JPH10237658A - Method for fitting suscepter, plate for fixing suscepter and vacuum treatment device - Google Patents
Method for fitting suscepter, plate for fixing suscepter and vacuum treatment deviceInfo
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- JPH10237658A JPH10237658A JP5851897A JP5851897A JPH10237658A JP H10237658 A JPH10237658 A JP H10237658A JP 5851897 A JP5851897 A JP 5851897A JP 5851897 A JP5851897 A JP 5851897A JP H10237658 A JPH10237658 A JP H10237658A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、真空槽内に配置す
るサセプタを取り付ける技術にかかり、特に、ベローズ
を介してサセプタを上下移動可能に取り付けるサセプタ
取付方法、及びサセプタ固定用のプレートに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for mounting a susceptor disposed in a vacuum chamber, and more particularly, to a susceptor mounting method for vertically moving a susceptor via a bellows, and a susceptor fixing plate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、処理対象物を真空槽内に配置
して処理を行う真空処理装置は広く用いられており、例
えば、プラズマＣＶＤ反応によって処理対象物表面に薄
膜を形成するＣＶＤ装置や、エッチングガスプラズマに
よってエッチングを行うプラズマエッチング装置等、多
数の種類がある。2. Description of the Related Art Conventionally, a vacuum processing apparatus that performs processing by arranging a processing object in a vacuum chamber has been widely used. For example, a CVD apparatus that forms a thin film on the surface of the processing object by a plasma CVD reaction, There are many types, such as a plasma etching apparatus for performing etching using an etching gas plasma.
【０００３】そのような真空処理装置では、処理対象物
の処理を行う際、真空槽内の所定位置に取り付けられた
サセプタ上に配置し、真空槽内を真空状態にした後、成
膜ガスやエッチングガスの処理ガスを導入するが、処理
対象物はシリコンウェハ等の円形のものばかりでなく、
液晶表示装置のガラス基板等の矩形形状のものがある。
従って、サセプタの形状は、処理すべき処理対象物の形
状に適合するように成形されている。In such a vacuum processing apparatus, when processing an object to be processed, it is arranged on a susceptor attached to a predetermined position in a vacuum chamber, and after the vacuum chamber is evacuated, a film forming gas or the like is formed. The processing gas of the etching gas is introduced, but the processing object is not only a circular object such as a silicon wafer, but also a processing object.
There is a rectangular shape such as a glass substrate of a liquid crystal display device.
Therefore, the shape of the susceptor is formed so as to conform to the shape of the object to be processed.
【０００４】例えば図４(ａ)の真空処理装置では、符号
１２１は、内部が略直方体形状の真空槽の一部を構成す
るチャンバーを示しており、支柱１１２と、その支柱１
１２の上端部に固定された矩形形状の配置板１１１とで
構成されるサセプタ１１０を有している。配置板１１１
はチャンバー１２１内に配置され、支柱１１２の下端部
がチャンバ１２１の底壁上に固定されている。For example, in the vacuum processing apparatus shown in FIG. 4A, reference numeral 121 denotes a chamber constituting a part of a substantially rectangular parallelepiped vacuum chamber, and includes a support 112 and a support 1.
The susceptor 110 includes a rectangular arrangement plate 111 fixed to an upper end of the susceptor 110. Arrangement plate 111
Is disposed in the chamber 121, and the lower end of the column 112 is fixed on the bottom wall of the chamber 121.
【０００５】このサセプタ１１０では、配置板１１１と
チャンバ１２１が矩形形状であるため、配置板１１１が
回転した場合、配置板１１１周囲とチャンバ１２１内壁
面とが接触してしまうという不都合がある。In this susceptor 110, since the arrangement plate 111 and the chamber 121 are rectangular, there is a disadvantage that when the arrangement plate 111 rotates, the periphery of the arrangement plate 111 and the inner wall surface of the chamber 121 come into contact.
【０００６】そこで、支柱１１２の下端部分１１４の横
断面形状と、チャンバ１２１に設けられた挿通孔１２６
の形状とをＤ字状に成形し、支柱１１２をチャンバ１２
１の底壁上に取り付ける際、チャンバ１２１の底壁側に
オーリングを配置し、先端部分１１４を挿通孔１２６内
に挿通して大気側に突き出し、チャンバ１２１の底壁面
にナット１３５で固定し、チャンバ１２１に対してサセ
プタ１１０が回転しないように構成していた。Therefore, the cross-sectional shape of the lower end portion 114 of the column 112 and the insertion hole 126 formed in the chamber 121 are
Is formed into a D-shape, and the column 112 is
When mounting on the bottom wall of the chamber 121, an O-ring is arranged on the bottom wall side of the chamber 121, the tip portion 114 is inserted into the insertion hole 126 to protrude toward the atmosphere, and is fixed to the bottom wall surface of the chamber 121 with a nut 135. , So that the susceptor 110 does not rotate with respect to the chamber 121.
【０００７】しかし、Ｄ字形状の先端部分１１４をＤ字
形状の挿通孔１２６に挿通するためには、予めサセプタ
１１０の位置決めを行っておく必要があるが、配置板１
１１が上方からの視線を遮るため、先端部分１１４や挿
通孔１２６の向きが観察できず、サセプタ１１０を取り
付ける作業は容易ではない。However, in order to insert the D-shaped tip portion 114 into the D-shaped insertion hole 126, it is necessary to position the susceptor 110 in advance.
Since the line of sight 11 blocks the line of sight from above, the orientation of the distal end portion 114 and the insertion hole 126 cannot be observed, and the work of attaching the susceptor 110 is not easy.
【０００８】また、図４(ｂ)に示したように、サセプタ
２１０を、チャンバ２２１の外部に配置したベローズ２
３０に固定し、サセプタ２１０の配置板２１１を上下移
動可能に構成したい場合がある。Further, as shown in FIG. 4B, the susceptor 210 has a bellows 2 disposed outside the chamber 221.
In some cases, it is desired to fix the susceptor 210 to the arrangement plate 211 so as to be vertically movable.
【０００９】一般に、ベローズ２３０は、ベローシール
２３２の上端部と下端部に、封止板２３１、２３３がそ
れぞれ溶接固定されており、チャンバ２２１の底壁に設
けられた挿通孔２２６とベローシール２３２内部が連通
した状態で、上端部の封止板２３１がチャンバ２２１の
裏面に気密に固定されている。In general, bellows 230 have sealing plates 231 and 233 welded and fixed to the upper end and lower end of bellows seal 232, respectively, and insert through hole 226 provided in the bottom wall of chamber 221 and bellows seal 232. The sealing plate 231 at the upper end is hermetically fixed to the back surface of the chamber 221 in a state where the insides communicate with each other.
【００１０】挿通孔２２６とベローズ２３０内に、チャ
ンバ２２１とは非接触の状態で支柱２１２を挿入し、ベ
ローズ２３０下端部の封止板２３３に設けられた挿入孔
２３６内に、支柱２１２の下端部２１３を挿入し、配置
板２１１をチャンバ２２１内に設けられた位置決め治具
２０５に当接させ、真空槽に対するサセプタ２１０の位
置決めを行った後、下端部２１３にプレート２０２を取
り付け、ベローズ２３０内部に大気が侵入しないように
した状態で、ナット２３５を装着し、サセプタ２１０を
封止板２３３に固定していた。最後に、サセプタ位置決
め用の治具２０５をチャンバ２２１から抜去すると、処
理対象物の処理が開始できる状態になる。The column 212 is inserted into the insertion hole 226 and the bellows 230 without contact with the chamber 221, and the lower end of the column 212 is inserted into the insertion hole 236 provided in the sealing plate 233 at the lower end of the bellows 230. Part 213 is inserted, the arrangement plate 211 is brought into contact with a positioning jig 205 provided in the chamber 221, and the susceptor 210 is positioned with respect to the vacuum chamber. The nut 235 was attached to the susceptor 210 while the air was prevented from entering the susceptor 210, and the susceptor 210 was fixed to the sealing plate 233. Finally, when the susceptor positioning jig 205 is removed from the chamber 221, the processing of the processing target can be started.
【００１１】このように、サセプタ位置決め治具２０５
を用いれば、サセプタ２１０を真空槽に対して直接位置
決めできるので、位置決めにベローズ２３０の部品寸法
公差の影響はなく、正確な取り付けを行うことが可能と
なる。As described above, the susceptor positioning jig 205
With the use of the susceptor 210, the susceptor 210 can be directly positioned with respect to the vacuum chamber, so that the positioning can be performed without being affected by the component dimensional tolerance of the bellows 230, and can be accurately mounted.
【００１２】しかし、上述のようなサセプタ取り付け方
法は、煩雑であるばかりでなく、ナット２３５を回転装
着する際に、位置決め治具２０５が押圧され、圧縮され
ると位置決め治具２０５を取り外すことが困難になると
いう問題がある。また、無理に取り外すとチャンバー２
２１内壁に傷を付けてしまうため、その解決が望まれて
いた。However, the above-described susceptor mounting method is not only complicated, but also when the nut 235 is rotationally mounted, the positioning jig 205 is pressed. There is a problem that it becomes difficult. Also, if you forcibly remove it, chamber 2
Since the inner wall 21 is damaged, a solution has been desired.
【００１３】[0013]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の不都合を解決するために創作されたもので、その目的
は、サセプタの位置決めを簡単に行えるサセプタ取付方
法、その方法に用いられるサセプタ固定用プレートを提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art, and has as its object to provide a susceptor mounting method capable of easily positioning a susceptor, and a susceptor fixing method used in the method. To provide a work plate.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明方法は、支柱と、前記支柱上端
部に固定され、処理対象物を配置する配置板とを有する
サセプタの前記配置板を真空槽内に配置し、前記真空槽
内の真空雰囲気を維持したまま、前記サセプタを上下移
動できるように取り付けるサセプタ取付方法であって、
前記真空槽に挿通孔を設け、内部が前記挿通孔と連通し
た状態で前記真空槽外部にベローズを配置し、その上端
部を前記真空槽に気密に固定し、前記支柱を前記挿通孔
内と前記ベローズ内に挿通し、前記サセプタの位置決め
を行った後、前記ベローズ下端部を封止する封止板に、
前記支柱の下端部を気密に固定することを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a susceptor having a support and an arrangement plate fixed to an upper end of the support and on which an object to be treated is arranged. A susceptor mounting method in which the arranging plate is disposed in a vacuum chamber, and the susceptor is mounted to be vertically movable while maintaining a vacuum atmosphere in the vacuum chamber,
An insertion hole is provided in the vacuum tank, a bellows is arranged outside the vacuum tank in a state where the inside communicates with the insertion hole, the upper end thereof is air-tightly fixed to the vacuum tank, and the column is inserted into the insertion hole. After passing through the bellows and positioning the susceptor, a sealing plate for sealing the lower end of the bellows,
The lower end of the support is air-tightly fixed.
【００１５】請求項１記載のサセプタ取付方法が、前記
封止板の前記ベローズ外部側にプレートを配置し、前記
支柱の下端部の先端部分を前記封止板から外部に突出さ
せて前記プレートに設けられた挿入孔内に挿入し、前記
プレートを前記封止板に固定することで前記サセプタを
取り付ける場合には、請求項２記載の発明方法のよう
に、前記突出した先端部分の横断面形状を非円形に成形
し、前記プレートの挿入孔を前記先端部分と嵌合する形
状に成形し、前記サセプタの位置決めを行う際に、前記
支柱と前記プレートとを一緒に回転させることができ
る。A susceptor mounting method according to claim 1, wherein a plate is arranged on the outer side of the bellows of the sealing plate, and a tip end of a lower end portion of the column is projected outside from the sealing plate to the plate. 3. The cross-sectional shape of the protruding tip portion as in the method according to claim 2, wherein the susceptor is attached by inserting the susceptor into the insertion hole provided and fixing the plate to the sealing plate. Is formed into a non-circular shape, the insertion hole of the plate is formed into a shape that fits into the tip portion, and the support and the plate can be rotated together when positioning the susceptor.
【００１６】その請求項２記載のサセプタ取付方法に用
いられるサセプタ固定用のプレートについては、請求項
３記載の発明装置のように、前記プレートが有する貫通
孔にねじを挿通して前記封止板に固定する際、前記貫通
孔は遊びを持つように構成するとよい。In the susceptor fixing plate used in the susceptor mounting method according to the second aspect of the present invention, as in the apparatus according to the third aspect of the present invention, the sealing plate is formed by inserting a screw into a through hole of the plate. When fixing the through hole, the through hole may have a play.
【００１７】他方、請求項４記載の発明のように、横断
面が非円形形状の軸を挿入すると、前記軸と嵌合するよ
うに構成された挿入孔と、ねじを挿入すべき貫通孔とを
有するプレートについて、前記貫通孔は、前記ねじを挿
通させたときに、遊びを持つように構成してもよい。On the other hand, when a shaft having a non-circular cross section is inserted as in the invention according to claim 4, an insertion hole configured to be fitted with the shaft and a through hole into which a screw is to be inserted are provided. The through hole may have a play when the screw is inserted.
【００１８】このような、プレートの貫通孔は、例えば
長穴形状に成形することができる。また、そのプレート
については、挿入孔周囲に、周囲から前記挿入孔中心に
向かう傾斜を設けてもよい。Such a through hole of the plate can be formed into, for example, a long hole shape. Further, the plate may be provided with an inclination around the insertion hole from the periphery toward the center of the insertion hole.
【００１９】他方、請求項５記載の発明は、真空槽と、
支柱と配置板とを有するサセプタと、前記真空槽に設け
られた挿通孔と内部が連通した状態で前記真空槽外部に
設けられたベローズとを有する真空処理装置であって、
前記サセプタは、前記配置板が前記真空槽内に位置し、
前記支柱が前記挿通孔と前記ベローズ内に挿通された状
態で、前記サセプタの位置決めが行われた後、前記支柱
の下端部が前記ベローズ下端部を封止固定する封止板に
気密に固定され、前記サセプタが前記真空槽内の真空雰
囲気を維持したまま、上下移動できるように構成されて
いることを特徴とする。[0019] On the other hand, the invention according to claim 5 comprises a vacuum chamber,
A susceptor having a support and an arrangement plate, and a vacuum processing apparatus having a bellows provided outside the vacuum chamber in a state where the inside communicates with an insertion hole provided in the vacuum chamber,
In the susceptor, the arrangement plate is located in the vacuum chamber,
In a state where the support is inserted into the insertion hole and the bellows, after the susceptor is positioned, the lower end of the support is airtightly fixed to a sealing plate for sealing and fixing the lower end of the bellows. The susceptor is configured to be able to move up and down while maintaining a vacuum atmosphere in the vacuum chamber.
【００２０】その請求項５記載の真空処理装置が、前記
封止板の前記ベローズ外部側に配置されたプレートを有
し、前記封止板から外部に突出された前記支柱の下端部
の先端部分が前記プレートに設けられた挿入孔内に挿入
された後、前記プレートが前記封止板に固定されている
場合には、請求項６記載の発明のように、前記突出した
先端部分の横断面形状は非円形に成形し、前記プレート
の挿入孔を前記先端部分と嵌合する形状に成形し、前記
サセプタの位置決めを行う際に、固定する前は、前記支
柱と前記プレートとが一緒に回転できるように構成して
もよい。6. A vacuum processing apparatus according to claim 5, further comprising a plate disposed outside said bellows of said sealing plate, and a tip end portion of a lower end portion of said column protruding outside from said sealing plate. 7. When the plate is fixed to the sealing plate after being inserted into the insertion hole provided in the plate, the cross section of the protruding tip portion as in the invention of claim 6 The shape is formed into a non-circular shape, the insertion hole of the plate is formed into a shape to be fitted with the tip portion, and when positioning the susceptor, the support and the plate rotate together before fixing the susceptor. You may comprise so that it can be performed.
【００２１】上述した本発明の構成によれば、サセプタ
を真空槽内の真空雰囲気を維持したまま、上下移動でき
るように取り付ける際に、真空槽に設けられた挿通孔と
内部が連通した状態でベローズ上端部を真空槽に気密に
固定し、その挿通孔とベローズ内にサセプタの支柱を挿
通し、サセプタの位置決めを行った後、支柱下端部をベ
ローズ下端部の封止板に気密に固定するので、サセプタ
の位置決め精度がベローズの寸法公差の影響を受けず、
また、支柱の取り付け作業が容易になる。According to the configuration of the present invention described above, when the susceptor is mounted to be able to move up and down while maintaining the vacuum atmosphere in the vacuum chamber, the susceptor is placed in a state where the insertion hole provided in the vacuum chamber communicates with the inside. After fixing the upper end of the bellows to the vacuum chamber in an airtight manner, inserting the susceptor column into the through hole and the bellows and positioning the susceptor, the lower end of the column is airtightly fixed to the sealing plate at the lower end of the bellows. Therefore, the positioning accuracy of the susceptor is not affected by the dimensional tolerance of the bellows,
In addition, the work of mounting the column is facilitated.
【００２２】更に、封止板のベローズ外部側にプレート
を配置し、支柱下端部の先端部分を封止板から外部に突
出させ、プレートに設けられた挿入孔内に挿入した場
合、プレートを封止板に固定することでサセプタの取り
付けを行うことができる。この場合、突出した先端部分
の横断面形状を非円形に成形し、プレートの挿入孔を、
その先端部分と嵌合する形状に成形しておくと、先端部
分をプレートの挿入孔内に挿入した後、プレートを封止
板に固定する前に、支柱と一緒にプレートを回転させ、
サセプタの位置合わせを行うことができる。位置合わせ
後は、プレートを封止板に固定し、サセプタの取り付け
を行えばよい。Further, a plate is arranged on the outer side of the bellows of the sealing plate, and a tip portion of a lower end portion of the column is protruded outside from the sealing plate. When the plate is inserted into an insertion hole provided in the plate, the plate is sealed. The susceptor can be attached by fixing to the stop plate. In this case, the cross-sectional shape of the protruding tip portion is formed into a non-circular shape, and the insertion hole of the plate is
If it is molded into a shape that fits with the tip part, after inserting the tip part into the insertion hole of the plate, before fixing the plate to the sealing plate, rotate the plate together with the support,
The susceptor can be aligned. After the alignment, the plate may be fixed to the sealing plate, and the susceptor may be attached.
【００２３】このようにサセプタを取り付ける際、プレ
ートに設けられた貫通孔にねじを挿通し、プレートを封
止板にねじ止め固定する場合には、その貫通孔が、ねじ
を挿入したときに遊びを持てるように構成しておくと、
プレートと封止板とを位置合わせずにねじ止め固定する
ことが可能になる。そのような貫通孔は長穴形状に成形
し、遊びを持たせることができる。When the susceptor is attached in this manner, when a screw is inserted into a through hole provided in the plate and the plate is screwed and fixed to the sealing plate, the through hole has a play when the screw is inserted. If you configure so that you can have
The plate and the sealing plate can be fixed by screwing without being aligned. Such a through hole can be formed into a long hole shape to have play.
【００２４】そのプレートの挿入孔周囲には、周囲から
中心に向かう傾斜を設けておき、傾斜上にオーリングを
配置した後で封止板に固定すると、ベローズ内の気密状
態を維持することが可能になる。If an inclination is provided from the periphery to the center around the insertion hole of the plate, and the O-ring is arranged on the inclination and fixed to the sealing plate, the airtight state in the bellows can be maintained. Will be possible.
【００２５】[0025]
【発明の実施の形態】本発明方法の実施の形態を、本発
明装置と共に図面を用いて説明する。図１(ａ)、(ｂ)を
参照し、符号１は、本発明のサセプタ取付方法を適用で
きる真空処理装置の一例であるプラズマＣＶＤ装置であ
り、各々金属材料から成る配置板１１、支柱１２、チャ
ンバ２１、ガスシャワーヘッド２２、ピン２７1、２７2
を有している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the method of the present invention will be described with reference to the drawings together with the apparatus of the present invention. Referring to FIGS. 1A and 1B, reference numeral 1 denotes a plasma CVD apparatus which is an example of a vacuum processing apparatus to which the susceptor mounting method of the present invention can be applied. , Chamber 21, gas shower head 22, pins 27 1 , 27 2
have.
【００２６】チャンバ２１は容器状に成形されており、
そのチャンバ２１上には、ガスシャワーヘッド２２が、
絶縁物２３とオーリングによって、互いに電気的に絶縁
された状態で気密に固定されている。そのチャンバ２
１、絶縁物２３、ガスシャワーヘッド２２によって、符
号２０で示す真空槽が構成されており、図示しない真空
ポンプを起動すると、チャンバ２１の側壁に設けられた
排気口２９から真空槽２０内を真空排気できるように構
成されている。The chamber 21 is formed in a container shape.
On the chamber 21, a gas shower head 22 is provided.
The insulator 23 and the O-ring are air-tightly fixed while being electrically insulated from each other. The chamber 2
1, a vacuum chamber indicated by reference numeral 20 is constituted by the insulator 23 and the gas shower head 22. When a vacuum pump (not shown) is started, the inside of the vacuum chamber 20 is evacuated through an exhaust port 29 provided on the side wall of the chamber 21. It is configured to be able to exhaust.
【００２７】真空槽２０外側のチャンバ２１裏面位置に
はベローズ３０が配置されており、チャンバ２１底面の
挿通孔２６と内部が連通する状態で、ベローズ３０上端
部の封止板３１が、オーリング６５を介して気密に固定
されている。A bellows 30 is arranged on the back surface of the chamber 21 outside the vacuum chamber 20, and the sealing plate 31 at the upper end of the bellows 30 is closed by an O-ring in a state where the insertion hole 26 on the bottom surface of the chamber 21 communicates with the inside. It is airtightly fixed via 65.
【００２８】ベローズ３０下端部の封止板３３には挿通
孔３６が設けられており、支柱１２の下端部１３はその
挿通孔３６内に挿通され、封止板３３の裏面側に突出さ
れている。An insertion hole 36 is provided in the sealing plate 33 at the lower end of the bellows 30, and the lower end 13 of the column 12 is inserted into the insertion hole 36 and protrudes to the back side of the sealing plate 33. I have.
【００２９】その突出した下端部１３の先端部分１４
は、横断面がＤ字形状に成形された軸で構成されてお
り、図２(ａ)、(ｂ)に示すような、プレート２の中央付
近に設けられたＤ字形状の挿入孔６に挿入されている。
その状態では、図２(ｃ)に示すように、挿入孔６の平面
部分７と先端部分１４の平面部分１７とが密着し、互い
に嵌合するように構成されている。The tip portion 14 of the protruding lower end portion 13
Is constituted by a shaft whose cross section is formed in a D-shape. As shown in FIGS. 2A and 2B, a D-shaped insertion hole 6 provided near the center of the plate 2 is provided. Has been inserted.
In this state, as shown in FIG. 2C, the flat portion 7 of the insertion hole 6 and the flat portion 17 of the distal end portion 14 are configured to be in close contact with each other and fitted together.
【００３０】先端部１４を挿入孔６内に挿入した状態
で、サセプタ１０を真空槽２０に対して回転させ、配置
板１１の位置合わせを行うと、プレート２は、サセプタ
１０と一緒に回転する。このプレート２では、封止板３
３にねじ止め固定するための貫通孔８が長穴形状に形成
され、回転方向に沿って配置されているので、プレート
２を封止板３３に対して位置合わせをせずにねじ止め固
定することができる。When the susceptor 10 is rotated with respect to the vacuum chamber 20 with the distal end portion 14 inserted into the insertion hole 6 and the positioning plate 11 is aligned, the plate 2 rotates together with the susceptor 10. . In this plate 2, the sealing plate 3
Since the through hole 8 for screwing and fixing the plate 2 is formed in a long hole shape and arranged along the rotation direction, the plate 2 is screwed and fixed without being aligned with the sealing plate 33. be able to.
【００３１】挿入孔６の入り口側には、周囲から中心に
向かって傾斜５が設けられており、先端部分１４を挿入
する際に、予め傾斜５上にオーリング９を配置してお
き、最後に、先端部分１４にナット３５を装着し、サセ
プタ１０を封止板３３に対して完全に固定すると、サセ
プタ１０が気密に取り付けられる。この状態では、サセ
プタ１０は真空槽２０とは非接触の状態にあり、配置板
１１は真空槽２０内の所定位置に配置されている。At the entrance side of the insertion hole 6, a slope 5 is provided from the periphery toward the center. When the tip portion 14 is inserted, the O-ring 9 is arranged on the slope 5 in advance, and Then, when the nut 35 is attached to the distal end portion 14 and the susceptor 10 is completely fixed to the sealing plate 33, the susceptor 10 is hermetically attached. In this state, the susceptor 10 is not in contact with the vacuum chamber 20, and the arrangement plate 11 is arranged at a predetermined position in the vacuum chamber 20.
【００３２】このように、サセプタ１０は真空槽２０に
対して正確に位置決めされているので、配置板１１に設
けられた孔内に、ピン２７1、２７2を挿通しただけで、
各ピン２７1、２７2を底面の所定位置に配置することが
できる。その状態で処理対象物である基板４０を配置板
１１上に配置し、排気口２９から真空槽２０内を真空排
気した後、ガス導入管２５からガスシャワーヘッド２２
内に成膜対象ガスを導入し、基板４０上へ散布しながら
サセプタ１０とガスシャワーヘッド２２の間に高周波電
圧を印加すると、基板４０上に成膜対象ガスプラズマが
発生し、プラズマＣＶＤ反応によって基板４０表面に薄
膜が形成される。As described above, since the susceptor 10 is accurately positioned with respect to the vacuum chamber 20, only by inserting the pins 27 1 and 27 2 into the holes provided in the arrangement plate 11,
Each of the pins 27 1 and 27 2 can be arranged at a predetermined position on the bottom surface. In this state, the substrate 40 to be processed is arranged on the arrangement plate 11, the inside of the vacuum chamber 20 is evacuated from the exhaust port 29, and then the gas shower head 22 is
When a high-frequency voltage is applied between the susceptor 10 and the gas shower head 22 while introducing a gas to be deposited into the substrate and spraying the gas onto the substrate 40, a gas plasma to be deposited is generated on the substrate 40, and the plasma CVD reaction causes A thin film is formed on the surface of the substrate 40.
【００３３】前述のベローズ３０下端部の封止板３３に
は、図示しない基板昇降機構が設けられており、封止板
３３を下方に移動させて配置板１１を一緒に下方に移動
させ、基板４０を配置板１１と離した状態でピン２
７1、２７2上に残す。The sealing plate 33 at the lower end of the bellows 30 is provided with a substrate raising / lowering mechanism (not shown). The sealing plate 33 is moved downward to move the arrangement plate 11 together. The pin 2 is separated from the arrangement plate 11 by
Leave on 7 1 , 27 2 .
【００３４】その状態で、基板４０と配置板１１の間
に、図示しない基板搬送用ロボットのアーム先端を挿入
し、基板４０を未処理の基板と交換した後、封止板３３
を上方に移動させ、配置板１１上に未処理の基板を配置
し、薄膜形成作業を続行する。In this state, the tip of the arm of a substrate transport robot (not shown) is inserted between the substrate 40 and the arrangement plate 11 to replace the substrate 40 with an unprocessed substrate.
Is moved upward, an unprocessed substrate is arranged on the arrangement plate 11, and the thin film forming operation is continued.
【００３５】次に、本発明を他の真空処理装置に適用し
た場合を説明する。図３を参照し、符号１'は、そのよ
うな真空処理装置であるプラズマＣＶＤ装置を示してお
り、前述のプラズマＣＶＤ装置１と同じ部材には同じ符
号を付して説明を簡略化する。Next, a case where the present invention is applied to another vacuum processing apparatus will be described. Referring to FIG. 3, reference numeral 1 'denotes a plasma CVD apparatus which is such a vacuum processing apparatus, and the same members as those of the above-described plasma CVD apparatus 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be simplified.
【００３６】このプラズマＣＶＤ装置１'では、チャン
バ２１を接地電位に置き、ガスシャワーヘッド２２に高
周波電圧を印加して真空槽２０内に成膜ガスプラズマを
発生させる際、基板４０が配置される配置板６１にも交
流電圧を印加し、形成される薄膜の膜質を向上させるも
のである。In this plasma CVD apparatus 1 ′, when the chamber 21 is set at the ground potential and a high frequency voltage is applied to the gas shower head 22 to generate a film forming gas plasma in the vacuum chamber 20, the substrate 40 is disposed. An AC voltage is also applied to the arrangement plate 61 to improve the quality of the formed thin film.
【００３７】このプラズマＣＶＤ装置１'のチャンバ２
１底壁の大気側には、ベローシール８２、封止板８１、
封止機構８３を有するベローズ８０が配置されており、
封止板８１と封止機構８３とは、ベローシール８２の上
端部と下端部にそれぞれ溶接固定され、チャンバ２１底
面に設けられた挿通孔２６とベローズ８０内部が連通す
る状態で、封止板８１がチャンバ２１に気密に固定され
ている。The chamber 2 of the plasma CVD apparatus 1 '
A bellows seal 82, a sealing plate 81,
A bellows 80 having a sealing mechanism 83 is arranged,
The sealing plate 81 and the sealing mechanism 83 are welded and fixed to the upper end and the lower end of the bellows seal 82, respectively, and the sealing plate 81 and the insertion hole 26 provided on the bottom surface of the chamber 21 communicate with the inside of the bellows 80. 81 is hermetically fixed to the chamber 21.
【００３８】封止機構８３は、絶縁物８３2と、金属材
料で構成されたリング部材８３1、封止板８３3を有して
おり、ベローシール８２の下端部に、リング部材８３1
が溶接固定されている。リング部材８３1と封止板８３
とは、絶縁物８３2を挟んだ状態で互いに気密に固定さ
れている。従って、その絶縁物８３2によって、チャン
バ２１とベローズ８０下端部の封止板８３3とが電気的
に絶縁されるように構成されている。The sealing mechanism 83 includes a insulator 83 2, the ring formed of a metal material member 83 1 has a sealing plate 83 3, the lower end of the bellows seal 82, the ring member 83 1
Are fixed by welding. Ring member 83 1 and sealing plate 83
And it is fixed to the hermetically to each other in a state sandwiching the insulator 83 2. Thus, by the insulator 83 2, and it is configured such that the sealing plate 83 third chamber 21 and the bellows 80 lower end is electrically insulated.
【００３９】チャンバ２１底面の挿通孔２６内とベロー
ズ８０内には、金属材料が中空円筒形状に成形されて成
る筒体７１が挿通されており、その筒体７１の下端部
は、リング部材８３1に固定されている。他方、筒体７
１の上端部には、金属材料が矩形平板形状に成形され、
中央に孔７６が設けられた板体７２が配置され、筒体７
１内周が孔７６外周に一致した状態で固定されており、
筒体７１と板体７２とで放電防止機構７０が構成されて
いる。A cylindrical body 71 formed by molding a metal material into a hollow cylindrical shape is inserted into the inside of the insertion hole 26 on the bottom surface of the chamber 21 and the inside of the bellows 80, and a lower end of the cylindrical body 71 is connected to a ring member 83. Fixed to 1 . On the other hand, the cylinder 7
At the upper end of 1, a metal material is formed into a rectangular plate shape,
A plate 72 provided with a hole 76 at the center is arranged, and
1 is fixed in a state where the inner circumference matches the outer circumference of the hole 76,
The cylinder 71 and the plate 72 constitute a discharge prevention mechanism 70.
【００４０】ベローズ８０下端部の封止板８３3には挿
入孔８６が設けられており、矩形形状の配置板６１を支
柱６２の上端部に取り付け、サセプタ６０を構成した状
態で、支柱６２の下端部６３側を孔７６から筒体７１内
に挿通する際、その下端部６３を挿入孔８６内に挿通
し、下方に突出させる。[0040] The sealing plate 83 third bellows 80 lower end is provided with the insertion hole 86, the mounting arrangement plate 61 of rectangular shape on the upper end of the column 62, while constituting the susceptor 60, the struts 62 When the lower end 63 is inserted into the cylindrical body 71 from the hole 76, the lower end 63 is inserted into the insertion hole 86 and protruded downward.
【００４１】下端部６３の先端部分６４はＤ字形状に成
形されており、封止板８３3から突出した先端部分６４
を、上述のプレート２のＤ字形状の挿入孔６内に挿入
し、サセプタ６０を回転させて放電防止機構７０に対し
て相対的な位置合わせを行う。このとき、プレート２は
サセプタ６０と一緒に回転し、位置決めがされたところ
で、絶縁物６８を介して板体７２上に配置板６１を配置
すると共に、プレート２を封止板８３3にねじ止め固定
し、先端部分６４にナット３５を装着し、サセプタ６０
と放電防止機構７０とが非接触且つ近接配置された状態
で固定する。この状態では、サセプタ６０と放電防止機
構７０とは、絶縁物８３3、６８によって互いに絶縁さ
れている。The distal end portion 64 of the lower portion 63 is formed into a D-shape, the tip portion 64 protruding from the sealing plate 83 3
Is inserted into the D-shaped insertion hole 6 of the plate 2 described above, and the susceptor 60 is rotated to perform relative positioning with respect to the discharge prevention mechanism 70. In this case, the plate 2 is rotated along with the susceptor 60, at which the positioning, screwing together, the plate 2 to the sealing plate 83 3 arranging the placement plate 61 on the plate body 72 through an insulator 68 After fixing, the nut 35 is attached to the tip portion 64 and the susceptor 60 is fixed.
And the discharge prevention mechanism 70 are fixed in a state where they are not in contact with each other and are arranged in close proximity. In this state, the susceptor 60 and the discharge prevention mechanism 70 are insulated from each other by the insulators 83 3 and 68.
【００４２】チャンバ２１を接地電位に置き、真空槽２
０内を真空雰囲気にし、サセプタ６０に電圧を印加する
場合、サセプタ６０周囲に放電防止機構７０が設けられ
ていないと、サセプタ６０とチャンバ２１との間に放電
が生じてしまうが、このプラズマＣＶＤ装置１'では、
放電防止機構７０がサセプタ６０に近接配置され、接地
電位に置かれているので、真空槽２０内を真空雰囲気に
し、サセプタ６０に電圧を印加してもその間には放電は
発生せず(パッシェン則)、プラズマＣＶＤ反応を行って
配置板６１上の基板４０表面に薄膜を形成する際、サセ
プタ６０に交流又は直流電圧を印加し、形成される薄膜
の膜質を向上させることができる。The chamber 21 is set at the ground potential and the vacuum chamber 2
When a voltage is applied to the susceptor 60 by setting the inside of the susceptor 60 to a vacuum atmosphere, a discharge occurs between the susceptor 60 and the chamber 21 unless the discharge prevention mechanism 70 is provided around the susceptor 60. In device 1 ',
Since the discharge prevention mechanism 70 is arranged close to the susceptor 60 and is placed at the ground potential, even if the vacuum chamber 20 is set in a vacuum atmosphere and a voltage is applied to the susceptor 60, no discharge occurs during that time (Paschen's law). 2.) When a thin film is formed on the surface of the substrate 40 on the arrangement plate 61 by performing a plasma CVD reaction, an AC or DC voltage can be applied to the susceptor 60 to improve the film quality of the formed thin film.
【００４３】このように、サセプタ６０と放電防止機構
７０との位置決めが本発明のプレート２によって正確に
行われているので、サセプタ６０と放電防止機構７０と
が接触して短絡したり、サセプタ６０と放電防止機構７
０との間に形成される隙間の大きさがばらついて放電が
生じたりすることはない。As described above, since the positioning of the susceptor 60 and the discharge prevention mechanism 70 is accurately performed by the plate 2 of the present invention, the susceptor 60 and the discharge prevention mechanism 70 come into contact with each other to cause a short circuit or the susceptor 60. And discharge prevention mechanism 7
Discharge does not occur due to variation in the size of the gap formed between the gap.
【００４４】なお、上述のプレート２の挿入孔６と、支
柱１２、６２の先端部分１４、６４の横断面はＤ字形状
に成形したが、本発明はその形状に限定されるものでは
ない。支柱下端部の先端部分をプレートの挿入孔内に挿
入した場合、互いに嵌合し合い、支柱を回転させたとき
にプレートが一緒に回転できる形状であればよい。Although the cross section of the above-described insertion hole 6 of the plate 2 and the tip portions 14 and 64 of the columns 12 and 62 is formed in a D-shape, the present invention is not limited to this shape. When the tip of the lower end portion of the support is inserted into the insertion hole of the plate, any shape may be used as long as it fits together and the plate can rotate together when the support is rotated.
【００４５】以上は、本発明のサセプタ取付方法とサセ
プタ固定用のプレート２を、プラズマＣＶＤ装置１、
１'に適用した場合について説明したが、本発明を適用
できるのは、ＣＶＤ装置に設けるサセプタに限定される
ものではない。例えばスパッタリング装置や蒸着装置の
他、エッチング装置等の種々の真空処理装置内にサセプ
タを取り付ける際に用いることが可能である。要する
に、本発明は、真空槽内で位置決めを行う必要があり、
ベローズを介して上下移動するサセプタに広く適用する
ことができる。In the above, the susceptor mounting method and the susceptor fixing plate 2 of the present invention are connected to the plasma CVD apparatus 1,
Although the case where the present invention is applied to 1 ′ has been described, the present invention is not limited to a susceptor provided in a CVD apparatus. For example, it can be used when the susceptor is mounted in various vacuum processing apparatuses such as an etching apparatus in addition to a sputtering apparatus and a vapor deposition apparatus. In short, the present invention requires positioning in a vacuum chamber,
The present invention can be widely applied to a susceptor moving up and down via a bellows.
【００４６】[0046]
【発明の効果】サセプタの取り付け作業が容易になる。
位置決めをするための真空槽の加工や、位置決めのため
の特別な治具が不要になる。The work of mounting the susceptor becomes easy.
The processing of the vacuum chamber for positioning and the special jig for positioning are not required.
【図１】(ａ)、(ｂ)：本発明の真空処理装置の一例1 (a) and 1 (b): An example of a vacuum processing apparatus of the present invention.
【図２】(ａ)：本発明のサセプタ固定用プレートの一例
の斜視図 (ｂ)：そのＩ−Ｉ線截断面図 (ｃ)：支柱先端部を挿入した状態を示す図2A is a perspective view of an example of a susceptor fixing plate of the present invention. FIG. 2B is a sectional view taken along a line II of FIG. 2C. FIG.
【図３】本発明の他の真空処理装置の例FIG. 3 shows an example of another vacuum processing apparatus of the present invention.
【図４】(ａ)、(ｂ)：従来技術のサセプタ取付方法を説
明するための図FIGS. 4A and 4B are diagrams for explaining a conventional susceptor mounting method.
１、１'……真空処理装置 ２……プレート ６……
挿入孔 １０、６０……サセプタ １１、６１……
配置板 １２、７２……支柱 ２０、６０……真空
槽 １４、６４……先端部 ２６、７６……挿通孔
３０……ベローズ ３３、８３3……封止板
４０……処理対象物1, 1 '... vacuum processing device 2 ... plate 6 ...
Insertion holes 10, 60 ... Susceptor 11, 61 ...
Arrangement plate 12, 72 Support column 20, 60 ... Vacuum tank 14, 64 ... Tip 26, 76 ... Insertion hole 30 ... Bellows 33, 83 3 ... Seal plate
40 ... Processing target
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新井 進 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 黒川 邦明 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Susumu Arai, 2500 Hagizono, Hagizono, Chigasaki, Kanagawa Prefecture, Japan Inside (72) Kuniaki Kurokawa, 2500 Hagizono, Hagizono, Chigasaki, Kanagawa, Japan Vacuum Engineering Co., Ltd.
Claims (6)
理対象物を配置する配置板とを有するサセプタの前記配
置板を真空槽内に配置し、 前記真空槽内の真空雰囲気を維持したまま、前記サセプ
タを上下移動できるように取り付けるサセプタ取付方法
であって、 前記真空槽に挿通孔を設け、内部が前記挿通孔と連通し
た状態で前記真空槽外部にベローズを配置し、その上端
部を前記真空槽に気密に固定し、 前記支柱を前記挿通孔内と前記ベローズ内に挿通し、前
記サセプタの位置決めを行った後、 前記ベローズ下端部を封止する封止板に、前記支柱の下
端部を気密に固定することを特徴とするサセプタ取付方
法。1. A susceptor arrangement plate having a support and a support plate fixed to an upper end of the support and on which an object to be processed is disposed is disposed in a vacuum chamber, and a vacuum atmosphere in the vacuum chamber is maintained. A susceptor mounting method for mounting the susceptor such that the susceptor can be moved up and down, wherein an insertion hole is provided in the vacuum tank, and a bellows is arranged outside the vacuum tank in a state where the inside communicates with the insertion hole. Is fixed to the vacuum chamber in an airtight manner, the support is inserted through the insertion hole and the bellows, and after the susceptor is positioned, a sealing plate for sealing the lower end of the bellows is provided. A susceptor mounting method, wherein the lower end is hermetically fixed.
ートを配置し、 前記支柱の下端部の先端部分を前記封止板から外部に突
出させて前記プレートに設けられた挿入孔内に挿入し、 前記プレートを前記封止板に固定して前記サセプタの取
り付けを行う請求項１記載のサセプタ取付方法であっ
て、 前記突出した先端部分の横断面形状を非円形に成形し、 前記プレートの挿入孔を前記先端部分と嵌合する形状に
成形し、 前記サセプタの位置決めを行う際に、固定する前は、前
記支柱と前記プレートとを一緒に回転させることを特徴
とするサセプタ取付方法。2. A plate is disposed on the outer side of the bellows of the sealing plate, and a distal end portion of a lower end portion of the post is protruded outside from the sealing plate to be inserted into an insertion hole provided in the plate. The susceptor mounting method according to claim 1, wherein the susceptor is mounted by fixing the plate to the sealing plate, wherein a cross-sectional shape of the protruding tip portion is formed into a non-circular shape. A method of mounting a susceptor, comprising: forming an insertion hole into a shape that fits into the tip portion; and rotating the support and the plate together before fixing the susceptor when positioning the susceptor.
られるサセプタ固定用のプレートであって、 該プレートが有する貫通孔にねじを挿通して前記封止板
に固定する際、 前記貫通孔は遊びを持つように構成されたことを特徴と
するプレート。3. A susceptor fixing plate used in the susceptor mounting method according to claim 2, wherein a screw is inserted into a through hole of the plate to fix the susceptor to the sealing plate. A plate characterized by having play.
前記軸と嵌合するように構成された挿入孔と、 ねじを挿入すべき貫通孔とを有するプレートであって、 前記貫通孔は、前記ねじを挿通させたときに、遊びを持
つように構成されたことを特徴とするプレート。4. When a shaft having a non-circular cross section is inserted,
A plate having an insertion hole configured to be fitted with the shaft, and a through hole into which a screw is to be inserted, wherein the through hole has a play when the screw is inserted. A plate characterized by being made.
プタと、前記真空槽に設けられた挿通孔と内部が連通し
た状態で前記真空槽外部に設けられたベローズとを有す
る真空処理装置であって、 前記サセプタは、前記配置板が前記真空槽内に位置し、
前記支柱が前記挿通孔と前記ベローズ内に挿通された状
態で、前記サセプタの位置決めが行われた後、前記支柱
の下端部が前記ベローズ下端部を封止固定する封止板に
気密に固定され、前記サセプタが前記真空槽内の真空雰
囲気を維持したまま、上下移動できるように構成されて
いることを特徴とする真空処理装置。5. A vacuum processing apparatus comprising: a vacuum vessel, a susceptor having a support and an arrangement plate, and a bellows provided outside the vacuum vessel in a state where the inside of the vacuum vessel communicates with an insertion hole provided in the vacuum vessel. In the susceptor, the arrangement plate is located in the vacuum chamber,
In a state where the support is inserted into the insertion hole and the bellows, after the susceptor is positioned, the lower end of the support is airtightly fixed to a sealing plate for sealing and fixing the lower end of the bellows. A vacuum processing apparatus, wherein the susceptor is configured to be able to move up and down while maintaining a vacuum atmosphere in the vacuum chamber.
されたプレートを有し、 前記封止板から外部に突出された前記支柱の下端部の先
端部分が前記プレートに設けられた挿入孔内に挿入され
た後、前記プレートが前記封止板に固定された請求項５
記載の真空処理装置であって、 前記突出した先端部分の横断面形状は非円形に成形さ
れ、 前記プレートの挿入孔は前記先端部分と嵌合する形状に
成形され、 前記サセプタの位置決めを行う際に、固定する前は、前
記支柱と前記プレートとを一緒に回転させられるように
構成されたことを特徴とする真空処理装置。6. An insertion hole having a plate disposed on the outer side of the bellows of the sealing plate, wherein a tip end portion of a lower end portion of the pillar protruding outside from the sealing plate is provided in the plate. 6. The plate is fixed to the sealing plate after being inserted into the inside.
The vacuum processing apparatus according to claim 1, wherein a cross-sectional shape of the protruding tip portion is formed into a non-circular shape, an insertion hole of the plate is formed into a shape that fits with the tip portion, and the positioning of the susceptor is performed. Before fixing, the vacuum processing apparatus is configured to be able to rotate the support and the plate together.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5851897A JPH10237658A (en) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | Method for fitting suscepter, plate for fixing suscepter and vacuum treatment device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5851897A JPH10237658A (en) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | Method for fitting suscepter, plate for fixing suscepter and vacuum treatment device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10237658A true JPH10237658A (en) | 1998-09-08 |
Family
ID=13086660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5851897A Withdrawn JPH10237658A (en) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | Method for fitting suscepter, plate for fixing suscepter and vacuum treatment device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10237658A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020167380A (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-08 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． | Substrate processing apparatus |
-
1997
- 1997-02-26 JP JP5851897A patent/JPH10237658A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020167380A (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-08 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． | Substrate processing apparatus |
| CN111755313A (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-09 | Asm Ip私人控股有限公司 | Substrate processing apparatus |
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