JPH10199292A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH10199292A
JPH10199292A JP9000188A JP18897A JPH10199292A JP H10199292 A JPH10199292 A JP H10199292A JP 9000188 A JP9000188 A JP 9000188A JP 18897 A JP18897 A JP 18897A JP H10199292 A JPH10199292 A JP H10199292A
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JP
Japan
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redundant
global
memory cell
line
memory device
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JP9000188A
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Japanese (ja)
Inventor
Masanao Eino
雅直 営野
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low cost semiconductor memory device by a method wherein the degree of freedom of the redundant replacement is improved by a simple construction, and the productivity of the semiconductor memory device. SOLUTION: In a divided word line system semiconductor memory device, a plurality of redundant memory cell groups 500 corresponding to memory cell groups 200 selected by one global word line 31, two redundant global word lines 610 and 611 which are word lines obtained by dividing the global word line 31 and one of which is connected to the redundant memory cell groups 500 and redundant global line selection circuits 630 and 631 which select the connection to the redundant cell groups 500 are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に係
り、さらに詳しくは、不良メモリセル等の置換を行う冗
長回路を備えた半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a redundant circuit for replacing a defective memory cell or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】記憶容量の増大等により、製造された半
導体記憶装置に不良メモリセルが存在し、或いは、ビッ
ト線又はワード線に不良箇所が存在する場合が少なくな
い。この様な半導体装置は、その他の部分が正常であっ
ても、記憶装置として正常に機能し得ない。このため、
この様な不良回路を正常回路で置き換えるための冗長回
路を備えた半導体記憶装置が従来から提案されていた。
2. Description of the Related Art Due to an increase in storage capacity or the like, there are many cases where a defective memory cell exists in a manufactured semiconductor memory device or a defective portion exists in a bit line or a word line. Such a semiconductor device cannot function properly as a storage device even if other parts are normal. For this reason,
Conventionally, a semiconductor memory device provided with a redundant circuit for replacing such a defective circuit with a normal circuit has been proposed.

【0003】即ち、従来の半導体記憶装置は、ビット線
方向又はワード線方向に関する冗長メモリセルを予め備
えて構成され、不良領域があれば、メモリセルアレイの
一部がこの冗長メモリセルに置き換えられる。このた
め、一部に不良回路を含んでいる半導体記憶装置を救済
することができ、集積度の高い半導体記憶装置の場合、
生産上の歩留まりを向上させることができる。
That is, the conventional semiconductor memory device is provided with redundant memory cells in the bit line direction or the word line direction in advance, and if there is a defective area, a part of the memory cell array is replaced with the redundant memory cells. For this reason, a semiconductor memory device including a partly defective circuit can be repaired, and in the case of a highly integrated semiconductor memory device,
Production yield can be improved.

【0004】図7は、従来の半導体記憶装置の一構成例
を模式的に示した概略図である。この半導体記憶装置1
00は、分割ワード線方式を採用した半導体記憶装置
に、冗長メモリセルアレイ50及び冗長グローバル線選
択回路63を設けて構成される。
FIG. 7 is a schematic diagram schematically showing a configuration example of a conventional semiconductor memory device. This semiconductor storage device 1
Reference numeral 00 denotes a semiconductor memory device employing a divided word line system, in which a redundant memory cell array 50 and a redundant global line selection circuit 63 are provided.

【0005】分割ワード線方式とは、ワード線の選択を
階層的に行うことにより、1本のワード線に接続される
メモリセルの数を減少させる方法である。ここでは、メ
モリセルアレイ20をメモリセル群(メモリセルブロッ
ク)200に分割し、メモリセル群200の選択をグロ
ーバルワード線31により行う一方、メモリセル群20
0内でのメモリセル(不図示)の選択をローカルワード
線32により行う。
The divided word line method is a method of hierarchically selecting word lines to reduce the number of memory cells connected to one word line. Here, the memory cell array 20 is divided into memory cell groups (memory cell blocks) 200, and the selection of the memory cell group 200 is performed by the global word line 31.
The selection of a memory cell (not shown) within 0 is performed by the local word line 32.

【0006】冗長メモリセルアレイ50を構成する冗長
メモリセル群500は、1本のグローバルワード線31
によって選択される横方向の一連の正規メモリセル群2
00に対応して設けられており、冗長グローバルワード
線61により選択される。また、各冗長メモリセル群5
00は、正規メモリセル群200と同様、複数個のメモ
リセル(不図示)により構成され、各メモリセルは、正
規メモリセル群200を構成するメモリセルと機能的に
同一となる様に構成されている。
The redundant memory cell group 500 constituting the redundant memory cell array 50 includes one global word line 31.
Series of normal memory cells 2 in the horizontal direction selected by
00, and is selected by the redundant global word line 61. Also, each redundant memory cell group 5
Reference numeral 00 denotes a plurality of memory cells (not shown), similarly to the normal memory cell group 200. Each memory cell is configured to be functionally identical to the memory cells forming the normal memory cell group 200. ing.

【0007】従って、いずれかのグローバルワード線3
1に不良が生じている場合であっても、そのグローバル
ワード線31を冗長グローバルワード線61で置き換
え、冗長ローカルワード線62及び冗長メモリセル群5
00を使用することにより、正常な半導体記憶装置とし
て機能させることができる。
Therefore, any one of the global word lines 3
, The global word line 31 is replaced by the redundant global word line 61 and the redundant local word line 62 and the redundant memory cell group 5 are replaced.
By using 00, it can function as a normal semiconductor memory device.

【0008】また、いずれかのローカルワード線32又
はいずれかの正規メモリセル群200に不良が生じてい
る場合も同様にして、不良個所に係るグローバルワード
線31を冗長グローバルワード線61で置き換えること
により、正常な半導体記憶装置として機能させることが
できる。
[0008] Similarly, when a defect occurs in any of the local word lines 32 or any of the normal memory cell groups 200, the global word line 31 relating to the defective portion is replaced with the redundant global word line 61. Thereby, it can function as a normal semiconductor memory device.

【0009】この様にしてグローバルワード線31を冗
長置換することにより、正規グローバルワード線31、
正規ローカルワード線32又は正規メモリセル群200
のいずれに不良が発生した場合であっても、半導体記憶
装置を救済することができるため、冗長置換に伴うプロ
グラム回路の複雑化を防止し、また、冗長回路の専有面
積を低減することができる。
By performing the redundant replacement of the global word line 31 in this manner, the normal global word line 31,
Normal local word line 32 or normal memory cell group 200
In either case, the semiconductor memory device can be rescued, thereby preventing the program circuit from becoming complicated due to redundancy replacement and reducing the area occupied by the redundancy circuit. .

【0010】図8は、従来の半導体記憶装置の他の構成
例を模式的に示した概略図である。この半導体記憶装置
101は、分割ビット線方式を採用した半導体記憶装置
に、冗長グローバル線選択回路73を設けて構成され、
メモリセルアレイ21には、冗長グローバルビット線7
1及び冗長ローカルビット線72が配されている。
FIG. 8 is a schematic diagram schematically showing another configuration example of a conventional semiconductor memory device. The semiconductor memory device 101 is configured by providing a redundant global line selection circuit 73 in a semiconductor memory device employing a divided bit line system,
The memory cell array 21 has a redundant global bit line 7
1 and a redundant local bit line 72 are provided.

【0011】分割ビット線方式とは、ビット線の選択を
階層的に行うことにより、1本のビット線に接続される
メモリセルの数を減少させる方法である。即ち、グロー
バル線選択回路43がいずれかのグローバルビット線4
1を選択し、さらに、選択されたグローバルビット線4
1に対応するローカルビット線42のいずれかを選択す
ることにより1本のローカルビット線42を選択するも
のである。
The divided bit line system is a method of reducing the number of memory cells connected to one bit line by selecting bit lines hierarchically. That is, the global line selection circuit 43 determines whether any one of the global bit lines 4
1 and the selected global bit line 4
One local bit line 42 is selected by selecting one of the local bit lines 42 corresponding to “1”.

【0012】メモリセルアレイ21は、複数のメモリセ
ル群210に分割され、各メモリセル群210は、複数
の正規メモリセル(不図示)と少なくとも1個の冗長メ
モリセル(不図示)を備えて構成される。各正規メモリ
セルは、正規ローカルビット線42に対応し、冗長メモ
リセルは冗長ローカルビット線72に対応している。
The memory cell array 21 is divided into a plurality of memory cell groups 210, and each memory cell group 210 includes a plurality of normal memory cells (not shown) and at least one redundant memory cell (not shown). Is done. Each normal memory cell corresponds to a normal local bit line 42, and a redundant memory cell corresponds to a redundant local bit line 72.

【0013】従って、いずれかの正規グローバルビット
線41に不良が生じている場合であっても、その正規グ
ローバルビット線41を冗長グローバルビット線71で
置き換え、冗長ローカルビット線72及び冗長メモリセ
ルを使用することにより、正常な半導体記憶装置として
機能させることができる。
Therefore, even if one of the normal global bit lines 41 is defective, the normal global bit line 41 is replaced with the redundant global bit line 71, and the redundant local bit line 72 and the redundant memory cell are replaced. By using this, it is possible to function as a normal semiconductor memory device.

【0014】また、いずれかの正規ローカルビット線4
2又はいずれかの正規メモリセルに不良が生じている場
合も同様にして、不良個所に係るグローバルビット線4
1を冗長グローバルビット線71で置き換えることによ
り、正常な半導体記憶装置として機能させることができ
る。
Any of the regular local bit lines 4
Similarly, when a defective memory cell 2 or one of the normal memory cells has a defect, the global bit line 4
By replacing 1 with the redundant global bit line 71, it is possible to function as a normal semiconductor memory device.

【0015】この様にして正規グローバルビット線41
を冗長置換することにより、正規グローバルビット線4
1、正規ローカルビット線42又は正規メモリセルのい
ずれに不良が発生した場合であっても、半導体記憶装置
を救済することができるため、冗長置換に伴うプログラ
ム回路の複雑化を防止し、また、冗長回路の専有面積を
低減することができる。
In this manner, the normal global bit line 41
Is replaced by the redundant global bit line 4
1. Whether the normal local bit line 42 or the normal memory cell has a defect, the semiconductor memory device can be rescued, thereby preventing the program circuit from becoming complicated due to the redundancy replacement. The occupied area of the redundant circuit can be reduced.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体記憶装置は、冗長置換の自由度が小さいために、
2箇所以上の不良であって、それぞれ異なるグローバル
ワード線31により選択されるもの、或いは、それぞれ
異なるグローバルビット線41により選択されるものが
発生した場合には、対応できないという問題があった。
However, the conventional semiconductor memory device has a small degree of freedom of redundant replacement, and
If two or more defects are selected by different global word lines 31 or are selected by different global bit lines 41, there is a problem that it cannot be handled.

【0017】即ち、図7に示した分割ワード線方式の半
導体記憶装置100の場合、1本のグローバルワード線
31を冗長グローバルワード線61に置換するものであ
るため、全ての不良個所が同一のグローバルワード線3
1に係るものであれば、冗長置換により半導体記憶装置
を救済することができるが、異なるグローバルワード線
31に係るものであれば、もはや救済することはできな
かった。
That is, in the case of the semiconductor memory device 100 of the divided word line system shown in FIG. 7, since one global word line 31 is replaced by a redundant global word line 61, all defective portions are the same. Global word line 3
1, the semiconductor memory device can be rescued by the redundant replacement, but if it relates to a different global word line 31, it cannot be rescued anymore.

【0018】また、図8に示した分割ビット線方式の半
導体記憶装置101の場合も、1本のグローバルビット
線41を冗長グローバルビット線71に置換するもので
あるため、全ての不良個所が同一のグローバルビット線
41に係るものであれば、冗長置換により半導体記憶装
置を救済することができるが、異なるグローバルビット
線41に係るものであれば、もはや救済することはでき
なかった。
Also, in the case of the divided bit line type semiconductor memory device 101 shown in FIG. 8, since one global bit line 41 is replaced with a redundant global bit line 71, all defective portions are the same. In the case of the global bit line 41, the semiconductor memory device can be repaired by the redundant replacement, but in the case of a different global bit line 41, the semiconductor memory device can no longer be repaired.

【0019】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであり、簡単な構成により冗長置換の自由度を向上さ
せ、半導体記憶装置の生産性を向上させることにより、
安価な半導体記憶装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and has a simple structure that improves the degree of freedom of redundancy replacement and improves the productivity of semiconductor memory devices.
An object is to provide an inexpensive semiconductor memory device.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明による半導体記憶
装置は、複数のメモリセル群を選択するグローバルワー
ド線と、これらの各メモリセル群内においてメモリセル
を選択するローカルワード線とを備えた分割ワード線方
式の半導体記憶装置に、1本のグローバルワード線によ
り選択されるメモリセル群に対応する複数の冗長メモリ
セル群と、グローバルワード線を分割して構成されるワ
ード線であって、各冗長メモリセル群をいずれかに接続
した2本の冗長グローバルワード線と、冗長グローバル
ワード線の選択を行う冗長グローバル線選択回路とを備
えて構成される。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a global word line for selecting a plurality of memory cell groups, and a local word line for selecting a memory cell in each of these memory cell groups. In a divided word line type semiconductor memory device, a plurality of redundant memory cell groups corresponding to a memory cell group selected by one global word line, and a word line configured by dividing a global word line, It is configured to include two redundant global word lines that connect each of the redundant memory cell groups to one of them, and a redundant global line selection circuit that selects a redundant global word line.

【0021】また、本発明による半導体記憶装置は、上
記の各冗長グローバルワード線が、ともにグローバルワ
ード線と同一の方向に配線され、上記冗長グローバル線
選択回路は、それぞれが一方の冗長グローバルワード線
の選択を行う2つの回路として構成され、各冗長メモリ
セル群からなる冗長メモリセルアレイの両側にそれぞれ
配置される。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, each of the redundant global word lines is wired in the same direction as the global word line, and each of the redundant global line selecting circuits has one redundant global word line. , And are arranged on both sides of a redundant memory cell array composed of each redundant memory cell group.

【0022】また、本発明による半導体記憶装置は、複
数のメモリセル群を選択するグローバルワード線と、こ
れらの各メモリセル群内においてメモリセルを選択する
ローカルワード線とを備えた分割ワード線方式の半導体
記憶装置に、1本のグローバルワード線により選択され
るメモリセル群に対応する複数の冗長メモリセル群と、
2以上の冗長メモリセル群を接続したワード線であっ
て、各冗長メモリセルをいずれかに接続した複数の冗長
グローバルワード線と、冗長グローバルワード線の選択
を行う冗長グローバル線選択回路とを備えて構成され
る。
A semiconductor memory device according to the present invention has a divided word line system including a global word line for selecting a plurality of memory cell groups and a local word line for selecting a memory cell in each of the memory cell groups. A plurality of redundant memory cell groups corresponding to a memory cell group selected by one global word line;
A word line connecting two or more redundant memory cell groups, comprising a plurality of redundant global word lines connecting each of the redundant memory cells to one of them, and a redundant global line selecting circuit for selecting a redundant global word line. It is composed.

【0023】また、本発明による半導体記憶装置は、上
記の各冗長グローバルワード線が、ともにグローバルワ
ード線と同一の方向に配線され、上記冗長グローバル線
選択回路が、メモリセルアレイの外側であって、ビット
線方向の位置に配置されて構成される。
In the semiconductor memory device according to the present invention, each of the redundant global word lines is wired in the same direction as the global word line, and the redundant global line selecting circuit is provided outside the memory cell array. It is arranged at a position in the bit line direction.

【0024】また、本発明による半導体記憶装置は、ワ
ード線の異なる複数のメモリセルに対応したローカルビ
ット線と、それぞれが複数のローカルビット線に対応し
た複数のグローバルビット線とを備えた分割ビット線方
式の半導体記憶装置に、同一のワード線に対応する複数
のメモリセルからなる各メモリセル群が、少なくとも1
個の冗長メモリセルを備え、対応するワード線の異なる
複数の上記冗長メモリセルが接続された複数の冗長ロー
カルビット線と、グローバルビット線を分割して構成さ
れるビット線であって、各冗長メモリセル群をいずれか
に接続した2本の冗長グローバルビット線と、冗長グロ
ーバルビット線の選択を行う冗長グローバル線選択回路
とを備えて構成される。
Further, according to the semiconductor memory device of the present invention, a divided bit having a local bit line corresponding to a plurality of memory cells having different word lines and a plurality of global bit lines each corresponding to a plurality of local bit lines is provided. A line-type semiconductor memory device includes at least one memory cell group including a plurality of memory cells corresponding to the same word line.
A plurality of redundant local bit lines each including a plurality of redundant memory cells, the plurality of redundant memory cells corresponding to different word lines being connected, and a bit line configured by dividing a global bit line. The memory cell group includes two redundant global bit lines connected to one of the memory cell groups and a redundant global line selection circuit for selecting the redundant global bit line.

【0025】また、本発明による半導体記憶装置は、上
記の各冗長グローバルビット線が、ともにグローバルビ
ット線と同一の方向に配線され、上記冗長グローバル線
選択回路は、それぞれが一方の冗長グローバルビット線
の選択を行う2つの回路として構成され、上記の各冗長
メモリセル群からなる冗長メモリセルアレイの外側であ
って、ワード線方向の両側にそれぞれ配置される。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, each of the redundant global bit lines is wired in the same direction as the global bit line, and each of the redundant global line selecting circuits has one redundant global bit line. Are arranged outside the redundant memory cell array composed of the above-mentioned redundant memory cell groups and on both sides in the word line direction.

【0026】また、本発明による半導体記憶装置は、ワ
ード線の異なる複数のメモリセルに対応したローカルビ
ット線と、それぞれが複数のローカルビット線に対応し
た複数のグローバルビット線とを備えた分割ビット線方
式の半導体記憶装置に、同一のワード線に対応する複数
のメモリセルからなる各メモリセル群が、少なくとも1
個の冗長メモリセルを備え、対応するワード線の異なる
複数の上記冗長メモリセルが接続された複数の冗長ロー
カルビット線と、それぞれに2以上の冗長ローカルビッ
ト線を接続したビット線であって、各冗長ローカルビッ
ト線がいずれかに接続される複数の冗長グローバルビッ
ト線と、各冗長グローバルビット線を選択する冗長グロ
ーバル線選択回路とを備えて構成される。
Further, according to the semiconductor memory device of the present invention, a divided bit having a local bit line corresponding to a plurality of memory cells having different word lines and a plurality of global bit lines each corresponding to a plurality of local bit lines is provided. A line-type semiconductor memory device includes at least one memory cell group including a plurality of memory cells corresponding to the same word line.
A plurality of redundant local bit lines each including a plurality of redundant memory cells, the plurality of redundant memory cells corresponding to different word lines being connected to each other, and a bit line connected to two or more redundant local bit lines, respectively. Each of the redundant local bit lines is connected to any one of the plurality of redundant global bit lines, and a redundant global line selection circuit for selecting each redundant global bit line.

【0027】また、本発明による半導体記憶装置は、上
記の各冗長グローバルビット線が、ともにグローバルビ
ット線と同一の方向に配線され、上記冗長グローバル線
選択回路が、メモリセルアレイの外側であって、ビット
線方向の位置に配置されて構成される。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, each of the redundant global bit lines is wired in the same direction as the global bit line, and the redundant global line selecting circuit is outside the memory cell array. It is arranged at a position in the bit line direction.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

実施の形態1.以下に、本発明の実施の形態1について
図を用いて説明する。図1は、実施の形態1による半導
体記憶装置の一例を模式的に示した概略図である。この
半導体記憶装置11は、正規メモリセルアレイ20と正
規グローバル線選択回路33とを備えた半導体記憶装置
に、冗長メモリセルアレイ50及び冗長グローバル線選
択回路630、631を設けて構成され、冗長メモリセ
ルアレイ50には、2本の冗長グローバルワード線61
0、611が配されている。
Embodiment 1 FIG. Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram schematically showing an example of the semiconductor memory device according to the first embodiment. The semiconductor memory device 11 is configured by providing a redundant memory cell array 50 and redundant global line selection circuits 630 and 631 in a semiconductor memory device including a normal memory cell array 20 and a normal global line selection circuit 33. Have two redundant global word lines 61
0 and 611 are arranged.

【0029】正規メモリセルアレイ20には、正規グロ
ーバル線選択回路33によって選択される複数の正規グ
ローバルワード線31が配されている。この正規グロー
バルワード線31は、同一の方向に配置されており、各
正規グローバルワード線31には、横方向に配置された
一連の複数の正規メモリセル群200が対応している。
従って、正規グローバル線選択回路33が1本のグロー
バルワード線31を選択することにより、一連の正規メ
モリ群200が選択される。
The normal memory cell array 20 is provided with a plurality of normal global word lines 31 selected by a normal global line selection circuit 33. The normal global word lines 31 are arranged in the same direction, and each normal global word line 31 corresponds to a series of a plurality of normal memory cell groups 200 arranged in the horizontal direction.
Therefore, the normal global line selection circuit 33 selects one global word line 31, whereby a series of normal memory groups 200 is selected.

【0030】また、各正規メモリセル群200には、複
数の正規ローカルワード線32が配されており、これら
の正規ローカルワード線32は、正規メモリセル群20
0を構成する複数のメモリセル22に接続されている。
Each normal memory cell group 200 is provided with a plurality of normal local word lines 32. These normal local word lines 32 are connected to the normal memory cell group 20.
0 are connected to a plurality of memory cells 22 constituting 0.

【0031】図2は、図1の正規メモリセル群の一例を
示した図である。この正規メモリセル群200は、51
2個のメモリセル22を備えて構成され、4本のローカ
ルワード線32には、それぞれ128個のメモリセル2
2が対応している。ローカルワード線32によって正規
メモリセル群200から128個のメモリセル22が選
択されると、さらに、ビット線40により1個のメモリ
セル22の選択が行われる。
FIG. 2 is a diagram showing an example of the normal memory cell group of FIG. The normal memory cell group 200 includes 51
Each of the four local word lines 32 includes 128 memory cells 2.
2 correspond. When 128 memory cells 22 are selected from the normal memory cell group 200 by the local word line 32, one memory cell 22 is further selected by the bit line 40.

【0032】一方、冗長メモリセルアレイ50は、1本
の正規グローバルワード線31により選択される一連の
正規メモリセル群200と同数の冗長メモリセル群50
0と冗長グローバルワード線610、611とを備えて
構成されている。
On the other hand, the redundant memory cell array 50 has the same number of redundant memory cell groups 50 as a series of normal memory cell groups 200 selected by one normal global word line 31.
0 and redundant global word lines 610 and 611.

【0033】各冗長メモリセル群500は、正規メモリ
セル群200と同一のもの、或いは、少なくとも機能的
に同等のものとして構成されている。即ち、図2に示し
たメモリセル群と同様、512個のメモリセルを備え、
4本の冗長ローカルワード線62によって128個のメ
モリセルが選択され、さらにビット線40により1個の
メモリセルが選択される様に構成される。
Each of the redundant memory cell groups 500 is configured as the same as the normal memory cell group 200 or at least functionally equivalent. That is, similar to the memory cell group shown in FIG.
The configuration is such that 128 memory cells are selected by the four redundant local word lines 62 and one memory cell is selected by the bit line 40.

【0034】冗長グローバルワード線610、611
は、正規グローバルワード線31と同一の方向に配され
ており、全ての冗長メモリセル群500は、冗長グロー
バルワード線610、611のいずれかに接続されてい
る。なお、本明細書中において、同一の方向とは、ワー
ド線方向又はビット線方向の2方向のうち、いずれの方
向であるのかが両者とも一致していることを意味し、両
者が厳密に平行となっていることを意味するものではな
い。
The redundant global word lines 610 and 611
Are arranged in the same direction as the normal global word line 31, and all the redundant memory cell groups 500 are connected to one of the redundant global word lines 610 and 611. Note that, in this specification, the same direction means that the two directions, that is, the word line direction and the bit line direction, coincide with each other, and both directions are strictly parallel. It does not mean that

【0035】即ち、冗長グローバルワード線610、6
11は、冗長メモリセル群500を選択するためのグロ
ーバルワード線であり、図7に示した1本の冗長グロー
バルワード線61を位置Aにおいて分割したものとして
得られ、一連の冗長メモリセル群500からなる冗長メ
モリアレイ50の一端から連続する所定のメモリセル群
500が冗長グローバルワード線610に接続される一
方、他端から連続する残りのメモリセル群500が冗長
グローバルワード線611に接続されている。
That is, the redundant global word lines 610 and 6
Numeral 11 denotes a global word line for selecting the redundant memory cell group 500, which is obtained by dividing one redundant global word line 61 shown in FIG. A predetermined memory cell group 500 continuous from one end of the redundant memory array 50 is connected to the redundant global word line 610, and the remaining memory cell group 500 continuous from the other end is connected to the redundant global word line 611. I have.

【0036】なお、不良箇所の発生率が、メモリセルア
レイ20全体にわたって均一であるとすれば、各冗長グ
ローバルワード線610、611を選択したときにそれ
ぞれ置換される正規メモリセル群200の数を略同数と
することにより、2つの不良箇所をともに冗長置換でき
る可能性が高くなる。このため、分割の位置Aについて
は、両冗長グローバルワード線610、611に接続さ
れる冗長メモリセル群500の数が略同数となる位置が
好適とされるが、本発明は、このような場合に限定され
るものではないことはもちろんである。
If the occurrence rate of defective portions is uniform over the entire memory cell array 20, the number of normal memory cell groups 200 to be replaced when each of the redundant global word lines 610 and 611 is selected is substantially reduced. By setting the same number, the possibility that two defective portions can be redundantly replaced increases. For this reason, the division position A is preferably a position where the number of the redundant memory cell groups 500 connected to the two redundant global word lines 610 and 611 is substantially the same. Of course, it is not limited to.

【0037】冗長グローバル線選択回路630、631
は、それぞれ冗長グローバルワード線610、611を
選択するためのデコード回路であり、冗長メモリセルア
レイ50の両端に配置されている。このため、従来の半
導体記憶装置100における1本の冗長グローバルワー
ド線61と同一のスペースで、2本の冗長グローバルワ
ード線610、611を配することができる。
Redundant global line selection circuits 630, 631
Are decoding circuits for selecting the redundant global word lines 610 and 611, respectively, and are arranged at both ends of the redundant memory cell array 50. Therefore, two redundant global word lines 610 and 611 can be arranged in the same space as one redundant global word line 61 in the conventional semiconductor memory device 100.

【0038】正規メモリアレイ20が正常の場合、即
ち、全ての正規グローバルワード線31、全ての正規ロ
ーカルワード線32及び全ての正規メモリセル22に不
良箇所がなければ、グローバル線選択回路630、63
1が、冗長グローバルワード線610、611を選択す
ることはない。
If the normal memory array 20 is normal, that is, if all the normal global word lines 31, all the normal local word lines 32, and all the normal memory cells 22 have no defective parts, the global line selection circuits 630, 63
1 does not select the redundant global word lines 610, 611.

【0039】一方、正規メモリアレイ20に不良個所が
存在する場合に、グローバル線選択回路33が、不良個
所に係るグローバルワード線31を選択するのに代え
て、冗長グローバル線選択回路630が冗長グローバル
ワード線610を選択し、或いは、冗長グローバル線選
択回路631が冗長グローバルワード線611を選択す
る。
On the other hand, when a defective portion exists in the normal memory array 20, the redundant global line selecting circuit 630 replaces the global line selecting circuit 33 with the redundant global line selecting circuit 630 instead of selecting the global word line 31 corresponding to the defective portion. The word line 610 is selected, or the redundant global line selection circuit 631 selects the redundant global word line 611.

【0040】図1に示した不良箇所800、801は、
ともにローカルワード線32上に発生したものであり、
異なるグローバルワード線31に係るものである。この
様な場合には、冗長グローバル線選択回路630が、不
良個所800に係るグローバルワード線31を冗長グロ
ーバルワード線610に置換するとともに、冗長グロー
バル線選択回路631が、不良個所801に係るグロー
バルワード線31を冗長グローバルワード線611に置
換する。即ち、冗長グローバルワード線610、611
はそれぞれ個別に選択される。
The defective portions 800 and 801 shown in FIG.
Both occur on the local word line 32,
It concerns a different global word line 31. In such a case, the redundant global line selection circuit 630 replaces the global word line 31 related to the defective portion 800 with the redundant global word line 610, and the redundant global line selection circuit 631 changes the global word line related to the defective portion 801. Replace line 31 with redundant global word line 611. That is, the redundant global word lines 610 and 611
Are individually selected.

【0041】なお、冗長置換されるグローバルワード線
31に対応している正常な正規メモリセル群200であ
って、冗長メモリセル群500により置換されないもの
へのアクセスは、冗長置換前と同様にして、正規グロー
バル線選択回路33が、正規グローバルワード線31を
選択することによって行われる。
Access to the normal normal memory cell group 200 corresponding to the global word line 31 to be redundantly replaced and not replaced by the redundant memory cell group 500 is performed in the same manner as before the redundant replacement. The normal global line selection circuit 33 selects the normal global word line 31.

【0042】従来の半導体記憶装置では、冗長メモリセ
ルアレイ50に1本の冗長グローバルワード線61を配
していたために、1本の正規グローバルワード線31し
か置換することができず、異なる2本の正規グローバル
ワード線31に係る不良が発生した場合には、その半導
体記憶装置を救済することはできなかった。
In the conventional semiconductor memory device, since one redundant global word line 61 is provided in the redundant memory cell array 50, only one normal global word line 31 can be replaced. When a defect related to the regular global word line 31 occurs, the semiconductor memory device cannot be repaired.

【0043】ところが、本実施の形態では、冗長メモリ
セルアレイ50に2本の冗長グローバルワード線61
0、611を配し、それぞれが異なる冗長グローバル線
選択回路630、631により選択される構成としたこ
とにより、メモリセル数を増加させることなく、異なる
2本の正規グローバルワード線31に係る不良が発生し
た場合であっても、これらの不良個所をともに置換する
ことができる。
However, in this embodiment, two redundant global word lines 61 are connected to the redundant memory cell array 50.
0 and 611, each of which is selected by a different redundant global line selection circuit 630 or 631, can be used to reduce defects related to two different normal global word lines 31 without increasing the number of memory cells. Even if it occurs, these defective portions can be replaced together.

【0044】換言すれば、冗長グローバルワード線61
を、2つの冗長グローバルワード線610、611に分
割することにより、冗長回路の専有面積を増大させるこ
となく、或いは、増大を抑制しつつ、冗長置換の自由度
を高め、半導体記憶装置の生産上の歩留まりを向上させ
ることができる。
In other words, redundant global word line 61
Is divided into two redundant global word lines 610 and 611, thereby increasing the degree of freedom of the redundancy replacement without increasing the occupied area of the redundant circuit or suppressing the increase. Yield can be improved.

【0045】なお、本実施の形態においては、1個のメ
モリセル群200が、512個のメモリセル22により
構成され、4本のローカルワード線32が配されている
ものを例にとって説明したが、本発明は、この様な半導
体記憶装置11に限定されるものではないことはもちろ
んである。また、本実施の形態における縦方向及び横方
向とは、図面に基づく説明の便宜上使用したものにすぎ
ない。
In the present embodiment, one memory cell group 200 is constituted by 512 memory cells 22 and four local word lines 32 are arranged as an example. Of course, the present invention is not limited to such a semiconductor memory device 11. Further, the vertical direction and the horizontal direction in the present embodiment are merely used for convenience of description based on the drawings.

【0046】実施の形態2.次に、本発明の実施の形態
2について図を用いて説明する。図3は、実施の形態2
による半導体記憶装置の一例を模式的に示した概略図で
ある。この半導体記憶装置12は、冗長メモリセルアレ
イ50に複数の冗長グローバルワード線612〜615
を配して構成されている。
Embodiment 2 Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 shows the second embodiment.
1 is a schematic diagram schematically showing an example of a semiconductor memory device according to the present invention. The semiconductor memory device 12 includes a plurality of redundant global word lines 612 to 615 in a redundant memory cell array 50.
Is arranged.

【0047】各冗長グローバルワード線612〜615
は、正規グローバルワード線31と同一の方向に配され
ており、それぞれに2以上の冗長メモリセル群500が
接続された、冗長メモリセルアレイ50のグローバルワ
ード線であり、全ての冗長メモリセル群500がいずれ
かの冗長グローバルワード線612〜615に接続され
ている。
Each redundant global word line 612-615
Is a global word line of the redundant memory cell array 50, which is arranged in the same direction as the normal global word line 31 and is connected to two or more redundant memory cell groups 500, respectively. Are connected to any of the redundant global word lines 612 to 615.

【0048】図3に示した半導体記憶装置12は、正規
グローバルワード線31の方向に8個のメモリセル群2
00が配置され、冗長メモリセルアレイ50も8個の冗
長メモリセル群500により構成されている。
The semiconductor memory device 12 shown in FIG. 3 has eight memory cell groups 2 in the direction of the normal global word line 31.
00, and the redundant memory cell array 50 is also composed of eight redundant memory cell groups 500.

【0049】一方、各冗長グローバルワード線612〜
615には、隣接する2個の冗長メモリセル群500の
ペアが接続され、8個の全冗長メモリセル群500が順
に冗長グローバルワード線612〜615に接続されて
いる。このため、従来の半導体記憶装置100における
1本の冗長グローバルワード線61と同様のスペース
で、4本の冗長グローバルワード線612〜615を配
することができる。
On the other hand, each redundant global word line 612-612
A pair of two adjacent redundant memory cell groups 500 is connected to 615, and all eight redundant memory cell groups 500 are sequentially connected to redundant global word lines 612 to 615. Therefore, four redundant global word lines 612 to 615 can be arranged in the same space as one redundant global word line 61 in the conventional semiconductor memory device 100.

【0050】冗長グローバル線選択回路632は、冗長
グローバルワード線612〜615を選択するためのデ
コーダ回路である。従来の半導体記憶装置100では、
冗長グローバル線選択回路63がワード線方向の位置に
配置されていたのに対し、本実施の形態では、冗長グロ
ーバル線選択回路632が、正規メモリセルアレイ20
又は冗長メモリセルアレイ50の外側であって、ビット
線方向の位置に配置される。
The redundant global line selection circuit 632 is a decoder circuit for selecting the redundant global word lines 612 to 615. In the conventional semiconductor memory device 100,
While the redundant global line selection circuit 63 is arranged at a position in the word line direction, in the present embodiment, the redundant global line selection circuit 632 is
Alternatively, it is arranged outside the redundant memory cell array 50 and at a position in the bit line direction.

【0051】また、この冗長グローバル線選択回路63
2は、冗長グローバルワード線612〜615と同一の
方向に配置され、各冗長グローバルワード線612〜6
15を個別に選択し、置換するものである。
The redundant global line selection circuit 63
2 are arranged in the same direction as the redundant global word lines 612 to 615, and
15 are individually selected and replaced.

【0052】図3に示した不良箇所812〜815は、
ともに正規ローカルワード線32上に発生したものであ
り、3本の正規グローバルワード線31に係るものであ
る。この様な場合には、冗長グローバル線選択回路63
2が、不良個所812〜815に係るグローバルワード
線31をそれぞれ冗長グローバルワード線612〜61
5に置換することにより、半導体記憶装置を救済するこ
とができる。
The defective portions 812 to 815 shown in FIG.
Both are generated on the normal local word lines 32 and relate to the three normal global word lines 31. In such a case, the redundant global line selection circuit 63
2 sets the global word lines 31 corresponding to the defective portions 812 to 815 to the redundant global word lines 612 to 61, respectively.
By replacing with 5, the semiconductor memory device can be rescued.

【0053】なお、冗長置換されるグローバルワード線
31に対応している正常な正規メモリセル群200であ
って、冗長メモリセル群500により置換されないもの
へのアクセスは、冗長置換前と同様にして、正規グロー
バル線選択回路33が、正規グローバルワード線31を
選択することによって行われる。
Access to the normal normal memory cell group 200 corresponding to the global word line 31 to be redundantly replaced and not replaced by the redundant memory cell group 500 is performed in the same manner as before the redundant replacement. The normal global line selection circuit 33 selects the normal global word line 31.

【0054】この様にして、冗長メモリアレイセル50
に4本の冗長グローバルワード線612〜615を配
し、それぞれが個別に選択される構成としたことによ
り、メモリセル数を増加させることなく、異なる4本の
正規グローバルワード線31に係る不良が発生した場合
であっても、これらの不良個所をともに置換することが
できる。
In this manner, the redundant memory array cell 50
And four redundant global word lines 612 to 615, each of which is individually selected, without increasing the number of memory cells. Even if it occurs, these defective portions can be replaced together.

【0055】なお、本実施の形態おいては、8個の冗長
メモリセル群500を備えた半導体記憶装置12におい
て、4本の冗長グローバルワード線612〜615を配
した場合について説明したが、本発明はこの様な場合に
限定されるものではない。即ち、冗長メモリセル群50
0の数や、冗長グローバルワード線の数は任意とされ
る。
In the present embodiment, the case where four redundant global word lines 612 to 615 are arranged in the semiconductor memory device 12 including the eight redundant memory cell groups 500 has been described. The invention is not limited to such a case. That is, the redundant memory cell group 50
The number of zeros and the number of redundant global word lines are arbitrary.

【0056】また、各冗長グローバルワード線は、少な
くとも2個の冗長メモリセル群に接続されていればよ
く、各冗長グローバルワード線に接続されている冗長メ
モリセル群500の数が同一でなくともよいのはもちろ
んである。
Each redundant global word line only needs to be connected to at least two redundant memory cell groups, and even if the number of redundant memory cell groups 500 connected to each redundant global word line is not the same. Of course it is good.

【0057】実施の形態3.次に、本発明の実施の形態
3について図を用いて説明する。図4は、実施の形態3
による半導体記憶装置の一例を模式的に示した概略図で
ある。図1及び3に示した半導体記憶装置11、12が
分割ワード線方式を採用していたのに対し、この半導体
記憶装置13は、分割ビット線方式を採用した半導体記
憶装置である。
Embodiment 3 Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 shows the third embodiment.
1 is a schematic diagram schematically showing an example of a semiconductor memory device according to the present invention. While the semiconductor memory devices 11 and 12 shown in FIGS. 1 and 3 employ the divided word line system, the semiconductor memory device 13 is a semiconductor memory device employing the divided bit line system.

【0058】この半導体記憶装置13は、分割ビット線
方式の半導体記憶装置のメモリセルアレイ21に、2本
の冗長グローバルビット線710、711を配し、2個
の冗長グローバル線選択回路730、731を設けて構
成される。
In the semiconductor memory device 13, two redundant global bit lines 710 and 711 are arranged in the memory cell array 21 of the divided bit line type semiconductor memory device, and two redundant global line selecting circuits 730 and 731 are provided. Provided.

【0059】メモリセルアレイ21には、正規グローバ
ル線選択回路43によって選択される複数の正規グロー
バルビット線41が配されている。この正規グローバル
ビット線41は、同一の方向に配置されており、各正規
グローバルビット線41には、これと直交する方向に配
された複数のローカルビット線42が対応している。
A plurality of normal global bit lines 41 selected by the normal global line selection circuit 43 are arranged in the memory cell array 21. The normal global bit lines 41 are arranged in the same direction, and a plurality of local bit lines 42 arranged in a direction orthogonal to the normal global bit lines 41 correspond to each normal global bit line 41.

【0060】一方、メモリセルアレイ21は、複数のメ
モリセル群210に分割され、各メモリセル群210
は、複数の正規メモリセル22と1個の冗長メモリセル
23とから構成される。
On the other hand, the memory cell array 21 is divided into a plurality of memory cell groups 210, and each memory cell group 210
Is composed of a plurality of normal memory cells 22 and one redundant memory cell 23.

【0061】図5は、この様なメモリセル群の一例を示
した図であり、128個のメモリセル22と1個の冗長
メモリセル23とを備えたメモリセル群210が示され
いる。同一のメモリセル群210を構成する各メモリセ
ル22及び冗長メモリセル23は、いずれも同一のワー
ド線30に対応している。
FIG. 5 is a diagram showing an example of such a memory cell group, and shows a memory cell group 210 having 128 memory cells 22 and one redundant memory cell 23. Each of the memory cells 22 and the redundant memory cells 23 constituting the same memory cell group 210 correspond to the same word line 30.

【0062】また、各正規メモリセル22は、いずれか
の正規ローカルビット線42に対応しており、冗長メモ
リセル23は、冗長ローカルビット線72に対応してい
る。なお、冗長メモリセル23は、正規メモリセル22
と同一のもの、或いは、少なくとも機能的に同等のもの
として構成されている。
Each normal memory cell 22 corresponds to one of the normal local bit lines 42, and the redundant memory cell 23 corresponds to the redundant local bit line 72. Note that the redundant memory cell 23 is
, Or at least functionally equivalent.

【0063】従って、各正規ローカルビット線42は、
対応するワード線30が異なる複数のメモリセル22に
対応しており、ワード線30により横方向に配置された
一連のメモリセル群210が選択された場合に、選択さ
れたメモリセル群210を構成するメモリセル22の中
から、正規ローカルビット線42によって1個のメモリ
セル22を選択することができる。
Therefore, each normal local bit line 42
When the corresponding word line 30 corresponds to a plurality of different memory cells 22 and a series of memory cells 210 arranged in the horizontal direction by the word line 30 is selected, the selected memory cell group 210 is formed. One of the memory cells 22 to be selected can be selected by the normal local bit line 42.

【0064】また、同様にしてワード線30による選択
が行われた場合に、冗長ローカルビット線72が選択さ
れると、この冗長ビローカルビット線72に対応した冗
長メモリセル23が選択される。
When the redundant local bit line 72 is selected when the word line 30 is similarly selected, the redundant memory cell 23 corresponding to the redundant vilocal bit line 72 is selected.

【0065】冗長グローバルビット線710、711
は、正規グローバルビット線41と同一の方向に配され
ている。各冗長グローバルビット線710、711は、
これらに直交する方向に配された複数の冗長ローカルビ
ット線72に対応しており、全ての冗長メモリセル23
は、冗長ローカルビット線72を介して、冗長グローバ
ルワード線710、711のいずれかに接続されてい
る。
Redundant global bit lines 710, 711
Are arranged in the same direction as the normal global bit lines 41. Each redundant global bit line 710, 711
All the redundant memory cells 23 correspond to a plurality of redundant local bit lines 72 arranged in a direction orthogonal to these.
Is connected to one of the redundant global word lines 710 and 711 via the redundant local bit line 72.

【0066】即ち、冗長グローバルビット線710、7
11は、冗長メモリセル23を選択するためのグローバ
ルビット線であり、図8に示した1本の冗長グローバル
ビット線71を位置Bにおいて分割したものとして得ら
れる。このため、メモリアレイ21の一端から横方向に
連続する所定のメモリセル群210に対応する冗長ロー
カルビット線72がグローバルビット線710に接続さ
れる一方、他端から連続する残りのメモリセル群210
に対応する冗長ローカルビット線72が、グローバルビ
ット線711に接続されている。
That is, the redundant global bit lines 710, 7
Numeral 11 denotes a global bit line for selecting the redundant memory cell 23, which is obtained by dividing one redundant global bit line 71 shown in FIG. For this reason, the redundant local bit line 72 corresponding to the predetermined memory cell group 210 continuing horizontally from one end of the memory array 21 is connected to the global bit line 710, while the remaining memory cell group 210 continuing from the other end is connected.
Are connected to the global bit line 711.

【0067】なお、不良箇所の発生率が、メモリセルア
レイ21全体にわたって均一であるとすれば、各冗長グ
ローバルビット線710、711を選択したときに置換
される正規ローカルビット線42の数を略同数とするこ
とにより、2つの不良箇所をともに冗長置換できる可能
性が高くなる。このため、分割の位置Bについては、両
冗長グローバルビット線710、711に接続される冗
長ローカルビット線72の数が略同数となる位置が好適
とされるが、本発明は、このような場合に限定されるも
のではないことはもちろんである。
Assuming that the occurrence rate of defective portions is uniform over the entire memory cell array 21, the number of normal local bit lines 42 replaced when each of the redundant global bit lines 710 and 711 is selected is substantially the same. By doing so, there is a high possibility that the two defective portions can be both redundantly replaced. For this reason, the position B where the number of redundant local bit lines 72 connected to both redundant global bit lines 710 and 711 is substantially the same is preferable for the division position B. Of course, it is not limited to.

【0068】冗長グローバル線選択回路730、731
は、それぞれ冗長グローバルビット線710、711を
選択するためのデコード回路であり、メモリセルアレイ
21のワード線方向の両端に配置されている。特に、冗
長グローバルビット線の両端にそれぞれ配置することが
好適とされる。このため、従来の半導体記憶装置101
における1本の冗長グローバルビット線71と同一のス
ペースで、2本の冗長グローバルワード線710、71
1を配することができる。
Redundant global line selection circuits 730, 731
Are decode circuits for selecting the redundant global bit lines 710 and 711, respectively, and are arranged at both ends of the memory cell array 21 in the word line direction. In particular, it is preferable to arrange them at both ends of the redundant global bit line. Therefore, the conventional semiconductor memory device 101
In the same space as one redundant global bit line 71, two redundant global word lines 710, 71
One can be placed.

【0069】図4に示した不良箇所820、821は、
ともに正規ローカルビット線42上に発生したものであ
り、異なる正規グローバルビット線41に係るものであ
る。この様な場合には、冗長グローバル線選択回路73
0が、不良個所820に係るグローバルビット線41を
冗長グローバルワード線710に置換するとともに、冗
長グローバル線選択回路731が、不良個所821に係
る正規グローバルワード線41を冗長グローバルワード
線711に置換する。
The defective portions 820 and 821 shown in FIG.
Both are generated on the normal local bit line 42 and relate to different normal global bit lines 41. In such a case, the redundant global line selection circuit 73
0 replaces the global bit line 41 related to the defective portion 820 with the redundant global word line 710, and the redundant global line selection circuit 731 replaces the normal global word line 41 related to the defective portion 821 with the redundant global word line 711. .

【0070】なお、冗長置換されるグローバルビット線
41に対応している正常な正規ローカルビット線42で
あって、冗長ローカルビット線72により置換されない
ものへのアクセスは、冗長置換前と同様にして、正規グ
ローバル線選択回路43が、正規グローバルビット線4
1を選択することによって行われる。
Access to a normal normal local bit line 42 corresponding to the global bit line 41 to be redundantly replaced and not replaced by the redundant local bit line 72 is performed in the same manner as before the redundant replacement. , The normal global line selection circuit 43
This is done by selecting 1.

【0071】従来の半導体記憶装置101では、メモリ
セルアレイ21に1本の冗長グローバルビット線71を
配していたために、1本の正規グローバルビット線41
しか置換することができず、異なる2本の正規グローバ
ルビット線41に係る不良が発生した場合には、その半
導体記憶装置を救済することはできなかった。
In the conventional semiconductor memory device 101, since one redundant global bit line 71 is provided in the memory cell array 21, one normal global bit line 41 is provided.
However, when a defect related to two different normal global bit lines 41 occurs, the semiconductor memory device cannot be repaired.

【0072】ところが、本実施の形態では、メモリセル
アレイ21に2本の冗長グローバルビット線710、7
11を配し、それぞれが異なる冗長グローバル線選択回
路730、731により個別に選択される構成としたこ
とにより、メモリセル数を増加させることなく、異なる
2本の正規グローバルビット線41に係る不良が発生し
た場合であっても、これらの不良個所をともに置換する
ことができる。
However, in the present embodiment, two redundant global bit lines 710 and 7 are connected to the memory cell array 21.
11 and each of them is individually selected by the different redundant global line selection circuits 730 and 731, so that the defect related to two different normal global bit lines 41 can be reduced without increasing the number of memory cells. Even if it occurs, these defective portions can be replaced together.

【0073】なお、本実施の形態においては、1個のメ
モリセル群210が、128個のメモリセル22と1個
の冗長メモリセル23により構成されたものを例にとっ
て説明したが、本発明は、この様な半導体記憶装置に限
定されるものではないことはもちろんである。また、本
実施の形態における縦方向及び横方向とは、図面に基づ
く説明の便宜上使用したものにすぎない。
In the present embodiment, a case where one memory cell group 210 is constituted by 128 memory cells 22 and one redundant memory cell 23 has been described as an example. Of course, the present invention is not limited to such a semiconductor memory device. Further, the vertical direction and the horizontal direction in the present embodiment are merely used for convenience of description based on the drawings.

【0074】実施の形態4.次に、本発明の実施の形態
4について図を用いて説明する。図6は、実施の形態4
による半導体記憶装置の一例を模式的に示した概略図で
ある。この半導体記憶装置14は、メモリセルアレイ2
1に複数の冗長グローバルビット線712〜714を配
して構成されている。
Embodiment 4 Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 shows a fourth embodiment.
1 is a schematic diagram schematically showing an example of a semiconductor memory device according to the present invention. The semiconductor memory device 14 includes the memory cell array 2
One is provided with a plurality of redundant global bit lines 712 to 714.

【0075】各冗長グローバルビット線712〜714
は、正規グローバルビット線41と同一の方向に配され
ており、それぞれに2以上の冗長ローカルビット線72
が接続され、全ての冗長メモリセル23が、冗長ローカ
ルビット線72を介して、いずれかの冗長グローバルビ
ット線712〜714に接続されている。
Each redundant global bit line 712-714
Are arranged in the same direction as the normal global bit lines 41, and each has two or more redundant local bit lines 72.
And all the redundant memory cells 23 are connected to any one of the redundant global bit lines 712 to 714 via the redundant local bit line 72.

【0076】図6に示した半導体記憶装置は、ワード線
の方向に6個のメモリセル群210が配置されて構成さ
れている。また、各冗長グローバルビット線712〜7
14には、隣接する2本の冗長ローカルビット線72の
ペアが接続され、6本の全冗長ローカルビット線72が
順に冗長グローバルビット線712〜714に接続され
ている。このため、従来の半導体記憶装置101におけ
る1本の冗長グローバルワード線71と同様のスペース
で、3本の冗長グローバルワード線712〜714を配
することができる。
The semiconductor memory device shown in FIG. 6 includes six memory cell groups 210 arranged in the direction of a word line. Also, each of the redundant global bit lines 712 to 7
14 is connected to a pair of adjacent two redundant local bit lines 72, and all six redundant local bit lines 72 are sequentially connected to redundant global bit lines 712 to 714. Therefore, three redundant global word lines 712 to 714 can be arranged in the same space as one redundant global word line 71 in the conventional semiconductor memory device 101.

【0077】冗長グローバル線選択回路732は、冗長
グローバルビット線712〜714を選択するためのデ
コーダ回路である。従来の半導体記憶装置101では、
冗長グローバル線選択回路73がワード線方向の位置に
配置されていたのに対し、本実施の形態では、冗長グロ
ーバル線選択回路732が、メモリセルアレイ21の外
側であって、ビット線方向の位置に配置される。
The redundant global line selection circuit 732 is a decoder circuit for selecting the redundant global bit lines 712 to 714. In the conventional semiconductor memory device 101,
While the redundant global line selection circuit 73 is arranged at the position in the word line direction, in the present embodiment, the redundant global line selection circuit 732 is located outside the memory cell array 21 and at the position in the bit line direction. Be placed.

【0078】また、この冗長グローバル線選択回路73
2は、冗長グローバルワード線712〜714と同一の
方向に配置され、各冗長グローバルワード線712〜7
14を個別に選択し、置換するものである。
The redundant global line selection circuit 73
2 are arranged in the same direction as the redundant global word lines 712 to 714, and
14 are individually selected and replaced.

【0079】図6に示した不良箇所832〜834は、
ともに正規ローカルビット線42上に発生したものであ
り、3本のグローバルビット線41に係るものである。
この様な場合には、グローバル線選択回路732が、不
良個所832〜834に係るグローバルビット線41を
それぞれ冗長グローバルビット線712〜714に置換
することにより、半導体記憶装置を救済することができ
る。
The defective portions 832 to 834 shown in FIG.
Both are generated on the normal local bit line 42 and relate to the three global bit lines 41.
In such a case, the global line selection circuit 732 can repair the semiconductor memory device by replacing the global bit lines 41 corresponding to the defective portions 832 to 834 with the redundant global bit lines 712 to 714, respectively.

【0080】この様にして、メモリセルアレイ21に3
本の冗長グローバルビット線712〜714を配し、そ
れぞれが個別に選択される構成としたことにより、メモ
リセル数を増加させることなく、異なる3本の正規グロ
ーバルワード線41に係る不良が発生した場合であって
も、これらの不良個所をともに置換することができる。
In this way, 3
By arranging the redundant global bit lines 712 to 714 and selecting each of them individually, a defect related to three different normal global word lines 41 occurred without increasing the number of memory cells. Even in this case, these defective portions can be replaced together.

【0081】なお、本実施の形態おいては、6本の冗長
ローカルビット線72を備えた半導体記憶装置におい
て、3本の冗長グローバルビット線712〜714を配
した場合について説明したが、本発明はこの様な場合に
限定されるものではなく、各冗長グローバルビット線が
少なくとも2個の冗長ローカルビットに接続されていれ
ばよい。また、各冗長グローバルビット線に接続されて
いる冗長ローカルビット線の数は同一でなくともよい。
In the present embodiment, the case where three redundant global bit lines 712 to 714 are provided in a semiconductor memory device having six redundant local bit lines 72 has been described. Is not limited to such a case, and it is only necessary that each redundant global bit line is connected to at least two redundant local bits. Further, the number of redundant local bit lines connected to each redundant global bit line may not be the same.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明による半導体記憶装置は、分割ワ
ード線方式を採用した半導体記憶装置の冗長グローバル
ワード線を、2つの冗長グローバルワード線に分割し、
冗長グローバル線選択回路が、それぞれの冗長グローバ
ルワード線の選択を行う。このため、各冗長グローバル
ワード線ごとに、異なるグローバルワード線を置換させ
ることができ、冗長置換の自由度を高めることができる
ので、半導体記憶装置の生産上の歩留まりを向上させる
ことができる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the redundant global word line of the semiconductor memory device employing the divided word line system is divided into two redundant global word lines.
A redundant global line selection circuit selects each redundant global word line. Therefore, a different global word line can be replaced for each redundant global word line, and the degree of freedom of the redundant replacement can be increased, so that the production yield of the semiconductor memory device can be improved.

【0083】また、本発明による半導体記憶装置は、分
割された各冗長グローバルワード線が、ともにグローバ
ルワード線と同一の方向に配線され、対応する2つの冗
長グローバル線選択回路が、冗長メモリセルアレイの両
側に配置されている。このため、従来の半導体記憶装置
における1本の冗長グローバルワード線と同一のスペー
スで、2本の冗長グローバルワード線を配することがで
き、チップ面積の増大を抑制しつつ、冗長置換の自由度
を高めることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, each of the divided redundant global word lines is wired in the same direction as the global word line, and two corresponding redundant global line selection circuits are provided in the redundant memory cell array. Located on both sides. Therefore, two redundant global word lines can be arranged in the same space as one redundant global word line in the conventional semiconductor memory device, and the degree of freedom of redundant replacement can be reduced while suppressing an increase in chip area. Can be increased.

【0084】また、本発明による半導体記憶装置は、そ
れぞれが2以上の冗長メモリセル群に対応する複数のグ
ローバルワード線を備えて構成され、冗長グローバル線
選択回路が、それぞれの冗長グローバルワード線の選択
を行う。このため、各冗長グローバルワード線ごとに、
異なるグローバルワード線を置換させることができ、冗
長置換の自由度を高めることができるので、半導体記憶
装置の生産上の歩留まりを向上させることができる。
Further, the semiconductor memory device according to the present invention is provided with a plurality of global word lines each corresponding to two or more redundant memory cell groups, and the redundant global line selecting circuit is provided for each redundant global word line. Make a selection. Therefore, for each redundant global word line,
Since different global word lines can be replaced and the degree of freedom of redundant replacement can be increased, the production yield of the semiconductor memory device can be improved.

【0085】また、本発明による半導体記憶装置は、複
数ある各冗長グローバルワード線が、ともにグローバル
ワード線と同一の方向に配線され、冗長グローバル線選
択回路が、メモリセルアレイの外側のビット線方向の位
置に配置されている。このため、従来の半導体記憶装置
における1本の冗長グローバルワード線と同一のスペー
スで、複数の冗長グローバルワード線を配することがで
き、チップ面積の増大を抑制しつつ、冗長置換の自由度
を高めることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, a plurality of redundant global word lines are all wired in the same direction as the global word line, and the redundant global line selecting circuit is provided in the bit line direction outside the memory cell array. Is located in the position. Therefore, a plurality of redundant global word lines can be arranged in the same space as one redundant global word line in the conventional semiconductor memory device, and the degree of freedom of redundant replacement can be reduced while suppressing an increase in chip area. Can be enhanced.

【0086】また、本発明による半導体記憶装置は、分
割ビット線方式を採用した半導体記憶装置の冗長グロー
バルビット線を、2つの冗長グローバルビット線に分割
し、冗長グローバル線選択回路が、それぞれの冗長グロ
ーバルビット線の選択を行う。このため、各冗長グロー
バルビット線ごとに、異なるグローバルビット線を置換
させることができ、冗長置換の自由度を高めることがで
きるので、半導体記憶装置の生産上の歩留まりを向上さ
せることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, the redundant global bit line of the semiconductor memory device adopting the divided bit line system is divided into two redundant global bit lines, and the redundant global line selection circuit is provided with respective redundant global line selecting circuits. Select a global bit line. Therefore, a different global bit line can be replaced for each redundant global bit line, and the degree of freedom of the redundant replacement can be increased, so that the production yield of the semiconductor memory device can be improved.

【0087】また、本発明による半導体記憶装置は、分
割された各冗長グローバルビット線が、ともにグローバ
ルビット線と同一の方向に配線され、対応する2つの冗
長グローバル線選択回路が、メモリセルアレイのワード
線方向の両側に配置されている。このため、従来の半導
体記憶装置における1本の冗長グローバルビット線と同
一のスペースで、2本の冗長グローバルビット線を配す
ることができ、チップ面積の増大を抑制しつつ、冗長置
換の自由度を高めることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, each of the divided redundant global bit lines is wired in the same direction as the global bit line, and two corresponding redundant global line selection circuits are connected to the word lines of the memory cell array. They are arranged on both sides in the line direction. Therefore, two redundant global bit lines can be arranged in the same space as one redundant global bit line in the conventional semiconductor memory device, and the degree of freedom of redundant replacement can be reduced while suppressing an increase in chip area. Can be increased.

【0088】また、本発明による半導体記憶装置は、そ
れぞれが2以上の冗長ローカルビット線に対応する複数
のグローバルビット線を備えて構成され、冗長グローバ
ル線選択回路が、それぞれの冗長グローバルビット線の
選択を行う。このため、各冗長グローバルビット線ごと
に、異なるグローバルビット線を置換させることがで
き、冗長置換の自由度を高めることができるので、半導
体記憶装置の生産上の歩留まりを向上させることができ
る。
The semiconductor memory device according to the present invention includes a plurality of global bit lines each corresponding to two or more redundant local bit lines, and the redundant global line selection circuit includes a redundant global bit line for each redundant global bit line. Make a selection. Therefore, a different global bit line can be replaced for each redundant global bit line, and the degree of freedom of the redundant replacement can be increased, so that the production yield of the semiconductor memory device can be improved.

【0089】また、本発明による半導体記憶装置は、複
数ある各冗長グローバルビット線が、ともにグローバル
ビット線と同一の方向に配線され、冗長グローバル線選
択回路が、メモリセルアレイの外側のビット線方向の位
置に配置されている。このため、従来の半導体記憶装置
における1本の冗長グローバルビット線と同一のスペー
スで、複数の冗長グローバルビット線を配することがで
き、チップ面積の増大を抑制しつつ、冗長置換の自由度
を高めることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, each of the plurality of redundant global bit lines is wired in the same direction as the global bit line, and the redundant global line selecting circuit is provided in the bit line direction outside the memory cell array. Is located in the position. Therefore, a plurality of redundant global bit lines can be arranged in the same space as one redundant global bit line in the conventional semiconductor memory device, and the degree of freedom of redundant replacement can be reduced while suppressing an increase in chip area. Can be enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施の形態1による半導体記憶装置の一例を
模式的に示した概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram schematically showing one example of a semiconductor memory device according to a first embodiment;

【図2】 図1のメモリセル群の一例を示した図であ
る。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a memory cell group in FIG. 1;

【図3】 実施の形態2による半導体記憶装置の一例を
模式的に示した概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing one example of a semiconductor memory device according to a second embodiment;

【図4】 実施の形態3による半導体記憶装置の一例を
模式的に示した概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram schematically showing one example of a semiconductor memory device according to a third embodiment;

【図5】 図4のメモリセル群の一例を示した図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing an example of the memory cell group of FIG. 4;

【図6】 実施の形態4による半導体記憶装置の一例を
模式的に示した概略図である。
FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing one example of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment;

【図7】 従来の半導体記憶装置の一構成例を模式的に
示した概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram schematically showing a configuration example of a conventional semiconductor memory device.

【図8】 従来の半導体記憶装置の他の構成例を模式的
に示した概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram schematically showing another configuration example of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11〜14 半導体記憶装置 20、21 メモリセルアレイ、 22
メモリセル 23 冗長メモリセル、 200、210
メモリセル群 30 ワード線、 31
グローバルワード線 32 ローカルワード線、 33 グローバル
(ワード)線選択回路 40 ビット線、 41 グローバル
ビット線 42 ローカルビット線、 43 グローバル
(ビット)線選択回路 50 冗長メモリセルアレイ、 500 冗長メモ
リセル群 61、610〜615 冗長グローバルワード線 62 冗長ローカルワード線 63、630〜632 冗長グローバル(ワード)線選
択回路 71、710〜714 冗長グローバルビット線 72 冗長ローカルビット線 73、730〜732 冗長グローバル(ビット)線選
択回路 800〜833 不良箇所
11 to 14 semiconductor memory devices 20, 21 memory cell arrays, 22
Memory cell 23 Redundant memory cell, 200, 210
Memory cell group 30 word lines, 31
Global word line 32 local word line, 33 global (word) line selection circuit 40 bit line, 41 global bit line 42 local bit line, 43 global (bit) line selection circuit 50 redundant memory cell array, 500 redundant memory cell group 61, 610 615 Redundant global word line 62 Redundant local word line 63, 630-632 Redundant global (word) line selection circuit 71, 710-714 Redundant global bit line 72 Redundant local bit line 73, 730-732 Redundant global (bit) line selection Circuit 800-833 Defective part

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセル群を選択するグローバ
ルワード線と、これらの各メモリセル群内においてメモ
リセルを選択するローカルワード線とを備えた分割ワー
ド線方式の半導体記憶装置において、 1本のグローバルワード線により選択されるメモリセル
群に対応する複数の冗長メモリセル群と、 グローバルワード線を分割して構成されるワード線であ
って、上記の各冗長メモリセル群をいずれかに接続した
2本の冗長グローバルワード線と、 上記冗長グローバルワード線の選択を行う冗長グローバ
ル線選択回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A divided word line type semiconductor memory device comprising: a global word line for selecting a plurality of memory cell groups; and a local word line for selecting a memory cell in each of these memory cell groups. A plurality of redundant memory cell groups corresponding to the memory cell group selected by the global word line, and a word line formed by dividing the global word line, and connecting each of the above redundant memory cell groups to any one A semiconductor memory device comprising: two redundant global word lines; and a redundant global line selection circuit for selecting the redundant global word line.
【請求項2】 上記の各冗長グローバルワード線は、と
もに上記グローバルワード線と同一の方向に配線され、 上記冗長グローバル線選択回路は、それぞれが一方の冗
長グローバルワード線の選択を行う2つの回路として構
成され、上記の各冗長メモリセル群からなる冗長メモリ
セルアレイの両側に、それぞれ配置されることを特徴と
する請求項1に記載の半導体記憶装置。
2. The redundant global word lines are wired in the same direction as the global word lines, and the redundant global line selecting circuits each select two redundant global word lines. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device is arranged on both sides of a redundant memory cell array comprising said redundant memory cell groups.
【請求項3】 複数のメモリセル群を選択するグローバ
ルワード線と、これらの各メモリセル群内においてメモ
リセルを選択するローカルワード線とを備えた分割ワー
ド線方式の半導体記憶装置において、 1本のグローバルワード線により選択されるメモリセル
群に対応する複数の冗長メモリセル群と、 2以上の上記冗長メモリセル群を接続したワード線であ
って、上記の各冗長メモリセル群をいずれかに接続した
複数の冗長グローバルワード線と、 上記冗長グローバルワード線の選択を行う冗長グローバ
ル線選択回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装
置。
3. A divided word line type semiconductor memory device comprising a global word line for selecting a plurality of memory cell groups and a local word line for selecting a memory cell in each of the memory cell groups. A plurality of redundant memory cell groups corresponding to a memory cell group selected by the global word line, and a word line connecting two or more of the redundant memory cell groups, wherein each of the redundant memory cell groups is A semiconductor memory device comprising: a plurality of connected redundant global word lines; and a redundant global line selection circuit for selecting the redundant global word lines.
【請求項4】 上記の各冗長グローバルワード線は、と
もにグローバルワード線と同一の方向に配線され、 上記冗長グローバル線選択回路が、上記の各メモリセル
群からなるメモリセルアレイの外側であって、ビット線
方向の位置に、配置されていることを特徴とする請求項
3に記載の半導体記憶装置。
4. Each of the redundant global word lines is wired in the same direction as the global word line, and the redundant global line selection circuit is located outside a memory cell array including the memory cell groups. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the semiconductor memory device is arranged at a position in a bit line direction.
【請求項5】 ワード線の異なる複数のメモリセルに対
応したローカルビット線と、それぞれが複数のローカル
ビット線に対応した複数のグローバルビット線とを備え
た分割ビット線方式の半導体記憶装置において、 同一のワード線に対応する複数のメモリセルからなる各
メモリセル群が、少なくとも1個の冗長メモリセルを備
え、 対応するワード線の異なる複数の上記冗長メモリセルが
接続された複数の冗長ローカルビット線と、 グローバルビット線を分割して構成されるビット線であ
って、上記の各冗長ローカルビット線をいずれかに接続
した2本の冗長グローバルビット線と、 上記冗長グローバルビット線の選択を行う冗長グローバ
ル線選択回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装
置。
5. A divided bit line type semiconductor memory device comprising: a local bit line corresponding to a plurality of memory cells having different word lines; and a plurality of global bit lines each corresponding to a plurality of local bit lines. Each memory cell group including a plurality of memory cells corresponding to the same word line includes at least one redundant memory cell, and a plurality of redundant local bits to which the plurality of redundant memory cells having different corresponding word lines are connected. And two redundant global bit lines, each of which is formed by dividing a global bit line and connecting the redundant local bit lines, and selecting the redundant global bit line. A semiconductor memory device comprising a redundant global line selection circuit.
【請求項6】 上記の各冗長グローバルビット線は、と
もにグローバルビット線と同一の方向に配線され、 上記冗長グローバル線選択回路は、それぞれが一方の冗
長グローバルビット線の選択を行う2つの回路として構
成され、上記の各メモリセル群からなるメモリセルアレ
イの外側であって、ワード線方向の両側に、それぞれ配
置されていることを特徴とする請求項5に記載の半導体
記憶装置。
6. Each of the redundant global bit lines is wired in the same direction as the global bit line, and the redundant global line selection circuit includes two circuits each for selecting one of the redundant global bit lines. 6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein said semiconductor memory device is arranged outside said memory cell array comprising said memory cell groups and on both sides in the word line direction.
【請求項7】 ワード線の異なる複数のメモリセルに対
応したローカルビット線と、それぞれが複数のローカル
ビット線に対応した複数のグローバルビット線とを備え
た分割ビット線方式の半導体記憶装置において、 同一のワード線に対応する複数のメモリセルからなる各
メモリセル群が、少なくとも1個の冗長メモリセルを備
え、 対応するワード線の異なる複数の上記冗長メモリセルが
接続された複数の冗長ローカルビット線と、 それぞれに2以上の上記冗長ローカルビット線を接続し
たビット線であって、上記の各冗長ローカルビット線が
いずれかに接続される複数の冗長グローバルビット線
と、 上記の各冗長グローバルビット線を選択する冗長グロー
バル線選択回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶
装置。
7. A divided bit line type semiconductor memory device including a local bit line corresponding to a plurality of memory cells having different word lines and a plurality of global bit lines each corresponding to a plurality of local bit lines. Each memory cell group including a plurality of memory cells corresponding to the same word line includes at least one redundant memory cell, and a plurality of redundant local bits to which the plurality of redundant memory cells having different corresponding word lines are connected. A plurality of redundant global bit lines each connected to at least two of the redundant local bit lines, wherein each of the redundant local bit lines is connected to one of the redundant local bit lines; A redundant global line selection circuit for selecting a line.
【請求項8】 上記の各冗長グローバルビット線は、と
もにグローバルビット線と同一の方向に配線され、 上記冗長グローバル線選択回路が、上記の各メモリセル
群からなるメモリセルアレイの外側であって、ビット線
方向の位置に、配置されていることを特徴とする請求項
7に記載の半導体記憶装置。
8. Each of the redundant global bit lines is wired in the same direction as the global bit line, and the redundant global line selection circuit is located outside a memory cell array composed of the memory cell groups. 8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said semiconductor memory device is arranged at a position in a bit line direction.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6288947B1 (en) 1999-06-28 2001-09-11 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Data output apparatus guaranteeing complete data transfer using delayed time in memory device having pipelatch circuits
KR100790442B1 (en) * 1999-11-08 2008-01-02 주식회사 하이닉스반도체 Memory device with global redundancy and its operating method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6288947B1 (en) 1999-06-28 2001-09-11 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Data output apparatus guaranteeing complete data transfer using delayed time in memory device having pipelatch circuits
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