JPH10224206A - Semiconductor integrated circuit and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and manufacture thereof

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JPH10224206A
JPH10224206A JP9027108A JP2710897A JPH10224206A JP H10224206 A JPH10224206 A JP H10224206A JP 9027108 A JP9027108 A JP 9027108A JP 2710897 A JP2710897 A JP 2710897A JP H10224206 A JPH10224206 A JP H10224206A
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JP
Japan
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transistor
logic circuit
circuit
threshold value
semiconductor integrated
Prior art date
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Application number
JP9027108A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tamemoto
博 爲本
Yuuki Kajikawa
祐希 鍛治川
Shigenori Imai
繁規 今井
Toshinori Omi
俊典 近江
Akio Kitade
秋夫 北出
Kazuo Taki
和男 瀧
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit that improves a noise margin of a path transistor(TR) logic circuit and a drop in an operating speed. SOLUTION: A buffer circuit 2 is provided to an input side of a path transistor(TR) logic circuit 1, and a buffer circuit 3 is provided to an output side of the path transistor(TR) logic circuit 1. Each of the buffer circuits 2, 3 is made up of a CMOS logic circuit. The path TR logic circuit 1 is provided with plural NMOS TRs 4, 5, 6,... and is made by connecting the NMOS TRs in series. A threshold of the NMOS TRs is set lower than that of the TRs of the buffer circuits 2, 3. Then an increase portion in a threshold voltage of the NMOS TRs 4, 5, 6,... due to a substrate effect is cancelled each other, and a noise margin and an operating speed are improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、MOSトランジ
スタによって構成される半導体集積回路に関し、特にC
MOS論理回路及びパストランジスタ論理回路が混在す
る半導体集積回路及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit composed of MOS transistors, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit including a MOS transistor.
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which a MOS logic circuit and a pass transistor logic circuit are mixed, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】CMOS論理回路においては、この論理
回路のデータが変化するとき、つまりPMOSトランジ
スタとNMOSトランジスタが切り替わるときに、直流
電流(以下貫通電流と称す)が流れており、この貫通電
流に基づく電力がその消費電力の大半を占める。
2. Description of the Related Art In a CMOS logic circuit, when data of the logic circuit changes, that is, when a PMOS transistor and an NMOS transistor are switched, a direct current (hereinafter referred to as a through current) flows. Based power accounts for the majority of its power consumption.

【0003】一方、近年に注目されているパストランジ
スタ論理回路においては、入力信号に応じて各伝送路を
切り替え、これらの伝送路の信号を選択的に伝達すると
言う構造であって、CMOS論理回路の貫通電流に相当
するものが存在せず、CMOS論理回路よりも消費電力
を大幅に低減することができる。
On the other hand, a pass transistor logic circuit, which has attracted attention in recent years, has a structure in which each transmission path is switched according to an input signal, and signals on these transmission paths are selectively transmitted. Does not exist, and the power consumption can be significantly reduced as compared with the CMOS logic circuit.

【0004】しかしながら、パストランジスタ論理回路
の場合は、複数のトランジスタを直列接続するので、基
板効果の影響を受け易い。すなわち、この基板効果と
は、トランジスタのソースと基板間の電圧が上昇する
と、これに伴って実効しきい値が高くなり、このトラン
ジスタから出力される信号のレベルが低下すると言うも
のであり、パストランジスタ論理回路の様に各トランジ
スタを直列接続すると、これらのうちには基板から離れ
るものがあって、このもののソースと基板間の電圧が大
きくなるので、その出力信号のレベルが基板効果によっ
て著しく低下する(丸善株式会社発行の「CMOS V
LSI回路設計の原理」のP33を参照)。
However, in the case of a pass transistor logic circuit, since a plurality of transistors are connected in series, the pass transistor logic circuit is easily affected by the body effect. In other words, the body effect means that when the voltage between the source and the substrate of the transistor increases, the effective threshold value increases with this, and the level of the signal output from the transistor decreases. When each transistor is connected in series like a transistor logic circuit, some of them are separated from the substrate, and the voltage between the source and the substrate increases, so that the level of the output signal is significantly reduced by the substrate effect. Suru ("CMOS V" issued by Maruzen Co., Ltd.
Principle of LSI Circuit Design ”on page 33).

【0005】例えば、図12に示す様なパストランジス
タ論理回路の場合、NMOSトランジスタ101のソー
スtg101にハイレベルの信号を加えると、ゲートtg101に
加えられるハイレベルの信号がドレインtd101に伝えら
れ、ここから出力される。この出力信号のレベルは、ト
ランジスタ101の実効しきい値電圧Vtnxだけ低下す
る。この様な出力信号のレベル低下は、次段のトランジ
スタでも同様に発生し、また後段になる程、トランジス
タのソースと基板間の電圧が上昇するので、先の基板効
果によってトランジスタの実効しきい値が高くなり、出
力信号のレベルが大幅に低下する。
For example, in the case of a pass transistor logic circuit as shown in FIG. 12, when a high level signal is applied to the source tg101 of the NMOS transistor 101, the high level signal applied to the gate tg101 is transmitted to the drain td101. Output from The level of this output signal decreases by the effective threshold voltage Vtnx of transistor 101. Such a decrease in the level of the output signal similarly occurs in the next-stage transistor, and the voltage between the source and the substrate of the transistor increases in the subsequent stage. And the level of the output signal is greatly reduced.

【0006】この様な出力信号レベルの低下を補うに
は、例えばCMOS論理回路からなるインバータ、ラッ
チ、センスアンプ等をパストランジスタ論理回路に付設
すれば良い(日経BP社発行の「低電力LSIの技術白
書」日経マイクロデバイス編P98〜104を参照)。
In order to compensate for such a decrease in the output signal level, for example, an inverter, a latch, a sense amplifier, etc. composed of a CMOS logic circuit may be added to the pass transistor logic circuit (refer to "Low-power LSI" published by Nikkei BP). Technical White Paper ”, Nikkei Microdevices, pp. 98-104).

【0007】また、基板効果を最小限にする為の方法と
して、パストランジスタ論理回路におけるトランジスタ
のしきい値を0Vまで下げる方法が提案されている
(『A 3.8ns CMOS 16x16-b Multiplier Using Compleme
tary Pass-Transistor-Logic』K.Yano 他 IEEE Journal
Of Solid-State Circuits.Vol125.No2.April1990P388-
395)。
As a method for minimizing the body effect, a method of lowering the threshold value of a transistor in a pass transistor logic circuit to 0 V has been proposed (“A 3.8 ns CMOS 16 × 16-b Multiplier Using Compleme”).
tary Pass-Transistor-Logic '' K.Yano and others IEEE Journal
Of Solid-State Circuits.Vol125.No2.April1990P388-
395).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の対処方法では、パストランジスタ論理回路の出力信
号のレベル低下を外部に付設されたCMOS論理回路に
よって補うだけであって、基板効果によって発生する該
パストランジスタ論理回路内部のノイズマージンの低下
を解決してはいない。
However, in the above-mentioned conventional method, the lowering of the level of the output signal of the pass transistor logic circuit is only compensated for by a CMOS logic circuit provided externally, and the above-mentioned problem is caused by the substrate effect. It does not solve the reduction in noise margin inside the pass transistor logic circuit.

【0009】例えば、図12のトランジスタ101のゲ
ートtg101加えられる信号を図13(a)に示す様なも
のとする。この図13(a)の信号の電圧がトランジス
タ101の実効しきい値電圧Vtnx(トランジスタ10
1のしきい値電圧Vt+基板効果によって発生するしき
い値電圧の増加分Vα)に達すると、このトランジスタ
101がオンとなって、図13(b)に示す信号が次段
のトランジスタ102に伝送される。
For example, assume that the signal applied to the gate tg101 of the transistor 101 in FIG. 12 is as shown in FIG. The voltage of the signal in FIG. 13A is the effective threshold voltage Vtnx of the transistor 101 (the transistor 10
1 (the threshold voltage Vt + the threshold voltage increase Vα caused by the body effect), the transistor 101 is turned on, and the signal shown in FIG. 13B is transmitted to the next transistor 102. Is done.

【0010】ここで、このパストランジスタ論理回路の
電源電圧をVddとし、ノイズレベルをVihとすると、ト
ランジスタ101の出力信号のノイズマージンは、電源
電圧Vddから実効しきい値VtnxとノイズレベルVihを
差し引いた値であって、次式(1)で表される。
Here, assuming that the power supply voltage of the pass transistor logic circuit is Vdd and the noise level is Vih, the noise margin of the output signal of the transistor 101 is obtained by subtracting the effective threshold Vtnx and the noise level Vih from the power supply voltage Vdd. And is expressed by the following equation (1).

【0011】 Vdd−Vtnx−Vih=Vdd−(Vt+Vα)−Vih …(1) この式(1)から明らかな様に、基板効果によるしきい
値電圧の増加分Vαが大きい程、ノイズマージンが低下
する。
Vdd−Vtnx−Vih = Vdd− (Vt + Vα) −Vih (1) As is apparent from the equation (1), the noise margin decreases as the threshold voltage increase Vα due to the substrate effect increases. I do.

【0012】この様なパストランジスタ論理回路内部の
ノイズマージンの低下は、このパストランジスタ論理回
路の外部に接続される従来のインバータ、ラッチ、セン
スアンプ等によって改善されることはない。
Such a decrease in the noise margin inside the pass transistor logic circuit is not improved by a conventional inverter, latch, sense amplifier, etc. connected outside the pass transistor logic circuit.

【0013】また、従来の対処方法では、基板効果によ
って発生するパストランジスタ論理回路内部のもう1つ
の問題、つまり動作速度の低下を解決してはいない。
Further, the conventional countermeasure does not solve another problem in the pass transistor logic circuit caused by the body effect, that is, a reduction in operation speed.

【0014】この動作速度の低下とは、パストランジス
タ論理回路の各トランジスタ間に発生するそれぞれの遅
延時間に起因し、これらの遅延時間の和として表され
る。
The decrease in the operation speed is caused by each delay time generated between the transistors of the pass transistor logic circuit, and is expressed as the sum of these delay times.

【0015】例えば、図13(a)の信号の立上時点t
1から図13(b)の信号の立上時点t2までの時間を各
トランジスタ101,102間の遅延時間とすると、こ
の遅延時間は、図13(a)の信号の電圧が実効しきい
値電圧Vtnxに達するまでの時間tnxと、各トランジス
タ101,102間の信号伝搬時間tdの和となる。これ
らのうちの前者の時間tnxは、図13(a)の信号の電
圧がトランジスタ101のしきい値電圧Vtに達するま
での時間thと、この信号の電圧が更にしきい値電圧Vt
から実効しきい値電圧Vtnxに達するまでの時間tαの
和である。したがって、この遅延時間は、次式(2)に
よって表される。
For example, the rising time t of the signal shown in FIG.
Assuming that the time from 1 to the rising time t2 of the signal in FIG. 13B is the delay time between the transistors 101 and 102, this delay time is determined by the voltage of the signal in FIG. It is the sum of the time tnx required to reach Vtnx and the signal propagation time td between the transistors 101 and 102. The former time tnx is a time th until the voltage of the signal in FIG. 13A reaches the threshold voltage Vt of the transistor 101, and the voltage of this signal further increases the threshold voltage Vt.
From the time t until the voltage reaches the effective threshold voltage Vtnx. Therefore, this delay time is represented by the following equation (2).

【0016】 tnx+td=(th+tα)+td …(2) この様な遅延時間は、複数のパストランジスタ論理回路
の度に発生するので、それぞれの遅延時間が積算される
と、最終段のトランジスタに入力される信号は、図13
(c)に示す様に非常に遅れることとなり、この遅れが
動作速度の大幅な低下となる。
Tnx + td = (th + tα) + td (2) Since such a delay time is generated for each of the plurality of pass transistor logic circuits, when the respective delay times are integrated, the delay time is input to the last transistor. The signal shown in FIG.
As shown in FIG. 3C, the operation is very delayed, and this delay significantly reduces the operation speed.

【0017】先の各時間th、tα、td のうちのいず
れが長くなっても、遅延時間が長くなる。例えば、時間
tαが長くなっても、遅延時間が長くなる。この時間t
αは、図13(a)の信号電圧がしきい値電圧Vtから
実効しきい値電圧Vtnxに達するまでの時間であって、
基板効果によるしきい値電圧の増加分Vαが大きい程、
この時間tαが長くなる。
Regardless of which of the preceding times th, tα, td becomes longer, the delay time becomes longer. For example, even if the time tα becomes longer, the delay time becomes longer. This time t
α is the time required for the signal voltage in FIG. 13A to reach the effective threshold voltage Vtnx from the threshold voltage Vt,
The larger the increase Vα of the threshold voltage due to the substrate effect,
This time tα becomes longer.

【0018】すなわち、パストランジスタ論理回路にお
いては、基板効果によって時間tαが長くなるので、各
トランジスタ間の遅延時間が長くなり、この論理回路の
動作速度が低下する。
That is, in the pass transistor logic circuit, the time tα becomes longer due to the body effect, so that the delay time between the transistors becomes longer, and the operation speed of this logic circuit decreases.

【0019】また、この様な課題を解決するために、前
述の0Vしきい値のトランジスタをパストランジスタ部
に適用する方法が提案されている。これにより基板効果
は、最小限に抑えられ、回路のノイズマージン及び遅延
時間の問題を解決することができる。しかしながら、パ
ストランジスタ部のしきい値を0Vとすることにより、
トランジスタのオフリーク電流が発生し、この結果パス
トランジスタ論理回路の特徴の一つである低消費電流動
作性能が劣化する。
Further, in order to solve such a problem, there has been proposed a method of applying the above-described 0V threshold voltage transistor to a pass transistor portion. As a result, the substrate effect can be minimized, and the problems of the noise margin and the delay time of the circuit can be solved. However, by setting the threshold value of the pass transistor portion to 0 V,
An off-leak current of the transistor occurs, and as a result, the low current consumption operation performance, which is one of the features of the pass transistor logic circuit, deteriorates.

【0020】そこで、この発明は、この様な従来技術の
課題を解決するものであって、パストランジスタ論理回
路のノイズマージンや動作速度の低下を改善しつつ、消
費電力を増加させない様な半導体集積回路及びその製造
方法を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention is to solve such a problem of the prior art, and it is intended to improve the noise margin and the operating speed of the pass transistor logic circuit while preventing the power consumption from increasing. It is an object to provide a circuit and a method for manufacturing the circuit.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は、 MOSトランジスタによって構成さ
れ、CMOS論理回路及びパストランジスタ回路が混在
する半導体集積回路において、パストランジスタ論理回
路のトランジスタのしきい値を該トランジスタのオフリ
ーク電流が問題とならない範囲内でCMOS論理回路の
トランジスタのしきい値よりも低くしている。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit comprising MOS transistors, in which a CMOS logic circuit and a pass transistor circuit coexist. The threshold value is set lower than the threshold value of the transistor of the CMOS logic circuit within a range where the off-leak current of the transistor does not matter.

【0022】この発明によれば、パストランジスタ論理
回路のトランジスタのしきい値は、CMOS論理回路の
トランジスタのしきい値よりも低い。この場合、パスト
ランジスタ論理回路を例えばNMOSトランジスタで構
成すれば、このトランジスタのハイレベル出力の低下を
防ぐので(PMOSトランジスタの場合はローレベル出
力の上昇を防ぐ)、ノイズマージンが高くなる。また、
パストランジスタ論理回路のトランジスタの出力は、そ
の入力のしきい値に速やかに達するので、従来の回路と
比較すると、各トランジスタ間で発生する遅延時間を短
縮することができ、論理回路の動作が速くなる。
According to the present invention, the threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is lower than the threshold value of the transistor of the CMOS logic circuit. In this case, if the pass transistor logic circuit is formed of, for example, an NMOS transistor, the high-level output of this transistor is prevented from lowering (in the case of a PMOS transistor, the low-level output is prevented from rising), so that the noise margin is increased. Also,
Since the output of the transistor of the pass transistor logic circuit quickly reaches the threshold value of its input, the delay time generated between each transistor can be reduced as compared with the conventional circuit, and the operation of the logic circuit can be performed faster. Become.

【0023】また、パストランジスタ論理回路の入出力
側に、CMOS論理回路からなるバッファ回路もしくは
ゲート回路を接続しても良い。この場合は、パストラン
ジスタ論理回路の入出力のレベルをCMOS論理回路に
よって補うことができる。
Further, a buffer circuit or a gate circuit composed of a CMOS logic circuit may be connected to the input / output side of the pass transistor logic circuit. In this case, the input / output level of the pass transistor logic circuit can be supplemented by the CMOS logic circuit.

【0024】更に、このとき、CMOSバッファ回路の
NMOSトランジスタのしきい値もパストランジスタ論
理回路と同等のしきい値まで下げることによって、この
バッファ回路の出力反転レベルを下げれば、より低電圧
での回路動作が可能になる。
Further, at this time, the threshold value of the NMOS transistor of the CMOS buffer circuit is also reduced to a threshold value equivalent to that of the pass transistor logic circuit. Circuit operation becomes possible.

【0025】これらのバッファ回路もしくはゲート回路
としては、パストランジスタ論理回路の非動作時に、こ
のパストランジスタ論理回路の信号経路を遮断する手段
を備えるものを用いれば、パストランジスタ論理回路内
の非導通トランジスタにオフ時のリーク電流が生じる場
合にも、回路に流れるリーク電流を抑制することができ
る。
If the buffer circuit or the gate circuit is provided with a means for interrupting the signal path of the pass transistor logic circuit when the pass transistor logic circuit is not operating, the non-conductive transistor in the pass transistor logic circuit can be used. In the case where a leakage current at the time of turning off occurs, the leakage current flowing through the circuit can be suppressed.

【0026】また、この半導体集積回路を製造するため
に、パストランジスタ論理回路のトランジスタのしきい
値をしきい値制御のためのイオン注入を行わないことに
よって設定し、CMOS論理回路のトランジスタのしき
い値をしきい値制御のためのイオン注入によって設定す
れば良い。
In order to manufacture this semiconductor integrated circuit, the threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is set by not performing ion implantation for controlling the threshold value. The threshold may be set by ion implantation for threshold control.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を添
付図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0028】図1は、この発明の半導体集積回路の一実
施形態を示している。この半導体回路では、パストラン
ジスタ論理回路1の入力側にバッファ回路2を設け、出
力側にもバッファ回路3を設けている。各バッファ回路
2,3は、CMOS論理回路からなる。
FIG. 1 shows an embodiment of the semiconductor integrated circuit of the present invention. In this semiconductor circuit, a buffer circuit 2 is provided on the input side of the pass transistor logic circuit 1, and a buffer circuit 3 is also provided on the output side. Each of the buffer circuits 2 and 3 is composed of a CMOS logic circuit.

【0029】パストランジスタ論理回路1は、複数のN
MOSトランジスタ4,5,6,…を備え、これらのNM
OSトランジスタを接続してなる。これらのNMOSト
ランジスタのしきい値Vtwは、CMOS論理回路である
各バッファ回路2,3の各トランジスタのしきい値Vtよ
りも低く設定されている。
The pass transistor logic circuit 1 includes a plurality of N
MOS transistors 4, 5, 6,...
An OS transistor is connected. The threshold value Vtw of these NMOS transistors is set lower than the threshold value Vt of each transistor of each of the buffer circuits 2 and 3 which are CMOS logic circuits.

【0030】なお、従来の半導体集積回路においては、
パストランジスタ論理回路のトランジスタのしきい値を
CMOS論理回路のトランジスタのものに一致させてい
た。
In a conventional semiconductor integrated circuit,
The threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is matched with that of the transistor of the CMOS logic circuit.

【0031】さて、バッファ回路2を通じて、NMOS
トランジスタ4のソースts4にハイレベルの信号を加え
ると、ゲートtg4に加えられるハイレベルの信号がドレ
インtd4に伝えられ、ここから出力される。
Now, through the buffer circuit 2, the NMOS
When a high-level signal is applied to the source ts4 of the transistor 4, the high-level signal applied to the gate tg4 is transmitted to the drain td4 and output therefrom.

【0032】このトランジスタ4のゲートtg4に加えら
れる信号を図2(a)に示す様なものとすると、この信
号がトランジスタ4の実効しきい値Vtnxw(トランジス
タ4のしきい値Vtw+基板効果によって発生するしきい
値電圧の増加分Vα)に達したときに、このトランジス
タ4がオンとなって、図2(b)に示す信号が次段のト
ランジスタ5に伝送される。
Assuming that the signal applied to the gate tg4 of the transistor 4 is as shown in FIG. 2A, this signal is generated by the effective threshold value Vtnxw of the transistor 4 (the threshold value Vtw of the transistor 4 + the substrate effect). When the threshold voltage increases (Vα), the transistor 4 is turned on, and the signal shown in FIG. 2B is transmitted to the transistor 5 in the next stage.

【0033】ここで、パストランジスタ論理回路1の電
源電圧をVddとし、ノイズレベルをVihとすると、トラ
ンジスタ4の出力信号のノイズマージンは、電源電圧V
ddから実効しきい値VtnxwとノイズレベルVihを差し引
いた値であって、次式(3)で表される。
Here, assuming that the power supply voltage of the pass transistor logic circuit 1 is Vdd and the noise level is Vih, the noise margin of the output signal of the transistor 4 is the power supply voltage Vd.
This is a value obtained by subtracting the effective threshold value Vtnxw and the noise level Vih from dd, and is represented by the following equation (3).

【0034】 Vdd−Vtnxw−Vih=Vdd−(Vtw+Vα)−Vih …(3) この式(3)と、従来のパストランジスタ論理回路内部
のトランジスタのノイズマージンを表す式(1)を比較
すると明らかな様に、両者の差は、この実施形態におけ
るトランジスタのしきい値Vtwと、従来のトランジスタ
のしきい値Vtにあり、 Vtw<Vtであるから、この実施
形態のトランジスタのノイズマージンは、従来のトラン
ジスタのノイズマージンよりも、Vt−Vtwだけ改善さ
れたことになる。
Vdd−Vtnxw−Vih = Vdd− (Vtw + Vα) −Vih (3) It is apparent from comparing this equation (3) with the equation (1) representing the noise margin of the transistor inside the conventional pass transistor logic circuit. Thus, the difference between the two is in the threshold value Vtw of the transistor in this embodiment and the threshold value Vt of the conventional transistor. Since Vtw <Vt, the noise margin of the transistor in this embodiment is This means that the noise margin of the transistor is improved by Vt-Vtw.

【0035】また、図2(a)の信号の立上時点t1か
ら図2(b)の信号の立上時点t2までの時間を各トラ
ンジスタ4,5間の遅延時間とすると、この遅延時間
は、図2(a)の信号の電圧が実効しきい値電圧Vtnxw
に達するまでの時間tnxwと、各トランジスタ4,5間の
信号伝搬時間tdの和となる。これらのうちの前者の時
間tnxwは、図2(a)の信号の電圧がトランジスタ4
のしきい値電圧Vtwに達するまでの時間thwと、この信
号の電圧が更にしきい値電圧Vtwから実効しきい値電圧
Vtnxwに達するまでの時間tαの和である。この遅延時
間を次式(4)に示す。
Assuming that the time from the rise time t1 of the signal in FIG. 2A to the rise time t2 of the signal in FIG. 2B is the delay time between the transistors 4 and 5, this delay time is , The voltage of the signal shown in FIG.
Is reached, and the signal propagation time td between the transistors 4 and 5 is the sum of the time tnxw and the signal propagation time td. During the former time tnxw, the signal voltage of FIG.
And the time tα until the voltage of this signal further increases from the threshold voltage Vtw to the effective threshold voltage Vtnxw. This delay time is shown in the following equation (4).

【0036】 tnxw+td=(thw+tα)+td …(4) この式(4)と、従来の各トランジスタ間の遅延時間を
表す式(2)を比較すると明らかな様に、両者の差は、
この実施形態における図2(a)の信号がトランジスタ
のしきい値電圧Vtwに達するまでの時間thwと、従来に
おける図13(a)の信号がトランジスタのしきい値V
tに達するまでの時間thにあり、 先に述べた様にVtw<
Vtであって、故にthw <thとなるから、この実施形態
の各トランジスタ間の遅延時間は、従来の各トランジス
タ間の遅延時間よりも、th−thwだけ短縮されたこと
になる。
Tnxw + td = (thw + tα) + td (4) As is clear from comparison between the equation (4) and the equation (2) representing the delay time between the conventional transistors, the difference between the two is as follows.
In this embodiment, the time thw until the signal of FIG. 2A reaches the threshold voltage Vtw of the transistor and the conventional signal of FIG.
time t until the time t is reached, and Vtw <
Since Vt, and therefore, thw <th, the delay time between the transistors in this embodiment is shorter than the conventional delay time between the transistors by th-thw.

【0037】この遅延時間の短縮は、遅延時間の発生毎
に成され、最終段のトランジスタに入力される信号は、
図2(c)に示す様なものとなる。この図2(c)の信
号と従来における図13(c)の信号を比較すれば明ら
かな様に、この実施形態の動作速度は、従来例と比較し
て、十分に改善される。
The reduction of the delay time is performed every time the delay time occurs, and the signal input to the last transistor is
The result is as shown in FIG. As is clear from comparison between the signal of FIG. 2C and the conventional signal of FIG. 13C, the operation speed of this embodiment is sufficiently improved as compared with the conventional example.

【0038】すなわち、この実施形態のパストランジス
タ論理回路1においては、トランジスタのしきい値電圧
Vtwを従来のトランジスタのしきい値電圧Vtよりも低
くして、基板効果によるしきい値電圧の増加分Vαを相
殺し、これによってノイズマージンや動作速度を改善し
ている。
That is, in the pass transistor logic circuit 1 of this embodiment, the threshold voltage Vtw of the transistor is made lower than the threshold voltage Vt of the conventional transistor, and the increase in the threshold voltage due to the body effect is obtained. Vα is canceled out, thereby improving the noise margin and the operation speed.

【0039】ところで、仮にCMOS論理回路のしきい
値をパストランジスタ論理回路と同様に低くすると、信
号変化時の貫通電流が増大してしまう。これに対して、
この発明では、CMOS論理回路からなる各バッファ回
路2,3の各トランジスタのしきい値をパストランジス
タ論理回路1の各トランジスタのものよりも大きな通常
の値に設定しているので、これらのバッファ回路2,3
にはリーク電流が流れ難い。
By the way, if the threshold value of the CMOS logic circuit is lowered similarly to the pass transistor logic circuit, the through current at the time of a signal change will increase. On the contrary,
In the present invention, the threshold value of each transistor of each of the buffer circuits 2 and 3 composed of a CMOS logic circuit is set to a normal value larger than that of each of the transistors of the pass transistor logic circuit 1. A few
It is difficult for a leak current to flow.

【0040】図7は、図1に示す各バッファ回路2,3
の構成を例示しており、この回路構成が両者の回路2,
3に共通している。この回路では、パストランジスタ論
理回路から、劣化したハイレベルの信号を入力すると、
PMOSトランジスタ25によって該信号のレベルを回
復し、この信号を各バッファ回路23,24を介して次
段へ出力している。
FIG. 7 shows each of the buffer circuits 2, 3 shown in FIG.
This circuit configuration is the circuit 2 of both,
3 are common. In this circuit, when a degraded high-level signal is input from the pass transistor logic circuit,
The level of the signal is recovered by the PMOS transistor 25, and the signal is output to the next stage through the buffer circuits 23 and 24.

【0041】ただし、各バッファ回路2,3は、図7に
示す様な構成である必要はなく、通常のCMOS論理回
路であっても良い。また、各バッファ回路2,3は、異
なる回路構成であっても何等問題はない。
However, each of the buffer circuits 2 and 3 does not need to have a configuration as shown in FIG. 7, but may be a normal CMOS logic circuit. There is no problem even if the buffer circuits 2 and 3 have different circuit configurations.

【0042】また、図3には、パストランジスタ論理回
路のしきい値が低く、オフ時のリーク電流が流れる場合
に有効なバッファ回路の構成を示す。ここでは、信号を
入力トランジスタ11を介して入力し、この信号を第1
及び第2バッファ回路12,13によって2回だけ反転
して元に戻しから、この信号を出力している。
FIG. 3 shows a configuration of a buffer circuit that is effective when the threshold value of the pass transistor logic circuit is low and a leakage current at the time of off flows. Here, a signal is input through the input transistor 11, and this signal is input to the first transistor.
This signal is output after being inverted twice by the second buffer circuits 12 and 13 and restored.

【0043】第1バッファ回路12の反転出力は、イン
バータ14の反転入力となり、このインバータ14の出
力を第1バッファ回路12に入力している。これによっ
て、第1バッファ回路12から出力される信号のレベル
が保持され、これに伴って第2バッファ回路13の出力
信号のレベルも保持される。
The inverted output of the first buffer circuit 12 is the inverted input of the inverter 14, and the output of the inverter 14 is input to the first buffer circuit 12. As a result, the level of the signal output from the first buffer circuit 12 is held, and accordingly, the level of the output signal of the second buffer circuit 13 is also held.

【0044】入力トランジスタ11及び出力トランジス
タ15は、CTRLレベルに応じて切り替えられ、信号を伝
搬するときには、これらの入力トランジスタ11及び出
力トランジスタ15がオンとなり、第1及び第2バッフ
ァ回路12,13によって該信号のレベルが保持される
と、これらの入力トランジスタ11及び出力トランジス
タ15がオフに切り替えられ、各バッファ回路2,3が
パストランジスタ論理回路1から切り離される。
The input transistor 11 and the output transistor 15 are switched according to the CTRL level. When transmitting a signal, the input transistor 11 and the output transistor 15 are turned on, and the first and second buffer circuits 12 and 13 turn on the input transistor 11 and the output transistor 15. When the level of the signal is held, the input transistor 11 and the output transistor 15 are turned off, and the buffer circuits 2 and 3 are disconnected from the pass transistor logic circuit 1.

【0045】この様な構成の各バッファ回路2,3をパ
ストランジスタ論理回路1の入出力側に接続すれば、こ
のパストランジスタ論理回路1のデータが変化しないと
き、つまり非動作時には、このパストランジスタ論理回
路1が信号伝達経路から切り離されるので、この論理回
路1のリーク電流を完全に遮断することができる。
If the buffer circuits 2 and 3 having such a configuration are connected to the input / output side of the pass transistor logic circuit 1, when the data of the pass transistor logic circuit 1 does not change, that is, when the pass transistor logic circuit is not operating, this pass transistor Since the logic circuit 1 is disconnected from the signal transmission path, the leakage current of the logic circuit 1 can be completely cut off.

【0046】また、パストランジスタ論理回路1のリー
ク部分には、電源もしくは接地電位が直結されることが
ある。この場合には、図3のトランジスタ15に相当す
るNMOSトランジスタを電源電位もしくは接地電位と
第1段のパストランジスタの間に挿入することで、リー
ク電流を遮断することができる。
In some cases, a power supply or a ground potential is directly connected to a leak portion of the pass transistor logic circuit 1. In this case, the leakage current can be cut off by inserting an NMOS transistor corresponding to the transistor 15 of FIG. 3 between the power supply potential or the ground potential and the first-stage pass transistor.

【0047】また、パストランジスタ論理回路1の各ト
ランジスタとして、ディプリージョンタイプトランジス
タを適用することが可能となる。このディプリージョン
タイプトランジスタの場合は、信号経路を低抵抗と高抵
抗に切り替え、これによって信号の伝達と遮断を行う。
Further, it is possible to use a depletion type transistor as each transistor of the pass transistor logic circuit 1. In the case of this depletion type transistor, the signal path is switched between a low resistance and a high resistance, thereby transmitting and blocking a signal.

【0048】更に、パストランジスタ論理回路1におい
て、第1段のNMOSトランジスタ4から最終段のNM
OSトランジスタnまで有るとすると、第1段及び最終
段の各トランジスタ4,nのしきい値をCMOS論理回
路のトランジスタのものと同等に設定し、第2段から最
終段よりも1つ前の段までの各トランジスタ5〜(n−
1)のしきい値をCMOS論理回路のトランジスタのし
きい値より低くしても良い。これによって、信号変化時
に、第1段及び最終段の各トランジスタ4,nに流れる
貫通電流が低減するので、これに伴い、パストランジス
タ論理回路1の貫通電流も低減する。
Further, in the pass transistor logic circuit 1, the first stage NMOS transistor 4 is switched to the last stage NM
If there is an OS transistor n, the threshold values of the transistors 4 and n of the first and last stages are set to be equal to those of the transistors of the CMOS logic circuit, and the threshold values of the second stage and one stage before the last stage are set. Each of the transistors 5 to (n-
The threshold value of 1) may be lower than the threshold value of the transistor of the CMOS logic circuit. As a result, the through current flowing through the first and last transistors 4 and n at the time of a signal change is reduced, and accordingly, the through current of the pass transistor logic circuit 1 is also reduced.

【0049】この発明の半導体装置においては、先に述
べた様にパストランジスタ論理回路のトランジスタのし
きい値をCMOS論理回路のトランジスタのものよりも
低くしており、この点が従来の装置とは異なる。
In the semiconductor device of the present invention, as described above, the threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is lower than that of the transistor of the CMOS logic circuit, which is different from the conventional device. different.

【0050】また、前述の文献『A 3.8ns CMOS 16x16-b
……』によれば、トランジスタのしきい値を0Vとし
ているが、この場合、先に述べた様にトランジスタのオ
フリーク電流が問題となる。これに対して、この発明で
は、トランジスタのしきい値をオフリーク電流が流れな
い程度に低く設定することにより、消費電力の面におい
ての劣化なしに回路性能を改善することができる。
Also, the above-mentioned document “A 3.8ns CMOS 16x16-b
..], The threshold value of the transistor is set to 0 V. In this case, as described above, the off-leak current of the transistor becomes a problem. On the other hand, in the present invention, the circuit performance can be improved without deteriorating the power consumption by setting the threshold value of the transistor low enough to prevent the off-leak current from flowing.

【0051】このためには、例えばパストランジスタ論
理回路のトランジスタとして、ネイティブトランジスタ
(NativeTransister)を適用する方法が考えられる。
For this purpose, for example, a method of applying a native transistor (NativeTransister) as a transistor of a pass transistor logic circuit can be considered.

【0052】まず、一般的なNMOSトランジスタの断
面構造を図4に示す。ここでは、イオンノードの薄いP
フィールド16上で、ソース、ドレイン領域17にN型
のイオンを注入し、更にゲート18の下にあたるp領域
19には、トランジスタのしきい値を制御するために、
P型のイオンを注入する。
First, a cross-sectional structure of a general NMOS transistor is shown in FIG. Here, the thin P of the ion node
On the field 16, N-type ions are implanted into the source / drain regions 17, and further, a p-region 19 below the gate 18 is used to control the threshold value of the transistor.
P-type ions are implanted.

【0053】これに対して、ネイティブトランジスタで
は、図5に示す通り、ゲート18の下にP型イオンの注
入を行わない。これによって、このトランジスタのゲー
ト18の下は、P型イオンノードの薄い領域になるた
め、しきい値の低いトランジスタを実現することができ
る。
On the other hand, in the native transistor, as shown in FIG. 5, no P-type ions are implanted below the gate 18. As a result, the region under the gate 18 of this transistor is a thin region of the P-type ion node, so that a transistor having a low threshold value can be realized.

【0054】更に、しきい値を下げたトランジスタでオ
フ時のリーク電流が流れない場合には、後段のバッファ
回路の第1段のNMOSトランジスタもしきい値の低い
トランジスタを使用することによって、このバッファ回
路の入力反転レベルを下げることができ、この結果とし
てより低電圧での動作が可能となる。
Further, when the off-state leakage current does not flow in the transistor whose threshold value has been lowered, the first NMOS transistor of the buffer circuit of the succeeding stage is also formed of a transistor having a low threshold value. The input inversion level of the circuit can be reduced, and as a result, operation at a lower voltage is possible.

【0055】[0055]

【実施例】図6は、HSPICE評価によって、この発
明の効果を確認するために使用した半導体装置を示して
いる。ここでは、各バッファ回路21-1〜21-9と、各
パストランジスタ論理回路22-1〜22-8を交互に接続
している。
FIG. 6 shows a semiconductor device used to confirm the effects of the present invention by HSPICE evaluation. Here, the buffer circuits 21-1 to 21-9 and the pass transistor logic circuits 22-1 to 22-8 are connected alternately.

【0056】各バッファ回路21-1〜21-9は、図7に
示す様な構成であって、第1及び第2バッファ回路2
3,24とトランジスタ25からなり、その入力を保持
することができる。
Each of the buffer circuits 21-1 to 21-9 has a configuration as shown in FIG.
3, 24 and a transistor 25, and the input can be held.

【0057】なお、この回路では、パストランジスタ論
理回路を簡略化するために、全てのパストランジスタの
ソースを電源電位又は接地電位のいずれかに設定してい
るが、実際には、これらのソースには、前段のパストラ
ンジスタ論理回路が接続されており、これらの回路を伝
搬した信号が入力されることになる。
In this circuit, the sources of all the pass transistors are set to either the power supply potential or the ground potential in order to simplify the pass transistor logic circuit. Is connected to a pass transistor logic circuit at the preceding stage, and a signal propagated through these circuits is input.

【0058】HSPICE評価においては、従来通りに
各パストランジスタ論理回路22-1〜22-8のトランジ
スタのしきい値をCMOS論理回路のトランジスタのも
の(Pchトランジスタのしきい値を0.6V、Nch
トランジスタのしきい値を0.6V)と同一に設定した
場合と、この発明の実施例として、各パストランジスタ
論理回路22-1〜22-8のトランジスタのしきい値をC
MOS論理回路のトランジスタのものよりも低い0.2
Vに設定した場合とを比較した。
In the HSPICE evaluation, the threshold values of the transistors of the pass transistor logic circuits 22-1 to 22-8 are set to those of the transistors of the CMOS logic circuit (the threshold value of the Pch transistor is 0.6 V, Nch
The case where the threshold value of the transistor is set to be equal to 0.6 V) and the case where the threshold value of the transistor of each of the pass transistor logic circuits 22-1 to 22-8 is C
0.2 lower than that of the MOS logic circuit transistor
V was set.

【0059】この結果を図8、図9、図10及び図11
に示す。図8のグラフにおいては、この実施例と従来例
の消費電力を比較して示しており、この実施例の方が従
来例よりも消費電力が僅かに低い。このことは、リーク
電流が上昇していないことを示唆している。
The results are shown in FIGS. 8, 9, 10 and 11.
Shown in In the graph of FIG. 8, the power consumption of this embodiment is compared with that of the conventional example, and the power consumption of this embodiment is slightly lower than that of the conventional example. This suggests that the leak current has not increased.

【0060】図9のグラフにおいては、、立ち上がり遅
延時間を比較して示しており、この実施例の方が従来例
よりも立ち上がり時間が短く、電源電圧Vdd=2Vのと
きには63%の改善を果たすことができた。図10のグ
ラフにおいては、立ち下がり遅延時間を比較して示して
いる。
In the graph of FIG. 9, the rise delay time is shown in comparison, and the rise time of this embodiment is shorter than that of the conventional example, and when the power supply voltage Vdd = 2 V, the improvement is 63%. I was able to. The graph of FIG. 10 shows the fall delay time in comparison.

【0061】図11のグラフにおいては、ハイレベルの
信号電圧を比較しており、この実施例の方が従来例より
も信号電圧が高く、電源電圧Vdd=2Vのときには0.
38V上昇させることができた。
In the graph of FIG. 11, the high-level signal voltage is compared. In this embodiment, the signal voltage is higher than that of the conventional example.
38V could be raised.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明した様に、この発明によれば、
パストランジスタ論理回路のトランジスタのしきい値が
CMOS論理回路のトランジスタのしきい値よりも低
く、パストランジスタ論理回路のトランジスタの実効し
きい値が低く保たれるので、ノイズマージンを高くする
ことができる。また、パストランジスタ論理回路のトラ
ンジスタの出力は、その入力のしきい値に速やかに達す
るので、従来の回路と比較すると、各トランジスタの間
で発生する遅延時間を短縮することができ、論理回路の
動作が速くなる。
As described above, according to the present invention,
Since the threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is lower than the threshold value of the transistor of the CMOS logic circuit and the effective threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is kept low, the noise margin can be increased. . In addition, since the output of the transistor of the pass transistor logic circuit quickly reaches the threshold value of the input, the delay time generated between the transistors can be reduced as compared with the conventional circuit, and Moves faster.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の半導体集積回路の一実施形態を示す
回路図
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor integrated circuit of the present invention.

【図2】図1の回路における各信号を示しており、
(a)はトランジスタ4のゲート入力を示し、(b)は
トランジスタ5のソース入力を示し、(c)は最終段の
トランジスタの入力を示す
FIG. 2 shows each signal in the circuit of FIG. 1;
(A) shows the gate input of the transistor 4, (b) shows the source input of the transistor 5, and (c) shows the input of the last transistor.

【図3】図1の回路における各バッファ回路の構成を例
示する回路図
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating the configuration of each buffer circuit in the circuit of FIG. 1;

【図4】NMOSトランジスタを示す断面図FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an NMOS transistor.

【図5】ネイティブトランジスタを示す断面図FIG. 5 is a sectional view showing a native transistor.

【図6】この発明の効果を確認するために使用した半導
体装置を示す回路図
FIG. 6 is a circuit diagram showing a semiconductor device used for confirming the effect of the present invention.

【図7】図6の回路におけるバッファ回路の構成を示す
回路図
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a buffer circuit in the circuit of FIG. 6;

【図8】図6の回路における消費電力を示すグラフFIG. 8 is a graph showing power consumption in the circuit of FIG. 6;

【図9】図6の回路における立ち上がり遅延時間を示す
グラフ
FIG. 9 is a graph showing a rise delay time in the circuit of FIG. 6;

【図10】図6のグラフにおける立ち下がり遅延時間を
示すグラフ
FIG. 10 is a graph showing a fall delay time in the graph of FIG. 6;

【図11】図6のグラフにおけるハイレベルの信号電圧
を示すグラフ
FIG. 11 is a graph showing a high-level signal voltage in the graph of FIG. 6;

【図12】従来の半導体集積回路を例示する回路図FIG. 12 is a circuit diagram illustrating a conventional semiconductor integrated circuit;

【図13】図12の回路における各信号を示しており、
(a)はトランジスタ101のゲート入力を示し、
(b)はトランジスタ102のソース入力を示し、
(c)は最終段のトランジスタの入力を示す
FIG. 13 shows signals in the circuit of FIG. 12;
(A) shows the gate input of the transistor 101,
(B) shows the source input of the transistor 102,
(C) shows the input of the last transistor

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 パストランジスタ論理回路 2 バッファ回路 3 バッファ回路 4,5,6 NMOSトランジスタ 11 入力トランジスタ 12 第1バッファ回路 13 第2バッファ回路 14 トランジスタ Reference Signs List 1 pass transistor logic circuit 2 buffer circuit 3 buffer circuit 4, 5, 6 NMOS transistor 11 input transistor 12 first buffer circuit 13 second buffer circuit 14 transistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今井 繁規 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 近江 俊典 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 北出 秋夫 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 瀧 和男 兵庫県神戸市垂水区御霊町4−6 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Shigenori Imai 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Inside Sharp Corporation (72) Inventor Toshinori Omi 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Incorporated (72) Inventor Akio Kitade 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Within Sharp Corporation (72) Inventor Kazuo Taki 4-6 Oreimachi, Tarumizu-ku, Kobe, Hyogo Prefecture

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 MOSトランジスタによって構成され、
CMOS論理回路及びパストランジスタ回路が混在する
半導体集積回路において、 パストランジスタ論理回路のトランジスタのしきい値を
該トランジスタのオフリーク電流が問題とならない範囲
内でCMOS論理回路のトランジスタのしきい値よりも
低くした半導体集積回路。
1. A semiconductor device comprising: a MOS transistor;
In a semiconductor integrated circuit in which a CMOS logic circuit and a pass transistor circuit are mixed, the threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is lower than the threshold value of the transistor of the CMOS logic circuit within a range where the off-leak current of the transistor does not matter. Semiconductor integrated circuit.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体集積回路におい
て、 パストランジスタ論理回路の入出力側に、CMOS論理
回路からなるバッファ回路もしくはゲート回路を接続し
た半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a buffer circuit or a gate circuit composed of a CMOS logic circuit is connected to an input / output side of the pass transistor logic circuit.
【請求項3】 請求項2に記載の半導体集積回路におい
て、 バッファ回路もしくはゲート回路は、パストランジスタ
論理回路の非動作時に、このパストランジスタ論理回路
の信号経路を遮断する手段を備える半導体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the buffer circuit or the gate circuit includes means for cutting off a signal path of the pass transistor logic circuit when the pass transistor logic circuit is not operating.
【請求項4】 請求項2に記載の半導体集積回路におい
て、 パストランジスタ論理回路の出力段に配置される第1段
目のバッファ回路もしくはゲート回路のNMOSトラン
ジスタのしきい値を他のCMOS論理回路のしきい値よ
りも低くした半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the threshold value of the NMOS transistor of the first-stage buffer circuit or gate circuit disposed at the output stage of the pass transistor logic circuit is set to another CMOS logic circuit. Semiconductor integrated circuit whose threshold value is lower than the threshold value.
【請求項5】 請求項1に記載の半導体集積回路におい
て、 パストランジスタ論理回路の第1段及び最終段の各トラ
ンジスタのしきい値をCMOS論理回路のトランジスタ
のものと同等に設定し、このパストランジスタ論理回路
の第2段から最終段よりも1つ前の段までの各トランジ
スタのしきい値をCMOS論理回路のトランジスタのし
きい値より低くした半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the threshold values of the first and last transistors of the pass transistor logic circuit are set to be equal to those of the transistors of the CMOS logic circuit. A semiconductor integrated circuit in which the threshold value of each transistor from the second stage of the transistor logic circuit to the stage immediately before the last stage is lower than the threshold value of the transistor of the CMOS logic circuit.
【請求項6】 請求項1に記載の半導体集積回路を製造
するための製造方法において、 パストランジスタ論理回路のトランジスタのしきい値
は、しきい値制御のためのイオン注入を行わないことに
よって設定され、 CMOS論理回路のトランジスタのしきい値は、しきい
値制御のためのイオン注入によって設定される半導体集
積回路の製造方法。
6. The manufacturing method for manufacturing a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the threshold value of the transistor of the pass transistor logic circuit is set by not performing ion implantation for controlling the threshold value. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit, wherein a threshold value of a transistor of a CMOS logic circuit is set by ion implantation for controlling the threshold value.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011119672A (en) * 2009-10-29 2011-06-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device

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