JPH10204057A - Halogenated thioformate derivative and its production - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、医農薬中間体及び
有機中間体として有用な、パラ位に４級炭素又はトリ低
級アルキルシリル基の置換したフェニル＝ハロゲノチオ
ホルメート誘導体、パラ位に４級炭素の置換したフェノ
ール誘導体、及びパラ位に４級炭素又はトリ低級アルキ
ルシリル基の置換したフェニル＝ハロゲノチオホルメー
ト誘導体の製造方法に関する。The present invention relates to a phenyl-halogenothioformate derivative substituted with a quaternary carbon or tri-lower alkylsilyl group at the para-position, which is useful as a medicinal and agricultural chemical intermediate and an organic intermediate. The present invention relates to a method for producing a phenol derivative substituted with a quaternary carbon, and a phenyl halogenothioformate derivative substituted with a quaternary carbon or a tri-lower alkylsilyl group at the para position.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ハロゲン化チオホルメートとして
は、例えば特開昭５７−１７６９５２号公報に記載の４
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル＝クロロチオホルメートな
どが知られている。しかしこの４−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル＝クロロチオホルメートの４−ｔｅｒｔ−ブチル
基は反応性に乏しく、後から置換基を導入するなどの修
飾を行うことが困難であった。一方、医農薬中間体又は
有機中間体であるハロゲン化チオホルメートは、種々の
化合物を合成するために修飾しやすい基を有する物が望
まれていた。2. Description of the Related Art Conventionally, halogenated thioformates include, for example, those described in JP-A-57-176952.
-Tert-butylphenyl = chlorothioformate and the like are known. However, the 4-tert-butyl group of this 4-tert-butylphenyl chlorothioformate has poor reactivity, and it has been difficult to perform subsequent modifications such as introduction of a substituent. On the other hand, a halogenated thioformate, which is an intermediate for medical and agricultural chemicals or an organic intermediate, is desired to have a group that can be easily modified in order to synthesize various compounds.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、修飾
しやすい置換基を有するハロゲン化チオホルメート誘導
体及びフェノール誘導体を提供し、さらに該化合物の安
価で、簡便な工業的製造方法を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a halogenated thioformate derivative and a phenol derivative having a substituent which can be easily modified, and to provide an inexpensive and simple industrial production method of the compound. It is.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、生理活性
物質の製造中間体について鋭意研究を重ねた結果、上記
一般式［１］で示される本発明化合物が、チオカルバミ
ン酸誘導体あるいはその他の生理活性物質の製造中間体
として有用であり、修飾しやすい基を有する物であり、
さらにそれらは、簡便かつ経済的な方法で製造できるこ
とを発見し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies on intermediates for producing a physiologically active substance, the present inventors have found that the compound of the present invention represented by the above general formula [1] is a thiocarbamic acid derivative or other compound. Is useful as an intermediate for the production of a physiologically active substance, and has a group that can be easily modified,
Furthermore, they have found that they can be manufactured in a simple and economical manner, and have completed the present invention.
【０００５】即ち、本発明は、一般式［１］That is, the present invention provides a compound represented by the general formula [1]:
【０００６】[0006]
【化７】 Embedded image
【０００７】［式中Ｒはトリ低級アルキルシリル基、式
［２］Wherein R is a tri-lower alkylsilyl group;
【０００８】[0008]
【化８】 Embedded image
【０００９】（Ｒ1は低級アルコキシ基、シアノ基、低
級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、カルバモイ
ル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アシル基、低
級アシルオキシ基、もしくは低級アシルアミノ基を表
す。）、または式［３］(R 1 represents a lower alkoxy group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group, a lower acyl group, a lower acyloxy group, or a lower acylamino group); 3]
【００１０】[0010]
【化９】 Embedded image
【００１１】（Ｒ2は低級アルコキシ基、シアノ基、ヒ
ドロキシ基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイ
ル基、低級アシルオキシ基、低級アシルアミノ基もしく
はアミノ基を表す。）で表される基を表し、Ｖはハロゲ
ン原子を表す。］で表されることを特徴とするハロゲン
化チオホルメート誘導体である。(R 2 represents a lower alkoxy group, a cyano group, a hydroxy group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group, a lower acyloxy group, a lower acylamino group or an amino group), and V represents a halogen. Represents an atom. ] It is the halogenated thioformate derivative characterized by being represented by these.
【００１２】また本発明は、一般式［４］Further, the present invention provides a compound represented by the general formula [4]:
【００１３】[0013]
【化１０】 Embedded image
【００１４】（式中Ｒ3は低級アルコキシ基、低級アル
コキシメチル基、シアノメチル基、アミノメチル基、低
級アシルアミノメチル基、低級アシルオキシメチル基、
ヒドロキシメチル基を表す。）で表されることを特徴と
するフェノール誘導体及びその塩である。(Wherein R 3 is a lower alkoxy group, a lower alkoxymethyl group, a cyanomethyl group, an aminomethyl group, a lower acylaminomethyl group, a lower acyloxymethyl group,
Represents a hydroxymethyl group. And a salt thereof.
【００１５】さらに本発明は、一般式［５］Further, the present invention provides a compound represented by the general formula [5]:
【００１６】[0016]
【化１１】 Embedded image
【００１７】（式中Ｒは前記と同様の意味を表す。）で
表されるフェノール誘導体とチオホスゲン等のハロゲノ
チオカルボニル化剤を反応させることを特徴とする一般
式［１］で表されるハロゲン化チオホルメート誘導体の
製造方法である。(Wherein R represents the same meaning as described above), and a halogeno represented by the general formula [1] characterized by reacting a phenol derivative represented by the formula (1) with a halogenothiocarbonylating agent such as thiophosgene. This is a method for producing a thioformate derivative.
【００１８】以下本発明について詳述する。まず本発明
の化合物である一般式［１］及び［４］について詳述す
る。Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, general formulas [1] and [4], which are the compounds of the present invention, will be described in detail.
【００１９】本発明の一般式の定義において、特に断ら
ない限り「低級」なる用語は炭素数が１〜６個の直鎖ま
たは分枝した炭素鎖を意味する。In the definition of the general formula of the present invention, unless otherwise specified, the term "lower" means a straight or branched carbon chain having 1 to 6 carbon atoms.
【００２０】したがって、低級アルキル基としては、具
体的には例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル（アミル）基、イソ
ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、
１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１，２−ジ
メチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、１−
メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチル
ペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメ
チルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジ
メチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エチ
ルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメ
チルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、
１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−
メチルプロピル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−ペンチル基、１，１−ジメチルブチル基等である。Therefore, specific examples of the lower alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl (amyl) group, Isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group,
1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, hexyl group, isohexyl group, 1-
Methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 1,1-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 3, 3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group,
1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2-
Methylpropyl group and the like, preferably a methyl group,
Ethyl group, propyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, tert
-Pentyl, 1,1-dimethylbutyl and the like.
【００２１】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げることが出来る。
好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子である。Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Preferred are a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
【００２２】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、１−メチルブ
チルオキシ基、２−メチルブチルオキシ基、３−メチル
ブチルオキシ基、１，２−ジメチルプロピルオキシ基、
１，１−ジメチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、１−メチルペンチルオキシ基、１−エチルプロピル
オキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペ
ンチルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、１，２
−ジメチルブチルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオ
キシ基、２，３−ジメチルブチルオキシ基、１，１−ジ
メチルブチルオキシ基、２，２−ジメチルブチルオキシ
基、３，３−ジメチルブチルオキシ基等が挙げられ、好
ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、
１，２−ジメチルプロピルオキシ基等である。Examples of the lower alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group,
Butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, t
ert-butoxy group, pentyloxy group, 1-methylbutyloxy group, 2-methylbutyloxy group, 3-methylbutyloxy group, 1,2-dimethylpropyloxy group,
1,1-dimethylpropyloxy group, hexyloxy group, 1-methylpentyloxy group, 1-ethylpropyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 2
-Dimethylbutyloxy group, 1,3-dimethylbutyloxy group, 2,3-dimethylbutyloxy group, 1,1-dimethylbutyloxy group, 2,2-dimethylbutyloxy group, 3,3-dimethylbutyloxy group And the like, preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a tert-butoxy group,
And a 1,2-dimethylpropyloxy group.
【００２３】トリ低級アルキルシリル基としては、トリ
メチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジエチルメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルプロピル
シリル基、エチルメチルプロピルシリル基、ジプロピル
メチルシリル基、ジエチルプロピルシリル基、ジプロピ
ルエチルシリル基、トリプロピルシリル基、ジメチルイ
ソプロピルシリル基、エチルメチルイソプロピルシリル
基、ジイソプロピルメチルシリル基、ジエチルイソプロ
ピルシリル基、ジイソプロピルエチルシリル基、トリイ
ソプロピルシリル基、ブチルジメチルシリル基、ブチル
エチルメチルシリル基、ブチルメチルプロピルシリル
基、ブチルジエチルシリル基、ブチルエチルプロピルシ
リル基、ブチルジプルピルシリル基、ジブチルメチルシ
リル基、ジブチルエチルシリル基、ジブチルプロピルシ
リル基、トリブチルシリル基、ジメチルイソブチルシリ
ル基、エチルイソブチルメチルシリル基、イソブチルメ
チルプロピルシリル基、ジエチルイソブチルシリル基、
エチルイソブチルプロピルシリル基、イソブチルジプロ
ピルシリル基、ジイソブチルメチルシリル基、ジイソブ
チルエチルシリル基、ジイソブチルプロピルシリル基、
トリイソブチルシリル基等が挙げられ、好ましくは、ト
リメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジエチル
メチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルプロピ
ルシリル基、エチルメチルプロピルシリル基、ジメチル
イソプロピルシリル基、ブチルジメチルシリル基等であ
る。The tri-lower alkylsilyl groups include trimethylsilyl, dimethylethylsilyl, diethylmethylsilyl, triethylsilyl, dimethylpropylsilyl, ethylmethylpropylsilyl, dipropylmethylsilyl, diethylpropylsilyl, Dipropylethylsilyl, tripropylsilyl, dimethylisopropylsilyl, ethylmethylisopropylsilyl, diisopropylmethylsilyl, diethylisopropylsilyl, diisopropylethylsilyl, triisopropylsilyl, butyldimethylsilyl, butylethylmethyl Silyl group, butylmethylpropylsilyl group, butyldiethylsilyl group, butylethylpropylsilyl group, butyldipropylsilyl group, dibutylmethylsilyl group, Rushiriru group, dibutyl-propyl silyl group, tri-butyl silyl group, dimethyl isobutyl silyl group, ethyl isobutyl methyl silyl group, isobutyl methyl propyl silyl group, diethyl-iso-butylsilyl group,
Ethyl isobutylpropylsilyl group, isobutyldipropylsilyl group, diisobutylmethylsilyl group, diisobutylethylsilyl group, diisobutylpropylsilyl group,
Triisobutylsilyl group and the like, preferably, trimethylsilyl group, dimethylethylsilyl group, diethylmethylsilyl group, triethylsilyl group, dimethylpropylsilyl group, ethylmethylpropylsilyl group, dimethylisopropylsilyl group, butyldimethylsilyl group and the like It is.
【００２４】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、イソプロポキシ基、ブトキシカ
ルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブト
キシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、
ペンチルオキシカルボニル基、１−メチルブチルオキシ
カルボニル基、２−メチルブチルオキシカルボニル基、
３−メチルブチルオキシカルボニル基、１，２−ジメチ
ルプロピルオキシカルボニル基、１，１−ジメチルプロ
ピルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル
基、１−メチルペンチルオキシカルボニル基、１−エチ
ルプロピルオキシカルボニル基、２−メチルペンチルオ
キシカルボニル基、３−メチルペンチルオキシカルボニ
ル基、４−メチルペンチルオキシカルボニル基、１，２
−ジメチルブチルオキシカルボニル基、１，３−ジメチ
ルブチルオキシカルボニル基、２，３−ジメチルブチル
オキシカルボニル基、１，１−ジメチルブチルオキシカ
ルボニル基、２，２−ジメチルブチルオキシカルボニル
基、３，３−ジメチルブチルオキシカルボニル基等が挙
げられ、好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキ
シカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル基、１，２−ジメチルプロピルオキシ
カルボニル基等である。The lower alkoxycarbonyl group includes, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxy, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl,
Pentyloxycarbonyl group, 1-methylbutyloxycarbonyl group, 2-methylbutyloxycarbonyl group,
3-methylbutyloxycarbonyl group, 1,2-dimethylpropyloxycarbonyl group, 1,1-dimethylpropyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, 1-methylpentyloxycarbonyl group, 1-ethylpropyloxycarbonyl group, 2 -Methylpentyloxycarbonyl group, 3-methylpentyloxycarbonyl group, 4-methylpentyloxycarbonyl group, 1,2
-Dimethylbutyloxycarbonyl group, 1,3-dimethylbutyloxycarbonyl group, 2,3-dimethylbutyloxycarbonyl group, 1,1-dimethylbutyloxycarbonyl group, 2,2-dimethylbutyloxycarbonyl group, 3,3 -Dimethylbutyloxycarbonyl group and the like, preferably a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, a 1,2-dimethylpropyloxycarbonyl group. And so on.
【００２５】低級アルキルカルバモイル基としては、例
えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイ
ル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロ
ピルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジプロピルカルバモイル基等が挙げられる。好ましく
は、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイ
ル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基等である。Examples of the lower alkylcarbamoyl group include N-methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-butylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-ethyl-N-methyl Carbamoyl group, N-methyl-N-propylcarbamoyl group, N-ethyl-N-propylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N, N-
And a dipropylcarbamoyl group. Preferred are an N-methylcarbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, an N-propylcarbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, an N-ethyl-N-methylcarbamoyl group, an N, N-diethylcarbamoyl group and the like.
【００２６】低級アシル基としては、例えばホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、１−メチルプロピルカルボニル
基、イソバレリル基、ペンチルカルボニル基、１−メチ
ルブチルカルボニル基、２−メチルブチルカルボニル
基、３−メチルブチルカルボニル基、１−エチルプロピ
ルカルボニル基、２−エチルプロピルカルボニル基等を
挙げることができる。好ましくは、ホルミル基、アセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等
である。Examples of lower acyl groups include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, 1-methylpropylcarbonyl, isovaleryl, pentylcarbonyl, 1-methylbutylcarbonyl, -Methylbutylcarbonyl group, 3-methylbutylcarbonyl group, 1-ethylpropylcarbonyl group, 2-ethylpropylcarbonyl group and the like. Preferred are a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group and the like.
【００２７】低級アシルオキシ基としては、ホルミルオ
キシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリ
ルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基
等を挙げることができる。好ましくは、ホルミルオキシ
基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等である。Examples of the lower acyloxy group include a formyloxy group, an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group and a valeryloxy group. Preferred are a formyloxy group, an acetoxy group, a propionyloxy group and the like.
【００２８】低級アシルアミノ基としては、ホルミルア
ミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブ
チリルアミノ基、イソブチリルアミノ基、バレリルアミ
ノ基、ホルミル−Ｎ−メチルアミノ基、アセチル−Ｎ−
メチルアミノ基、プロピオニル−Ｎ−メチルアミノ基、
ホルミル−Ｎ−エチルアミノ基、アセチル−Ｎ−エチル
アミノ基、プロピオニル−Ｎ−エチルアミノ基、ホルミ
ル−Ｎ−プロピルアミノ基、アセチル−Ｎ−プロピルア
ミノ基、プロピオニル−Ｎ−プロピルアミノ基等を挙げ
ることができる。好ましくは、ホルミルアミノ基、アセ
チルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ホルミル−Ｎ−
メチルアミノ基、アセチル−Ｎ−メチルアミノ基等であ
る。The lower acylamino groups include formylamino, acetylamino, propionylamino, butyrylamino, isobutyrylamino, valerylamino, formyl-N-methylamino, acetyl-N-
A methylamino group, a propionyl-N-methylamino group,
Formyl-N-ethylamino group, acetyl-N-ethylamino group, propionyl-N-ethylamino group, formyl-N-propylamino group, acetyl-N-propylamino group, propionyl-N-propylamino group and the like. be able to. Preferably, formylamino group, acetylamino group, propionylamino group, formyl-N-
And a methylamino group and an acetyl-N-methylamino group.
【００２９】低級アルコキシメチル基としては、例えば
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチ
ル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イ
ソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、１
−メチルブチルオキシメチル基、２−メチルブチルオキ
シメチル基、３−メチルブチルオキシメチル基、１，２
−ジメチルプロピルオキシメチル基、１，１−ジメチル
プロピルオキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、１
−メチルペンチルオキシメチル基、１−エチルプロピル
オキシメチル基、２−メチルペンチルオキシメチル基、
３−メチルペンチルオキシメチル基、４−メチルペンチ
ルオキシメチル基、１，２−ジメチルブチルオキシメチ
ル基、１，３−ジメチルブチルオキシメチル基、２，３
−ジメチルブチルオキシメチル基、１，１−ジメチルブ
チルオキシメチル基、２，２−ジメチルブチルオキシメ
チル基、３，３−ジメチルブチルオキシメチル基等が挙
げられ、好ましくは、メトキシメチル基、エトキシメチ
ル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、
ブトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基、１，
２−ジメチルプロピルオキシメチル基等である。The lower alkoxymethyl group includes, for example, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, isobutoxymethyl group, sec-butoxymethyl group, te
rt-butoxymethyl group, pentyloxymethyl group, 1
-Methylbutyloxymethyl group, 2-methylbutyloxymethyl group, 3-methylbutyloxymethyl group, 1,2
-Dimethylpropyloxymethyl group, 1,1-dimethylpropyloxymethyl group, hexyloxymethyl group, 1
-Methylpentyloxymethyl group, 1-ethylpropyloxymethyl group, 2-methylpentyloxymethyl group,
3-methylpentyloxymethyl group, 4-methylpentyloxymethyl group, 1,2-dimethylbutyloxymethyl group, 1,3-dimethylbutyloxymethyl group, 2,3
-Dimethylbutyloxymethyl group, 1,1-dimethylbutyloxymethyl group, 2,2-dimethylbutyloxymethyl group, 3,3-dimethylbutyloxymethyl group, and the like, preferably methoxymethyl group, ethoxymethyl Group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group,
Butoxymethyl group, tert-butoxymethyl group, 1,
And a 2-dimethylpropyloxymethyl group.
【００３０】低級アシルオキシメチル基としては、ホル
ミルオキシメチル基、アセトキシメチル基、プロピオニ
ルオキシメチル基、ブチリルオキシメチル基、イソブチ
リルオキシメチル基、バレリルオキシメチル基等を挙げ
ることができる。好ましくは、ホルミルオキシメチル
基、アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基
等である。Examples of the lower acyloxymethyl group include a formyloxymethyl group, an acetoxymethyl group, a propionyloxymethyl group, a butyryloxymethyl group, an isobutyryloxymethyl group, and a valeryloxymethyl group. Preferred are a formyloxymethyl group, an acetoxymethyl group, a propionyloxymethyl group and the like.
【００３１】低級アシルアミノメチル基としては、ホル
ミルアミノメチル基、アセチルアミノメチル基、プロピ
オニルアミノメチル基、ブチリルアミノメチル基、イソ
ブチリルアミノメチル基、バレリルアミノメチル基、ホ
ルミル−Ｎ−メチルアミノメチル基、アセチル−Ｎ−メ
チルアミノメチル基、プロピオニル−Ｎ−メチルアミノ
メチル基、ホルミル−Ｎ−エチルアミノメチル基、アセ
チル−Ｎ−エチルアミノメチル基、プロピオニル−Ｎ−
エチルアミノメチル基、ホルミル−Ｎ−プロピルアミノ
メチル基、アセチル−Ｎ−プロピルアミノメチル基、プ
ロピオニル−Ｎ−プロピルアミノメチル基等を挙げるこ
とができる。好ましくは、ホルミルアミノメチル基、ア
セチルアミノメチル基、プロピオニルアミノメチル基、
ホルミル−Ｎ−メチルアミノメチル基、アセチル−Ｎ−
メチルアミノメチル基等である。Examples of the lower acylaminomethyl group include formylaminomethyl, acetylaminomethyl, propionylaminomethyl, butyrylaminomethyl, isobutyrylaminomethyl, valerylaminomethyl, and formyl-N-methyl. Aminomethyl group, acetyl-N-methylaminomethyl group, propionyl-N-methylaminomethyl group, formyl-N-ethylaminomethyl group, acetyl-N-ethylaminomethyl group, propionyl-N-
Examples thereof include an ethylaminomethyl group, a formyl-N-propylaminomethyl group, an acetyl-N-propylaminomethyl group, and a propionyl-N-propylaminomethyl group. Preferably, a formylaminomethyl group, an acetylaminomethyl group, a propionylaminomethyl group,
Formyl-N-methylaminomethyl group, acetyl-N-
And a methylaminomethyl group.
【００３２】これら本発明化合物である一般式［１］
［４］のなかには不斉炭素が含まれるものがある。本発
明化合物は、光学活性体、ラセミ体、ジアステレオマー
等の各種光学異性体の混合物及びそれらの単離されたも
のを含む。The compounds of the present invention represented by the general formula [1]
Some of [4] include an asymmetric carbon. The compound of the present invention includes a mixture of various optical isomers such as an optically active substance, a racemate, a diastereomer and the like, and an isolated form thereof.
【００３３】これら本発明化合物である一般式［１］
［４］のなかにはアミン残基を持っているものがある。
これらのアミン誘導体は酸付加体を形成する場合があ
る。そのような塩としては、例えば、塩化水素、臭化水
素、硫酸、燐酸等の鉱酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、マロ
ン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、トリフル
オロメタンスルホン酸等の有機酸等との酸付加体塩等を
挙げることができる。さらに、本発明化合物［１］
［４］の各種水和物、溶媒和物や結晶多形の物質も含ま
れる。These compounds of the present invention are represented by the general formula [1]:
Some [4] have an amine residue.
These amine derivatives may form an acid adduct. Such salts include, for example, mineral acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, lactic acid, malic acid, tartaric acid, Acid addition salts with organic acids such as citric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and the like can be mentioned. Furthermore, the present compound [1]
Various hydrates, solvates and polymorphic substances of [4] are also included.
【００３４】化合物［４］は、化合物［１］の合成に用
いることができる。Compound [4] can be used for the synthesis of compound [1].
【００３５】製造法に関しては、本発明化合物は種々の
方法により製造できるが、以下代表的な製造法を示す。With respect to the production method, the compound of the present invention can be produced by various methods, and typical production methods are shown below.
【００３６】製造法１Manufacturing method 1
【００３７】[0037]
【化１２】 Embedded image
【００３８】一般式［１］で表されるハロゲン化チオホ
ルメートは、対応するフェノール化合物［５］と例えば
チオホスゲン等のハロゲノチオカルバメート化剤を塩基
存在下、無溶媒あるいは溶媒中で−１０℃ないし１００
℃で数分から２４時間反応させることにより製造するこ
とができる。The halogenated thioformate represented by the general formula [1] can be prepared by reacting the corresponding phenol compound [5] with a halogenothiocarbamate such as thiophosgene in the presence of a base without a solvent or in a solvent at -10 ° C to 100 ° C.
It can be produced by reacting at a temperature of several minutes to 24 hours.
【００３９】塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等の無機塩基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の
水素化アルカリ金属、水素化カルシウム等の水素化アル
カリ土類金属、或いはピリジン、コリジン、ルチジン、
トリエチルアミン、トリメチレンジアミン、１，８−ジ
アザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）等の有機塩基を挙げることができる。As the base, for example, sodium hydroxide,
Potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate,
Potassium carbonate, sodium bicarbonate, inorganic bases such as potassium bicarbonate, sodium hydride, alkali metal hydrides such as lithium hydride, alkaline earth metals such as calcium hydride, or pyridine, collidine, lutidine,
Triethylamine, trimethylenediamine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene (DB
And organic bases such as U).
【００４０】溶媒としては、水あるいはｎ−ヘキサン、
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等の有機ハロゲン化合物、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、
メタノール、エタノール等のアルコール類等を挙げるこ
とができる。また、このような溶媒を、数種類混合して
用いてもよい。As a solvent, water or n-hexane,
Aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, organic halogen compounds such as dichloromethane and chloroform, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene, dimethylformamide, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide,
Examples thereof include alcohols such as methanol and ethanol. In addition, several kinds of such solvents may be used as a mixture.
【００４１】フェノール化合物［５］とチオホスゲン等
のハロゲノチオカルバメート化剤とはそれぞれ等モルあ
るいは一方をやや過剰モルとして反応に供するのが好ま
しい。The phenol compound [5] and the halogenothiocarbamate such as thiophosgene are preferably used in the reaction in an equimolar amount or in a slightly excessive molar amount.
【００４２】本発明のハロゲン化チオホルメートの原料
となるフェノール化合物［５］は、種々の方法により製
造できるが、以下代表的な製造法を示す。The phenolic compound [5] used as a raw material of the halogenated thioformate of the present invention can be produced by various methods. The following is a typical production method.
【００４３】式１−１Equation 1-1
【００４４】[0044]
【化１３】 Embedded image
【００４５】（式中、Ｘはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リル基あるいはメトキシメチル基を表す。Ｒ4は低級ア
ルキル基を表す。） 化合物［７］は、化合物［６］の水酸基を保護すること
により合成することが出来る。保護基としては例えばｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基あるいはメトキシメチ
ル基を挙げることが出来る。保護基のｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基は、例えば化合物［６］をジメチルホ
ルムアミド等の溶媒中、イミダゾール等の塩基存在下、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド等のシリル
化剤と、氷冷ないし５０℃で数分から４０時間反応する
ことにより製造できる。保護基のメトキシメチル基は、
例えば化合物［６］をエーテル、テトラヒドロフラン等
の溶媒中、水素化ナトリウム、エチルジイソプロピルア
ミン等の塩基存在下、クロロメチルメチルエーテルと氷
冷ないし５０℃で数分から４０時間反応することにより
製造できる。(In the formula, X represents a tert-butyldimethylsilyl group or a methoxymethyl group; R 4 represents a lower alkyl group.) Compound [7] is synthesized by protecting the hydroxyl group of compound [6]. You can do it. Examples of the protecting group include t
Examples thereof include an tert-butyldimethylsilyl group and a methoxymethyl group. The tert-butyldimethylsilyl group of the protecting group can be obtained by, for example, reacting compound [6] in a solvent such as dimethylformamide in the presence of a base such as imidazole.
It can be produced by reacting with a silylating agent such as tert-butyldimethylsilyl chloride at ice-cold to 50 ° C. for several minutes to 40 hours. The methoxymethyl group of the protecting group is
For example, it can be produced by reacting compound [6] with chloromethyl methyl ether in a solvent such as ether or tetrahydrofuran in the presence of a base such as sodium hydride or ethyldiisopropylamine at ice-cold to 50 ° C for several minutes to 40 hours.
【００４６】化合物［８］は、例えば化合物［７］を、
エーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、−８０℃な
いし１００℃で、ヨウ化メチルマグネシウム等の有機金
属試薬と数分から４０時間反応させることにより製造す
ることが出来る。The compound [8] is, for example, a compound [7]
It can be produced by reacting with an organometallic reagent such as methylmagnesium iodide in a solvent such as ether or tetrahydrofuran at -80 ° C to 100 ° C for several minutes to 40 hours.
【００４７】化合物［９］は、例えば化合物［８］を、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
等の溶媒中、塩基存在下、−８０℃ないし１００℃で、
アルキル化剤と数分から４０時間反応させることにより
製造することが出来る。塩基としては炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、水
素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金
属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、ピ
リジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、エチ
ルジイソプロピルアミン、１，８−ジアザ−ビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の有機塩
基、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等
の有機リチウム化合物等を挙げることができる。アルキ
ル化剤としてはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化プロ
ピル等のハロゲン化アルキル又は硫酸ジメチル等の硫酸
エステル類を挙げることが出来る。The compound [9] is, for example, a compound [8]
In a solvent such as ether, tetrahydrofuran or dimethylformamide in the presence of a base at -80 ° C to 100 ° C,
It can be produced by reacting with an alkylating agent for several minutes to 40 hours. As a base, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, inorganic bases such as potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, alkali metal hydrides such as lithium hydride, alkaline earth metals such as calcium hydride, pyridine, collidine, lutidine, Examples thereof include organic bases such as triethylamine, ethyldiisopropylamine, and 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU), and organic lithium compounds such as butyllithium and lithium diisopropylamide. Examples of the alkylating agent include alkyl halides such as methyl iodide, ethyl iodide, and propyl bromide, and sulfates such as dimethyl sulfate.
【００４８】化合物［５ａ］は、例えば化合物［９］
を、溶媒中、酸触媒あるいは脱シリル剤存在下、−８０
℃ないし５０℃で数分から４０時間反応させることによ
り製造することが出来る。溶媒としては水、メタノー
ル、エタノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルホルムアミド等を挙げることが出来る。
これらの溶媒を混合して用いても良い。酸触媒としては
塩酸、塩化水素、硫酸、フッ化水素、トリフルオロ酢酸
等を挙げることが出来る。脱シリル剤としては、テトラ
ブチルアンモニウムフルオロライド、フッ化カリウム等
を挙げることが出来る。Compound [5a] is, for example, compound [9]
In a solvent in the presence of an acid catalyst or a desilyl agent,
It can be produced by reacting at a temperature of from 50 to 50 hours for several minutes to 40 hours. Examples of the solvent include water, methanol, ethanol, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, dimethylformamide and the like.
These solvents may be used as a mixture. Examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, hydrogen chloride, sulfuric acid, hydrogen fluoride, trifluoroacetic acid and the like. Examples of the desilylation agent include tetrabutylammonium fluoride, potassium fluoride and the like.
【００４９】式１−２Equation 1-2
【００５０】[0050]
【化１４】 Embedded image
【００５１】（式中、Ｘは前記と同様な意味を表す。Ｒ
5は低級アルキル基又は低級アシル基を表す。） 化合物［１１］は、化合物［１０］を上記式１−１の化
合物［７］の合成と同様の方法で反応することにより水
酸基を保護することが出来る。化合物［１２］は、例え
ば化合物［１１］を、エーテル、テトラヒドロフラン等
の溶媒中、−８０℃ないし室温で、リチウムジイソプロ
ピルアミド等の塩基存在下、ヨウ化メチル等のメチル化
剤と数分から４０時間反応させることにより製造するこ
とが出来る。化合物［１３］は、例えば化合物［１２］
を、エーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、０℃な
いし１００℃で、水素化リチウムアルミニウム、ボラン
錯体等の還元剤と数分から４０時間反応させることによ
り製造することが出来る。(Wherein, X represents the same meaning as described above. R
5 represents a lower alkyl group or a lower acyl group. The compound [11] can protect the hydroxyl group by reacting the compound [10] in the same manner as in the synthesis of the compound [7] of the formula 1-1. Compound [12] is prepared by, for example, reacting compound [11] with a methylating agent such as methyl iodide in a solvent such as ether or tetrahydrofuran at -80 ° C to room temperature in the presence of a base such as lithium diisopropylamide for several minutes to 40 hours. It can be produced by reacting. Compound [13] is, for example, compound [12]
In a solvent such as ether or tetrahydrofuran at 0 ° C. to 100 ° C. with a reducing agent such as lithium aluminum hydride or a borane complex for several minutes to 40 hours.
【００５２】化合物［１４］は、化合物［１３］から上
記式１−１の化合物［９］の合成と同様の方法で合成す
ることが出来る。化合物［５ｂ］は、化合物［１４］か
ら、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様の方法
で合成することが出来る。化合物［５ｃ］は、化合物
［１３］から、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と
同様の方法で合成することが出来る。Compound [14] can be synthesized from compound [13] in the same manner as in the synthesis of compound [9] of the above formula 1-1. Compound [5b] can be synthesized from compound [14] in the same manner as in the synthesis of compound [5a] of formula 1-1. Compound [5c] can be synthesized from compound [13] in the same manner as in the synthesis of compound [5a] of formula 1-1.
【００５３】式１−３Formula 1-3
【００５４】[0054]
【化１５】 Embedded image
【００５５】（式中、Ｘは前記と同様な意味を表す。Ｙ
はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、メトキシメチル
基または低級アシル基を表す。Ｒ６は低級アシル基を表
す。Ｒ７は低級アルキル基を表す。） 化合物［１６］は、化合物［１５］を上記式１−１の化
合物［７］の合成と同様の方法で反応することにより水
酸基を保護することが出来る。化合物［１７］は、化合
物［１６］から上記式１−２の化合物［１２］の合成と
同様の方法で合成することが出来る。化合物［１８］
は、化合物［１７］から上記式１−２の化合物［１３］
の合成と同様の方法で合成することが出来る。化合物
［１９］は、化合物［１８］と例えばぎ酸、酢酸等の有
機酸を溶媒中、縮合剤の存在下０℃ないし５０℃で数分
から４８時間反応させることにより製造することが出来
る。用いる溶媒としては塩化メチレン、ジエチルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド等を挙げることが出来る。縮
合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミドあるいは
１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カ
ルボジイミド等を挙げることが出来る。(Wherein, X represents the same meaning as described above.)
Represents a tert-butyldimethylsilyl group, a methoxymethyl group or a lower acyl group. R6 represents a lower acyl group. R7 represents a lower alkyl group. The compound [16] can protect the hydroxyl group by reacting the compound [15] in the same manner as in the synthesis of the compound [7] of the formula 1-1. Compound [17] can be synthesized from compound [16] in the same manner as in the synthesis of compound [12] of formula 1-2 above. Compound [18]
Is a compound [13] of the above formula 1-2 from the compound [17].
Can be synthesized in the same manner as the synthesis of Compound [19] can be produced by reacting compound [18] with an organic acid such as formic acid or acetic acid in a solvent in the presence of a condensing agent at 0 ° C to 50 ° C for several minutes to 48 hours. Examples of the solvent used include methylene chloride, diethyl ether, dimethylformamide and the like. Examples of the condensing agent include dicyclohexylcarbodiimide and 1-ethyl-3- (3′-dimethylaminopropyl) carbodiimide.
【００５６】一方、化合物［１９］は、化合物［１８］
と例えばアセチルクロライド、無水酢酸等の等の有機酸
誘導体を溶媒中、脱塩化水素剤の存在下−５０℃ないし
５０℃で数分から４８時間反応させることにより製造す
ることも出来る。用いる溶媒としてはアセトニトリル、
アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を
挙げることが出来る。脱塩化水素剤としては炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金
属、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ン、エチルジイソプロピルアミン、１，８−ジアザ−ビ
シクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の
有機塩基を挙げることが出来る。On the other hand, compound [19] is compound [18]
And an organic acid derivative such as acetyl chloride or acetic anhydride in a solvent in the presence of a dehydrochlorinating agent at -50 ° C to 50 ° C for several minutes to 48 hours. Acetonitrile,
Examples include acetone, methylene chloride, chloroform, diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethylformamide and the like. Examples of the dehydrochlorinating agent include inorganic bases such as potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and lithium hydride, alkaline earth metals such as calcium hydride, pyridine and collidine. , Lutidine, triethylamine, ethyldiisopropylamine, and 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU).
【００５７】さらに化合物［１９］は、化合物［５ｄ］
と例えばアセチルクロライド、無水酢酸等の等の有機酸
誘導体を溶媒中、脱塩化水素剤の存在下−５０℃ないし
５０℃で数分から４８時間反応させることにより製造す
ることが出来る。用いる溶媒としてはアセトニトリル、
アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を
挙げることが出来る。脱塩化水素剤としては炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金
属、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ン、エチルジイソプロピルアミン、１，８−ジアザ−ビ
シクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の
有機塩基を挙げることが出来る。Further, compound [19] is compound [5d]
And an organic acid derivative such as acetyl chloride or acetic anhydride in a solvent in the presence of a dehydrochlorinating agent at -50 ° C to 50 ° C for several minutes to 48 hours. Acetonitrile,
Examples include acetone, methylene chloride, chloroform, diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethylformamide and the like. Examples of the dehydrochlorinating agent include inorganic bases such as potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and lithium hydride, alkaline earth metals such as calcium hydride, pyridine and collidine. , Lutidine, triethylamine, ethyldiisopropylamine, and 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU).
【００５８】化合物［２０］は、化合物［１９］から上
記式１−１の化合物［９］の合成と同様の方法で合成す
ることが出来る。化合物［５ｄ］は、化合物［１８］か
ら、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様の方法
で合成することが出来る。Compound [20] can be synthesized from compound [19] in the same manner as in the synthesis of compound [9] of formula 1-1. Compound [5d] can be synthesized from compound [18] in the same manner as in the synthesis of compound [5a] of formula 1-1.
【００５９】化合物［５ｅ］は、化合物［１９］から、
上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様の方法で合
成することが出来る。化合物［５ｆ］は、化合物［２
０］から、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様
の方法で合成することが出来る。Compound [5e] is derived from compound [19] by
It can be synthesized in the same manner as in the synthesis of the compound [5a] of the formula 1-1. Compound [5f] is compound [2f]
0] can be synthesized in the same manner as in the synthesis of the compound [5a] of the formula 1-1.
【００６０】化合物［５ｅ］は、例えば化合物［１９］
（化合物［１９］においてＹが低級アシル基の場合）
を、溶媒中、塩基性触媒存在下、氷冷下ないし５０℃で
数分から４０時間反応させることにより製造することが
出来る。溶媒としては水、メタノール、エタノール、
１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド等を挙げることが出来る。これらの溶媒を混
合して用いても良い。塩基性触媒としては炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基を挙げることが出来る。Compound [5e] is, for example, compound [19]
(When Y in Compound [19] is a lower acyl group)
Can be produced in a solvent in the presence of a basic catalyst under ice-cooling or at 50 ° C. for several minutes to 40 hours. Solvents include water, methanol, ethanol,
Examples thereof include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, and dimethylformamide. These solvents may be used as a mixture. Examples of the basic catalyst include inorganic bases such as potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate.
【００６１】化合物［５ｆ］は、化合物［２０］（化合
物［２０］においてＹが低級アシル基の場合）を、溶媒
中、塩基性触媒存在下、氷冷下ないし５０℃で数分から
４０時間反応させることにより製造することが出来る。
溶媒としては水、メタノール、エタノール、１，４−ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
等を挙げることが出来る。これらの溶媒を混合して用い
ても良い。塩基性触媒としては炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を挙げるこ
とが出来る。Compound [5f] is obtained by reacting compound [20] (in the case where Y is a lower acyl group in compound [20]) in a solvent in the presence of a basic catalyst under ice-cooling or at 50 ° C. for several minutes to 40 hours. It can be manufactured by doing.
Examples of the solvent include water, methanol, ethanol, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, dimethylformamide and the like. These solvents may be used as a mixture. Examples of the basic catalyst include inorganic bases such as potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate.
【００６２】[0062]
【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもので
はない。本発明化合物の原料化合物の合成を参考例によ
り説明する。Next, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The synthesis of the starting compound of the compound of the present invention will be described by reference examples.
【００６３】参考例１ ４−（アセチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シランの合成 ４−（アセチル）フェノール５．０ｇ及びイミダゾール
５．５ｇのジメチルホルムアミド溶液２０ｍｌに、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド６．２ｇを加え
室温下２時間撹拌した。反応終了後、水２００ｍｌを加
え酢酸エチルで抽出した。集めた有機層を飽和食塩水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製すると黄色油状
物８．５６ｇを得た。Reference Example 1 Synthesis of 4- (acetyl) phenoxytert-butyldimethylsilane A solution of 5.0 g of 4- (acetyl) phenol and 5.5 g of imidazole in 20 ml of dimethylformamide was added with te.
6.2 g of rt-butyldimethylsilyl chloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After the reaction was completed, 200 ml of water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, silica gel column chromatography (developing solvent;
Purification with hexane: ethyl acetate = 6: 1) yielded 8.56 g of a yellow oil.
【００６４】1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） ０．２３（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），２．５
４（ｓ，３Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。 1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 0.23 (s, 6H), 0.98 (s, 9H), 2.5
4 (s, 3H), 6.86 (d, J = 8.5 Hz, 2
H), 7.87 (d, J = 8.5 Hz, 2H).
【００６５】４−（アセチル）フェノールの代わりに以
下の原料化合物を用い参考例１と同様の方法で以下の化
合物を合成した。The following compounds were synthesized in the same manner as in Reference Example 1 using the following starting compounds instead of 4- (acetyl) phenol.
【００６６】４−（シアノメチル）フェノキシｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシラン 原料化合物：４−（シアノメチル）フェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），３．６
７（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） 淡黄色結晶。4- (cyanomethyl) phenoxy tert
-Butyldimethylsilane Starting compound: 4- (cyanomethyl) phenol 1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 0.20 (s, 6H), 0.98 (s, 9H), 3.6
7 (s, 2H), 6.83 (d, J = 8.5 Hz, 2
H), 7.18 (d, J = 8.5 Hz, 2H) pale yellow crystals.
【００６７】４−（メトキシカルボニルメチル）フェノ
キシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン 原料化合物：４−（メトキシカルボニルメチル）フェノ
ール1 Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），３．５
６（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），６．７９
（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） 淡黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２８０（Ｍ+）。4- (methoxycarbonylmethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane Starting compound: 4- (methoxycarbonylmethyl) phenol 1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 0.20 (s, 6H), 0. 99 (s, 9H), 3.5
6 (s, 2H), 3.69 (s, 3H), 6.79
(D, J = 8.5 Hz, 2H), 7.13 (d, J =
8.5 Hz, 2H) pale yellow oil EI-MS m / z 280 (M + ).
【００６８】参考例２ ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）フェノキシ
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ４−（アセチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シラン８ｇのエーテル溶液６０ｍｌに氷冷下、０．８１
Ｍヨウ化メチルマグネシウムのエーテル溶液４２ｍｌを
滴下した。１時間加熱環流後、放冷し飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。集めた有機層
を飽和食塩水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製す
ると淡黄色油状物７．３ｇを得た。Reference Example 2 Synthesis of 4- (1-hydroxy-1-methylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 0.81 of a solution of 8 g of 4- (acetyl) phenoxytert-butyldimethylsilane in 60 ml of an ether was cooled with ice.
42 ml of an ether solution of M methylmagnesium iodide was added dropwise. After heating for 1 hour under reflux, the mixture was allowed to cool, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the mixture was extracted with ether. The collected organic layer was washed with brine and dried over anhydrous magnesium sulfate.
After concentration under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 6: 1) to obtain 7.3 g of a pale yellow oil.
【００６９】1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．５
７（ｓ，６Ｈ），１．７０（ｓ，１Ｈ），６．７８
（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３３８０，２９５０，２９２５，１６００，１５０５，
１２５０。 1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 0.20 (s, 6H), 0.99 (s, 9H), 1.5
7 (s, 6H), 1.70 (s, 1H), 6.78
(D, J = 8.7 Hz, 2H), 7.34 (d, J =
8.7 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 3380, 2950, 2925, 1600, 1505
1250.
【００７０】参考例３ ４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フェノキシｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ４−（シアノメチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシラン１２．６ｇのテトラヒドロフラン溶液１００
ｍｌを−８０℃に冷却し、２．０Ｍリチウムジイソプロ
ピルアミド溶液（ヘプタン、テトラヒドロフラン、エチ
ルベンゼン混合溶液）２８ｍｌを滴下後、ヨウ化メチル
３．８ｍｌを加え、そのまま室温まで徐々に昇温しなが
ら５時間撹拌した。再び反応液を−８０℃に冷却し、
２．０Ｍリチウムジイソプロピルアミド溶液（ヘプタ
ン、テトラヒドロフラン、エチルベンゼン混合溶液）２
８ｍｌを滴下後、ヨウ化メチル３．８ｍｌを加え、その
まま室温まで徐々に昇温しながら２４時間撹拌した。反
応後飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで
抽出した。集めた有機層を飽和食塩水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、濃縮すると褐色油状物１４ｇを得
た。Reference Example 3 4- (1-cyano-1-methylethyl) phenoxyte
Synthesis of rt-butyldimethylsilane 4- (cyanomethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 12.6 g tetrahydrofuran solution 100
The mixture was cooled to −80 ° C., and 28 ml of a 2.0 M lithium diisopropylamide solution (a mixed solution of heptane, tetrahydrofuran, and ethylbenzene) was added dropwise. Then, 3.8 ml of methyl iodide was added, and the temperature was gradually raised to room temperature for 5 hours. Stirred. The reaction was cooled again to -80 ° C,
2.0 M lithium diisopropylamide solution (heptane, tetrahydrofuran, ethylbenzene mixed solution) 2
After dropwise addition of 8 ml, 3.8 ml of methyl iodide was added, and the mixture was stirred for 24 hours while gradually warming to room temperature. After the reaction, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The collected organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated to give a brown oil (14 g).
【００７１】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） ０．２１（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．７
０（ｓ，６Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 0.21 (s, 6H), 0.99 (s, 9H), 1.7
0 (s, 6H), 6.83 (d, J = 8.5 Hz, 2
H), 7.32 (d, J = 8.5 Hz, 2H).
【００７２】下記の原料化合物を用い参考例３と同様の
方法で以下の化合物を合成した。The following compounds were synthesized in the same manner as in Reference Example 3 using the following starting compounds.
【００７３】４−（１−メトキシカルボニル−１−メチ
ルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン 原料化合物：４−（メトキシカルボニルメチル）フェノ
キシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），１．５
５（ｓ，６Ｈ），３．６５（ｓ，３Ｈ），６．７８
（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９５０，２９３０，１７３５，１６１０，１５１０，
１２５５，１１５０ 橙色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０８（Ｍ+）。4- (1-Methoxycarbonyl-1-methylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane Starting compound: 4- (methoxycarbonylmethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 0.20 (s, 6H), 0.98 (s, 9H), 1.5
5 (s, 6H), 3.65 (s, 3H), 6.78
(D, J = 8.5 Hz, 2H), 7.19 (d, J =
8.5 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 2950, 2930, 1735, 1610, 1510,
1255,1150 orange oil EI-MS m / z 308 (M + ).
【００７４】参考例４ ４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメチルエチル）
フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ギ酸３３１ｍｇの塩化メチレン溶液１０ｍｌに、１−エ
チル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジ
イミド１．０ｇの塩化メチレン溶液４ｍｌ、４−（２−
アミノ−１，１−ジメチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシラン１．０ｇの塩化メチレン溶液１
０ｍｌを滴下し、室温下２時間撹拌した。反応終了後、
飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去しシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ−（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、目的とする淡黄色
油状物８９０ｍｇを得た。Reference Example 4 4- (2-formylamino-1,1-dimethylethyl)
Synthesis of phenoxy tert-butyldimethylsilane To a solution of 331 mg of formic acid in 10 ml of methylene chloride, a solution of 1.0 g of 1-ethyl-3- (3′-dimethylaminopropyl) carbodiimide in 4 ml of methylene chloride and 4- (2-
Amino-1,1-dimethylethyl) phenoxy tert
-A solution of 1.0 g of butyldimethylsilane in methylene chloride 1
0 ml was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After the reaction,
The extract was washed with a saturated aqueous ammonium chloride solution and a saturated saline solution.
After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 890 mg of the desired pale yellow oil.
【００７５】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） ０．２１（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．３
１ ａｎｄ １．３２（２ｓ，６Ｈ），３．２４ ａｎ
ｄ ３．４６（２ｓ，１Ｈ），３．２６ ａｎｄ ３．
４７（２ｓ，１Ｈ），５．１９ ａｎｄ ５．３９（２
ｂｒｓ，１Ｈ），６．７９−６．８３（ｍ，２Ｈ），
７．１２−７．２２（ｍ，２Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝
１２．０Ｈｚ，０．２４Ｈ），８．１０（ｓ，０．７６
Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３２８０，２９５０，１６６０，１５０５，１２６０。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 0.21 (s, 6H), 0.99 (s, 9H), 1.3
1 and 1.32 (2s, 6H), 3.24 an
d 3.46 (2s, 1H), 3.26 and 3.
47 (2s, 1H), 5.19 and 5.39 (2
brs, 1H), 6.79-6.83 (m, 2H),
7.12-7.22 (m, 2H), 7.85 (d, J =
12.0 Hz, 0.24 H), 8.10 (s, 0.76
H) IR (neat, cm- 1 ) 3280, 2950, 1660, 1505, 1260.
【００７６】参考例５ ４−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）フェ
ノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 水素化リチウムアルミニウム２９５ｍｇのテトラヒドロ
フラン懸濁液１５ｍｌに、氷冷下４−（１−メトキシカ
ルボニル−１−メチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシラン２．２ｇのテトラヒドロフラン溶液
１５ｍｌを滴下後、室温下１．５時間撹拌した。反応終
了後水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、生じた固体を濾
別した。濾液に水を加え酢酸エチルで抽出し、集めた有
機層を飽和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製すると白色固体の目的物１．４３ｇを得た。Reference Example 5 Synthesis of 4- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane A suspension of lithium aluminum hydride (295 mg) in tetrahydrofuran (15 ml) was added with ice-cooled 4- (1-methoxyethyl). After 15 ml of a tetrahydrofuran solution of 2.2 g of carbonyl-1-methylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane was added dropwise, the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. After completion of the reaction, an aqueous solution of sodium hydroxide was added dropwise, and the resulting solid was separated by filtration. Water was added to the filtrate, extracted with ethyl acetate, and the collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, silica gel column chromatography (developing solvent; n-hexane: ethyl acetate = 4:
Purification in 1) gave 1.43 g of the desired product as a white solid.
【００７７】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） ０．１９（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），１．３
０（ｓ，６Ｈ），３．５５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，２
Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．２
２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1） ３２５０，２９６０，２９３０，１６０５，１５１０，
１２５０，１０３５ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２８０（Ｍ+）。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 0.19 (s, 6H), 0.98 (s, 9H), 1.3
0 (s, 6H), 3.55 (d, J = 4.5 Hz, 2
H), 6.79 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 7.2
2 (d, J = 8.5 Hz, 2H) IR (KBr, cm -1 ) 3250, 2960, 2930, 1605, 1510,
1250,1035 EI-MS m / z 280 (M + ).
【００７８】参考例６ ４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチルエチル）フェ
ノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ４−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）フェ
ノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン１．４３ｇ及び
ピリジン６００ｍｇを塩化メチレン１５ｍｌに溶かし、
氷冷下、アセチルクロライド６００ｍｇの塩化メチレン
溶液１５ｍｌを氷冷下加えた。室温下２時間撹拌後、氷
水に加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を０．５％
塩酸で洗浄後、飽和食塩水洗した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、無色油状物の目的物
１．５９ｇを得た。Reference Example 6 Synthesis of 4- (2-acetoxy-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 4- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 43 g and pyridine 600 mg were dissolved in methylene chloride 15 ml,
Under ice cooling, 15 ml of a methylene chloride solution containing 600 mg of acetyl chloride was added under ice cooling. After stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was added to ice water and extracted with methylene chloride. 0.5% of organic layer
After washing with hydrochloric acid, it was washed with saturated saline. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.59 g of the target compound as a colorless oil.
【００７９】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），１．３
３（ｓ，６Ｈ），２．０１（ｓ，３Ｈ），４．０７
（ｓ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）２９５０，１７４０，１６０
５，１５１０，１３７０，１２７０。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 0.20 (s, 6H), 0.98 (s, 9H), 1.3
3 (s, 6H), 2.01 (s, 3H), 4.07
(S, 2H), 6.78 (d, J = 8.5 Hz, 2
H), 7.21 (d, J = 8.5 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 2950, 1740, 160
5,1510,1370,1270.
【００８０】［４−（２−アセチルアミノ−１，１−ジ
メチルエチル）フェノキシ］アセテートの合成 ４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチル）フェノー
ル２２０ｍｇをピリジン３ｍｌに溶かし、無水酢酸４０
８ｍｇのピリジン溶液２ｍｌを氷冷下加えた。１８時間
撹拌後、氷水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
０．５％塩酸で洗浄後、飽和食塩水洗した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、淡褐色油状
物の目的物３２０ｍｇを得た。Synthesis of [4- (2-acetylamino-1,1-dimethylethyl) phenoxy] acetate 220 mg of 4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenol was dissolved in 3 ml of pyridine, and acetic anhydride was added.
2 ml of an 8 mg pyridine solution was added under ice cooling. After stirring for 18 hours, the mixture was added to ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with 0.5% hydrochloric acid and then with a saturated saline solution. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 320 mg of the desired product as a pale brown oil.
【００８１】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） １．３２（ｓ，６Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ），２．３
１（ｓ，３Ｈ），３．４７（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２
Ｈ），５．１６（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，
２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３３００，２９６０，１７５５，１６５０，１５００，
１３６５，１２００。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 1.32 (s, 6H), 1.90 (s, 3H), 2.3
1 (s, 3H), 3.47 (d, J = 6.5 Hz, 2
H), 5.16 (brs, 1H), 7.06 (d, J =
8.5 Hz, 2H), 7.35 (d, J = 8.5 Hz,
2H) IR (neat, cm -1 ) 3300, 2960, 1755, 1650, 1500,
1365, 1200.
【００８２】実施例１ ４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチル）フェノキ
シｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン及び４−（２−アミ
ノ−１，１−ジメチルエチル）フェノールの合成 水素化リチウムアルミニウム４１４ｍｇのテトラヒドロ
フラン懸濁液２０ｍｌに、氷冷下４−（１−シアノ−１
−メチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シラン３ｇのテトラヒドロフラン溶液２０ｍｌを滴下
後、１．５時間加熱還流した。反応終了後水酸化ナトリ
ウム水溶液を滴下し、生じた固体を濾別した。濾液に水
を加え酢酸エチルで抽出し、集めた有機層を飽和食塩水
洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃
縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；クロロホルム：メタノール＝５：１）で精製すると
淡黄色油状の４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン１．０
６ｇと白色固体の４−（２−アミノ−１，１−ジメチル
エチル）フェノール２６０ｍｇを得た。Example 1 Synthesis of 4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane and 4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenol 414 mg of lithium aluminum hydride 4- (1-cyano-1) was added to 20 ml of a tetrahydrofuran suspension under ice-cooling.
A solution of 3 g of (-methylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane in 20 ml of tetrahydrofuran was added dropwise, followed by heating under reflux for 1.5 hours. After completion of the reaction, an aqueous solution of sodium hydroxide was added dropwise, and the resulting solid was separated by filtration. Water was added to the filtrate, extracted with ethyl acetate, and the collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; chloroform: methanol = 5: 1) to give 4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane as a pale yellow oil. 0
6 g and 260 mg of 4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenol as a white solid were obtained.
【００８３】４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン；1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．０
５−１．４２（ｍ，８Ｈ），２．７５（ｓ，２Ｈ），
６．７９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１８
（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane; 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 0.20 (s, 6H), 0.99 (s) , 9H), 1.0
5-1.42 (m, 8H), 2.75 (s, 2H),
6.79 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 7.18
(D, J = 8.5 Hz, 2H).
【００８４】４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノール；1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．２９（ｓ，６Ｈ），２．７９（ｓ，２Ｈ），３．５
１（ｂｒｓ，３Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，
２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。4- (2-amino-1,1-dimethylethyl) phenol; 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.29 (s, 6H), 2.79 (s, 2H), 3 .5
1 (brs, 3H), 6.72 (d, J = 8.5 Hz,
2H), 7.15 (d, J = 8.5 Hz, 2H).
【００８５】実施例２ ４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメチルエチル）
フェノールの合成 ４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメチルエチル）
フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン８３０ｍｇ
をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、氷冷下１．０
Ｍテトラブチルアンモニウムフルオロライド（テトラヒ
ドロフラン溶液）を４．０５ｍｌ加えた。３０分撹拌
後、０．５％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。集め
た有機層を飽和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝
７：１）で精製すると白色固体の目的物５００ｍｇを得
た。Example 2 4- (2-formylamino-1,1-dimethylethyl)
Synthesis of phenol 4- (2-formylamino-1,1-dimethylethyl)
830 mg of phenoxy tert-butyldimethylsilane
Was dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran, and 1.0 ml under ice-cooling.
4.05 ml of M tetrabutylammonium fluoride (tetrahydrofuran solution) was added. After stirring for 30 minutes, 0.5% hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, silica gel column chromatography (developing solvent; chloroform: methanol =
Purification by 7: 1) gave 500 mg of the desired product as a white solid.
【００８６】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） １．３３（ｓ，６Ｈ），３．２４ ａｎｄ ３．４８
（２ｓ，１Ｈ），３．２６ａｎｄ ３．４９（２ｓ，１
Ｈ），５．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），５．４８ ａｎｄ
５．７５（２ｂｒｓ，１Ｈ）６．７７−６．８４（ｍ，
２Ｈ），７．１２−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．８１
（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，０．２９Ｈ），８．１０
（ｓ，０．７１Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３３００，２９６０，１６６０，１５１５，１３８５，
１２３０。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 1.33 (s, 6H), 3.24 and 3.48
(2s, 1H), 3.26 and 3.49 (2s, 1H)
H), 5.28 (brs, 1H), 5.48 and
5.75 (2 brs, 1H) 6.77-6.84 (m,
2H), 7.12-7.24 (m, 2H), 7.81
(D, J = 12.0 Hz, 0.29 H), 8.10
(S, 0.71H) IR (neat, cm -1 ) 3300, 2960, 1660, 1515, 1385,
1230.
【００８７】下記の原料化合物を用い実施例２と同様の
方法で以下の化合物を合成した。The following compounds were synthesized in the same manner as in Example 2 using the following starting compounds.
【００８８】４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フ
ェノール 原料化合物：４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フ
ェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．７０（ｓ，６Ｈ），５．５０（ｓ，１Ｈ），６．８
５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） 白色固体。4- (1-cyano-1-methylethyl) phenol Starting compound: 4- (1-cyano-1-methylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1 .70 (s, 6H), 5.50 (s, 1H), 6.8
5 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 7.32 (d, J =
8.5 Hz, 2H) White solid.
【００８９】４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチル
エチル）フェノール 原料化合物：４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチル
エチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．３３（ｓ，６Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ），４．０
９（ｓ，２Ｈ），６．７７−６．８２（ｍ，２Ｈ），
７．２０−７．２４（ｍ，２Ｈ） 無色油状物。4- (2-acetoxy-1,1-dimethylethyl) phenol Starting compound: 4- (2-acetoxy-1,1-dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3) , Δ ppm) 1.33 (s, 6H), 2.02 (s, 3H), 4.0
9 (s, 2H), 6.77-6.82 (m, 2H),
7.20-7.24 (m, 2H) colorless oil.
【００９０】実施例３ ４−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−１−メ
チルエチル］フェノールの合成 ４−［１−カルボキシ−１−メチルエチル］フェノール
５００ｍｇを塩化チオニル５ｇに溶解し、室温下１９時
間撹拌した。過剰の塩化チオニルを減圧下留去した後、
残さをクロロホルム２０ｍｌに溶解し、５０％ジメチル
アミン水溶液５ｇを加えた。４時間撹拌後、反応液を１
Ｎ塩酸、水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧濃縮後、残さをヘキサン−エタ
ノールより再結晶する事により無色プレート状結晶２１
９ｍｇを得た。Example 3 Synthesis of 4- [1- (N, N-dimethylcarbamoyl) -1-methylethyl] phenol 500 mg of 4- [1-carboxy-1-methylethyl] phenol was dissolved in 5 g of thionyl chloride. The mixture was stirred at room temperature for 19 hours. After distilling off excess thionyl chloride under reduced pressure,
The residue was dissolved in 20 ml of chloroform, and 5 g of a 50% aqueous dimethylamine solution was added. After stirring for 4 hours, the reaction solution was
After washing sequentially with N hydrochloric acid and water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, the residue was recrystallized from hexane-ethanol to give colorless plate-like crystals 21.
9 mg were obtained.
【００９１】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） １．５２（ｓ，６Ｈ），２．５５（ｂｒｓ，３Ｈ），
２．９３（ｂｒｓ，３Ｈ），６．２６（ｓ，１Ｈ），
６．８７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ２Ｈ），７．０６（ｄ，
Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３２５０，２８９０，１６１５，１５９５，１５２０，
１４５０，１４０５，１２８０，１２４０ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２０７（Ｍ+）。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 1.52 (s, 6H), 2.55 (brs, 3H),
2.93 (brs, 3H), 6.26 (s, 1H),
6.87 (d, J = 8.0 Hz2H), 7.06 (d,
J = 8.0 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 3250, 2890, 1615, 1595, 1520,
1450, 1405, 1280, 1240 EI-MS m / z 207 (M + ).
【００９２】実施例４ ４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエチル）フェノ
ールの合成 ６０％油性水素化ナトリウム２７３ｍｇのジメチルホル
ムアミド懸濁液１０ｍｌに、氷冷下４−（２−ヒドロキ
シ−１，１−ジメチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシラン１．８２ｇのジメチルホルムアミド
懸濁液３０ｍｌを加えた。１０分後にヨウ化メチル１．
０ｇを加えた後、室温下１９時間撹拌した。反応終了後
水４００ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出後（６０ｍｌ×
３）、集めた有機層を飽和食塩水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧濃縮すると油状物１．５ｇを得
た。Example 4 Synthesis of 4- (1,1-dimethyl-2-methoxyethyl) phenol A suspension of 60% oily sodium hydride (273 mg) in dimethylformamide (10 ml) was added to ice-cooled 4- (2-hydroxy-1). (1,1-Dimethylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 1.82 g of dimethylformamide suspension 30 ml was added. After 10 minutes methyl iodide
After adding 0 g, the mixture was stirred at room temperature for 19 hours. After completion of the reaction, 400 ml of water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate (60 ml ×
3) The collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, 1.5 g of an oily substance was obtained.
【００９３】粗生成物をテトラヒドロフラン１５ｍｌに
溶解し、氷冷下１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフル
オロライド（テトラヒドロフラン溶液）を１０ｍｌ加え
た。３０分撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、エーテルで抽出した。集めた有機層を飽和食塩水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製すると白色
固体の目的物６００ｍｇを得た。The crude product was dissolved in 15 ml of tetrahydrofuran, and 10 ml of 1.0 M tetrabutylammonium fluoride (tetrahydrofuran solution) was added under ice cooling. After stirring for 30 minutes, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the mixture was extracted with ether. The collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, silica gel column chromatography (developing solvent;
Purification with n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) gave 600 mg of the desired product as a white solid.
【００９４】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） １．３０（ｓ，６Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），３．３
７（ｓ，２Ｈ），４．８６（ｓ，１Ｈ），６．７５
（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1） ３３００，２９６０，１６１５，１５２０，１２７０，
１０９０，９６０ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ １８０（Ｍ+）。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 1.30 (s, 6H), 3.32 (s, 3H), 3.3
7 (s, 2H), 4.86 (s, 1H), 6.75
(D, J = 9.0 Hz, 2H), 7.24 (d, J =
9.0 Hz, 2H) IR (KBr, cm -1 ) 3300, 2960, 1615, 1520, 1270,
1090,960 EI-MS m / z 180 (M + ).
【００９５】下記の原料化合物を用い実施例４と同様の
方法で以下の化合物を合成した。The following compounds were synthesized in the same manner as in Example 4 using the following starting compounds.
【００９６】４−（１−メトキシ−１−メチルエチル）
フェノール 原料化合物：４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチ
ル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン1 Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．５３（ｓ，６Ｈ），３．０６（ｓ，３Ｈ），４．８
０（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，
２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ） 無色結晶。4- (1-methoxy-1-methylethyl)
Phenol Starting compound: 4- (1-hydroxy-1-methylethyl) phenoxytert-butyldimethylsilane 1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.53 (s, 6H), 3.06 (s, 3H) ), 4.8
0 (brs, 1H), 6.82 (d, J = 8.9 Hz,
2H), 7.29 (d, J = 8.9 Hz, 2H) colorless crystals.
【００９７】実施例５ ［４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエチル）フェ
ニル］＝クロロチオホルメートの合成 チオホスゲン３９０ｍｇのシクロヘキサン溶液５ｍｌ
に、室温下４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエチ
ル）フェノール５８０ｍｇと水酸化ナトリウム１４０ｍ
ｇの水溶液１０ｍｌをゆっくり滴下した。室温下２時間
撹拌後、シクロヘキサンで抽出した。集めた有機層を飽
和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下濃縮後、黄色油状物の目的物５２３ｍｇを得た。Example 5 Synthesis of [4- (1,1-dimethyl-2-methoxyethyl) phenyl] = chlorothioformate 390 mg of thiophosgene in 5 ml of cyclohexane
580 mg of 4- (1,1-dimethyl-2-methoxyethyl) phenol and 140 m of sodium hydroxide at room temperature
g of an aqueous solution (10 ml) was slowly added dropwise. After stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was extracted with cyclohexane. The collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate.
After concentration under reduced pressure, 523 mg of the desired product was obtained as a yellow oil.
【００９８】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） １．３４（ｓ，６Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），３．４
０（ｓ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２
Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９７０，２８８０，１５０５，１２５０，１１９５，
１１６０，１０１５ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２５８（Ｍ+）。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 1.34 (s, 6H), 3.32 (s, 3H), 3.4
0 (s, 2H), 7.08 (d, J = 9.0 Hz, 2
H), 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 2970, 2880, 1505, 1250, 1195,
1160,1015 EI-MS m / z 258 (M + ).
【００９９】下記の原料化合物を用い実施例５と同様の
方法で以下の化合物を合成した。The following compounds were synthesized in the same manner as in Example 5 using the following starting compounds.
【０１００】［４−（１−シアノ−１−メチルエチル）
フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フ
ェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．７５（ｓ，６Ｈ），７．１５−７．１９（ｍ，２
Ｈ），７．５３−７．５８（ｍ，２Ｈ）。[4- (1-cyano-1-methylethyl)
Phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- (1-cyano-1-methylethyl) phenol 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.75 (s, 6H), 7.15-7. 19 (m, 2
H), 7.53-7.58 (m, 2H).
【０１０１】ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８０，２９２０，２２３０，１５００，１２４０，
１０１０ 淡黄色固体。IR (neat, cm -1 ) 2980, 2920, 2230, 1500, 1240,
1010 pale yellow solid.
【０１０２】［４−（１−メトキシ−１−メチルエチ
ル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−メトキシ−１−メチルエチル）
フェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．５４（ｓ，６Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｈ），７．１
０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８０，２９３０，１５００，１２５０，１１６０，
１０１５ 黄色固体。[4- (1-Methoxy-1-methylethyl) phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- (1-methoxy-1-methylethyl)
Phenol 1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.54 (s, 6H), 3.09 (s, 3H), 7.1
0 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.15 (d, J =
8.7 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 2980, 2930, 1500, 1250, 1160,
1015 Yellow solid.
【０１０３】［４−（１−アセチル−１−メチルエチ
ル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−アセチル−１−メチルエチル）
フェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．５１（ｓ，６Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），５．７
０（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１１−７．１６（ｍ，２
Ｈ），７．３３−７．３７（ｍ，２Ｈ） 淡黄色固体 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２５６（Ｍ+）。[4- (1-Acetyl-1-methylethyl) phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- (1-acetyl-1-methylethyl)
Phenol 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.51 (s, 6H), 1.95 (s, 3H), 5.7
0 (brs, 1H), 7.11-7.16 (m, 2
H), 7.33-7.37 (m, 2H) pale yellow solid EI-MS m / z 256 (M <+> ).
【０１０４】［４−（１−メトキシカルボニル−１−メ
チルエチル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−メトキシカルボニル−１−メチ
ルエチル）フェノール1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．６０（ｓ，６Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ），７．１
０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９９０，２９２０，１７３５，１５１０，１２５５，
１１９５，１１５０ 黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２７２（Ｍ+）。[4- (1-Methoxycarbonyl-1-methylethyl) phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- (1-methoxycarbonyl-1-methylethyl) phenol 1 H-NMR (500 MHz, C
DCl 3 , δ ppm) 1.60 (s, 6H), 3.66 (s, 3H), 7.1
0 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.42 (d, J =
9.0 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 2990, 2920, 1735, 1510, 1255
1195,1150 yellow oil EI-MS m / z 272 (M + ).
【０１０５】［４−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル）−１−メチルエチル］フェニル］＝クロロチオホ
ルメート 原料化合物：４−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）−１−メチルエチル］フェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．５６（ｓ，６Ｈ），２．６２（ｂｒｓ，３Ｈ），
２．９７（ｂｒｓ，３Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．０
Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） １６２５，１４９５，１３９５，１２５０ 黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２８５（Ｍ+）。[4- [1- (N, N-dimethylcarbamoyl) -1-methylethyl] phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- [1- (N, N-dimethylcarbamoyl) -1-methyl Ethyl] phenol 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.56 (s, 6H), 2.62 (brs, 3H),
2.97 (brs, 3H), 7.10 (d, J = 8.0)
Hz, 2H), 7.29 (d, J = 8.0 Hz, 2H) IR (neat, cm- 1 ) 1625, 1495, 1395, 1250 Yellow oil EI-MS m / z 285 (M + ).
【０１０６】［４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジ
メチルエチル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメ
チルエチル）フェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．３７ ａｎｄ １．３８（２ｓ，６Ｈ），３．４４
ａｎｄ ３．５１（２ｓ，１Ｈ），３．４５ ａｎｄ
３．５３（２ｓ，１Ｈ），５．５９ ａｎｄ５．７３
（２ｂｒｓ，１Ｈ），７．１０−７．２０（ｍ，２Ｈ） ７．３８−７．４８（ｍ，２Ｈ），７．６８−７．８６
（ｍ，１Ｈ），８．０２ａｎｄ ８．１１（２ｓ，１
Ｈ） 淡褐色粘凋物。[4- (2-formylamino-1,1-dimethylethyl) phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- (2-formylamino-1,1-dimethylethyl) phenol 1 H-NMR ( 500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.37 and 1.38 (2s, 6H), 3.44
and 3.51 (2s, 1H), 3.45 and
3.53 (2s, 1H), 5.59 and 5.73
(2brs, 1H), 7.10-7.20 (m, 2H) 7.38-7.48 (m, 2H), 7.68-7.86
(M, 1H), 8.02 and 8.11 (2s, 1
H) Light brown viscous material.
【０１０７】（４−トリメチルシリルフェニル）＝クロ
ロチオホルメート 原料化合物：４−トリメチルシリルフェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） ０．３０（ｓ，９Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，２Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９５０，１５８０，１４９０，１２４０，１１９０，
１１５０，１１００，１０１０ 黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２４４（Ｍ+）。(4-trimethylsilylphenyl) = chlorothioformate Starting compound: 4-trimethylsilylphenol 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 0.30 (s, 9H), 7.13 (d, J = 8.0H
z, 2H), 7.60 (d, J = 8.0 Hz, 2H) IR (neat, cm -1 ) 2950, 1580, 1490, 1240, 1190,
1150, 1100, 1010 Yellow oil EI-MS m / z 244 (M + ).
【０１０８】［４−（１，１−ジメチル−２−ヒドロキ
シエチル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチル
エチル）フェノール1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ） １．３７（ｓ，６Ｈ），３．６３（ｓ，２Ｈ），７．１
９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２４４（Ｍ+）。[4- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) phenyl] = chlorothioformate Starting compound: 4- (2-acetoxy-1,1-dimethylethyl) phenol 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 , δ ppm) 1.37 (s, 6H), 3.63 (s, 2H), 7.1
9 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 7.47 (d, J =
8.5 Hz, 2H) EI-MS m / z 244 (M <+> ).
【０１０９】実施例６ ［４−（２−アセチルアミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェニル］＝クロロチオホルメートの合成 ［４−（２−アセチルアミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノキシ］アセテート３１５ｍｇをメタノール１
０ｍｌに溶解し、飽和重曹水４ｍｌを加え、室温下２時
間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、冷した３
Ｎ塩酸を加え酸性にした。酢酸エチルで抽出後、有機層
を飽和食塩水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下溶媒を留去し、白色固体を１９０ｍｇ得た。得ら
れた白色固体と水酸化ナトリウム３７ｍｇの水溶液２ｍ
ｌを、チオホスゲン１１５ｍｇのシクロヘキサン溶液３
ｍｌに、室温下ゆっくり滴下した。室温下２時間撹拌
後、シクロヘキサンで抽出した。集めた有機層を飽和食
塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下濃縮後、黄色油状物の目的物２４３ｍｇを得た。Example 6 Synthesis of [4- (2-acetylamino-1,1-dimethylethyl) phenyl] = chlorothioformate [4- (2-acetylamino-1,1-dimethylethyl) phenoxy] acetate 315 mg methanol 1
The mixture was dissolved in 0 ml, 4 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After the reaction, methanol was distilled off under reduced pressure.
The mixture was acidified with N hydrochloric acid. After extraction with ethyl acetate, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 190 mg of a white solid. 2m of an aqueous solution of the obtained white solid and 37mg of sodium hydroxide
1 with a solution of 115 mg of thiophosgene in cyclohexane 3
The mixture was slowly added dropwise to the mixture at room temperature. After stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was extracted with cyclohexane. The collected organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, 243 mg of the desired product was obtained as a yellow oil.
【０１１０】1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，
δｐｐｍ） １．３２ ａｎｄ １．３２（２ｓ，６Ｈ），１．８６
（ｓ，３Ｈ），３．４２ａｎｄ ３．４４（２ｓ，２
Ｈ），５．５１ ａｎｄ ５．５２（２ｂｒｓ，１
Ｈ），７．０８ ａｎｄ ７．１６（２ｄ，Ｊ＝８．５
Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２
Ｈ）。 1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 1.32 and 1.32 (2s, 6H), 1.86
(S, 3H), 3.42 and 3.44 (2s, 2
H), 5.51 and 5.52 (2 brs, 1
H), 7.08 and 7.16 (2d, J = 8.5)
Hz, 2H), 7.40 (d, J = 9.0 Hz, 2
H).
【０１１１】[0111]
【発明の効果】本発明により、各種生理活性物質の製造
に有用な製造中間体を得ることができる。According to the present invention, a production intermediate useful for producing various physiologically active substances can be obtained.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 和久 神奈川県横浜市青葉区たちばな台二丁目７ 番地３ (72)発明者 山本 隆 神奈川県横浜市神奈川区六角橋５丁目21番 地33号−401 (72)発明者 勝浦 公男 東京都新宿区西落合２−23−３ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazuhisa Kono 2-7-7 Tachibanadai, Aoba-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture (72) Inventor Takashi Yamamoto 5--21, No. 33-401, Rokukakubashi 5-chome, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture (72) Inventor Kimio Katsuura 2-23-3 Nishi-Ochiai, Shinjuku-ku, Tokyo
Claims (3)
カルボニル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、低級ア
ルキルカルバモイル基、低級アシル基、低級アシルオキ
シ基、もしくは低級アシルアミノ基を表す。）、または
式［３］ 【化３】 （Ｒ2は低級アルコキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、
カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、低級ア
シルオキシ基、低級アシルアミノ基もしくはアミノ基を
表す。）で表される基を表し、Ｖはハロゲン原子を表
す。］で表されることを特徴とするハロゲン化チオホル
メート誘導体。1. A compound of the general formula [1] [Wherein R is a tri-lower alkylsilyl group, formula [2] (R 1 represents a lower alkoxy group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group, a lower acyl group, a lower acyloxy group, or a lower acylamino group.) Chemical formula 3] (R 2 is a lower alkoxy group, a cyano group, a hydroxy group,
Represents a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group, a lower acyloxy group, a lower acylamino group or an amino group. ), And V represents a halogen atom. ] A halogenated thioformate derivative represented by the formula:
基、シアノメチル基、アミノメチル基、低級アシルアミ
ノメチル基、低級アシルオキシメチル基、ヒドロキシメ
チル基を表す。）で表されることを特徴とするフェノー
ル誘導体及びその塩。2. A compound of the general formula [4] Wherein R 3 represents a lower alkoxy group, a lower alkoxymethyl group, a cyanomethyl group, an aminomethyl group, a lower acylaminomethyl group, a lower acyloxymethyl group, or a hydroxymethyl group. Derivatives and salts thereof.
ノール誘導体とチオホスゲン等のハロゲノチオカルボニ
ル化剤を反応させることを特徴とする一般式［１］ 【化６】 （式中Ｒ及びＶは前記と同様な意味を表す）で表される
ハロゲン化チオホルメート誘導体の製造方法。3. A compound of the general formula [5] Wherein R represents the same meaning as described above, and a halogenothiocarbonylating agent such as thiophosgene is reacted with the phenol derivative represented by the general formula [1]. (Wherein R and V have the same meanings as described above).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9012485A JPH10204057A (en) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | Halogenated thioformate derivative and its production |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP9012485A JPH10204057A (en) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | Halogenated thioformate derivative and its production |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH10204057A true JPH10204057A (en) | 1998-08-04 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008545807A (en) * | 2006-07-26 | 2008-12-18 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | Method for synthesizing O-desmethylvenlafaxine |
| US8569371B2 (en) | 2010-03-29 | 2013-10-29 | Pliva Hrvatska D.O.O. | Crystal forms of O-desmethylvenlafaxine fumarate |
-
1997
- 1997-01-27 JP JP9012485A patent/JPH10204057A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008545807A (en) * | 2006-07-26 | 2008-12-18 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | Method for synthesizing O-desmethylvenlafaxine |
| JP4763788B2 (en) * | 2006-07-26 | 2011-08-31 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | Method for synthesizing O-desmethylvenlafaxine |
| US8569371B2 (en) | 2010-03-29 | 2013-10-29 | Pliva Hrvatska D.O.O. | Crystal forms of O-desmethylvenlafaxine fumarate |
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