JPH10190943A - Image sensor - Google Patents

Image sensor

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JPH10190943A
JPH10190943A JP8344883A JP34488396A JPH10190943A JP H10190943 A JPH10190943 A JP H10190943A JP 8344883 A JP8344883 A JP 8344883A JP 34488396 A JP34488396 A JP 34488396A JP H10190943 A JPH10190943 A JP H10190943A
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JP
Japan
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light
lens
array
micro
waveguide
Prior art date
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Application number
JP8344883A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Hanato
宏之 花戸
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPH10190943A publication Critical patent/JPH10190943A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of shielding stray light from the outside of a micro-lens, without the need for a photomask for forming a light shield layer and whose effect is not limited depending on a pattern of the micro-lens. SOLUTION: In a waveguide-type reduction image sensor, consisting of a light-emitting diode array lighting an original face, a micro-lens array 8 that collects a reflected light from the original face and makes the light incident onto a guide path, an optical guide path array leading a light collected by the micro-lens 1 and a charge-coupled element to convert reduced optical information from the optical waveguide path into an electric signal, a wedge-type grating 2 is formed to a light shield part which does not require refraction in a face of the micro-lens array 8 in which the micro-lens 1 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ファクシミリ、デ
ジタル複写機等に用いられる導波路型縮小イメージセン
サの-次元マイクロレンズアレイに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waveguide type reduced image sensor used in facsimile machines, digital copiers and the like, and more particularly to a one-dimensional microlens array.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4に従来の一次元のマイクロレンズア
レイ8を示す。射出成形法により、透明基板上7にマイ
クロレンズ1を一列に形成している。レンズ1の有効径
は125μmである。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a conventional one-dimensional microlens array 8. The micro lenses 1 are formed in a row on a transparent substrate 7 by an injection molding method. The effective diameter of the lens 1 is 125 μm.

【0003】図5は入射光を効率よく導波路に導くため
に、マイクロレンズアレイ8と導波路アレイ9を結合さ
せた構造の図である。各々の有効口径125μmのマイ
クロレンズ1に入射する光は、それに対応する8μm角
の入射口の光導波路コア部10に集光される。11は光
導波路クラッド部である。
FIG. 5 is a diagram showing a structure in which a microlens array 8 and a waveguide array 9 are coupled to efficiently guide incident light to a waveguide. Light incident on each of the microlenses 1 having an effective aperture of 125 μm is condensed on the corresponding optical waveguide core section 10 having an entrance aperture of 8 μm square. Reference numeral 11 denotes an optical waveguide clad.

【0004】さらにその応用として、図6は発光ダイオ
ード(LED)アレイ14、原稿面16からの反射光を
導波路へ効率よく入射させるマイクロレンズアレイ15
と、該マイクロレンズアレイ15に集光された光を導く
光導波路アレイ13、さらに該光導波路13からの縮小
された光情報を電気信号に変換するための電荷結合素子
(CCD)12とを組み合わせた導波路型縮小イメージ
センサの例を示している。マイクロレンズアレイ15
は、像の各部分が別々の光導波路13に集光されるよう
に設計されている。
FIG. 6 shows a light-emitting diode (LED) array 14 and a micro-lens array 15 for making reflected light from a document surface 16 efficiently enter a waveguide.
And an optical waveguide array 13 for guiding light condensed to the microlens array 15 and a charge-coupled device (CCD) 12 for converting reduced optical information from the optical waveguide 13 into an electric signal. 1 shows an example of a waveguide type reduced image sensor. Micro lens array 15
Are designed such that each part of the image is focused on a separate optical waveguide 13.

【0005】ここで隣接レンズからのクロストークに関
しては、図7(a)に示すように、マイクロレンズ1の
開口数 NA1=nsinα と、光導波路コア部10の開口数 NAwg=n0sinθ=√(n1 2−n2 2) を―致させるように設計する。ここでn:マイクロレン
ズ1の材質の屈折率、a:レンズの縁から焦点までを直
線で結び、その直線とレンズの光軸とのなす角度、D:
有効口径、f:マイクロレンズの焦点距離、n0:光が
入射してくる領域の屈折率、n1:コア材料の屈折率、
2:クラッド材料の屈折率、θ:受光角である。よっ
て、図7(b)領域Aの各点は、導波路入射面で像を結
び、そして導波路コア部10に入射される。その他の光
17は、例えば領域Bは、導波路に結合される角度より
も大きな角度であるため、導波路コア部10に入射しな
い。したがって、クロストークを防止することが可能と
なる。
Here, regarding the crosstalk from the adjacent lens, as shown in FIG. 7A, the numerical aperture NA 1 = nsin α of the microlens 1 and the numerical aperture NA wg = n 0 sin θ of the optical waveguide core 10. = √ (n 1 2 −n 2 2 ). Here, n: the refractive index of the material of the microlens 1, a: the angle from the edge of the lens to the focal point is formed by a straight line, and the angle between the straight line and the optical axis of the lens, D:
Effective aperture, f: focal length of microlens, n 0 : refractive index of the area where light enters, n 1 : refractive index of core material,
n 2 : refractive index of the cladding material, θ: light receiving angle. Therefore, each point in the region A in FIG. 7B forms an image on the waveguide incident surface, and is incident on the waveguide core 10. The other light 17 does not enter the waveguide core 10 because, for example, the region B has an angle larger than the angle coupled to the waveguide. Therefore, crosstalk can be prevented.

【0006】また原稿面16上のイメージ領域Aからの
光は、それに対応する一つのマイクロレンズ1により集
光され、一本の導波路コア部10に入射する。しかし図
8に示すようにマイクロレンズ1以外の部分を通過する
光18は、光導波路のクラッド部11や電荷結合素子
(CCD)の受光面には入り込んでしまう。これが迷光
となり、結果的に解像度を低下させてしまう。
Light from the image area A on the document surface 16 is condensed by one microlens 1 corresponding to the light and enters one waveguide core 10. However, as shown in FIG. 8, light 18 passing through portions other than the microlens 1 enters the cladding portion 11 of the optical waveguide and the light receiving surface of the charge-coupled device (CCD). This results in stray light, which results in lower resolution.

【0007】ここで一次元もしくは二次元のマイクロレ
ンズアレイにおいて迷光を遮断するだめに、従来以下の
方法が提案されている。
Here, in order to block stray light in a one-dimensional or two-dimensional microlens array, the following methods have conventionally been proposed.

【0008】まず第1の方法として、透明基板のレンズ
アレイが形成されている面とは反対側の面にレンズの光
軸の中心部にレンズの径よりも小さい径の開口をもつ遮
光層を形成する。作製方法は、透明基板を用意して、リ
フトオフ法にて、レンズが形成される位薫以外をAL等
で遮光する。その後、射出成形で遮光されていない部分
にマイクロレンズを形成する。以上よりレンズ部分以外
は遮光されたマイクロレンズアレイを得ることができ
る。(特開平2―43501号公報参照) 次に第2の方法として、図9(a)に示すように、有用
光を通過する開口19aを備え、迷光を遮光する支持基
板19を用意する。この支持基板19は、SUS等の金
属薄板をフォトエッチング加工により、所定の大きさの
開口を複数形成して、さらに開口以外の表面を化学的処
理によリマスキング処理を施す。次に図9(b)に示す
ようにマイクロレンズとなる樹脂フィルム20を支持基
板19上に重ね合わせる。さらに図9(c)に示すよう
にマイクロレンズアレイの形状を反転させた金型21を
支持基板19上に配置し、裏側には平坦な表面を有する
金型22を用意する。そして図9(d)に示すように樹
脂フィルム20のガラス転移点以上の温度に過熱し、そ
れと同時に金型21および22を圧着して開口部19a
に樹脂フィルム20を流し込み、その後ガラス転移点以
下の温度に冷却する。これにより遮光部分19bを備え
たマイクロレンズアレイ23を得ることができる。(特
開平2―64501号公報参照)
First, as a first method, a light-shielding layer having an opening with a diameter smaller than the diameter of the lens at the center of the optical axis of the lens is provided on the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the lens array is formed. Form. As a manufacturing method, a transparent substrate is prepared, and light is shielded by AL or the like by a lift-off method except for a part where a lens is formed. Thereafter, a microlens is formed in a portion that is not shaded by injection molding. As described above, a microlens array in which light is shielded except for the lens portion can be obtained. Next, as a second method, as shown in FIG. 9A, a support substrate 19 having an opening 19a through which useful light passes and shielding stray light is prepared. In the support substrate 19, a plurality of openings of a predetermined size are formed by photoetching a thin metal plate such as SUS, and the surface other than the openings is subjected to a re-masking process by a chemical process. Next, as shown in FIG. 9B, a resin film 20 serving as a microlens is overlaid on the support substrate 19. Further, as shown in FIG. 9C, a mold 21 in which the shape of the microlens array is inverted is arranged on the support substrate 19, and a mold 22 having a flat surface is prepared on the back side. Then, as shown in FIG. 9D, the resin film 20 is heated to a temperature equal to or higher than the glass transition point, and at the same time, the dies 21 and 22 are pressed to form the opening 19a.
And then cooled to a temperature below the glass transition point. Thereby, the microlens array 23 including the light shielding portion 19b can be obtained. (See JP-A-2-64501)

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来の遮光構造のない
マイクロレンズアレイを導波路型縮小イメージセンサに
用いる場合など、マイクロレンズ以外の部分を通過する
光は、光導波路のコア部には入り込まないが、光導波路
のクラッド部を通過して電荷結合素子の受光面に達する
迷光となり、解像度を上げることが困難となる。
In the case where a conventional microlens array having no light-shielding structure is used for a waveguide type reduced image sensor, light passing through portions other than the microlens does not enter the core portion of the optical waveguide. However, it becomes stray light that passes through the clad portion of the optical waveguide and reaches the light receiving surface of the charge-coupled device, making it difficult to increase the resolution.

【0010】また上記の迷光を遮光する方法では、以下
の問題点がある。第1の方法であると、マイクロレンズ
アレイのレンズが形成されている面とは反対側の面に、
レンズの光軸の中心部にレンズ径よりも小さい径の開口
をもつ遮光層を形成するので、レンズ以外からの光を遮
断することができる。しかし遮光層を形成するために、
マイクロレンズの位置、大きさ及び数に対応した開口を
もったマスクが必要となる。この場合、マイクロレンズ
の光軸の中心と開口の中心を全てのレンズにおいて調整
するのは非常に困難である。
Further, the above-described method of blocking stray light has the following problems. According to the first method, the surface of the microlens array opposite to the surface on which the lens is formed,
Since a light-shielding layer having an opening with a diameter smaller than the lens diameter is formed at the center of the optical axis of the lens, light from other than the lens can be blocked. However, in order to form a light shielding layer,
A mask having openings corresponding to the position, size, and number of microlenses is required. In this case, it is very difficult to adjust the center of the optical axis of the microlens and the center of the aperture in all lenses.

【0011】第2の方法であると、隣り合うマイクロレ
ンズに間隔がある場合は効果的であるが、マイクロレン
ズアレイのパターンによっては遮光の効果が限定されて
しまうばかりでなく、その作製方法は非常に複雑であ
る。
The second method is effective when there is an interval between adjacent microlenses. However, depending on the pattern of the microlens array, not only the effect of light shielding is limited, but also the manufacturing method is Very complicated.

【0012】そこで本発明は、上記課題を解決するため
になされたものであって、遮光層を形成するためのフォ
トマスクを必要とせず、マイクロレンズのパターンによ
ってその効果が限定されることなく、レンズ外からの迷
光を遮光できる構造を提供する。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and does not require a photomask for forming a light-shielding layer, and its effect is not limited by a pattern of microlenses. Provided is a structure capable of blocking stray light from outside the lens.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、原稿面を照明
する発光ダイオードアレイと、原稿面からの反射光を集
光し導波路ヘ入射させるマイクロレンズアレイと、該マ
イクロレンズで集光された光を導く光導波路アレイと、
さらに該光導波路からの縮小された光情報を電気信号に
変換するための電荷結合素子を有する導波路型縮小イメ
ージセンサにおいて、前記マイクロレンズが形成されて
いるマイクロレンズ面の内、屈折を必要としない遮光部
分に楔型の格子を形成したことを特徴とするものであ
る。
According to the present invention, there is provided a light emitting diode array for illuminating a document surface, a microlens array for condensing light reflected from the document surface and entering a waveguide, and a microlens array for condensing the light. An optical waveguide array for guiding the reflected light;
Further, in a waveguide-type reduced image sensor having a charge-coupled device for converting reduced optical information from the optical waveguide into an electric signal, refraction is required among the microlens surfaces on which the microlenses are formed. A wedge-shaped grating is formed in a light-shielding portion that is not used.

【0014】また、上記において、一次元のマイクロレ
ンズのレンズ列と平行に、前記楔型の格子が形成されて
いることを特徴とする。
In the above, the wedge-shaped grating is formed in parallel with the one-dimensional microlens array.

【0015】このように、本発明はマイクロレンズが形
成されている面の内、屈折を必要としない遮光部分に楔
型の格子を形成することにより、レンズ外に入射ずる不
要な光を、楔型の格子部で基板外に屈折させて、電荷結
合素子への途光を遮断し、解像度を向上させる。
As described above, according to the present invention, by forming a wedge-shaped grating in a light-shielding portion that does not require refraction in a surface on which a microlens is formed, unnecessary light entering the outside of the lens can be wedge-shaped. The light is refracted out of the substrate by the lattice portion of the mold to block light to the charge-coupled device, thereby improving the resolution.

【0016】[0016]

【実施の形態】以下、本発明の実施例について、図面を
参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】図1において、一次元マイクロレンズアレ
イ8は、材質がポリメチルメタクリレート(PMMA)
であり、射出成形法により長さ110mm、幅3mmの
透明基板3上に有効径l25μmのレンズが865個形
成されている。そして、透明基板3の一方のレンズが形
成されている面と同じ面の内、屈折を必要としない遮光
部分に楔型の格子2を形成する。 図2よりマイクロレンズアレイ8の製造方法の一例を説
明する。図2(a)に示すように、マイクロレンズアレ
イの金型4をレンズ加工治具5を用いてコイニング加工
により作製する。次に、図2(b)に示すように、屈折
を必要としない遮光部分に放電電極等の櫟型加工治具6
を用いて放電加工により、楔型の格子を作製する。そし
て図2(c)に示すように、この金型4から射出成形に
より、マイクロレンズアレイと楔型の格子を同時に成形
する。これにより、図1に示すように、マイクロレンズ
1のレンズ列と平行に形成された楔型の格子2が一体で
得ることができる。
In FIG. 1, the one-dimensional microlens array 8 is made of polymethyl methacrylate (PMMA).
865 lenses having an effective diameter of 125 μm are formed on a transparent substrate 3 having a length of 110 mm and a width of 3 mm by an injection molding method. Then, a wedge-shaped grating 2 is formed on a light-shielding portion that does not require refraction in the same surface of the transparent substrate 3 where one lens is formed. An example of a method for manufacturing the microlens array 8 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, a mold 4 for a microlens array is manufactured by coining using a lens processing jig 5. Next, as shown in FIG. 2 (b), an lithographic processing jig 6 such as a discharge electrode is provided on a light-shielding portion which does not require refraction.
To produce a wedge-shaped grid by electrical discharge machining. Then, as shown in FIG. 2C, a microlens array and a wedge-shaped lattice are simultaneously formed from the mold 4 by injection molding. Thereby, as shown in FIG. 1, a wedge-shaped grating 2 formed in parallel with the lens array of the microlenses 1 can be integrally obtained.

【0018】以上のように作製したマイクロレンズアレ
イは、光導波路および電荷結合素子と結合し光導波路型
縮小イメージセンサとして組み立てられる。図3に示す
ように、原稿面16上において反射した光はマイクロレ
ンズ1においては光導波路コア部10の入射口に集光さ
れる。しかし、屈折を必要としない遮光部、つまり楔型
の格子2が形成されている面に入射する光は、該楔型の
格子2の斜面において屈折され、マイクロレンズ基板の
外に光路を曲げられることにより、電荷結合素子の受光
面には入射されない。したがって、レンズ外からの不要
な光を遮断することができ、解像度が向上する。
The microlens array manufactured as described above is combined with an optical waveguide and a charge-coupled device, and is assembled as an optical waveguide type reduced image sensor. As shown in FIG. 3, the light reflected on the document surface 16 is focused on the entrance of the optical waveguide core 10 in the microlens 1. However, light incident on the light-shielding portion that does not require refraction, that is, light incident on the surface on which the wedge-shaped grating 2 is formed is refracted on the slope of the wedge-shaped grating 2, and the optical path is bent out of the microlens substrate. Thus, the light does not enter the light receiving surface of the charge-coupled device. Therefore, unnecessary light from outside the lens can be blocked, and the resolution is improved.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上のように本発明は、透明基板のマイ
クロレンズが形成されている面の内、屈折を必要としな
い遮光部分に楔型の格子を設けた構造を特徴とする光導
波路型縮小イメージセンサであり、簡単な構造で、レン
ズ外からの不要な光を遮断し、解像度を向上できる。
As described above, the present invention is directed to an optical waveguide type having a structure in which a wedge-shaped grating is provided in a light-shielding portion which does not require refraction in a surface of a transparent substrate on which microlenses are formed. It is a reduced image sensor, with a simple structure, can block unnecessary light from outside the lens and improve the resolution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の遮光構造を設けたマイクロレンズアレ
イを示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a microlens array provided with a light shielding structure of the present invention.

【図2】本発明の遮光構造を設けたマイクロレンズアレ
イの作製方法を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a method for manufacturing a microlens array provided with a light-shielding structure of the present invention.

【図3】本発明による遮光の原理を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the principle of light shielding according to the present invention.

【図4】従来の―次元マイクロレンズアレイを示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing a conventional -dimensional microlens array.

【図5】マイクロレンズアレイと光導波路アレイの結合
構造を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a coupling structure between a microlens array and an optical waveguide array.

【図6】光導波路型縮小イメージセンサの構成を示す概
念図である。
FIG. 6 is a conceptual diagram showing a configuration of an optical waveguide type reduced image sensor.

【図7】マイクロレンズの導光の様子を説明する図であ
る。
FIG. 7 is a diagram illustrating a state of light guide of a microlens.

【図8】マイクロレンズ外の迷光を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating stray light outside the micro lens.

【図9】従来の遮光構造を設けたマイクロレンズアレイ
の作製方法の図である。
FIG. 9 is a view illustrating a method for manufacturing a microlens array provided with a conventional light shielding structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マイクロレンズ 2 楔型格子 8 マイクロレンズアレイ 9 光導波路アレイ 12 電荷結合素子 13 光導波路基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Micro lens 2 Wedge-shaped grating 8 Micro lens array 9 Optical waveguide array 12 Charge-coupled device 13 Optical waveguide substrate

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 原稿面を照明する発光ダイオードアレイ
と、原稿面からの反射光を集光し導波路ヘ入射させるマ
イクロレンズアレイと、該マイクロレンズで集光された
光を導く光導波路アレイと、さらに該光導波路からの縮
小された光情報を電気信号に変換するための電荷結合素
子を有する導波路型縮小イメージセンサにおいて、前記
マイクロレンズが形成されているマイクロレンズアレイ
面の内、屈折を必要としない遮光部分に楔型の格子を形
成したことを特徴とするイメージセンサ。
1. A light-emitting diode array for illuminating a document surface, a microlens array for condensing reflected light from the document surface and entering a waveguide, and an optical waveguide array for guiding the light condensed by the microlenses. Further, in the waveguide-type reduced image sensor having a charge-coupled device for converting the reduced optical information from the optical waveguide into an electric signal, the refraction of the microlens array surface on which the microlens is formed is reduced. An image sensor characterized in that a wedge-shaped grating is formed in a light-shielding portion that is not required.
【請求項2】 請求項1の記載において、一次元のマイ
クロレンズのレンズ列と平行に、前記楔型の格子が形成
されていることを特徴とするイメージセンサ。
2. The image sensor according to claim 1, wherein the wedge-shaped grating is formed in parallel with the lens array of the one-dimensional microlenses.
JP8344883A 1996-12-25 1996-12-25 Image sensor Pending JPH10190943A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7129982B1 (en) * 1999-12-30 2006-10-31 Intel Corporation Color image sensor with integrated binary optical elements
JP2010145821A (en) * 2008-12-19 2010-07-01 Oki Data Corp Lens array, led head, exposure device, image forming apparatus and reader

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