JPH10196291A - Tunnel inner wall - Google Patents

Tunnel inner wall

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JPH10196291A
JPH10196291A JP9014506A JP1450697A JPH10196291A JP H10196291 A JPH10196291 A JP H10196291A JP 9014506 A JP9014506 A JP 9014506A JP 1450697 A JP1450697 A JP 1450697A JP H10196291 A JPH10196291 A JP H10196291A
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JP
Japan
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photocatalyst
cobalt
water
tunnel
silicone
Prior art date
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Application number
JP9014506A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain water repellency of a tunnel inner wall surface over a long period of time by forming a surface layer containing photocatalyst particles, silicone and a substance to prevent the transformation into a hydrophilic property by light excitation of a photocatalyst, on a base material surface. SOLUTION: In a tunnel 10, an arch-shaped wall 12 is lined with an interior trimming plate 14 covered with a surface layer, and a surface layer containing photocatalyst particles, silicone and substance to prevent the transformation into a hydrophilic property by light excitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound, is formed on a surface of this interior trimming plate 14. Therefore, the transformation of silicone into a hydrophilic property by light excitation of the photocatalyst can be prevented, and a stain sticking with the lapse of time can be decomposed on the basis of oxidizing-decomposing performance of the photocatalyst. Therefore, water repellency of the surface can be maintained, and a tunnel inner wall can maintain a permanently unstainable condition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、煤煙などで汚れに
くいトンネル内壁に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inner wall of a tunnel which is hardly contaminated with smoke or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】道路のトンネルの内壁は、現場打ちコン
クリ−トだけによって形成することもあるが、近年で
は、トンネル内の環境、特に景観を改善し、トンネル内
での交通事故を防止するため、少なくとも塗装を施す
か、内装板(ライニング)によって内張るすることが多
い。内装板には、アスベストパネル、タイル、ホウロウ
鉄板、メッキ鉄板、ステンレス鋼板、アルミニウムパネ
ル、プラスチックパネル、などが使用されている。
2. Description of the Related Art The inner wall of a road tunnel may be formed only by cast-in-place concrete, but recently, in order to improve the environment in the tunnel, particularly the landscape, and to prevent traffic accidents in the tunnel. In many cases, at least painting is performed or the interior is lined with an interior board (lining). As interior panels, asbestos panels, tiles, enameled iron plates, plated iron plates, stainless steel plates, aluminum panels, plastic panels, and the like are used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】トンネルの内壁は自動
車の排気ガス中の煤煙やタイヤの摩耗粉や路面から舞い
上がった煤塵によって汚れる。特に、交通量の多い高速
道路のトンネルでは汚れが激しい。また、高速道路では
トンネルの長さは長くなる傾向にあり、換気が充分でな
い場合には汚れるのが早い。トンネルの内壁が煤煙など
によって薄黒く汚れると、トンネルの景観が損なわれ、
暗い印象を与えるので、トンネル内での運転を苦痛に感
じさせ、或いは運転者の注意力に悪影響を与える。そこ
で、必要に応じてトンネル内壁を洗浄するのが望まし
い。
The inner wall of the tunnel is contaminated with soot in the exhaust gas of automobiles, abrasion powder of tires, and dust soaring from the road surface. In particular, highway tunnels with heavy traffic are heavily soiled. On a highway, the length of a tunnel tends to be long, and if ventilation is insufficient, the tunnel is apt to become dirty. If the inner wall of the tunnel is darkened by smoke, etc., the view of the tunnel will be damaged,
The dark impression can make driving in the tunnel painful or adversely affect the driver's attention. Therefore, it is desirable to clean the inner wall of the tunnel as needed.

【0004】従来、トンネルの内壁はブラシ洗浄により
洗浄されている。内壁の洗浄には、交通規制(車線制限
など)を要するので、円滑な交通を阻害するとともに、
かなりの危険を伴う。従って、充分な頻度で洗浄するの
が困難である。また、アスベストパネルのような内装板
は表面に凹凸があるので、汚れやすいだけでなく、ブラ
シ洗浄によって汚れを完全に落とすのは不可能である。
ブラシ洗浄をしても付着した汚れの一部は残るので、洗
浄回数を重ねる度に汚れが蓄積する。
Conventionally, the inner wall of a tunnel has been cleaned by brush cleaning. Cleaning the inner wall requires traffic regulation (such as lane restriction), which hinders smooth traffic,
With considerable danger. Therefore, it is difficult to wash it with sufficient frequency. Further, since an interior plate such as an asbestos panel has irregularities on its surface, it is not only easy to stain, but it is impossible to completely remove the stain by brush cleaning.
Some of the adhered dirt remains even after brush cleaning, so that the dirt accumulates as the number of times of cleaning increases.

【0005】上記汚れの付着を防止する方法としては、
基材表面に撥水性を付与するとよいことが知られてい
る。基材表面に撥水性を付与すると、表面エネルギ−が
著しく小さくなるため、汚れ成分が付着されにくくな
る。その一方法として、基材表面に撥水性シリコ−ンか
らなる表面層を形成する方法がある。しかしながら、こ
の構成では経時的に汚れが付着することによって水との
接触角が70゜程度に低下し、撥水性の効果が持続しな
い。そこで、上記課題を解決する他の方法として、基材
表面に光触媒と撥水性シリコ−ンとからなる表面層を形
成する方法がある。この方法によれば、光触媒の酸化分
解性に基づき、経時的に付着する汚れを分解できる。し
かしながら、この構成では屋外で太陽光に晒すと、光触
媒の光励起によりシリコ−ンが親水化してしまうため表
面の撥水性を維持することができない。本発明では、上
記事情に鑑み、表面の撥水性を長期にわたり維持しうる
トンネル内壁を提供し、以て汚れにくいトンネル内壁を
提供することを目的とする。
[0005] As a method for preventing the adhesion of the dirt,
It is known that it is better to impart water repellency to the surface of a substrate. When water repellency is imparted to the surface of the base material, the surface energy is significantly reduced, so that it becomes difficult for dirt components to adhere. As one of the methods, there is a method of forming a surface layer made of a water-repellent silicone on a substrate surface. However, with this structure, the contact angle with water is reduced to about 70 ° due to the adhesion of dirt over time, and the effect of water repellency is not maintained. Therefore, as another method for solving the above-mentioned problem, there is a method of forming a surface layer comprising a photocatalyst and a water-repellent silicone on the surface of a substrate. According to this method, it is possible to decompose the adhered dirt over time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. However, in this configuration, when exposed to sunlight outdoors, the silicone is hydrophilized by photoexcitation of the photocatalyst, so that the water repellency of the surface cannot be maintained. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a tunnel inner wall that can maintain the water repellency of the surface for a long period of time, and to provide a tunnel inner wall that is less likely to be contaminated.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ
−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質とを含有する表面層が
形成されている、或いは基材表面に、光触媒粒子と撥水
性シリコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層
表面の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記
光触媒の光励起による親水化を防止するための物質が固
定されていることを特徴とするトンネル内壁を提供す
る。コバルト又はコバルト化合物のような光触媒の光励
起による親水化を防止するための物質が表面層に含有さ
れているようにすることにより、光触媒の光励起により
シリコ−ンが親水化してしまうのを防止することができ
る。かつ光触媒が含有されているので、光触媒の酸化分
解性に基づき、経時的に付着する汚れを分解できる。従
って、表面の撥水性を維持することができ、トンネル内
壁は恒久的に汚れにくい状態を維持することができる。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, photocatalytic particles, water-repellent silicone, and hydrophilicity of the water-repellent silicone by photoexcitation of the photocatalyst are provided on a substrate surface. Or a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the base material, and is further formed on at least a part of the surface of the layer. The present invention provides an inner wall of a tunnel, on which a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is fixed. Preventing the silicon from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst by making the surface layer contain a substance such as cobalt or a cobalt compound for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation. Can be. In addition, since the photocatalyst is contained, it is possible to decompose the dirt adhering with time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. Therefore, the water repellency of the surface can be maintained, and the inner wall of the tunnel can be maintained in a permanently hardly soiled state.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】図1に示したように、トンネル1
0は例えば現場打ちコンクリ−トからなるア−チ型の壁
12によって周知の工法で構築することができる。図示
した実施例では、ア−チ壁12は表面層で被覆された内
装板14によって内張りしてあるが、コンクリ−ト壁1
2に直接に表面層を塗装してもよい。内装板14には、
従来同様に、アスベストパネル、タイル、ホウロウ鉄
板、メッキ鉄板、ステンレス鋼板、アルミニウムパネ
ル、プラスチックパネル、などを使用することができ
る。内装板14の表面には、図2に示すように、光触媒
粒子と、シリコ−ンと、コバルト又はコバルト化合物等
の光触媒の光励起による親水化を防止するための物質を
含む表面層が形成されている。本発明の他の態様におい
ては、図3に示すように、内装板14の表面に光触媒粒
子と、撥水性シリコ−ンとを含有する層が形成され、さ
らにその層表面の少なくとも一部にはコバルト又はコバ
ルト化合物等の撥水性シリコ−ンの光触媒の光励起によ
る親水化を防止するための物質が固定されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG.
0 can be constructed by a well-known method with an arch-type wall 12 made of, for example, cast-in-place concrete. In the embodiment shown, the arch wall 12 is lined with an interior panel 14 coated with a surface layer, whereas the concrete wall 1
2 may be directly coated with a surface layer. In the interior board 14,
As before, asbestos panels, tiles, enameled iron plates, plated iron plates, stainless steel plates, aluminum panels, plastic panels, and the like can be used. As shown in FIG. 2, a surface layer containing photocatalyst particles, silicon, and a substance for preventing photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound from becoming hydrophilic by photoexcitation is formed on the surface of the interior plate 14, as shown in FIG. I have. In another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the interior board 14, and at least a part of the surface of the layer is formed on the surface. A substance for preventing hydrophilicity due to photoexcitation of a photocatalyst of a water-repellent silicone such as cobalt or a cobalt compound is fixed.

【0008】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギ−ギャップよりも大きなエネルギ−
(すなわち短い波長)の光(励起光)を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起(光励起)が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナタ−
ゼ型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化第二鉄、三酸
化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロン
チウム等の酸化物が好適に利用できる。光触媒の光励起
に用いる光源としては、高圧ナトリウムランプ、低圧ナ
トリウムランプ、メタルハライドランプ、蛍光灯、水銀
灯、蛍光水銀灯等のトンネル内の照明16や、ヘッドラ
ンプ等の通過する自動車の照明が利用できる。
[0008] The photocatalyst has an energy larger than the energy gap between the conduction band and the valence band of the crystal.
A substance capable of generating conduction electrons and holes by excitation of electrons in the valence band (photoexcitation) when irradiated with light (excitation light) having a short wavelength (excitation light).
Oxides such as zeta-type titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, ferric oxide, bismuth trioxide, tungsten trioxide and strontium titanate can be suitably used. As a light source used for photoexcitation of the photocatalyst, illumination 16 in a tunnel such as a high-pressure sodium lamp, a low-pressure sodium lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a mercury lamp, a fluorescent mercury lamp, and a lighting of a passing car such as a headlamp can be used.

【0009】シリコ−ンには、平均組成式 RpSiO(4-p)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは0<p<2を満足する数
である)で表される樹脂が利用できる。
The silicone has an average composition formula R p SiO (4-p) / 2 (where R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups, or a monovalent organic group). A resin represented by the following formula: X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is a number satisfying 0 <p <2. Is available.

【0010】コバルト化合物には、コバルト合金、酸化
コバルト、塩化コバルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバル
ト、臭化コバルト、酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝
酸コバルト等が好適に利用できる。
As the cobalt compound, a cobalt alloy, cobalt oxide, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0011】表面層の膜厚は、0.4μm以下にするの
が好ましい。そうすれば、光の乱反射による白濁を防止
することができ、表面層は実質的に透明となる。さら
に、表面層の膜厚を、0.2μm以下にすると一層好ま
しい。そうすれば、光の干渉による表面層の発色を防止
することができる。また、表面層が薄ければ薄いほどそ
の透明度は向上する。更に、膜厚を薄くすれば、表面層
の耐摩耗性が向上する。
The thickness of the surface layer is preferably set to 0.4 μm or less. Then, cloudiness due to irregular reflection of light can be prevented, and the surface layer becomes substantially transparent. Further, it is more preferable that the thickness of the surface layer be 0.2 μm or less. Then, it is possible to prevent the surface layer from being colored by light interference. Also, the thinner the surface layer, the better its transparency. Further, when the film thickness is reduced, the wear resistance of the surface layer is improved.

【0012】表面層には、Ag、Cu、Znのような金
属を添加することができる。前記金属を添加した表面層
は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させること
ができる。
Metals such as Ag, Cu and Zn can be added to the surface layer. The surface layer to which the metal is added can kill bacteria and fungi attached to the surface even in a dark place.

【0013】表面層にはPt、Pd、Ru、Rh、I
r、Osのような白金族金属を添加することができる。
前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元活性を
増強でき、有機物汚れの分解性、有害気体や悪臭の分解
性を向上させることができる。
Pt, Pd, Ru, Rh, I
A platinum group metal such as r or Os can be added.
The surface layer to which the metal is added can enhance the redox activity of the photocatalyst, and can improve the decomposability of organic contaminants and the decomposability of harmful gases and odors.

【0014】次に、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性
シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質とを含有する表
面層が形成されている撥水性部材の製法について説明す
る。この場合の製法は、基本的には、基材表面にコ−テ
ィング組成物を塗布し、硬化させることによる。
Next, a surface layer containing photocatalyst particles, a water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of the substrate. The method of manufacturing the water-repellent member described above will be described. The production method in this case is basically based on applying a coating composition on the surface of a substrate and curing the coating composition.

【0015】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒
子、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質にシリコ−ンの前駆体
を必須構成要件とし、その他に水、エタノ−ル、プロパ
ノ−ル等の溶媒や、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸等のシリコ−ンの前駆体の加水分解を促進する触媒
や、トリブチルアミン、ヘキシルアミンなどの塩基性化
合物類、アルミニウムトリイソプロポキシド、テトライ
ソプロピルチタネ−トなどの酸性化合物類等のシリコ−
ンの前駆体を硬化させる触媒や、シランカップリング剤
等のコ−ティング液の分散性を向上させる界面活性剤な
どを添加してもよい。
Here, the coating composition includes a precursor of silicon as an essential component of a substance for preventing photocatalytic particles such as photocatalyst particles, cobalt or a cobalt compound from becoming hydrophilic by photoexcitation, and water, Solvents such as ethanol and propanol, catalysts that promote hydrolysis of silicone precursors such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, and basic compounds such as tributylamine and hexylamine Silicon compounds such as acidic compounds such as aluminum, aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate;
And a surfactant for improving the dispersibility of the coating liquid such as a silane coupling agent.

【0016】コバルト又はコバルト化合物としては、水
溶性のコバルト化合物を用いるのが好ましい。水溶性の
コバルト化合物としては、例えば、塩化コバルト、硫酸
コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、酢酸コバル
ト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等が好適に利用でき
る。
As cobalt or a cobalt compound, a water-soluble cobalt compound is preferably used. As the water-soluble cobalt compound, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0017】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0017] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0018】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0019】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the above-mentioned siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, or partially hydrolyzate of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0020】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0021】次に、基材表面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成されさらにその層表面の
少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒
の光励起による親水化を防止するための物質が固定され
ている撥水性部材の製法について説明する。この場合の
製法は、基本的には、光触媒粒子と撥水性シリコ−ンの
前駆体とを含有するコ−ティング組成物を塗布し、硬化
させた後、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質を含有する溶液
を塗布し、表面に固定することによる。
Next, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the substrate, and at least a part of the surface of the layer has a hydrophilic property due to the photoexcitation of the photocatalyst of the water-repellent silicone. A method for producing a water-repellent member to which a substance for preventing the formation of a water-repellent material is fixed will be described. The production method in this case is basically based on the photo-excitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound after coating and curing a coating composition containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone precursor. By applying a solution containing a substance for preventing hydrophilization and fixing the solution to the surface.

【0022】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンの前駆体を必須構成要件とし、そ
の他に水、エタノ−ル、プロパノ−ル等の溶媒や、塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン酸等のシリカの前駆体
の加水分解を促進する触媒や、トリブチルアミン、ヘキ
シルアミンなどの塩基性化合物類、アルミニウムトリイ
ソプロポキシド、テトライソプロピルチタネ−トなどの
酸性化合物類等のシリカの前駆体を硬化させる触媒や、
シランカップリング剤等のコ−ティング液の分散性を向
上させる界面活性剤などを添加してもよい。
Here, the coating composition contains photocatalyst particles and a precursor of a water-repellent silicone as essential components, and in addition, a solvent such as water, ethanol and propanol, hydrochloric acid, nitric acid, and the like. Catalysts that promote the hydrolysis of silica precursors such as sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, basic compounds such as tributylamine and hexylamine, and acidic compounds such as aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate Such as a catalyst for curing a precursor of silica,
A surfactant such as a silane coupling agent for improving the dispersibility of the coating liquid may be added.

【0023】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0023] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0024】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0025】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the above-mentioned siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, or partially hydrolyzate of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0026】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0027】コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定する方法は、例えば、塩化コバ
ルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、
酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等の水溶
性のコバルト化合物を、スプレ−コ−ティング法、ディ
ップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ
−ティング法、ロ−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポ
ンジ塗り等の方法で塗布し、光還元、熱処理、アルコ−
ル等の犠牲酸化剤を併用する還元等の方法で固定するこ
とにより行う。
A method of applying a solution containing a substance for preventing photocatalytic hydrophilization such as cobalt or a cobalt compound by photoexcitation and immobilizing the solution on the surface includes, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, bromide, and the like. cobalt,
Spray coating method, dip coating method, flow coating method, spin coating method, roll coating method, brushing water-soluble cobalt compounds such as cobalt acetate, cobalt chlorate and cobalt nitrate Coating, sponge coating, etc., photoreduction, heat treatment, alcohol
This is performed by fixing by a method such as reduction using a sacrificial oxidizing agent such as toluene.

【0028】[0028]

【実施例】【Example】

参考例.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル(日産化学、TA
−15、硝酸解膠型、pH=1)と、シリカゾル(日本
合成ゴム、グラスカA液、pH=4)と、メチルトリメ
トキシシラン(日本合成ゴム、グラスカB液)とエタノ
−ルを混合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液
を、スプレ−コ−ティング法にて5×10cm角の施釉
タイル基材(東陶機器、AB02E11)上に塗布し、
200℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン
粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部
からなる表面層を形成した#1試料を得た。#1試料の
水との接触角は92゜であった。ここで水との接触角は
接触角測定器(協和界面科学、CA−X150)を用
い、マイクロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の
水との接触角で評価した。次いで#1試料表面に、紫外
線光源(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍
光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日
照射し、#2試料を得た。その結果、#2試料の水との
接触角は0゜まで親水化された。次に、#1試料と、#
1試料に水銀灯を22.8mW/cm2の紫外線照度で
2時間照射して得た#3試料夫々の試料表面をラマン分
光分析した。その結果、#1試料表面で認められたメチ
ル基のピ−クが#3試料では認められず、代わりに水酸
基のブロ−ドなピ−クが認められた。以上のことから、
光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起により被
膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有
機基は、水酸基に置換されること、及び親水化されるこ
とがわかる。
Reference example. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA
-15, nitric acid peptized type, pH = 1), silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4), methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol are mixed. The coating liquid obtained by stirring for 2 to 3 hours was applied on a 5 × 10 cm square glazed tile base material (TOTOKIKI, AB02E11) by spray coating.
A heat treatment was performed at 200 ° C. for 15 minutes to obtain a # 1 sample having a surface layer formed of 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. The contact angle of the # 1 sample with water was 92 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 1 sample was irradiated for one day with an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 2 sample. As a result, the contact angle with water of the # 2 sample was hydrophilized to 0 °. Next, # 1 sample and #
One sample was irradiated with a mercury lamp at an ultraviolet irradiance of 22.8 mW / cm 2 for 2 hours, and the surface of each of the # 3 samples obtained was subjected to Raman spectroscopic analysis. As a result, a peak of methyl group observed on the surface of sample # 1 was not observed in sample # 3, but a peak of hydroxyl group was observed instead. From the above,
It can be seen that the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the film by the photoexcitation of the anatase type titanium oxide which is a photocatalyst is replaced by a hydroxyl group and becomes hydrophilic.

【0029】実施例1.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、塩化コバルト六水和物と、エタノ−ルを混
合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液を、スプ
レ−コ−ティング法にてタイル基材上に塗布し、150
℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子1
1重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部、コバ
ルト0.2重量部からなる表面層を形成した#4試料を
得た。#4試料の水との接触角は97゜であった。ここ
で水との接触角は接触角測定器(協和界面科学、CA−
X150)を用い、マイクロシリンジから水滴を滴下し
た後30秒後の水との接触角で評価した。次いで#4試
料表面に、紫外線光源(三共電気、ブラックライトブル
−(BLB)蛍光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫
外線照度で1日照射し、#5試料を得た。その結果、#
5試料の水との接触角は依然95゜と撥水性を維持し
た。従って、以上のことから、光触媒であるアナタ−ゼ
型酸化チタンの光励起による被膜の表面のシリコ−ンの
親水化が、コバルトにより阻害されることがわかる。こ
れは、被膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結
合した有機基の水酸基への置換がコバルトにより阻害さ
れるためと考えられる。
Embodiment 1 Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution), cobalt chloride hexahydrate, and ethanol, and agitated for 2-3 hours. -Applied to the tile substrate by
Heat treated at 15 ° C. for 15 minutes to obtain anatase type titanium oxide particles 1
A # 4 sample having a surface layer comprising 1 part by weight, 6 parts by weight of silica, 5 parts by weight of silicone, and 0.2 parts by weight of cobalt was obtained. The contact angle of the # 4 sample with water was 97 °. Here, the contact angle with water is measured using a contact angle measuring instrument (Kyowa Interface Science, CA-
X150), and evaluated by the contact angle with water 30 seconds after a water drop was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 4 sample was irradiated with ultraviolet light of 0.3 mW / cm 2 for one day using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 5 sample. as a result,#
The contact angle of the five samples with water was still 95 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt.

【0030】実施例2.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、エタノ−ルを混合し、2〜3時間撹拌して
得たコ−ティング液を、スプレ−コ−ティング法にてタ
イル基材上に塗布し、150℃で15分熱処理して、ア
ナタ−ゼ型酸化チタン粒子11重量部、シリカ6重量
部、シリコ−ン5重量部からなる表面層を形成した。さ
らにその上にコバルト金属濃度50μmol/gの塩化
コバルト六水和物水溶液を0.3g塗布後、紫外線光源
(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍光灯)
を用いて紫外線照度0.4mW/cm2の紫外線を10
分照射して基材上にコバルトを固定して#6試料を得
た。#6試料の水との接触角は96゜であった。ここで
水との接触角は接触角測定器(協和界面科学、CA−X
150)を用い、マイクロシリンジから水滴を滴下した
後30秒後の水との接触角で評価した。次いで#6試料
表面に、紫外線光源(三共電気、ブラックライトブル−
(BLB)蛍光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外
線照度で1日照射し、#7試料を得た。その結果、#7
試料の水との接触角は依然94゜と撥水性を維持した。
従って、以上のことから、光触媒であるアナタ−ゼ型酸
化チタンの光励起による被膜の表面のシリコ−ンの親水
化が、コバルトにより阻害されることがわかる。これ
は、被膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合
した有機基の水酸基への置換がコバルトにより阻害され
るためと考えられる。
Embodiment 2 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol, and the coating solution obtained by stirring for 2 to 3 hours is applied to a tile base material by a spray coating method. It was coated on the substrate and heat-treated at 150 ° C. for 15 minutes to form a surface layer comprising 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica and 5 parts by weight of silicone. Furthermore, after applying 0.3 g of an aqueous solution of cobalt chloride hexahydrate having a cobalt metal concentration of 50 μmol / g thereon, an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) was applied.
UV light of 0.4 mW / cm 2 with 10 UV light
The sample was irradiated for 10 minutes to fix cobalt on the substrate to obtain a # 6 sample. The contact angle of the # 6 sample with water was 96 °. Here, the contact angle with water is measured using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X).
150), the contact angle with water was evaluated 30 seconds after a water drop was dropped from the micro syringe. Next, an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue-
(BLB) fluorescent light) for 1 day at an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 to obtain a # 7 sample. As a result, # 7
The contact angle of the sample with water was still 94 °, maintaining water repellency.
Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt.

【0031】実施例3.#5試料、#7試料、及び比較
のためポリテトラフルオロエチレン板を建物の屋上の屋
根付き部分の下に図4のように設置し、4か月放置し
た。その結果、ポリテトラフルオロエチレン板では汚れ
が観察されたのに対し、#5試料、#7試料では汚れは
観察されなかった。
Embodiment 3 FIG. The # 5 sample, the # 7 sample, and a polytetrafluoroethylene plate for comparison were placed under the roofed part of the building as shown in FIG. 4 and left for 4 months. As a result, stains were observed on the polytetrafluoroethylene plate, whereas no stains were observed on the # 5 and # 7 samples.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明では、トンネル内壁において、基
材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンと、前記撥
水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起による親水化を防
止するための物質とを含有する表面層が形成されている
ようにする、或いは基材表面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面
の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質が固定さ
れているようにすることにより、部材表面は長期にわた
り撥水性を維持可能となり、以て恒久的に汚れにくくな
る。
According to the present invention, a photocatalyst particle, a water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst are provided on the inner surface of the tunnel at the substrate surface. Or a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the substrate, and at least a part of the surface of the layer has the water-repellent property. By fixing a substance for preventing hydrophilicity of the silicon by photoexcitation of the photocatalyst of the silicone, the surface of the member can maintain water repellency for a long period of time, so that it is hardly permanently stained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】トンネルの断面図。FIG. 1 is a sectional view of a tunnel.

【図2】本発明に係るトンネル内壁の表面構造を示す
図。
FIG. 2 is a diagram showing a surface structure of an inner wall of a tunnel according to the present invention.

【図3】本発明に係るトンネル内壁の他の表面構造を示
す図。
FIG. 3 is a diagram showing another surface structure of the inner wall of the tunnel according to the present invention.

【図4】本発明の実施例に係る試験の試料の設置方法を
示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a method for setting a test sample according to the embodiment of the present invention.

【符号の説明】 10:トンネル 12:壁 14:内装板 16:照明[Description of Signs] 10: Tunnel 12: Wall 14: Interior board 16: Lighting

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリ
コ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起
による親水化を防止するための物質とを含有する表面層
が形成されていることを特徴とするトンネル内壁。
1. A surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of a substrate. The inner wall of a tunnel, which is characterized by:
【請求項2】 基材表面に、光触媒粒子と撥水性シリコ
−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面の少
なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質が固定されて
いることを特徴とするトンネル内壁。
2. A layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of a base material, and at least a part of the surface of the layer is made hydrophilic by the photoexcitation of the photocatalyst of the water-repellent silicone. An inner wall of a tunnel, on which a substance for preventing erosion is fixed.
【請求項3】 前記光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質は、コバルト又はコバルト化合物である
ことを特徴とする請求項1、2に記載のトンネル内壁。
3. The tunnel inner wall according to claim 1, wherein the substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation is cobalt or a cobalt compound.
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