JPH10188859A - Cathode-ray tube and manufacture thereof - Google Patents

Cathode-ray tube and manufacture thereof

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JPH10188859A
JPH10188859A JP35077496A JP35077496A JPH10188859A JP H10188859 A JPH10188859 A JP H10188859A JP 35077496 A JP35077496 A JP 35077496A JP 35077496 A JP35077496 A JP 35077496A JP H10188859 A JPH10188859 A JP H10188859A
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JP
Japan
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electron
neck portion
wall
electron gun
ray tube
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JP35077496A
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Japanese (ja)
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Yukio Ito
幸雄 伊東
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To restrain rise of potential of a neck part interior wall, prevent degradation of focus and convergence generated among the neck part interior wall, an electron gun, and an electron lens, and prevent degradation of image by forming a conductive membrane on the neck part interior wall in which a CRT electron gun is incorporated. SOLUTION: In the vicinity of an interior wall of a neck part 2C opposed between a second electrode G2 constituting a pre-focus lens and a third electrode G3 , a conductive membrane 19 such as carbon, metal paste or the like is applied in advance in a ring-shape, an electron gun 5 is inserted into the neck part 2C and sealed, and a CRT1 is formed. Thereby, a potential of an inner wall of the neck part 2C is reduced to 40 to 60%, a high-pressure charge is prevented from charging up on an interior wall of the neck part 2C, and an electron beam passing through an electron lens is restrained from being affected, thereby making it possible to stabilize an orbit of the electron beam.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は陰極線管及び陰極線
管の製造方法に係り、特に、陰極線管のネック内壁にチ
ャージアップされる電荷によって生ずるフォーカス及び
コンバーゼンス劣化を補償可能な陰極線管及び陰極線管
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode ray tube and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a cathode ray tube and a cathode ray tube capable of compensating for focus and convergence deterioration caused by electric charges charged on the inner wall of the neck of the cathode ray tube. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】陰極線管(以下CRTと記す)では従来
から、硝子のネック部内に電子銃を組み込み20KV乃
至30KVのアノード電圧が硝子管体のファンネルに形
成したアノード釦に印加され、電子銃の主レンズを構成
する電極等に導かれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a cathode ray tube (hereinafter referred to as CRT), an electron gun is incorporated in a neck portion of a glass, and an anode voltage of 20 to 30 KV is applied to an anode button formed on a funnel of the glass tube body. It is led to electrodes and the like that constitute the main lens.

【0003】この様な高電圧による電界の影響を受け
て、散乱電子や電界放出で発生した電子がCRTのネッ
ク部の内壁や電子銃のビードガラス等の二次電子放出率
の高い絶縁物に衝突し、1個の電子が2個以上の二次電
子を放出することが繰り返されることにより、ネック部
の内壁の電位が高圧に向かって徐々に上昇して行く。
Under the influence of an electric field caused by such a high voltage, scattered electrons and electrons generated by the field emission are converted into insulators having a high secondary electron emission rate such as an inner wall of a neck portion of a CRT or bead glass of an electron gun. The collision repeatedly causes one electron to emit two or more secondary electrons, so that the potential of the inner wall of the neck gradually increases toward a high voltage.

【0004】この様な原因でネック部の内壁の電位がチ
ャージアップされると、電子銃を構成している複数の各
電極中、特に低電圧が供給される電極等にバリ等の突出
物があるとネック内壁と突出したバリの先端間で電界集
中を生じ、やがて放電に至ることが知られている。
When the potential of the inner wall of the neck portion is charged up for such a reason, protrusions such as burrs are formed on a plurality of electrodes constituting the electron gun, particularly on an electrode to which a low voltage is supplied. It is known that if there is, an electric field concentration occurs between the inner wall of the neck and the tip of the projecting burr, and eventually discharge occurs.

【0005】この様な放電を生ずると画像不良や受像機
に用いるIC等を劣化させる問題があり、この様な不都
合を解消するために、例えば特公昭63−10859号
公報等では、電子銃のビードガラスに金属性ワイヤ、又
はリボンを巻回し、高周波加熱により、ネック内壁に導
電性膜を形成する方法を提案している。
[0005] When such discharge occurs, there is a problem that an image is defective or an IC used for a receiver is deteriorated. To solve such inconvenience, for example, Japanese Patent Publication No. 63-10859 discloses an electronic gun. A method has been proposed in which a metal wire or ribbon is wound around a bead glass, and a conductive film is formed on the inner wall of the neck by high-frequency heating.

【0006】図7は、この様な導電性膜形成方法を説明
するためのCRT1のネック部終端部分を示すものであ
り、CRTのファンネル部の後部に形成されたネック部
2c内には電子銃5が配設されている。
FIG. 7 shows a terminal portion of a neck portion of a CRT 1 for explaining such a method of forming a conductive film. An electron gun is provided in a neck portion 2c formed behind a funnel portion of the CRT. 5 are provided.

【0007】この電子銃5はR(赤)、G(緑)、B
(青)のカソードRK,GK,BKとプリフォーカス部
を構成する第1グリッドG1 、第2グリッドG2 と、メ
インレンズを構成する第3グリッドG3 と、図示しない
が図4グリッドG4 、第5グリッドG5 並びに静電偏向
器等が順次配列されている。静電偏向器はコンバージェ
ンスプレート(以下CPと記す)とコンバージェンスシ
ールドプレート(以下CS記す)とで構成されている。
The electron gun 5 has R (red), G (green), B
The (blue) cathodes RK, GK, and BK, a first grid G 1 and a second grid G 2 forming a prefocus portion, a third grid G 3 forming a main lens, and a grid G 4 in FIG. , the fifth grid G 5 and the electrostatic deflector and the like are sequentially arranged. The electrostatic deflector includes a convergence plate (hereinafter, referred to as CP) and a convergence shield plate (hereinafter, referred to as CS).

【0008】これら電子銃5は上下(Y軸方向)にビー
ドガラス8U及び8Dで一体に絶縁保護されているが、
図7では説明の便宜上、X軸方向にビードガラス8U及
び8Dを取り付けた状態で説明と進める。
Although these electron guns 5 are integrally insulated and protected by bead glasses 8U and 8D in the vertical direction (Y-axis direction),
In FIG. 7, for convenience of description, the description will be made with the bead glasses 8U and 8D attached in the X-axis direction.

【0009】電子銃5中の第1電極G1 は通常は零Vの
電位に、第2電極G2 は200〜400Vの電位に、ユ
ニポテンシャル型の電極構造等では第3電極G3 に30
KV程度の高電圧が印加される。
The first electrode G 1 in the electron gun 5 is usually at a potential of zero volts, the second electrode G 2 is at a potential of 200 to 400 V, and in a unipotential electrode structure or the like, the third electrode G 3 has a potential of 30 volts.
A high voltage of about KV is applied.

【0010】上述の構成において、上記した理由によ
り、ネック部2cの内壁がプラスにチャージアップされ
ると、低電圧の電位にある第1電極G1 の外表面の例え
ばバリの先端とネック部2c内壁間の電位差は極めて大
きくなる。その結果、放電等を惹き起こすが、これらを
防止するために、この第1電極G1 の外周部近傍のビー
ドガラス8U及び8Dに金属性ワイヤ或はリボン6を巻
回し、ネック部2cの外側に配設した高周波誘導加熱コ
イル7に高周波電流を流し、金属性のリボン6を蒸発さ
せて、ネック部2cの内壁に導電性膜4を蒸着する様に
成されている。
[0010] In this aspect, for the reasons described above, the inner wall of the neck portion 2c is charged up to the positive, for example burr of the first electrode G 1 of the outer surface at a potential of the low-voltage tip and the neck portion 2c The potential difference between the inner walls becomes extremely large. As a result, causes a discharge or the like, in order to prevent them, winding a metal wire or ribbon 6 the bead glass 8U and 8D of the vicinity of the outer periphery of the first electrode G 1, outside the neck portion 2c A high-frequency current is supplied to a high-frequency induction heating coil 7 disposed in the above-described manner to evaporate the metallic ribbon 6 and deposit the conductive film 4 on the inner wall of the neck 2c.

【0011】一方、カラー用のCRTの電子銃ではR,
G,BのカソードRK,RG,RBから出射した電子ビ
ームを設計値通りに構成させ、正しいカラー画像を再現
するためには電子ビームをパネルの蛍光面上で所定寸法
の真円のスポットサイズと成る様にするフォーカス特性
及びR,G,Bの3本の電子ビームが蛍光面で一点に集
中する様にするコンバーゼンス特性か必要となる。
On the other hand, in a color CRT electron gun, R,
In order to configure the electron beams emitted from the G and B cathodes RK, RG, and RB as designed values and reproduce a correct color image, the electron beams should be spotted on the phosphor screen of the panel with a spot size of a perfect circle of a predetermined size. It is necessary to have a focus characteristic to make it possible to form a convergence characteristic and a convergence characteristic to make the three electron beams R, G and B concentrate on one point on the phosphor screen.

【0012】いずれの特性も電子ビームが電子銃を設計
したときに予定した軌道を通る様に設計される。通常、
電子銃設計時には電子銃単体での電位分布が計算され、
実働状体で発生するネック内壁のチャージアップは無視
されている。
Both characteristics are designed so that the electron beam follows a trajectory that is predetermined when the electron gun is designed. Normal,
When designing an electron gun, the potential distribution of the electron gun alone is calculated,
The charge-up of the inner wall of the neck generated in the working body is ignored.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】然し、シャドウマスク
等を用いる3ガンタイプのコンバーゼンスレンズによっ
てR,G,Bの3本の電子ビームを蛍光面に集束させる
CRTではジャンピングコンバー(Jumping conver)と
して知られるネック部内壁にチャージアップする電荷に
起因する現象が問題となっている。
However, a CRT in which three electron beams of R, G, and B are focused on a phosphor screen by a three-gun type convergence lens using a shadow mask or the like is known as a jumping conver. The phenomenon caused by the electric charge that is charged up on the inner wall of the neck portion is a problem.

【0014】このジャンピングコンバー現像を図8に示
す3ガンタイプのCRTについて説明する。
This jumping conversion will be described with reference to a 3-gun type CRT shown in FIG.

【0015】図8はユニポテンシャル型の電子銃を示す
が、このタイプの電子銃の様に第3電極G3 と第4電極
4 間に主レンズ9を形成し、R,G,Bの各電子ビー
ム10を曲げる様なコンバーゼンス方式の場合、ネック
部2cの内壁にチャージアップし、ネック部2cの内壁
の電位が時間の経過と共に上昇して行くと、本来、主レ
ンズ9部分では図8の実線で示す様に設計されて、集束
され、3本のジャストフォーカスすべき電子ビーム10
は一点鎖線で示す電子ビーム11の様に不定電荷電圧で
曲げられ、ドットビームR,G,BはR1 ,G1 ,B1
の様に蛍光面上でジャストフォーカスしなくなり、ミス
・コンバーゼンス状態と成る。
FIG. 8 shows a unipotential type electron gun. As in this type of electron gun, a main lens 9 is formed between a third electrode G 3 and a fourth electrode G 4 , and R, G, B In the case of a convergence method in which each electron beam 10 is bent, the inner wall of the neck portion 2c charges up and the potential of the inner wall of the neck portion 2c rises with time. Are designed and focused as shown by the solid line of FIG.
Is bent undefined charge voltage as the electron beam 11 shown by a chain line, dot beam R, G, the B R 1, G 1, B 1
As shown in the above, just focus is not performed on the phosphor screen, resulting in a misconvergence state.

【0016】ここで、電極間で、放電を起こすと、ネッ
ク部2cの内壁にチャージアップされていた電荷は一気
に零と成る。この為、コンバーゼンス状態は設計値通り
のジャストコンバーゼンスと成り、再び、ネック部2c
の内壁の電荷がチャージアップされて、放電可能電位に
成ると再び放電を惹起す。この様にジャストフォーカス
状態及びミス・フォーカス状態を繰り返し、画像上のフ
ォーカス状態を不安定にする問題があった。
Here, when a discharge is caused between the electrodes, the charge charged on the inner wall of the neck portion 2c becomes zero at a stretch. Therefore, the convergence state becomes just convergence as designed, and again the neck portion 2c
When the electric charge on the inner wall is charged up and reaches a dischargeable potential, discharge is caused again. As described above, there is a problem that the just-focus state and the mis-focus state are repeated to make the focus state on an image unstable.

【0017】この様なジャンピングコンバーと呼ばれる
現象はトリニトロン(ソニー商標)と呼ばれる1ガン3
ビーム型の電子銃についても発生することが解った。
Such a phenomenon called a jumping converter is caused by one gun 3 called Trinitron (Sony trademark).
It has been found that this also occurs with a beam type electron gun.

【0018】図9は1ガン3ビーム型のCRTを模式的
に示したものでこのCRT1は管体2及び管体2のネッ
ク部2c内に配設された電子銃5並びに偏向ヨーク12
により構成されている。管体2はパネル2a及び漏斗状
のファンネル部2b並びにネック部2cより構成され、
パネル2a内面には3原色ストライプ蛍光体が塗布され
て、蛍光面3を形成し、図示しない色選別電極等が配設
されて、3原色電子ビーム10を蛍光面3の所定の3原
色ストライプ上に照射する様に成されている。
FIG. 9 schematically shows a one-gun three-beam type CRT. The CRT 1 has a tube 2 and an electron gun 5 and a deflection yoke 12 disposed in a neck 2 c of the tube 2.
It consists of. The tube 2 is composed of a panel 2a, a funnel-shaped funnel 2b, and a neck 2c.
A phosphor of three primary colors is coated on the inner surface of the panel 2a to form a phosphor screen 3, and a color selection electrode or the like (not shown) is provided. Irradiation is performed.

【0019】管体2のネック部2c内の電子銃5はR,
G,BのカソードRK,GK,BKと、プリフォーカス
部を構成する第1グリッドG1 、第2グリッドG2 と、
メインレンズを構成する第3グリッドG3 、第4グリッ
ドG4 、第5グリッドG5 並びに静電偏向器13が順次
配列され、静電偏向器13はCPとCSとで構成されて
いる。
The electron gun 5 in the neck 2c of the tube 2 is
G and B cathodes RK, GK, and BK, a first grid G 1 and a second grid G 2 that constitute a prefocus unit,
The third grid G 3 , the fourth grid G 4 , the fifth grid G 5 , and the electrostatic deflector 13 constituting the main lens are sequentially arranged, and the electrostatic deflector 13 is composed of CP and CS.

【0020】これら電子銃5は上下(Y軸方向)の図7
と同様のビードガラス8U及び8Dで一体に絶縁保持さ
れ、ステムベース14に固定されている。更に図示しな
いがアノード電圧を5%程度ダウンさせてCPに分割し
て供給するための内部抵抗分割板(IBR)が電子銃5
に取り付けられている。
These electron guns 5 are arranged vertically (in the Y-axis direction) as shown in FIG.
Are insulated and held together by the same bead glasses 8U and 8D, and are fixed to the stem base 14. Although not shown, an internal resistance dividing plate (IBR) for lowering the anode voltage by about 5% and dividing and supplying the CP is provided with an electron gun 5.
Attached to.

【0021】上述の様な1ガン3ビーム型のCRTでは
主レンズの第4電極G4 部分では3ビームを集中させる
様に動作させるので、主レンズ系ではジャンピングコン
バーは生じないが、第2電極G2 と第3電極間のプリフ
ォーカス部分で同様の問題が発生し、特にR用のカソー
ドRK及びB用のカソードBKから放出される電子ビー
ム10はネック部2cのチャージアップされた内壁近傍
を通過するために図9のA部拡大図に示される様に設計
値通りに第2及び第3電極G2 及びG3 のプリフォーカ
ス部を通過すべき電子ビーム10は11の様に曲げられ
てフォーカス劣化を生ずる問題が発生した。
[0021] Since the operating so as to concentrate the three beams in the fourth electrode G 4 parts of the above such 1 gun three-beam type CRT in the main lens, but jumping convergence does not occur in the main lens system, the second electrode G 2 and the same problem occurs with prefocus portion between the third electrode, in particular a cathode RK and electron beam 10 near the inner wall which is charged up of the neck portion 2c emitted from the cathode BK for B for R electron beam 10 should pass through prefocus section of the second and third electrodes G 2 and G 3 a according to the design value as shown in a-part enlarged view of FIG. 9 in order to pass the bent like a 11 A problem that causes focus deterioration has occurred.

【0022】本発明は叙上の如き問題点を解消したCR
T及びCRTの製造方法を提供しようとするものであ
り、発明が解決しようとする課題は主レンズを利用し
て、電子ビーム10を集束するタイプのCRTに於いて
はコンバーゼンス特性の劣化を補償し、1ガン3ビーム
型の様に主レンズ系で3ビームを集中させるタイプのC
RTではフォーカス特性劣化を補償可能なCRT及びC
RTの製造方法を提供するにある。
The present invention provides a CR that solves the above problems.
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a TRT and a CRT. An object of the present invention is to use a main lens to compensate for deterioration of convergence characteristics in a CRT of a type that focuses an electron beam 10. A type of C that concentrates three beams with the main lens system like a one-gun three-beam type
CRTs and Cs that can compensate for focus characteristic degradation in RT
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an RT.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】本発明のCRTはネック
部に電子銃が内蔵され、画像表示可能と成されたCRT
であって、上記電子銃の複数の電極が作る電子レンズ系
の周辺の上記ネック部の内壁近傍に導電性膜を形成した
ものである。
A CRT according to the present invention has a built-in electron gun in a neck portion and is capable of displaying an image.
Wherein a conductive film is formed near an inner wall of the neck portion around an electron lens system formed by a plurality of electrodes of the electron gun.

【0024】本発明のCRTの製造方法はネック部に電
子銃を内蔵させ、排気処理後ネック部の外側から電子銃
の電子レンズ系近傍に予め配設した被蒸着金属を加熱し
て、ネック部内壁に導電性膜を蒸着させて成るものであ
り、更に他のCRTの製造方法は電子銃の電子レンズ系
近傍のネック内壁に予め導電性膜を形成し、ネック内に
電子銃を内蔵させて画像表示可能なCRTを得る様に成
したものである。
In the method of manufacturing a CRT according to the present invention, an electron gun is built in the neck portion, and after evacuation processing, the metal to be vapor-deposited in advance in the vicinity of the electron lens system of the electron gun is heated from the outside of the neck portion to form the neck portion. Another method of manufacturing a CRT is to form a conductive film on the inner wall of the neck near the electron lens system of the electron gun in advance, and to build the electron gun in the neck. This is to obtain a CRT capable of displaying images.

【0025】本発明のCRT及びCRTの製造方法によ
れば、電子銃の電子レンズ系の周辺のネック部の内壁に
導電性膜を形成することで、ジャンピングコンバーの発
生が防止出来、電子ビームの軌道を安定化させることが
可能と成る。
According to the CRT and the method of manufacturing the CRT of the present invention, the conductive film is formed on the inner wall of the neck portion around the electron lens system of the electron gun, so that the occurrence of jumping convergence can be prevented, and the generation of the electron beam can be prevented. The orbit can be stabilized.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明のCRT及びCRT
の製造方法の一実施例を図1乃至図5について詳記す
る。図1は本発明のCRTの要部の斜視図、図2は図1
のA−A断面矢視図、図3は本発明のCRTの他の導電
性膜形成方法説明図、図4は本発明の導電性膜形成用タ
ーゲット板の一実施例を示す斜視図、図5は本発明の説
明に供する測定データ曲線図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a CRT and a CRT according to the present invention will be described.
One embodiment of the manufacturing method will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view of a main part of a CRT according to the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a diagram illustrating another method for forming a conductive film of the CRT according to the present invention, and FIG. 4 is a perspective view illustrating an embodiment of a target plate for forming a conductive film according to the present invention. FIG. 5 is a measured data curve diagram for explaining the present invention.

【0027】先ず、本発明では例えば、1ガン3ビーム
型のCRT1に図9と同様の複数の電極の組合せにより
電子銃を構成して、所定のフォーカス特性及びコンバー
ゼンス特性が得られる様に設定された、電子銃をネック
部2c内に封止し、画像表示可能な状態と成して、図5
A及びBに示す様なフォーカス特性及びコンバーゼンス
特性を代表する項目を選択して実働試験を行なう。
First, in the present invention, for example, an electron gun is formed on a one-gun three-beam type CRT 1 by combining a plurality of electrodes similar to that shown in FIG. 9 and is set so as to obtain predetermined focus characteristics and convergence characteristics. In addition, the electron gun is sealed in the neck portion 2c so that an image can be displayed.
An operation test is performed by selecting items representative of the focus characteristics and convergence characteristics as shown in A and B.

【0028】図5Aは横軸に時間(H)を縦軸にはスポ
ットサイズの変形量(mm)をとったフォーカス特性曲
線、図5Bは横軸に時間(H)を縦軸にサイドビーム
(通常R及びB用ビーム)のドット間の距離(mm)を
とったものであり、このコンバーゼンス特性図はRビー
ム又はBビームのいずれかを基準にとるかでマイナス或
はプラスの値を示す。
FIG. 5A is a focus characteristic curve in which time (H) is plotted on the horizontal axis and the amount of spot size deformation (mm) is plotted on the vertical axis, and FIG. 5B is a side beam (H) on the horizontal axis plotting time (H). This is the distance (mm) between the dots of the R and B beams), and this convergence characteristic diagram shows a minus or plus value depending on whether the R beam or the B beam is used as a reference.

【0029】即ち、図5A及び図5Bに示す様にCRT
を実働状態にするためのスイッチを投入後にネック部2
cの内壁の電位が飽和するまで時系列的にフォーカス及
びコンバーゼンス特性のデータをとり、測定された曲線
に対し、温度の影響を受ける成分を差し引いて、図4A
及び図5Bの様なカーブ17及び18を得たとすればネ
ック部2cの内壁には電荷のチャージアップがあり、電
子ビームの軌道が影響を受けて電子銃の特性が劣化して
くることが解る。即ち、スポットサイズ変形量及びサイ
ドビームドット間の距離の増大は電子ビームがネック部
2cの内壁にチャージアップされた電荷で影響を受けて
いることになる。
That is, as shown in FIG. 5A and FIG.
Neck 2 after turning on the switch to put the
4C. Focus and convergence characteristics data are collected in time series until the potential of the inner wall of the c is saturated, and the temperature-affected component is subtracted from the measured curve to obtain the data shown in FIG.
If the curves 17 and 18 as shown in FIG. 5B are obtained, it is understood that the charge is charged up on the inner wall of the neck portion 2c, and the trajectory of the electron beam is affected to deteriorate the characteristics of the electron gun. . That is, the increase in the spot size deformation and the distance between the side beam dots is affected by the electric charges charged up on the inner wall of the neck portion 2c by the electron beam.

【0030】勿論、これらの実働測定はモデル毎に抜取
測定を行なえばよい。
Of course, the actual measurement may be performed by sampling measurement for each model.

【0031】本発明では実働測定結果量に基づいて、ネ
ック部の内壁に電荷がチャージアップするCRTについ
ては、このチャージアップを抑える様に導電性膜を形成
する様になす。
In the present invention, a CRT in which charges are charged up on the inner wall of the neck portion based on the actual measurement result amount is formed with a conductive film so as to suppress the charge up.

【0032】図1は1ガン3ビーム型CRTのネック部
2cを一部で切断した電子銃5の斜視図を示すものであ
るが、プリフォーカスレンズを構成する第2電極G2
第3電極G3 間に対向するネック部2cの内壁近傍に予
めリング状にカーボン、金属ベースト等の導電性膜19
を塗布して置き、ネック部2c内に電子銃5を挿入し
て、封止し、CRTを完成させる様に成したものであ
る。金属ベースト等ではCRTの工程中のベーキング処
理等で焼付ける様にしてもよい。
FIG. 1 is a perspective view of an electron gun 5 in which a neck portion 2c of a one-gun three-beam CRT is partially cut, and a second electrode G 2 and a third electrode constituting a prefocus lens are shown. carbon in advance ring near the inner wall of the neck portion 2c opposed to between G 3, the conductive film 19 such as a metal Besuto
Is applied and placed, and the electron gun 5 is inserted into the neck portion 2c and sealed to complete the CRT. For a metal base or the like, baking may be performed by a baking process or the like during the CRT process.

【0033】図2Aは図1のA−A線に沿った断面矢視
図であり、第2及び第3電極G2 及びG3 の間隙で形成
されるプリフォーカスレンズ部分と対向するネック部内
壁を全周に亘って導電性膜19を形成する。
FIG. 2A is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1 and shows the inner wall of the neck portion facing the prefocus lens portion formed by the gap between the second and third electrodes G 2 and G 3. Is formed over the entire circumference.

【0034】図2Bは、R及びBの電子ビームが通過す
る両サイドに対向するネック部2cの内壁近傍のみに導
電性膜19L及び19Rを塗布させた場合である。即
ち、図9で説明した様にネック部2cの内壁にチャージ
アップされたプラスの電荷によって影響を受ける電子ビ
ームはネック部2cの左右両サイドにあるR及びBの電
子ビームであるから、これら電子ビームが通るフォーカ
スレンズ(G2 及びG3間)に対向するネック内壁部分
にのみ左右に導電性膜19L及び19Rを形成させる様
にしたものである。
FIG. 2B shows a case where the conductive films 19L and 19R are applied only near the inner wall of the neck portion 2c facing both sides through which the R and B electron beams pass. That is, as described with reference to FIG. 9, the electron beams affected by the positive charges charged on the inner wall of the neck portion 2c are the R and B electron beams on the left and right sides of the neck portion 2c. it is obtained by the manner of forming the conductive film 19L and 19R on the left and right only to the neck inner wall portion opposed to the focus lens where the beam passes (between G 2 and G 3).

【0035】上述の導電性膜19,19L,19Rは電
子銃5とネック部2c内に装着する前に電子レンズ系を
構成する電極と対向するネック部2cの内壁に蒸着させ
たが、図7で説明したと同様に電子銃をネック部に封止
してCRTを完成させた後に電子レンズ系を構成する電
極と対向する位置のビードガラス8U及び8Dに予め固
着させたターゲット板を外部(ネック部2cの外側)か
ら高周波誘導加熱或はレーザビーム等で溶融して、ネッ
ク部2c内壁に金属の導電性膜19を塗布する様にする
ことも出来る。
The above conductive films 19, 19L, and 19R are deposited on the inner wall of the neck 2c facing the electrodes constituting the electron lens system before being mounted in the electron gun 5 and the neck 2c. After the electron gun is sealed in the neck portion to complete the CRT in the same manner as described above, the target plate previously fixed to the bead glasses 8U and 8D at positions facing the electrodes constituting the electron lens system is externally (neck). The metal conductive film 19 can be applied to the inner wall of the neck portion 2c by melting from the outside of the portion 2c) by high frequency induction heating or a laser beam.

【0036】図3及び図4は、この様な金属の蒸着の形
成方法の一実施例を示す説明図であり、図3Bに示す様
に第2電極G2 と第3電極G3 との間で形成されるプリ
フォーカスレンズと成る電子レンズと対向するネック部
2cの内壁位置に導電性膜19を形成する為に、図3B
のB−B線に沿う断面矢視図の図3Aに示す様に第2電
極G2 の一方の端と第3電極G3 の一方の端面との間の
電子レンズ形成面位置の上下のビードガラス8U及び8
Dにビードガラス保持部材20及び20を配設する。
FIGS. 3 and 4 are explanatory views showing an embodiment of a method of forming such a metal vapor deposition. As shown in FIG. 3B, a gap between the second electrode G 2 and the third electrode G 3 is formed. 3B in order to form a conductive film 19 on the inner wall position of the neck portion 2c facing the electron lens which is to be the prefocus lens formed in FIG.
Upper and lower bead of the electron lens forming surfaces position between the one end and one end face of the third electrode G 3 line B-B in along sectional arrow view of the second electrode G 2 as shown in FIG. 3A Glass 8U and 8
D is provided with bead glass holding members 20 and 20.

【0037】ビードガラス保持部材20及び20は図4
に示される様に構成されている。即ち、ビードガラス保
持部材20はベース部21の両側に立ち上げられた保持
板22を有し、保持板22には、ビードガラス8U及び
8Dが接合し易いように、円形状の切欠き24が形成し
てある。本例では、ベース部21の両側に、翼状に伸び
るターゲット板26が形成してある。この保持部材20
は、たとえば一枚のステンレス板材をプレス加工するこ
とにより形成することができる。このビードガラス保持
部材20を、第2及び第3電極G2 及びG3 のビードガ
ラス8U及び8Dの両側に装着することで、図3Aに示
すように、ターゲット板26は、ネック部2cの内周で
周囲4箇所位置に配置されることになる。
The bead glass holding members 20 and 20 are shown in FIG.
It is configured as shown in FIG. That is, the bead glass holding member 20 has a holding plate 22 raised on both sides of the base portion 21. The holding plate 22 has a circular notch 24 so that the bead glasses 8U and 8D can be easily joined. It is formed. In this example, wing-like target plates 26 are formed on both sides of the base portion 21. This holding member 20
Can be formed, for example, by pressing a single stainless steel plate. The bead glass holding member 20, by attaching to the sides of the second and third electrodes G 2 and G 3 glass bead 8U and 8D, as shown in FIG. 3A, the target plate 26, of the neck portion 2c It will be arranged at four locations around the circumference.

【0038】本例では、陰極線管1のネック部2cに電
子銃5を内蔵させ、真空引きした後、陰極線管の製造の
略々最終工程において、即ち、ノッキング工程及びエー
ジング工程の前の工程において、或はエージング工程の
後で、図3Aに示すように、ネック部2cの外側からレ
ーザビーム25を周囲4箇所のターゲット板26方向に
向けて照射する。レーザビーム25の照射条件は、特に
限定されないが、エネルギーが1.0〜1.2J、照射
時間が2〜6msec、好ましくは4msec程度であ
り、各ターゲット板26に対して、照射間隔が0.2s
ecで5〜30回、好ましきは10回程度照射する。焦
点位置は、ターゲット板26の設計面に対して、+0〜
−0.5mm(マイナスはネックの中心方向)が好まし
い。
In this embodiment, after the electron gun 5 is built in the neck portion 2c of the cathode ray tube 1 and evacuated, substantially in the final step of the manufacture of the cathode ray tube, that is, in the step before the knocking step and the aging step. Alternatively, after the aging step, as shown in FIG. 3A, a laser beam 25 is irradiated from the outside of the neck portion 2c toward four surrounding target plates 26. The irradiation conditions of the laser beam 25 are not particularly limited, but the energy is 1.0 to 1.2 J, the irradiation time is 2 to 6 msec, preferably about 4 msec, and the irradiation interval for each target plate 26 is 0.1 mm. 2s
Irradiate at ec 5 to 30 times, preferably about 10 times. The focal position is from +0 to the design surface of the target plate 26.
-0.5 mm (minus is the center direction of the neck) is preferable.

【0039】このように各ターゲット26に対して低エ
ネルギーで数回に分けてレーザビームを照射するのは、
ネック部2cを構成するガラスの劣化を防止するためで
ある。このようなレーザ照射の結果、図3Aに示すよう
に、ステンレスなどで構成されたターゲット板26が蒸
着源となり、ターゲット26に向き合うネック部2cの
内壁に、金属蒸着膜から成る導電性膜19が形成される
ことになる。導電性膜19は、ターゲット板26の面積
よりも大きい面積に形成される。
The reason why the target 26 is irradiated with the laser beam several times at a low energy is as follows.
This is for preventing the deterioration of the glass constituting the neck portion 2c. As a result of such laser irradiation, as shown in FIG. 3A, a target plate 26 made of stainless steel or the like becomes an evaporation source, and a conductive film 19 made of a metal evaporation film is formed on the inner wall of the neck 2c facing the target 26. Will be formed. The conductive film 19 is formed in an area larger than the area of the target plate 26.

【0040】本実施形態に係る電子銃、CRT及びCR
Tの製造方法では、ネック部2cの内壁に導電性膜19
が形成してあることから、ネック部2cの内壁の電位
が、従来のようには上昇しなくなる。たとえば導電性膜
19が形成されていないものに比較して、40〜60%
程度に電位を低下させることができる。このため、ネッ
ク部2cの内壁に高圧の電荷がチャージアップすること
なく、電子レンズを通過する電子ビームに悪影響を与え
ることがないCRT及びCRTの製造方法が得られる。
The electron gun, CRT and CR according to the present embodiment
In the manufacturing method of T, the conductive film 19 is formed on the inner wall of the neck portion 2c.
Is formed, the potential of the inner wall of the neck portion 2c does not rise as in the related art. For example, 40 to 60% as compared with the case where the conductive film 19 is not formed.
The potential can be reduced to the extent. For this reason, a CRT and a method of manufacturing a CRT that does not adversely affect the electron beam passing through the electron lens without charging up high-voltage charges on the inner wall of the neck portion 2c can be obtained.

【0041】尚、図3Aの導電性膜19は左右のR及び
B用電子ビームが通過する位置と離間した位置に蒸着さ
れているが、ビードガラス保持部材20の形状を変え
て、ターゲット板26を図3AのE及びE′で示す位置
近傍に配設する様に成せばよい。尚、図3Aで示したサ
イドビームが通る位置に近いネック部2cの内壁のE及
びE′位置での電位は従来の17〜19KVに比べて1
0〜11KVと40〜44%電位が下げられている。勿
論、導電性膜19の塗布された位置の改善率が48%〜
57%程度に比べると劣るが、サイド電子ビームに影響
を与える電荷の電位を低下させる効果は充分に得られ
て、実用上問題のないレベルまで電子ビーム軌道を安定
化させることが可能となる。
The conductive film 19 shown in FIG. 3A is deposited at a position separated from the position where the right and left electron beams for R and B pass, but the shape of the bead glass holding member 20 is changed to change the shape of the target plate 26. May be arranged near the positions indicated by E and E 'in FIG. 3A. The potential at the positions E and E 'on the inner wall of the neck portion 2c near the position where the side beam passes shown in FIG. 3A is 1 compared with the conventional 17 to 19 KV.
The potential is reduced from 0 to 11 KV and from 40 to 44%. Of course, the improvement rate of the position where the conductive film 19 is applied is 48% or more.
Although it is inferior to about 57%, the effect of lowering the potential of the charge affecting the side electron beam is sufficiently obtained, and the electron beam trajectory can be stabilized to a level at which there is no practical problem.

【0042】上述の実施例ではレーザビームでSUS等
のターゲット板26を蒸発させたが図7で述べたと同様
に高周波誘導加熱によってリボン等を溶融蒸発させて導
電性膜を形成することも出来る。
In the above-described embodiment, the target plate 26 made of SUS or the like is evaporated by the laser beam. However, as described with reference to FIG. 7, the conductive film can be formed by melting and evaporating the ribbon or the like by high-frequency induction heating.

【0043】又、上述の例では1ガン3ビームのCRT
のプリフォーカスレンズについて説明したが、図6A〜
Cに示す様に3ガン型の電子銃5の電極構成についても
本例は適用可能である。図6A乃至図6Cに示す様な集
束電子レンズ28と対向するガラスのネック部2cの内
壁に導電性膜を塗布或は蒸着させることでコンバーゼン
ス特性が改善され、ジャンピング・コンバーの発生を抑
圧することが可能となる。
In the above example, the CRT of one gun and three beams is used.
6A to 6C have been described.
This example is also applicable to the electrode configuration of the 3-gun type electron gun 5 as shown in FIG. A convergence characteristic is improved by applying or depositing a conductive film on the inner wall of the glass neck portion 2c facing the focusing electron lens 28 as shown in FIGS. 6A to 6C to suppress the occurrence of jumping convergence. Becomes possible.

【0044】即ち、本発明では電子レンズを構成する電
極と対向するネック部2cの内壁に導電性膜を形成すれ
ばよい。
That is, in the present invention, a conductive film may be formed on the inner wall of the neck portion 2c facing the electrode constituting the electron lens.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によればネック部内壁に導電性膜
を形成してあることから、ネック部の内壁の電位が、従
来のようには上昇しなくなる。例えは蒸着膜が形成され
ていないものに比較して、40〜60%程度に電位を低
下させることができる。このため、ネック部内壁と電子
銃、電子レンズ間で発生するジャンピング・コンバー或
はジャンピング・コンバーに類似の現象で生ずるフォー
カス劣化及びコンバーゼンス劣化を防止出来、画像の劣
化及びICの破損等を防止可能と成り、電子ビーム軌道
を設計値通りに安定化させることが出来るCRT及びC
RTの製造方法が得られる。
According to the present invention, since the conductive film is formed on the inner wall of the neck portion, the potential of the inner wall of the neck portion does not rise as in the prior art. For example, the potential can be reduced to about 40 to 60% as compared with the case where no deposited film is formed. As a result, it is possible to prevent focus deterioration and convergence deterioration caused by a jumping conver or a phenomenon similar to a jumping conver generated between the inner wall of the neck portion and the electron gun or the electron lens, thereby preventing image deterioration and IC damage. CRT and C that can stabilize the electron beam trajectory as designed
An RT manufacturing method is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す陰極線管の要部の斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view of a main part of a cathode ray tube showing one embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A線に沿う断面矢視図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG.

【図3】本発明の陰極線管の他の導電性膜形成方法説明
図である。
FIG. 3 is an explanatory view of another method for forming a conductive film of the cathode ray tube of the present invention.

【図4】図3の導電性膜形成用ターゲット板の一実施例
を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing one embodiment of a target plate for forming a conductive film of FIG. 3;

【図5】実働状態での測定データの曲線説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a curve of measured data in an actual operation state.

【図6】本発明に適用可能な種々のCRTの電子銃構成
の模式図である。
FIG. 6 is a schematic view of a configuration of an electron gun of various CRTs applicable to the present invention.

【図7】従来の陰極線管の導電性膜蒸着方法説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory view of a conventional method for depositing a conductive film on a cathode ray tube.

【図8】従来の陰極線管のジャンピング・コンバー発生
原因説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of a cause of occurrence of jumping / comb in a conventional cathode ray tube.

【図9】従来の1ガン3ビーム型陰極線管の構成図であ
る。
FIG. 9 is a configuration diagram of a conventional one-gun three-beam cathode ray tube.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 CRT、2c ネック部、G2 第2電極、G3
第3電極、19,19L,19R 導電性膜、20 ビ
ードガラス保持部材、26 ターゲット板
1 CRT, 2c neck, G 2 second electrode, G 3
Third electrode, 19, 19L, 19R conductive film, 20 bead glass holding member, 26 target plate

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ネック部に電子銃が内蔵され、画像表示
可能と成された陰極線管であって、 上記電子銃の複数の電極が作る電子レンズ系の周辺の上
記ネック部の内壁近傍に導電性膜を形成したことを特徴
とする陰極線管。
1. A cathode ray tube having a built-in electron gun in a neck portion and capable of displaying an image, wherein a cathode is provided near an inner wall of the neck portion around an electron lens system formed by a plurality of electrodes of the electron gun. A cathode ray tube having a conductive film formed thereon.
【請求項2】 前記ネック部内壁に前記導電性膜をリン
グ状、或は部分的に形成してなることを特徴とする請求
項1記載の陰極線管。
2. The cathode ray tube according to claim 1, wherein said conductive film is formed in a ring shape or partially on an inner wall of said neck portion.
【請求項3】 前記導電性膜形成領域が電子レンズのプ
リフォーカス部或はコンバーゼンス部電極を構成する電
極間或は電極上のネック部内壁であることを特徴とする
請求項1又は請求項2記載の陰極線管。
3. The electronic film according to claim 1, wherein the conductive film forming region is a space between electrodes constituting a prefocus portion or a convergence portion electrode of the electron lens or an inner wall of a neck portion on the electrode. A cathode ray tube as described.
【請求項4】 ネック部に電子銃を内蔵させ、排気処理
後、ネック部の外側から該電子銃の電子レンズ系近傍に
予め配設した、被蒸着金属を加熱して、該ネック部内壁
に導電性膜を蒸着することを特徴とする陰極線管の製造
方法。
4. An electron gun is built in the neck portion, and after evacuation processing, the metal to be vapor-deposited in advance in the vicinity of the electron lens system of the electron gun is heated from the outside of the neck portion to form an inner wall of the neck portion. A method for manufacturing a cathode ray tube, comprising depositing a conductive film.
【請求項5】 電子銃の電子レンズ系近傍のネック内壁
に予め導電性膜を形成し、該ネック内に該電子銃を内蔵
させて画像表示可能な陰極線管を得ることを特徴とする
陰極線管の製造方法。
5. A cathode ray tube, wherein a conductive film is previously formed on an inner wall of a neck near an electron lens system of an electron gun, and the electron gun is built in the neck to obtain a cathode ray tube capable of displaying an image. Manufacturing method.
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