JPH10199298A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH10199298A
JPH10199298A JP9004221A JP422197A JPH10199298A JP H10199298 A JPH10199298 A JP H10199298A JP 9004221 A JP9004221 A JP 9004221A JP 422197 A JP422197 A JP 422197A JP H10199298 A JPH10199298 A JP H10199298A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
memory cell
bit line
word line
cell array
Prior art date
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Application number
JP9004221A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Kono
良洋 河野
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH10199298A publication Critical patent/JPH10199298A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device which enables the accurate analysis of the states of word lines, bit lines or memory cells. SOLUTION: A sensing amplifier 3 and an equalizing circuit 4 are connected successively through a cut-off circuit 5 to a pair of complementary bit lines to which each memory cell 6a is connected. Further, a 1st outer terminal 1 through which an arbitrary signal is supplied to a word line selection circuit 8 and a 2nd outer terminal 2 through which an arbitrary signal is supplied to a bit line selection circuit 7 are provided. As the 1st outer terminal 1 and the 2nd outer terminal 2 are used while the cut-off circuit 5 is in an off state, the states of the word lines 10 in a test mode, the bit lines 9 or the memory cells 6a can be accurately analyzed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置、
特にメモリセルの状態等を確認するテストモード時に使
用される周辺回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a peripheral circuit used in a test mode for checking a state of a memory cell and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、DRAMのような半導体記憶装
置は、多数のメモリセルと、それを指定するアドレスデ
コーダ、読み出されたデータを出力する出力回路等の周
辺回路から構成されている。このような半導体記憶装置
の動作においては、メモリセルに書込み・読出し等を行
うDRAMとしての通常動作モードと、メモリセルの状
態を確認するためのテストモードがある。各モードとも
アドレス指定を行い、特定のワード線・ビット線を選択
後、所定の動作を行っている。
2. Description of the Related Art In general, a semiconductor memory device such as a DRAM comprises a large number of memory cells and peripheral circuits such as an address decoder for designating the memory cells and an output circuit for outputting read data. In the operation of such a semiconductor memory device, there are a normal operation mode as a DRAM for writing / reading data to / from a memory cell and a test mode for checking the state of the memory cell. In each mode, an address is specified, a specific word line / bit line is selected, and then a predetermined operation is performed.

【0003】以下、従来の半導体記憶装置におけるテス
トモード時の動作を説明する。図7は、従来の半導体記
憶装置における、メモリセル選択に使用される周辺回路
のブロックを示した図である。
The operation of the conventional semiconductor memory device in a test mode will be described below. FIG. 7 is a diagram showing a block of a peripheral circuit used for selecting a memory cell in a conventional semiconductor memory device.

【0004】図7のように、メモリセル6aの集合体であ
るメモリセルアレイ6 があり、各メモリセル6aにはビッ
ト線9(BL) 及びワード線10(WL)が接続されている。相補
的なビット線対9a,9b (BL及びbBL )上には、所定のメ
モリセル6a行を選択するためのビット線選択回路7 、ワ
ード線10上には所定のメモリセル6a列を選択するための
ワード線選択回路8 がある。そして、相補的なビット線
対9a,9b 上においては、ビット線選択回路7 とメモリセ
ルアレイ6 の間に、順に、メモリセル6aのデータを増幅
するセンスアンプ回路3、相補的なビット線対9a,9b 間
の電位を平衡化するイコライズ回路4が接続されてい
る。
As shown in FIG. 7, there is a memory cell array 6 which is an aggregate of memory cells 6a, and a bit line 9 (BL) and a word line 10 (WL) are connected to each memory cell 6a. A bit line selection circuit 7 for selecting a predetermined memory cell 6a row is provided on the complementary bit line pair 9a, 9b (BL and bBL), and a predetermined memory cell 6a column is selected on the word line 10. There is a word line selection circuit 8 for this. On the complementary bit line pairs 9a and 9b, between the bit line selection circuit 7 and the memory cell array 6, a sense amplifier circuit 3 for sequentially amplifying data of the memory cell 6a and the complementary bit line pair 9a , 9b are connected.

【0005】また、ワード線選択回路8 には、所定ワー
ド線10を選択するアドレス信号を受ける第一外部端子1
が接続され、ビット線選択回路7 には、所定ビット線9
を選択するアドレス信号を受ける第二外部端子2が接続
されている。
The word line selection circuit 8 has a first external terminal 1 for receiving an address signal for selecting a predetermined word line 10.
Are connected, and a predetermined bit line 9 is
Is connected to a second external terminal 2 for receiving an address signal for selecting the address.

【0006】次に、このうちメモリセル6aの状態確認の
ために使用される回路を詳細に見ていく。図8は、図7
に示したブロックを構成する回路を示した概略図であ
る。図8のように、メモリセルアレイ6 のうちワード線
10・WL0とビット線9BL0,BL1 に接続されているメモリセ
ル6aを代表的に示した。
Next, the circuit used for checking the state of the memory cell 6a will be described in detail. FIG.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a circuit constituting the block shown in FIG. As shown in FIG. 8, the word line of the memory cell array 6 is
The memory cell 6a connected to 10.WL0 and the bit lines 9BL0 and BL1 is representatively shown.

【0007】イコライズ回路4には、この回路をON/OFF
制御する信号EQL 、ビット線プリチャージ電位VBL が与
えられる。センスアンプ回路3は、センス動作用のNMOS
とリストア動作用のPMOSから構成されているが、NMOSに
その動作を制御する信号bSANが、PMOSにその動作を制御
する信号SAP が与えられている。(尚、NMOSの活性レベ
ルは、bSAN="L" であり、PMOSの活性レベルは、SAP="
H" である。)通常動作モードにおいては、例えば読出
し時にワード線10のWL0、ビット線9aのBL0 を選択した場
合、WL0 上のメモリセル6aのキャパシタに蓄えられた電
荷のうち、トランジスタ側の電荷がBL0 に電位変化を与
える為、電荷移動後のBL0 とbBL0との電位差をセンスア
ンプ回路3で増幅し、"H" か"L" 、つまり"1" か "0"か
を確認している。尚、このような状態確認中、イコライ
ズ回路4は通常"L" であるが、メモリセル6a等の状態確
認後又は確認直前は"H" にしBLとbBL との電位(以下、1
/2Vccとおく) を同一化している。
In the equalizing circuit 4, this circuit is turned on / off.
A control signal EQL and a bit line precharge potential VBL are provided. The sense amplifier circuit 3 is an NMOS for sensing operation.
And a restore operation PMOS. The NMOS is given a signal bSAN for controlling the operation, and the PMOS is given a signal SAP for controlling the operation. (Note that the NMOS activation level is bSAN = “L”, and the PMOS activation level is SAP = "
In the normal operation mode, for example, when WL0 of the word line 10 and BL0 of the bit line 9a are selected at the time of reading, of the charges stored in the capacitor of the memory cell 6a on WL0, Since the charge gives a potential change to BL0, the potential difference between BL0 and bBL0 after the charge transfer is amplified by the sense amplifier circuit 3, and it is checked whether it is "H" or "L", that is, "1" or "0". During such a state check, the equalizing circuit 4 is normally at "L", but after or just before checking the state of the memory cell 6a, etc., it is set to "H" and the potentials of BL and bBL (hereinafter, 1) are set.
/ 2Vcc).

【0008】一方、テストモードにおいては、図7のよ
うにアドレス信号により特定のワード線10とビット線9
を選択し、そのワード線10を制御信号(TEST1) により第
一外部端子1と接続し、同様にビット線9 を制御信号(T
EST2) により第二外部端子2と接続する。そして、第一
及び第二外部端子1、2に電圧を印加することにより、
特定のワード線9 、ビット線10に電圧を印加することが
できる。よって、書き込んだはずのデータと、読み出し
データを比較することにより、特定のメモリセル6aの状
態、ワード線10、ビット線9 の状態を解析していた。
On the other hand, in the test mode, as shown in FIG.
Is selected, the word line 10 is connected to the first external terminal 1 by a control signal (TEST1), and the bit line 9 is similarly connected to the control signal (TEST1).
EST2) connects to the second external terminal 2. Then, by applying a voltage to the first and second external terminals 1 and 2,
A voltage can be applied to specific word lines 9 and bit lines 10. Therefore, the state of the specific memory cell 6a, the state of the word line 10, and the state of the bit line 9 are analyzed by comparing the data to be written with the read data.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】図8のように、省スペ
ース化のためbSANはセンスアンプ毎に対応せずに、共通
化されている。そのため、第二外部端子2を介して特定
のビット線9に電圧を印加した場合、センスアンプ回路
3のbSAN、SAP 、イコライズ回路のVBL を経由して、選
択ビット線9と非選択ビット線9とを短絡する可能性が
ある。例えば、イコライズ回路4に与えられるEQL 信号
が"L" の場合、非選択ビット線9は1/2VCCをとる。しか
し、これに隣接するビット線9が選択された場合、選択
されたビット線9容量につられて、電荷が移動し非選択
ビット線9の電位も微小に振れる。これは次に示す現象
が原因と考えられる。図9(a) はメモリセルアレイの平
面図、図9(b) は図9(a) のA−Bに沿ってみた断面図
である。周知のとおり、高集積化のためビット線9間隔
Lが減少している。さらに記憶容量の増加のため、1つ
のビット線9 に形成されるメモリセル6aの数は増加
し、ビット線9容量自体が増大してきている。このた
め、隣り合うビット線9において、一方が他方に無視で
きぬ影響を与えていると考えられる。特に電荷の移動度
合いが大きい(電荷の振れが激しい)場合、例えば非選
択ビット線9の電位が低下した時は、このビット線9に
接続されている(センスアンプ回路3を構成する)PMOS
がONし、 bSAN を通して、この非選択ビット線9と選択
ビット線9とが短絡される。逆に、非選択ビット線9の
電位が上昇した時は、この非選択ビット線9に接続され
ている(センスアンプ回路3を構成する)NMOSがONし、
SAPを通して選択ビット線9とこの非選択ビット線9と
が短絡される。
As shown in FIG. 8, in order to save space, the bSAN is not used for each sense amplifier but is shared. Therefore, when a voltage is applied to a specific bit line 9 via the second external terminal 2, the selected bit line 9 and the non-selected bit line 9 are passed through bSAN, SAP of the sense amplifier circuit 3 and VBL of the equalizing circuit. May be short-circuited. For example, when the EQL signal applied to the equalizing circuit 4 is "L", the non-selected bit line 9 takes 1/2 VCC. However, when the bit line 9 adjacent to the selected bit line 9 is selected, the electric charge moves due to the capacitance of the selected bit line 9 and the potential of the non-selected bit line 9 fluctuates minutely. This is considered to be due to the following phenomenon. 9A is a plan view of the memory cell array, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along a line AB in FIG. 9A. As is well known, the interval L between the bit lines 9 is reduced for higher integration. Further, due to an increase in storage capacity, the number of memory cells 6a formed on one bit line 9 is increasing, and the capacity of the bit line 9 itself is increasing. Therefore, it is considered that one of the adjacent bit lines 9 has a non-negligible effect on the other. In particular, when the degree of charge movement is large (charge swings sharply), for example, when the potential of the non-selected bit line 9 decreases, the PMOS connected to the bit line 9 (constituting the sense amplifier circuit 3)
Turns ON, and the unselected bit line 9 and the selected bit line 9 are short-circuited through bSAN. Conversely, when the potential of the non-selected bit line 9 rises, the NMOS connected to the non-selected bit line 9 (constituting the sense amplifier circuit 3) turns on,
The selected bit line 9 and the non-selected bit line 9 are short-circuited through SAP.

【0010】具体的に例を挙げると、WL0 及びBL0 を選
択していながら、上述した理由からBL1 が"L" から"H"
になった場合、bBL1と接続されている(センスアンプ回
路3の)NMOSがONし、bSAN上にBL0 とBL1 がつながり、
BL0 の状態のみを読み出せない。つまり、最終的に検出
対象を特定できず、どのような状態を解析しているかわ
からない。
Specifically, while WL0 and BL0 are selected, BL1 is changed from "L" to "H" for the above-mentioned reason.
, The NMOS (of the sense amplifier circuit 3) connected to bBL1 is turned on, and BL0 and BL1 are connected on bSAN,
Only the state of BL0 cannot be read. That is, the detection target cannot be finally specified, and it is not known what state is being analyzed.

【0011】従来は、この様に特定のメモリセル6aを選
択できてない場合においても、所定のタイミングに従い
データ出力される為、メモリセル6a状態等の測定を必ず
しも正確に行えない問題を有していた。
Conventionally, even when a specific memory cell 6a cannot be selected, data is output in accordance with a predetermined timing. Therefore, there is a problem that measurement of the state of the memory cell 6a or the like cannot always be performed accurately. I was

【0012】そこで、本発明は上記問題を解決し、周辺
回路の誤動作を防止し、特定のワード線又はビット線、
若しくはメモリセルの状態を、正確に解析できる半導体
記憶装置を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention solves the above problem, prevents malfunction of peripheral circuits, and allows a specific word line or bit line,
Another object is to provide a semiconductor memory device capable of accurately analyzing the state of a memory cell.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体記憶装置では、トランスファーゲー
ト用MOSトランジスタに情報記憶用キャパシタの一端
が接続されたダイナミック型メモリセルが行列状に配置
されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの同
一行のメモリセルのトランスファーゲート用MOSトラ
ンジスタの各ゲートに共通に接続されたワード線と、前
記メモリセルアレイの同一列のメモリセルのトランスフ
ァーゲート用MOSトランジスタの各一端に共通に接続
されたビット線と、前記メモリセルアレイの相補的なビ
ット線対に対応して設けられた、前記ビット線対におけ
る電位を平衡化するイコライズ回路と、前記メモリセル
アレイの相補的なビット線対に対応して設けられた、前
記相補的なビット線対における電位差を増幅するセンス
アンプ回路と、前記相補的なビット線対に対応して設け
られた、このビット線対からセンスアンプ回路及びイコ
ライズ回路を電気的にON/OFF制御する切断回路とを有す
ることを特徴とする。
In order to achieve the above object, in a semiconductor memory device according to the present invention, dynamic memory cells in which one end of an information storage capacitor is connected to a transfer gate MOS transistor are arranged in a matrix. A memory cell array, a word line commonly connected to each gate of a transfer gate MOS transistor of a memory cell in the same row of the memory cell array, and a transfer gate MOS transistor of a memory cell in the same column of the memory cell array. A bit line commonly connected to each end, an equalizing circuit provided corresponding to a complementary bit line pair of the memory cell array for balancing the potential of the bit line pair, and a complementary circuit of the memory cell array. Complementary bits provided corresponding to a pair of bit lines. A sense amplifier circuit for amplifying a potential difference between the pair, and a disconnection circuit provided corresponding to the complementary bit line pair and electrically controlling ON / OFF of the sense amplifier circuit and the equalizing circuit from the bit line pair. It is characterized by having.

【0014】尚、上記半導体記憶装置は、前記ワード線
に設けられた、所定のワード線を選択するワード線選択
回路と、ワード線選択回路に接続された、所定信号を入
力または出力する第一外部端子と、前記ビット線対に設
けられた、所定のビット線を選択するビット線選択回路
と、このビット線選択回路に接続された、所定信号を入
力または出力する第二外部端子とを有することを特徴と
する。
The semiconductor memory device may include a word line selecting circuit provided on the word line for selecting a predetermined word line, and a first signal inputting or outputting a predetermined signal connected to the word line selecting circuit. An external terminal, a bit line selection circuit provided on the bit line pair for selecting a predetermined bit line, and a second external terminal connected to the bit line selection circuit for inputting or outputting a predetermined signal. It is characterized by the following.

【0015】尚、前記切断回路はメモリセルアレイとセ
ンスアンプ回路との間に接続されていることを特徴とす
る。尚、前記メモリセルアレイは、センスアンプ回路及
びイコライズ回路を間に介して2つのブロックに分か
れ、前記切断回路は各ブロックと、前記センスアンプ回
路又はイコライズ回路との間に接続されていることを特
徴とする。或いは、前記センスアンプ回路及びイコライ
ズ回路は、隣接する相補的なビット線対において、メモ
リセルアレイを間に介して左側・右側と異なる側に設け
られていることを特徴とする。
The cutting circuit is connected between the memory cell array and the sense amplifier circuit. The memory cell array is divided into two blocks via a sense amplifier circuit and an equalize circuit, and the disconnection circuit is connected between each block and the sense amplifier circuit or the equalize circuit. And Alternatively, the sense amplifier circuit and the equalizing circuit are provided on adjacent complementary bit line pairs on different sides from the left and right sides via a memory cell array.

【0016】尚、前記切断回路は、MOSトランジスタ
で構成されることを特徴とする。尚、前記切断回路は、
前記第一外部端子及び第二外部端子を用いて入力・また
は出力を行う間、オフ状態に制御されていることを特徴
とする。
The disconnection circuit is characterized by comprising a MOS transistor. In addition, the disconnection circuit,
While the input / output is performed using the first external terminal and the second external terminal, it is controlled to be in an off state.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の半
導体記憶装置を説明する。図1は、本発明の第一の実施
例に係る半導体記憶装置のブロックを示した図である。
図2(a) 及び(b) は、各々図1のワード線選択回路の概
略図、ビット選択回路の概略図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor memory device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing blocks of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
FIGS. 2A and 2B are a schematic diagram of the word line selection circuit and a schematic diagram of the bit selection circuit of FIG. 1, respectively.

【0018】メモリセル6aの集合体であるメモリセルア
レイ6があり、各メモリセル6aにはビット線9(BL) 及
びワード線10(WL)が接続されている。相補的なビット
線対9a、9b (BL及びbBL )上には所定のメモリセル6a行
を選択するためのビット線選択回路7 、ワード線10上に
は所定のメモリセル6a列を選択するためのワード線選択
回路8 がある。
There is a memory cell array 6 which is an aggregate of memory cells 6a, and a bit line 9 (BL) and a word line 10 (WL) are connected to each memory cell 6a. A bit line selection circuit 7 for selecting a predetermined memory cell 6a row on the complementary bit line pair 9a, 9b (BL and bBL), and a predetermined memory cell 6a column on the word line 10 There is a word line selection circuit 8.

【0019】そして、ビット線9 上には、順番に、ビッ
ト線選択回路7 、メモリセルアレイ6 、そして切断回路
5を介して、センスアンプ回路3、イコライズ回路4が
接続されている。
The sense amplifier circuit 3 and the equalizing circuit 4 are connected to the bit line 9 via a bit line selection circuit 7, a memory cell array 6, and a cutting circuit 5 in this order.

【0020】メモリセル6aの状態等を確認するため、ワ
ード線選択回路8には特定のワード線10に任意の信号を
加えるための第一外部端子1が接続され、ビット線選択
回路7 には特定のビット線9 に任意の信号を加えるため
の第二外部端子2が接続されている。図2(a) のよう
に、ワード線選択回路8 は、アドレス信号(代表的にRA
DD<0> 、RADD<1>、 RADD<2>を示した)を受けて任意の
ワード線10を選択するデコーダ、制御信号TEST1 を受け
ワード線昇圧電位Vpp (チップ外部に形成された電源電
圧を昇圧した電圧)を駆動回路8aと接続するPMOS 8a 、
制御信号(TEST1 の反転信号)bTEST1を受け第一外部端
子1と駆動回路8aとを接続するPMOS8bを有している。ま
た、駆動回路8aは、ゲート同士が接続されたPMOS、NMOS
から構成されている。そして、(TEST1、bTEST1を受けPM
OSのソースに与えられる信号をWDRVとおくと)WDRVの反
転信号bWDRV の信号をゲートに受けるNMOS 8d が、プル
ダウン用(ノイズキャンセル用)としてワード線10に接
続されている。
The first external terminal 1 for applying an arbitrary signal to a specific word line 10 is connected to the word line selection circuit 8 and the bit line selection circuit 7 is connected to the word line selection circuit 8 to check the state of the memory cell 6a. A second external terminal 2 for applying an arbitrary signal to a specific bit line 9 is connected. As shown in FIG. 2A, the word line selection circuit 8 supplies an address signal (typically RA
DD <0>, RADD <1>, RADD <2>), a decoder that selects an arbitrary word line 10, receives a control signal TEST1, and receives a word line boost potential Vpp (power supply voltage formed outside the chip) PMOS 8a that connects the boosted voltage to the drive circuit 8a,
It has a PMOS 8b that receives the control signal (inverted signal of TEST1) bTEST1 and connects the first external terminal 1 to the drive circuit 8a. The drive circuit 8a includes a PMOS and an NMOS having gates connected to each other.
It is composed of And (PM receiving TEST1, bTEST1
An NMOS 8d whose gate receives an inverted signal bWDRV of the WDRV (assuming the signal given to the source of the OS is WDRV) is connected to the word line 10 for pull-down (for noise cancellation).

【0021】そして、テストモード時はTEST1 ="H" 、
bTEST1="L"とし、第一外部端子1と接続されたPMOS 8b
をONにし、第一外部端子1より所定電圧をワード線10に
かける。他方、通常動作モード時はTEST1 ="L" 、bTES
T1="H"とし、 Vppと接続されたPMOS 8a をONにし、 Vpp
をワード線10にかける。つまり、第一外部端子1 を使用
することで、ワード線10に印加する電圧値を自由に設定
している。尚、プルダウン用NMOS 8d は、WDRV="L"、bWD
RV="H"を受けた場合に、ワード線10に接地電位を与える
ためのものである。また、図2(b) のように、ビット線
選択回路7 は、アドレス信号(代表的にCADD<0> 、CADD
<1> 、 CADD<2>を示した)を受けて任意のビット線9を
選択するデコーダと、制御信号TEST2 を受け所定電位と
駆動回路と接続するPMOS 7a 、制御信号(TEST2 の反転
信号)bTEST2を受け第二外部端子2 と駆動回路とを接続
するPMOS7bを有している。図2(a) と比較し駆動回路等
の記載を省略しているが、同様の仕組みにより、第二外
部端子2を介し、独立にビット線9 に印加する電圧値を
自由に設定できる。
In the test mode, TEST1 = "H",
bTEST1 = "L", PMOS 8b connected to the first external terminal 1
Is turned ON, and a predetermined voltage is applied to the word line 10 from the first external terminal 1. On the other hand, in normal operation mode, TEST1 = "L", bTES
Set T1 = "H", turn on PMOS 8a connected to Vpp, Vpp
To the word line 10. That is, the voltage value applied to the word line 10 can be freely set by using the first external terminal 1. Note that the pull-down NMOS 8d has WDRV = "L" and bWD
This is for applying a ground potential to the word line 10 when receiving RV = "H". Also, as shown in FIG. 2B, the bit line selection circuit 7 supplies the address signals (typically, CADD <0>, CADD <0>,
<1>, CADD <2>), a decoder for selecting an arbitrary bit line 9, a PMOS 7a for receiving a control signal TEST2 and connecting to a predetermined potential and a driving circuit, a control signal (an inverted signal of TEST2) It has a PMOS 7b that receives bTEST2 and connects the second external terminal 2 to the drive circuit. Although the description of the drive circuit and the like is omitted as compared with FIG. 2A, the voltage value applied to the bit line 9 via the second external terminal 2 can be freely set independently by the same mechanism.

【0022】次に、このうちメモリセル6aの状態確認の
ために使用される回路を詳細に見ていく。図3は、図1
のブロックを構成する回路を示した概略図である。
Next, a circuit used for checking the state of the memory cell 6a will be described in detail. FIG.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a circuit constituting the block of FIG.

【0023】図3のように、メモリセルアレイ6 のうち
ワード線10・WL0とビット線9BL0,BLに接続されているメ
モリセル6aを代表的に示した。尚、第一外部端子1につ
いては、記載を省略した。
FIG. 3 exemplarily shows a memory cell 6a connected to the word line 10.WL0 and the bit lines 9BL0, BL in the memory cell array 6. The description of the first external terminal 1 is omitted.

【0024】イコライズ回路4には、この回路をON/OFF
制御する信号EQL 、ビット線プリチャージ電位VBL が与
えられる。センスアンプ回路3は、センス動作用のNMOS
とリストア動作用のPMOSから構成されるラッチ型回路が
用いられている。NMOSには、その動作を制御する信号b
SANが、PMOSには、その動作を制御する信号SAP
が与えらる。
In the equalizing circuit 4, this circuit is turned on / off.
A control signal EQL and a bit line precharge potential VBL are provided. The sense amplifier circuit 3 is an NMOS for sensing operation.
And a latch type circuit composed of a PMOS for restore operation. A signal b for controlling the operation is provided to the NMOS.
The SAN supplies the PMOS with a signal SAP for controlling its operation.
Is given.

【0025】切断回路5には、この回路をON/OFF制御す
る信号PHITが与えられる。そして、これらの回路を用い
てメモリセル6aの状態を確認するテストモードは、以下
のように行う。
The cutting circuit 5 is supplied with a signal PHIT for controlling ON / OFF of this circuit. The test mode for checking the state of the memory cell 6a using these circuits is performed as follows.

【0026】切断回路5 を構成するNMOSをOFF 状態にす
ることにより、ビット線9 からセンスアンプ回路3及び
イコライズ回路4を電気的に切り離した後、アドレス信
号により特定のワード線10とビット線9 を選択し、その
ワード線10を制御信号(TEST1) により第一外部端子1と
接続し、同様にビット線9 を制御信号(TEST2) により第
二外部端子2と接続する。
By turning off the NMOS constituting the cutting circuit 5 to electrically disconnect the sense amplifier circuit 3 and the equalizing circuit 4 from the bit line 9, the specific word line 10 and the bit line 9 And the word line 10 is connected to the first external terminal 1 by a control signal (TEST1), and the bit line 9 is similarly connected to the second external terminal 2 by a control signal (TEST2).

【0027】そして、第一及び第二外部端子1、2に電
圧を印加し、メモリセル6a、又はワード線10、若しくは
ビット線9 の状態を確認する。尚、この確認に際して、
メモリセルのデータを読み出す場合は、図示せぬプリア
ンプを用いればよい。
Then, a voltage is applied to the first and second external terminals 1 and 2 to check the state of the memory cell 6a, the word line 10, or the bit line 9. In addition, at the time of this confirmation,
When reading data from a memory cell, a preamplifier (not shown) may be used.

【0028】尚、切断回路5 を構成するNMOSは、第一及
び第二外部端子1、2に信号が入力されている間、OFF
状態にあれば、ONまたはOFF にするタイミングは問わな
い。つまり、切断回路を構成するNMOSは、通常のDRAMと
して動作させるモード時にON状態、TESTモード時にOFF
状態にあればよい。
The NMOS constituting the cutting circuit 5 is turned off while a signal is being input to the first and second external terminals 1 and 2.
If it is in the state, it does not matter when to turn it on or off. In other words, the NMOS constituting the disconnection circuit is ON in the mode of operating as a normal DRAM and OFF in the TEST mode.
I just need to be in a state.

【0029】従って、第一の実施例にかかる半導体装置
によれば、周辺回路の誤動作を防止し、特定のワード線
10又はビット線9 、若しくはメモリセル6aの状態を、正
確に解析できる。特に、従来は周辺回路の誤動作を伴う
ことがわかっていた為、テスト用電圧をビット線9 に直
接供給できなかったが、本発明によれば可能となってい
る為、ビット線9 のショート状態がテストできる顕著な
効果を有している。また、ビット線9 自体のテストを行
うと同時に、メモリセル6aの状態もテストできる為、テ
スト時間の短縮化を図ることができる。
Therefore, according to the semiconductor device of the first embodiment, the malfunction of the peripheral circuit is prevented, and the specific word line
The state of 10 or bit line 9 or memory cell 6a can be accurately analyzed. In particular, in the past, it was known that a peripheral circuit would malfunction, so the test voltage could not be directly supplied to the bit line 9.However, according to the present invention, the short-circuit state of the bit line 9 was possible. Has a remarkable effect that can be tested. Further, since the state of the memory cell 6a can be tested at the same time as the test of the bit line 9 itself, the test time can be reduced.

【0030】次に、本発明の第二の実施例を説明する。
尚、第一の実施例と同じ部分については説明を割愛す
る。図4は、本発明の第二の実施例に係る半導体装置の
要部回路を示した図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
The description of the same parts as in the first embodiment is omitted. FIG. 4 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【0031】メモリセル6aの集合体であるメモリセルア
レイ6があり、各メモリセル6aにはビット線9 (BL)及び
ワード線10(WL)が接続されている。ここでは、代表的に
ワード線10・WL0、WL1 上のメモリセル6aのうちBL0、BR0
を示した。第二の実施例の特徴は、相補的なビット線対9
a,9b 上に,センスアンプ回路3及びイコライズ回路4
を挟んで左右にメモリセル6aのブロックが存在する点に
ある。(便宜上、左側のメモリセル6a、右側のメモリセ
ル6aと呼ぶ。)当然、1つの相補的なビット線対9a,9b
には、2つの切断回路5が存在し、センスアンプ回路3
及びイコライズ回路4と、メモリセル6aとの間に位置し
ている。左側のメモリセル6aをビット線9から切断する
切断回路5には、この回路をON/OFF制御する信号PHITL
が与えられている。右側のメモリセル6aをビット線から
切断する切断回路5には、この回路をON/OFF制御する信
号PHITR が与えられている。
There is a memory cell array 6 which is an aggregate of memory cells 6a, and a bit line 9 (BL) and a word line 10 (WL) are connected to each memory cell 6a. Here, typically, BL0, BR0 of the memory cells 6a on the word lines 10.WL0, WL1
showed that. The feature of the second embodiment is that the complementary bit line pair 9
a, 9b, a sense amplifier circuit 3 and an equalizing circuit 4
Is that a block of the memory cell 6a exists on the left and right sides of. (For convenience, they are called the left memory cell 6a and the right memory cell 6a.) Naturally, one complementary bit line pair 9a, 9b
Has two disconnection circuits 5 and sense amplifier circuits 3
And between the equalizing circuit 4 and the memory cell 6a. A disconnection circuit 5 for disconnecting the left memory cell 6a from the bit line 9 has a signal PHITL for controlling ON / OFF of this circuit.
Is given. A cutting circuit 5 for cutting the right memory cell 6a from the bit line is supplied with a signal PHITR for controlling ON / OFF of this circuit.

【0032】各相補的なビット線対9a,9b には、所定の
メモリセル6a行を選択するためのビット線選択回路7(図
示省略) 、テストモード時に特定のビット線に任意の信
号を加えるための第二外部端子2が接続されている。
A bit line selection circuit 7 (not shown) for selecting a predetermined row of memory cells 6a is applied to each complementary bit line pair 9a, 9b, and an arbitrary signal is applied to a specific bit line in a test mode. External terminal 2 is connected.

【0033】図4では、左右のメモリセル6aのどちらを
も選択できるように、左側のメモリセル6aに接続された
第二外部端子2、右側のメモリセル6aに接続された第二
外部端子2がある。
In FIG. 4, the second external terminal 2 connected to the left memory cell 6a and the second external terminal 2 connected to the right memory cell 6a are selected so that either the left or right memory cell 6a can be selected. There is.

【0034】尚、ワード線選択回路8 、第一の外部端子
1 に関しては図示せず、説明を割愛する。テストモード
時は、切断回路5を構成するNMOS(PHITL 及びPHITR を
受けるNMOS)をOFF 状態にさせる。但し、右側のメモリ
セル6a等に関する状態確認の場合、少なくともPHITR を
受ける切断回路5を構成するNMOSのみOFF させれば良
い。同様に、左側等のメモリセル6a等に関する状態確認
の場合、少なくともPHITL を受ける切断回路5を構成す
るNMOSのみOFF させれば良い。
The word line selection circuit 8 has a first external terminal.
1 is not shown and the description is omitted. In the test mode, the NMOS (NMOS receiving PHITL and PHITR) constituting the cutting circuit 5 is turned off. However, in the case of confirming the state of the right memory cell 6a and the like, at least only the NMOS constituting the disconnection circuit 5 receiving PHITR needs to be turned off. Similarly, when checking the state of the memory cell 6a on the left side or the like, at least the NMOS constituting the cutting circuit 5 receiving PHITL only needs to be turned off.

【0035】この後、アドレス信号により特定のワード
線10とビット線9 を選択し、そのワード線10を図示せぬ
制御信号(TEST1) により第一外部端子1と接続し、同様
にビット線9 を制御信号(TEST2) により第二外部端子2
と接続する。そして、第一及び第二外部端子1、2に電
圧を印加し、メモリセル6a、又はワード線10、若しくは
ビット線9 の状態を確認する。
Thereafter, a specific word line 10 and a specific bit line 9 are selected by an address signal, and the selected word line 10 is connected to the first external terminal 1 by a control signal (TEST1) (not shown). To the second external terminal 2 by the control signal (TEST2)
Connect with Then, a voltage is applied to the first and second external terminals 1 and 2 to check the state of the memory cell 6a, the word line 10, or the bit line 9.

【0036】尚、第一の実施例と同様に、切断回路5を
構成するNMOSのONまたはOFF にするタイミングは問わな
い、つまり、通常のDRAMとして動作させるモード時は、
切断回路5 を構成するNMOSをON状態とし、TESTモード時
は切断回路5を構成するNMOSをOFF 状態にする。
As in the first embodiment, the timing of turning on or off the NMOS constituting the disconnection circuit 5 does not matter, that is, in the mode of operating as a normal DRAM,
The NMOS forming the cutting circuit 5 is turned on, and the NMOS forming the cutting circuit 5 is turned off in the TEST mode.

【0037】従って、第二の実施例にかかる半導体装置
によれば、第一の実施例と同様に、周辺回路の誤動作を
防止し、特定のワード線又はビット線、若しくはメモリ
セル6aの状態を、正確に解析できる。
Therefore, according to the semiconductor device of the second embodiment, similarly to the first embodiment, malfunction of the peripheral circuit is prevented, and the state of a specific word line or bit line or the state of the memory cell 6a is changed. , Can be accurately analyzed.

【0038】更に、1セットのセンスアンプ回路3及び
イコライズ回路4に対して、第一の実施例の2倍のメモ
リセルアレイ6を接続できる。つまり、必要数のメモリ
セルアレイ6に対し、センスアンプ回路3及びイコライ
ズ回路4のセット数は第一の実施例の必要数の1/2で
済む為、チップ面積の縮小化が行える。
Further, a memory cell array 6 twice as large as that of the first embodiment can be connected to one set of the sense amplifier circuit 3 and the equalizing circuit 4. That is, the number of sets of the sense amplifier circuit 3 and the equalizing circuit 4 for the required number of memory cell arrays 6 is only half the required number of the first embodiment, so that the chip area can be reduced.

【0039】また、(本構成で共通化されているテスト
動作用の回路を)左右のメモリセルアレイ6各々に対応
して、独立に動作できる回路を設置した場合、左右のメ
モリセルアレイ6を別々にテストできる為、メモリセル
アレイ6数が第一の実施例と同じ場合、テストにかかる
時間は単純に見積もれば半分にできる。
When a circuit that can operate independently is provided corresponding to each of the left and right memory cell arrays 6 (a circuit for a test operation shared in this configuration), the left and right memory cell arrays 6 are separately provided. Since the test can be performed, when the number of memory cell arrays 6 is the same as that of the first embodiment, the time required for the test can be simply halved.

【0040】次に、本発明の第三の実施例にかかる半導
体記憶装置を説明する。図5は、本発明の第三の実施例
に係る半導体装置の要部回路を示した図である。
Next, a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【0041】尚、上記実施例と同じ部分については説明
を割愛する。図5 は、本発明の第三の実施例に係る半導
体装置の要部回路を示した図である。
The description of the same parts as in the above embodiment is omitted. FIG. 5 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【0042】メモリセル6aの集合体であるメモリセルア
レイ6があり、各メモリセル6aには相補的なビット線対
9a,9b 及びワード線10が接続されている。ここでは、代
表的にワード線10 WL0、 及びビット線9 BL0 、BL1 上の
メモリセル6a を示した。最初のビット線対BL0、bBL0に
は、メモリセルアレイ6 の右側に順に、制御信号PHITR
を受ける切断回路5、センスアンプ回路3、イコライズ
回路4、そして制御信号PHITR2を受ける切断回路5が接
続されている。尚、この切断回路5の右側に更にメモリ
セルアレイ6を接続できるが、今回は図示及び説明を割
愛する。次のビット線対BL1、bBL1には、メモリセルアレ
イ6 の左側に順に、制御信号PHITL を受ける切断回路
5、センスアンプ回路3、イコライズ回路4、そして制
御信号PHITL2を受ける切断回路5が接続されている。
尚、この切断回路5の左側に更にメモリセルアレイ6を
接続できるが、今回は図示及び説明を割愛する。尚、本
実施例の特徴は、あるメモリセルアレイ6は同列に配置
するよう形成されている。そして、異なるビット線対9
へ順にみていくと、このメモリセルアレイ6の左側、右
側と交互に、切断回路5を介してセンスアンプ回路3及
びイコライズ回路5がビット線対に接続されている。ま
た、図示を一部省略したが、各ビット線対9には、所定
のメモリセル6a行を選択するためのビット線選択回路
7、テストモード時に特定のビット線に任意の信号を加
えるための第二外部端子2が接続されているが、その位
置については特に限定されない。同様に図示を省略した
が、ワード線10には、ワード線選択回路8 、第一の外部
端子1 が接続されている。テストモード時は、切断回路
5を構成するNMOS(PHITL、PHITL2、PHITR、 及びPHITR2を
受けるNMOS)をOFF 状態にさせる。以下、切断回路5の
OFF は、電気的接続を解消させる状態を示すものとし
て、説明を進める。必要最小限の条件としては、あるワ
ード線10上のメモリセルをテストする場合、そのワード
線10とセンスアンプ回路3・イコライズ回路4との間の
切断回路5をOFF 状態にさせれば良い。
There is a memory cell array 6 which is an aggregate of memory cells 6a, and each memory cell 6a has a complementary bit line pair.
9a, 9b and the word line 10 are connected. Here, the memory cell 6a on the word line 10WL0 and the bit lines 9BL0 and BL1 is representatively shown. The first pair of bit lines BL0 and bBL0 are sequentially provided with a control signal PHITR to the right of the memory cell array 6.
A disconnection circuit 5 for receiving the control signal PHITR2 is connected to the disconnection circuit 5 for receiving the control signal PHITR2. Although a memory cell array 6 can be further connected to the right side of the cutting circuit 5, illustration and description are omitted this time. To the next pair of bit lines BL1 and bBL1, a cutting circuit 5 receiving the control signal PHITL, a sense amplifier circuit 3, an equalizing circuit 4, and a cutting circuit 5 receiving the control signal PHITL2 are connected to the left side of the memory cell array 6 in this order. I have.
It is to be noted that a memory cell array 6 can be further connected to the left side of the cutting circuit 5, but illustration and description are omitted this time. A feature of the present embodiment is that a certain memory cell array 6 is formed to be arranged in the same column. And different bit line pairs 9
In order, the sense amplifier circuit 3 and the equalizing circuit 5 are connected to the bit line pair via the cutting circuit 5 alternately on the left and right sides of the memory cell array 6. Although not shown in the drawing, each bit line pair 9 has a bit line selection circuit 7 for selecting a predetermined memory cell 6a row, and a bit line selection circuit 7 for applying an arbitrary signal to a specific bit line in a test mode. Although the second external terminal 2 is connected, its position is not particularly limited. Similarly, although not shown, the word line 10 is connected to the word line selection circuit 8 and the first external terminal 1. In the test mode, the NMOS (PHITL, PHITL2, PHITR, and NMOS receiving PHITR2) constituting the cutting circuit 5 is turned off. Hereinafter, the cutting circuit 5
The description proceeds assuming that OFF indicates a state in which the electrical connection is canceled. As a necessary minimum condition, when a memory cell on a certain word line 10 is tested, the cutting circuit 5 between the word line 10 and the sense amplifier circuit 3 / equalizing circuit 4 may be turned off.

【0043】この後、アドレス信号により特定のワード
線10とビット線9 を選択し、そのワード線10を制御信号
(TEST1) により第一外部端子1と接続し、同様にビット
線を制御信号(TEST2) により第二外部端子2と接続す
る。そして、第一及び第二外部端子1、2に電圧を印加
し、メモリセル6a、又はワード線10、若しくはビット線
9 の状態を確認する。
Thereafter, a specific word line 10 and a specific bit line 9 are selected by an address signal, and the selected word line 10 is controlled by a control signal.
(TEST1) is connected to the first external terminal 1, and similarly, the bit line is connected to the second external terminal 2 by the control signal (TEST2). Then, a voltage is applied to the first and second external terminals 1 and 2, and the memory cell 6a, the word line 10, or the bit line
Check the status of 9.

【0044】第三の実施例は、上記実施例と同様に、周
辺回路の誤動作を防止し、特定のワード線10又はビット
線9 、若しくはメモリセル6aの状態を、正確に解析でき
る。更に、第一の実施例又は第二の実施例と比較し、デ
ザインルールがゆるくなる効果をもつ。
In the third embodiment, similarly to the above-described embodiment, malfunction of peripheral circuits can be prevented, and the state of a specific word line 10 or bit line 9 or memory cell 6a can be accurately analyzed. Further, compared with the first embodiment or the second embodiment, there is an effect that the design rule is loosened.

【0045】理由は、異なるビット線9 の間隔を考えた
場合、センスアンプ回路3又はイコライズ回路4は、メ
モリセル6aより広い間隔が必要である。第三の実施例
は、第一の実施例及び第二の実施例と異なり、センスア
ンプ回路3またはイコライズ回路4は、ビット線上にお
いては隣り合せにならないからである。このためスペー
ス上ゆとりが生じ、デザインルールがゆるくなる。
The reason is that when considering the intervals between the different bit lines 9, the sense amplifier circuit 3 or the equalizing circuit 4 requires a wider interval than the memory cell 6a. This is because the third embodiment differs from the first and second embodiments in that the sense amplifier circuit 3 or the equalizing circuit 4 is not adjacent to the bit line. For this reason, a space is generated and the design rules are loosened.

【0046】次に、本発明の第四の実施例にかかる半導
体記憶装置を説明する。図6 は、本発明の第四の実施例
に係る半導体装置の要部回路を示した図である。
Next, a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【0047】尚、第三の実施例と似ているため、第三の
実施例と同じ部分については説明を割愛する。第四の実
施例の特徴は、第二外部端子2が、メモリセル6aアレイ
と、センスアンプ回路3及びイコライズ回路4との間に
配置されている点である。
Since the third embodiment is similar to the third embodiment, the description of the same parts as the third embodiment will be omitted. The feature of the fourth embodiment is that the second external terminal 2 is arranged between the memory cell 6a array and the sense amplifier circuit 3 and the equalizing circuit 4.

【0048】第四の実施例も、上記実施例と同様に、周
辺回路の誤動作を防止し、特定のワード線10又はビット
線9 、若しくはメモリセル6aの状態を、正確に解析でき
る。また、第四の実施例と同様に、第一の実施例又は第
二の実施例と比較し、デザインルールがゆるくなる効果
をもつ。
In the fourth embodiment, similarly to the above-described embodiment, the malfunction of the peripheral circuit can be prevented, and the state of the specific word line 10 or bit line 9 or memory cell 6a can be accurately analyzed. Further, similarly to the fourth embodiment, there is an effect that the design rule is loosened as compared with the first embodiment or the second embodiment.

【0049】尚、 上記実施例においては、特定のメモリ
セル6a等の状態を見るために、ワード線10、 ビット線9
を一本選択しているが、メモリセル6aのトランスファー
トランジスタの特性を集団で見る場合には、複数本のワ
ード線10、 ビット線9 を選択しても良い。また、共通の
外部端子2を使用せずに、いくつかのビット線9 ごとに
複数の外部端子2を対応させた場合、複数本のワード線
10、ビット線9を選択することにより、テスト時間の短
縮化が図れる。尚、上記実施例においては、切断回路5
としてN MOSを用いている為、メモリセル6aを構成す
るN MOSと同時に形成することにより、製造工程数を
従来と同じにできる。
In the above embodiment, in order to check the state of the specific memory cell 6a and the like, the word line 10 and the bit line 9
However, when the characteristics of the transfer transistors of the memory cell 6a are viewed as a group, a plurality of word lines 10 and bit lines 9 may be selected. In addition, when a plurality of external terminals 2 are associated with some bit lines 9 without using a common external terminal 2, a plurality of word lines
10. By selecting the bit line 9, the test time can be reduced. In the above embodiment, the cutting circuit 5
Since the NMOS is used, the number of manufacturing steps can be made the same as the conventional one by forming it simultaneously with the NMOS forming the memory cell 6a.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明は、上述のように構成されている
ので、周辺回路の誤動作を防止し、特定のワード線又は
ビット線、若しくはメモリセルの状態を、正確に解析で
きる。
Since the present invention is configured as described above, a malfunction of a peripheral circuit can be prevented, and the state of a specific word line or bit line or a memory cell can be accurately analyzed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施例に係る半導体記憶装置の
ブロックを示した図である。
FIG. 1 is a diagram showing blocks of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(a) 及び(b) は、各々図1のワード線選択回路
の概略図、ビット選択回路の概略図である。
FIGS. 2A and 2B are a schematic diagram of a word line selection circuit and a schematic diagram of a bit selection circuit of FIG. 1, respectively.

【図3】図1のブロックを構成する回路を示した概略図
である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a circuit constituting a block of FIG. 1;

【図4】本発明の第二の実施例に係る半導体装置の要部
回路を示した図である。
FIG. 4 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第三の実施例に係る半導体装置の要部
回路を示した図である。
FIG. 5 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第四の実施例に係る半導体装置の要部
回路を示した図である。
FIG. 6 is a diagram showing a main circuit of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体記憶装置における、メモリセル6a
選択に使用される周辺回路のブロックを示した図であ
る。
FIG. 7 shows a memory cell 6a in a conventional semiconductor memory device.
FIG. 4 is a diagram showing blocks of a peripheral circuit used for selection.

【図8】図7に示したブロックを構成する回路を示した
概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a circuit constituting the block shown in FIG. 7;

【図9】(a) はメモリセルアレイの平面図、(b) は(a)
のA−Bに沿ってみた断面図である。
9A is a plan view of a memory cell array, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AB of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第一外部端子 2 第二外部端子 3 センスアンプ回路 4 イコライズ回路 5 切断回路 6 メモリセルアレイ 6a メモリセル 7 ビット線選択回路 8 ワード線選択回路 9 ビット線 10 ワード線 1 First external terminal 2 Second external terminal 3 Sense amplifier circuit 4 Equalize circuit 5 Disconnect circuit 6 Memory cell array 6a Memory cell 7 Bit line selection circuit 8 Word line selection circuit 9 Bit line 10 Word line

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】トランスファーゲート用MOSトランジス
タに情報記憶用キャパシタの一端が接続されたダイナミ
ック型メモリセルが行列状に配置されたメモリセルアレ
イと、 前記メモリセルアレイの同一行のメモリセルのトランス
ファーゲート用MOSトランジスタの各ゲートに共通に
接続されたワード線と、 前記メモリセルアレイの同一列のメモリセルのトランス
ファーゲート用MOSトランジスタの各一端に共通に接
続されたビット線と、 前記メモリセルアレイの相補的なビット線対に対応して
設けられた、前記ビット線対における電位を平衡化する
イコライズ回路と、 前記メモリセルアレイの相補的なビット線対に対応して
設けられた、前記相補的なビット線対における電位差を
増幅するセンスアンプ回路と、 前記相補的なビット線対に対応して設けられた、このビ
ット線対からセンスアンプ回路及びイコライズ回路を電
気的にON/OFF制御する切断回路とを有することを特徴と
する半導体記憶装置。
1. A memory cell array in which dynamic memory cells each having one end of an information storage capacitor connected to a transfer gate MOS transistor are arranged in a matrix, and a transfer gate MOS of a memory cell in the same row of the memory cell array. A word line commonly connected to each gate of the transistor; a bit line commonly connected to one end of each transfer gate MOS transistor of a memory cell in the same column of the memory cell array; and a complementary bit of the memory cell array An equalizing circuit provided to correspond to a line pair, for equalizing a potential of the bit line pair; and an equalizing circuit provided to correspond to a complementary bit line pair of the memory cell array. A sense amplifier circuit for amplifying a potential difference, and the complementary bit Provided corresponding to the pair, the semiconductor memory device characterized by having a cutting circuit electrically ON / OFF control of the sense amplifier circuit and the equalizing circuit from the bit line pair.
【請求項2】前記ワード線に設けられた、所定のワード
線を選択するワード線選択回路と、このワード線選択回
路に接続された、所定信号を入力または出力する第一外
部端子と、前記ビット線対に設けられた、所定のビット
線を選択するビット線選択回路と、このビット線選択回
路に接続された、ビット線に所定信号を入力または出力
する第二外部端子とを有することを特徴とする請求項1
に記載の半導体記憶装置。
A word line selecting circuit provided on the word line for selecting a predetermined word line; a first external terminal connected to the word line selecting circuit for inputting or outputting a predetermined signal; A bit line pair includes a bit line selection circuit for selecting a predetermined bit line, and a second external terminal connected to the bit line selection circuit for inputting or outputting a predetermined signal to the bit line. Claim 1.
3. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】前記切断回路は、メモリセルアレイとセン
スアンプ回路との間に接続されていることを特徴とする
請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said disconnection circuit is connected between a memory cell array and a sense amplifier circuit.
【請求項4】前記メモリセルアレイは、センスアンプ回
路及びイコライズ回路を間に介して2つのブロックに分
かれ、前記切断回路は各ブロックと、前記センスアンプ
回路又はイコライズ回路との間に接続されていることを
特徴とする請求項1乃至請求項3いずれかに記載の半導
体記憶装置。
4. The memory cell array is divided into two blocks via a sense amplifier circuit and an equalize circuit, and the disconnection circuit is connected between each block and the sense amplifier circuit or the equalize circuit. 4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項5】前記センスアンプ回路及びイコライズ回路
は、隣接する相補的なビット線対において、メモリセル
アレイを間に介して左側・右側と異なる側に設けられて
いることを特徴とする請求項1乃至請求項4いずれかに
記載の半導体記憶装置。
5. The sense amplifier circuit and the equalizer circuit according to claim 1, wherein the adjacent complementary bit line pair is provided on a side different from the left side and the right side via a memory cell array. The semiconductor memory device according to claim 4.
【請求項6】前記切断回路は、MOSトランジスタで構
成されることを特徴とする請求項1乃至請求項4いずれ
かに記載の半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said disconnection circuit comprises a MOS transistor.
【請求項7】前記切断回路は、前記第一外部端子及び第
二外部端子を用いて入力・または出力を行う間、オフ状
態に制御されていることを特徴とする請求項2乃至請求
項6いずれかに記載の半導体記憶装置。
7. The circuit according to claim 2, wherein said disconnection circuit is controlled to be in an off state while performing input / output using said first external terminal and said second external terminal. The semiconductor memory device according to any one of the above.
JP9004221A 1997-01-14 1997-01-14 Semiconductor memory device Pending JPH10199298A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6343038B1 (en) 1999-09-03 2002-01-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device of shared sense amplifier system
US6551846B1 (en) 1999-08-30 2003-04-22 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device capable of correctly and surely effecting voltage stress acceleration
JP2006127725A (en) * 2004-10-30 2006-05-18 Hynix Semiconductor Inc Semiconductor memory device and method for measuring offset voltage of bit line sense amplifier
US7142472B2 (en) 2003-10-07 2006-11-28 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory device and method for testing same

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