
用いる熱剥離性接着フィルムのベース材料としては、例
えば、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合
体(SBS)、スチレン・イソプレン・スチレンブロッ
ク共重合体(SIS)、スチレン・エチレンブチレン・
スチレンブロック共重合体(SEBS)などの合成ゴム
をベースとしたゴム系加熱剥離性接着フィルム、天然ゴ
ムや合成ゴムをベースとしたゴム系加熱剥離性接着フィ
ルム、メチル、エチル、プロピル、ブチル、2−エチル
ヘキシル、イソオクチル、イソノニル、イソデシル、ド
デシル、ラウリル、トリデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エ
イコシル基等の炭素数が20以下のアルキル基を有する
アクリル酸ないしメタクリル酸等のアクリル酸系エステ
ル、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル
酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、
メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキ
シプロピル、N−メチロールアクリルアミド、アクリロ
ニトリル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシ
ジル、酢酸ビニル、スチレン、イソブチレン、イソプレ
ン、ブタジエン、ビニールエーテル等のを成分とするア
クリル酸エステル系加熱剥離性接着フィルム等が挙げら
れる。
Examples of the base material of the heat-peelable adhesive film used for manufacturing the multilayer wiring ceramic substrate of the present invention include styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS) and styrene-isoprene-styrene block copolymer ( SIS), styrene, ethylene butylene,
Rubber-based heat-peelable adhesive film based on synthetic rubber such as styrene block copolymer (SEBS), rubber-based heat-peelable adhesive film based on natural rubber or synthetic rubber, methyl, ethyl, propyl, butyl, Acrylic acid esters such as acrylic acid or methacrylic acid having an alkyl group having 20 or less carbon atoms such as ethylhexyl, isooctyl, isononyl, isodecyl, dodecyl, lauryl, tridecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, and eicosyl groups; , Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate,
Acrylic ester-based heat peeling containing hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, N-methylolacrylamide, acrylonitrile, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, vinyl acetate, styrene, isobutylene, isoprene, butadiene, vinyl ether, and the like as components Adhesive film and the like.

【0014】粘着付与樹脂は、例えば、ロジンやその誘
導体、ポリテルペン類、石油系樹脂やその水添物類、シ
クロペンタジエン系石油樹脂類、スチレン系石油樹脂
類、クマロンインデン系樹脂類等が挙げられる。粘着付
与樹脂の配合量は、ベース樹脂100重量部あたり40
〜200重量部が適当である。
Examples of the tackifying resin include rosin and derivatives thereof, polyterpenes, petroleum resins and hydrogenated products thereof, cyclopentadiene petroleum resins, styrene petroleum resins, and cumarone indene resins. Can be The amount of the tackifier resin is 40 per 100 parts by weight of the base resin.
~ 200 parts by weight is suitable.

【0015】又、熱剥離するための発砲剤の例は、無機
系発砲剤の例として、水、炭酸アンモニウム、炭酸水素
アンモニウム、亜硝酸アンモニウム、水素化ホウ素ナト
リウム、アジド類等は挙げられる。また有機系発砲剤の
例として、トリクロロモノフルオロメタン、ジクロロモ
ノフルオロメタンのようなフッ化アルカン、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾジカルボンアミド、バリウムア
ゾジカルボキシレートのようなアゾ系化合物、パラトル
エンスルホニルヒドラジド、ジフェニルスルホン−3,
3’−ジスルホニルヒドラジド、4.4’−オキシビス
(ベンゼンスルホニルヒドラジド)、アリルビス(スル
ホニルヒドラジド)のようなヒドラジン系化合物、ρ−
トルイレンスルホニルセミカルバジドや4,4’−オキ
シビス(ベンゼンスルホニルセミカルバジド)のような
セミカルバジド系化合物、5−モルホリル−1,2,
3,4−チアトリアゾールのようなトリアゾール系化合
物、N,N−ジニトロペンタメチレンテトラミンやN,
N−ジメチル−N,N’−ジニトロソテレフタルアミド
のようなN−ニトロソ系化合物等が挙げられる。
Examples of the foaming agent for thermal stripping include water, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ammonium nitrite, sodium borohydride, azides and the like as inorganic foaming agents. Examples of organic propellants include fluorinated alkanes such as trichloromonofluoromethane and dichloromonofluoromethane, azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azodicarbonamide, and barium azodicarboxylate, and paratoluene. Sulfonyl hydrazide, diphenyl sulfone-3,
Hydrazine compounds such as 3'-disulfonyl hydrazide, 4.4'-oxybis (benzenesulfonyl hydrazide) and allyl bis (sulfonyl hydrazide);
Semicarbazide compounds such as toluylenesulfonyl semicarbazide and 4,4'-oxybis (benzenesulfonyl semicarbazide), 5-morpholyl-1,2,2
Triazole compounds such as 3,4-thiatriazole, N, N-dinitropentamethylenetetramine,
N-nitroso-based compounds such as N-dimethyl-N, N'-dinitrosoterephthalamide are exemplified.

【0016】発砲剤の配合量は、接着層を膨脹(発砲)
させる程度や、接着力を低下させる程度に応じて適宜に
決定して良い。一般的には、ベースポリマー100重量
部当り5〜40重量部、好ましくは10〜30重量部配
合される。その接着フィルムの接着処理温度よりも高温
で膨張ないし発砲する発砲剤が用いられる。
The amount of the foaming agent is determined by expanding the adhesive layer (firing).
It may be appropriately determined according to the degree of the reduction or the degree of the decrease in the adhesive strength. Generally, 5 to 40 parts by weight, preferably 10 to 30 parts by weight, is blended with respect to 100 parts by weight of the base polymer. A foaming agent that expands or foams at a temperature higher than the bonding temperature of the adhesive film is used.

【0017】発砲剤をマイクロカプセル化してなる熱膨
張性微粒子は、ベースポリマー等の均一混合が容易等の
点から用いられる。具体的には、例えば、マツモトマイ
クロフェア(商品名、松本油脂製薬)として市販されて
いる。
The heat-expandable microparticles obtained by microencapsulating the foaming agent are used from the viewpoint of facilitating uniform mixing of the base polymer and the like. Specifically, for example, it is commercially available as Matsumoto Micro Fair (trade name, Matsumoto Yushi Seiyaku).

【0018】本発明に用いられるセラミック粉末の平均
粒径が20.0μ以下、好ましくは10μ以下、更に好
ましくは5μ以下である。セラミック粉末は、例えば、
Al23,SiO2,3Al23・SiO2,PbO,A
23・MgO,B23,CaO,BaO,ZrO2
ZnO,Na2O,P25,K2O,Li2O等から1種
以上より選ばれたものである。更に詳しく言えば、アル
ミナ(Al23)、アノーサイト(Anorthit
e,CaO・AlO・2SiO2)、ムライト(Mul
lite,3Al23・2SiO2)、コージェライト
(Cordierite,2MgO・2Al23・5S
iO2)、スポジューメン(Spodumene,Li2
O・Al23・SiO2)のうち少なくとも一種のセラ
ミック粉末、SiO2−B23−Na2O系、SiO2
23−K2O系、SiO2−B23−Li2O系、Si
2−B23−ZnO、系等のホウ珪酸ガラスのうち、
1種以上のガラスセラミック粉末より選ばれる。又これ
らのガラスセラミックが銅の融点より低温で焼成可能な
非結晶性又は結晶性ガラスセラミック、抗折強度が強い
ことが好ましく、さらには焼結後にクリストバライト
(Cristobalite)が生成しにくい成分が好
ましい。このセラミック微粒子は球状、粉砕状のもの等
が使用される。微細なスルーホール加工を必要とする場
合には、グリーンシート用セラミック粉末の平均粒径
は、一般的に10μ以下、更に好ましくは5μ以下が望
ましい。
The average particle size of the ceramic powder used in the present invention is 20.0 μm or less, preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Ceramic powder, for example,
Al 2 O 3, SiO 2, 3Al 2 O 3 · SiO 2, PbO, A
l 2 O 3 .MgO, B 2 O 3 , CaO, BaO, ZrO 2 ,
It is selected from one or more of ZnO, Na 2 O, P 2 O 5 , K 2 O, Li 2 O and the like. More specifically, alumina (Al 2 O 3 ), anorthite (Anorthit)
e, CaO.AlO.2SiO 2 ), mullite (Mul
lite, 3Al 2 O 3 .2SiO 2 ), cordierite (Cordierite, 2MgO.2Al 2 O 3 .5S)
iO 2 ), Spodumene, Li 2
O · Al least one ceramic powder of the 2 O 3 · SiO 2), SiO 2 -B 2 O 3 -Na 2 O -based, SiO 2 -
B 2 O 3 -K 2 O based, SiO 2 -B 2 O 3 -Li 2 O system, Si
Among borosilicate glasses such as O 2 —B 2 O 3 —ZnO,
It is selected from one or more glass ceramic powders. Further, it is preferable that these glass ceramics are non-crystalline or crystalline glass ceramics which can be fired at a temperature lower than the melting point of copper, and that they have a high transverse rupture strength. Further, components which do not easily produce cristobalite after sintering are preferable. As the ceramic fine particles, spherical or pulverized particles are used. When fine through-hole processing is required, the average particle size of the ceramic powder for green sheets is generally 10 μm or less, preferably 5 μm or less.

【0019】又本発明に用いられるセラミック原料は、
BaTiO3等の高誘電体材料、抵抗体材料等も挙げら
れ、特に制限されるものではない。
The ceramic raw material used in the present invention comprises:
A high dielectric material such as BaTiO 3 , a resistor material, and the like are also included, and are not particularly limited.

【0020】本発明に用いられる有機バインダは、例え
ば、ポリビニルブチラール、ポリメタクリル酸エステ
ル、ポリイソブチレン、ポリ(α−メチルスチレン)等
が挙げられる。これらの有機バインダは、ブチルアルコ
ール等のアルコール系溶剤とアセトン系溶剤とからなる
混合溶剤に溶解して使われている。
The organic binder used in the present invention includes, for example, polyvinyl butyral, polymethacrylate, polyisobutylene, poly (α-methylstyrene) and the like. These organic binders are used after being dissolved in a mixed solvent composed of an alcohol solvent such as butyl alcohol and an acetone solvent.

【0021】これらの中で、ポリメタクリル酸エステル
は、重合用分散剤であるポリエチレンオキサイド系樹脂
をメタクリル酸エステルモノマ等のビニル単量体及び重
合開始剤の存在下懸濁重合を行ない、平均粒径5μm以
下のポリマを水系に分散してなる水系有機バインダを用
いることも出来る。
Among these, polymethacrylate is prepared by subjecting a polyethylene oxide resin as a polymerization dispersant to suspension polymerization in the presence of a vinyl monomer such as methacrylate ester monomer and a polymerization initiator, and obtaining an average particle size. An aqueous organic binder obtained by dispersing a polymer having a diameter of 5 μm or less in an aqueous system can also be used.

【0022】又セラミック粉末100重量部、セラミッ
ク成形用有機バインダー5から30重量部、必要に応じ
て分散剤、可塑剤とからなるセラミック前駆体組成物を
特徴とするセラミック前駆体組成物のスラリーを基材の
表面に薄膜状にコーティングすることによりグリーンシ
ートが得られ、治具にシートを固定し、穴あけ加工を施
し、導電体を穴埋めしたグリーンシート上に導体回路パ
ターンを転写し、これらの数層から数十層になるように
積層接着させ、所定の条件下で焼結する(脱バインダ工
程、ついで残留炭素を少なくする工程)ことによって多
層セラミック基板が得られ、上記の目的が達成される。
A slurry of a ceramic precursor composition comprising a ceramic precursor composition comprising 100 parts by weight of ceramic powder, 5 to 30 parts by weight of an organic binder for forming a ceramic, and if necessary, a dispersant and a plasticizer is used. A green sheet is obtained by coating the surface of the base material in a thin film form, the sheet is fixed to a jig, drilling is performed, and the conductor circuit pattern is transferred onto the green sheet filled with conductors. The multilayer ceramic substrate is obtained by laminating and adhering to several tens of layers from the layers and sintering under predetermined conditions (a binder removing step, and then a step of reducing residual carbon), and the above object is achieved. .

【0023】又セラミック粉末は、特に限定されるもの
ではないが、高密度化のために微細な配線や微細な穴あ
けを要するグリーンシート化する際には、セラミック粉
末の平均粒径が20.0μ以下の微粉末であることが望
ましい。
The ceramic powder is not particularly limited, but when it is formed into a green sheet that requires fine wiring and fine holes for high density, the average particle size of the ceramic powder is 20.0 μm. The following fine powder is desirable.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下に発明の実施例を示す。Embodiments of the present invention will be described below.

【0025】(実施例1〜6) (導体回路付グリーンシートの作製)200mm角の熱
剥離性シートの接着剤面側を基材上に、熱剥離性接着剤
面側に12,18μmの銅箔をそれぞれラミネートし
た。銅箔面上に感光性ドライフイルムをラミネートし、
所定の導体回路パターンになるように感光性ドライフイ
ルムを露光、現像、リンス、乾燥工程を経て、液温30
〜50℃中、37%の塩化第二鉄エッチング液で配線幅
50,40,30μmになるようにそれぞれエッチング
した。このようにして導体回路パターン転写用基材を作
製した。
(Examples 1 to 6) (Preparation of Green Sheet with Conductor Circuit) The adhesive side of a 200 mm square heat-peelable sheet was placed on the substrate, and the heat-peelable adhesive side was made of 12,18 μm copper. The foils were each laminated. Laminate photosensitive dry film on the copper foil surface,
Exposure, development, rinsing and drying of the photosensitive dry film so as to obtain a predetermined conductive circuit pattern, and
Etching was performed at ~ 50 ° C with a 37% ferric chloride etching solution so that the wiring widths became 50, 40, and 30 µm, respectively. Thus, a substrate for transferring a conductive circuit pattern was prepared.

【0026】次に、ガラスセラミックグリーンシート用
粉末として、全体組成として硼珪酸ガラス(SiO2
4%,B23 9,K2O 4%,Al23 3%)5
0wt%、ムライト50wt%の成分を有する平均粒径
5μm以下のセラミック粉末100重量部、ブチルアル
コールとイソブチルメチルケトン溶剤150重量部、ポ
リメタクリル酸ブチル8重量部、及び可塑剤を加えてこ
れをアルミナ製内張り容器、アルミナ製ボールを用いた
ボールミルにて24時間混練した。このようにしてセラ
ミック前駆体組成物であるスラリーを作製した後、これ
から減圧で脱泡した。更に減圧濃縮によりスラリ混合液
の粘度を調整して1000〜5000cPとし、ドクタ
ーブレード型キャスト装置を用い、ポリエステルフイル
ム上に塗布して100℃で乾燥し、グリーンシートを作
製した。グリーンシートをパンチ金型を用いて、200
mm×200mm角に切断し、ガイド用の穴を施した。
その後、このガイド用の穴を利用してグリーンシートを
固定し、パンチ法により所定位置にバイアスルーホール
を打ち抜いた。銅紛末100重量部、エチルセルローズ
2重量部、2,2,4−トリメチルペンタンジオールモ
ノイソブテレート10重量部からなる銅ペーストを、グ
リーンシートのバイアスルーホールに導体がパット状に
突起するように充填した。バイアスルーホール部の導体
の突起パットと上記導体回路パターンの一部と接続する
ように位置あわせしめて加熱(120℃)圧着(圧力:
100kgf/cm2)する。この熱圧着時に銅回路パ
ターンが熱剥離性接着剤から剥がれ、グリーンシートに
接着して導体回路付グリーンシートが製造される。
Next, as a powder for a glass ceramic green sheet, borosilicate glass (SiO 2 8
4%, B 2 O 3 9 , K 2 O 4%, Al 2 O 3 3%) 5
100 parts by weight of a ceramic powder having a component of 0 wt% and 50 wt% of mullite and having an average particle diameter of 5 μm or less, 150 parts by weight of a solvent of butyl alcohol and isobutyl methyl ketone, 8 parts by weight of polybutyl methacrylate, and a plasticizer are added to alumina. The mixture was kneaded for 24 hours in a ball mill using a lining container and alumina balls. After preparing a slurry as a ceramic precursor composition in this manner, the slurry was defoamed under reduced pressure. Further, the viscosity of the slurry mixture was adjusted to 1000 to 5000 cP by concentration under reduced pressure, applied to a polyester film using a doctor blade type casting device, and dried at 100 ° C. to produce a green sheet. Using a punching die for green sheet, 200
It was cut into a square of 200 mm x 200 mm, and a hole for a guide was provided.
Thereafter, the green sheet was fixed using the guide holes, and a bias hole was punched at a predetermined position by a punch method. A copper paste consisting of 100 parts by weight of copper powder, 2 parts by weight of ethyl cellulose, and 10 parts by weight of 2,2,4-trimethylpentanediol monoisobutyrate has a conductor protruding in a pad-like shape in a bias hole of a green sheet. Was filled as follows. Heat (120 ° C.) crimping (pressure: pressure) by positioning so that the projecting pad of the conductor in the bias loop hole and a part of the conductor circuit pattern are connected.
100 kgf / cm 2 ). During this thermocompression bonding, the copper circuit pattern is peeled off from the heat-peelable adhesive and adheres to the green sheet to produce a green sheet with a conductor circuit.

【0027】(多層配線セラミック基板の製造)導体回
路付グリーンシートをガイド用の穴の位置を合わせて4
0枚を積層し、130℃,120kgf/cm2の圧力
にて熱プレス圧着を行なった。得られた積層体を必要な
形状に切断し、150mm×150mm角のグルーンシ
ート積層体とし、窒素−水蒸気の混合雰囲気焼成炉内に
て850℃、12時間の脱バインダを行ない、続いて9
50〜1000℃で2時間焼成した。これにより120
×150mm角、厚さ7mm多層配線セラミック基板を
製造した。
(Manufacture of Multilayer Wiring Ceramic Substrate) A green sheet with a conductor circuit is aligned with a hole for a guide to obtain a green sheet.
Zero sheets were laminated and subjected to hot press bonding at 130 ° C. and a pressure of 120 kgf / cm 2 . The obtained laminate was cut into a required shape to obtain a 150 mm × 150 mm square green sheet laminate, and a binder was removed at 850 ° C. for 12 hours in a baking furnace of a mixed atmosphere of nitrogen and steam, followed by 9 hours.
It baked at 50-1000 degreeC for 2 hours. This gives 120
A multilayer wiring ceramic substrate having a size of 150 mm square and a thickness of 7 mm was manufactured.

【0028】(評価)焼結後の基板について、配線幅、
配線厚さ(基板断面測定)、転写状況、比抵抗(4端子
法測定)、断線発生率(導通の有無)を測定した。その
結果を表1に示す。
(Evaluation) The wiring width,
The wiring thickness (substrate cross section measurement), transfer status, specific resistance (four-terminal method measurement), and disconnection occurrence rate (presence or absence of conduction) were measured. Table 1 shows the results.

【0029】(比較例1)実施例1で作製したガラスセ
ラミックグリーンシートをパンチ金型を用いて、200
mm×200mm角に切断し、ガイド用の穴を施した。
その後、このガイド用の穴を利用してグリーンシートを
固定し、パンチ法により所定位置にバイアスルーホール
を打ち抜いた。銅紛末100重量部、エチルセルローズ
2重量部、2,2,4−トリメチルペンタンジオールモ
ノイソブテレート10重量部からなる銅ペーストを、グ
リーンシートのバイアスルーホールに充填した。次に、
グリーンシート表面に銅ペーストを用いてスクリーン印
刷法により、回路パターンを形成した。このように配線
幅50μm、配線厚さ25μmの導体回路形成されたグ
リーンシートをガイド用の穴の位置を合わせて40枚を
積層し、130℃、120kgf/cm2の圧力にて熱
プレス圧着を行なった。得られた積層体を必要な形状に
切断し、150mm×150mm角のグルーンシート積
層体とし、窒素−水蒸気の混合雰囲気焼成炉内にて85
0℃、12時間の脱バインダを行ない、続いて950〜
1000℃で2時間焼成した。これにより120×12
0mm角、厚さ7mm多層配線セラミック基板を製造し
た。焼結後の基板について、配線幅、配線厚さ(基板断
面測定)、転写状況、比抵抗(4端子法測定)、断線発
生率(導通の有無)を測定した。その結果を表1に示
す。
(Comparative Example 1) The glass-ceramic green sheet produced in Example 1 was applied to a punch die for 200 hours.
It was cut into a square of 200 mm x 200 mm, and a hole for a guide was provided.
Thereafter, the green sheet was fixed using the guide holes, and a bias hole was punched at a predetermined position by a punch method. A copper paste comprising 100 parts by weight of copper powder, 2 parts by weight of ethyl cellulose, and 10 parts by weight of 2,2,4-trimethylpentanediol monoisobutyrate was filled in a bias through hole of a green sheet. next,
A circuit pattern was formed on the surface of the green sheet by a screen printing method using a copper paste. Forty green sheets on which a conductor circuit having a wiring width of 50 μm and a wiring thickness of 25 μm are formed are stacked in a state of aligning the positions of the holes for the guides, and subjected to hot press bonding at 130 ° C. and a pressure of 120 kgf / cm 2. Done. The obtained laminate was cut into a required shape to obtain a green sheet laminate of 150 mm × 150 mm square, and the green sheet laminate was fired in a baking furnace of a mixed atmosphere of nitrogen and steam.
The binder was removed at 0 ° C. for 12 hours.
It was baked at 1000 ° C. for 2 hours. This gives 120 × 12
A 0 mm square, 7 mm thick multilayer wiring ceramic substrate was manufactured. With respect to the substrate after sintering, the wiring width, the wiring thickness (substrate cross-sectional measurement), the transfer status, the specific resistance (four-terminal method measurement), and the disconnection occurrence rate (presence or absence of conduction) were measured. Table 1 shows the results.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】(比較例2) (導体回路付グリーンシートの作製)ポリエチレンテレ
フタレート基材上に、10wt%ポリビニルブチラール
溶液をコーテイングし、膜厚18μmの銅箔をラミネー
トした。銅箔面上に感光性ドライフイルムをラミネート
し、所定の導体回路パターンになるように感光性ドライ
フイルムを露光、現像、リンス、乾燥工程を経て、液温
30〜50℃中、37%の塩化第二鉄エッチング液で配
線幅40μmになるようにエッチングした。このように
して導体回路パターン転写用基材を作製した。
Comparative Example 2 (Preparation of Green Sheet with Conductor Circuit) A 10 wt% polyvinyl butyral solution was coated on a polyethylene terephthalate base material, and a 18 μm-thick copper foil was laminated. Laminate a photosensitive dry film on a copper foil surface, expose, develop, rinse, and dry the photosensitive dry film so as to obtain a predetermined conductor circuit pattern. Etching was performed with a ferric etching solution so that the wiring width became 40 μm. Thus, a substrate for transferring a conductive circuit pattern was prepared.

【0032】次に、ガラスセラミックグリーンシート用
粉末として、全体組成として硼珪酸ガラス(SiO2
4%,B23 9,K2O 4%,Al23 3%)5
0wt%、ムライト50wt%の成分を有する平均粒径
5μm以下のセラミック粉末100重量部、ブチルアル
コールとイソブチルメチルケトン溶剤150重量部、ポ
リメタクリル酸ブチル8重量部、及び可塑剤を加えてこ
れをアルミナ製内張り容器、アルミナ製ボールを用いた
ボールミルにて24時間混練した。このようにしてセラ
ミック前駆体組成物であるスラリーを作製した後、これ
から減圧で脱泡した。更に減圧濃縮によりスラリ混合液
の粘度を調整して1000〜5000cPとし、ドクタ
ーブレード型キャスト装置を用い、ポリエステルフイル
ム上に塗布して100℃で乾燥し、グリーンシートを作
製した。グリーンシートをパンチ金型を用いて、200
mm×200mm角に切断し、ガイド用の穴を施した。
その後、このガイド用の穴を利用してグリーンシートを
固定し、パンチ法により所定位置にバイアスルーホール
を打ち抜いた。銅紛末100重量部、エチルセルローズ
2重量部、2,2,4−トリメチルペンタンジオールモ
ノイソブテレート10重量部からなる銅ペーストを、グ
リーンシートのバイアスルーホールに充填した。バイア
スルーホール部の導体と上記導体回路パターンの一部と
接続するように位置あわせしめて加熱(120℃)圧着
(圧力:100kgf/cm2)する。この熱圧着時に
銅回路パターンが熱剥離性接着剤から剥がれ、グリーン
シートに接着して導体回路付グリーンシートが製造され
る。
Next, as a powder for a glass ceramic green sheet, borosilicate glass (SiO 2 8
4%, B 2 O 3 9 , K 2 O 4%, Al 2 O 3 3%) 5
100 parts by weight of a ceramic powder having a component of 0 wt% and 50 wt% of mullite and having an average particle diameter of 5 μm or less, 150 parts by weight of a solvent of butyl alcohol and isobutyl methyl ketone, 8 parts by weight of polybutyl methacrylate, and a plasticizer are added to alumina. The mixture was kneaded for 24 hours in a ball mill using a lining container and alumina balls. After preparing a slurry as a ceramic precursor composition in this manner, the slurry was defoamed under reduced pressure. Further, the viscosity of the slurry mixture was adjusted to 1000 to 5000 cP by concentration under reduced pressure, applied to a polyester film using a doctor blade type casting device, and dried at 100 ° C. to produce a green sheet. Using a punching die for green sheet, 200
It was cut into a square of 200 mm x 200 mm, and a hole for a guide was provided.
Thereafter, the green sheet was fixed using the guide holes, and a bias hole was punched at a predetermined position by a punch method. A copper paste comprising 100 parts by weight of copper powder, 2 parts by weight of ethyl cellulose, and 10 parts by weight of 2,2,4-trimethylpentanediol monoisobutyrate was filled in a bias through hole of a green sheet. Heating (120 ° C.) and pressure bonding (pressure: 100 kgf / cm 2 ) are performed by aligning the conductor in the bias loop hole with a part of the conductor circuit pattern. During this thermocompression bonding, the copper circuit pattern is peeled off from the heat-peelable adhesive and adheres to the green sheet to produce a green sheet with a conductor circuit.

【0033】(多層配線セラミック基板の製造)導体回
路付グリーンシートをガイド用の穴の位置を合わせて4
0枚を積層し、130℃、120kgf/cm2の圧力
にて熱プレス圧着を行なった。得られた積層体を必要な
形状に切断し、150mm×150mm角のグルーンシ
ート積層体とし、窒素−水蒸気の混合雰囲気焼成炉内に
て850℃、12時間の脱バインダを行ない、続いて9
50〜1000℃で2時間焼成した。これにより120
×150mm角、厚さ7mm多層配線セラミック基板を
製造した。
(Manufacture of Multilayer Wiring Ceramic Substrate) A green sheet with a conductor circuit was aligned with a hole for guide 4
Zero sheets were laminated and subjected to hot press compression at 130 ° C. and a pressure of 120 kgf / cm 2 . The obtained laminate was cut into a required shape to obtain a 150 mm × 150 mm square green sheet laminate, and a binder was removed at 850 ° C. for 12 hours in a baking furnace of a mixed atmosphere of nitrogen and steam, followed by 9 hours.
It baked at 50-1000 degreeC for 2 hours. This gives 120
A multilayer wiring ceramic substrate having a size of 150 mm square and a thickness of 7 mm was manufactured.

【0034】焼結後の基板について、配線幅、配線厚さ
(基板断面測定)、転写状況、比抵抗(4端子法測
定)、断線発生率(導通の有無)を測定した。その結果
を表1に示す。
With respect to the substrate after sintering, the wiring width, the wiring thickness (substrate cross-sectional measurement), the transfer state, the specific resistance (measured by the four-terminal method), and the disconnection occurrence rate (presence or absence of conduction) were measured. Table 1 shows the results.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明、すなわち導体回路パターンを作
製した転写用基材に熱剥離性接着シートを用いることに
より、導体回路パターンが熱により基材から剥離し、同
時にセラミック・グリーンシートに正確に接着するの
で、歩留りよく転写できる。また選択された位置でバイ
アホールに突起したパット状導体を設けることによって
層間の接続信頼性が大幅に向上する。又、得られた導体
回路付グリーンシートを互いに整合するように重ね合わ
せて加熱圧着し、重ね合わせセラミックのX及びY方向
の収縮を制限し、Z(厚さ)方向に荷重を加えながら焼
結しているためにX,Y方向の焼結収縮がなく、半導体
素子の基板へ接続位置のずれ、内部配線の位置ずれが全
く認められない。
According to the present invention, that is, by using a heat-peelable adhesive sheet for a transfer substrate on which a conductor circuit pattern has been produced, the conductor circuit pattern is peeled off from the substrate by heat, and at the same time, a ceramic green sheet can be accurately formed. Since they are bonded, they can be transferred with good yield. By providing a pad-shaped conductor protruding from the via hole at a selected position, the connection reliability between layers is greatly improved. In addition, the obtained green sheets with conductive circuits are superimposed on each other so as to be aligned with each other, and heated and pressed to limit shrinkage of the superimposed ceramics in the X and Y directions and sinter while applying a load in the Z (thickness) direction. Therefore, there is no sintering shrinkage in the X and Y directions, and no displacement of the connection position of the semiconductor element to the substrate and no displacement of the internal wiring are recognized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明実施例多層配線セラミック基板の製造プ
ロセスの説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a manufacturing process of a multilayer wiring ceramic substrate according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明実施例の多層配線セラミック基板の層構
成とその断面図。
FIG. 2 is a layer configuration of a multilayer wiring ceramic substrate according to an embodiment of the present invention and a sectional view thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラスセラミック焼結体、 2…銅内部配線導体、 3…多層配線ガラスセラミック基板、 4…I/Oピン、 5…はんだ、 6…半導体素子。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sintered glass ceramic, 2 ... Copper internal wiring conductor, 3 ... Multilayer wiring glass ceramic substrate, 4 ... I / O pin, 5 ... Solder, 6 ... Semiconductor element.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 正英 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 阿部 洋一 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 田中 秀明 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 千石 則夫 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日立 製作所汎用コンピュータ事業部内 (72)発明者 矢木 邦博 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日立 製作所汎用コンピュータ事業部内 (72)発明者 小林 二三幸 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日立 製作所汎用コンピュータ事業部内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masahide Okamoto 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside of Hitachi, Ltd. Hitachi, Ltd. Production Technology Research Laboratories (72) Inventor Hideaki Tanaka 292, Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Hitachi, Ltd. General Computer Division, Manufacturing Corporation (72) Inventor Kunihiro Yagi 1st Horiyamashita, Hadano-shi, Kanagawa Hitachi, Ltd.General-purpose Computer Division, Hitachi Ltd. (72) Inventor Fumiko Kobayashi 1st Horiyamashita, Hadano-shi, Kanagawa Hitachi Computer Division

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基材上に熱剥離性接着層を形成し、その熱
剥離性接着層面側に導体回路パターンを形成する工程、
層間接続用バイアスルーホールに導体回路パターンより
融点10℃から100℃低い導導体ペースト又は金属導
体の突起したパット部を設ける工程、ガラスセラミック
グリーンシートの突起部先端が上記金属導体パターンに
接続するように位置あわせして加熱圧着する工程、導体
回路パターンが転写されたグリーンシートから熱剥離性
接着層を剥離する工程からなることを特徴とする導体回
路付グリーンシートの製造方法。
A step of forming a heat-peelable adhesive layer on a substrate and forming a conductive circuit pattern on the heat-peelable adhesive layer side;
Providing a protruding pad portion of a conductive paste or metal conductor having a melting point of 10 ° C. to 100 ° C. lower than the conductor circuit pattern in the via hole for interlayer connection, so that the protruding tip end of the glass ceramic green sheet is connected to the metal conductor pattern; 2. A method for producing a green sheet with a conductor circuit, comprising: a step of heat-pressing and positioning the substrate; and a step of peeling the heat-peelable adhesive layer from the green sheet to which the conductor circuit pattern has been transferred.
【請求項2】金属導体回路パターンをグリーンシートに
転写する方法において、基材上に熱剥離性接着層を形成
し、その熱剥離性接着層面側に金属導体層を回転ロール
で圧着する工程、さらに金属導体層上にパターン形成用
感光性樹脂層を形成して金属導体層をパターン化する工
程と、ガラスセラミック粉末と易熱分解性有機バインダ
からなるグリーンシートに層間接続用バイアホールを設
け、そのバイアホールに導体回路パターンより融点10
℃から100℃低い導体ペースト又は金属導体の突起し
たパット部を設ける工程、この突起部先端部が上記金属
導体回路パターン部に接続するように位置あわせして加
熱圧着する工程からなることを特徴とする導体回路付グ
リーンシートの製造方法。
2. A method for transferring a metal conductor circuit pattern to a green sheet, comprising: forming a heat-peelable adhesive layer on a base material; and pressing the metal conductor layer on a side of the heat-peelable adhesive layer with a rotating roll. Furthermore, a step of forming a photosensitive resin layer for pattern formation on the metal conductor layer and patterning the metal conductor layer, and providing a via hole for interlayer connection in a green sheet made of glass ceramic powder and a thermally decomposable organic binder, The via hole has a melting point of 10
A step of providing a protruding pad portion of a conductor paste or a metal conductor at a temperature lower than 100 ° C. to 100 ° C., and a step of positioning the protruding portion so as to be connected to the metal conductor circuit pattern portion and performing thermocompression bonding. Of manufacturing a green sheet with a conductive circuit.
【請求項3】金属導体回路パターンをグリーンシートに
転写する多層配線セラミック基板において、基材上に熱
剥離性接着層を形成し、その熱剥離性接着層面側に形成
された金属導体回路パターン部を、セラミックグリーン
シートの層間接続用バイアホールに導体ペースト又は金
属導体を埋め込んで形成した接続用突起部に接続するよ
うに位置あわせして加熱圧着して導体回路付グリーンシ
ートを製造し、複数の導体回路付グリーンシートを互い
に位置合わせて加熱圧着して積層体を作製して面方向の
拘束力を加えながら加熱焼結してなることを特徴とする
多層配線セラミック基板。
3. A multi-layer wiring ceramic substrate for transferring a metal conductor circuit pattern to a green sheet, wherein a heat-peelable adhesive layer is formed on a base material, and a metal conductor circuit pattern portion formed on the heat-peelable adhesive layer surface side. A green sheet with a conductor circuit is manufactured by aligning and heating and crimping the ceramic green sheet so as to be connected to a connection projection formed by embedding a conductive paste or a metal conductor in a via hole for interlayer connection of a ceramic green sheet. A multilayer wiring ceramic substrate characterized in that a green sheet with a conductor circuit is aligned with each other and heated and pressed to form a laminate, which is heated and sintered while applying a restraining force in a surface direction.
【請求項4】金属導体パターンをグリーンシートに転写
する多層配線セラミック基板において、基材上に熱剥離
性接着層を形成し、その熱剥離性接着層面側に金属導体
回路パターンを形成する工程、セラミック粉末および熱
分解性有機バインダからなるグリーンシートの層間接続
用バイアホールに導体ペースト又は金属導体を埋め込ん
で形成した接続用突起部に接続するように位置あわせし
て加熱圧着して導体回路付グリーンシートを製造し、複
数の導体回路付グリーンシートを互いに位置合わせて加
熱圧着して積層体を作製して面方向の拘束力を加えなが
ら加熱焼結してなることを特徴とする多層配線セラミッ
ク基板の製造方法。
4. A multi-layer wiring ceramic substrate for transferring a metal conductor pattern to a green sheet, wherein a heat-peelable adhesive layer is formed on a substrate, and a metal conductor circuit pattern is formed on the heat-peelable adhesive layer side. A green sheet with a conductor circuit is positioned by heating and pressing under pressure so as to be connected to a connection projection formed by embedding a conductive paste or a metal conductor in a via hole for interlayer connection of a green sheet made of ceramic powder and a thermally decomposable organic binder. A multilayer wiring ceramic substrate, wherein a sheet is manufactured, a plurality of green sheets with conductive circuits are aligned with each other, and heat-pressed to form a laminate, which is heated and sintered while applying a restraining force in a surface direction. Manufacturing method.
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Cited By (8)

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