JPH1020096A - Radiation intensifying screen - Google Patents

Radiation intensifying screen

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Publication number
JPH1020096A
JPH1020096A JP17223396A JP17223396A JPH1020096A JP H1020096 A JPH1020096 A JP H1020096A JP 17223396 A JP17223396 A JP 17223396A JP 17223396 A JP17223396 A JP 17223396A JP H1020096 A JPH1020096 A JP H1020096A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intensifying screen
phosphor
layer
screen
radiation
Prior art date
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Pending
Application number
JP17223396A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ohara
弘 大原
Koji Amitani
幸二 網谷
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP17223396A priority Critical patent/JPH1020096A/en
Publication of JPH1020096A publication Critical patent/JPH1020096A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image having a high sharpness by forming a light reflection preventing film containing an organic solvent-soluble resin on the surface of a transparent protecting layer. SOLUTION: This screen is formed of a fluorescent intensifying screen support body 1, a phosphor layer 2 which is exited by receiving a radiation to generate a visual light, a transparent protecting layer 3, and a reflection preventing layer 4. As the phosphor, for example, a tungstate phosphor is used, and a binder (e.g. protein such as gelatin) and a solvent for binder (e.g. methanol) are mixed and dispersed to the phosphor to provide a phosphor coating solution. The coating solution is uniformly applied to the fluorescent intensifying screen support body 1 horizontally placed on a glass so as to have a dried thickness of a prescribed value to provide the phosphor layer 2. A transparent polyethylene terephthalate film is adhered to the phosphor layer 2 with the adhesive down to provide the protecting layer 3. The light reflection preventing layer 4 is formed on the fluorescent intensifying screen support body 1 in the same manner as in the phosphor layer 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高鮮鋭度の放射線
増感スクリーンに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high sharpness radiographic intensifying screen.

【0002】[0002]

【従来の技術】放射線増感スクリーンは、医療診断を目
的とするX線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊
検査を目的とする工業用放射線撮影などの種々の分野に
おける放射線撮影において、撮影系の感度を向上させる
ために、ハロゲン化銀写真感光材料(以下、感光材料と
もいう)の片面或いは両面に密着させて、重ね合わせて
使用するものである。
2. Description of the Related Art Radiation intensifying screens are used in various fields such as medical radiography such as X-ray radiography for medical diagnosis and industrial radiography for nondestructive inspection of substances. In order to improve the sensitivity of the photographic system, it is used in close contact with one side or both sides of a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter, also referred to as a light-sensitive material), and is used by overlapping.

【0003】この放射線増感スクリーン(以下、単にス
クリーンともいう)としては、基本構造として、支持体
とその片面に設けられた蛍光体層とからなるものであ
る。なお、この蛍光体層の表面(支持体に面してない側
の表面)には一般に、プラスチックフイルムなどからな
る透明な保護層が設けられていて蛍光体層を化学的な変
質或いは物理的な衝撃から保護している。保護膜は通
常、別途形成した薄膜を接着剤を用いて接合することに
より蛍光体上に付設されている。
[0003] The radiation intensifying screen (hereinafter, also simply referred to as a screen) has, as a basic structure, a support and a phosphor layer provided on one surface thereof. Incidentally, a transparent protective layer made of a plastic film or the like is generally provided on the surface of the phosphor layer (the surface on the side not facing the support), and the phosphor layer is chemically or physically changed. Protects from impact. The protective film is usually provided on the phosphor by bonding a separately formed thin film using an adhesive.

【0004】蛍光体層は、蛍光体粒子を分散状態で含有
支持する結合剤からなるものであり、この蛍光体粒子
は、X線などの放射線によって励起されたときに高輝度
の発光を示す性質を有するものである。従って、被写体
を通過した放射線の量に応じて蛍光体は発光し、スクリ
ーンの蛍光体層の表面に密着して重ね合わせて置かれた
感光材料は、この発光によって感光するため、比較的少
ない放射線量で感光材料は充分な感光を達成することが
でき、感光材料上には被写体の放射線像が形成される。
[0004] The phosphor layer is composed of a binder that contains and supports the phosphor particles in a dispersed state. The phosphor particles have a property of emitting light of high luminance when excited by radiation such as X-rays. It has. Therefore, the phosphor emits light in accordance with the amount of radiation that has passed through the subject, and the photosensitive material placed in close contact with the surface of the phosphor layer of the screen is exposed by this light emission, so that relatively little radiation is emitted. With the amount, the photosensitive material can achieve sufficient exposure, and a radiation image of a subject is formed on the photosensitive material.

【0005】放射線写真撮影において利用されるスクリ
ーンと感光材料からなる撮影系(スクリーン・フイルム
系)は、被写体の被曝線量をできる限り低減させるため
に感度が少しでも高いことが望まれている。
It is desired that a radiographic system (screen film system) composed of a screen and a photosensitive material used in radiographic photography has as high a sensitivity as possible in order to reduce the exposure dose of a subject as much as possible.

【0006】また、得られた画像は画質(鮮鋭度、粒状
度等)の高いものであることが望まれている。
Further, it is desired that the obtained images have high image quality (sharpness, granularity, etc.).

【0007】従来より、スクリーン・フイルム系の感度
を高めるために、放射線撮影用感光材料は支持体の両面
にハロゲン化銀乳剤層が設けられた構成を有するもの
(両面感光材料)を用い、感光材料の両側にスクリーン
(フロントスクリーン及びバックスクリーン)を配置し
てなる撮影系が利用されている。
Heretofore, in order to enhance the sensitivity of a screen film system, a radiation-sensitive photosensitive material having a structure in which a silver halide emulsion layer is provided on both sides of a support (double-sided photosensitive material) has been used. An imaging system in which screens (front screen and back screen) are arranged on both sides of a material is used.

【0008】このような撮影系においては、スクリーン
からの発光は隣接する感光材料の乳剤層に直接吸収(感
光)される以外に、反対側の乳剤層に吸収(感光)され
たり、更に感光材料を透過したのち反対側のスクリーン
で反射されることにより、感光材料に吸収される前に両
側のスクリーンの間で反射が繰り返される。従って、感
光材料両面の乳剤層はスクリーンからの発光によって直
接感光するのみならず、これらの多重反射光(いわゆる
クロスオーバー光)によっても感光する。クロスオーバ
ー光はスクリーンによる反射及び感光材料を透過する際
の散乱などにより広がりをもつため、画質(鮮鋭度)の
低下を引き起こすという問題点がある。
In such a photographing system, the light emitted from the screen is not only absorbed (exposed) directly to the emulsion layer of the adjacent photosensitive material, but also absorbed (exposed) to the emulsion layer on the opposite side. Is reflected by the screen on the opposite side after passing through, so that the reflection is repeated between the screens on both sides before being absorbed by the photosensitive material. Therefore, the emulsion layers on both sides of the light-sensitive material are not only directly exposed to light emitted from the screen, but also to these multiple reflected lights (so-called crossover light). The crossover light spreads due to reflection by the screen and scattering when transmitted through the photosensitive material, and thus has a problem that image quality (sharpness) is reduced.

【0009】従って、鮮鋭度の優れたスクリーンが強く
望まれていた。
Therefore, a screen having excellent sharpness has been strongly desired.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、鮮鋭
度が高い放射線画像を得ることができるスクリーンを提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a screen capable of obtaining a radiographic image with high sharpness.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的は下記の構成に
より達成される。
The above object is achieved by the following constitution.

【0012】1.支持体上に蛍光体層、透明保護層をこ
の順序で有する放射線増感スクリーンにおいて、該透明
保護層の表面に有機溶媒可溶性樹脂を含有する光反射防
止膜が形成されていることを特徴とする放射線増感スク
リーン。
1. In a radiographic intensifying screen having a phosphor layer and a transparent protective layer in this order on a support, an antireflection film containing an organic solvent-soluble resin is formed on the surface of the transparent protective layer. Radiation intensifying screen.

【0013】2.前記有機溶媒可溶性樹脂が主鎖に環構
造を有する非晶質有機化合物からなることを特徴とする
前記1に記載の放射線増感スクリーン。
2. 2. The radiographic intensifying screen according to the item 1, wherein the organic solvent-soluble resin comprises an amorphous organic compound having a ring structure in a main chain.

【0014】3.前記有機溶媒可溶性樹脂が有機フッ素
化合物で形成された膜であることを特徴とする前記1又
は2に記載の放射線増感スクリーン。
3. 3. The radiographic intensifying screen according to the above item 1 or 2, wherein the organic solvent-soluble resin is a film formed of an organic fluorine compound.

【0015】4.前記光反射防止膜の膜厚が0.01〜
1μmの範囲にあることを特徴とする前記1〜3の何れ
か1項に記載の放射線増感スクリーン。
4. The thickness of the light antireflection film is 0.01 to
4. The radiation intensifying screen according to any one of the items 1 to 3, wherein the radiation intensifying screen is in a range of 1 μm.

【0016】5.前記有機溶媒可溶性樹脂を有機溶媒に
溶解した塗布液を透明保護層上に供給し、塗布法により
光反射防止膜を形成することを特徴とする前記1〜4の
何れか1項に記載の放射線増感スクリーン。
5. The radiation according to any one of claims 1 to 4, wherein a coating solution obtained by dissolving the organic solvent-soluble resin in an organic solvent is supplied onto the transparent protective layer, and an antireflection film is formed by a coating method. Intensifying screen.

【0017】6.前記塗布液の粘度が10cps以下及
び/又は前記有機溶媒可溶性樹脂の固形分重量比率(N
V)が1%以上であることを特徴とする前記5に記載の
放射線増感スクリーン。
6. The viscosity of the coating solution is 10 cps or less and / or the solid content weight ratio of the organic solvent-soluble resin (N
V) is 1% or more, The radiographic intensifying screen as described in 5 above, wherein

【0018】7.支持体上に蛍光体層、透明保護層をこ
の順序で有する放射線増感スクリーンにおいて、該透明
保護層の表面に無機物からなる光反射防止膜が形成され
ていることを特徴とする放射線増感スクリーン。
[7] A radiation intensifying screen having a phosphor layer and a transparent protective layer in this order on a support, wherein an antireflection film made of an inorganic material is formed on the surface of the transparent protective layer. .

【0019】8.前記無機物が無機フッ素化合物である
ことを特徴とする前記7に記載の放射線増感スクリー
ン。
8. 8. The radiation intensifying screen according to the item 7, wherein the inorganic substance is an inorganic fluorine compound.

【0020】9.前記光反射防止膜の膜厚が0.01〜
1μmの範囲にあることを特徴とする前記7又は8に記
載の放射線増感スクリーン。
9. The thickness of the light antireflection film is 0.01 to
9. The radiographic intensifying screen according to the item 7 or 8, wherein the radiographic intensifying screen is in a range of 1 μm.

【0021】以下、本発明を詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0022】本発明のスクリーンについて下図により詳
細に説明する。
The screen of the present invention will be described in detail with reference to the following figures.

【0023】図1に本発明の一例を示すスクリーンの構
成を示す。1は支持体、2は放射線を受けて励起され可
視光を発生する蛍光体層、3は透明保護層、4は光反射
防止膜である。
FIG. 1 shows the structure of a screen showing an example of the present invention. 1 is a support, 2 is a phosphor layer which is excited by receiving radiation to generate visible light, 3 is a transparent protective layer, and 4 is an antireflection film.

【0024】図2はスクリーンを用いた放射線写真法に
おけるクリーンと感光材料との関係を示す断面図であ
る。5は放射線写真撮影用カセッテ本体、6カセッテ
蓋、7蝶番であり、該本体と蓋6は一方を蝶番7で開閉
自在に固定され密閉された状態で偏平な容器が形成され
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the relationship between clean and photosensitive material in a radiographic method using a screen. Reference numeral 5 denotes a radiographic cassette main body, 6 cassette lid, and 7 hinges. One of the main body and the lid 6 is fixed to be openable and closable by a hinge 7, and a flat container is formed in a sealed state.

【0025】8はクッション材、9はスクリーンで、密
着性を保つために備えられたクッション材上に発光面を
互いに向き合わせて表面(以下、フロント)用、裏面
(以下、バック)用として貼付される、10は両面に感
光性乳剤層を有する感光材料、11はクッション材の固
定枠である。
Numeral 8 is a cushion material, and 9 is a screen, which is attached to a cushion material provided for maintaining adhesion, with the light emitting surfaces facing each other for the front surface (hereinafter referred to as front) and the back surface (hereinafter referred to as back). Reference numeral 10 denotes a photosensitive material having photosensitive emulsion layers on both sides, and 11 denotes a fixed frame of a cushion material.

【0026】感光材料10は、スクリーン9に挟持され
た形でセットされ、蓋6が密閉されて圧着、脱気され撮
影に供せられる。
The photosensitive material 10 is set so as to be sandwiched by the screen 9, the cover 6 is closed, and the photosensitive material 10 is pressure-bonded and degassed to be used for photographing.

【0027】図3は放射線画像の鮮鋭度が劣化する要因
となるクロスオーバー光を示す概念図である。図3のス
クリーンには光反射防止膜がない。
FIG. 3 is a conceptual diagram showing crossover light which causes deterioration in the sharpness of a radiation image. The screen of FIG. 3 does not have an anti-reflection film.

【0028】10の感光材料はスクリーンのフロント1
2及び同バック13により密着されて放射線が曝射され
る。
The 10 photosensitive materials are the front 1 of the screen.
Radiation is radiated in close contact with the bag 2 and the bag 13.

【0029】蛍光体17は放射線により励起されて18
で示すように発光し、隣接するハロゲン化銀乳剤層16
を感光させるか、発光の一部はクロスオーバー光(1)
19として反対側の乳剤層15も感光させ像を形成す
る。
The phosphor 17 is excited by radiation and
And the adjacent silver halide emulsion layer 16
Or cross-over light (1)
As 19, the emulsion layer 15 on the opposite side is also exposed to form an image.

【0030】また、感光材料10を透過した発光は反対
側のスクリーン12内へ透過していくが、その一部はク
ロスオーバー光(2)20として、その表面、詳しくは
透明保護層3の表面で反射して乳剤層15を感光させ、
更に一部はクロスオーバー光(3)21となって反対側
の乳剤層16を感光させボケ像を形成する。
The light transmitted through the photosensitive material 10 is transmitted through the screen 12 on the opposite side, and a part of the light is transmitted as crossover light (2) 20 on the surface, more specifically, the surface of the transparent protective layer 3. To expose the emulsion layer 15 and
Further, a part thereof becomes crossover light (3) 21 to expose the emulsion layer 16 on the opposite side to form a blurred image.

【0031】図4は本発明の光反射防止膜によりクロス
オーバー光の反射を防ぐことを示す概念図である。
FIG. 4 is a conceptual view showing that the reflection of crossover light is prevented by the antireflection film of the present invention.

【0032】放射線により励起され、蛍光体17より発
光したもののうち、感光材料10を透過したクロスオー
バー光は、本発明の有機溶媒可溶性樹脂を含有する光反
射防止膜4を塗設した反対側のスクリーン12の表面で
反射することなく、スクリーン内へ透過していきボケ像
の形成を防ぐものである。
The cross-over light, which is excited by the radiation and emitted from the phosphor 17, has passed through the photosensitive material 10 is the cross-over light on the opposite side of the coated anti-reflection film 4 containing the organic solvent-soluble resin of the present invention. The light is transmitted through the screen without being reflected on the surface of the screen 12 to prevent the formation of a blurred image.

【0033】即ち、本発明の光反射防止膜を設けたスク
リーンはX線照射によりフロント又はバックで励起され
た発光が感光材料の各構成層を透過して対応するバック
又はフロントのスクリーン面で反射して感光材料のボケ
像形成に寄与することを防ぐためのもので、その結果、
高鮮鋭性を得ることが可能となる。
That is, in the screen provided with the antireflection film of the present invention, the luminescence excited at the front or back by X-ray irradiation is transmitted through each constituent layer of the photosensitive material and reflected at the corresponding back or front screen surface. To prevent the photosensitive material from contributing to the formation of a blurred image. As a result,
High sharpness can be obtained.

【0034】本発明の有機溶媒可溶性樹脂としては、例
えば分子量20,000〜100,000、屈折率1.
35以下の低屈折率で有機溶媒可溶のアセタール化変性
フッ素樹脂又はエーテル化フッ素樹脂が好ましい。これ
らの樹脂の具体例を以下に示すが、本発明はこれらのみ
に限定されるものではない。
As the organic solvent-soluble resin of the present invention, for example, a molecular weight of 20,000 to 100,000 and a refractive index of 1.
An acetalized modified fluororesin or an etherified fluororesin having a low refractive index of 35 or less and soluble in an organic solvent is preferred. Specific examples of these resins are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0035】[0035]

【化1】 Embedded image

【0036】本発明の樹脂可溶性樹脂を溶解する好まし
い有機溶媒としては、パーフルオロ−2−ブチルハイド
ロフラン、パーフルオロトリブチルアミンが挙げられ
る。
Preferred organic solvents for dissolving the resin-soluble resin of the present invention include perfluoro-2-butylhydrofuran and perfluorotributylamine.

【0037】本発明の光反射防止膜は化1に示したよう
な樹脂をパーフルオロ−2−ブチルハイドロフラン、パ
ーフルオロトリブチルアミン或いはそれ等の混合溶媒等
の溶媒により調製した塗布液を保護膜表面に塗布して乾
燥することにより形成される。
The anti-reflection coating of the present invention is prepared by coating a resin as shown in Chemical formula 1 with a solvent such as perfluoro-2-butylhydrofuran, perfluorotributylamine or a mixed solvent thereof. It is formed by coating on the surface and drying.

【0038】下引層は、光反射防止膜4の透明保護層3
に対する接着性の向上のために設けられてもよい。
The undercoat layer is made of the transparent protective layer 3 of the antireflection film 4.
May be provided in order to improve the adhesiveness to the substrate.

【0039】光反射防止膜4は前記のごときフッ素樹
脂、主鎖に環構造を有する非晶質有機化合物又は有機フ
ッ素系樹脂の単層膜であって、透明保護層3の光透過性
を向上させる膜厚が50nm〜1μmの範囲にあるもの
とするために、フッ素樹脂は化1に示される“TEFL
ON”AFや“CYTOP”のような主鎖に環構造を有
するアモルファスフッ素樹脂が好ましく、またフッ素樹
脂や溶剤の複数種の混用も含めた選択により、塗布液の
粘度が1cps以上10cps以下で、しかもNVが1
%以上20%以下のものにするのが好ましい。
The anti-reflection film 4 is a single layer film of the above-mentioned fluororesin, an amorphous organic compound having a ring structure in the main chain or an organic fluororesin, and improves the light transmittance of the transparent protective layer 3. In order that the thickness of the film to be formed is in the range of 50 nm to 1 μm, the fluororesin is “TEFL” shown in Chemical formula 1.
An amorphous fluororesin having a ring structure in the main chain such as "ON" AF or "CYTOP" is preferable, and the viscosity of the coating liquid is 1 cps or more and 10 cps or less, depending on selection including mixing of plural kinds of fluororesins and solvents. And NV is 1
% Or more and 20% or less.

【0040】無機系光反射防止膜に用いられる無機化合
物としては、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、
氷晶石などの無機フッ化物及び酸化アルミニウム、二酸
化ジルコニウム、二酸化チタン、一酸化ケイ素、二酸化
ケイ素等の無機酸化物を挙げることができる。特に無機
フッ素化合物を用いることが好ましい。
Examples of the inorganic compound used for the inorganic antireflection film include magnesium fluoride, calcium fluoride,
Examples include inorganic fluorides such as cryolite and inorganic oxides such as aluminum oxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, silicon monoxide, and silicon dioxide. It is particularly preferable to use an inorganic fluorine compound.

【0041】光反射防止膜の膜厚は、 (使用する蛍光体の発光分光強度)×(光反射防止膜の
分光反射率)×(感光材料の分光感度)の積分値 が一番小さくなるように、即ち、反射光による感光材料
の感光が最も小さくなるように設計することが好まし
い。
The thickness of the light antireflection film is such that the integrated value of (spectral emission intensity of the used phosphor) × (spectral reflectance of light antireflection film) × (spectral sensitivity of photosensitive material) becomes smallest. In other words, it is preferable to design the photosensitive material so that the sensitivity of the photosensitive material to the reflected light is minimized.

【0042】光反射防止膜の膜厚は、その特性から励起
光の波長オーダーであるのが好ましく、また、光反射防
止膜は多層構造にすることにより更に反射率を低減する
ことができる。
The thickness of the anti-reflection film is preferably on the order of the wavelength of the excitation light in view of its characteristics. The reflectance can be further reduced by forming the anti-reflection film into a multilayer structure.

【0043】従って、本発明のスクリーンに用いられる
光反射防止膜の膜厚は0.01〜1μmが好ましく、更
に0.05〜0.4μmが好ましい。
Accordingly, the thickness of the antireflection film used in the screen of the present invention is preferably 0.01 to 1 μm, more preferably 0.05 to 0.4 μm.

【0044】なお、本発明のスクリーンは公知の光吸収
染料によって着色されていてもよく、この着色によって
得られる画像の鮮鋭度を向上させることができる。
The screen of the present invention may be colored with a known light-absorbing dye, and this coloring can improve the sharpness of an image obtained.

【0045】光反射防止膜4の塗布液の塗布、乾燥は従
来公知のナイフコーティング、ドクターコーティング、
ロールコーティング等で塗布して、焼付炉で乾燥する方
法により行われる。
The coating and drying of the coating solution for the anti-reflection film 4 can be performed by a conventionally known knife coating, doctor coating, or the like.
It is performed by a method of applying by roll coating or the like and drying in a baking furnace.

【0046】以上によって、光反射防止膜4付きの透明
保護層3が鮮鋭度に優れた放射線像の形成を可能とす
る。
As described above, the transparent protective layer 3 with the antireflection film 4 enables the formation of a radiation image with excellent sharpness.

【0047】本発明のスクリーンに用いられる好ましい
蛍光体としては、以下に示すものが挙げられる。
Preferred phosphors used for the screen of the present invention include the following.

【0048】タングステン酸塩系蛍光体(CaWO4
MgWO4、CaWO4:Pb等)、テルビウム賦活希土
類酸硫化物系蛍光体〔Y22S:Tb、Gd22S:T
b、La22S:Tb、(Y,Gd)22S:Tb、
(Y,Gd)O2S:Tb,Tm等〕、テルビウム賦活
希土類燐酸塩系蛍光体(YPO4:Tb、GdPO4:T
b、LaPO4:Tb等)、テルビウム賦活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体(LaOBr:Tb、LaOB
r:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:T
b,Tm、LaOCl:Tb,Tm、LaOBr:T
b、GdOBr:Tb、GdOCl:Tb等)、ツリウ
ム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体(LaOB
r:Tm、LaOCl:Tm等)、硫酸バリウム系蛍光
体〔BaSO4:Pb、 BaSO4:Eu2+、(B
a,Sr)SO4:Eu2+等〕、2価のユーロビウム賦
活アルカリ土類金属燐酸塩系蛍光体〔(Ba2
42:Eu2+、(Ba2PO42:Eu2+等〕、2価
のユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物
系蛍光体〔BaFCl:Eu2+、BaFBr:Eu2+
BaFCl:Eu2+,Tb、BaFBr:Eu2+,T
b、BaF2・BaCl・KCl:Eu2+、(Ba,M
g)F2・BaCl・KCl:Eu2+等〕、沃化物系蛍
光体(CsI:Na、 CsI:Tl、NaI、KI:
Tl等)、硫化物系蛍光体〔ZnS:Ag(Zn,C
d)S:Ag、(Zn,Cd)S:Cu、(Zn,C
d)S:Cu,Al等〕、燐酸ハフニウム系蛍光体(H
fP27:Cu等)、タンタル酸塩系蛍光体〔YTaO
4、YTaO4:Tm、YTaO4:Nb、(Y,Sr)
TaO4、(Y,Sr)TaO4:Nb、(Y,Sr)T
aO4:Tm、LuTaO4、LuTaO4:Nb、(L
u,Sr)TaO4、(Lu,Sr)TaO4:Tm、
(Lu,Sr)TaO4:Nb、(Lu,Sr)Ta
4:Tm、GdTaO4:Tm、Gd23・Ta25・B
23:Tb等〕等が挙げられるが、本発明に用いられる
蛍光体はこれらに限定されるものではなく、放射線の照
射によって可視又は近紫外領域の発光を示す蛍光体であ
れば使用できる。
Tungstate-based phosphors (CaWO 4 ,
MgWO 4 , CaWO 4 : Pb, etc.), terbium-activated rare earth oxysulfide-based phosphor [Y 2 O 2 S: Tb, Gd 2 O 2 S: T
b, La 2 O 2 S: Tb, (Y, Gd) 2 O 2 S: Tb,
(Y, Gd) O 2 S: Tb, Tm, etc.], terbium-activated rare earth phosphate-based phosphor (YPO 4 : Tb, GdPO 4 : T
b, LaPO4: Tb, etc.), terbium-activated rare earth oxyhalide phosphor (LaOBr: Tb, LaOB)
r: Tb, Tm, LaOCl: Tb, LaOCl: T
b, Tm, LaOCl: Tb, Tm, LaOBr: T
b, GdOBr: Tb, GdOCl: Tb, etc., thulium-activated rare earth oxyhalide-based phosphor (LaOB)
r: Tm, LaOCl: Tm, etc.), barium sulfate phosphor [BaSO4: Pb, BaSO 4: Eu 2+, (B
a, Sr) SO 4 : Eu 2+ etc.] divalent eurobium-activated alkaline earth metal phosphate phosphor [(Ba 2 P
O 4 ) 2 : Eu 2+ , (Ba 2 PO 4 ) 2 : Eu 2+ etc.], divalent europium-activated alkaline earth metal fluorinated halide-based phosphor [BaFCl: Eu 2+ , BaFBr: Eu 2 + ,
BaFCl: Eu 2+ , Tb, BaFBr: Eu 2+ , T
b, BaF 2 .BaCl.KCl: Eu 2+ , (Ba, M
g) F2.BaCl.KCl: Eu 2+ etc.], iodide-based phosphors (CsI: Na, CsI: Tl, NaI, KI:
Tl, etc.), sulfide-based phosphor [ZnS: Ag (Zn, C
d) S: Ag, (Zn, Cd) S: Cu, (Zn, C
d) S: Cu, Al, etc.], hafnium phosphate-based phosphor (H
fP 2 O 7 : Cu, etc.), tantalate-based phosphor [YTaO
4, YTaO 4: Tm, YTaO 4: Nb, (Y, Sr)
TaO 4 , (Y, Sr) TaO 4 : Nb, (Y, Sr) T
aO 4 : Tm, LuTaO 4 , LuTaO 4 : Nb, (L
u, Sr) TaO 4 , (Lu, Sr) TaO 4 : Tm,
(Lu, Sr) TaO 4 : Nb, (Lu, Sr) Ta
O 4 : Tm, GdTaO 4 : Tm, Gd 2 O 3 .Ta 2 O 5 .B
2 O 3 : Tb etc.], but the phosphor used in the present invention is not limited thereto, and any phosphor that emits light in the visible or near ultraviolet region upon irradiation with radiation can be used. .

【0049】蛍光体層2の結合剤の例としては、ゼラチ
ン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド又は
アラビアゴムのような天然高分子物質及びポリビニルブ
チラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチル
セルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、
ポリアルキル(メタ)アクリレート、塩化ビニル・酢酸
ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテー
トブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステ
ル等のような合成高分子物質等により代表される結合剤
を挙げることができ、これらの結合剤が架橋剤によって
架橋されていてもよい。このような結合剤のなかで好ま
しいのは、支持体1に不活性の溶媒を用いることができ
る結合剤や光反射防止膜4の溶媒に不溶の結合剤であ
る。
Examples of the binder for the phosphor layer 2 include proteins such as gelatin, polysaccharides such as dextran or natural high molecular substances such as gum arabic, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, nitrocellulose, ethylcellulose, vinylidene chloride.・ Vinyl chloride copolymer,
Binders represented by synthetic polymer substances such as polyalkyl (meth) acrylate, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polyurethane, cellulose acetate butyrate, polyvinyl alcohol, linear polyester and the like can be mentioned. The binder may be cross-linked by a cross-linking agent. Among such binders, a binder that can use an inert solvent for the support 1 and a binder that is insoluble in the solvent of the antireflection film 4 are preferable.

【0050】上述のような結合剤の溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノー
ル等の低級アルコール;メチレンクロライド、エチレン
クロライド等の塩素原子含有炭化水素;アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルとの低級脂肪酸と
低級アルコールとのエステル;ジオキサン、エチレング
リコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ
メチルエーテル等のエーテル等、及びこれらの混合物を
挙げることができる。そこで、支持体1にプラスチック
シートを用いたときは、支持体1に不活性の溶媒とそれ
に応じた結合剤を用いることが好ましい。
Examples of the solvent for the above binder include lower alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol and n-butanol; hydrocarbons containing chlorine atoms such as methylene chloride and ethylene chloride; acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. Ketones such as;
Esters of lower fatty acids and lower alcohols with methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; dioxane, ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether, and the like, and mixtures thereof. Therefore, when a plastic sheet is used for the support 1, it is preferable to use an inert solvent and a binder according to the inert solvent for the support 1.

【0051】結合剤と蛍光体との混合比は、目的とする
スクリーンの特性、蛍光体の種類などによって異なる
が、一般には1:1乃至1:100(重量比)の範囲か
ら選ばれ、そして特に1:8乃至1:40(重量比)の
範囲から選ぶことが好ましい。
The mixing ratio between the binder and the phosphor varies depending on the desired characteristics of the screen, the kind of the phosphor and the like, but is generally selected from the range of 1: 1 to 1: 100 (weight ratio). In particular, it is preferable to select from the range of 1: 8 to 1:40 (weight ratio).

【0052】そして、溶媒により蛍光体を分散した結合
剤溶液の塗布液を調製するが、塗布液には蛍光体粒子の
分散性を向上させるための分散剤、蛍光体層2中の結合
剤と蛍光体粒子の結合力を向上させるための可塑剤等種
々の添加剤を混合してもよい。
Then, a coating solution of a binder solution in which the phosphor is dispersed with a solvent is prepared. The coating solution contains a dispersant for improving the dispersibility of the phosphor particles and a binder in the phosphor layer 2. Various additives such as a plasticizer for improving the bonding force of the phosphor particles may be mixed.

【0053】用いられる分散剤の例としては、フタル
酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤など
を挙げることができる。又可塑剤の例としては、燐酸ト
リフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐
酸エステル;フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエ
チル等のフタル酸エステル;グリコール酸エチルフタリ
ルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリ
コール酸エステル;そして、トリエチレングリコールと
アジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールと
コハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリコール
と脂肪族二塩基酸とのポリエステルなどを挙げることが
できる。
Examples of the dispersant used include phthalic acid, stearic acid, caproic acid, lipophilic surfactant and the like. Examples of the plasticizer include phosphoric esters such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate and diphenyl phosphate; phthalic esters such as diethyl phthalate and dimethoxyethyl phthalate; ethylphthalylethyl glycolate and butylphthalylbutyl glycolate; And polyesters of polyethylene glycol and aliphatic dibasic acid, such as polyesters of triethylene glycol and adipic acid, and polyesters of diethylene glycol and succinic acid.

【0054】上記のようにして調製された蛍光体と結合
剤を含有する塗布液を、支持体1の表面に均一に塗布す
ることにより塗膜を形成する。この塗布は、通常の塗布
手段例えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイ
フコーター等を用いることにより行うことができる。
The coating solution containing the phosphor and the binder prepared as described above is uniformly applied to the surface of the support 1 to form a coating film. This coating can be performed by using a usual coating means, for example, a doctor blade, a roll coater, a knife coater or the like.

【0055】次に形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して支持体上へ蛍光体層2を形成する。
Next, the formed coating film is dried by gradually heating to form the phosphor layer 2 on the support.

【0056】また、蛍光体層2は必ずしも上記と同様に
支持体上に塗布液を直接塗布形成する必要はなく、別の
仮支持体又は保護層上に、上記と同様にして塗布液を塗
布し、乾燥することにより蛍光体層を形成した後、これ
を支持体上に押圧するか、或いは接着剤を用いるなどし
て支持体と蛍光体層とを接合してもよい。
Further, the phosphor layer 2 does not necessarily need to be formed by directly applying the coating solution on the support as in the above, and the coating solution is coated on another temporary support or the protective layer in the same manner as described above. Then, after the phosphor layer is formed by drying, the phosphor layer may be bonded to the support by pressing the phosphor layer on the support or using an adhesive.

【0057】本発明のスクリーンに用いられる支持体又
は仮支持体としては、例えばガラス、ウール、コット
ン、紙、金属等の種々の素材から作られたものが使用さ
れ得るが、情報記録材料としての取り扱い上可撓性のあ
るシート或いはロールに加工できるものが好ましい。こ
の点から、例えばセルロースアセテートフィルム、ポリ
エステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリア
セテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラ
スティクフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金
箔等の金属シート、一般紙及び例えば写真用原紙、コー
ト紙若しくはアート紙のような印刷用原紙、バライタ
紙、レジンコート紙、ベルギー特許784,615号明
細書に記載されているようなポリサッカライド等でサイ
ジングされた紙、二酸化チタンなどの顔料を含むピグメ
ント紙、ポリビニールアルコールでサイジングした紙等
の加工紙が特に好ましい。
As the support or temporary support used for the screen of the present invention, for example, those made of various materials such as glass, wool, cotton, paper, and metal can be used. Those that can be processed into a flexible sheet or roll for handling are preferable. From this point, for example, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, plastic film such as polycarbonate film, aluminum foil, metal sheet such as aluminum alloy foil, general paper and, for example, photographic Base paper, printing base paper such as coated paper or art paper, baryta paper, resin coated paper, paper sized with polysaccharide as described in Belgian Patent 784,615, pigments such as titanium dioxide Pigmented paper containing, and processed paper such as paper sized with polyvinyl alcohol are particularly preferred.

【0058】蛍光体層2の層厚は、目的とするスクリー
ンの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比な
どによって異なるが、通常は20μm〜1mmの範囲と
し、好ましくは50〜500μmの範囲とする。
The thickness of the phosphor layer 2 depends on the characteristics of the target screen, the kind of the phosphor, the mixing ratio of the binder and the phosphor, etc., but is usually in the range of 20 μm to 1 mm, preferably 50 μm. 500500 μm.

【0059】支持体1とともに蛍光体層2を物理的、化
学的に保護するための透明保護層3が設けられる。この
ような透明保護層は、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリ塩
化ビニリデン、ポリアミド等からなるプラスチックシー
ト及び透明ガラス板等の保護層形成用シートを別に調製
して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて接着する等
の方法で形成することができる。或いは、酢酸セルロー
ス、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、或いはポ
リメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポ
リカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル、酢酸ビ
ニルコポリマー等の合成高分子物質を適当な溶剤に溶解
して調製した溶液を蛍光体層の表面へ塗布する方法によ
り形成することができる。
A transparent protective layer 3 for physically and chemically protecting the phosphor layer 2 together with the support 1 is provided. Such a transparent protective layer, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, a plastic sheet made of polyamide and the like and a protective layer forming sheet such as a transparent glass plate is separately prepared and formed on the surface of the phosphor layer. It can be formed by a method such as bonding using an appropriate adhesive. Alternatively, a cellulose derivative such as cellulose acetate or nitrocellulose, or a synthetic polymer such as polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, vinyl chloride, or vinyl acetate copolymer is dissolved in an appropriate solvent. The solution prepared as described above can be formed by applying the solution to the surface of the phosphor layer.

【0060】これら高分子物質は、単独でも混合しても
使用できる。また、透明保護層を塗布で形成する場合は
塗布直前に架橋剤を添加することが望ましい。
These polymer substances can be used alone or in combination. When the transparent protective layer is formed by coating, it is desirable to add a crosslinking agent immediately before coating.

【0061】透明保護層は蛍光体層上に形成され、厚さ
10μm以下の透明な合成樹脂層であることが好まし
い。このような薄い透明保護層を用いることにより、蛍
光体からハロゲン化銀乳剤までの距離が短くなるため鮮
鋭度の低下を防ぐことができる。
The transparent protective layer is formed on the phosphor layer and is preferably a transparent synthetic resin layer having a thickness of 10 μm or less. By using such a thin transparent protective layer, the distance from the phosphor to the silver halide emulsion is shortened, so that a decrease in sharpness can be prevented.

【0062】[0062]

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて、更に具体的
に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定される
ものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0063】実施例1 粉末状の蛍光体(Gd22S:Tb)200gを結合剤
ポリウレタン10g、溶剤メチルエチルケトン50gと
をボールミルにて6時間混合分散し、蛍光体塗布液を調
製した。この塗布液をガラス板上に水平においた厚さ2
50μmのポリエチレンテレフタレート支持体に乾燥後
の膜厚が120μmになるように、ナイフコーターで均
一に塗布し蛍光体層を作製した。
Example 1 A phosphor coating solution was prepared by mixing and dispersing 200 g of a powdery phosphor (Gd 2 O 2 S: Tb) with 10 g of a binder polyurethane and 50 g of a solvent methyl ethyl ketone for 6 hours in a ball mill. This coating solution was placed horizontally on a glass plate.
A 50 μm polyethylene terephthalate support was uniformly coated with a knife coater so as to have a dried film thickness of 120 μm to form a phosphor layer.

【0064】その後、厚さ8μmで片面にポリエステル
系接着剤が塗布されている透明のポリエチレンテレフタ
レートフイルムを接着剤を下にして蛍光体層に接着し、
保護層を設けた。
Then, a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 8 μm and a polyester adhesive applied on one side is adhered to the phosphor layer with the adhesive down,
A protective layer was provided.

【0065】次いで、デュポン社製“TEFLON”A
Fを用い、パーフルオロ−2−ブチルハイドロフランを
溶媒とした粘度8cps、NV2.0%の塗布液を調製
し支持体上に蛍光体層を設けたのと同様の方法で塗布、
乾燥して、膜厚100nmの光反射防止膜を形成した。
Next, "TEFLON" A manufactured by DuPont
Using F, a coating solution having a viscosity of 8 cps and NV of 2.0% using perfluoro-2-butylhydrofuran as a solvent was prepared and coated by the same method as that for providing the phosphor layer on the support.
After drying, an anti-reflection film having a thickness of 100 nm was formed.

【0066】このようにして、支持体、蛍光体層、透明
保護層及び光反射防止膜から構成された本発明のスクリ
ーン1を作製した。
Thus, the screen 1 of the present invention comprising the support, the phosphor layer, the transparent protective layer and the antireflection film was produced.

【0067】実施例2 光反射防止膜を形成するための塗布液に旭硝子(株)製
の“CYTOP”を用い、パーフルオロトリブチルアミ
ンを溶媒とした粘度9cps、NV1.0%の溶液を調
製して用いた以外は実施例1の本発明のスクリーン1と
同様の条件で本発明のスクリーン2を得た。
Example 2 A solution having a viscosity of 9 cps and a NV of 1.0% using perfluorotributylamine as a solvent was prepared using “CYTOP” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. as a coating solution for forming an anti-reflection film. A screen 2 of the present invention was obtained under the same conditions as those of the screen 1 of the present invention in Example 1 except that the screen 2 was used.

【0068】実施例3 昭和真空(株)製真空蒸着装置SEC−10型を用いて
ZrO2、SiO2、MgF2の層をこの順で略等しい厚
さで重ねて厚さ100nmの光反射防止膜を形成した以
外は実施例1の本発明の放射線増感スクリーン1と同様
にして本発明のスクリーン3を作製した。
Example 3 A layer of ZrO 2 , SiO 2 , and MgF 2 was layered in this order with substantially the same thickness using a vacuum deposition apparatus SEC-10 manufactured by Showa Vacuum Co., Ltd. to prevent light reflection of 100 nm in thickness. A screen 3 of the present invention was produced in the same manner as the radiographic intensifying screen 1 of the present invention in Example 1 except that a film was formed.

【0069】実施例4 実施例3のスクリーン3の作製における厚さ100nm
の光反射防止膜をMgF2とした以外は実施例3と同様
にして本発明のスクリーン4を作製した。
Example 4 Thickness of 100 nm in the production of the screen 3 of Example 3
Screen 4 of the present invention was produced in the same manner as in Example 3 except that the light reflection preventing film was made of MgF 2 .

【0070】比較スクリーンの作製 保護層上に反射防止膜を設けなかったこと以外は実施例
1と同様にして比較スクリーン5を作製した。
Preparation of Comparative Screen A comparative screen 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antireflection film was not provided on the protective layer.

【0071】スクリーンの評価 a)光反射防止能(反射率)の評価 以上の各スクリーンの光反射防止膜面の光反射防止能に
ついて、分光光度計557型(日立製作所製)を用いて
波長545nmの光の表面反射率で評価した。
Evaluation of Screen a) Evaluation of Light Antireflection Ability (Reflectance) The light antireflection ability of the light antireflection film surface of each screen described above was measured using a spectrophotometer 557 (Hitachi, Ltd.) at a wavelength of 545 nm. Was evaluated by the surface reflectance of light.

【0072】b)鮮鋭度 得られたスクリーン試料をX線撮影用フィルムSR−G
(コニカ[株]製)を用い、フンクテストチャートSM
S−5853(コニカメディカル[株]販売)矩形波チ
ャートを撮影し、自動現像機SRX−502(コニカ
[株]製)、処理液SR−DF(共にコニカ[株]製)
を用い現像温度35℃、定着温度33℃で45秒処理を
行い、コントラスト法によりMTFを測定した。MTF
値は空間周波数2.0サイクル/mmの値で示した。従
ってMTF値が高いほど鮮鋭度が高いことを示す。
B) Sharpness The obtained screen sample was subjected to X-ray film SR-G.
(Manufactured by Konica Corporation) and used for Funk Test Chart SM
S-5853 (sold by Konica Medical Co., Ltd.) A rectangular wave chart is photographed, and an automatic developing machine SRX-502 (manufactured by Konica Co., Ltd.) and a processing solution SR-DF (both manufactured by Konica Co., Ltd.)
Was performed at a developing temperature of 35 ° C. and a fixing temperature of 33 ° C. for 45 seconds, and the MTF was measured by a contrast method. MTF
The value is shown as a value of a spatial frequency of 2.0 cycles / mm. Therefore, the higher the MTF value, the higher the sharpness.

【0073】これらの評価結果を表1にまとめて示し
た。
The results of these evaluations are summarized in Table 1.

【0074】[0074]

【表1】 [Table 1]

【0075】表1から、本発明の透明保護層表面に光反
射防止膜を有するスクリーン1〜4は、透明保護層表面
に反射防止膜を持たない比較スクリーン5に比して表面
反射率が低く、鮮鋭度が高いことが分かる。
From Table 1, it can be seen that the screens 1 to 4 of the present invention having the antireflection film on the surface of the transparent protective layer have lower surface reflectance than the comparative screen 5 without the antireflection film on the surface of the transparent protective layer. It can be seen that the sharpness is high.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明により、鮮鋭度に優れたスクリー
ンが得られた。
According to the present invention, a screen having excellent sharpness is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の放射線増感スクリーンの一例を示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a radiation intensifying screen of the present invention.

【図2】放射線増感スクリーンを用いた放射線写真法に
おけるスクリーンと感光材料との関係を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a relationship between a screen and a photosensitive material in a radiographic method using a radiographic intensifying screen.

【図3】放射線画像の鮮鋭度が劣化する要因となるクロ
スオーバー光を示す概念図である。
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating crossover light that causes deterioration in the sharpness of a radiation image.

【図4】本発明の光反射防止膜によりクロスオーバー光
の反射を防ぐことを示す概念図である。
FIG. 4 is a conceptual diagram showing that reflection of crossover light is prevented by the anti-reflection film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 蛍光増感スクリーン支持体 2 蛍光体層 3 透明保護層 4 光反射防止膜(フロント側) 4′ 光反射防止膜(バック側) 5 カセッテ 6 蓋 7 蝶番 8 クッション材 9 スクリーン 10 ハロゲン化銀写真感光材料 11 クッション材固定枠 12 放射線増感スクリーン(フロント側) 13 放射線増感スクリーン(バック側) 14 感光材料支持体 15 ハロゲン化銀乳剤層(フロント側) 16 ハロゲン化銀乳剤層(バック側) 17 蛍光体発光点 18 励起発光 19 クロスオーバー光(1) 20 クロスオーバー光(2) 21 クロスオーバー光(3) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Fluorescent intensifying screen support 2 Phosphor layer 3 Transparent protective layer 4 Antireflection film (front side) 4 'Antireflection film (back side) 5 Cassette 6 Lid 7 Hinge 8 Cushion material 9 Screen 10 Silver halide photograph Photosensitive material 11 Cushion fixing frame 12 Radiation intensifying screen (front side) 13 Radiation intensifying screen (back side) 14 Photosensitive material support 15 Silver halide emulsion layer (front side) 16 Silver halide emulsion layer (back side) 17 phosphor emission point 18 excitation light emission 19 crossover light (1) 20 crossover light (2) 21 crossover light (3)

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に蛍光体層、透明保護層をこの
順序で有する放射線増感スクリーンにおいて、該透明保
護層の表面に有機溶媒可溶性樹脂を含有する光反射防止
膜が形成されていることを特徴とする放射線増感スクリ
ーン。
1. A radiation intensifying screen having a phosphor layer and a transparent protective layer in this order on a support, wherein an antireflection film containing an organic solvent-soluble resin is formed on the surface of the transparent protective layer. A radiographic intensifying screen, characterized in that:
【請求項2】 前記有機溶媒可溶性樹脂が主鎖に環構造
を有する非晶質有機化合物からなることを特徴とする請
求項1に記載の放射線増感スクリーン。
2. The radiographic intensifying screen according to claim 1, wherein the organic solvent-soluble resin comprises an amorphous organic compound having a ring structure in a main chain.
【請求項3】 前記有機溶媒可溶性樹脂が有機フッ素系
樹脂で形成された膜であることを特徴とする請求項1又
は2に記載の放射線増感スクリーン。
3. The radiation intensifying screen according to claim 1, wherein the organic solvent-soluble resin is a film formed of an organic fluorine-based resin.
【請求項4】 前記光反射防止膜の膜厚が0.01〜1
μmの範囲にあることを特徴とする請求項1〜3の何れ
か1項に記載の放射線増感スクリーン。
4. The light reflection preventing film has a thickness of 0.01 to 1
The radiation intensifying screen according to claim 1, wherein the radiation intensifying screen is in a range of μm.
【請求項5】 前記有機溶媒可溶性樹脂を有機溶媒に溶
解した塗布液を透明保護層上に供給し、塗布法により光
反射防止膜を形成することを特徴とする請求項1〜4の
何れか1項に記載の放射線増感スクリーン。
5. The anti-reflection film according to claim 1, wherein a coating solution obtained by dissolving the organic solvent-soluble resin in the organic solvent is supplied onto the transparent protective layer, and an anti-reflection film is formed by a coating method. Item 2. The radiation intensifying screen according to item 1.
【請求項6】 前記塗布液の粘度が10cps以下及び
/又は前記有機溶媒可溶性樹脂の固形分重量比率(N
V)が1%以上であることを特徴とする請求項5に記載
の放射線増感スクリーン。
6. The coating solution has a viscosity of 10 cps or less and / or a solid content weight ratio (N
The radiation intensifying screen according to claim 5, wherein V) is 1% or more.
【請求項7】 支持体上に蛍光体層、透明保護層をこの
順序で有する放射線増感スクリーンにおいて、該透明保
護層の表面に無機物からなる光反射防止膜が形成されて
いることを特徴とする放射線増感スクリーン。
7. A radiation intensifying screen having a phosphor layer and a transparent protective layer in this order on a support, characterized in that an anti-reflection film made of an inorganic substance is formed on the surface of the transparent protective layer. Radiation intensifying screen.
【請求項8】 前記無機物が無機フッ素化合物であるこ
とを特徴とする請求項7に記載の放射線増感スクリー
ン。
8. The radiation intensifying screen according to claim 7, wherein the inorganic substance is an inorganic fluorine compound.
【請求項9】 前記光反射防止膜の膜厚が0.01〜1
μmの範囲にあることを特徴とする請求項7又は8に記
載の放射線増感スクリーン。
9. The anti-reflection film having a thickness of 0.01 to 1
The radiographic intensifying screen according to claim 7, wherein the radiographic intensifying screen is in a range of μm.
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