JPH10206904A - Electrochromic element - Google Patents

Electrochromic element

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JPH10206904A
JPH10206904A JP9024336A JP2433697A JPH10206904A JP H10206904 A JPH10206904 A JP H10206904A JP 9024336 A JP9024336 A JP 9024336A JP 2433697 A JP2433697 A JP 2433697A JP H10206904 A JPH10206904 A JP H10206904A
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electrode
ultraviolet absorbing
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昌樹 南
Takeshi Asano
剛 朝野
Noboru Takaesu
昇 高江洲
Yoshinori Nishikitani
禎範 錦谷
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an electrochromic element having resistance against UV rays and durability for outdoor use by forming a UV-absorbing layer between a transparent substrate and a transparent electrode and by forming the UV- absorbing layer by applying and hardening a component prepared by the reaction of an aminosilane compd. and a UV-absorbent having carboxyl groups in the molecule to produce amides bond on the transparent substrate. SOLUTION: A transparent conductive substrate (A) comprising a transparent substrate 1a, a transparent electrode 2a located inside the substrate 1a, and a UV-absorbing layer 3 formed between them, and a transparent substrate (B) comprising a transparent substrate 1b and a transparent electrode 2b located inside the substrate 1b are disposed to face each other. Further, an electrochromic layer 4 is formed on the inner surface of the transparent electrode 2b of the transparent conductive substrate (B). An ionic conductive material 6 is held between the transparent substrate (A) and the transparent conductive substrate (B) with the electrochromic layer 4, and the layer of the ion conductive material 6 is sealed with a sealing agent. Thus, the electrochromic element can be produced at a low cost.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はエレクトロクロミッ
ク素子に関する。
[0001] The present invention relates to an electrochromic device.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロクロミック材料を用いた素子
は広く用途が期待されているが、従来のエレクトロクロ
ミック素子は屋外等紫外線の照射される環境下において
劣化し易いという欠点がある。これを防ぐためには、例
えばエレクトロクロミック素子を構成する基板の外側に
紫外線遮断層を設けることが提案されているが、美観、
耐磨耗性、耐久性等の点で満足しえるものではない。ま
た、エレクトロクロミック調光体は、通常一対の透明基
板間に一対の透明電極が配され、その間にエレクトロク
ロミック層と電解質層が配されており、紫外線遮断層を
透明電極の内側に設けることにより紫外線による劣化を
防ぐことが提案されている(特開昭62−148339
号公報、特開昭63−236016号公報)。この方法
によれば、デバイスを構成する透明基板の耐擦過性等に
影響を及ぼさない。しかし、紫外線遮断層を金属酸化物
により構成した場合(特開昭62−148339号公
報)には近紫外域を充分にカットすることができないた
め、紫外線劣化を十分に抑制することができないという
問題点がある。また、紫外線遮断層としてダイクロイッ
ク層を採用した場合(特開昭63−236016号公
報)には、何回もの成膜行程が必要となるため、コスト
的に不利になるという問題がある。
2. Description of the Related Art Devices using electrochromic materials are widely expected to be used, but conventional electrochromic devices have a drawback that they are liable to deteriorate in an environment where ultraviolet rays are irradiated such as outdoors. In order to prevent this, for example, it has been proposed to provide an ultraviolet shielding layer outside the substrate constituting the electrochromic element.
It is not satisfactory in terms of wear resistance and durability. In addition, the electrochromic dimmer generally has a pair of transparent electrodes disposed between a pair of transparent substrates, an electrochromic layer and an electrolyte layer are disposed therebetween, and an ultraviolet blocking layer is provided inside the transparent electrode. It has been proposed to prevent deterioration due to ultraviolet rays (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-148339).
JP-A-63-236016). According to this method, there is no effect on the scratch resistance and the like of the transparent substrate constituting the device. However, when the ultraviolet shielding layer is made of a metal oxide (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-148339), the near-ultraviolet region cannot be sufficiently cut, so that deterioration of ultraviolet radiation cannot be sufficiently suppressed. There is a point. Further, when a dichroic layer is employed as the ultraviolet shielding layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-236016), there is a problem that the film formation process is required many times, which is disadvantageous in cost.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、屋外
での使用に耐えうる耐紫外線性を有し、かつ安価に製造
できるエレクトロクロミック素子を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an electrochromic device which has ultraviolet resistance enough to be used outdoors and can be manufactured at low cost.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、少なく
とも内側面に電極を有する一対の対向導電基板と対向導
電基板の間に挟持して設けたイオン伝導物質と、導電基
板の内側面の電極およびイオン伝導性物質の間の少なく
とも一方に設けたエレクトロクロミック性物質を含む層
とを備えたエレクトロクロミック素子であり、前記対向
電極の少なくとも一方が透明基板およびこの透明基板の
内側に配置した透明電極を備える透明導電基板であり、
透明導電基板の少なくとも一方の透明基板と透明電極と
の間に紫外線吸収層を有し、該紫外線吸収層が、少なく
とも、(a)上記一般式(1)に示されるアミノシラン
化合物またはその誘導体(以下、「成分A」と称す)
と、(b)分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収
剤(以下「成分B」と称す)とを反応させ、前記アミノ
シラン又はその誘導体に由来するアミド結合を生成せし
めた成分を、透明基板の上に塗布、硬化することによっ
て作製されることを特徴とするエレクトロクロミック素
子が提供される。また、本発明によれば、前記紫外線吸
収層と透明導電膜の間にオーバーコート層を設けたこと
を特徴とするエレクトロクロミック素子が提供される。
According to the present invention, an ion conductive material sandwiched between a pair of opposing conductive substrates having electrodes on at least inner surfaces thereof and an inner surface of the inner surface of the conductive substrate are provided. A layer containing an electrochromic substance provided on at least one of an electrode and an ion-conductive substance, wherein at least one of the counter electrodes is a transparent substrate and a transparent substrate disposed inside the transparent substrate. A transparent conductive substrate provided with electrodes,
An ultraviolet absorbing layer is provided between at least one of the transparent conductive substrates and the transparent electrode, and the ultraviolet absorbing layer is formed of at least (a) an aminosilane compound represented by the general formula (1) or a derivative thereof (hereinafter, referred to as an aminosilane compound). , Referred to as “Component A”)
And (b) an ultraviolet absorber having a carboxyl group in the molecule (hereinafter referred to as “component B”), and a component that forms an amide bond derived from the aminosilane or a derivative thereof is placed on a transparent substrate. The present invention provides an electrochromic device characterized by being produced by coating and curing the same. Further, according to the present invention, there is provided an electrochromic device, wherein an overcoat layer is provided between the ultraviolet absorbing layer and the transparent conductive film.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明のエレクトロクロミック素
子は、少なくとも内側面に電極を有する一対の対向導電
基板と、イオン導電性物質と、エレクトロクロミック性
物質を含む層と、紫外線吸収層とにより基本的には構成
されている。本発明のエレクトロクロミック素子を構成
する対向導電基板は、少なくとも内側面に電極の機能を
有する基板であればよく、具体的には導電基板全体が電
極機能を有する材料により構成されたもの、基板と基板
の内側に配置した電極とを備えるもの等の何れであって
も良い。前記導電基板全体が電極機能を有する材料によ
り構成されたものの場合には、電極機能を有する材料と
して、鉄、銅、銀、アルミニウム、錫、鉛、金、亜鉛等
の金属の単体、またはこれらの各種合金等が挙げられ
る。前記基板と電極とを備える導電基板を採用する場合
の基板としては、平滑な面を有していれば特に限定はさ
れないが、一対の対向導電基板において少なくとも一方
の基板は透明基板であることが必須である。前記基板と
しては、具体的には、各種プラスチック、樹脂、ガラ
ス、木材、石材等を挙げることができる。また透明基板
は特に限定されず、例えば、無色あるいは有色ガラス、
強化ガラス等が用いられる他、無色あるいは有色の透明
性を有する樹脂でも良い。具体的には、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエー
テルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェ
ニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等が挙げられ
る。なお、本発明における透明とは、10〜100%の
透過率を有することであり、また、本発明における基板
は常温において平滑な面を有するものであり、その面は
平面あるいは曲面であってもよく、また応力によって変
形するものであってもよい。前記基板と電極を備える導
電基板を採用する場合の電極としては、本発明の目的を
果たすものである限り特に限定されないが、透明性を満
たすものが望ましく、前記一対の対向導電基板において
少なくとも一方を透明基板とした側の電極は透明電極と
する必要がある。また電極の形態は膜状または層状であ
ることが望ましい。前記電極としては例えば金、銀、ク
ロム、銅、タングステン等の金属薄膜、金属酸化物から
なる導電膜などが挙げられる。前記金属酸化物として
は、例えばITO(In2 3 - SnO2 )、酸化錫、
酸化銀、酸化亜鉛、酸化バナジウム等が挙げられる。電
極の膜厚は、通常100〜5000オングストローム、
好ましくは500〜3000オングストロームが望まし
い。また、表面抵抗(抵抗率)は、本発明の基板の用途
により適宜選択できるが、通常、0. 5〜500Ω/cm
2 、好ましくは1〜50Ω/cm2 が望ましい。前記電極
の形成法としては、特に限定されず、電極を構成する前
記金属および金属酸化物等の種類により適宜公知の方法
が選択できる。通常、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法あるいはゾルゲル法等で形成す
ることができる。何れの場合も、基板温度が通常100
〜350℃の範囲内で形成することが望ましい。また、
前記電極には、酸化還元能の付与、導電性の付与、電気
二重層容量の付与の目的で、部分的に不透明な電極活物
質を付与することもできる。この際電極として透明電極
を採用する場合には、電極面全体の透明性を満たす範囲
で付与する必要がある。不透明な電極活物質としては、
例えば、銅、銀、金、白金、鉄、タングステン、チタ
ン、リチウム等の金属、ポリアニリン、ポリチオフェ
ン、ポリピロール、フタロシアニンなどの酸化還元能を
有する有機物、活性炭、グラファイトなどの炭素材、V
2 5 、WO3 、MnO2 、NiO、Ir2 3 などの
金属酸化物またはこれらの混合物等を用いることができ
る。また、これらを電極に結着させるために、さらに各
種樹脂を用いても良い。この不透明な電極活物質等を電
極に付与するには、例えば、ITO透明電極上に、活性
炭繊維、グラファイト、アクリル樹脂等からなる組成物
をストライプ状等の微細パターンに形成したり、金(A
u)薄膜上に、V2 5 、アセチレンブラック、ブチル
ゴム等からなる組成物をメッシュ状に形成したりするこ
とができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The electrochromic device of the present invention is basically composed of a pair of opposing conductive substrates having electrodes on at least inner surfaces, an ionic conductive material, a layer containing the electrochromic material, and an ultraviolet absorbing layer. Is configured. The opposing conductive substrate constituting the electrochromic element of the present invention may be a substrate having an electrode function on at least the inner side surface.Specifically, the entire conductive substrate is formed of a material having an electrode function, Any of those including an electrode disposed inside the substrate may be used. In the case where the entire conductive substrate is formed of a material having an electrode function, as the material having an electrode function, iron, copper, silver, aluminum, tin, lead, gold, a simple substance of a metal such as zinc, or a material thereof. Various alloys are listed. When a conductive substrate including the substrate and the electrodes is adopted, the substrate is not particularly limited as long as it has a smooth surface, but at least one of the pair of opposed conductive substrates is a transparent substrate. Required. Specific examples of the substrate include various plastics, resins, glass, wood, and stone materials. The transparent substrate is not particularly limited, for example, colorless or colored glass,
In addition to using tempered glass or the like, a colorless or colored resin having transparency may be used. Specifically, polyethylene terephthalate, polyamide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyphenylenesulfide, polycarbonate, polyimide,
Examples include polymethyl methacrylate and polystyrene. The term “transparent” in the present invention means that the substrate has a transmittance of 10 to 100%, and the substrate in the present invention has a smooth surface at room temperature, and the surface may be flat or curved. Alternatively, it may be deformed by stress. The electrode in the case of employing a conductive substrate including the substrate and the electrode is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but it is preferable that the electrode satisfy transparency, and that at least one of the pair of opposed conductive substrates be used. The electrode on the transparent substrate side needs to be a transparent electrode. The form of the electrode is desirably a film or a layer. Examples of the electrode include a metal thin film such as gold, silver, chromium, copper, and tungsten, and a conductive film made of a metal oxide. Examples of the metal oxide include ITO (In 2 O 3 -SnO 2 ), tin oxide,
Silver oxide, zinc oxide, vanadium oxide, and the like can be given. The thickness of the electrode is usually 100 to 5000 angstroms,
Preferably, it is 500 to 3000 angstroms. Further, the surface resistance (resistivity) can be appropriately selected depending on the use of the substrate of the present invention, but is usually 0.5 to 500 Ω / cm.
2 , preferably 1 to 50 Ω / cm 2 . The method for forming the electrode is not particularly limited, and a known method can be appropriately selected depending on the types of the metal, metal oxide, and the like constituting the electrode. Usually, it can be formed by a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a sol-gel method, or the like. In either case, the substrate temperature is usually 100
It is desirable to form within the range of -350 ° C. Also,
The electrode may be provided with a partially opaque electrode active material for the purpose of imparting oxidation-reduction ability, imparting conductivity, and imparting electric double layer capacitance. In this case, when a transparent electrode is used as the electrode, it is necessary to provide the electrode within a range that satisfies the transparency of the entire electrode surface. As an opaque electrode active material,
For example, metals such as copper, silver, gold, platinum, iron, tungsten, titanium, and lithium, organic substances having redox ability such as polyaniline, polythiophene, polypyrrole, and phthalocyanine; carbon materials such as activated carbon and graphite;
Metal oxides such as 2 O 5 , WO 3 , MnO 2 , NiO, and Ir 2 O 3 or a mixture thereof can be used. Further, in order to bind them to the electrodes, various resins may be used. In order to apply the opaque electrode active material or the like to the electrode, for example, a composition comprising activated carbon fiber, graphite, acrylic resin, or the like is formed on the ITO transparent electrode in a fine pattern such as a stripe, or gold (A).
u) On the thin film, a composition comprising V 2 O 5 , acetylene black, butyl rubber and the like can be formed in a mesh shape.

【0006】本発明のエレクトロクロミック素子におい
て用いられるイオン伝導性物質は、前記対向導電基板の
間に挟持して設けられている。前記挟持して設ける方法
としては特に限定されず、真空注入法、大気注入法、メ
ニスカス法等によって対向導電基板の間に設けた間隙に
注入する方法や、スパッタリング法、蒸着法、ゾルゲル
法等によって導電基板の電極上にイオン伝導性物質の層
を形成した後、対向導電基板を合わせる方法やフィルム
状のイオン導電性物質を用いて合わせガラス化する方法
等を用いることができる。このイオン伝導性物質とは、
後述するエレクトロクロミック性物質を着色、消色、色
変化等をさせることができるものである限り特に限定さ
れないが、通常室温で1×10-7S/cm以上のイオン
伝導度を示す物質であるのが好ましい。イオン伝導性物
質としては、特に限定されなく、液系イオン伝導性物
質、ゲル化液系イオン伝導性物質あるいは固体系イオン
伝導性物質等を用いることができる。本発明において
は、特に固体系イオン伝導性物質が望ましい。前記液系
イオン導電性物質としては、溶媒に塩類、酸類、アルカ
リ類等の支持電解質を溶解したもの等を用いることがで
きる。前記溶媒としては、支持電解質を溶解できるもの
であれば特に限定されないが、特に極性をするものが好
ましい。具体的には水や、メタノール、エタノール、プ
ロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ジメチ
ルスルホキシド、ジメトキシエタン、アセトニトリル、
γ−ブチロラクトン、スルホラン、1、3ージオキサ
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、1,2−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフランなどの有機極性溶媒が挙
げられ、好ましくは、プロピレンカーボネート、エチレ
ンカーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエ
タン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、スルホラ
ン、1、3ージオキサン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフランな
どの有機極性溶媒が望ましい。これらは、使用に際して
単独もしくは混合物として使用できる。支持電解質とし
ての塩類は、特に限定されず、各種のアルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩などの無機イオン塩や4級アンモニ
ウム塩や環状4級アンモニウム塩などがあげられ、具体
的にはLiClO4 ,LiSCN,LiBF4 ,LiA
sF6 ,LiCF3 SO3 ,LiPF6 、LiI、Na
I,NaSCN,NaClO4 ,NaBF4 ,NaAs
6 ,KSCN,KCl等のLi,Na,Kのアルカリ
金属塩等や、(CH3 4 NBF4 ,(C2 5 4
BF4 ,(n−C4 9 4 NBF4 ,(C2 5 4
NBr,(C2 5 4 NClO4 ,(n−C4 9
4 NClO4 等の4級アンモニウム塩および環状4級ア
ンモニウム塩等、もしくはこれらの混合物が好適なもの
として挙げられる。支持電解質としての酸類は、特に限
定されず、無機酸、有機酸などが挙げられ、具体的には
硫酸、塩酸、リン酸類、スルホン酸類、カルボン酸類な
どが挙げられる。支持電解質としてのアルカリ類は、特
に限定されず、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウムなどが挙げられる。前記ゲル化液系イオン
伝導性物質としては、前記液系イオン伝導性物質に、さ
らにポリマーを含有させたり、ゲル化剤を含有させたり
して粘稠若しくはゲル状としたもの等を用いることがで
きる。前記ポリマーとしては、特に限定されず、例えば
ポリアクリロニトリル、カルボキシメチルセルロース、
ポリ塩化ビニル、ポリエチレンオキサイド、ポリウレタ
ン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアミ
ド、ポリアクリルアミド、セルロース、ポリエステル、
ポリプロピレンオキサイド、ナフィオンなどが挙げられ
る。前記ゲル化剤としては、特に限定されず、オキシエ
チレンメタクリレート、オキシエチレンアクリレート、
ウレタンアクリレート、アクリルアミド、寒天、などが
挙げられる。前記固体系イオン伝導性物質としては、室
温で固体であり、かつイオン導電性を有するものであれ
ば特に限定されず、ポリエチレンオキサイド、オキシエ
チレンメタクリレートのポリマー、ナフィオン、ポリス
チレンスルホン酸、Li3 N、Na- β- Al2 3
Sn(HPO4 2 ・H2 Oなどが挙げることができ、
特にオキシアルキレンメタクリレート系化合物、オキシ
アルキレンアクリレート系化合物またはウレタンアクリ
レート系化合物を重合することによって得られる高分子
化合物等を用いた高分子固体電解質が好ましい。
The ion conductive material used in the electrochromic device of the present invention is provided between the opposed conductive substrates. The method of sandwiching and providing is not particularly limited, and a vacuum injection method, an air injection method, a method of injecting into a gap provided between opposing conductive substrates by a meniscus method, or the like, a sputtering method, an evaporation method, a sol-gel method, or the like. After a layer of an ion conductive substance is formed on an electrode of a conductive substrate, a method of combining an opposing conductive substrate, a method of glass-forming using a film-shaped ion conductive substance, or the like can be used. This ion conductive substance is
The material is not particularly limited as long as it can color, decolor, and change the color of the electrochromic material described below, but is a material that generally exhibits an ionic conductivity of 1 × 10 −7 S / cm or more at room temperature. Is preferred. The ion conductive substance is not particularly limited, and a liquid ion conductive substance, a gelled liquid ion conductive substance, a solid ion conductive substance, or the like can be used. In the present invention, a solid ion conductive substance is particularly desirable. As the liquid-based ionic conductive substance, a substance obtained by dissolving a supporting electrolyte such as salts, acids, and alkalis in a solvent can be used. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the supporting electrolyte, but a polar solvent is particularly preferable. Specifically, water, methanol, ethanol, propylene carbonate, ethylene carbonate, dimethyl sulfoxide, dimethoxyethane, acetonitrile,
Organic polar solvents such as γ-butyrolactone, sulfolane, 1,3-dioxane, N, N-dimethylformamide, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and the like, preferably propylene carbonate, ethylene carbonate, dimethyl sulfoxide, dimethoxyethane, Organic polar solvents such as acetonitrile, γ-butyrolactone, sulfolane, 1,3-dioxane, N, N-dimethylformamide, 1,2-dimethoxyethane, and tetrahydrofuran are preferred. These can be used alone or as a mixture when used. Salts as a supporting electrolyte are not particularly limited, various alkali metal salts,
Examples thereof include inorganic ion salts such as alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts, and cyclic quaternary ammonium salts. Specific examples include LiClO 4 , LiSCN, LiBF 4 , and LiA.
sF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiPF 6 , LiI, Na
I, NaSCN, NaClO 4 , NaBF 4 , NaAs
F 6, KSCN, Li of KCl and the like, Na, alkali metal salts of K such or, (CH 3) 4 NBF 4 , (C 2 H 5) 4 N
BF 4 , (n-C 4 H 9 ) 4 NBF 4 , (C 2 H 5 ) 4
NBr, (C 2 H 5 ) 4 NClO 4 , (n-C 4 H 9 )
Suitable examples include quaternary ammonium salts such as 4 NCLO 4 and cyclic quaternary ammonium salts, and the like, and mixtures thereof. The acids as the supporting electrolyte are not particularly limited, and include inorganic acids and organic acids. Specific examples include sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acids, sulfonic acids, and carboxylic acids. The alkali as a supporting electrolyte is not particularly limited, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. As the gelled liquid ion-conductive substance, it is possible to use a viscous or gel-like substance obtained by further adding a polymer or a gelling agent to the liquid ion-conductive substance. it can. The polymer is not particularly limited, for example, polyacrylonitrile, carboxymethyl cellulose,
Polyvinyl chloride, polyethylene oxide, polyurethane, polyacrylate, polymethacrylate, polyamide, polyacrylamide, cellulose, polyester,
Examples include polypropylene oxide and Nafion. The gelling agent is not particularly limited, oxyethylene methacrylate, oxyethylene acrylate,
Urethane acrylate, acrylamide, agar, and the like. The solid ion conductive material is not particularly limited as long as it is a solid at room temperature and has ionic conductivity, and includes polyethylene oxide, a polymer of oxyethylene methacrylate, Nafion, polystyrene sulfonic acid, Li 3 N, Na-β-Al 2 O 3 ,
Sn (HPO 4 ) 2 .H 2 O and the like.
In particular, a polymer solid electrolyte using a polymer compound obtained by polymerizing an oxyalkylene methacrylate compound, an oxyalkylene acrylate compound, or a urethane acrylate compound is preferable.

【0007】前記高分子固体電解質の第1の例として
は、下記一般式(2)で示されるウレタンアクリレー
ト,前記有機極性溶媒,および前記支持電解質を含む組
性物(以下組成物Aと略す)を固化することにより得ら
れる高分子固体電解質が挙げられる。
[0007] As a first example of the solid polymer electrolyte, a composite material containing a urethane acrylate represented by the following general formula (2), the organic polar solvent, and the supporting electrolyte (hereinafter abbreviated as composition A): Solid polymer electrolyte obtained by solidifying the polymer.

【化2】 (式中R1 およびR2 は同一または異なる基であって、
一般式(3)〜(5)から選ばれる基を示す。R3 およ
びR4 は同一または異なる基であって、炭素数1〜2
0、好ましくは2〜12の2価炭化水素残基を示す。Y
はポリエーテル単位、ポリエステル単位、ポリカーボネ
ート単位またはこれらの混合単位を示す。またnは1〜
100、好ましくは1〜50、さらに好ましくは1〜2
0の範囲の整数を示す。)
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are the same or different groups,
It represents a group selected from general formulas (3) to (5). R 3 and R 4 are the same or different groups and each have 1 to 2 carbon atoms.
0, preferably 2 to 12 divalent hydrocarbon residues. Y
Represents a polyether unit, a polyester unit, a polycarbonate unit or a mixed unit thereof. N is 1 to
100, preferably 1 to 50, more preferably 1 to 2
Indicates an integer in the range of 0. )

【化3】 Embedded image

【化4】 Embedded image

【化5】 一般式(3)〜(5)に於いて、R5 〜R7 は同一また
は異なる基であって、水素原子または炭素数1〜3のア
ルキル基を示す。またR8 は炭素数1〜20の、好まし
くは炭素数2〜8の2〜4価有機残基を示す。かかる有
機残基としては、具体的には、アルキルトリル基、アル
キルテトラリル基、下記一般式(6)で示されるアルキ
レン基等の炭化水素残基が挙げられる。
Embedded image In the general formulas (3) to (5), R 5 to R 7 are the same or different groups and represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 8 represents a divalent to tetravalent organic residue having 1 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms. Specific examples of the organic residue include a hydrocarbon residue such as an alkyltolyl group, an alkyltetralyl group, and an alkylene group represented by the following general formula (6).

【化6】 一般式(6)に於いて、R9 は炭素数1〜3のアルキル
基または水素を示し、p は0〜6の整数を示す。pが2
以上の場合R9 は同一でも異なっても良い。また前記の
炭化水素残基は、水素原子の一部が炭素数1〜6、好ま
しくは1〜3のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリー
ルオキシ基などの含酸素炭化水素基により置換されてい
る基でもよい。一般式(3)〜(5)に於けるR8 とし
ては具体的には、 等を好ましく挙げることができる。一般式(3)〜
(5)に於けるR3 及びR4 で示される2価炭化水素残
基としては、鎖状2価炭化水素基、芳香族炭化水素基、
含脂環炭化水素基などが挙げられるが、鎖状2価炭化水
素基としては、先の一般式(6)で示されるアルキレン
基等を挙げることができる。また、前記芳香族炭化水素
基および含脂環炭化水素基としては、下記一般式(7)
〜(9)で示される炭化水素基等が挙げられる。
Embedded image In the general formula (6), R 9 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or hydrogen, and p represents an integer of 0 to 6. p is 2
In the above case, R 9 may be the same or different. In the above-mentioned hydrocarbon residue, a part of hydrogen atoms is substituted by an oxygen-containing hydrocarbon group such as an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. Group. As R 8 in the general formulas (3) to (5), specifically, And the like. General formula (3)-
The divalent hydrocarbon residue represented by R 3 and R 4 in (5) includes a chain divalent hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group,
Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group, and examples of the chain divalent hydrocarbon group include an alkylene group represented by the general formula (6). The aromatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group include the following general formula (7)
To (9).

【化7】 Embedded image

【化8】 Embedded image

【化9】 一般式(7)〜(9)に於いて、R10およびR11は同一
または異なる基であって、フェニレン基、置換フェニレ
ン基(アルキル置換フェニレン基等)、シクロアルキレ
ン基、置換シクロアルキレン基(アルキル置換シクロア
ルキレン基等)を示す。R12〜R15は同一または異なる
基であって、水素原子または炭素数1〜3のアルキル基
を示す。また、qは1〜5の整数を示す。一般式(2)
に於けるR3 およびR4 の具体例は、下記の一般式(1
0)〜(16)で例示できる。
Embedded image In the general formulas (7) to (9), R 10 and R 11 are the same or different groups and include a phenylene group, a substituted phenylene group (such as an alkyl-substituted phenylene group), a cycloalkylene group, and a substituted cycloalkylene group ( Alkyl-substituted cycloalkylene group). R 12 to R 15 are the same or different groups and represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Q represents an integer of 1 to 5. General formula (2)
Specific examples of R 3 and R 4 in the following general formula (1)
0) to (16).

【化10】 Embedded image

【化11】 Embedded image

【化12】 Embedded image

【化13】 Embedded image

【化14】 Embedded image

【化15】 Embedded image

【化16】 一般式(2)に於けるYはポリエーテル単位、ポリエス
テル単位およびポリカーボネート単位またはこれらの混
合単位を示すが、このポリエーテル単位、ポリエステル
単位、ポリカーボネート単位及びこれらの混合単位とし
ては、それぞれ下記の一般式(a)〜(d)で示される
単位を挙げることができる。
Embedded image In the general formula (2), Y represents a polyether unit, a polyester unit, a polycarbonate unit or a mixed unit thereof, and the polyether unit, the polyester unit, the polycarbonate unit and the mixed unit thereof are represented by the following general formulas, respectively. Examples include units represented by formulas (a) to (d).

【化17】 Embedded image

【化18】 Embedded image

【化19】 Embedded image

【化20】 一般式(a)〜(d)に於いて、R16〜R21は同一また
は異なる基であって、炭素数1〜20、好ましくは2〜
12の2価の炭化水素残基を示す。特にR19は炭素数2
〜6程度が好ましい。前記R16〜R21としては、直鎖ま
たは分岐のアルキレン基などが好ましく、具体的には、
18としてはメチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチ
レン基、プロピレン基等が好ましい。また、R16〜R17
およびR19〜R21としてはエチレン基、プロピレン基な
どが好ましい。また、mは2〜300、好ましくは10
〜200の整数を示す。また、rは1〜300、好まし
くは2〜200の整数、sは1〜200、好ましくは2
〜100の整数、tは1〜200、好ましくは2〜10
0の整数、uは1〜300、好ましくは10〜200の
整数を示す。また、一般式(a)〜(d)に於いて、各
単位は同一でも、異なる単位の共重合でも良い。即ち、
複数のR16〜R21が存在する場合、R16同志、R17
志、R18同志、R19同志、R20同志およびR21同志は同
一でも異なっても良い。前記共重合体の例としてはエチ
レンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合単位な
どが特に好適な例として挙げられる。前記一般式(2)
で示されるウレタンアクリレートの分子量は、2,50
0〜30,000、好ましくは3,000〜20,00
0が望ましい。前記ウレタンアクリレート1分子中の重
合官能基数は、好ましくは2〜6、さらに好ましくは2
〜4が望ましい。前記一般式(2)で示されるウレタン
アクリレートは、公知の方法により容易に製造すること
ができ、その製法は特に限定されるものではない。組成
物Aに含まれる有機極性溶媒としては、極性を有し支持
電解質を溶解できるものであれば限定されないが、具体
的には、プロピレンカーボネート,エチレンカーボネー
ト,ブチレンカーボネート,γ−ブチロラクトン,スル
ホラン,1,3−ジオキサン,N,N−ジメチルホルム
アミド,1,2−ジメトキシエタン,アセトニトリル,
テトラヒドロフラン,等の単独または2種以上の混合物
が好適なものとして挙げられる。有機極性溶媒(有機非
水溶媒)の添加量はウレタンアクリレート100重量部
に対して通常100〜1200重量部,好ましくは20
0〜900重量部%の割合である。有機非水溶媒の添加
量が少なすぎると,イオン伝導度も十分ではなく,また
有機非水溶媒の添加量が多すぎると機械強度が低下して
しまう場合がある。
Embedded image In the general formulas (a) to (d), R 16 to R 21 are the same or different groups and have 1 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms.
Shows 12 divalent hydrocarbon residues. In particular, R 19 has 2 carbon atoms.
About 6 is preferable. As R 16 to R 21 , a linear or branched alkylene group or the like is preferable, and specifically,
R 18 is preferably a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a propylene group, or the like. Also, R 16 to R 17
And R 19 to R 21 are preferably an ethylene group, a propylene group or the like. Also, m is 2 to 300, preferably 10
Shows an integer of ~ 200. Further, r is an integer of 1 to 300, preferably 2 to 200, and s is 1 to 200, preferably 2
An integer of -100, t is 1-200, preferably 2-10
U represents an integer of 0 to 300, preferably 10 to 200. In the general formulas (a) to (d), each unit may be the same or a copolymer of different units. That is,
When a plurality of R 16 to R 21 are present, R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20, and R 21 may be the same or different. Particularly preferred examples of the copolymer include a copolymerized unit of ethylene oxide and propylene oxide. The general formula (2)
The molecular weight of the urethane acrylate represented by
0 to 30,000, preferably 3,000 to 20,000
0 is desirable. The number of polymerizable functional groups in one molecule of the urethane acrylate is preferably 2 to 6, more preferably 2
~ 4 is desirable. The urethane acrylate represented by the general formula (2) can be easily produced by a known method, and the production method is not particularly limited. The organic polar solvent contained in the composition A is not limited as long as it has polarity and can dissolve the supporting electrolyte. Specifically, propylene carbonate, ethylene carbonate, butylene carbonate, γ-butyrolactone, sulfolane, 1 , 3-dioxane, N, N-dimethylformamide, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile,
A single compound or a mixture of two or more compounds such as tetrahydrofuran is mentioned as a preferable compound. The amount of the organic polar solvent (organic non-aqueous solvent) is usually 100 to 1200 parts by weight, preferably 20 to 100 parts by weight of urethane acrylate.
0 to 900 parts by weight. If the added amount of the organic non-aqueous solvent is too small, the ionic conductivity is not sufficient, and if the added amount of the organic non-aqueous solvent is too large, the mechanical strength may be reduced.

【0008】支持電解質としては、本発明の高分子固体
電解質の用途などその目的により適宜選択され、本発明
の目的を損なわない限り、特に限定されないが、先に例
示したものが好適なものとして挙げられる。添加量とし
ては有機非水溶媒に対し0.1〜30重量%好ましくは
1〜20重量%である。前記組成物Aは、基本的には前
記ウレタンアクリレート,有機非水溶媒(有機極性溶
媒),および支持電解質からなる基本成分を固化するこ
とにより得られるが、かかる組成物の任意成分として本
発明の目的を損なわないさらに別の成分を必要に応じて
加えることができ、係る任意成分としては、例えば架橋
剤や重合開始剤(光または熱)などが挙げられる。前記
第1の例の高分子固体電解質は、組成物Aを適宜公知の
方法により所望個所に注入した後、固化することにより
対向する導電基板の間に挟持させることができる。ここ
でいう固化とは、重合性または架橋性の成分などが、重
合(重縮合)や架橋の進行にともない硬化し、組成物全
体として常温において実質的に流動しない状態となるこ
とをいう。なお、この場合ネットワーク状の基本構造を
有する。
[0008] The supporting electrolyte is appropriately selected depending on its purpose such as the use of the polymer solid electrolyte of the present invention, and is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Can be The amount added is 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 20% by weight, based on the organic non-aqueous solvent. The composition A is basically obtained by solidifying a basic component consisting of the urethane acrylate, an organic non-aqueous solvent (organic polar solvent), and a supporting electrolyte. Further components that do not impair the purpose can be added as needed. Examples of such optional components include a crosslinking agent and a polymerization initiator (light or heat). The polymer solid electrolyte of the first example can be sandwiched between opposing conductive substrates by solidifying after injecting the composition A into a desired place by a known method as appropriate. The term “solidification” as used herein means that a polymerizable or crosslinkable component or the like hardens as polymerization (polycondensation) or crosslinking progresses, and the composition as a whole does not substantially flow at room temperature. In this case, it has a network-like basic structure.

【0009】また、前記高分子固体電解質の第2の例と
しては、下記一般式(17)で表される単官能アクリロ
イル変性ポリアルキレンオキシド,多官能アクリロイル
変性ポリアルキレンオキシド,有機極性溶媒、および前
記支持電解質を含む組性物(以下組成物Bと略す)を固
化することにより得られる高分子固体電解質が挙げられ
る。
Further, as a second example of the solid polymer electrolyte, monofunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide, polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide represented by the following general formula (17), an organic polar solvent, A solid polymer electrolyte obtained by solidifying a composite material containing a supporting electrolyte (hereinafter, abbreviated as composition B) is exemplified.

【化21】 (式中,R22,R23,R24およびR25は,各々水素また
は1〜5の炭素原子を有するアルキル基であり,nは1
以上の整数を示す) 一般式(17)に於いて、R22,R23,R24およびR25
は,各々水素または1〜5の炭素原子を有するアルキル
基であるが、そのアルキル基としては,メチル基,エチ
ル基,i-プロピル基,n-プロピル基,n-ブチル基,t-ブ
チル基,n-ペンチル基等が挙げられ、互いに同一でも異
なってもよく、特にR22は水素、メチル基、R23は水
素、メチル基、R24は水素、メチル基、R25は水素、メ
チル基、エチル基であることが好ましい。また,一般式
(17)のnは、1以上の整数、通常1≦n≦100、
好ましくは2≦n≦50、さらに好ましくは2≦n≦3
0の範囲の整数を示す。一般式(17)で示される化合
物としては、具体的には、オキシアルキレンユニットを
1〜100、好ましくは2〜50、さらに好ましくは1
〜20の範囲で持つメトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート,メトキシポリプロピレングリコールメタ
クリレート,エトキシポリエチレングリコールメタクリ
レート,エトキシポリプロピレングリコールメタクリレ
ート,メトキシポリエチレングリコールアクリレート,
メトキシポリプロピレングリコールアクリレート,エト
キシポリエチレングリコールアクリレート,エトキシポ
リプロピレングリコールアクリレート、またはこれらの
混合物等を挙げることができる。また、nが2以上の場
合、オキシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる
共重合オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、
例えば、オキシエチレンユニットを1〜50、好ましく
は1〜20の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニッ
トを1〜50、好ましくは1〜20の範囲で持つところ
の、メトキシポリ(エチレン・プロピレン)グリコール
メタクリレート,エトキシポリ(エチレン・プロピレ
ン)グリコールメタクリレート,メトキシポリ(エチレ
ン・プロピレン)グリコールアクリレート,エトキシポ
リ(エチレン・プロピレン)グリコールアクリレート、
またはこれらの混合物などが挙げられる。本発明で使用
可能な多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド
としては、一般式(18)で示される、いわゆる2官能
アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド及び一般式
(19)で表される、いわゆる3官能以上の多官能アク
リロイル変性ポリアルキレンオキシドなどが挙げられ
る。
Embedded image (Wherein, R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms;
In the general formula (17), R 22 , R 23 , R 24 and R 25
Is hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, each of which is a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group. , N-pentyl group and the like, which may be the same or different, and in particular, R 22 is hydrogen, methyl, R 23 is hydrogen, methyl, R 24 is hydrogen, methyl, R 25 is hydrogen, methyl And an ethyl group. Further, n in the general formula (17) is an integer of 1 or more, usually 1 ≦ n ≦ 100,
Preferably 2 ≦ n ≦ 50, more preferably 2 ≦ n ≦ 3
Indicates an integer in the range of 0. As the compound represented by the general formula (17), specifically, an oxyalkylene unit has 1 to 100, preferably 2 to 50, and more preferably 1 to 100.
Methoxy polyethylene glycol methacrylate, methoxy polypropylene glycol methacrylate, ethoxy polyethylene glycol methacrylate, ethoxy polypropylene glycol methacrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate having
Examples thereof include methoxy polypropylene glycol acrylate, ethoxy polyethylene glycol acrylate, ethoxy polypropylene glycol acrylate, and mixtures thereof. When n is 2 or more, oxyalkylene units may have different so-called copolymerized oxyalkylene units,
For example, methoxypoly (ethylene / propylene) glycol methacrylate having oxyethylene units in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20, and oxypropylene units in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20, Ethoxy poly (ethylene / propylene) glycol methacrylate, methoxy poly (ethylene / propylene) glycol acrylate, ethoxy poly (ethylene / propylene) glycol acrylate,
Or a mixture thereof. The polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide usable in the present invention includes a so-called bifunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide represented by the general formula (18) and a so-called trifunctional or higher polyalkylene oxide represented by the general formula (19). And functional acryloyl-modified polyalkylene oxide.

【化22】 (式中、R26、R27、R28およびR29は,各々水素また
は1〜5の炭素原子を有するアルキル基であり,mは1
以上の整数を示す。)
Embedded image Wherein R 26 , R 27 , R 28 and R 29 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m is 1
The following integers are shown. )

【化23】 (式中,R30,R31およびR32は,各々水素または1〜
5の炭素原子を有するアルキル基であり,pは1以上の
整数を示し,qは2〜4の整数であり,Lはq価の連結
基を示す) 前記一般式(18)において、式中のR26、R27、R28
およびR29は、各々水素または1〜5の炭素原子を有す
るアルキル基であるが、このアルキル基としては,メチ
ル基,エチル基,i-プロピル基,n-プロピル基,n-ブチ
ル基,t-ブチル基,n-ペンチル基等が挙げられる。特に
26は水素、メチル基、R27は水素、メチル基、R28
水素、メチル基、R29は水素、メチル基であることが好
ましい。また,一般式(18)中のmは,1以上の整
数、通常1≦m≦100、好ましくは2≦m≦50、さ
らに好ましくは2≦m≦30の範囲の整数を示すが、そ
うした化合物の具体例は、オキシアルキレンユニットを
1〜100、好ましくは2〜50、さらに好ましくは1
〜20の範囲で持つポリエチレングリコールジメタクリ
レート,ポリプロピレングリコールジメタクリレート,
ポリエチレングリコールジアクリレート,ポリプロピレ
ングリコールジメタクリレート、またはこれらの混合物
等を挙げることができる。また、mが2以上の場合、オ
キシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる共重合
オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、例え
ば、オキシエチレンユニットを1〜50、好ましくは1
〜20の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを
1〜50、好ましくは1〜20の範囲で持つところの、
ポリ(エチレン・プロピレン)グリコールジメタクリレ
ート,ポリ(エチレン・プロピレン)グリコールジアク
リレート、またはこれらの混合物などが挙げられる。一
般式(19)に於けるR30,R31およびR32は,各々水
素または1〜5の炭素原子を有するアルキル基である
が、このアルキル基としては,メチル基,エチル基,i-
プロピル基,n-プロピル基,n-ブチル基,t-ブチル基,
n-ペンチル基等が挙げられる。特にR30,R31およびR
32は水素、メチル基が好ましい。また,式中のpは,1
以上の整数、通常1≦p≦100、好ましくは2≦p≦
50さらに好ましくは2≦p≦30の範囲の整数を示す
ものである。qは連結基Lの連結数であり,2≦q≦4
の整数を示す。連結基Lとしては、通常、炭素数1〜3
0、好ましくは1〜20の二価、三価または四価の炭化
水素基である。二価炭化水素基としては、アルキレン
基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルア
リーレン基、またはこれらを基本骨格として有する炭化
水素基などが挙げられ、具体的には、 などが挙げられる。また、三価の炭化水素基としては、
アルキルトリル基、アリールトリル基、アリールアルキ
ルトリル基、アルキルアリールトリル基、またはこれら
を基本骨格として有する炭化水素基などが挙げられ、具
体的には などが挙げられる。また、四価の炭化水素基としては、
アルキルテトラリル基、アリールテトラリル基、アリー
ルアルキルテトラリル基、アルキルアリールテトラリル
基、またはこれらを基本骨格として有する炭化水素基な
どが挙げられ、具体的には 等が挙げられる。こうした化合物の具体例としては、オ
キシアルキレンユニットを1〜100、好ましくは2〜
50、さらに好ましくは1〜20の範囲で持つトリメチ
ロールプロパントリ(ポリエチレングリコールアクリレ
ート),トリメチロールプロパントリ(ポリエチレング
リコールメタクリレート),トリメチロールプロパント
リ(ポリプロピレングリコールアクリレート),トリメ
チロールプロパントリ(ポリプロピレングリコールメタ
クリレート),テトラメチロールメタンテトラ(ポリエ
チレングリコールアクリレート),テトラメチロールメ
タンテトラ(ポリエチレングリコールメタクリレー
ト),テトラメチロールメタンテトラ(ポリプロピレン
グリコールアクリレート),テトラメチロールメタンテ
トラ(ポリプロピレングリコールメタクリレート),
2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェ
ニル]プロパン,2,2−ビス[4−(メタクリロキシ
ポリエトキシ)フェニル]プロパン,2,2−ビス[4
−(アクリロキシポリイソプロポキシ)フェニル]プロ
パン,2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリイソプ
ロポキシ)フェニル]プロパン、またはこれらの混合物
等を挙げることができる。また、pが2以上の場合、オ
キシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる共重合
オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、例え
ば、オキシエチレンユニットを1〜50、好ましくは1
〜20の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを
1〜50、好ましくは1〜20の範囲で持つところの、
トリメチロールプロパントリ(ポリ(エチレン・プロピ
レン)グリコールアクリレート),トリメチロールプロ
パントリ(ポリ(エチレン・プロピレン)グリコールメ
タクリレート),テトラメチロールメタンテトラ(ポリ
(エチレン・プロピレン)グリコールアクリレート),
テトラメチロールメタンテトラ(ポリ(エチレン・プロ
ピレン)グリコールメタクリレート),またはこれらの
混合物などが挙げられる。もちろん、前記一般式(1
8)で示される2官能アクリロイル変性ポリアルキレン
オキシドと前記一般式(19)で表される3官能以上の
多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドを併用
してもよい。一般式(18)で示される化合物と一般式
(19)で示される化合物を併用する場合、その重量比
は通常0.01/99.9〜99.9/0.01、好ま
しくは1/99〜99/1、さらに好ましくは20/8
0〜80/20の範囲が望ましい。本発明に使用される
一般式(1)で示される化合物と多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシドの重量比は通常1/0.00
1〜1/1,好ましくは1/0.05〜1/0.5の範
囲である。前記極性有機溶媒の配合割合としては、一般
式(2)で示される化合物および多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシドの重量和に対して通常50〜
800重量%,好ましくは100〜500重量%の範囲
が望ましい。また、前記支持電解質の配合割合は,一般
式(2)で示される化合物,多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドおよび極性有機溶媒の重量和に対
して通常1〜30重量%,好ましくは3〜20重量%の
範囲である。前記組成物Bは、これらの各成分の他に、
任意成分として、本発明を損なわない限り、さらに別の
成分を必要に応じて加えることができる。任意成分とし
ては、特に限定されないが、光重合のための光重合開始
剤や熱重合するための熱重合開始剤等を挙げることがで
きる。本発明に使用される重合開始剤の使用量は,一般
式(1)で示される化合物および、多官能アクリロイル
変性ポリアルキレンオキシドの重量和に対して通常0.
005〜5重量%,好ましくは0.01〜3重量%の範
囲である。
Embedded image (Wherein R 30 , R 31 and R 32 are each hydrogen or 1 to
Is an alkyl group having 5 carbon atoms, p is an integer of 1 or more, q is an integer of 2 to 4, and L is a q-valent linking group. In the general formula (18), R 26 , R 27 , R 28
And R 29 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group; -Butyl group, n-pentyl group and the like. In particular, it is preferable that R 26 is hydrogen, methyl, R 27 is hydrogen, methyl, R 28 is hydrogen, methyl, and R 29 is hydrogen, methyl. In addition, m in the general formula (18) represents an integer of 1 or more, usually 1 ≦ m ≦ 100, preferably 2 ≦ m ≦ 50, more preferably 2 ≦ m ≦ 30. Is an oxyalkylene unit of 1 to 100, preferably 2 to 50, more preferably 1
Polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate having a range of
Examples thereof include polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, and mixtures thereof. When m is 2 or more, the oxyalkylene unit may have a so-called copolymerized oxyalkylene unit different from each other. For example, 1 to 50, preferably 1
Having an oxypropylene unit in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20,
Examples thereof include poly (ethylene / propylene) glycol dimethacrylate, poly (ethylene / propylene) glycol diacrylate, and mixtures thereof. R 30 , R 31 and R 32 in the general formula (19) are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group and an i-
Propyl group, n-propyl group, n-butyl group, t-butyl group,
and an n-pentyl group. In particular, R 30 , R 31 and R
32 is preferably hydrogen or a methyl group. Also, p in the equation is 1
Integer or more, usually 1 ≦ p ≦ 100, preferably 2 ≦ p ≦
50, more preferably an integer in the range of 2 ≦ p ≦ 30. q is the number of links of the linking group L, and 2 ≦ q ≦ 4
Indicates an integer. The linking group L usually has 1 to 3 carbon atoms.
0, preferably 1-20 divalent, trivalent or tetravalent hydrocarbon groups. Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an arylene group, an arylalkylene group, an alkylarylene group, and a hydrocarbon group having these as a basic skeleton.Specifically, And the like. Further, as a trivalent hydrocarbon group,
Examples thereof include an alkyltolyl group, an aryltolyl group, an arylalkyltolyl group, an alkylaryltolyl group, and a hydrocarbon group having these as a basic skeleton. And the like. Further, as a tetravalent hydrocarbon group,
Examples thereof include an alkyltetralyl group, an aryltetralyl group, an arylalkyltetralyl group, an alkylaryltetralyl group, and a hydrocarbon group having these as a basic skeleton. And the like. Specific examples of such a compound include an oxyalkylene unit of 1 to 100, preferably 2 to 100.
Trimethylolpropane tri (polyethylene glycol acrylate), trimethylol propane tri (polyethylene glycol methacrylate), trimethylol propane tri (polypropylene glycol acrylate), trimethylol propane tri (polypropylene glycol methacrylate) having a range of 50, more preferably 1 to 20 ), Tetramethylol methane tetra (polyethylene glycol acrylate), tetramethylol methane tetra (polyethylene glycol methacrylate), tetramethylol methane tetra (polypropylene glycol acrylate), tetramethylol methane tetra (polypropylene glycol methacrylate),
2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4
-(Acryloxypolyisopropoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxypolyisopropoxy) phenyl] propane, and mixtures thereof. When p is 2 or more, the oxyalkylene units may have so-called copolymerized oxyalkylene units different from each other. For example, 1 to 50, preferably 1
Having an oxypropylene unit in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20,
Trimethylolpropane tri (poly (ethylene / propylene) glycol acrylate), trimethylolpropane tri (poly (ethylene / propylene) glycol methacrylate), tetramethylolmethanetetra (poly (ethylene / propylene) glycol acrylate),
Tetramethylolmethanetetra (poly (ethylene propylene) glycol methacrylate), or a mixture thereof, and the like. Of course, the general formula (1)
The bifunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide represented by 8) may be used in combination with the trifunctional or higher polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide represented by the general formula (19). When the compound represented by the general formula (18) and the compound represented by the general formula (19) are used in combination, the weight ratio is usually 0.01 / 99.9 to 99.9 / 0.01, preferably 1/99. ~ 99/1, more preferably 20/8
The range of 0 to 80/20 is desirable. The weight ratio of the compound represented by the general formula (1) to the polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide used in the present invention is usually 1 / 0.00.
The range is 1 to 1/1, preferably 1 / 0.05 to 1 / 0.5. The mixing ratio of the polar organic solvent is usually 50 to 50% by weight of the compound represented by the general formula (2) and the polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide.
800% by weight, preferably in the range of 100 to 500% by weight. The mixing ratio of the supporting electrolyte is usually 1 to 30% by weight, preferably 3 to 20% by weight based on the weight of the compound represented by the general formula (2), the polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide and the polar organic solvent. % Range. The composition B contains, in addition to these components,
As an optional component, another component can be added as needed, as long as the present invention is not impaired. Examples of the optional component include, but are not particularly limited to, a photopolymerization initiator for photopolymerization and a thermal polymerization initiator for thermal polymerization. The amount of the polymerization initiator used in the present invention is usually 0.1 to the weight sum of the compound represented by the general formula (1) and the polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide.
005 to 5% by weight, preferably 0.01 to 3% by weight.

【0010】前記第2の例の高分子固体電解質は、組成
物Bを適宜公知の方法により所望個所に注入した後、固
化することにより対向する導電基板の間に挟持させるこ
とができる。ここでいう固化とは、重合性または架橋性
の成分、例えば単官能または多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドなどが、重合(重縮合)や架橋の
進行にともない硬化し、組成物全体として常温において
実質的に流動しない状態となることをいう。なお、この
場合、通常単官能または多官能アクリロイル変性ポリア
ルキレンオキシドはともににネットワーク状の基本構造
をとる。もちろん、本発明のイオン伝導性物質において
は、これらに限定されるものではない。
The solid polymer electrolyte of the second example can be sandwiched between opposing conductive substrates by solidifying the composition B after injecting the composition B into a desired place by a known method. The solidification here means that a polymerizable or crosslinkable component, such as a monofunctional or polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide, is cured as polymerization (polycondensation) or crosslinking proceeds, and the composition as a whole is substantially cured at room temperature. Means that the fluid does not flow. In this case, the monofunctional or polyfunctional acryloyl-modified polyalkylene oxide usually has a network-like basic structure. Of course, the ion conductive substance of the present invention is not limited to these.

【0011】本発明のエレクトロクロミック素子におい
ては、前記導電基板の内側面の電極および前記イオン導
電性物質の間の少なくとも一方にエレクトロクロミック
性物質を含む層を設けている。このエレクトロクロミッ
ク性物質とは、電気化学的な酸化、あるいは還元反応等
によって着色、消色、色変化などを示す物質であり、本
発明の目的を達するものである限り特に限定されない
が、Mo2 3 、Ir23 、NiO、V2 5 、WO
3 、ビオロゲン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ
ピロール、金属フタロシアニンなどが好適なものとして
あげられる。前記エレクトロクロミック性物質を含有す
る層とは、前記エレクトロクロミック性物質のみからな
る層(膜)でもよく、またエレクトロクロミック性物質
とマトリックス成分に分散させてえられる層(膜)でも
よいが、エレクトロクロミック性物質のみからなる層
(膜)がより好ましい。前記エレクトロクロミック性物
質を含有する層の厚さは、通常、10nm〜1μm、好
ましくは50〜800nmが望ましい前記エレクトロク
ロミック性物質を含有する層の形成方法としては、特に
限定されず、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッ
タリング法、電解重合法、ディップコート法、スピンコ
ート法等の種々の既知の方法を用いることができる。本
発明のエレクトロクロミック素子おいては、前記対向導
電基板の少なくとも一方を透明基板およびこの透明基板
の内側に配した透明電極を備える透明導電基板とする必
要がある。そして透明導電基板の少なくとも一方の透明
基板と透明電極の間に紫外吸収層を設けている。この具
体的態様としては、一対の対向導電基板の基板と電極と
が全て透明であるエレクトロクロミック素子の場合、透
明基板と透明電極の間の少なくとも一方または両方に前
記紫外線吸収層が設けられている。また、透明基板と透
明電極を備える透明導電基板と、基板および/または電
極が不透明である透明でない導電基板からなる場合、透
明基板と透明電極の間には前記紫外線吸収層が必ず設け
られる。この場合、透明でない導電基板の基板と電極と
の間にも前記紫外線吸収層を設けても良い。前記紫外線
吸収層は、前述の通り、少なくとも、(a)上記一般式
(1)に示されるアミノシラン化合物またはその誘導体
(以下、「成分A」と称す)と、(b)分子内にカルボ
キシル基を有する紫外線吸収剤(以下「成分B」と称
す)とを反応させ、前記アミノシラン又はその誘導体に
由来するアミド結合を生成せしめた成分を,透明基板の
上に塗布、硬化することによって作製されることを特徴
とする。本発明において成分Aとして用いるアミノシラ
ン化合物としては、下記一般式(1)に示すものであ
る。
In the electrochromic device of the present invention, a layer containing an electrochromic substance is provided on at least one of the electrode on the inner surface of the conductive substrate and the ion conductive substance. The electrochromic material, electrochemical oxidation, or colored by the reduction reaction and the like, a decoloring substance exhibiting such color change is not particularly limited as far as it is to achieve the purpose of the present invention, Mo 2 O 3 , Ir 2 O 3 , NiO, V 2 O 5 , WO
3 , viologen, polythiophene, polyaniline, polypyrrole, metal phthalocyanine and the like are preferred. The layer containing the electrochromic substance may be a layer (film) composed of only the electrochromic substance or a layer (film) obtained by dispersing the electrochromic substance and a matrix component. A layer (film) composed of only a chromic substance is more preferable. The thickness of the layer containing the electrochromic substance is generally 10 nm to 1 μm, and preferably 50 to 800 nm. The method for forming the layer containing the electrochromic substance is not particularly limited, and is not particularly limited. Various known methods such as an ion plating method, a sputtering method, an electrolytic polymerization method, a dip coating method, and a spin coating method can be used. In the electrochromic device of the present invention, it is necessary that at least one of the opposing conductive substrates is a transparent conductive substrate including a transparent substrate and a transparent electrode disposed inside the transparent substrate. An ultraviolet absorbing layer is provided between at least one of the transparent conductive substrates and the transparent electrode. As a specific embodiment, in the case of an electrochromic device in which the substrate and the electrodes of the pair of opposing conductive substrates are all transparent, the ultraviolet absorbing layer is provided on at least one or both of the transparent substrate and the transparent electrode . Further, when a transparent conductive substrate having a transparent substrate and a transparent electrode and a non-transparent conductive substrate having an opaque substrate and / or electrode are provided, the ultraviolet absorbing layer is always provided between the transparent substrate and the transparent electrode. In this case, the ultraviolet absorbing layer may be provided between the electrode of the non-transparent conductive substrate and the electrode. As described above, the ultraviolet absorbing layer includes at least (a) an aminosilane compound represented by the general formula (1) or a derivative thereof (hereinafter, referred to as “component A”) and (b) a carboxyl group in the molecule. By producing an amide bond derived from the aminosilane or a derivative thereof by reacting with an ultraviolet absorbent (hereinafter, referred to as “component B”) having the amide bond, and applying and curing the component on a transparent substrate. It is characterized by. The aminosilane compound used as the component A in the present invention is represented by the following general formula (1).

【化24】 一般式(1)に於いて、R1 は炭素数1〜10、好まし
くは1〜5のアルキレン基、または一般式−(CH2
m −NH−[mは1≦m≦4の整数]で表される2価の
基を示す。該アルキレン基としては具体的にはメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基等が例
示される。各々のR2 は同一若しくは異なる基であっ
て、水素原子、水酸基、塩素、臭素等のハロゲン原子、
炭素数1〜10、好ましくは1〜5のアルキル基若しく
はアルコキシ基、または炭素数6〜10、好ましくは6
〜8のアリール基を示す。但し、全てのR2 のうち少な
くとも一つはアルコキシ基若しくは水酸基である。前記
2 のアルキル基としてはメチル基、エチル基。プロピ
ル基、i-プロピル基等が例示でき、アリール基としては
フェニル基、トリル基などが例示できる。アルコキシ基
としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プ
ロポキシ基等が例示できる。nはn≧0、好ましくは0
≦n≦3の整数を示す。一般式(1)で示されるアミノ
シラン化合物の好適な例としては、3- アミノプロピル
トリエトキシシラン、3- アミノプロピルジイソプロピ
ルエトキシシラン、3- アミノプロピルメチルジエトキ
シシラン、3- アミノプロピルトリクロロシラン、3-
アミノプロピルポリジメチルシロキサン、N- (2- ア
ミノエチル)- 3- アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、3- アミノプロピルトリス(メトキシエトキシエト
キシ)シラン等が挙げられる。また、アミノシラン化合
物の誘導体としては、前記好適な化合物の加水分解物等
が好ましく挙げられる。これらのアミノシラン化合物又
はその誘導体である成分Aは公知の方法により製造でき
る。また、本発明においては、一般式(1)で示される
アミノシラン化合物の誘導体を用いることもできる。か
かる誘導体としては、前記化合物の加水分解物が好まし
いものとして挙げられる。
Embedded image In the general formula (1), R 1 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, or a general formula-(CH 2 )
m- NH- [m is a divalent group represented by 1 ≦ m ≦ 4]. Specific examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, and a propylene group. Each R 2 is the same or different, and includes a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom such as chlorine and bromine,
An alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms
To 8 aryl groups. However, at least one of all R 2 is an alkoxy group or a hydroxyl group. Examples of the alkyl group for R 2 include a methyl group and an ethyl group. A propyl group, an i-propyl group and the like can be exemplified. As the aryl group, a phenyl group and a tolyl group can be exemplified. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an i-propoxy group. n is n ≧ 0, preferably 0
≤n≤3. Preferred examples of the aminosilane compound represented by the general formula (1) include 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyldiisopropylethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropyltrichlorosilane, -
Examples include aminopropyl polydimethylsiloxane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltris (methoxyethoxyethoxy) silane, and the like. Further, as the derivative of the aminosilane compound, a hydrolyzate of the above-mentioned suitable compound is preferably exemplified. The component A which is an aminosilane compound or a derivative thereof can be produced by a known method. In the present invention, a derivative of the aminosilane compound represented by the general formula (1) can also be used. As such a derivative, a hydrolyzate of the above-mentioned compound is preferably mentioned.

【0012】成分Bとして用いる分子内にカルボキシル
基を有する紫外線吸収剤としては、分子の側鎖にカルボ
キシル基を1個または2個以上有する化合物が挙げら
れ、例えばベンゾトリアゾール骨格またはベンゾフェノ
ン骨格を有する化合物等が挙げられる。ベンゾトリアゾ
ール骨格を有する化合物としては、下記一般式(20)
により表される化合物が好適に挙げられる。
As the ultraviolet absorber having a carboxyl group in the molecule used as the component B, a compound having one or more carboxyl groups in the side chain of the molecule, for example, a compound having a benzotriazole skeleton or a benzophenone skeleton And the like. The compound having a benzotriazole skeleton is represented by the following general formula (20)
Compounds represented by the following formulas are preferred.

【化25】 一般式(20)中のR3 は、水素原子、ハロゲン原子ま
たは炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基を
示す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等、該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、シク
ロヘキシル基等が例示できる。R3 の置換位置として
は、ベンゾトリアゾール骨格の4位または5位である
が、ハロゲン原子及びアルキル基は通常4位に位置す
る。式中のR4 は、水素原子または炭素数1〜10、好
ましくは1〜6のアルキル基を示す。アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、
ブチル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基等が例示でき
る。式中のR5 は、炭素数1〜10、好ましくは1〜3
のアルキレン基または、アルキリデン基を示す。アルキ
レン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレ
ン基、プロピレン基等が、アルキリデン基としては、エ
チリデン、プロピリデン基等が挙げられる。一般式(2
0)で示される化合物としては、3−(5−クロロ−2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−
ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン
酸、3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4
−ヒドロキシベンゼンエタン酸、3−(5−メチル−2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1−メチ
ルエチル)−4−ヒドロキシベンゼンプロパン酸等が挙
げられる。
Embedded image R 3 in the general formula (20) represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10, preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine, and iodine, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. The substitution position of R 3 is the 4- or 5-position of the benzotriazole skeleton, and the halogen atom and the alkyl group are usually located at the 4-position. R 4 in the formula represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10, preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group,
Examples thereof include a butyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. R 5 in the formula has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms.
Represents an alkylene group or an alkylidene group. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, and a propylene group, and examples of the alkylidene group include an ethylidene group and a propylidene group. General formula (2
Examples of the compound represented by 0) include 3- (5-chloro-2).
H-benzotriazol-2-yl) -5- (1,1-
Dimethylethyl) -4-hydroxy-benzenepropanoic acid, 3- (2H-benzotriazol-2-yl) -4
-Hydroxybenzene ethane acid, 3- (5-methyl-2
H-benzotriazol-2-yl) -5- (1-methylethyl) -4-hydroxybenzenepropanoic acid.

【0013】前記ベンゾフェノン骨格を有する化合物と
しては、下記一般式(21)〜(24)にて示されるベ
ンゾフェノン系化合物等が好適に挙げられる。
Preferred examples of the compound having a benzophenone skeleton include benzophenone-based compounds represented by the following general formulas (21) to (24).

【化26】 Embedded image

【化27】 Embedded image

【化28】 Embedded image

【化29】 一般式(21)〜(24)に於いて、R7 及びR8 は、
同一若しくは異なる基であって、水素原子、水酸基、炭
素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基又はアル
コキシ基を示す。n、mは、0≦m≦3、0≦n≦3の
範囲の整数を示す。アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチ
ル基、シクロヘキシル基等が、アルコキシ基としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ
基、ブトキシ基等が具体的に例示される。式中R6 は、
炭素数1〜10、好ましくは1〜3のアルキレン基又
は、アルキリデン基を示す。アルキレン基としては、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基
等が、アルキリデン基としてはエチリデン基、プロピリ
デン基等が挙げられる。このようなベンゾフェノン骨格
を有する化合物の具体例としては、2−ヒドロキシ−4
−メトキシベンゾフェノン−5−カルボン酸、2,2’
−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−カ
ルボン酸、4−(2−ヒドロキシベンゾイル)−3−ヒ
ドロキシベンゼンプロパン酸等が好適に挙げられる。前
記ベンゾトリアゾール骨格又はベンゾフェノン骨格を有
する紫外線吸収剤は公知の方法により製造できる。
Embedded image In the general formulas (21) to (24), R 7 and R 8 are
The same or different groups represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10, preferably 1 to 6 carbon atoms. n and m are integers in the range of 0 ≦ m ≦ 3 and 0 ≦ n ≦ 3. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a t-butyl group, a cyclohexyl group, and the like.
Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, and a butoxy group. Wherein R 6 is
And represents an alkylene group having 1 to 10, preferably 1 to 3 carbon atoms or an alkylidene group. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, and a propylene group, and examples of the alkylidene group include an ethylidene group and a propylidene group. Specific examples of such a compound having a benzophenone skeleton include 2-hydroxy-4
-Methoxybenzophenone-5-carboxylic acid, 2,2 '
-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone-5-carboxylic acid, 4- (2-hydroxybenzoyl) -3-hydroxybenzenepropanoic acid and the like are preferred. The ultraviolet absorbent having a benzotriazole skeleton or a benzophenone skeleton can be produced by a known method.

【0014】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいて、前記成分Aと成分Bとを少なくとも反応させ
て、成分Aに由来するアミド結合を生成せしめる反応は
通常脱水反応が主である。この際、反応により生成する
アミド結合の量は、特に限定されないが、通常、成分A
の全アミノシランの10モル%以上、好ましくは、50
モル%以上に対してアミド結合が生じるようにすれば良
く、上限は通常100モル%であるが、上限が100モ
ル%未満でも差し支えない。
In the method for producing a coating component used in the present invention, the reaction for causing at least the component A and the component B to react to form an amide bond derived from the component A is usually mainly a dehydration reaction. At this time, the amount of the amide bond generated by the reaction is not particularly limited, but usually the component A
10 mol% or more, preferably 50 mol% of all aminosilanes
The upper limit is usually 100 mol%, but the upper limit may be less than 100 mol%.

【0015】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいては、上記のとおり、少なくとも成分Aおよび成分
Bを反応させれば良いが、係る反応の際、または反応後
に本発明の目的を損なわない範囲で任意成分をさらに共
存・添加してもよい。次にこれらの任意成分について説
明する。任意成分の一例としてはシリコーン樹脂(以
下、「成分C」と称す)が挙げられる。成分Cとしては
反応性シリコーン樹脂、即ち、成分Aのアルコキシシリ
ル基部分と反応(通常脱水反応および/または脱アルコ
ール反応等)しうる官能基を有するシリコーン樹脂が好
ましい。官能基としてはアルコキシシリル基やシラノー
ル基等が好ましい。このような反応性シリコーン樹脂
は、一般的にアルコキシシランやクロロシラン類の部分
加水分解反応とそれに続く縮合反応によって容易に合成
することができる。市販品では、純シリコーンワニス
(例えば、商品名「XO7931−クリヤー」:オキツ
モ(株)製)、シリコーンレジン(例えば、商品名「S
R2410」:東レ・ダウコーニングシリコーン(株)
製)、アクリル変性シリコーン樹脂(例えば、商品名
「サイラコート1000」:チッソ(株)製)等が好適
に挙げられる。また、シリコーン樹脂を本発明の目的を
損なわない範囲で各種溶剤を用いた溶液の形で用いるこ
とができる。溶剤としては、特に限定されないが、各種
炭化水素系溶剤、ケトン類、エーテル類、エステル類、
エーテル・エステル類などが挙げられる。また、シリコ
ーン樹脂を各種変性したものを用いても良い。成分C
は、成分Aおよび成分Bの反応の際、または反応後のい
ずれにおいても共存させられるが、成分Aおよび成分B
の反応の際に共存させることが特に好ましい。
In the method for producing a coating component used in the present invention, at least the component A and the component B may be reacted as described above, but at the time of the reaction or after the reaction, a range that does not impair the object of the present invention. The optional components may be further coexisted and added. Next, these optional components will be described. An example of the optional component is a silicone resin (hereinafter, referred to as “component C”). As the component C, a reactive silicone resin, that is, a silicone resin having a functional group capable of reacting with the alkoxysilyl group portion of the component A (usually a dehydration reaction and / or a dealcoholization reaction) is preferable. As the functional group, an alkoxysilyl group, a silanol group or the like is preferable. Generally, such a reactive silicone resin can be easily synthesized by a partial hydrolysis reaction of alkoxysilane or chlorosilanes and a subsequent condensation reaction. Commercially available products include pure silicone varnish (for example, trade name “XO7931-Clear”: manufactured by Okitsumo Co., Ltd.) and silicone resin (for example, trade name “S
R2410 ": Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.
Acryl-modified silicone resin (for example, trade name “Silacoat 1000”: manufactured by Chisso Corporation) and the like. Further, the silicone resin can be used in the form of a solution using various solvents as long as the object of the present invention is not impaired. The solvent is not particularly limited, but various hydrocarbon solvents, ketones, ethers, esters,
Ethers and esters. Further, various modifications of a silicone resin may be used. Component C
Can coexist during the reaction of component A and component B or after the reaction.
It is particularly preferred to coexist at the time of the reaction.

【0016】前記任意成分の他の例としては、各種のエ
ポキシシラン類(以下「成分D」と称す)が挙げられ、
好ましくは下記一般式(25)〜(26)に示すような
エポキシシラン類が挙げられる。
Other examples of the optional component include various epoxysilanes (hereinafter referred to as "component D").
Preferably, epoxysilanes represented by the following general formulas (25) to (26) are used.

【化30】 Embedded image

【化31】 一般式(25)〜(26)に於いて、R9 およびR11
同一若しくは異なる基であって、炭素数1〜10、好ま
しくは1〜5のアルキレン基又は、式−R−O−R' −
(但し、R及びR' は各々炭素数1〜10、好ましくは
1〜5のアルキレン基を示す)により示される2価の基
を示し、各々のR10は、同一若しくは異なる基であっ
て、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜1
0、好ましくは1〜5のアルキル基若しくはアルコキシ
基、または炭素数6〜10好ましくは6〜8のアリール
基を示す。但し、全てのR10のうち少なくとも1つはア
ルコキシ基若しくは水酸基である。nはn≧0、好まし
くは0≦n≦3の整数を示す。前記アルキレン基として
は、メチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等
が好適に例示できる。前記アルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、
t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、、
オクチル基等が好適に挙げられ、前記アルコキシ基とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基等が挙げられ、前記アリール基としては、フェニル
基、トリル基等が挙げられる。
Embedded image In the general formulas (25) to (26), R 9 and R 11 are the same or different groups, and have an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, or a group represented by the formula —R—O—R '−
Wherein R and R ′ each represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, and each R 10 is the same or different, Hydrogen atom, hydroxyl group, halogen atom, carbon number 1-1
It represents 0, preferably 1 to 5 alkyl groups or alkoxy groups, or 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 to 8 aryl groups. However, at least one of all R 10 is an alkoxy group or a hydroxyl group. n represents an integer of n ≧ 0, preferably 0 ≦ n ≦ 3. Preferable examples of the alkylene group include a methylene group, a trimethylene group, and a tetramethylene group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group,
t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group,
An octyl group or the like is preferably exemplified.Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a t-butoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group. Examples include a phenyl group and a tolyl group.

【0017】成分Dとしては、3- グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、ジメトキシ- 3- グリシドキシ
プロピルメチルシラン、2- (3,4- エポキシシクロ
ヘキシルエチル)トリメトキシシラン、ジメチルエトキ
シ- 3- グリシドキシプロピルシラン、1,3−ビス
(3−グリシドキシプロピル)−1,3−ジメチル−
1,3−ジメトキシジシロキサン又はこれらの混合物等
が好適に挙げられる。成分Dは、予め加水分解して用い
ても良い。また予め適当な重合触媒でエポキシ基を開環
重合させて用いることもできる。重合触媒としては、三
フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウ
ム、ジエチル亜鉛等のルイス酸触媒が好適である。ま
た、エポキシ基を開環重合させる際の重合条件は特に限
定されないが、通常、−80℃〜130℃、好ましくは
−20℃〜80℃程度が望ましく、反応時間は反応条
件、反応様式等により適宜選択でき、通常10分〜10
時間、好ましくは1時間〜6時間程度が望ましい。この
際用いる溶媒は特に限定されないが、例えば、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、各種のケトン類
やエステル類等が挙げられる。成分Dは、成分Aおよび
成分Bの反応の際、または反応後のいずれにおいても共
存させられるが、成分Aおよび成分Bの反応の後に加え
ることが好ましい。但し、前記予め成分Dのエポキシ基
を開環重合させたものを用いる場合には、成分A及び成
分Bの反応の際に加えるのが好ましい。
Component D includes 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, dimethoxy-3-glycidoxypropylmethylsilane, 2- (3,4-epoxycyclohexylethyl) trimethoxysilane, dimethylethoxy-3-glycol Sidoxypropylsilane, 1,3-bis (3-glycidoxypropyl) -1,3-dimethyl-
Suitable examples include 1,3-dimethoxydisiloxane and mixtures thereof. Component D may be used after being hydrolyzed in advance. Further, the epoxy group can be used by ring-opening polymerization with an appropriate polymerization catalyst in advance. As the polymerization catalyst, a Lewis acid catalyst such as boron trifluoride diethyl ether complex, aluminum chloride, and diethyl zinc is preferable. The polymerization conditions for the ring-opening polymerization of the epoxy group are not particularly limited, but are usually about -80 ° C to 130 ° C, preferably about -20 ° C to 80 ° C. 10 minutes to 10 minutes
Time, preferably about 1 to 6 hours. The solvent used at this time is not particularly limited, and examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and various ketones and esters. Component D is allowed to coexist during or after the reaction of components A and B, but is preferably added after the reaction of components A and B. However, in the case of using a component D in which the epoxy group of the component D has been subjected to ring-opening polymerization in advance, it is preferably added during the reaction of the components A and B.

【0018】他の任意成分としては、ポリエーテル変性
ポリシロキサン類(以下「成分E」と称す)が挙げら
れ、好ましくは、下記一般式(27)で示されるポリエ
ーテル変性ポリシロキサン類が例示される。
Other optional components include polyether-modified polysiloxanes (hereinafter, referred to as "component E"), and preferred are polyether-modified polysiloxanes represented by the following general formula (27). You.

【化32】 一般式(27)に於いて、R12、R13およびR14は同一
若しくは異なる基であって、炭素数1〜10、好ましく
は1〜5のアルキレン基を示し、各々のR15は同一若し
くは異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原
子、炭素数1〜10、好ましくは1〜5のアルキル基若
しくはアルコキシ基、または炭素数6〜10好ましくは
6〜8のアリール基を示す。またR15のうち少なくとも
一つはアルコキシ基である。m、n、pは、各々m≧
0、好ましくは0≦m≦100、n≧0、好ましくは0
≦n≦10、p≧0、好ましくは0≦p≦10の整数を
示す。前記アルキレン基としては、メチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基などが好適に挙げられる。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、、オクチル基等が好適に
挙げられる。前記アルコキシ基としては、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、t-ブトキシ
基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ
る。前記アリール基としては、フェニル基、トリル基等
が挙げられる。このような、一般式にて表される成分E
としては、具体的には、テトラエチレングリコール- ビ
ス(トリエトキシシリルエチル)エーテル、ポリエチレ
ングリコール- ビス(トリエトキシシリルエチル)エー
テル、ポリプロピレングリコール- ビス(トリエトキシ
シリルエチル)エーテル又はこれらの混合物が挙げられ
る。成分Eとしては、予め加水分解したものを用いても
良い。成分Eは、成分Aおよび成分Bの反応の際、また
は反応後のいずれにおいても共存させられるが、成分A
および成分Bの反応の際に加えるのが好ましい。任意成
分として特に、前記成分Dのエポキシシラン類や成分E
のポリエーテル変性ポリシロキサン類を用いることによ
り、当該基板上の紫外線吸収性被膜は、耐熱性を損なう
ことなく基板への密着性が改善され、厚膜にしても割れ
にくくなる等、さらに優れた効果を奏する。
Embedded image In the general formula (27), R 12 , R 13 and R 14 are the same or different groups and represent an alkylene group having 1 to 10, preferably 1 to 5 carbon atoms, and each R 15 is the same or different. A different group is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10, preferably 1 to 5 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 to 8 carbon atoms. At least one of R 15 is an alkoxy group. m, n, and p are each m ≧
0, preferably 0 ≦ m ≦ 100, n ≧ 0, preferably 0
≦ n ≦ 10, p ≧ 0, preferably 0 ≦ p ≦ 10. Preferable examples of the alkylene group include a methylene group, a trimethylene group, and a tetramethylene group.
Preferred examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. As the alkoxy group, a methoxy group,
Examples include an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a t-butoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a tolyl group. Such a component E represented by the general formula
Specific examples thereof include tetraethylene glycol-bis (triethoxysilylethyl) ether, polyethylene glycol-bis (triethoxysilylethyl) ether, polypropylene glycol-bis (triethoxysilylethyl) ether and mixtures thereof. Can be As the component E, those hydrolyzed in advance may be used. Component E is allowed to coexist during the reaction of component A and component B or after the reaction.
And it is preferably added during the reaction of component B. As the optional components, particularly, the epoxysilanes of the component D and the component E
By using the polyether-modified polysiloxanes, the UV-absorbing coating on the substrate has improved adhesion to the substrate without impairing the heat resistance, and is even more excellent, such as being less likely to break even in a thick film. It works.

【0019】他の任意成分としては、無機微粒子分散液
(以下、「成分F」と称す)が挙げられる。成分Fとし
ては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、酸化チ
タン、酸化アンチモン等の微粒子の分散液等が挙げられ
る。微粒子の粒子径は1〜100nm程度であり、分散媒
としては水、メタノール、キシレン、メチルエチルケト
ン、等が挙げられる。市販品ではLUDOX L S(デ
ュポン社製)や、XBA−ST(日産化学社製)などが
好適に挙げられる。成分Fは、成分Aおよび成分Bの反
応の際、または反応後のいずれにおいても共存させられ
るが、成分Aおよび成分Bの反応の後に加えることが好
ましい。成分Fを加えることで,表面硬度を改善し,耐
摩耗性,耐薬品性などを向上させることができる。な
お、任意成分はいずれも公知の方法により製造できる。
As another optional component, an inorganic fine particle dispersion (hereinafter, referred to as “component F”) can be mentioned. The component F is not particularly limited, and examples thereof include a dispersion of fine particles of silica, alumina, titanium oxide, antimony oxide, and the like. The particle diameter of the fine particles is about 1 to 100 nm, and examples of the dispersion medium include water, methanol, xylene, and methyl ethyl ketone. As commercially available products, LUDOX L S (manufactured by DuPont), XBA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and the like are preferably exemplified. Component F is allowed to coexist during or after the reaction of components A and B, but is preferably added after the reaction of components A and B. By adding the component F, the surface hardness can be improved, and the wear resistance, chemical resistance, and the like can be improved. Incidentally, any of the optional components can be produced by a known method.

【0020】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいては、前述のとおり、少なくとも、成分Aと成分B
とを反応させるか、若しくは必要に応じて前記任意成分
の共存下反応させることにより容易に製造することがで
きる。この反応条件は、成分Aに由来するアミド結合が
生成する条件であれば特に限定されなく、その条件は適
宜選択されるところであるが、通常、成分Aおよび成分
B、さらに所望により任意成分を溶媒中にて混合したの
ち、溶媒の存在下において、室温〜350℃、好ましく
は60〜250℃において、通常5分〜50時間、好ま
しくは10分〜15時間の条件で好適に行うことができ
る。これらの反応操作は繰り返し行うことができる。こ
の反応に用いる溶媒としては、本発明の目的を損なわな
い限り特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレ
ン等の芳香族系溶剤や、シクロヘキサノン等のケトン系
溶剤、またはこれらの混合物が挙げられる。溶媒は、反
応後除去してもよく、除去せずに溶液の状態でも良い。
前記反応において、成分Aと成分Bとの使用割合は、特
に限定されないが、成分Bの使用量が、成分Aと成分B
との総量に対し、通常5〜90質量%、好ましくは10
〜80質量%の範囲で任意に選択することができる。塗
布成分(反応混合物)は、このような反応終了後直ち
に、そのままの形態で塗布に供してもよく、また上記の
反応終了後、即ち塗布成分を得た後、各種成分を加えた
ものを塗布液として使用することもできる。各種成分と
しては、本発明の目的を損なわない限り、特に限定され
ないが、例えば、酸化防止剤、クエンチャーもしくはラ
ジカル捕捉剤、または塩酸、硫酸、酢酸などの無機酸や
有機酸、3フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、6フ
ッ化アンチモン酸ナトリウム等のルイス酸、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、アニリン
などの塩基、ジブチルスズジラウレート、チタンテトラ
イソプロポキサイドなどの有機金属に例示されるよう
な、硬化促進作用を有するする触媒(紫外線吸収材料に
対して、通常0.1〜5.0質量%であることが好まし
い)、トルエン、キシレン、エタノール、イソプロパノ
ール、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、1−
メトキシ−2−アセトキシプロパン等、各種シンナー等
の溶剤、などを加えることもでき、これらの成分を加え
たものを塗布液として使用することもできる。また、任
意成分であるシリコーン樹脂の使用量としては、特に限
定されないが、成分Aと成分Bの総量100質量部に対
して、5〜300質量部、好ましくは20〜150質量
部が望ましい。また、エポキシシラン類の使用量として
は、特に限定されないが、成分Aと成分Bの総量100
質量部に対して、10〜500質量部、好ましくは10
0〜400質量部が望ましい。また、ポリエーテル変性
ポリシロキサン類の使用量としては、特に限定されない
が、成分Aと成分Bの総量100質量部に対して、10
〜500質量部、好ましくは100〜400質量部が望
ましい。また、無機微粒子分散液の使用量としては、特
に限定されないが、成分Aと成分Bの総量100質量部
に対して、5〜400質量部、好ましくは10〜200
質量部が望ましい。
In the method for producing a coating component used in the present invention, at least the components A and B are used as described above.
And, if necessary, by reacting in the coexistence of the above-mentioned optional components. The reaction conditions are not particularly limited as long as the amide bond derived from the component A is generated, and the conditions are appropriately selected. Usually, the components A and B, and if desired, the optional components are dissolved in a solvent. After mixing, the reaction can be suitably performed in the presence of a solvent at room temperature to 350 ° C., preferably 60 to 250 ° C., usually for 5 minutes to 50 hours, preferably 10 minutes to 15 hours. These reaction operations can be performed repeatedly. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and examples thereof include aromatic solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as cyclohexanone, and mixtures thereof. The solvent may be removed after the reaction, or may be in a solution state without being removed.
In the above-mentioned reaction, the use ratio of the component A and the component B is not particularly limited.
5 to 90% by mass, preferably 10% by mass,
It can be arbitrarily selected in the range of 80% by mass. The coating component (reaction mixture) may be applied as it is immediately after completion of the reaction, or after completion of the above reaction, that is, after obtaining the coating component, coating with various components. It can also be used as a liquid. The various components are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. For example, an antioxidant, a quencher or a radical scavenger, or an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, or acetic acid, and boron trifluoride Diethyl ether complex, Lewis acid such as sodium hexafluoroantimonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, triethylamine, bases such as aniline, dibutyltin dilaurate, as exemplified by organic metals such as titanium tetraisopropoxide, A catalyst having a curing promoting action (usually preferably 0.1 to 5.0% by mass based on the ultraviolet absorbing material), toluene, xylene, ethanol, isopropanol, dimethylformamide, cyclohexanone, 1-
Solvents such as methoxy-2-acetoxypropane and various kinds of thinners can be added, and those containing these components can be used as a coating solution. The amount of the silicone resin as an optional component is not particularly limited, but is preferably 5 to 300 parts by mass, and more preferably 20 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of components A and B. The amount of the epoxysilane used is not particularly limited, but the total amount of the component A and the component B is 100%.
10 to 500 parts by mass, preferably 10 parts by mass,
0 to 400 parts by mass is desirable. The amount of the polyether-modified polysiloxane is not particularly limited, but is preferably 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the components A and B.
-500 parts by mass, preferably 100-400 parts by mass. The use amount of the inorganic fine particle dispersion is not particularly limited, but is 5 to 400 parts by mass, preferably 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of components A and B.
Parts by weight are preferred.

【0021】本発明の特定の紫外線吸収層は、かくして
得られた塗布成分を,透明基板の上に塗布、硬化するこ
とによって得られる。塗布成分は通常、液状であり、そ
の塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法が選択
されるところである。例えば、スピンコート、スプレー
コート、ディップコート、キャストコート、ブレードコ
ート、フローコートなどが、目的に応じて適宜使用され
る。硬化反応は、前記硬化促進作用を有する触媒を用い
た場合は、通常室温から250℃、好ましくは40℃〜
200℃程度で硬化させることができる。また該触媒を
用いなくても通常室温〜350℃、好ましくは60℃〜
250℃で加熱することによって硬化させることができ
る。硬化に要する時間は、適宜選択されるところである
が、通常10分〜5時間程度である。透明基板上に形成
される紫外線吸収層の膜厚は、特に限定されなく適宜選
択されるところであるが、通常0. 5〜50μm程度の
範囲内で用いられる。0. 5μm以下では充分な紫外線
遮断能力を出すことが難しい場合があり、50μm以上
では亀裂を生じさせずに塗布するのが難しい場合があ
る。また透明電極形成時に有機紫外線吸収剤を保護する
目的で、紫外線吸収層と透明電極との間にオーバーコー
ト層を設けることも行われる。したがって、オーバーコ
ート層に用いられるポリマーは、透明電極形成時に安定
且つ平滑であるものが望ましい。オーバーコート層とし
ては特に限定はしないが、通常耐熱性に優れた樹脂が用
いられる。具体的には、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォ
ン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコーンワニスなどのシリコーン樹脂、尿素樹脂などが
挙げられ、これらの中でもシリコーン樹脂のオーバーコ
ート剤が最適である。またこれらを組み合わせて用いて
も良い。ガラスフィラーや無機粉体と共用することも行
われる。無機粉体としては、通常ZnO、TiO2 、C
eO2 、シリカなどの微粒子が用いられる。シリコーン
樹脂オーバーコート剤としてはコロイダルシリカなどの
無機微粒子を分散させたシリコーンレジン系やアルコキ
シシラン,クロロシランなどのシラン類の部分加水分解
生成物及び部分重縮合生成物などが挙げられる。具体的
には,市販品ではトスガード510 (東芝シリコーン製)
やAPZ7703 、APZ7705(日本ユニカー製)、N- L11
0,N- L710等のポリシラザン(東燃製)が挙げら
れる。またエポキシシランの部分加水分解生成物もオー
バーコート剤として耐摩耗性などが優れていることが知
られている。オーバーコート層の形成法としては、特に
限定されなく適宜公知の方法が選択されるところである
が、通常、オーバーコート層を構成する樹脂の溶液、あ
るいは前駆体からなる溶液を塗布することによって得ら
れる。塗布後はそれぞれの樹脂の性質によって必要な処
理がなされ、オーバーコート層が得られる。また上記樹
脂からなるフィルムを貼る方法も行われる。具体的に
は、例えばシリコーンワニスを用いた場合、ジブチルス
ズジラウリレートなどの触媒を加え、塗布した後100
〜200℃程度で5分〜2時間程度加熱硬化すること
で、1〜20μmのオーバーコート層を得ることができ
る。また、例えばアクリル−メラミン樹脂前駆体を用い
た場合には、塗布した後130〜190℃で5分〜2時
間程度加熱硬化することで、10〜100μmのオーバ
ーコート層を得ることができる。また光硬化型のアクリ
ル系樹脂前駆体などを用いた場合には、塗布した後、高
圧水銀灯照射下に置くことによって通常5分以内に1〜
10μmのオーバーコート層を得ることができる。塗布
方法としては、既知の方法が用いられる。例えばスピン
コート、スプレーコート、キャストコート、ブレードコ
ート、ディップコートなどが挙げられる。また,オーバ
ーコート作製前に光表面改質やプライマー処理を施すこ
とで,オーバーコート材の塗れ性改善や,オーバーコー
ト層の紫外線吸収層への密着性を改善することもでき
る。
The specific ultraviolet absorbing layer of the present invention can be obtained by applying the coating composition thus obtained on a transparent substrate and curing. The coating component is usually in a liquid state, and the coating method is not particularly limited, and a known method is appropriately selected. For example, spin coating, spray coating, dip coating, cast coating, blade coating, flow coating and the like are appropriately used according to the purpose. The curing reaction is usually performed at room temperature to 250 ° C, preferably 40 ° C to
It can be cured at about 200 ° C. Even without using the catalyst, the temperature is usually from room temperature to 350 ° C, preferably from 60 ° C to
It can be cured by heating at 250 ° C. The time required for curing is appropriately selected, but is usually about 10 minutes to 5 hours. The thickness of the ultraviolet absorbing layer formed on the transparent substrate is not particularly limited and may be appropriately selected, but is usually in the range of about 0.5 to 50 μm. If it is less than 0.5 μm, it may be difficult to achieve a sufficient ultraviolet blocking ability, and if it is more than 50 μm, it may be difficult to apply it without causing cracks. Further, for the purpose of protecting the organic ultraviolet absorber during the formation of the transparent electrode, an overcoat layer may be provided between the ultraviolet absorbing layer and the transparent electrode. Therefore, it is desirable that the polymer used in the overcoat layer is stable and smooth at the time of forming the transparent electrode. Although there is no particular limitation on the overcoat layer, a resin excellent in heat resistance is usually used. Specific examples include polyimide, polyamide, polycarbonate, polyarylate, polyethersulfone, melamine resin, phenolic resin, epoxy resin, silicone resin such as silicone varnish, urea resin, etc. The agent is optimal. These may be used in combination. It is also commonly used with glass filler and inorganic powder. As the inorganic powder, ZnO, TiO 2 , C
Fine particles such as eO 2 and silica are used. Examples of the silicone resin overcoating agent include silicone resin-based materials in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed, and partial hydrolysis products and partial polycondensation products of silanes such as alkoxysilane and chlorosilane. Specifically, Tosgard 510 (made by Toshiba Silicone) is a commercially available product
And APZ7703, APZ7705 (manufactured by Nippon Unicar), N-L11
And polysilazane (manufactured by Tonen) such as O.N-L710. It is also known that a partial hydrolysis product of epoxysilane is excellent in abrasion resistance and the like as an overcoat agent. The method for forming the overcoat layer is not particularly limited and a known method may be appropriately selected, but is usually obtained by applying a solution of a resin constituting the overcoat layer or a solution of a precursor. . After application, necessary processing is performed depending on the properties of each resin, and an overcoat layer is obtained. A method of attaching a film made of the above resin is also performed. Specifically, for example, when a silicone varnish is used, a catalyst such as dibutyltin dilaurate is added, and after coating, 100
By heating and curing at about 200 ° C. for about 5 minutes to 2 hours, an overcoat layer of 1 to 20 μm can be obtained. Further, for example, when an acryl-melamine resin precursor is used, an overcoat layer having a thickness of 10 to 100 μm can be obtained by heating and curing at 130 to 190 ° C. for about 5 minutes to 2 hours after application. When a photocurable acrylic resin precursor or the like is used, it is usually within 5 minutes by applying and then placing it under high pressure mercury lamp irradiation.
An overcoat layer of 10 μm can be obtained. As a coating method, a known method is used. For example, spin coating, spray coating, cast coating, blade coating, dip coating and the like can be mentioned. Further, by applying a light surface modification or a primer treatment before producing the overcoat, the coatability of the overcoat material can be improved, and the adhesion of the overcoat layer to the ultraviolet absorbing layer can also be improved.

【0022】本発明のエレクトロクロミック素子は、少
なくとも一方が透明導電基板である一対の対向導電基
板、イオン導電性物質、エレクトロクロミック性物質を
含有する層、および紫外線吸収層によって構成している
が、その具体的形態を、図面を参照してさらに詳細に説
明する。本発明のエレクトロクロミック素子の最も単純
な形態の例としては、図1に示すように、透明基板1a
と、その内側に位置する透明電極2aとこれらの間に形
成した紫外線吸収層3とを備える透明導電基板A、並び
に透明基板1bと、その内側に位置する透明電極2bと
を備える透明導電基板Bを対向して配置しており、透明
導電基板Bの透明電極2b内側にエレクトロクロミック
層4が形成されており、透明基板Aと、エレクトロクロ
ミック層4が形成された透明導電基板Bとの間にイオン
導電性物質6を挟持して、イオン導電性物質6の層をシ
ール剤5で密封したエレクトロクロミック素子を挙げる
ことができる。また図2に示すように、透明基板1aと
紫外線吸収層3との間に、1層以上の中間層7を設ける
こともできる。中間層7の機能は特に限定されないが、
例えば有機紫外線吸収剤種類によっては遠紫外線により
有機紫外線吸収剤が劣化する場合があるので、その劣化
を抑制する目的で、ZnO、CeO2 、TiO2 などの
無機酸化物を含む紫外線吸収層を設けたり、あるいは、
紫外線吸収層3と透明基板1aとの密着性を向上させる
目的で、シランカップリング剤や界面活性剤などを含む
中間層7を設けたりすることができる。尚、図2におい
て図1と同一番号で示す部材は同一のものであるので説
明を省略する。さらに図3に示すように、紫外線吸収層
3と透明電極2aとの間にオーバーコート層8を設ける
こともできる。オーバーコート層8の機能は特に限定さ
れないが、例えば透明電極2a作成時に紫外線吸収層3
を保護する目的や、エレクトロクロミック素子組立後の
透明電極2aと紫外線吸収層3とを電気的に絶縁する目
的で設けることができる。尚、図3において図1と同一
番号で示す部材は同一のものであるので説明を省略す
る。さらに図4に示すように、透明電極1aと紫外線吸
収層3との間に中間層7を設けると共に、紫外線吸収層
3と透明電極2aとの間にオーバーコート層8を設ける
こともできる。尚、図4において図1〜3と同一番号で
示す部材は同一のものであるので説明を省略する。ま
た、図5に示すように、図1〜4の透明導電基板Aの代
わりに、透明でない不透明基板9と透明でない不透明電
極からなる導電基板Cを設けることもできる。尚、図5
において図1と同一番号で示す部材は同一のものである
ので説明を省略する。本発明のエレクトロクロミック素
子を構成する各膜および層の形成方法としては、特に限
定されるものではなく、各膜および層を前述の製法に従
い順次作成することができる。例えば、図1に示す構成
のエレクトロクロミック素子の場合、透明基板1a上に
前述の方法により紫外線吸収層3、透明電極2aを順次
形成し、透明導電基板Aを得る。次に、もう一枚の透明
導電基板1b上に前述の方法により透明電極2bおよび
エレクトロクロミック層4を形成し、透明導電基板1b
を得る。これら透明導電基板(1a,1b)を1〜10
00μm程度の間隔で対向させ、注入口を除いた周囲を
シール剤5でシールする。イオン伝導性物質6を前述の
方法で注入し、エレクトロクロミック素子を得ることが
できる。 前記透明導電基板(1a,1b)を対向させ
る際、間隔を一定に確保するためにスペーサーを用いる
ことができる。スペーサーとしては特に限定されない
が、ガラス、ポリマー等で構成されるビーズまたはシー
トを用いることができる。スペーサーは、対向する導電
基板の間隙に挿入したり、導電基板の電極上に樹脂等の
絶縁物で構成される突起状物を形成する方法等より設け
ることができる。また、イオン導電性物質6を形成する
方法は、例えば前記固体系イオン導電性物質の前駆体等
を対向する導電基板の間隙に注入し、その後硬化させる
方法等により形成することができる。硬化方法として
は、特に限定されないが、光による方法、熱による方
法、経時的に硬化する反応液を注入直前に混合した後、
直ちに注入し硬化させる方法等が挙げられる。また、図
2に示す構成のエレクトロクロミック素子の場合、透明
基板1a上に中間層7を形成し、以後図1に示す構成の
場合と同様の手順によりエレクトロクロミック素子を得
ることができる。図3に示す構成のエレクトロクロミッ
ク素子の場合、透明基板1a上に紫外線吸収層3を形成
した後、オーバーコート層7を形成し、以後図1に示す
構成の場合と同様の手順によりエレクトロクロミック素
子を得ることができる。また図4に示す構成のエレクト
ロクロミック素子の場合、透明基板1a上に中間層7、
紫外線吸収層3、オーバーコート層8を順次形成し、以
後図1に示す構成の場合と同様の手順によりエレクトロ
クロミック素子を得ることができる。
The electrochromic device of the present invention comprises a pair of opposing conductive substrates, at least one of which is a transparent conductive substrate, an ion conductive material, a layer containing an electrochromic material, and an ultraviolet absorbing layer. The specific form will be described in more detail with reference to the drawings. As an example of the simplest form of the electrochromic device of the present invention, as shown in FIG.
And a transparent conductive substrate A including a transparent electrode 2a located inside thereof and an ultraviolet absorbing layer 3 formed therebetween, and a transparent conductive substrate B including a transparent substrate 1b and a transparent electrode 2b located therein. The electrochromic layer 4 is formed inside the transparent electrode 2b of the transparent conductive substrate B, and between the transparent substrate A and the transparent conductive substrate B on which the electrochromic layer 4 is formed. An electrochromic element in which the ion conductive material 6 is sandwiched and the layer of the ion conductive material 6 is sealed with the sealant 5 can be given. Further, as shown in FIG. 2, one or more intermediate layers 7 can be provided between the transparent substrate 1a and the ultraviolet absorbing layer 3. The function of the intermediate layer 7 is not particularly limited,
For example, since some organic ultraviolet absorber types sometimes deteriorated organic ultraviolet absorber by far ultraviolet, for the purpose of suppressing the degradation, ZnO, an ultraviolet absorbing layer containing inorganic oxides such as CeO 2, TiO 2 provided Or
For the purpose of improving the adhesion between the ultraviolet absorbing layer 3 and the transparent substrate 1a, an intermediate layer 7 containing a silane coupling agent, a surfactant or the like can be provided. In FIG. 2, members denoted by the same reference numerals as those in FIG. Further, as shown in FIG. 3, an overcoat layer 8 can be provided between the ultraviolet absorbing layer 3 and the transparent electrode 2a. The function of the overcoat layer 8 is not particularly limited.
For protecting the transparent electrode 2a and the ultraviolet absorbing layer 3 after the assembly of the electrochromic element. In FIG. 3, members denoted by the same reference numerals as those in FIG. Further, as shown in FIG. 4, an intermediate layer 7 can be provided between the transparent electrode 1a and the ultraviolet absorbing layer 3, and an overcoat layer 8 can be provided between the ultraviolet absorbing layer 3 and the transparent electrode 2a. In FIG. 4, the members denoted by the same reference numerals as those in FIGS. As shown in FIG. 5, instead of the transparent conductive substrate A shown in FIGS. 1 to 4, a conductive substrate C including a non-transparent opaque substrate 9 and a non-transparent opaque electrode can be provided. FIG.
In FIG. 7, members denoted by the same reference numerals as those in FIG. The method for forming each film and layer constituting the electrochromic device of the present invention is not particularly limited, and each film and layer can be sequentially formed according to the above-described manufacturing method. For example, in the case of the electrochromic device having the configuration shown in FIG. 1, the ultraviolet absorbing layer 3 and the transparent electrode 2a are sequentially formed on the transparent substrate 1a by the above-described method, to obtain the transparent conductive substrate A. Next, the transparent electrode 2b and the electrochromic layer 4 are formed on the other transparent conductive substrate 1b by the above-described method.
Get. These transparent conductive substrates (1a, 1b) are
They are opposed at intervals of about 00 μm, and the periphery except for the injection port is sealed with a sealant 5. The electrochromic device can be obtained by injecting the ion conductive substance 6 by the above-described method. When the transparent conductive substrates (1a, 1b) are opposed to each other, a spacer can be used to secure a constant interval. The spacer is not particularly limited, but beads or sheets made of glass, polymer, or the like can be used. The spacer can be provided by a method of inserting the spacer into a gap between the opposing conductive substrates, a method of forming a projection made of an insulating material such as a resin on an electrode of the conductive substrate, or the like. The method of forming the ion conductive material 6 can be formed by, for example, injecting a precursor or the like of the solid ion conductive material into a gap between the opposing conductive substrates and then curing the same. The curing method is not particularly limited, but a method using light, a method using heat, after mixing a reaction solution that cures with time immediately before injection,
Immediately injecting and hardening may be used. In the case of the electrochromic device having the configuration shown in FIG. 2, an intermediate layer 7 is formed on the transparent substrate 1a, and thereafter, the electrochromic device can be obtained by the same procedure as in the configuration shown in FIG. In the case of the electrochromic device having the configuration shown in FIG. 3, the ultraviolet absorbing layer 3 is formed on the transparent substrate 1a, and then the overcoat layer 7 is formed. Can be obtained. In the case of the electrochromic device having the configuration shown in FIG. 4, the intermediate layer 7 is provided on the transparent substrate 1a.
The ultraviolet absorbing layer 3 and the overcoat layer 8 are sequentially formed, and thereafter, an electrochromic device can be obtained by the same procedure as in the configuration shown in FIG.

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明のエレクトロクロミック素子は、
透明基板と透明電極との間に紫外線吸収層を備えてお
り、屋外での使用にも耐えうる耐久性、耐紫外線性を有
する。また、安価に製造することができる。さらに該紫
外線吸収層中の有機紫外線吸収剤と母材とが化学的に結
合しているため、透明電極形成時における紫外線吸収層
の安定性を保持することができる。特に紫外線吸収層を
適宜選択することにより、400nm以下の波長を極めて
クリアに遮断することができる。また紫外線吸収層と透
明電極との間にオーバーコート層を設ける構成を採用す
ることにより、透明電極の形成を容易にすることがで
き、且つこのようなエレクトロクロミック素子を用いて
作製したエレクトロクロミックデバイス自体を紫外線か
ら保護することができる。従って本発明のエレクトロク
ロミック素子は、屋内用窓はもちろん、屋外に面した
窓、天窓、ソーラーハウス用窓材、車両用窓、サンルー
フ、間仕切り等の調光素子や耐候性表示素子などに利用
することができる。以上、本発明について詳細に説明し
てきたが、本発明のエレクトロクロミック素子に関して
好適な実施態様としては以下の態様が挙げられる。 1.紫外線吸収層を形成せしめる塗布成分が、少なくと
も(a)前記一般式(1)に示されるアミノシラン化合
物またはその誘導体、および(b)前記分子内にカルボ
キシル基を有する紫外線吸収剤を反応させる際に、この
反応を前記シリコーン樹脂の存在下で行うことにより得
られるものであることを特徴とするエレクトロクロミッ
ク素子。 2.紫外線吸収層を形成せしめる塗布成分が、少なくと
も、(a)前記一般式(1)に示されるアミノシラン化
合物またはその誘導体、および(b)前記分子内にカル
ボキシル基を有する紫外線吸収剤を反応させ、該アミノ
シランに由来するアミド結合を生成せしめたのち、前記
エポキシシラン類をさらに加えることにより得られるも
のであることを特徴とするエレクトロクロミック素子。 3.紫外線吸収層を形成せしめる塗布成分が、少なくと
も、(a)前記一般式(1)に示されるアミノシラン化
合物またはその誘導体、および(b)前記分子内にカル
ボキシル基を有する紫外線吸収剤を反応させ、前記アミ
ノシラン類に由来するアミド結合を生成せしめたのち、
無機微粒子分散液をさらに加えることにより得られるも
のであることを特徴とするエレクトロクロミック素子。
The electrochromic device of the present invention has
An ultraviolet absorbing layer is provided between the transparent substrate and the transparent electrode, and has durability and ultraviolet resistance that can withstand outdoor use. Further, it can be manufactured at low cost. Further, since the organic ultraviolet absorber and the base material in the ultraviolet absorbing layer are chemically bonded, the stability of the ultraviolet absorbing layer at the time of forming the transparent electrode can be maintained. In particular, by appropriately selecting the ultraviolet absorbing layer, a wavelength of 400 nm or less can be very clearly cut off. Further, by adopting a configuration in which an overcoat layer is provided between the ultraviolet absorbing layer and the transparent electrode, the formation of the transparent electrode can be facilitated, and an electrochromic device manufactured using such an electrochromic element It can protect itself from UV rays. Therefore, the electrochromic device of the present invention is used not only for indoor windows, but also for windows facing the outdoors, skylights, window materials for solar houses, windows for vehicles, sunroofs, dimming devices such as partitions, and weather-resistant display devices. be able to. As described above, the present invention has been described in detail. As the preferred embodiments of the electrochromic device of the present invention, the following embodiments are mentioned. 1. When reacting at least (a) the aminosilane compound represented by the general formula (1) or a derivative thereof, and (b) the ultraviolet absorber having a carboxyl group in the molecule, the coating component for forming the ultraviolet absorption layer is: An electrochromic device obtained by performing this reaction in the presence of the silicone resin. 2. The coating component for forming the ultraviolet absorbing layer is reacted with at least (a) the aminosilane compound represented by the general formula (1) or a derivative thereof, and (b) the ultraviolet absorbing agent having a carboxyl group in the molecule. An electrochromic device obtained by forming an amide bond derived from aminosilane and further adding the epoxysilane. 3. The coating component for forming the ultraviolet absorbing layer is reacted with at least (a) the aminosilane compound represented by the general formula (1) or a derivative thereof, and (b) the ultraviolet absorbing agent having a carboxyl group in the molecule. After generating an amide bond derived from aminosilanes,
An electrochromic device obtained by further adding an inorganic fine particle dispersion.

【0024】[0024]

【実施例】以下に本発明の実施例を挙げ説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples of the present invention, but the present invention is not limited thereto.

【0025】実施例1カルボキシル基含有紫外線吸収剤の合成 225g(0. 46モル)の3- (5- クロロ- 2H-
ベンゾトリアゾール-2- イル)- 5- (1, 1- ジメ
チルエチル)- 4- ヒドロキシ- ベンゼンプロパン酸オ
クチルエステル(TINUVIN 109、商標名、C
iba−Geigy社製)を700mlのアセトンに溶
解し、2N水酸化ナトリウム水溶液600mlを加えて
室温で24時間攪拌した。2N塩酸650mlを加えて
酸性にした後、不溶化した生成物を濾別し、蒸留水で濾
液が中性になるまで洗浄した。この生成物を真空乾燥し
た後、トルエンからの再結晶を行うことで3- (5- ク
ロロ- 2H- ベンゾトリアゾール- 2- イル)- 5-
(1, 1- ジメチルエチル)- 4- ヒドロキシ- ベンゼ
ンプロパン酸[化合物I]を得た。紫外線吸収層の作製 3−アミノプロピルトリエトキシシラン3gをキシレン
35gに溶解し、80℃に加熱しながら、5gの前記化
合物Iを徐々に添加した。添加終了後、130℃まで昇
温し、3時間還流した。放冷後、3−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシランを16g添加し、これを紫外線
吸収性塗布液とした。得られた塗布液を13C−NMR
により分析したところ、アミド結合に由来するカルボニ
ルのピーク(約173ppm)が観測され、原料のアミ
ノシラン類に由来するアミド結合が存在していることを
確認した。前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にス
プレー塗布し、室温で20分放置後200℃で20分加
熱し、厚さ約17μmの紫外線吸収被膜を有する紫外線
吸収ガラスを作製した。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液(日本ユニカー社製APZ−6615)
をエタノールで2倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから100℃で20分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約6. 5μmのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度200℃でITOのスパッタリングを行い、膜厚
約3900オングストローム、抵抗8. 2Ω/cm2の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図6に示した。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、20〜30オング
ストローム/秒の条件下、厚さ約5000オングストロ
ームとなるように、WO3 を蒸着し、発色材電極を作製
した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に、表面積1500m2 /gの活性炭繊維(群栄化
学株式会社)を、導電性接着剤(商品名「シルベストP
−255」:徳力化学研究所製)を用いて格子状に接着
した。この際、活性炭繊維の格子の形状は、格子間隔2
cm、格子線幅0.8mm、活性炭繊維の使用量は0.
85mg/cmとした。次に、活性炭繊維の上にポリエ
ステルフィルムを接着し、絶縁層を設けて対向電極を作
製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.08であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.20であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.88であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 1 Synthesis of UV absorber having a carboxyl group 225 g (0.46 mol) of 3- (5-chloro-2H-)
Benzotriazol-2-yl) -5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy-benzenepropanoic acid octyl ester (TINUVIN 109, trade name, C)
iba-Geigy) was dissolved in 700 ml of acetone, 600 ml of a 2N aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. After 650 ml of 2N hydrochloric acid was added to make the solution acidic, the insolubilized product was separated by filtration and washed with distilled water until the filtrate became neutral. The product is dried in vacuo and recrystallized from toluene to give 3- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) -5-.
(1,1-Dimethylethyl) -4-hydroxy-benzenepropanoic acid [Compound I] was obtained. Preparation of UV Absorbing Layer 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane was dissolved in 35 g of xylene, and 5 g of the compound I was gradually added while heating to 80 ° C. After the addition was completed, the temperature was raised to 130 ° C. and refluxed for 3 hours. After allowing to cool, 16 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was added, and this was used as an ultraviolet absorbing coating solution. 13C-NMR of the obtained coating solution
As a result, a peak of a carbonyl derived from an amide bond (about 173 ppm) was observed, and it was confirmed that an amide bond derived from a starting material aminosilane was present. The ultraviolet absorbing coating solution was spray-coated on a glass substrate, left at room temperature for 20 minutes, and then heated at 200 ° C. for 20 minutes to produce an ultraviolet absorbing glass having an ultraviolet absorbing film having a thickness of about 17 μm. Preparation of a transparent conductive substrate having an ultraviolet absorbing layer On the ultraviolet absorbing layer thus obtained, a silicone resin coating solution (APZ-6615 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.)
Was diluted 2-fold with ethanol and spray coated. When the solvent was dried and cured by heating at 100 ° C. for 20 minutes, a protective layer made of a silicone resin of about 6.5 μm was obtained on the ultraviolet absorbing layer. Thus, an ultraviolet absorbing layer containing an organic ultraviolet absorbing agent on the transparent glass substrate,
Further, a protective layer was formed thereon. Further, ITO was sputtered thereon at a substrate temperature of 200 ° C. to form a transparent electrode having a thickness of about 3900 angstroms and a resistance of 8.2 Ω / cm 2 , thereby obtaining a transparent conductive substrate having a function of blocking ultraviolet rays. FIG. 6 shows the spectral transmittance of this transparent conductive substrate. On the ITO glass making 10 × 10 cm of the color forming material electrode, under the conditions of 20 to 30 A / sec, to be about 5000 Å thick, deposited WO 3, to prepare a color forming material electrode. Preparation of Counter Electrode On a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm, activated carbon fiber (Gunei Chemical Co., Ltd.) having a surface area of 1500 m 2 / g was coated with a conductive adhesive (trade name “Sylvest P”).
-255 ": manufactured by Tokuriki Chemical Laboratory). At this time, the shape of the lattice of the activated carbon fibers is 2 lattice intervals.
cm, the grid line width is 0.8 mm, and the amount of activated carbon fiber used is 0.
85 mg / cm. Next, a polyester film was adhered on the activated carbon fiber, and an insulating layer was provided to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Coloring / Decoloring Test Next, when a voltage of 1 V was applied for 120 seconds so that the color material electrode side was a negative electrode and the counter electrode side was a positive electrode, the color was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.08. . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.20.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.88. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0026】実施例2紫外線吸収層の作製 3gの3- アミノプロピルトリエトキシシランをキシレ
ン40gに溶解し60℃に加熱しつつ、5gの実施例1
における化合物Iを徐々に加えた。添加終了後、130
℃まで昇温し、3時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。得られた溶液を13C−NMRにより分析し
たところ、アミド結合に由来するカルボニルのピーク
(約173ppm)が観測され、原料のアミノシラン類
に由来するアミド結合が存在していることを確認した。
前記塗布液をガラス基板上にスプレー塗布し、室温で2
0分放置後130℃で30分加熱し、厚さ約10μmの
紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラスを作製した。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、実施例1と同様
にオーバーコートを施した後、実施例1と同様の条件で
透明電極を作製した。この透明導電基板の分光透過率を
測定したところ実施例1と同様に400nm以下をほぼ完
全にカットするものが得られた。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.08であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.20であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.88であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 2 Preparation of ultraviolet absorbing layer 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane was dissolved in 40 g of xylene and heated to 60 ° C. while 5 g of Example 1 was used.
Was slowly added. After the addition, 130
C., and refluxed for 3 hours to obtain a solution-type ultraviolet absorbing coating solution. When the obtained solution was analyzed by 13 C-NMR, a carbonyl peak (about 173 ppm) derived from an amide bond was observed, and it was confirmed that an amide bond derived from aminosilanes as a raw material was present.
Spray the coating solution on a glass substrate and apply at room temperature.
After standing for 0 minutes, the mixture was heated at 130 ° C. for 30 minutes to produce an ultraviolet absorbing glass having an ultraviolet absorbing coating having a thickness of about 10 μm. Preparation of Transparent Conductive Substrate Having Ultraviolet Absorbing Layer An overcoat was applied in the same manner as in Example 1 on the ultraviolet absorbing layer thus obtained, and then a transparent electrode was manufactured under the same conditions as in Example 1. When the spectral transmittance of this transparent conductive substrate was measured, it was possible to obtain a substrate which almost completely cuts light of 400 nm or less in the same manner as in Example 1. Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Coloring / Decoloring Test Next, when a voltage of 1 V was applied for 120 seconds so that the color material electrode side was a negative electrode and the counter electrode side was a positive electrode, the color was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.08. . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.20.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.88. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0027】実施例3紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス(XO−7931−クリヤー、オキツ
モ製)17.7gと3- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン3gをキシレン35gに溶解し、80℃に加熱しな
がら化合物I5gを徐々に添加した。添加終了後、13
0℃まで昇温し3時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上に
スプレー塗布し、室温で20分放置後、200℃で20
分加熱し、厚さ約17μmの紫外線吸収被膜を有する紫
外線吸収ガラスを作製した。この紫外線吸収ガラスに対
して碁盤目試験を行ったところ、50%剥離が見られ
た。また、この紫外線吸収透明基板を沸騰アセトンで2
4時間抽出を行ったところ、重量減少はなかった。この
ことから、紫外線吸収剤はアミノシランを介して樹脂と
結合していることがわかった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液(日本ユニカー社製APZ−6615)
をエタノールで2倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから100℃で20分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約6. 5μmのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度200℃でITOのスパッタリングを行い、膜厚
約3900オングストローム、抵抗8. 2Ω/cm2の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図7に示した。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.1であった。続い
て、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよう
に1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに着
色は消滅し、この際の光学密度は0.21であった。こ
の際着色時と消色時の光学密度差は、0.89であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 3 Preparation of Ultraviolet Absorbing Coating Solution 17.7 g of silicone varnish (XO-7931-Clear, manufactured by Okitsumo) and 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane were dissolved in 35 g of xylene, and heated at 80 ° C. Compound I (5 g) was slowly added. After the addition, 13
The temperature was raised to 0 ° C., and the mixture was refluxed for 3 hours to obtain a solution-type ultraviolet absorbing coating solution. The ultraviolet absorbing coating solution is spray-coated on a glass substrate and left at room temperature for 20 minutes.
After heating for a minute, an ultraviolet absorbing glass having an ultraviolet absorbing coating having a thickness of about 17 μm was produced. When a cross-cut test was performed on this ultraviolet absorbing glass, 50% peeling was observed. Further, this ultraviolet absorbing transparent substrate was washed with boiling acetone for 2 hours.
Extraction for 4 hours showed no weight loss. From this, it was found that the ultraviolet absorber was bonded to the resin via the aminosilane. Preparation of a transparent conductive substrate having an ultraviolet absorbing layer On the ultraviolet absorbing layer thus obtained, a silicone resin coating solution (APZ-6615 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.)
Was diluted 2-fold with ethanol and spray coated. When the solvent was dried and cured by heating at 100 ° C. for 20 minutes, a protective layer made of a silicone resin of about 6.5 μm was obtained on the ultraviolet absorbing layer. Thus, an ultraviolet absorbing layer containing an organic ultraviolet absorbing agent on the transparent glass substrate,
Further, a protective layer was formed thereon. Further, ITO was sputtered thereon at a substrate temperature of 200 ° C. to form a transparent electrode having a thickness of about 3900 angstroms and a resistance of 8.2 Ω / cm 2 , thereby obtaining a transparent conductive substrate having a function of blocking ultraviolet rays. FIG. 7 shows the spectral transmittance of this transparent conductive substrate. Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Coloring / Decoloring Test Next, when a voltage of 1 V was applied for 120 seconds so that the color material electrode side was a negative electrode and the counter electrode side was a positive electrode, it was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.1. . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.21. At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.89. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0028】実施例4紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス(XO−7931−クリヤー、オキツ
モ製)17.7gと3-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン3gをキシレン35gに溶解し、80℃に加熱しな
がら化合物I5gを徐々に添加した。添加終了後、13
0℃まで昇温し3時間還流した。放冷後、3- グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを16g添加し、紫外
線吸収性塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液をガラ
ス基板上にスプレー塗布し、室温で20分放置後、20
0℃で20分加熱し、厚さ約17μmの紫外線吸収被膜
を有する紫外線吸収ガラスを作製した。このガラス基板
の紫外可視吸収スペクトルを図8に示した。また、実施
例3のように碁盤目試験での剥離は認められなかった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液(日本ユニカー社製APZ−6615)
をエタノールで2倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから100℃で20分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約6. 5μmのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度200℃でITOのスパッタリングを行い、膜厚
約3900オングストローム、抵抗8. 2Ω/cm2の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図8に示した。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.11であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.22であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.89であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 4 Preparation of Ultraviolet Absorbing Coating Solution 17.7 g of silicone varnish (XO-7931-Clear, manufactured by Okitsumo) and 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane were dissolved in 35 g of xylene, and heated to 80 ° C. Compound I (5 g) was slowly added. After the addition, 13
The temperature was raised to 0 ° C and refluxed for 3 hours. After cooling, 16 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was added to obtain an ultraviolet absorbing coating solution. The ultraviolet absorbing coating solution is spray-coated on a glass substrate and left at room temperature for 20 minutes.
Heating was performed at 0 ° C. for 20 minutes to produce an ultraviolet absorbing glass having an ultraviolet absorbing coating having a thickness of about 17 μm. FIG. 8 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of this glass substrate. Further, no peeling was observed in the grid test as in Example 3. Preparation of a transparent conductive substrate having an ultraviolet absorbing layer On the ultraviolet absorbing layer thus obtained, a silicone resin coating solution (APZ-6615 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.)
Was diluted 2-fold with ethanol and spray coated. When the solvent was dried and cured by heating at 100 ° C. for 20 minutes, a protective layer made of a silicone resin of about 6.5 μm was obtained on the ultraviolet absorbing layer. Thus, an ultraviolet absorbing layer containing an organic ultraviolet absorbing agent on the transparent glass substrate,
Further, a protective layer was formed thereon. Further, ITO was sputtered thereon at a substrate temperature of 200 ° C. to form a transparent electrode having a thickness of about 3900 angstroms and a resistance of 8.2 Ω / cm 2 , thereby obtaining a transparent conductive substrate having a function of blocking ultraviolet rays. FIG. 8 shows the spectral transmittance of this transparent conductive substrate. Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Coloring / Decoloring Test Next, when a voltage of 1 V was applied for 120 seconds so that the color-forming material electrode side was a negative electrode and the counter electrode side was a positive electrode, it was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.11. . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side was a positive electrode and the counter electrode side was a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.22.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.89. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0029】実施例5紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス(XO−7931−クリヤー、オキツ
モ製)17.7gと3-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン3gをキシレン35gに溶解し、80℃に加熱しな
がら化合物I5gを徐々に添加した。添加終了後、13
0℃まで昇温し3時間還流した。放冷後、3- グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを16g、コロイダル
シリカ分散液(日産化学製、MIBK-ST )を8g添加し紫
外線吸収性塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液をガ
ラス基板上にスプレー塗布し、室温で20分放置後、2
00℃で20分加熱し、厚さ約17μmの紫外線吸収被
膜を有する紫外線吸収ガラスを作製した。鉛筆硬度は4
Hであった。このガラス基板の紫外可視吸収スペクトル
を図9に示した。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に基板温度200℃
でスパッタリングを行い、膜厚約3900オングストロ
ーム、抵抗8. 2Ω/cm2 の透明電極を形成し、紫外線
遮断能を有する透明導電基板を得た。この透明導電基板
の分光透過率を図9に示した。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基ずいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.09であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.20であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.87であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 5 Preparation of UV Absorbing Coating Solution 17.7 g of silicone varnish (XO-7931-Clear, manufactured by Okitsumo) and 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane were dissolved in 35 g of xylene, and heated to 80 ° C. Compound I (5 g) was slowly added. After the addition, 13
The temperature was raised to 0 ° C and refluxed for 3 hours. After cooling, 16 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 8 g of a colloidal silica dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, MIBK-ST) were added to obtain an ultraviolet absorbing coating solution. The above-mentioned ultraviolet absorbing coating solution is spray-coated on a glass substrate and left at room temperature for 20 minutes.
Heating was performed at 00 ° C. for 20 minutes to produce an ultraviolet absorbing glass having an ultraviolet absorbing coating having a thickness of about 17 μm. Pencil hardness is 4
H. FIG. 9 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of this glass substrate. Preparation of a transparent conductive substrate having an ultraviolet absorbing layer A substrate temperature of 200 ° C was placed on the ultraviolet absorbing layer thus obtained.
To form a transparent electrode having a thickness of about 3900 angstroms and a resistance of 8.2 Ω / cm 2 , thereby obtaining a transparent conductive substrate having an ultraviolet blocking ability. FIG. 9 shows the spectral transmittance of this transparent conductive substrate. Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Chakushoiro test Next, when coloring material electrode side negative electrode, the counter electrode side is applied for 120 seconds a voltage of 1V so that the positive electrode was uniformly colored in blue, with the optical density on coloration was 1.09 . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.20.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.87. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0030】実施例6エポキシシランの重合 3- グリシドキシプロピルトリメトキシシラン200g
をキシレン75gに溶解させ、3フッ化ホウ素・ジエチ
ルエーテル錯体4mlを室温で徐々に加えた後、4時間
撹拌しエポキシ基の開環重合を行った。得られたポリマ
ーの分子量はMw=3300(ポリスチレン換算)であ
った。紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス(XO−7931−クリヤー、オキツ
モ製)17.7gと3- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン3gをキシレン29gに溶解し、80℃に加熱しな
がら化合物I5gを徐々に添加した。添加終了後、13
0℃まで昇温し3時間還流した。放冷後、上記エポキシ
シラン重合体溶液を22gを加え紫外線吸収材料を得
た。前記溶液状の紫外線吸収材料をコーテング液とし
て、これをガラス基板上にスプレー塗布し、室温で20
分放置後、150℃で30分加熱し、厚さ約15μmの
紫外線吸収層のついたガラス基板を作製した。鉛筆硬度
は6Hであった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の
作製こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリ
コーンレジン塗布液(日本ユニカー社製APZ−661
5)をエタノールで2倍に希釈してからスプレーコート
した。溶媒が乾燥してから100℃で20分加熱硬化さ
せたところ、紫外線吸収層上に約6. 5μmのシリコー
ンレジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラ
ス基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収
層、さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上
に基板温度200℃でITOのスパッタリングを行い、
膜厚約3900オングストローム、抵抗8. 2Ω/cm2
の透明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基
板を得た。この透明導電基板の分光透過率を図10に示
した。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.09であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.20であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.89であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
EXAMPLE 6 Polymerization of Epoxysilane 200 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
Was dissolved in 75 g of xylene, 4 ml of boron trifluoride / diethyl ether complex was gradually added at room temperature, and the mixture was stirred for 4 hours to carry out ring-opening polymerization of an epoxy group. The molecular weight of the obtained polymer was Mw = 3300 (in terms of polystyrene). Preparation of UV absorbing coating solution 17.7 g of silicone varnish (XO-7931-Clear, manufactured by Okitsumo) and 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane were dissolved in 29 g of xylene, and 5 g of compound I was gradually added while heating to 80 ° C. did. After the addition, 13
The temperature was raised to 0 ° C and refluxed for 3 hours. After cooling, 22 g of the above epoxysilane polymer solution was added to obtain an ultraviolet absorbing material. The solution-type UV absorbing material was used as a coating solution, and spray-coated on a glass substrate.
After standing for 150 minutes, the substrate was heated at 150 ° C. for 30 minutes to produce a glass substrate having an ultraviolet absorbing layer having a thickness of about 15 μm. The pencil hardness was 6H. Preparation of a transparent conductive substrate having an ultraviolet absorbing layer On the ultraviolet absorbing layer thus obtained, a silicone resin coating solution (APZ-661 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.)
5) was diluted twice with ethanol and spray-coated. When the solvent was dried and cured by heating at 100 ° C. for 20 minutes, a protective layer made of a silicone resin of about 6.5 μm was obtained on the ultraviolet absorbing layer. Thus, an ultraviolet absorbing layer containing an organic ultraviolet absorbing agent was formed on the transparent glass substrate, and a protective layer was further formed thereon. Furthermore, ITO is sputtered on the substrate at a substrate temperature of 200 ° C.
Approximately 3900 angstrom film thickness, resistance 8.2 Ω / cm 2
Was formed to obtain a transparent conductive substrate having ultraviolet blocking ability. FIG. 10 shows the spectral transmittance of this transparent conductive substrate. Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Chakushoiro test Next, when coloring material electrode side negative electrode, the counter electrode side is applied for 120 seconds a voltage of 1V so that the positive electrode was uniformly colored in blue, with the optical density on coloration was 1.09 . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.20.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.89. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0031】実施例7紫外線吸収塗布液の製造 3- アミノプロピルトリエトキシシラン3gと実施例6
のエポキシシラン重合体溶液11gをキシレン32gに
溶解し、80℃に加熱しながら化合物I5gを徐々に添
加した。添加終了後、130℃まで昇温し3時間還流
し、紫外線吸収材料を得た。前記溶液状の紫外線吸収材
料をコーテング液として、これをガラス基板上にスプレ
ー塗布し、室温で20分放置後、150℃で30分加熱
し、厚さ約15μmの紫外線吸収層のついたガラス基板
を作製した。鉛筆硬度は5Hであった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液(日本ユニカー社製APZ−6615)
をエタノールで2倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから100℃で20分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約6. 5μmのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度200℃でITOのスパッタリングを行い、膜厚
約3900オングストローム、抵抗8. 2Ω/cm2の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図11に示し
た。発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で5mm幅でシールし、内部に電解液であ
るLiClO4 のプロピレンカーボネート溶液(1M/
リットル)を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.08であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.21であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.87であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 7 Preparation of Ultraviolet Absorbing Coating Solution Example 3 with 3 g of 3-aminopropyltriethoxysilane
11 g of the epoxysilane polymer solution was dissolved in 32 g of xylene, and 5 g of Compound I was gradually added while heating to 80 ° C. After the addition was completed, the temperature was raised to 130 ° C. and refluxed for 3 hours to obtain an ultraviolet absorbing material. The solution-type ultraviolet absorbing material is used as a coating liquid, spray-coated on a glass substrate, left at room temperature for 20 minutes, and then heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a glass substrate having an ultraviolet absorbing layer having a thickness of about 15 μm. Was prepared. The pencil hardness was 5H. Preparation of a transparent conductive substrate having an ultraviolet absorbing layer On the ultraviolet absorbing layer thus obtained, a silicone resin coating solution (APZ-6615 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.)
Was diluted 2-fold with ethanol and spray coated. When the solvent was dried and cured by heating at 100 ° C. for 20 minutes, a protective layer made of a silicone resin of about 6.5 μm was obtained on the ultraviolet absorbing layer. Thus, an ultraviolet absorbing layer containing an organic ultraviolet absorbing agent on the transparent glass substrate,
Further, a protective layer was formed thereon. Further, ITO was sputtered thereon at a substrate temperature of 200 ° C. to form a transparent electrode having a thickness of about 3900 angstroms and a resistance of 8.2 Ω / cm 2 , thereby obtaining a transparent conductive substrate having a function of blocking ultraviolet rays. FIG. 11 shows the spectral transmittance of this transparent conductive substrate. Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on a transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of light control body The color-forming material electrode and the counter electrode were opposed to each other, the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm, and a propylene carbonate solution of LiClO 4 as an electrolytic solution (1 M /
Liter) was vacuum injected and the inlet was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. Coloring / Decoloring Test Next, when a voltage of 1 V was applied for 120 seconds so that the color material electrode side was a negative electrode and the counter electrode side was a positive electrode, the color was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.08. . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.21.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.87. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0032】実施例8発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様に
WO3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 10×10cmの実施例7で作製した紫外線吸収層を有
する透明導電基板上に実施例1と同様に活性炭繊維を配
置し、対向電極を作製した。固体系イオン伝導物質前駆体の作製 メトキシポリエチレングリコール#230メタクリレー
ト(新中村化学製,M−40G)1gとポリエチレング
リコール#400ジメタクリレート(新中村化学製,9
G)0.02gと光重合開始剤(ダロキュアー117
3,チバガイギー製)20mgを1M- LiClO4
γ- ブチロラクトン溶液4gに溶解させ、固体系イオン
伝導物質前駆体とした。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を粒径200μmのガラ
スビーズを挟んで相対向せしめ、周辺をエポキシ樹脂で
5mm幅でシールし、内部に前述の固体系イオン伝導物
質前駆体を真空注入して、紫外線硬化後、注入口をエポ
キシ樹脂で封止した。ついで発色材および対向電極の各
々にリード線を接続して調光体とした。次いで得られた
調光体の性能評価を下記の各試験に基ずいて評価した。着消色試験 実施例1と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は1.15であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように1Vの電圧を60秒間印可したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は0.25で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、0.9
0であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 8 Preparation of Coloring Material Electrode WO 3 was vapor-deposited on a 10 × 10 cm ITO glass in the same manner as in Example 1 to prepare a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged on the transparent conductive substrate having the ultraviolet absorbing layer of 10 × 10 cm prepared in Example 7 in the same manner as in Example 1 to prepare a counter electrode. Preparation of Solid Ion Conductive Precursor 1 g of methoxypolyethylene glycol # 230 methacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical, M-40G) and polyethylene glycol # 400 dimethacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical, 9
G) 0.02 g of a photopolymerization initiator (Darocur 117)
3, Ciba-Geigy) 20 mg in 1M-LiClO 4 /
It was dissolved in 4 g of a γ-butyrolactone solution to obtain a solid ion conductive material precursor. Preparation of light modulating body The color developing material electrode and the counter electrode were opposed to each other with glass beads having a particle size of 200 μm therebetween, and the periphery was sealed with an epoxy resin to a width of 5 mm. After vacuum injection and ultraviolet curing, the injection port was sealed with epoxy resin. Next, a lead wire was connected to each of the coloring material and the counter electrode to form a dimmer. Next, the performance evaluation of the obtained light control body was evaluated based on the following tests. When a color- discoloration test was performed under the same conditions as in Example 1, a color-discoloration test was performed.
It was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.15. Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.25. At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.9
It was 0. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0033】実施例9中間層の作製 ガラス基板上にZnO超微粒子分散塗料(レジノカラー
工業社製、UV−S−400)をディップコートにより
塗布し、200℃で20分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約2μmの紫外線吸収層を作製した。この上に
ポリエーテルサルフォン(ICI社製、`VICTRE
X´PES 4100P)の塩化メチレン溶液をスピン
コートすることにより、厚さ約2μmのポリマー層を作
製した。紫外線吸収層の作製 さらに、実施例7で作製したのと同様に、厚さ約15μ
mの紫外線吸収層を作製した。オーバーコート層の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、ポリイミドワニ
ス(日産化学工業社製、RN−812)をスピンコート
した。ホットプレート上60℃で溶媒が乾燥させた後、
オーブン中200℃で30分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約2μmのオーバーコート層を得た。透明導電膜の作製 さらにこの上に、基板温度250℃以下でITOのスパ
ッタリングを行い、膜厚2050オングストローム、表
面抵抗9. 5Ω/cm2 の透明電極紫外線遮断能を有す
る透明導電基板を得た。 発色材電極の作製 こうして得られた紫外線遮断能を有する透明導電基板1
0×10cmを用いて、5モル/lの塩酸アニリン、0.
5規定の過塩素酸溶液中で、500μA/cm2 の電流
密度で電解重合を行い、重合面積70cm2 、厚さ約3
000オングストロームのポリアニリン膜を得た。対向電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、電解重合で得られ
た表面積73m2 /gのポリピロール粉末を、実施例1
と同様な導電性接着剤を用いて横縞状に接着した。この
際、線間隔1cm、線幅0.5mm、ポリピロール粉末
の使用量は0.65mg/cmとした。次に、ポリピロ
ール層の上にポリエステルフィルムを接着して、絶縁層
を設け対向電極とした。イオン伝導性ゲル前駆体の調製 メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート10
g、γ−ブチロラクトン40g、過塩素酸リチウム4g
を混合し、遮光下で、光重合開始剤ダロキュアー117
3(チバガイギー製)0.2gを添加した。調光体の作製 実施例8と同様に、イオン伝導性ゲル前駆体を真空中入
し、調光体を作製した。着消色試験 実施例1と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は0.65であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように1Vの電圧を60秒間印可したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は0.20で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、0.4
5であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。
Example 9 Preparation of Intermediate Layer A ZnO ultrafine particle dispersion coating material (UV-S-400, manufactured by Resino Color Industrial Co., Ltd.) was applied on a glass substrate by dip coating, and cured by heating at 200 ° C. for 20 minutes. An ultraviolet absorbing layer having a thickness of about 2 μm was prepared. On top of this, polyether sulfone (VICTRE, manufactured by ICI)
X'PES 4100P) was spin-coated with a methylene chloride solution to prepare a polymer layer having a thickness of about 2 µm. Preparation of UV-absorbing layer Further, as in the case of Example 7, the thickness was about 15 μm.
m of an ultraviolet absorbing layer. Preparation of Overcoat Layer A polyimide varnish (RN-812, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was spin-coated on the ultraviolet absorbing layer thus obtained. After the solvent was dried on a hot plate at 60 ° C,
An overcoat layer having a thickness of about 2 μm was obtained by heating and curing in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Preparation of Transparent Conductive Film Further, ITO was sputtered on the transparent conductive film at a substrate temperature of 250 ° C. or less to obtain a transparent conductive substrate having a thickness of 2050 Å and a surface resistance of 9.5 Ω / cm 2 , which has a function of blocking ultraviolet rays from transparent electrodes. Preparation of Coloring Material Electrode Transparent Conductive Substrate 1 Obtained in this Way Having Ultraviolet Ray Blocking Ability
Using 0 × 10 cm, 5 mol / l aniline hydrochloride, 0.
Electropolymerization was performed in a 5N perchloric acid solution at a current density of 500 μA / cm 2 , and the polymerization area was 70 cm 2 and the thickness was about 3
A polyaniline film of 000 Å was obtained. Preparation of Counter Electrode A polypyrrole powder having a surface area of 73 m 2 / g obtained by electrolytic polymerization was placed on ITO glass of 10 × 10 cm in Example 1.
Using a conductive adhesive similar to that described above, they were bonded in the form of horizontal stripes. At this time, the line spacing was 1 cm, the line width was 0.5 mm, and the amount of polypyrrole powder used was 0.65 mg / cm. Next, a polyester film was adhered on the polypyrrole layer to provide an insulating layer, which was used as a counter electrode. Preparation of ion-conductive gel precursor methoxytetraethylene glycol methacrylate 10
g, γ-butyrolactone 40 g, lithium perchlorate 4 g
And under light shielding, the photopolymerization initiator Darocur 117
3 (manufactured by Ciba-Geigy) 0.2 g was added. Preparation of light control body In the same manner as in Example 8, the ion-conductive gel precursor was placed in a vacuum to prepare a light control body. When a color- discoloration test was performed under the same conditions as in Example 1, a color-discoloration test was performed.
It was colored blue uniformly, and the optical density at the time of coloring was 0.65. Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.20. At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring is 0.4
It was 5. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester, but the coloring remained, disappearance of the response, decrease of the optical density difference, etc. were hardly observed, and extremely stable. It was cycle characteristics.

【0034】比較例1発色材電極の作製 10×10cmのITOガラス上に、実施例1と同様にW
3 を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 実施例2と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を作製
した。調光体の作製 実施例1と同様に、電解液を真空中入し、調光体を作製
した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに1Vの電圧を120秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は1.08であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに1Vの電圧を60秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は0.20であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、0.88であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下が観察され、
光学密度差は、0.25に減少した。
Comparative Example 1 Production of Coloring Material Electrode On a 10 × 10 cm ITO glass, W was formed in the same manner as in Example 1.
O 3 was vapor-deposited to produce a coloring material electrode. Preparation of Counter Electrode Activated carbon fibers were arranged in the same manner as in Example 2 to prepare a counter electrode. Preparation of Light Modulator In the same manner as in Example 1, an electrolytic solution was put in vacuum to prepare a light modulator. Coloring / Decoloring Test Next, when a voltage of 1 V was applied for 120 seconds so that the color material electrode side was a negative electrode and the counter electrode side was a positive electrode, the color was uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring was 1.08. . Subsequently, when a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that the color-forming material electrode side became a positive electrode and the counter electrode side became a negative electrode, the coloring disappeared immediately, and the optical density at this time was 0.20.
At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.88. Cycling test under ultraviolet irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester.
The optical density difference has been reduced to 0.25.

【0035】比較例2無機紫外線吸収層の作製 ガラス基板上にZnO超微粒子分散塗料(レジノカラー
工業社製、UV−S−400)をディップコートにより
塗布し、200℃で20分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約2μmの紫外線吸収層を作製した。透明導電膜の作製 この上に、基板温度250℃以下でITOのスパッタリ
ングを行い、膜厚2050オングストローム、表面抵抗
9. 5Ω/cm2 の透明電極紫外線遮断能を有する透明
導電基板を得た。この透明導電基板の分光透過率を図1
2に示した。 発色材電極の作製 実施例1と同様にWO3 を蒸着し、発色材電極を作製し
た。対向電極の作製 実施例2と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を作製
した。調光体の作製 実施例8と同様に、イオン伝導性ゲル前駆体を真空中入
し、調光体を作製した。着消色試験 実施例1と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は1.15であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように1Vの電圧を60秒間印可したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は0.25で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、0.9
0であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で1200回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下が観察され、
光学密度差は、0.65まで減少した。
Comparative Example 2Preparation of inorganic ultraviolet absorbing layer ZnO ultrafine particle dispersion paint (Resino Color
Industrial Co., UV-S-400) by dip coating
Apply and heat cure at 200 ° C for 20 minutes.
Thus, an ultraviolet absorbing layer having a thickness of about 2 μm was produced.Preparation of transparent conductive film On top of this, ITO sputtering is performed at a substrate temperature of 250 ° C or less.
Film thickness 2050 Å, surface resistance
9.5Ω / cmTwoTransparent electrode transparent with ultraviolet blocking ability
A conductive substrate was obtained. FIG. 1 shows the spectral transmittance of the transparent conductive substrate.
2 is shown. Production of coloring material electrode WO as in Example 1ThreeTo form a color material electrode
Was.Fabrication of counter electrode Activated carbon fibers were arranged in the same manner as in Example 2 to produce a counter electrode.
did.Fabrication of dimmer As in Example 8, the ion-conductive gel precursor was placed in a vacuum.
Then, a light control body was produced.Coloring test When a color erasing test was performed under the same conditions as in Example 1,
It is uniformly colored blue, and the optical density at the time of coloring is 1.15.
Was. Subsequently, the color material electrode side is a positive electrode, and the counter electrode side is a negative electrode.
When a voltage of 1 V was applied for 60 seconds so that
The coloring disappears promptly, and the optical density at this time is 0.25.
there were. At this time, the difference in optical density between coloring and decoloring was 0.9
It was 0.Cycle test under UV irradiation The coloring test and the decoloring test were performed 1200 times in a sun tester.
Although the coloration disappeared, a decrease in responsiveness was observed,
The optical density difference decreased to 0.65.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のエレクトロクロミック素子の構造説明
図である。
FIG. 1 is a structural explanatory view of an electrochromic device of the present invention.

【図2】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。
FIG. 2 is a structural explanatory view of another electrochromic device of the present invention.

【図3】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。
FIG. 3 is a structural explanatory view of another electrochromic device of the present invention.

【図4】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。
FIG. 4 is a structural explanatory view of another electrochromic device of the present invention.

【図5】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。
FIG. 5 is a structural explanatory view of another electrochromic device of the present invention.

【図6】実施例1で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Example 1.

【図7】実施例3で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Example 3.

【図8】実施例4で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Example 4.

【図9】実施例5で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Example 5.

【図10】実施例6で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。
FIG. 10 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Example 6.

【図11】実施例7で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。
11 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Example 7. FIG.

【図12】比較例2で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing the spectral transmittance of the transparent conductive substrate manufactured in Comparative Example 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b 透明基板 2a,2a’ 透明電極 3 紫外線吸収層 4 エレクトロクロミック層 5 シール剤 6 イオン伝導性物質 7 中間層 8 オーバーコート層 9 不透明基板 1a, 1b Transparent substrate 2a, 2a 'Transparent electrode 3 Ultraviolet absorbing layer 4 Electrochromic layer 5 Sealant 6 Ion conductive material 7 Intermediate layer 8 Overcoat layer 9 Opaque substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 錦谷 禎範 横浜市中区千鳥町8番地 日本石油株式会 社中央技術研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Yoshinori Nishikiya 8 Chidori-cho, Naka-ku, Yokohama, Japan Central Research Laboratory of Petroleum Corporation

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも内側面に電極を有する一対の
対向導電基板と、対向導電基板の間に挟持して設けたイ
オン伝導物質と、導電基板の内側面の電極およびイオン
伝導性物質の間の少なくとも一方に設けたエレクトロク
ロミック性物質を含む層とを備えたエレクトロクロミッ
ク素子であり、 前記対向電極の少なくとも一方が透明基板およびこの透
明基板の内側に配置した透明電極を備える透明導電基板
であり、透明導電基板の少なくとも一方の透明基板と透
明電極との間に紫外線吸収層を有し、該紫外線吸収層
が、 (a)一般式(1)に示されるアミノシラン化合物また
はその誘導体と、 【化1】 (式中、R1 は炭素数1〜10のアルキレン基、または
一般式−(CH2 m −NH−[mは1≦m≦4の整
数]で表される2価の基を示し、各々のR2 は同一若し
くは異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原
子、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10の
アルコキシ基を示す。但し全てのR2 のうち少なくとも
一つはアルコキシ基若しくは水酸基を示す。nはn≧0
の整数を示す。) (b)分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤と
を反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導体に
由来するアミド結合を生成せしめた成分を、透明基板の
上に塗布、硬化することによって作製されたることを特
徴とするエレクトロクロミック素子。
A pair of opposing conductive substrates having electrodes on at least inner surfaces thereof, an ion conductive material sandwiched between the opposing conductive substrates, and an ion conductive material between the electrodes on the inner surface of the conductive substrate and the ion conductive material. An electrochromic element comprising: a layer containing an electrochromic substance provided on at least one side; and at least one of the counter electrodes is a transparent substrate and a transparent conductive substrate including a transparent electrode disposed inside the transparent substrate, An ultraviolet absorbing layer between at least one of the transparent conductive substrates and the transparent electrode, the ultraviolet absorbing layer comprising: (a) an aminosilane compound represented by the general formula (1) or a derivative thereof; ] (Wherein, R 1 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a divalent group represented by the general formula — (CH 2 ) m —NH— [m is an integer of 1 ≦ m ≦ 4], Each R 2 is the same or different and represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, provided that at least one of all R 2 is One represents an alkoxy group or a hydroxyl group, and n represents n ≧ 0.
Indicates an integer. (B) a component produced by reacting with an ultraviolet absorber having a carboxyl group in the molecule to form an amide bond derived from the aminosilane compound or a derivative thereof on a transparent substrate and curing the component; An electrochromic device characterized by being dipped.
【請求項2】 上記紫外線吸収層と透明電極との間にオ
ーバーコート層を設けたことを特徴とする請求項1に記
載のエレクトロクロミック素子。
2. The electrochromic device according to claim 1, wherein an overcoat layer is provided between the ultraviolet absorbing layer and the transparent electrode.
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JP2009042578A (en) * 2007-08-09 2009-02-26 Andes Denki Kk Light control multilayer film structure, and light modulation structure

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